TWI618447B - 遮罩 - Google Patents

遮罩 Download PDF

Info

Publication number
TWI618447B
TWI618447B TW106115251A TW106115251A TWI618447B TW I618447 B TWI618447 B TW I618447B TW 106115251 A TW106115251 A TW 106115251A TW 106115251 A TW106115251 A TW 106115251A TW I618447 B TWI618447 B TW I618447B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
islands
island
mask
surface area
top surface
Prior art date
Application number
TW106115251A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201902301A (zh
Inventor
江南輝
陳瑞祥
賴俊志
鄧博文
陳信宏
Original Assignee
友達光電股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 友達光電股份有限公司 filed Critical 友達光電股份有限公司
Priority to TW106115251A priority Critical patent/TWI618447B/zh
Priority to CN201710556840.XA priority patent/CN107290928B/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI618447B publication Critical patent/TWI618447B/zh
Publication of TW201902301A publication Critical patent/TW201902301A/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本發明提供一種遮罩包含第一島狀物以及第二島狀物。第二島狀物連接第一島狀物。第二島狀物與第一島狀物在行列方向上皆交錯排列。每兩個鄰近的第一島狀物與對應的兩個第二島狀物之間夾有通孔。第一島狀物的頂面面積大於第二島狀物的頂面面積。

