JPH0286027A - シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 - Google Patents
シャドウマスク製版用パターン及び製造方法Info
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- JPH0286027A JPH0286027A JP63311506A JP31150688A JPH0286027A JP H0286027 A JPH0286027 A JP H0286027A JP 63311506 A JP63311506 A JP 63311506A JP 31150688 A JP31150688 A JP 31150688A JP H0286027 A JPH0286027 A JP H0286027A
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はカラーテレビシャドウマスク製版用のパターン
に係わり、特にビーム欠は防止用のシャドウマスクの製
造に使用する製版用パターン及びその製造方法に関する
ものである。
に係わり、特にビーム欠は防止用のシャドウマスクの製
造に使用する製版用パターン及びその製造方法に関する
ものである。
第９図はシャドウマスクの全体構成を示す図で、マスク
１１は有孔部【２、スカート部１３からなっている。有
孔部１２の孔を通過する電子ビームは、センターにおい
ては真っ直くに入射するものの、外周部にいくにつれて
斜めに入射することになる。そのため、従来のシャドウ
マスクのスロット形状は、第９図に示すマスクセンタ一
部においては花形状を第１０図（イ）に示すように、電
子ビームの入射する孔が開けられた裏側スロット２１が
、電子ビームの出射用に大面積にエツチングされた表側
スロット２２に対して真中に位置するようにし、また第
９図のＸ軸上外周部のＰ点、対角線上外周部のＱ点にお
いては電子ビームがマスクに対して斜めに通過するため
、製版用の表側のパターンをそれぞれ外側へずらして裏
側スロット２１と表側スロット２２を第１０図（ロ）、
（ハ）に示すような位置関係にし、電子ビーム２３がマ
スクをスムーズに通過できるようにしている。
１１は有孔部【２、スカート部１３からなっている。有
孔部１２の孔を通過する電子ビームは、センターにおい
ては真っ直くに入射するものの、外周部にいくにつれて
斜めに入射することになる。そのため、従来のシャドウ
マスクのスロット形状は、第９図に示すマスクセンタ一
部においては花形状を第１０図（イ）に示すように、電
子ビームの入射する孔が開けられた裏側スロット２１が
、電子ビームの出射用に大面積にエツチングされた表側
スロット２２に対して真中に位置するようにし、また第
９図のＸ軸上外周部のＰ点、対角線上外周部のＱ点にお
いては電子ビームがマスクに対して斜めに通過するため
、製版用の表側のパターンをそれぞれ外側へずらして裏
側スロット２１と表側スロット２２を第１０図（ロ）、
（ハ）に示すような位置関係にし、電子ビーム２３がマ
スクをスムーズに通過できるようにしている。
ところで、近年、カラーブラウン管は大型化、高精細化
が進んでおり、それに伴ってシャドウマスクも大型化、
高精細化し、これに対応するためニッケルと鉄の合金か
らなる低膨張材を使用したシャドウマスクが使用されて
いる。しかしこのようなシャドウマスクは高価となるた
め、安価な鉄製のシャドウマスクを厚板化して使用し、
シャドウマスクの質量を大きくしてブラウン管に装着し
たときのマスクの熱膨張を抑え、ドーミングというマス
クの変動を防止するようにしている。
が進んでおり、それに伴ってシャドウマスクも大型化、
高精細化し、これに対応するためニッケルと鉄の合金か
らなる低膨張材を使用したシャドウマスクが使用されて
いる。しかしこのようなシャドウマスクは高価となるた
め、安価な鉄製のシャドウマスクを厚板化して使用し、
シャドウマスクの質量を大きくしてブラウン管に装着し
たときのマスクの熱膨張を抑え、ドーミングというマス
クの変動を防止するようにしている。
しかしながら、シャドウマスクを厚板化するとスロット
断面高さが高くなり易くなり、第１０図に示すような単
に表パターンをずらせるだけのものでは斜めに入ってく
る電子ビームがスロット断面により遮断されてビーム欠
けが起こるという問題がある。この点について第１１図
〜第１３図により説明する。
断面高さが高くなり易くなり、第１０図に示すような単
に表パターンをずらせるだけのものでは斜めに入ってく
る電子ビームがスロット断面により遮断されてビーム欠
けが起こるという問題がある。この点について第１１図
