CN111748766A - 金属掩膜板 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种金属掩膜板,本申请中金属掩膜板的异形遮蔽条包括主干、设置于主干一侧的异形突块、以及设置于主干另一侧且与异形突块相对的直边;其中,直边相对于主干形成有与异形突块反拉伸作用的突起,且所述主干两端均设置有焊接区域,所述异形突块与所述焊接区域之间采用光滑结构过渡,在金属掩膜板在张网焊接时,由于主干上采用了异形突块和光滑过渡结构,有效降低因焊接产生的突变量,增加了Y方向金属掩膜板的稳定性,避免了异形异形支撑条因为Y方向结构不对称导致张网精度差,从而实现金属掩膜板的高精度张网,保证镀膜的准确性。
Description
技术领域
本发明涉及显示面板制造技术领域,尤其涉及一种金属掩膜板。
背景技术
全面屏手机是未来手机行业的发展趋势,而目前实现全面屏的方式众多,目前市面上主流的全面屏手机类型有刘海屏、水滴屏等,为了尽可能提高手机屏占比,而将手机的听筒和摄像头等器件放置在刘海、水滴等非显示区域,小尺寸的异形盲孔或通孔需要精细掩膜板来制备。
现有OLED器件的蒸镀工艺中采用精细金属掩膜板(Fine Metal Mask,简称FMM),该掩膜版包括异形支撑条(Howling)以及与异形支撑条(Howling)相配合常规的遮蔽部(Cover Mask),异形支撑条对OLED显示面板的边、倒角、异形区进行遮挡。由于异形支撑条的非对称性的异形结构使其在张网时较易发生弯曲,造成异形支撑条与显示面板的相对位置偏移,影响蒸镀精度。由于异形支撑条和遮蔽支撑条在Y方向不对称,在形成网状过程中纵向方向形变较大,导致金属掩膜板精度差,无法实现刘海、水滴等区域的高精度遮挡,从而导致刘海、水滴等区域被蒸镀膜层或者显示区域被少蒸镀膜层,影响显示面板形成的盲孔或通孔的质量。再加上一般是金属掩膜板制造商完成张网焊接后,运送至屏幕制造商进行蒸镀使用,这一过程往往需要花费相对高昂的财力和时间成本,且对于这类精细金属掩膜板往返维修过程也过于繁琐,导致成本上升。
因此,异形支撑条在张网之后,主要产生Y方向的拉伸变形,增大异形支撑条以及金属掩膜板的下垂,无法起到支撑金属掩膜板的效果的技术问题,需要改进。
发明内容
本发明提供一种金属掩膜板,能够解决现有技术中异形支撑条在张网之后,主要产生Y方向的拉伸变形,增大异形支撑条以及金属掩膜板的下垂,无法起到支撑金属掩膜板的效果的技术问题。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明提供一种金属掩膜板,一种金属掩膜板,其特征在于,包括掩膜框架、以及设置于所述掩膜框架上的沿第一方向排列的异形遮蔽条和沿第二方向排列的规则形遮蔽条,所述异形遮蔽条和所述规则形遮蔽条相交设置以形成开口区;
所述异形遮蔽条包括主干、设置于所述主干一侧的异形突块、以及设置于所述主干另一侧且与所述异形突块相对的直边;其中,所述直边相对于所述主干形成有与所述异形突块反拉伸作用的突起。
根据本发明一优选实施例,所述主干两端均设置有焊接区域,所述异形突块与所述焊接区域之间采用光滑结构过渡。
根据本发明一优选实施例,所述光滑结构为圆弧或斜坡,所述光滑结构的垂直高度在0.5mm-5.0mm范围内。
根据本发明一优选实施例,所述异形突块为梯形、矩形或三角形凸齿。
根据本发明一优选实施例,所述主干一侧的整体/局部设置有异形突块;或者,所述主干两侧的整体/局部设置有异形突块,所述异形结构与所述主干的连接处呈倒圆角或尖角结构。
根据本发明一优选实施例,所述主干一侧设置有凸凹不平的异形突块,另一侧设置有规则的突起结构。
根据本发明一优选实施例,规则形遮蔽条截面为矩形或平行四边形。
根据本发明一优选实施例,所述开口区呈阵列状均匀布置,且所述开口区的形状为矩形、圆形、椭圆形、三角形或多边形。
根据本发明一优选实施例,所述规则形遮蔽条两端均设置有焊接区域,所述异形遮蔽条和所述规则形遮蔽条对称焊接在所述掩膜框架上,且所述异形遮蔽条位于所述规则形遮蔽条表面。
根据本发明一优选实施例,所述掩膜框架的材料为铁镍合金或不锈钢;所述异形支撑条和所述遮蔽支撑条的材料均为铁镍合金。
本发明的有益效果:本申请提供了一种金属掩膜板,本申请中金属掩膜板包括掩膜框架,以及设置于掩膜框架上的沿第一方向排列的异形遮蔽条和沿第二方向排列的规则形遮蔽条,异形遮蔽条和规则形遮蔽条相交设置以形成开口区,异形遮蔽条包括主干、设置于主干一侧的异形突块、以及设置于主干另一侧且与异形突块相对的直边;其中,直边相对于主干形成有与异形突块反拉伸作用的突起,且所述主干两端均设置有焊接区域,所述异形突块与所述焊接区域之间采用光滑结构过渡。在金属掩膜板在张网焊接时,由于主干上采用了异形突块和光滑过渡结构,有效降低因焊接产生的突变量,增加了Y方向金属掩膜板的稳定性,避免了异形异形支撑条因为Y方向结构不对称导致张网精度差,从而实现金属掩膜板的高精度张网,保证镀膜的准确性。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请提供一种金属掩膜板。
图2为本申请提供一种金属掩膜板中第一异形遮蔽条结构。