Description

遮罩
本發明是有關於一種遮罩,且特別是有關於一種精細金屬遮罩(Fine Metal Mask)。
隨著科技的進步,顯示裝置例如是有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode,OLED)顯示器或液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)的螢幕尺寸也越做越大。為了製作這些大尺寸的顯示器,在形成圖案化的導線或像素時,必須使用大面積的遮罩,圖1是一種習知的的遮罩10的上視示意圖,遮罩10具有多個通孔OP1。
然而,使用大面積的遮罩時,當撐開遮罩的時後,遮罩的中間容易受到重力而下垂,使遮罩的中間變形,導致藉由遮罩所形成的像素圖案也跟著變形,影響顯示裝置的品質。因此,目前亟需一種能解決前述問題的遮罩。
本發明提供一種遮罩,在撐開時不會有明顯的變形。
本發明的一種遮罩包含多個第一島狀物以及多個第二島狀物。多個第二島狀物連接多個第一島狀物且與多個第一島狀物在行列方向上皆交錯排列。每兩個鄰近的第一島狀物與對應的兩個第二島狀物之間夾有通孔。第一島狀物的頂面面積大於第二島狀物的頂面面積。
基於上述,本發明的遮罩包括交錯排列的多個第一島狀物以及多個第二島狀物,且第一島狀物與第二島狀物的頂面面積不同,因此,遮罩在撐開時,遮罩的中間不會有明顯的變形。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂,下文特舉實施例,並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖2A是依照本發明的一實施例的一種遮罩的上視示意圖。圖2B是依照本發明的一實施例的一種遮罩的下視示意圖。圖2C是沿圖2A中剖線AA’的剖面示意圖。圖2D是沿圖2A中剖線BB’的剖面示意圖。
請同時參考圖2A~圖2D,在本實施例中,遮罩20包含多個第一島狀物100以及多個第二島狀物200。在一實施例中,第一島狀物100與第二島狀物200的材料包括金屬或其他合適製作為遮罩的材料。在一實施例中,第一島狀物100與第二島狀物200的材料包括鈦、鋁、鉬、銅、鎳、鐵或以上金屬的合金。在一實施例中,形成罩幕10的方法例如為先形成一片平整的金屬,接著利用圖案化製程於金屬上形成多個通孔OP2,圖案化製程的方式例如金屬化學蝕刻製程。
第二島狀物200連接第一島狀物100且與第一島狀物100在行列方向上皆交錯排列。在本實施例中,第一方向D1為列的方向,第二方向D2為行的方向,第一島狀物100以及第二島狀物200分別沿著第一方向D1以及第二方向D2交錯排列,第一方向D1與第二方向D2之間的夾角大於0度且小於等於90度,其中以80度到90度較佳。在本實施例中,每個第一島狀物100都被相鄰的四個第二島狀物200環繞,且每個第二島狀物200都被相鄰的四個第一島狀物100環繞。
在本實施例中,每個第一島狀物100以及每個第二島狀物200都會沿著第一方向D1以及第二方向D2交錯排列,然而本發明不以此為限。在其他實施例中,第一島狀物100以及第二島狀物200是以兩個為單位而交替排列,舉例而言,在第一方向D1上,首先是連續兩個第一島狀物100,接著是連續兩個第二島狀物200,再來又是連續兩個第一島狀物100。
如圖2A所示,每兩個鄰近的第一島狀物100與對應的兩個第二島狀物200之間夾有通孔OP2。在本實施例中,通孔OP2周圍的第一島狀物100與第二島狀物200交錯排列。第一島狀物100、第二島狀物200以及通孔OP2共同構成遮罩圖案。
通孔OP2的底面形狀與通孔OP2的頂面形狀不相同。在一實施例中,通孔OP2的底面形狀例如為圓形、近似方形的形狀或其他幾何形狀,通孔OP2的頂面形狀例如為近似菱形的形狀。在一實施例中,通孔OP2的底面形狀是由弧線所構成之近似於方形的形狀,通孔OP2的頂面形狀是由弧線所構成之近似於菱形的形狀。在本實施例中,通孔OP2的頂部的開口大小大於通孔OP2底部的開口大小。在一實施例中,遮罩20的底面面對欲沉積材料的基板,而遮罩20的頂面面對材料來源,由於遮罩20的通孔OP2在頂部的開口較大,因此材料能夠較容易的通過通孔OP2而抵達欲沉積材料的基板。
第一島狀物100的頂面面積A1大於第二島狀物200的頂面面積B1。第一島狀物100的頂面面積A1小於第一島狀物100的底面面積A2,第二島狀物200的頂面面積B1小於第二島狀物200的底面面積B2。在一實施例中,第一島狀物100的頂面面積A1與底面面積A2的比值大於第二島狀物200的頂面面積B1與底面面積B2的比值,也就是說,第一島狀物100與第二島狀物200具有B1/B2<A1/A2<1的特徵。
在一實施例中,第一島狀物100的底面面積A2與第二島狀物200的底面面積B2大致相等。在一實施例中,第一島狀物100的頂面面積A1與底面面積A2的比值介於0.3與0.4之間,第二島狀物200的頂面面積B1與底面面積B2的比值介於0.05與0.1之間。
在本實施例中,由於第一島狀物100的頂面面積A1大於大於第二島狀物200的頂面面積B1,因此,第一島狀物100能提供較強的支撐力,使遮罩在撐開時不容易變形。請參考圖3,圖3是習知的遮罩與本發明一實施例的一種遮罩的水平位置與垂直位置的折線圖,其中縱軸代表的是遮罩在垂直方向的位置,橫軸則代表遮罩在水平方向上的位置。圖3中的虛線能顯示習知遮罩(如圖1所示)在撐開時,在垂直遮罩的方向上所出現的皺褶的深度,習知遮罩在撐開時,在垂直遮罩的方向上最大會出現127微米深的皺褶。另一方面,圖3中的實線能顯示本實施例的遮罩在撐開時,在垂直遮罩的方向上所出現的皺褶的深度,相較於相同厚度的習知遮罩,本實施例的遮罩在撐開時,遮罩上產生之皺褶的最大深度減少為107微米,有顯著改善。
第一島狀物100的側壁SW1具有第一坡度,第一坡度為正切函數,代表的是第一島狀物100的厚度H1除上側壁SW1投影至第一島狀物100的底面BS1的長度L1。第二島狀物200的側壁SW2具有第二坡度,第二坡度為正切函數,代表的是第二島狀物200的厚度H2除上側壁SW2投影至第二島狀物200底面BS2的長度L2。在本實施例中,第一坡度大於第二坡度,換句話說,第一島狀物100的側壁SW1比第二島狀物200的側壁SW2還要陡。在一實施例中,第一坡度介於60度與80度之間,且第二坡度介於30度與50度之間。在一實施例中,第一島狀物100的厚度H1等於第二島狀物200的厚度H2。在一實施例中,第一島狀物100的厚度H1與第二島狀物200的厚度H2介於10微米與100微米之間。
在一實施例中,每兩個鄰近的第一島狀物100的頂面TS1邊緣之間的最大距離TW1小於每兩個鄰近的第二島狀物200的頂面TS2邊緣之間的最大距離TW2。在一實施例中,每兩個鄰近的第一島狀物100的底面BS1邊緣之間的最大距離BW1等於每兩個鄰近的第二島狀物200的底面BS2邊緣之間的最大距離BW2。
基於上述,本發明的遮罩20包括交錯排列的多個第一島狀物100以及多個第二島狀物200,且第一島狀物100的頂面面積A1與第二島狀物200的頂面面積B1不同,藉由頂面面積較大的第一島狀物100提供較大的支撐力,可降低遮罩整體於中央的變形。
綜上所述,本發明的遮罩包括交錯排列的多個第一島狀物以及多個第二島狀物,且第一島狀物的頂面面積與第二島狀物的頂面面積不同,因此,遮罩在撐開時,遮罩的中間不會有明顯的變形。在本發明一實施例中,遮罩中的通孔在遮罩頂面具有較大的開口,因此材料能夠較容易從通孔的頂部穿過遮罩。
雖然本發明已以實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何所屬技術領域中具有通常知識者,在不脫離本發明的精神和範圍內,當可作些許的更動與潤飾,故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10、20‧‧‧遮罩
100‧‧‧第一島狀物
200‧‧‧第二島狀物
A1、B1‧‧‧頂面面積
A2、B2‧‧‧底面面積
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
OP1、OP2‧‧‧通孔
D1‧‧‧第一方向
D1‧‧‧第一方向
H1、H2‧‧‧厚度
L1、L2‧‧‧長度
SW1、SW2‧‧‧側壁
TS1、TS2‧‧‧頂面
BS1、BS2‧‧‧底面
TW1、TW2、BW1、BW2‧‧‧最大距離
圖1是一種習知的遮罩的上視示意圖。 圖2A是依照本發明的一實施例的一種遮罩的上視示意圖。 圖2B是依照本發明的一實施例的一種遮罩的下視示意圖。 圖2C是沿圖2A中剖線AA’的剖面示意圖。 圖2D是沿圖2A中剖線BB’的剖面示意圖。 圖3是習知的遮罩與本發明一實施例的一種遮罩的水平位置與垂直位置的折線圖。
20‧‧‧遮罩
100‧‧‧第一島狀物
200‧‧‧第二島狀物
OP2‧‧‧通孔
A1、B1‧‧‧頂面面積
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向