〜第１３図により説明する。
第１１図（イ）に示すような表パターンを裏パターンに
対してずらせて作成した通常のスロット形状では、第１
１図（ロ）に示すように断面Ａ（中心部）で通過できる
電子ビーム２３が、第１１図（ハ）に示すように断面Ｂ
（周辺部）ではスロット断面が高くなるためこれに阻止
されて通過できなくなり、その結果通過できる幅ｄが狭
くなって、透過する電子ビーム量が断面Ａに比べて少な
くなってしまう。これは、第１２図（イ）に示すように
、個々のスロットの中心部では、表側スロン１−２１（
７）エツジドア１側スロ・ンｔ−２３のエツジ間の間隔
ｄ、が大きく、横断面Ａ（第１２図（ニ））に示すよう
に深さ方向のスロープがなだらかであるのに対して、隣
接スロット間のブリッジ部２４の近傍においては、表側
スロット２１のエツジと裏側スロット２３のエツジ間の
間隔ｄ１が狭くなっているため、その縦断面形状を見る
と、第１２図（ロ）に示すようにスロープが２、になっ
ており、その結果浪、スロープに近づくにつれて横断面
Ｂも第１２図（ハ）に示すように断面高さが高くなって
しまうためである。
対してずらせて作成した通常のスロット形状では、第１
１図（ロ）に示すように断面Ａ（中心部）で通過できる
電子ビーム２３が、第１１図（ハ）に示すように断面Ｂ
（周辺部）ではスロット断面が高くなるためこれに阻止
されて通過できなくなり、その結果通過できる幅ｄが狭
くなって、透過する電子ビーム量が断面Ａに比べて少な
くなってしまう。これは、第１２図（イ）に示すように
、個々のスロットの中心部では、表側スロン１−２１（
７）エツジドア１側スロ・ンｔ−２３のエツジ間の間隔
ｄ、が大きく、横断面Ａ（第１２図（ニ））に示すよう
に深さ方向のスロープがなだらかであるのに対して、隣
接スロット間のブリッジ部２４の近傍においては、表側
スロット２１のエツジと裏側スロット２３のエツジ間の
間隔ｄ１が狭くなっているため、その縦断面形状を見る
と、第１２図（ロ）に示すようにスロープが２、になっ
ており、その結果浪、スロープに近づくにつれて横断面
Ｂも第１２図（ハ）に示すように断面高さが高くなって
しまうためである。
ところで、スロットタイプのシャドウマスクは、従来、
第１３図（イ）に示すような表パターン３１ををする製
版用ガラスパターンと、第１３図（ロ）に示すような裏
パターン３２を有する製版用ガラスパターンとを使用し
て第１３図（ハ）に示すようなスロットタイプのシャド
ウマスクの製造を行っているが、この方法では前述した
ような問題を解消することはできない。
第１３図（イ）に示すような表パターン３１ををする製
版用ガラスパターンと、第１３図（ロ）に示すような裏
パターン３２を有する製版用ガラスパターンとを使用し
て第１３図（ハ）に示すようなスロットタイプのシャド
ウマスクの製造を行っているが、この方法では前述した
ような問題を解消することはできない。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、複数のス
ロットを用いて多重露光することにより容易にビーム欠
けを防止することができるシャドウマスクの製版用パタ
ーン及び製造方法を提供することを目的とする。
ロットを用いて多重露光することにより容易にビーム欠
けを防止することができるシャドウマスクの製版用パタ
ーン及び製造方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
そのために本発明は、位置に応じて形状を異ならせたシ
ャドウマスク製版用パターンであって、シャドウマスク
存孔面に対応する裏パターンの周辺部に張り出し部を設
けたこと、裏パターンの周辺部の張り出し部は、シャド
ウマスクの中心部から外周部へいくにつれて大きくした
こと、シャドウマスクＸ軸上近傍では、裏パターン側部
の上部及び下部に張り出し部を設けたこと、シャドウマ
スク対角軸近傍では、塩パターン側部の上部または下部
に張り出し部を設けたこと、裏パターンの左右側部の上
部及び下部に張り出し部を設けたこと、矩形の主パター
ンと、主パターンより小さい矩形の補助パターンを組み
合わせて多ｉｉｉ露光すること、矩形補助パターンの対
角軸長さを、矩形主パターンの長辺の長さの１／２とし
て張り出し部を形成することを特徴とする。
ャドウマスク製版用パターンであって、シャドウマスク
存孔面に対応する裏パターンの周辺部に張り出し部を設
けたこと、裏パターンの周辺部の張り出し部は、シャド
ウマスクの中心部から外周部へいくにつれて大きくした
こと、シャドウマスクＸ軸上近傍では、裏パターン側部
の上部及び下部に張り出し部を設けたこと、シャドウマ
スク対角軸近傍では、塩パターン側部の上部または下部
