JP3034257B2 - シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 - Google Patents
シャドウマスク製版用パターン及び製造方法Info
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- JP3034257B2 JP3034257B2 JP31150688A JP31150688A JP3034257B2 JP 3034257 B2 JP3034257 B2 JP 3034257B2 JP 31150688 A JP31150688 A JP 31150688A JP 31150688 A JP31150688 A JP 31150688A JP 3034257 B2 JP3034257 B2 JP 3034257B2
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- mask plate
- making
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカラーテレビシャドウマスク製版用のパター
ンに係わり、特にビーム欠け防止用のシャドウマスクの
製造に使用する製版用パターン及びその製造方法に関す
るものである。
ンに係わり、特にビーム欠け防止用のシャドウマスクの
製造に使用する製版用パターン及びその製造方法に関す
るものである。
〔従来の技術〕 第９図はシャドウマスクの全体構成を示す図で、マス
ク11は有孔部12、スカート部13からなっている。有孔部
12の孔を通過する電子ビームは、センターにおいては真
っ直ぐに入射するものの、外周部にいくにつれて斜めに
入射することになる。そのため、従来のシャドウマスク
のスロット形状は、第９図に示すマスクセンター部にお
いては孔形状を第10図（イ）に示すように、電子ビーム
の入射する孔が開けられた裏側スロット21が、電子ビー
ムの出射用に大面積にエッチングされた表側スロット22
に対して真中に位置するようにし、また第９図のＸ軸上
外周部のＰ点、対角線上外周部のＱ点においては電子ビ
ームがマスクに対して斜めに通過するため、製版用の表
側のパターンをそれぞれ外側へずらして裏側スロット21
と表側スロット22を第10図（ロ）、（ハ）に示すような
位置関係にし、電子ビーム23がマスクをスムーズに通過
できるようにしている。
ク11は有孔部12、スカート部13からなっている。有孔部
12の孔を通過する電子ビームは、センターにおいては真
っ直ぐに入射するものの、外周部にいくにつれて斜めに
入射することになる。そのため、従来のシャドウマスク
のスロット形状は、第９図に示すマスクセンター部にお
いては孔形状を第10図（イ）に示すように、電子ビーム
の入射する孔が開けられた裏側スロット21が、電子ビー
ムの出射用に大面積にエッチングされた表側スロット22
に対して真中に位置するようにし、また第９図のＸ軸上
外周部のＰ点、対角線上外周部のＱ点においては電子ビ
ームがマスクに対して斜めに通過するため、製版用の表
側のパターンをそれぞれ外側へずらして裏側スロット21
と表側スロット22を第10図（ロ）、（ハ）に示すような
位置関係にし、電子ビーム23がマスクをスムーズに通過
できるようにしている。
ところで、近年、カラーブラウン管は大型化、高精細
化が進んでおり、それに伴ってシャドウマスクも大型
化、高精細化し、これに対応するためニッケルと鉄の合
金からなる低膨張材を使用したシャドウマスクが使用さ
れている。しかしこのようなシャドウマスクは高価とな
るため、安価な鉄製のシャドウマスクを厚板化して使用
し、シャドウマスクの質量を大きくしてブラウン管に装
着したときのマスクの熱膨張を抑え、ドーミングという
マスクの変動を防止するようにしている。
化が進んでおり、それに伴ってシャドウマスクも大型
化、高精細化し、これに対応するためニッケルと鉄の合
金からなる低膨張材を使用したシャドウマスクが使用さ
れている。しかしこのようなシャドウマスクは高価とな
るため、安価な鉄製のシャドウマスクを厚板化して使用
し、シャドウマスクの質量を大きくしてブラウン管に装
着したときのマスクの熱膨張を抑え、ドーミングという
マスクの変動を防止するようにしている。
しかしながら、シャドウマスクを厚板化するとスロッ
ト断面高さが高くなり易くなり、第10図に示すような単
に表パターンをずらせるだけのものでは斜めに入ってく
る電子ビームがスロット断面により遮断されてビーム欠
けが起こるという問題がある。この点について第11図〜
第13図により説明する。
ト断面高さが高くなり易くなり、第10図に示すような単
に表パターンをずらせるだけのものでは斜めに入ってく
