CN103207518A - 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件 - Google Patents

防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件 Download PDF

Info

Publication number
CN103207518A
CN103207518A CN2012100107527A CN201210010752A CN103207518A CN 103207518 A CN103207518 A CN 103207518A CN 2012100107527 A CN2012100107527 A CN 2012100107527A CN 201210010752 A CN201210010752 A CN 201210010752A CN 103207518 A CN103207518 A CN 103207518A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mask
frame
support bar
mask plate
sagging
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2012100107527A
Other languages
English (en)
Inventor
魏志凌
高小平
郑庆靓
吴小燕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kunshan Power Stencil Co Ltd
Original Assignee
Kunshan Power Stencil Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kunshan Power Stencil Co Ltd filed Critical Kunshan Power Stencil Co Ltd
Priority to CN2012100107527A priority Critical patent/CN103207518A/zh
Publication of CN103207518A publication Critical patent/CN103207518A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及一种防止下垂的掩模框架及相应的掩模组件，防止下垂的掩模框架包括边框和支撑条，所述边框和支撑条一体成型；所述相应的掩模组件包括上述防止下垂的掩模框架和掩模板，所述掩模框架与所述掩模板焊接。本发明提供的掩模框架及防止下垂的掩模组件，有效防止了在蒸镀过程中由掩模组件上的掩模板的重量引起的掩模板的图案变形，有效改善蒸镀精度，生产成本低，效率高，具有广阔的市场前景。

Description

防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件
 
技术领域
 本发明涉及一种防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件,属于掩模板应用领域。
 
背景技术
MASK(掩膜)：单片机掩膜是指程序数据已经做成光刻版，在单片机生产的过程中把程序做进去。优点是：程序可靠、成本低。缺点：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同时生产，供货周期长。 
在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。
在使用传统的掩模组件的平板现实装置的传统沉积设备中，在沉积过程中，基板中间部分可能由于基板的重量而向掩模组件弯曲。如此，掩模组件的图案掩模会被基板按压并会变形，从而引起在基板上的不精确排列和材料的沉积。
 
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种防止下垂掩模框架及相应的掩模组件， 能解决掩模板因重力而引起的下垂，而且不影响位置精度，在运输中也能保护掩模板。
为了解决上述技术问题，本发明采取的技术方案如下：
一种防止下垂掩模框架，其特征在于，包括边框和支撑条，所述边框和支撑条一体成型。
所述支撑条之间纵向或者横向相互平行。
所述支撑条之间有间隙。
所述支撑条之间的间隙大于或等于掩模板图形区域的开口；所述支撑条的宽度小于或等于掩模板图形区域开口之间的间隙。
优选的，所述掩模框架还设有横向或纵向相互平行的支撑条与所述纵向或横向相互平行的支撑条垂直交叉，形成许多网格。
所述网格的尺寸大于或等于掩模板图形区域开口的尺寸，所述支撑条的宽度小于或等于掩模板图形区域开口之间的间隙。
所述支撑条与所述边框处于同一水平面上。
所述掩模框架的边框上具有满足蒸镀设备要求的结构设计，保证掩模组件可直接上蒸镀设备，而无需将掩模板从掩模框架上拆卸下来，提高了掩模板的使用寿命。
一种防止下垂的掩模组件，其特征在于，包括上述的掩模框架和掩模板，所述掩模框架与所述掩模板焊接。
所述掩模框架的纵横向支撑条与所述掩模板纵横向图形区域间隙对齐，所述掩模框架的纵横向支撑条与所述掩模板纵横向图形区域间隙对齐，支撑条中心线上与掩模板图形区域间隙之间有焊接点，掩模框架边框边缘区域与掩模板边缘之间也有焊接点，所述掩模框架边框边缘区域是指掩模框架边框中心线到掩模框架边框外边线之间的区域。
所述支撑条与所述掩模板的制作材料相同。
本发明提供的防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件，有效防止了在沉积蒸镀过程中由掩模组件上的掩模板的重量引起的掩模板的图案变形，有效改善蒸镀精度，生产成本低，效率高，具有广阔的市场前景。
 