に張り出し部を設けたこと、裏パターンの左右側部の上
部及び下部に張り出し部を設けたこと、矩形の主パター
ンと、主パターンより小さい矩形の補助パターンを組み
合わせて多ｉｉｉ露光すること、矩形補助パターンの対
角軸長さを、矩形主パターンの長辺の長さの１／２とし
て張り出し部を形成することを特徴とする。
本発明は、裏パターン周辺部に張り出し部を設けた製版
用パターンを使用してシャドウマスクを製造するように
したので、電子ビーム欠けの生じないシャドウマスクを
製造することが可能となり、矩形の主パターンと、主パ
ターンより小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、多
重露光することにより容易に上記製版用パターンを製造
することができる。
用パターンを使用してシャドウマスクを製造するように
したので、電子ビーム欠けの生じないシャドウマスクを
製造することが可能となり、矩形の主パターンと、主パ
ターンより小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、多
重露光することにより容易に上記製版用パターンを製造
することができる。
（実施例〕
以下、実施例を図面に基づき説明する。
第１図は本発明において使用する裏パターンの例を示す
図である。
図である。
本発明においては、スロット露光による描画機において
、先ず、■第２図（イ）に示す通常の主パターンＡを露
光する。次に、■第２図（ロ）に示すように、主パター
ンＡにさらにパターン長さ！１の中点Ｓ２と点Ｓ、を対
角軸とする補助パターンＢを露光して張り出し部を形成
する。この補助パターンＢについては点Ｓ４と主パター
ンＡまでの距離２！を０≦２２≦Ｗｌとする。次に、■
第２図（ハ）に示すように同様に主パターンＡの３１と
３２の間にパターンＣを露光する。その後、現像を行う
ことにより第１図（イ）に示すパターンを得ることがで
きる。第１図（イ）に対して張り出し部を反対側（図の
左側）へ設ける場合は、補助パターンＢ、Ｃを用いてそ
れぞれ反対側へ同様に露光すればよく、第１図（ロ）の
パターンは、上記■〜■の工程におけるパターンＣの張
り出し部をなくせばよい。また、張り出し部の大きさは
、中心部から外れるにつれて順次大きくする等適宜選択
すればよい。
、先ず、■第２図（イ）に示す通常の主パターンＡを露
光する。次に、■第２図（ロ）に示すように、主パター
ンＡにさらにパターン長さ！１の中点Ｓ２と点Ｓ、を対
角軸とする補助パターンＢを露光して張り出し部を形成
する。この補助パターンＢについては点Ｓ４と主パター
ンＡまでの距離２！を０≦２２≦Ｗｌとする。次に、■
第２図（ハ）に示すように同様に主パターンＡの３１と
３２の間にパターンＣを露光する。その後、現像を行う
ことにより第１図（イ）に示すパターンを得ることがで
きる。第１図（イ）に対して張り出し部を反対側（図の
左側）へ設ける場合は、補助パターンＢ、Ｃを用いてそ
れぞれ反対側へ同様に露光すればよく、第１図（ロ）の
パターンは、上記■〜■の工程におけるパターンＣの張
り出し部をなくせばよい。また、張り出し部の大きさは
、中心部から外れるにつれて順次大きくする等適宜選択
すればよい。
このようにしたスロット形状、例えば第３図（イ）に示
す形状とすると、第３図（ロ）、（ハ）に示すように断
面Ａ１断面Ｂともほぼ同じレベルの斜め通過を確保する
ことが可能となる。
す形状とすると、第３図（ロ）、（ハ）に示すように断
面Ａ１断面Ｂともほぼ同じレベルの斜め通過を確保する
ことが可能となる。
ところで、■パターン形状が第４図（イ）に示す通常の
形状では個々のスロットにおける縦ピンチの小さなンヤ
ドウマスクを表裏同時にエツチングを行う１段エツチン
グで製造した場合、エンチングは第４図（ロ）の■→■
のように進行し、■の段階では止まらず、第４図（ハ）
に示すような楕円形状となってしまう。この場合、表、
裏それぞれ独立した２段エツチングを行えばよいが、本
発明のパターンを応用することにより１設工・ツチング
で可能である。
形状では個々のスロットにおける縦ピンチの小さなンヤ
ドウマスクを表裏同時にエツチングを行う１段エツチン
グで製造した場合、エンチングは第４図（ロ）の■→■
のように進行し、■の段階では止まらず、第４図（ハ）
に示すような楕円形状となってしまう。この場合、表、
裏それぞれ独立した２段エツチングを行えばよいが、本
発明のパターンを応用することにより１設工・ツチング
で可能である。
すなわち、第５図に示すような左右側部の上部及び下部
を張り出させた裏パターンを用いれば、最終的に第４図
■の形状のものが得られる。このパターンは、第６図に