る電子ビームがスロット断面により遮断されてビーム欠
けが起こるという問題がある。この点について第11図〜
第13図により説明する。
第11図（イ）に示すような表パターンを裏パターンに
対してずらせて作成した通常のスロット形状では、第11
図（ロ）に示すように断面Ａ（中心部）で通過できる電
子ビーム23が、第11図（ハ）に示すように断面Ｂ（周辺
部）ではスロット断面が高くなるためこれに阻止されて
通過できなくなり、その結果通過できる幅ｄが狭くなっ
て、透過する電子ビーム量が断面Ａに比べて少なくなっ
てしまう。これは、第12図（イ）に示すように、個々の
スロットの中心部では、表側スロット21のエッジと裏側
スロット23のエッジ間の間隔d2が大きく、横断面Ａ（第
12図（ニ））に示すように深さ方向のスロープがなだら
かであるのに対して、隣接スロット間のブリッジ部24の
近傍においては、表側スロット21のエッジと裏側スロッ
ト23のエッジ間の間隔d1が狭くなっているため、その縦
断面形状を見ると、第12図（ロ）に示すようにスロープ
が急になっており、その結果急スロープに近づくにつれ
て横断面Ｂも第12図（ハ）に示すように断面高さが高く
なってしまうためである。
対してずらせて作成した通常のスロット形状では、第11
図（ロ）に示すように断面Ａ（中心部）で通過できる電
子ビーム23が、第11図（ハ）に示すように断面Ｂ（周辺
部）ではスロット断面が高くなるためこれに阻止されて
通過できなくなり、その結果通過できる幅ｄが狭くなっ
て、透過する電子ビーム量が断面Ａに比べて少なくなっ
てしまう。これは、第12図（イ）に示すように、個々の
スロットの中心部では、表側スロット21のエッジと裏側
スロット23のエッジ間の間隔d2が大きく、横断面Ａ（第
12図（ニ））に示すように深さ方向のスロープがなだら
かであるのに対して、隣接スロット間のブリッジ部24の
近傍においては、表側スロット21のエッジと裏側スロッ
ト23のエッジ間の間隔d1が狭くなっているため、その縦
断面形状を見ると、第12図（ロ）に示すようにスロープ
が急になっており、その結果急スロープに近づくにつれ
て横断面Ｂも第12図（ハ）に示すように断面高さが高く
なってしまうためである。
ところで、スロットタイプのシャドウマスクは、従
来、第13図（イ）に示すような表パターン31を有する製
版用ガラスパターンと、第13図（ロ）に示すような裏パ
ターン32を有する製版用ガラスパターンとを使用して第
13図（ハ）に示すようなスロットタイプのシャドウマス
クの製造を行っているが、この方法では前述したような
問題を解消することはできない。
来、第13図（イ）に示すような表パターン31を有する製
版用ガラスパターンと、第13図（ロ）に示すような裏パ
ターン32を有する製版用ガラスパターンとを使用して第
13図（ハ）に示すようなスロットタイプのシャドウマス
クの製造を行っているが、この方法では前述したような
問題を解消することはできない。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、複数の
スロットを用いて多重露光することにより容易にビーム
欠けを防止することができるシャドウマスクの製版用パ
ターン及び製造方法を提供することを目的とする。
スロットを用いて多重露光することにより容易にビーム
欠けを防止することができるシャドウマスクの製版用パ
ターン及び製造方法を提供することを目的とする。
そのために本発明は、位置に応じて形状を異ならせた
シャドウマスク製版用パターンであって、シャドウマス
ク有孔面に対応する裏パターン側部の上部及び／又は下
部に向かって直線的に幅広となるような左右方向への張
り出し部を設けたこと、裏パターンの張り出し部は、シ
ャドウマスクの中心部から外周部へいくにつれて大きく
したこと、張り出し部を裏パターンの左右側部に設けた
こと、矩形の主パターンと、主パターンより小さい矩形
の補助パターンとを、補助パターンの対角軸が主パター
ンの長辺に、その端部から中心部に向かって重なるよう
に組み合わせて多重露光すること、矩形補助パターンの
対角軸長さを、矩形主パターンの長辺の長さの1/n（２
≦ｎ≦５）として張り出し部を形成することを特徴とす
る。
シャドウマスク製版用パターンであって、シャドウマス
ク有孔面に対応する裏パターン側部の上部及び／又は下
部に向かって直線的に幅広となるような左右方向への張
り出し部を設けたこと、裏パターンの張り出し部は、シ
ャドウマスクの中心部から外周部へいくにつれて大きく
したこと、張り出し部を裏パターンの左右側部に設けた
こと、矩形の主パターンと、主パターンより小さい矩形
の補助パターンとを、補助パターンの対角軸が主パター
ンの長辺に、その端部から中心部に向かって重なるよう