图3为本申请提供一种金属掩膜板中第一异形遮蔽条中焊接区域的一种结构。
图4为本申请提供一种金属掩膜板中第一异形遮蔽条中焊接区域的另一结构。
图5为本申请提供一种金属掩膜板中第二异形遮蔽条的结构。
图6为本申请提供一种金属掩膜板中第三异形遮蔽条的结构。
图7为本申请提供一种金属掩膜板中第一遮蔽条的结构。
图8为本申请提供一种金属掩膜板中另一种异形遮蔽条的结构。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示,图中虚线表示在结构中并不存在的,仅仅说明结构的形状和位置。
本发明针对现有技术中异形支撑条在张网之后,主要产生Y方向的拉伸变形,增大异形支撑条以及精细金属掩膜板的下垂量,无法起到支撑精细金属掩膜板的效果的技术问题,本实施例能够解决该缺陷。
如图1所示,本申请实施例提供一种金属掩膜板100,包括掩膜框架101,以及设置于所述掩膜框架101上的沿第一方向排列的异形遮蔽条102和沿第二方向排列的规则形遮蔽条103,所述异形遮蔽条102和所述规则形遮蔽条103相交设置以形成开口区104;所述异形遮蔽条102包括主干、设置于所述主干一侧的异形突块、以及设置于所述主干另一侧且与所述异形突块相对的直边;其中,所述直边相对于所述主干形成有与所述异形突块反拉伸作用的突起。
具体地,沿掩膜框架101的第一方向设置有多个异形遮蔽条102,沿掩膜框架101的第二方向排列的规则形遮蔽条103,异形遮蔽条102和规则形遮蔽条103对称焊接在掩膜框架上,且异形遮蔽条102位于规则形遮蔽条103表面。掩膜框架101的材料为铁镍合金或不锈钢;异形支撑条102和遮蔽支撑条103的材料均为铁镍合金。异形遮蔽条102和规则形遮蔽条103相交设置以形成多个开口区104,多个开口区104呈阵列状均匀布置,开口区104的形状优选为矩形、圆形、椭圆形、三角形或多边形。异形遮蔽条102包括主干、设置于主干靠近开口区侧边缘的异形突块、以及设置于主干两端焊接区域。主干一侧或两侧的整体/局部设置有异形突块,异形突块为梯形、矩形或三角形凸齿,异形结构与主干的连接处呈倒圆角或尖角结构。
为了避免异形支撑条102在张网之后,主要产生Y方向的拉伸变形,增大异形支撑条以及精细金属掩膜板的下垂量,无法起到支撑精细金属掩膜板的效果的技术问题,本实施例中异形遮蔽条102与规则形遮蔽条103优选垂直设置,异形遮蔽条一侧或两侧设置有异形突块,异形遮蔽条102与规则形遮蔽条103两侧对称设置焊接区域,且异形支撑条102对应焊接区附近的部分采用圆弧结构过渡,圆弧结构的半径在0.5mm-5.0mm范围内,有效降低因焊接产生的突变量,增加了Y方向金属掩膜板的稳定性。
本实施例中异形遮蔽条102包括第一异形遮蔽条1021、第二异形遮蔽条1022、以及第三异形遮蔽条1023。第一异形遮蔽条1021、第二异形遮蔽条1022、以及第三异形遮蔽条1023均包括主干、设置于主干侧边缘异形突块、以及设置于主干两端焊接区域。
具体地,如图2所示,第一异形遮蔽条1021一侧设置有直边,另一侧设置有与异形突块反拉伸作用的异形突块,直边远离开口区104的一侧,异形突块靠近开口区104的一侧,异形突块与第一异形遮蔽条1021主干间采用倒圆角或尖角等光滑结构过渡。异形突块的截面形状优选为梯形10213、矩形或三角形。第一异形遮蔽条1021两端设置有焊接区域10211和焊接区域10212。焊接区域10211和焊接区域10212附近均设置有光滑结构。如图3所示,光滑结构10215和光滑结构10216为圆弧结构,圆弧结构的半径在0.5mm至5.0mm范围内。如图4所示,光滑结构10215和光滑结构10216为斜坡结构,斜坡结构的高度在0.5mm至5.0mm范围内。焊接区域10211和焊接区域10212附近采用光滑结构,可以减少第一异形遮蔽条1021焊接在掩膜框架101的应力突变,降低Y方向的拉伸变形。
如图5所示,第二异形遮蔽条1022两侧均设置有异形突块,异形突块的截面形状优选为梯形、矩形或三角形。第二异形遮蔽条1022两端设置有焊接区域10221和焊接区域10222。焊接区域10211和焊接区域10212附近均设置有光滑结构,光滑结构为圆弧或斜坡结构,光滑结构的高度在0.5mm-5.0mm范围内,其他的形状跟第一异形遮蔽条1021类似,此处不再赘述。
如图6所示,第三异形遮蔽条1023一侧设置有异形突块,另一侧设置有直边,两侧分别设置有焊接区域10231和焊接区域10232,其他的形状跟第一异形遮蔽条1021类似,在金属掩膜板100的放置的方向相反,此处不再赘述。
如图7所示,规则形遮蔽条1031截面形状优选为矩形或平行四边形,两端均设置有焊接区域10311和焊接区域10312,本实施例中规则形遮蔽条103还包括规则形遮蔽条1032、规则形遮蔽条1033、规则形遮蔽条1034、规则形遮蔽条1035、规则形遮蔽条1033、以及规则形遮蔽条1037,这些规则形遮蔽条的形状均相同。
如图8所示,本申请提供一种金属掩膜板中另一种异形遮蔽条1041的结构,异形遮蔽条1041一侧设置有凸凹不平的异形突块10413,另一侧设置有规则的突起结构10414。异形突块10413与主干之间采用倒圆角或尖角等光滑结构过渡,突起结构10414与主干之间采用直角或钝角结构过渡。异形遮蔽条1041两侧分别设置有焊接区域10411和焊接区域10412,其他的形状跟第一异形遮蔽条1021类似,此处不再赘述。