示すようにパターンＢ、Ｃ５Ｄ、Ｅを全方向へ張り出し
て露光することにより容易に作成することができる。
を張り出させた裏パターンを用いれば、最終的に第４図
■の形状のものが得られる。このパターンは、第６図に
示すようにパターンＢ、Ｃ５Ｄ、Ｅを全方向へ張り出し
て露光することにより容易に作成することができる。
ところで、上記実施例では矩形補助パターンの対角軸長
さを、矩形主パターンの長辺の長さの１／２としている
が、第３図（イ）に示すスロット幅Ｗ、が不安定になり
、マスクのムラの原因となり易い。
さを、矩形主パターンの長辺の長さの１／２としている
が、第３図（イ）に示すスロット幅Ｗ、が不安定になり
、マスクのムラの原因となり易い。
第７図、第８図によりスロット幅Ｗ１を安定化すること
が可能な実施例を説明する。
が可能な実施例を説明する。
第７図に示すように矩形補助パターンＢ、Ｃの対角軸長
さを矩形主パターンの長辺長さより短くし、主パターン
の直線部Ｓを設ける。この場合、Ｓが長すぎるとビーム
欠けが生し易くなるので、補助パターンの対角軸長さは
主パターンの長辺長さに対して１／ｎ（２＜ｎ≦５）程
度とするのがよい。この直線部を設けることにより第８
図に示すような裏側スロット２２が形成され、スロット
幅Ｗ、が安定するようになる。
さを矩形主パターンの長辺長さより短くし、主パターン
の直線部Ｓを設ける。この場合、Ｓが長すぎるとビーム
欠けが生し易くなるので、補助パターンの対角軸長さは
主パターンの長辺長さに対して１／ｎ（２＜ｎ≦５）程
度とするのがよい。この直線部を設けることにより第８
図に示すような裏側スロット２２が形成され、スロット
幅Ｗ、が安定するようになる。
以上のように本発明によれば、位置に応して外周部に張
り出し部を有する製版用パターンとしたことにより、電
子ビーム欠けがなく、高精細、大型化シャドウマスクに
対応することができ、また矩形の主パターンと、これよ
り小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、多重露光す
ることにより容易に外周部に張り出し部を有するシャド
ウマスり製版用パターンを形成することができる。
り出し部を有する製版用パターンとしたことにより、電
子ビーム欠けがなく、高精細、大型化シャドウマスクに
対応することができ、また矩形の主パターンと、これよ
り小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、多重露光す
ることにより容易に外周部に張り出し部を有するシャド
ウマスり製版用パターンを形成することができる。
第１図は本発明において使用する塩パターンの例を示す
図、第２図は本発明の裏パターン形成方法を説明するた
めの図、第３図は電子ビーム欠けの解消の様子を説明す
るための図、第４図は楕円形状スロットを説明するため
の図、第５図、第６図は本発明の裏パターン形成方法の
他の実施例を説明するための図、第７図、第８図はスロ
ット幅を安定化するようにした本発明の他の実施例を示
す図、第９図はシャドウマスクの全体構成を示す図、第
１０図は従来のシャドウマスクを示す図、第１１図、第
１２図は電子ビーム欠けを説明するだめの図、第１３図
は従来のシャドウマスク形成方法を説明するための図で
ある。 １．２．５・・・裏パターン、３．２２・・・表側スロ
ット、４．２１・・・裏側スロット、３１・・・表パタ
ーン。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信（外４名）第３ 【４（イ） （ロ） （ハ） （イ） （イ） （ハ） 第４ （イ） 第５ 図 第６ 図 第７ 図 第８ 図 （イ） 第１３図 （ロ） （ハ） 第１１ 図 （イ） （ハ） 第９ 図 第１０ 図 （イ） （ハ） 第」２ ＩＩ（イ） １！ １２ Ｉｆ（０） 第１２ ＩＩ（ハ） ＄ １２ １１（ニ）
図、第２図は本発明の裏パターン形成方法を説明するた
めの図、第３図は電子ビーム欠けの解消の様子を説明す
るための図、第４図は楕円形状スロットを説明するため
の図、第５図、第６図は本発明の裏パターン形成方法の
他の実施例を説明するための図、第７図、第８図はスロ
ット幅を安定化するようにした本発明の他の実施例を示
す図、第９図はシャドウマスクの全体構成を示す図、第
１０図は従来のシャドウマスクを示す図、第１１図、第
１２図は電子ビーム欠けを説明するだめの図、第１３図
は従来のシャドウマスク形成方法を説明するための図で
ある。 １．２．５・・・裏パターン、３．２２・・・表側スロ
ット、４．２１・・・裏側スロット、３１・・・表パタ
ーン。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信（外４名）第３ 【４（イ） （ロ） （ハ） （イ） （イ） （ハ） 第４ （イ） 第５ 図 第６ 図 第７ 図 第８ 図 （イ） 第１３図 （ロ） （ハ） 第１１ 図 （イ） （ハ） 第９ 図 第１０ 図 （イ） （ハ） 第」２ ＩＩ（イ） １！ １２ Ｉｆ（０） 第１２ ＩＩ（ハ） ＄ １２ １１（ニ）
Claims (7)
- （１）位置に応じて形状を異ならせたシャドウマスク製
版用パターンであって、シャドウマスク有孔面に対応す
る裏パターンの周辺部に張り出し部を設けたことを特徴
とするシャドウマスク製版用パターン。 - （２）裏パターンの周辺部の張り出し部は、シャドウマ
スクの中心部から外周部へいくにつれて大きくしたこと
を特徴とする請求項１記載のシャドウマスク製版用パタ
ーン。 - （３）シャドウマスクＸ軸上近傍では、裏パターン側部
の上部及び下部に張り出し部を設けたことを特徴とする
請求項１または２記載のシャドウマスク製版用パターン
。 - （４）シャドウマスク対角軸近傍では、裏パターン側部
の上部または下部に張り出し部を設けたことを特徴とす
るシャドウマスク製版用パターン。 - （５）裏パターンの左右側部の上部及び下部に張り出し
部を設けたシャドウマスク製版用パターン。 - （６）矩形の主パターンと、主パターンより小さい矩形
の補助パターンを組み合わせて多重露光することを特徴
とするシャドウマスク製版用パターン製造方法。 - （７）矩形補助パターンの対角軸長さを、矩形主パター
ンの長辺の長さの１／ｎ（２≦ｎ≦５）として張り出し
部を形成する請求項６記載のシャドウマスク製版用パタ
ーン製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31150688A JP3034257B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-12-09 | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15589888 | 1988-06-22 | ||
| JP63-155898 | 1988-06-22 | ||
| JP31150688A JP3034257B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-12-09 | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286027A true JPH0286027A (ja) | 1990-03-27 |
| JP3034257B2 JP3034257B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=26483792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31150688A Expired - Lifetime JP3034257B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-12-09 | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034257B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1993020507A3 (en) * | 1992-03-31 | 1994-01-06 | Seiko Epson Corp | Cisc to risc instruction translation alignment and decoding |
| US5280215A (en) * | 1990-11-22 | 1994-01-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Shadow mask for color cathode ray tube |
| CN1047258C (zh) * | 1990-11-22 | 1999-12-08 | 东芝株式会社 | 荫罩印相用原版及原版的制造方法 |
| US6879092B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-04-12 | Lg. Philips Displays Korea Co., Ltd. | Structure of slot feature for shadow mask |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56156636A (en) * | 1980-05-08 | 1981-12-03 | Toshiba Corp | Mask nega pattern |