に組み合わせて多重露光すること、矩形補助パターンの
対角軸長さを、矩形主パターンの長辺の長さの1/n（２
≦ｎ≦５）として張り出し部を形成することを特徴とす
る。
本発明は、裏パターン周辺部に張り出し部を設けた製
版用パターンを使用してシャドウマスクを製造するよう
にしたので、電子ビーム欠けの生じないシャドウマスク
を製造することが可能となり、矩形の主パターンと、主
パターンより小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、
多重露光することにより容易に上記製版用パターンを製
造することができる。
版用パターンを使用してシャドウマスクを製造するよう
にしたので、電子ビーム欠けの生じないシャドウマスク
を製造することが可能となり、矩形の主パターンと、主
パターンより小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、
多重露光することにより容易に上記製版用パターンを製
造することができる。
以下、実施例を図面に基づき説明する。
第１図は本発明において使用する裏パターンの例を示
す図である。
す図である。
本発明においては、スロット露光による描画機におい
て、先ず、第２図（イ）に示す通常の主パターンＡを
露光する。次に、第２図（ロ）に示すように、主パタ
ーンＡにさらにパターン長さl1の中点S2と点S3を対角軸
とする補助パターンＢを露光して張り出し部を形成す
る。この補助パターンＢについては点S4と主パターンＡ
までの距離l2を０≦l2≦W1とする。次に、第２図
（ハ）に示すように同様に主パターンＡのS1とS2の間に
パターンＣを露光する。その後、現像を行うことにより
第１図（イ）に示すパターンを得ることができる。第１
図（イ）に対して張り出し部を反対側（図の左側）へ設
ける場合は、補助パターンＢ、Ｃを用いてそれぞれ反対
側へ同様に露光すればよく、第１図（ロ）のパターン
は、上記〜の工程におけるパターンＣの張り出し部
をなくせばよい。また、張り出し部の大きさは、中心部
から外れるにつれて順次大きくする等適宜選択すればよ
い。
て、先ず、第２図（イ）に示す通常の主パターンＡを
露光する。次に、第２図（ロ）に示すように、主パタ
ーンＡにさらにパターン長さl1の中点S2と点S3を対角軸
とする補助パターンＢを露光して張り出し部を形成す
る。この補助パターンＢについては点S4と主パターンＡ
までの距離l2を０≦l2≦W1とする。次に、第２図
（ハ）に示すように同様に主パターンＡのS1とS2の間に
パターンＣを露光する。その後、現像を行うことにより
第１図（イ）に示すパターンを得ることができる。第１
図（イ）に対して張り出し部を反対側（図の左側）へ設
ける場合は、補助パターンＢ、Ｃを用いてそれぞれ反対
側へ同様に露光すればよく、第１図（ロ）のパターン
は、上記〜の工程におけるパターンＣの張り出し部
をなくせばよい。また、張り出し部の大きさは、中心部
から外れるにつれて順次大きくする等適宜選択すればよ
い。
このようにしたスロット形状、例えば第３図（イ）に
示す形状とすると、第３図（ロ）、（ハ）に示すように
断面Ａ′、断面Ｂ′ともほぼ同じレベルの斜め通過を確
保することが可能となる。
示す形状とすると、第３図（ロ）、（ハ）に示すように
断面Ａ′、断面Ｂ′ともほぼ同じレベルの斜め通過を確
保することが可能となる。
ところで、裏パターン形状が第４図（イ）に示す通常
の形状では個々のスロットにおける縦ピッチの小さなシ
ャドウマスクを表裏同時にエッチングを行う１段エッチ
ングで製造した場合、エッチングは第４図（ロ）の→
のように進行し、の段階では起まらず、第４図
（ハ）に示すような楕円形状となってしまう。この場
合、表、裏それぞれ独立した２段エッチングを行えばよ
いが、本発明のパターンを応用することにより１段エッ
チングで可能である。
の形状では個々のスロットにおける縦ピッチの小さなシ
ャドウマスクを表裏同時にエッチングを行う１段エッチ
ングで製造した場合、エッチングは第４図（ロ）の→
のように進行し、の段階では起まらず、第４図
（ハ）に示すような楕円形状となってしまう。この場
合、表、裏それぞれ独立した２段エッチングを行えばよ
いが、本発明のパターンを応用することにより１段エッ
チングで可能である。
すなわち、第５図に示すような左右側部の上部及び下
部を張り出させた裏パターンを用いれば、最終的に第４
図の形状のものが得られる。このパターンは、第６図
に示すようにパターンＢ、Ｃ、Ｄ、Ｅを全方向へ張り出
して露光することにより容易に作成することができる。
部を張り出させた裏パターンを用いれば、最終的に第４
図の形状のものが得られる。このパターンは、第６図
