CN107290928A - 掩膜 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种掩膜，包含第一岛状物以及第二岛状物。第二岛状物连接第一岛状物。第二岛状物与第一岛状物在行列方向上都交错排列。每两个邻近的第一岛状物与对应的两个第二岛状物之间夹有通孔。第一岛状物的顶面面积大于第二岛状物的顶面面积。

Description

掩膜
技术领域
本发明是有关于一种掩膜，且特别是有关于一种精细金属掩膜(Fine MetalMask)。
背景技术
随着科技的进步，显示设备例如是有机发光二极管(Organic Light EmittingDiode，OLED)显示器或液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)的屏幕尺寸也越做越大。为了制作这些大尺寸的显示器，在形成图案化的导线或像素时，必须使用大面积的掩膜，图1是一种现有的的掩膜10的上视示意图，掩膜10具有多个通孔OP1。
然而，使用大面积的掩膜时，当撑开掩膜的时后，掩膜的中间容易受到重力而下垂，使掩膜的中间变形，导致借由掩膜所形成的像素图案也跟着变形，影响显示设备的质量。因此，目前亟需一种能解决前述问题的掩膜。
发明内容
本发明提供一种掩膜，在撑开时不会有明显的变形。
本发明的一种掩膜包含多个第一岛状物以及多个第二岛状物。多个第二岛状物连接多个第一岛状物且与多个第一岛状物在行列方向上皆交错排列。每两个邻近的第一岛状物与对应的两个第二岛状物之间夹有通孔。第一岛状物的顶面面积大于第二岛状物的顶面面积。
其中，该些第一岛状物以及该些第二岛状物沿着一第一方向以及一第二方向交错排列，该第一方向与该第二方向之间的夹角大于0度且小于等于90度。
其中，每一该第一岛状物的侧壁具有一第一坡度，且每一该第二岛状物的侧壁具有一第二坡度，该第一坡度大于该第二坡度。
其中，该第一坡度介于60度与80度之间，且该第二坡度介于30度与50度之间。
其中，每一该第一岛状物的顶面面积与底面面积的比值介于0.3与0.4之间，且每一该第二岛状物的顶面面积与底面面积的比值介于0.05与0.1之间。
其中，每两个邻近的该些第一岛状物的顶面边缘之间的最大距离小于每两个邻近的该些第二岛状物的顶面边缘之间的最大距离。
其中，该些第一岛状物与该些第二岛状物的材料包括金属。
其中，该通孔的底面形状与该通孔的顶面形状不相同。
其中，该些第一岛状物的厚度等于该些第二岛状物的厚度。
基于上述，本发明的掩膜包括交错排列的多个第一岛状物以及多个第二岛状物，且第一岛状物与第二岛状物的顶面面积不同，因此，掩膜在撑开时，掩膜的中间不会有明显的变形。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。
附图说明
图1是一种现有的掩膜的上视示意图。
图2A是依照本发明的一实施例的一种掩膜的上视示意图。
图2B是依照本发明的一实施例的一种掩膜的下视示意图。
图2C是沿图2A中剖线AA’的剖面示意图。
图2D是沿图2A中剖线BB’的剖面示意图。
图3是现有的掩膜与本发明一实施例的一种掩膜的水平位置与垂直位置的折线图。
其中，附图标记：
10、20：掩膜
100：第一岛状物
200：第二岛状物
A1、B1：顶面面积
A2、B2：底面面积
D1：第一方向
D2：第二方向
OP1、OP2：通孔
D1：第一方向
D1：第一方向
H1、H2：厚度
L1、L2：长度
SW1、SW2：侧壁
TS1、TS2：顶面
BS1、BS2：底面
TW1、TW2、BW1、BW2：最大距离
具体实施方式
图2A是依照本发明的一实施例的一种掩膜的上视示意图。图2B是依照本发明的一实施例的一种掩膜的下视示意图。图2C是沿图2A中剖线AA’的剖面示意图。图2D是沿图2A中剖线BB’的剖面示意图。