附图说明
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。
图1为只有纵向支撑条的防止下垂的掩模框架；
图2为有纵向和横向支撑条的防止下垂的掩模框架；
图3为图2A部分的局部放大图；
图4为防止下垂的掩模组件的展开图；
图中1为边框，2为支撑条，3为网格，4为掩模框架边框中心线，5为满足蒸镀设备的结构设计，11为掩模板，12为掩模板上的开口。
 
具体实施方式
实施例：1
如图1所示，一种防止下垂的掩模框架，包括边框1和支撑条2，所述边框1和支撑条2一体成型，处于同一水平面上。所述支撑条2相互平行，纵向排列。所述支撑条2之间有空隙，切该空隙尺寸大于或等于掩模板图形区域开口的尺寸，所述支撑条的宽度小于或等于掩模板图形区域开口之间的间隙。所述支撑条2之间有空隙相等。
如图4所示，一种防止下垂的掩模组件，包括上述的防止下垂的掩模框架和掩模板，所述防止下垂的掩模框架与所述掩模板焊接。所述掩模框架的纵向支撑条与所述掩模板纵向图形区域间隙对齐，支撑条中心线上与掩模板图形区域间隙之间有焊接点，掩模框架边框边缘区域与掩模板边缘之间也有焊接点，所述掩模框架边框边缘区域是指掩模框架边框中心线到掩模框架边框外边线之间的区域。所述防止下垂的掩模框架的纵向支撑条与所述掩模板纵向图形区域间隙对齐，即纵向支撑条间隙与掩模板纵向开口相对应。所述支撑条与所述掩模板的制作材料相同。所述掩模框架上具有满足蒸镀设备的结构设计5。
 
实施例2：
如图2所示，一种防止下垂的掩模框架，包括边框1和支撑条2，所述边框1和支撑条2一体成型，处于同一水平面上。所述支撑条纵横垂直相交，纵向的支撑条2相互平行，横向的支撑条2也相互平行，所述支撑条纵横相交形成网格3。所述网格3的尺寸大于或等于掩模板图形区域开口的尺寸。所述网格3的大小一致。保证所述支撑条2不能挡住掩模板图形区域的开口。
一种防止下垂的掩模组件，包括上述的防止下垂的掩模框架和掩模板，所述掩模框架与所述掩模板焊接。所述掩模框架的纵横向支撑条与所述掩模板纵横向图形区域间隙对齐，支撑条中心线上与掩模板图形区域间隙之间有焊接点，掩模框架边框边缘区域与掩模板边缘之间也有焊接点，所述掩模框架边框边缘区域是指掩模框架边框中心线到掩模框架边框外边线之间的区域。所述支撑条与所述掩模板的制作材料相同。所述掩模框架上具有满足蒸镀设备的结构设计5。
以上实施例目的在于说明本发明，而非限制本发明的保护范围，所有由本发明简单变化而来的应用均落在本发明的保护范围内。

Claims (11)