Claims (9)

  1. 一種遮罩,包含: 多個第一島狀物;以及 多個第二島狀物,連接該多個第一島狀物且與該多個第一島狀物在行列方向上皆交錯排列,每兩個鄰近的該第一島狀物與對應的兩個該第二島狀物之間夾有一通孔,其中該些第一島狀物的頂面面積大於該些第二島狀物的頂面面積。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的遮罩,其中該些第一島狀物以及該些第二島狀物沿著一第一方向以及一第二方向交錯排列,該第一方向與該第二方向之間的夾角大於0度且小於等於90度。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的遮罩,其中每一該第一島狀物的側壁具有一第一坡度,且每一該第二島狀物的側壁具有一第二坡度,該第一坡度大於該第二坡度。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的遮罩,其中該第一坡度介於60度與80度之間,且該第二坡度介於30度與50度之間。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的遮罩,其中每一該第一島狀物的頂面面積與底面面積的比值介於0.3與0.4之間,且每一該第二島狀物的頂面面積與底面面積的比值介於0.05與0.1之間。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的遮罩,其中每兩個鄰近的該些第一島狀物的頂面邊緣之間的最大距離小於每兩個鄰近的該些第二島狀物的頂面邊緣之間的最大距離。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的遮罩,其中該些第一島狀物與該些第二島狀物的材料包括金屬。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的遮罩,其中該通孔的底面形狀與該通孔的頂面形狀不相同。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的遮罩,其中該些第一島狀物的厚度等於該些第二島狀物的厚度。
TW106115251A 2017-05-09 2017-05-09 遮罩 TWI618447B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW106115251A TWI618447B (zh) 2017-05-09 2017-05-09 遮罩
CN201710556840.XA CN107290928B (zh) 2017-05-09 2017-07-10 掩膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW106115251A TWI618447B (zh) 2017-05-09 2017-05-09 遮罩

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TWI618447B true TWI618447B (zh) 2018-03-11
TW201902301A TW201902301A (zh) 2019-01-01

Family

ID=60100261

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106115251A TWI618447B (zh) 2017-05-09 2017-05-09 遮罩

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN107290928B (zh)
TW (1) TWI618447B (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090004575A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Hynix Semiconductor Inc. Exposure mask with double patterning technology and method for fabricating semiconductor device using the same
TW201443547A (zh) * 2013-05-10 2014-11-16 Samsung Display Co Ltd 遮罩
US20150287956A1 (en) * 2014-04-04 2015-10-08 Grantwood Limited Method and apparatus for patterning an organic device
TW201638362A (zh) * 2015-04-28 2016-11-01 友達光電股份有限公司 遮罩

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103207518A (zh) * 2012-01-16 2013-07-17 昆山允升吉光电科技有限公司 防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模组件
CN203616577U (zh) * 2013-11-08 2014-05-28 西安神光安瑞光电科技有限公司 一种火山型掩膜版及其图形化衬底
JP2016130789A (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 凸版印刷株式会社 Euvマスク用ペリクル
JP6532428B2 (ja) * 2016-05-26 2019-06-19 信越化学工業株式会社 ペリクル
CN206163494U (zh) * 2016-11-16 2017-05-10 京东方科技集团股份有限公司 像素排列结构、有机电致发光器件、显示装置、掩模板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090004575A1 (en) * 2007-06-29 2009-01-01 Hynix Semiconductor Inc. Exposure mask with double patterning technology and method for fabricating semiconductor device using the same
TW201443547A (zh) * 2013-05-10 2014-11-16 Samsung Display Co Ltd 遮罩
US20150287956A1 (en) * 2014-04-04 2015-10-08 Grantwood Limited Method and apparatus for patterning an organic device
TW201638362A (zh) * 2015-04-28 2016-11-01 友達光電股份有限公司 遮罩

Also Published As

Publication number Publication date
TW201902301A (zh) 2019-01-01
CN107290928A (zh) 2017-10-24
CN107290928B (zh) 2020-10-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10934613B2 (en) Mask plate, mask plate assembly including mask plate and method for manufacturing same
JP6657127B2 (ja) 画素構造、その表示方法、及び表示装置
US20220190250A1 (en) Metal plate for deposition mask, and deposition mask and manufacturing method therefor
JP6286210B2 (ja) マスク
US10301715B2 (en) Mask for deposition and manufacturing method thereof
CN109143648A (zh) 显示面板及显示装置
CN107541698B (zh) 用于薄膜沉积的掩模组件及其制造方法
KR20240026968A (ko) 증착용마스크 및 이를 이용한 oled 패널
CN106086781A (zh) 掩膜组件及其制造方法、显示装置
KR102373442B1 (ko) 박막증착용 마스크와, 이의 제조방법
CN102402042A (zh) 液晶显示装置及其制造方法
KR20230170628A (ko) Oled 화소 증착을 위한 금속 재질의 증착용 마스크 및 oled 패널 제조 방법
TW202016331A (zh) 沉積遮罩及其之製造方法
KR102516817B1 (ko) Oled 화소 증착을 위한 금속 재질의 증착용 마스크 및 oled 패널 제조 방법
WO2019015447A1 (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
WO2020118949A1 (zh) 掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置
CN111373564A (zh) 用于沉积的掩模及用于制造该掩模的方法
TW201317373A (zh) 蒸鍍設備以及蒸鍍方法
KR20230046289A (ko) 증착용 마스크용 금속판의 잔류 응력 측정 방법 및 잔류 응력 특성이 개선된 증착용 마스크용 금속판
TWI618447B (zh) 遮罩
US11588128B2 (en) Electrode exhaust structure, electrode, display panel and manufacturing method therefor, and display apparatus
KR102361452B1 (ko) Oled 화소 증착을 위한 금속 재질의 증착용 마스크 및 oled 패널 제조 방법
WO2020252885A1 (zh) 阵列基板及液晶显示面板
JP2017521721A (ja) アレイ基板及び液晶表示パネル
WO2019129019A1 (zh) 阵列基板及显示面板