请同时参考图2A～图2D，在本实施例中，掩膜20包含多个第一岛状物100以及多个第二岛状物200。在一实施例中，第一岛状物100与第二岛状物200的材料包括金属或其他合适制作为掩膜的材料。在一实施例中，第一岛状物100与第二岛状物200的材料包括钛、铝、钼、铜、镍、铁或以上金属的合金。在一实施例中，形成掩膜10的方法例如为先形成一片平整的金属，接着利用图案化工艺于金属上形成多个通孔OP2，图案化工艺的方式例如金属化学蚀刻工艺。
第二岛状物200连接第一岛状物100且与第一岛状物100在行列方向上皆交错排列。在本实施例中，第一方向D1为列的方向，第二方向D2为行的方向，第一岛状物100以及第二岛状物200分别沿着第一方向D1以及第二方向D2交错排列，第一方向D1与第二方向D2之间的夹角大于0度且小于等于90度，其中以80度到90度较佳。在本实施例中，每个第一岛状物100都被相邻的四个第二岛状物200环绕，且每个第二岛状物200都被相邻的四个第一岛状物100环绕。
在本实施例中，每个第一岛状物100以及每个第二岛状物200都会沿着第一方向D1以及第二方向D2交错排列，然而本发明不以此为限。在其他实施例中，第一岛状物100以及第二岛状物200是以两个为单位而交替排列，举例而言，在第一方向D1上，首先是连续两个第一岛状物100，接着是连续两个第二岛状物200，再来又是连续两个第一岛状物100。
如图2A所示，每两个邻近的第一岛状物100与对应的两个第二岛状物200之间夹有通孔OP2。在本实施例中，通孔OP2周围的第一岛状物100与第二岛状物200交错排列。第一岛状物100、第二岛状物200以及通孔OP2共同构成掩膜图案。
通孔OP2的底面形状与通孔OP2的顶面形状不相同。在一实施例中，通孔OP2的底面形状例如为圆形、近似方形的形状或其他几何形状，通孔OP2的顶面形状例如为近似菱形的形状。在一实施例中，通孔OP2的底面形状是由弧线所构成之近似于方形的形状，通孔OP2的顶面形状是由弧线所构成之近似于菱形的形状。在本实施例中，通孔OP2的顶部的开口大小大于通孔OP2底部的开口大小。在一实施例中，掩膜20的底面面对欲沉积材料的基板，而掩膜20的顶面面对材料来源，由于掩膜20的通孔OP2在顶部的开口较大，因此材料能够较容易的通过通孔OP2而抵达欲沉积材料的基板。
第一岛状物100的顶面面积A1大于第二岛状物200的顶面面积B1。第一岛状物100的顶面面积A1小于第一岛状物100的底面面积A2，第二岛状物200的顶面面积B1小于第二岛状物200的底面面积B2。在一实施例中，第一岛状物100的顶面面积A1与底面面积A2的比值大于第二岛状物200的顶面面积B1与底面面积B2的比值，也就是说，第一岛状物100与第二岛状物200具有B1/B2<A1/A2<1的特征。
在一实施例中，第一岛状物100的底面面积A2与第二岛状物200的底面面积B2大致相等。在一实施例中，第一岛状物100的顶面面积A1与底面面积A2的比值介于0.3与0.4之间，第二岛状物200的顶面面积B1与底面面积B2的比值介于0.05与0.1之间。
在本实施例中，由于第一岛状物100的顶面面积A1大于大于第二岛状物200的顶面面积B1，因此，第一岛状物100能提供较强的支撑力，使掩膜在撑开时不容易变形。请参考图3，图3是现有的掩膜与本发明一实施例的一种掩膜的水平位置与垂直位置的折线图，其中纵轴代表的是掩膜在垂直方向的位置，横轴则代表掩膜在水平方向上的位置。图3中的虚线能显示现有掩膜(如图1所示)在撑开时，在垂直掩膜的方向上所出现的皱褶的深度，现有掩膜在撑开时，在垂直掩膜的方向上最大会出现127微米深的皱褶。另一方面，图3中的实线能显示本实施例的掩膜在撑开时，在垂直掩膜的方向上所出现的皱褶的深度，相较于相同厚度的现有掩膜，本实施例的掩膜在撑开时，掩膜上产生之皱褶的最大深度减少为107微米，有显著改善。