1.一种防止下垂的掩模框架，其特征在于，包括边框和支撑条，所述边框和支撑条一体成型。
2.根据权利要求1所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条之间纵向或横向相互平行。
3.根据权利要求2所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条之间有间隙。
4.根据权利要求3所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条之间的间隙大于或等于掩模板图形区域的开口；所述支撑条的宽度小于或等于掩模板图形区域开口之间的间隙。
5.根据权利要求2所述的掩模框架，其特征在于，还设有横向或纵向相互平行的支撑条与所述纵向或横向相互平行的支撑条垂直交叉，形成许多网格。
6.根据权利要求5所述的掩模框架，其特征在于，所述网格的尺寸大于或等于掩模板图形区域开口的尺寸，所述支撑条的宽度小于或等于掩模板图形区域开口之间的间隙。
7.根据权利要求1-6任一项所述的掩模框架，其特征在于，所述支撑条与所述边框处于同一水平面上。
8.根据权利要求1-6任一项所述的掩模框架，其特征在于，所述边框上具有满足蒸镀设备要求的结构设计。
9.一种防止下垂的掩模组件，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的防止下垂的掩模框架和掩模板，所述防止下垂的掩模框架与所述掩模板焊接。
10.根据权利要求9所述的防止下垂的掩模组件，其特征在于，所述掩模框架的纵横向支撑条与所述掩模板纵横向图形区域间隙对齐，支撑条中心线上与掩模板图形区域间隙之间有焊接点，掩模框架边框边缘区域与掩模板边缘之间也有焊接点，所述掩模框架边框边缘区域是指掩模框架边框中心线到掩模框架边框外边线之间的区域。
11.根据权利要求9或10所述的防止下垂的掩模组件，其特征在于，所述支撑条与所述掩模板的制作材料相同。
CN2012100107527A 2012-01-16 2012-01-16 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件 Pending CN103207518A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012100107527A CN103207518A (zh) 2012-01-16 2012-01-16 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2012100107527A CN103207518A (zh) 2012-01-16 2012-01-16 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103207518A true CN103207518A (zh) 2013-07-17