| JPS6059908A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-06 | 日新電機株式会社 | ガス絶縁開閉装置 |
| JPS6147039A (ja) * | 1984-08-13 | 1986-03-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS63119139A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-05-23 | サムスン、エレクトロン、ディバイス、カンパニ−、リミテッド | シヤド−マスク |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP31150688A patent/JP3034257B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56156636A (en) * | 1980-05-08 | 1981-12-03 | Toshiba Corp | Mask nega pattern |
| JPS6059908A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-06 | 日新電機株式会社 | ガス絶縁開閉装置 |
| JPS6147039A (ja) * | 1984-08-13 | 1986-03-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法 |
| JPS63119139A (ja) * | 1986-09-10 | 1988-05-23 | サムスン、エレクトロン、ディバイス、カンパニ−、リミテッド | シヤド−マスク |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5280215A (en) * | 1990-11-22 | 1994-01-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Shadow mask for color cathode ray tube |
| US5411822A (en) * | 1990-11-22 | 1995-05-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Shadow mask for color cathode ray tube, shadow mask printing negative plate used for manufacture of the shadow mask, and method and manufacturing the negative plate |
| EP0715331A2 (en) | 1990-11-22 | 1996-06-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Negative plate used for manufacture of a shadow mask, and method for manufacturing the negative plate |
| CN1047258C (zh) * | 1990-11-22 | 1999-12-08 | 东芝株式会社 | 荫罩印相用原版及原版的制造方法 |
| WO1993020507A3 (en) * | 1992-03-31 | 1994-01-06 | Seiko Epson Corp | Cisc to risc instruction translation alignment and decoding |
| US6879092B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-04-12 | Lg. Philips Displays Korea Co., Ltd. | Structure of slot feature for shadow mask |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3034257B2 (ja) | 2000-04-17 |
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