に示すようにパターンＢ、Ｃ、Ｄ、Ｅを全方向へ張り出
して露光することにより容易に作成することができる。
ところで、上記実施例では矩形補助パターンの対角軸
長さを、矩形主パターンの長辺の長さの1/2としている
が、第３図（イ）に示すスロット幅W1が不安定になり、
マスクのムラの原因となり易い。
長さを、矩形主パターンの長辺の長さの1/2としている
が、第３図（イ）に示すスロット幅W1が不安定になり、
マスクのムラの原因となり易い。
第７図、第８図によりスロット幅W1を安定化すること
が可能な実施例を説明する。
が可能な実施例を説明する。
第７図に示すように矩形補助パターンＢ、Ｃの対角軸
長さを矩形主パターンの長辺長さより短くし、主パター
ンの直線部Ｓを設ける。この場合、Ｓが長すぎるとビー
ム欠けが生じ易くなるので、補助パターンの対角軸長さ
は主パターンの長辺長さに対して1/n（２＜ｎ≦５）程
度とするのがよい。この直線部を設けることにより第８
図に示すような裏側スロット22が形成され、スロット幅
W1が安定するようになる。
長さを矩形主パターンの長辺長さより短くし、主パター
ンの直線部Ｓを設ける。この場合、Ｓが長すぎるとビー
ム欠けが生じ易くなるので、補助パターンの対角軸長さ
は主パターンの長辺長さに対して1/n（２＜ｎ≦５）程
度とするのがよい。この直線部を設けることにより第８
図に示すような裏側スロット22が形成され、スロット幅
W1が安定するようになる。
以上のように本発明によれば、位置に応じて外周部に
張り出し部を有する製版用パターンとしたことにより、
電子ビーム欠けがなく、高精細、大型化シャドウマスク
に対応することができ、また矩形の主パターンと、これ
より小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、多重露光
することにより容易に外周部に張り出し部を有するシャ
ドウマスク製版用パターンを形成することができる。
張り出し部を有する製版用パターンとしたことにより、
電子ビーム欠けがなく、高精細、大型化シャドウマスク
に対応することができ、また矩形の主パターンと、これ
より小さい矩形の補助パターンを組み合わせ、多重露光
することにより容易に外周部に張り出し部を有するシャ
ドウマスク製版用パターンを形成することができる。
第１図は本発明において使用する裏パターンの例を示す
図、第２図は本発明の裏パターン形成方法を説明するた
めの図、第３図は電子ビーム欠けの解消の様子を説明す
るための図、第４図は楕円形状スロットを説明するため
の図、第５図、第６図は本発明の裏パターン形成方法の
他の実施例を説明するための図、第７図、第８図はスロ
ット幅を安定化するようにした本発明の他の実施例を示
す図、第９図はシャドウマスクの全体構成を示す図、第
10図は従来のシャドウマスクを示す図、第11図、第12図
は電子ビーム欠けを説明するための図、第13図は従来の
シャドウマスク形成方法を説明するための図である。 １、２、５……裏パターン、３、22……表側スロット、
４、21……裏側スロット、31……表パターン。
図、第２図は本発明の裏パターン形成方法を説明するた
めの図、第３図は電子ビーム欠けの解消の様子を説明す
るための図、第４図は楕円形状スロットを説明するため
の図、第５図、第６図は本発明の裏パターン形成方法の
他の実施例を説明するための図、第７図、第８図はスロ
ット幅を安定化するようにした本発明の他の実施例を示
す図、第９図はシャドウマスクの全体構成を示す図、第
10図は従来のシャドウマスクを示す図、第11図、第12図
は電子ビーム欠けを説明するための図、第13図は従来の
シャドウマスク形成方法を説明するための図である。 １、２、５……裏パターン、３、22……表側スロット、
４、21……裏側スロット、31……表パターン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 9/14 G03F 1/00
Claims (5)
- 【請求項１】位置に応じて形状を異ならせたシャドウマ
スク製版用パターンであって、シャドウマスク有孔面に
対応する裏パターン側部の上部及び／又は下部に向かっ
て直線的に幅広となるような左右方向への張り出し部を
設けたことを特徴とするシャドウマスク製版用パター
ン。 - 【請求項２】前記裏パターンの張り出し部は、シャドウ
マスクの中心部から外周部へいくにつれて大きくしたこ
とを特徴とする請求項１記載のシャドウマスク製版用パ
ターン。 - 【請求項３】前記張り出し部を裏パターンの左右側部に
設けたことを特徴とする請求項１記載のシャドウマスク
製版用パターン。 - 【請求項４】矩形の主パターンと、主パターンより小さ
い矩形の補助パターンとを、補助パターンの対角軸が主