Family

ID=48754785

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2012100107527A Pending CN103207518A (zh) 2012-01-16 2012-01-16 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103207518A (zh)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103757588A (zh) * 2013-12-30 2014-04-30 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种掩膜板及该掩膜板的制备方法和应用
CN106019819A (zh) * 2016-07-22 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
WO2017032248A1 (zh) * 2015-08-22 2017-03-02 昆山允升吉光电科技有限公司 一种小开口蒸镀用掩模板
CN106488995A (zh) * 2014-07-08 2017-03-08 株式会社V技术 成膜掩模、成膜掩模的制造方法和触摸面板
CN107290928A (zh) * 2017-05-09 2017-10-24 友达光电股份有限公司 掩膜
CN108950474A (zh) * 2018-07-25 2018-12-07 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及掩模组件
CN109735802A (zh) * 2019-03-11 2019-05-10 南京高光半导体材料有限公司 一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件及掩膜版制作方法
WO2019104845A1 (zh) * 2017-11-30 2019-06-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀用掩膜组件
CN110651374A (zh) * 2017-05-31 2020-01-03 Tgo科技株式会社 框架一体型掩模
CN112272874A (zh) * 2018-06-12 2021-01-26 应用材料公司 掩模框架及掩模组件
CN112962056A (zh) * 2021-02-02 2021-06-15 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030095245A1 (en) * 2001-11-21 2003-05-22 Asahi Glass Company, Limited Structure for attaching a pellicle to a photo-mask
US20080213679A1 (en) * 2007-03-01 2008-09-04 Nikon Corporation Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method
CN101281362A (zh) * 2007-04-04 2008-10-08 信越化学工业株式会社 防护薄膜
CN101798670A (zh) * 2009-02-05 2010-08-11 三星移动显示器株式会社 掩模组件及用于使用该掩模组件的平板显示器的沉积设备
CN101864552A (zh) * 2009-04-16 2010-10-20 三星移动显示器株式会社 用于薄膜沉积的掩模框架组件及相关方法
CN202583692U (zh) * 2012-01-16 2012-12-05 昆山允升吉光电科技有限公司 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030095245A1 (en) * 2001-11-21 2003-05-22 Asahi Glass Company, Limited Structure for attaching a pellicle to a photo-mask
US20080213679A1 (en) * 2007-03-01 2008-09-04 Nikon Corporation Pellicle frame apparatus, mask, exposing method, exposure apparatus, and device fabricating method
CN101281362A (zh) * 2007-04-04 2008-10-08 信越化学工业株式会社 防护薄膜
CN101798670A (zh) * 2009-02-05 2010-08-11 三星移动显示器株式会社 掩模组件及用于使用该掩模组件的平板显示器的沉积设备
CN101864552A (zh) * 2009-04-16 2010-10-20 三星移动显示器株式会社 用于薄膜沉积的掩模框架组件及相关方法
CN202583692U (zh) * 2012-01-16 2012-12-05 昆山允升吉光电科技有限公司 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103757588A (zh) * 2013-12-30 2014-04-30 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种掩膜板及该掩膜板的制备方法和应用
CN103757588B (zh) * 2013-12-30 2016-02-03 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 一种掩膜板及该掩膜板的制备方法和应用
US10533246B2 (en) 2014-07-08 2020-01-14 V Technology Co., Ltd. Deposition mask, method for manufacturing the same, and touch panel
CN106488995B (zh) * 2014-07-08 2019-11-08 株式会社V技术 成膜掩模、成膜掩模的制造方法和触摸面板
CN106488995A (zh) * 2014-07-08 2017-03-08 株式会社V技术 成膜掩模、成膜掩模的制造方法和触摸面板
WO2017032248A1 (zh) * 2015-08-22 2017-03-02 昆山允升吉光电科技有限公司 一种小开口蒸镀用掩模板
CN106019819A (zh) * 2016-07-22 2016-10-12 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
WO2018014554A1 (zh) * 2016-07-22 2018-01-25 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
US10663857B2 (en) 2016-07-22 2020-05-26 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask and fabrication method thereof
CN107290928A (zh) * 2017-05-09 2017-10-24 友达光电股份有限公司 掩膜
CN110651374A (zh) * 2017-05-31 2020-01-03 Tgo科技株式会社 框架一体型掩模
WO2019104845A1 (zh) * 2017-11-30 2019-06-06 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种蒸镀用掩膜组件
CN112272874A (zh) * 2018-06-12 2021-01-26 应用材料公司 掩模框架及掩模组件
CN108950474A (zh) * 2018-07-25 2018-12-07 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及掩模组件
CN109735802A (zh) * 2019-03-11 2019-05-10 南京高光半导体材料有限公司 一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件及掩膜版制作方法
CN112962056A (zh) * 2021-02-02 2021-06-15 京东方科技集团股份有限公司 掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103207518A (zh) 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件
CN204361134U (zh) 一种oled蒸镀用掩膜板支撑架
CN204401095U (zh) 一种掩膜板
CN202583692U (zh) 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件
CN202453614U (zh) 一种封框胶uv固化工艺中的液晶屏遮光板
CN203804042U (zh) 一种保证运输安全的冷冲模
CN207556578U (zh) 一种环保在线自动监测装置
CN203726976U (zh) 一种金属丝网
CN202002841U (zh) 一种锂电池极片脆性测试装置
CN102436151A (zh) 光刻版图的形成方法
CN201955619U (zh) 半导体制造中光刻套刻图形的版图结构
CN202528557U (zh) 一种太阳能电池片正电极网板
CN205881929U (zh) 硅片清洗鼓泡装置
CN203536391U (zh) 可调节的硅片放置架
CN202231953U (zh) 一种内层防错印制电路板
CN203530507U (zh) 一种双杠保护烧结舟
CN205685917U (zh) 一种全玻组件层压工装
CN108682620A (zh) 一种改善滚轮带液刻蚀过刻的方法及其装置
CN209492060U (zh) 用于工业吸尘机挡板成型的模具
CN204988827U (zh) 一种压电陶瓷弯曲元测试试样制作饱和器
CN103171254B (zh) 一种太阳能电池片正电极网板
CN205944130U (zh) 一种led固晶机载台
CN207011168U (zh) 一种光电安全保护装置骨架
CN206834174U (zh) 一种dfn1608高密度框架
CN206520624U (zh) 一种用于风电叶片制造的玻纤布运转推车

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130717