第一岛状物100的侧壁SW1具有第一坡度，第一坡度为正切函数，代表的是第一岛状物100的厚度H1除上侧壁SW1投影至第一岛状物100的底面BS1的长度L1。第二岛状物200的侧壁SW2具有第二坡度，第二坡度为正切函数，代表的是第二岛状物200的厚度H2除上侧壁SW2投影至第二岛状物200底面BS2的长度L2。在本实施例中，第一坡度大于第二坡度，换句话说，第一岛状物100的侧壁SW1比第二岛状物200的侧壁SW2还要陡。在一实施例中，第一坡度介于60度与80度之间，且第二坡度介于30度与50度之间。在一实施例中，第一岛状物100的厚度H1等于第二岛状物200的厚度H2。在一实施例中，第一岛状物100的厚度H1与第二岛状物200的厚度H2介于10微米与100微米之间。
在一实施例中，每两个邻近的第一岛状物100的顶面TS1边缘之间的最大距离TW1小于每两个邻近的第二岛状物200的顶面TS2边缘之间的最大距离TW2。在一实施例中，每两个邻近的第一岛状物100的底面BS1边缘之间的最大距离BW1等于每两个邻近的第二岛状物200的底面BS2边缘之间的最大距离BW2。
基于上述，本发明的掩膜20包括交错排列的多个第一岛状物100以及多个第二岛状物200，且第一岛状物100的顶面面积A1与第二岛状物200的顶面面积B1不同，借由顶面面积较大的第一岛状物100提供较大的支撑力，可降低掩膜整体于中央的变形。
综上所述，本发明的掩膜包括交错排列的多个第一岛状物以及多个第二岛状物，且第一岛状物的顶面面积与第二岛状物的顶面面积不同，因此，掩膜在撑开时，掩膜的中间不会有明显的变形。在本发明一实施例中，掩膜中的通孔在掩膜顶面具有较大的开口，因此材料能够较容易从通孔的顶部穿过掩膜。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种掩膜，其特征在于，包含：
多个第一岛状物；以及
多个第二岛状物，连接该多个第一岛状物且与该多个第一岛状物在行列方向上都交错排列，每两个邻近的该第一岛状物与对应的两个该第二岛状物之间夹有一通孔，其中该些第一岛状物的顶面面积大于该些第二岛状物的顶面面积。
2.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该些第一岛状物以及该些第二岛状物沿着一第一方向以及一第二方向交错排列，该第一方向与该第二方向之间的夹角大于0度且小于等于90度。
3.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，每一该第一岛状物的侧壁具有一第一坡度，且每一该第二岛状物的侧壁具有一第二坡度，该第一坡度大于该第二坡度。
4.根据权利要求3所述的掩膜，其特征在于，该第一坡度介于60度与80度之间，且该第二坡度介于30度与50度之间。
5.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，每一该第一岛状物的顶面面积与底面面积的比值介于0.3与0.4之间，且每一该第二岛状物的顶面面积与底面面积的比值介于0.05与0.1之间。
6.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，每两个邻近的该些第一岛状物的顶面边缘之间的最大距离小于每两个邻近的该些第二岛状物的顶面边缘之间的最大距离。
7.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该些第一岛状物与该些第二岛状物的材料包括金属。
8.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该通孔的底面形状与该通孔的顶面形状不相同。
9.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该些第一岛状物的厚度等于该些第二岛状物的厚度。
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