パターンの長辺に、その端部から中心部に向かって重な
るように組み合わせて多重露光することを特徴とするシ
ャドウマスク製版用パターン製造方法。 - 【請求項５】矩形補助パターンの対角軸長さを、矩形主
パターンの長辺の長さの1/n（２≦ｎ≦５）として張り
出し部を形成する請求項４記載のシャドウマスク製版用
パターン製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31150688A JP3034257B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-12-09 | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15589888 | 1988-06-22 | ||
| JP63-155898 | 1988-06-22 | ||
| JP31150688A JP3034257B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-12-09 | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0286027A JPH0286027A (ja) | 1990-03-27 |
| JP3034257B2 true JP3034257B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=26483792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31150688A Expired - Lifetime JP3034257B2 (ja) | 1988-06-22 | 1988-12-09 | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034257B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0715331B1 (en) | 1990-11-22 | 2001-01-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Negative plate used for manufacture of a shadow mask, and method for manufacturing the negative plate |
| CN1047258C (zh) * | 1990-11-22 | 1999-12-08 | 东芝株式会社 | 荫罩印相用原版及原版的制造方法 |
| US5438668A (en) * | 1992-03-31 | 1995-08-01 | Seiko Epson Corporation | System and method for extraction, alignment and decoding of CISC instructions into a nano-instruction bucket for execution by a RISC computer |
| KR100505094B1 (ko) | 2002-05-29 | 2005-08-03 | 엘지.필립스 디스플레이 주식회사 | 새도우 마스크의 슬롯 형상 구조 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56156636A (en) * | 1980-05-08 | 1981-12-03 | Toshiba Corp | Mask nega pattern |
| JPS6059908A (ja) * | 1983-09-09 | 1985-04-06 | 日新電機株式会社 | ガス絶縁開閉装置 |
| JPS6147039A (ja) * | 1984-08-13 | 1986-03-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法 |
| KR890001955B1 (ko) * | 1986-09-10 | 1989-06-03 | 삼성전관 주식회사 | 컬러브라운관 새도우 마스크의 랜딩형상을 개선하기 위한 슬리트홀의 형상 가공방법 |
-
1988
- 1988-12-09 JP JP31150688A patent/JP3034257B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0286027A (ja) | 1990-03-27 |
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