本申请提供了一种金属掩膜板,本申请中金属掩膜板包括掩膜框架,以及设置于掩膜框架上的沿第一方向排列的异形遮蔽条和沿第二方向排列的规则形遮蔽条,异形遮蔽条和规则形遮蔽条相交设置以形成开口区,异形遮蔽条包括主干、设置于主干一侧的异形突块、以及设置于主干另一侧且与异形突块相对的直边;其中,直边相对于主干形成有与异形突块反拉伸作用的突起,且所述主干两端均设置有焊接区域,所述异形突块与所述焊接区域之间采用光滑结构过渡。在金属掩膜板在张网焊接时,由于主干上采用了异形突块和光滑过渡结构,有效降低因焊接产生的突变量,增加了Y方向金属掩膜板的稳定性,避免了异形异形支撑条因为Y方向结构不对称导致张网精度差,从而实现金属掩膜板的高精度张网,保证镀膜的准确性。
综上,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种金属掩膜板,其特征在于,包括掩膜框架、以及设置于所述掩膜框架上的沿第一方向排列的异形遮蔽条和沿第二方向排列的规则形遮蔽条,所述异形遮蔽条和所述规则形遮蔽条相交设置以形成开口区;
所述异形遮蔽条包括主干、设置于所述主干一侧的异形突块、以及设置于所述主干另一侧且与所述异形突块相对的直边;其中,所述直边相对于所述主干形成有与所述异形突块反拉伸作用的突起。
2.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,所述主干两端均设置有焊接区域,所述异形突块与所述焊接区域之间采用光滑结构过渡。
3.如权利要求2所述的金属掩膜板,其特征在于,所述光滑结构为圆弧或斜坡,所述光滑结构的垂直高度在0.5mm至5.0mm范围内。
4.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,所述异形突块截面形状为梯形、矩形、三角形或不规则图形的凸齿。
5.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,所述主干一侧的整体/局部设置有异形突块;或者,所述主干两侧的整体/局部设置有异形突块,所述异形结构与所述主干的连接处呈倒圆角或尖角结构。
6.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,所述主干一侧设置有凸凹不平的异形突块,另一侧设置有规则的突起结构。
7.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,规则形遮蔽条截面为矩形或平行四边形。
8.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,所述开口区呈阵列状均匀布置,且所述开口区的形状为矩形、圆形、椭圆形、三角形或多边形。
9.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,所述规则形遮蔽条两端均设置有焊接区域,所述异形遮蔽条和所述规则形遮蔽条对称焊接在所述掩膜框架上,且所述异形遮蔽条位于所述规则形遮蔽条表面。
10.如权利要求1所述的金属掩膜板,其特征在于,所述掩膜框架的材料为铁镍合金或不锈钢;所述异形支撑条和所述遮蔽支撑条的材料均为铁镍合金。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202010576355.0A CN111748766A (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 金属掩膜板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN202010576355.0A CN111748766A (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 金属掩膜板 |
Publications (1)
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CN111748766A true CN111748766A (zh) | 2020-10-09 |
Family
ID=72676442
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010576355.0A Pending CN111748766A (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 金属掩膜板 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN111748766A (zh) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20201009 |
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |