CN208279677U - 掩膜板及蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种掩膜板，包括：框架；第一掩膜板，设置于所述框架上，所述第一掩膜板上设置有用于限定显示区域的形状的开口；第二掩膜板，设置于所述第一掩膜板的第一侧，所述第二掩膜板上设有多个像素开口；还包括设置于所述第一掩膜板的第二侧的支撑条，所述第一侧与所述第二侧沿所述第一掩膜板的厚度方向相对设置。本实用新型还涉及了一种蒸镀设备。支撑条的设置提升掩膜板与待蒸镀基板的贴合延展性，降低因掩膜板贴合状态不好造成的显示面板边缘混色不良。

Description

掩膜板及蒸镀设备

技术领域

本实用新型涉及液晶产品制作技术领域，尤其涉及一种掩膜板及蒸镀设备。

背景技术

AMOLED显示的实现方式有LTPS(低温多晶硅)背板+精细金属掩膜(FMM Mask)方式，和Oxide(氧化物)背板+WOLED(白光有机发光二极管)+彩膜的方式，前者主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应Monitor(监控器)和电视等应用。现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟，实现了量产。

MFA(Mask Frame Assembly，掩模集成框架)目前是蒸镀技术最常用的技术方案之一，MFA的制作原理是将FMM单条sheet通过张网制作的工艺将其焊接在Frame框架上，针对目前存在小尺寸和异性尺寸，如圆形、齐刘海、倒角形状等非常规方案设计形状。采用CoverOpen Mask(遮挡式开口掩膜板)作为异性制作的基本构件之一。即Cover Open Mask作为AMOLED显示屏幕遮挡工具，蒸镀方式通过其遮挡后蒸镀得到形状的需求屏幕。

目前的MFA在蒸镀腔室进行蒸镀时，由于Cover Open mask材质为Invar(因瓦合金)，在与磁隔板在一定间距接触时，会受到磁力吸附作用，但由于cover open mask整体受到重力的下垂量、磁隔板均一性、以及精细金属掩膜条的设计特性等因素影响，会致使Cover Open Mask与FMM贴合后FMM会存在掩膜板与待蒸镀基板贴合不良，进而会引发不良的产生，如边缘混色、条状混色、以及混色的产生。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种掩膜板及蒸镀设备，解决蒸镀时掩膜板与待蒸镀基板贴合不良的问题。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种掩膜板，包括：

框架；

第一掩膜板，设置于所述框架上，所述第一掩膜板上设置有用于限定显示区域的形状的开口；

第二掩膜板，设置于所述第一掩膜板的第一侧，所述第二掩膜板上设有多个像素开口；

还包括设置于所述第一掩膜板的第二侧的支撑条，所述第一侧与所述第二侧沿所述第一掩膜板的厚度方向相对设置。

进一步的，所述第二掩膜板为由多个掩膜条组成的精细金属掩膜板，所述支撑条与所述掩膜条相交设置。

进一步的，所述支撑条与所述第一掩膜板连接的一侧间隔设置有多个凸起，所述凸起支撑连接于所述第一掩膜板上。

进一步的，每个所述掩膜条的多个所述像素开口划分为多个第一区域，每个所述第一区域与一所述开口相对应。

进一步的，每个所述凸起在所述第二掩膜板上的投影位于相应的相邻两个所述第一区域之间的区域内。

进一步的，所述凸起在所述第一掩膜板的厚度方向上的厚度为50-100um。

进一步的，所述支撑条与所述掩膜条相垂直设置。

进一步的，所述第二掩模板上的所述第一区域为矩形。

进一步的，所述第一掩膜板上的开口为圆形，所述开口在所述第二掩模板上的正投影落于所述第一区域内。

本实用新型提供一种蒸镀设备，包括上述的掩膜板。

本实用新型的有益效果是：支撑条的设置提升掩膜板与待蒸镀基板的贴合延展性，降低因掩膜板贴合状态不好造成的显示面板边缘混色不良。

附图说明

图1表示现有技术中掩膜板与待蒸镀基板贴合状态示意图；

图2表示本实用新型实施例中掩膜板与待蒸镀基板贴合状态示意图；

图3表示本实用新型实施例中掩膜板结构示意图一；

图4表示本实用新型实施例中掩膜板结构示意图二；

图5表示本实用新型实施例中框架与第一掩膜板结构组装后的示意图；

图6表示本实用新型实施例中掩膜条的结构示意图；

图7表示本实用新型实施例中支撑条结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的特征和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。

含有Cover Open Mask的MFA的制作方式：Frame金属框架上进行Cover Opensheet的张网焊接制作，FMM高精细掩膜板再在Cover open上进行张网工艺，即完成MFA的制作，可用于蒸镀使用。图1表示的是目前采用上述制作方法制作而成的掩膜板200与待蒸镀基板100贴合的状态示意图，从图1中明显可以看出，目前的掩膜板200在进行蒸镀时，掩膜板200与待蒸镀基板100受到磁隔板的吸附后存在贴合紧密度不佳的情况，存在曲线状态的位置为贴合不佳的位置，其中曲线形变位置，在蒸镀后该位置会引起显示器件特有的不良。进而会引起各种不良的产生，为了解决这一问题，本实施例提供一种掩膜板，如图3和图4所示，掩膜板包括：

框架1；

第一掩膜板2，设置于所述框架1上，所述第一掩膜板2上设置有用于限定显示区域的形状的开口；

第二掩膜板，设置于所述第一掩膜板2的第一侧，所述第二掩膜板上设有多个像素开口；

还包括设置于所述第一掩膜板2的第二侧的支撑条3，所述第一侧与所述第二侧沿所述第一掩膜板2的厚度方向相对设置。

相比目前的掩膜板，本实施例中的掩膜板增设了支撑条，支撑条起到支撑作用，改善了所述第一掩膜板2的下垂现象，在进行蒸镀时，提升了掩模板整体与待蒸镀基板之间的贴合紧密性，图2所示的是本实施例中的掩膜板200与待蒸镀基板100贴合的状态示意图，图2与图1进行对比，本实施例掩膜板200的支撑条3的设置明显的改善了贴合效果，提升了掩模板200与待蒸镀基板100之间的贴合紧密性，降低了由于贴合不佳而引起的各种不良。

优选的，本实施例中，所述支撑条采用磁性材料制成，例如金属，在进行蒸镀时，所述支撑条与磁隔板之间存在磁力作用，即所述支撑条会对所述掩膜板施加一个使得掩模板向靠近待蒸镀基板方向移动的力，从而进一步有效的提升掩膜板与待蒸镀基板之间的贴合紧密性。

本实施例中，所述第二掩膜板为由多个掩膜条4组成的精细金属掩膜板，所述支撑条3与所述掩膜条4相交设置。

优选的，所述支撑条3与所述掩膜条4相垂直设置，起到较佳的支撑效果，有效的保证掩模板与待蒸镀基板的贴合紧密性。

为了进一步的保证掩模板与待蒸镀基板之间贴合紧密性，本实施例中，所述支撑条3与所述第一掩膜板2连接的一侧间隔设置有多个凸起31，所述凸起31支撑连接于所述第一掩膜板2上，如图7所示。

本实施例中，每个所述掩膜条4的多个所述像素开口划分为多个第一区域41，如图4和图6所示，每个所述第一区域41与一所述开口相对应。多个所述第一区域41的划分利于所述掩膜条4张网拉伸设置于所述第一掩膜板2上时的受力均匀，缓解应力，且多个所述第一区域41的划分，为所述支撑条3的设置预留的空间，如图4和图6所示。

本实施例中，每个所述凸起31在所述第二掩膜板上的投影位于相应的相邻两个所述第一区域41之间的区域内，所述凸起31支撑连接于相应的相邻两个所述第一区域41之间的区域内，有针对型的支撑于掩膜板与待蒸镀基板之间容易产生缝隙的位置，有效的提升掩膜板整体与待蒸镀基板之间的贴合紧密性。

需要说明的是，根据实际需要(考虑到缓解应力、需要限定的显示区域的形状等因素)，一个所述开口内设置多个子开口，本实施例的一个实施方式中如图3、图4和图5所示，一个所述开口内设置了4个子开口，为了提升掩膜板与待蒸镀基板的贴合效果，此时，相邻两个子开口之间设置有所述支撑条3。

各个所述支撑条3在垂直于所述第一掩膜板方向上的投影的宽度可以相同，可以不同，由每一所述支撑条3所支撑的位置的面积决定，如图3和图4所示，本实施例的一个实施方式中，位于对应于一个所述第一区域41内的相邻两个子开口之间的所述支撑条3在垂直于所述第一掩膜板方向上的投影的宽度小于对应于相邻两个所述第一区域41之间的所述支撑条3在垂直于所述第一掩膜板方向上的投影的宽度，但并不以此为限。

本实施例中，所述凸起31在所述第一掩膜板2的厚度方向上的厚度为50-100um，但并不以此为限。

本实施例中，所述第二掩模板上的所述第一区域41为矩形，所述第一区域41采用规则的形状，且多个所述第一区域41大小相同、且等距分布，有利于所述掩膜条张网拉伸设置于所述第一掩膜板上时受力均匀，缓解应力，但并不以此为限。

本实施例中，所述第一掩膜板2上的开口为圆形，所述开口在所述第二掩模板上的正投影落于所述第一区域41内。

所述第一掩膜板2上的开口也可以是椭圆形等，所述第一掩膜板2上的开口的形状、大小根据所要限定的显示区域的形状、大小决定。

本实用新型提供一种蒸镀设备，包括上述的掩膜板。

支撑条的设置提升掩膜板与待蒸镀基板的贴合延展性，使得掩模板与待蒸镀基板贴合更加紧密，降低因掩膜板贴合状态不好造成的显示面板边缘混色不良。

以上所述为本实用新型较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。

Claims (10)

1.一种掩膜板，包括：

框架；

第一掩膜板，设置于所述框架上，所述第一掩膜板上设置有用于限定显示区域的形状的开口；

第二掩膜板，设置于所述第一掩膜板的第一侧，所述第二掩膜板上设有多个像素开口；

其特征在于，还包括设置于所述第一掩膜板的第二侧的支撑条，所述第一侧与所述第二侧沿所述第一掩膜板的厚度方向相对设置。

2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二掩膜板为由多个掩膜条组成的精细金属掩膜板，所述支撑条与所述掩膜条相交设置。

3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条与所述第一掩膜板连接的一侧间隔设置有多个凸起，所述凸起支撑连接于所述第一掩膜板上。

4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，每个所述掩膜条的多个所述像素开口划分为多个第一区域，每个所述第一区域与一所述开口相对应。

5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，每个所述凸起在所述第二掩膜板上的投影位于相应的相邻两个所述第一区域之间的区域内。

6.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起在所述第一掩膜板的厚度方向上的厚度为50-100um。

7.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条与所述掩膜条相垂直设置。

8.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述第二掩模板上的所述第一区域为矩形。

9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板上的开口为圆形，所述开口在所述第二掩模板上的正投影落于所述第一区域内。

10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的掩膜板。