JPS6147039A - スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法Info
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- JPS6147039A JPS6147039A JP59169776A JP16977684A JPS6147039A JP S6147039 A JPS6147039 A JP S6147039A JP 59169776 A JP59169776 A JP 59169776A JP 16977684 A JP16977684 A JP 16977684A JP S6147039 A JPS6147039 A JP S6147039A
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/20—Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
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- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、カラー受像管において使用されるシャドウ
マスク、特にスロット状孔シャドウマスクの製造方法に
関、する。
マスク、特にスロット状孔シャドウマスクの製造方法に
関、する。
カラー受像管忙使用されるシャドウマスクにおける［−
Ｆビーム通過孔の形状としては、丸形及びスロット形（
矩形状）のものが一般的である。この電子ビーム通過孔
をシャドウマスク素材面に穿設するにはフォトエツチン
グ法を用いる。すなわち、長尺帯状の純鉄軟鋼板やアン
バーｍ仮等のシャドウマスク素材の両面にフォトレジス
トを塗布した後乾燥させ、Ｎ光、現像。
Ｆビーム通過孔の形状としては、丸形及びスロット形（
矩形状）のものが一般的である。この電子ビーム通過孔
をシャドウマスク素材面に穿設するにはフォトエツチン
グ法を用いる。すなわち、長尺帯状の純鉄軟鋼板やアン
バーｍ仮等のシャドウマスク素材の両面にフォトレジス
トを塗布した後乾燥させ、Ｎ光、現像。
乾燥、及びバーニングの各工程を連続的に経た後、エツ
チングチャンバー内で長尺帯状のシャドウマスク素材の
表面に腐蝕液を吹き付けて所望の孔を蝕刻する。この腐
蝕過程において水平に保持した素材に腐蝕液を供給する
場合、腐蝕液はシャドウマスク素材の長尺方向に対して
直角方向、すなわち長尺帯状素材の中央部から両縁辺部
へ向かって流れる。このため縁辺部になるほど腐蝕液は
疲労（腐蝕能力が低下）することとなるので、長方形の
スロット状孔を穿設しようとする場合に、素材面内にお
けるシャドウマスクの区画数シ（焼付配置）如何によっ
てスロット状孔の楔形化（台形化）現象が起こる。
チングチャンバー内で長尺帯状のシャドウマスク素材の
表面に腐蝕液を吹き付けて所望の孔を蝕刻する。この腐
蝕過程において水平に保持した素材に腐蝕液を供給する
場合、腐蝕液はシャドウマスク素材の長尺方向に対して
直角方向、すなわち長尺帯状素材の中央部から両縁辺部
へ向かって流れる。このため縁辺部になるほど腐蝕液は
疲労（腐蝕能力が低下）することとなるので、長方形の
スロット状孔を穿設しようとする場合に、素材面内にお
けるシャドウマスクの区画数シ（焼付配置）如何によっ
てスロット状孔の楔形化（台形化）現象が起こる。
ところでスロット状孔ンヤドウマスクにおいてスロット
状孔は、第３図に示すようにシャドウマスク山の短辺方
向とスロット状孔（４）の長辺方向とが一致するように
配列されている。図中（２）ハスロット状孔（４）が多
数穿設されている開口！、（３１はシャドウマスク（１
）をマスクフレームに取シ付けるための開口部周辺の、
いわゆるスカート部である。シャドウマスク（１）の、
長辺と短辺との長さの比は通常４：３であり、その対角
方向長さは４〜５インチのものから４０インチ程度のも
のまで各種のサイズのものが製作されている。
状孔は、第３図に示すようにシャドウマスク山の短辺方
向とスロット状孔（４）の長辺方向とが一致するように
配列されている。図中（２）ハスロット状孔（４）が多
数穿設されている開口！、（３１はシャドウマスク（１
）をマスクフレームに取シ付けるための開口部周辺の、
いわゆるスカート部である。シャドウマスク（１）の、
長辺と短辺との長さの比は通常４：３であり、その対角
方向長さは４〜５インチのものから４０インチ程度のも
のまで各種のサイズのものが製作されている。
このような種々のサイズのシャドウマスクラ定格の幅（
６３７厘、６００嶋５４３ａ等）をもっ長尺帯状素材か
ら、できるだけ有効に、かつ製造上効率良く製作するに
は９表面にレジスト皮膜が被着された素材上にシャドウ
マスクパターンを密着させて焼付けを行なうに際して、
第１図（ａ）。
６３７厘、６００嶋５４３ａ等）をもっ長尺帯状素材か
ら、できるだけ有効に、かつ製造上効率良く製作するに
は９表面にレジスト皮膜が被着された素材上にシャドウ
マスクパターンを密着させて焼付けを行なうに際して、
第１図（ａ）。
Φ）Ｋ示すように焼付配置すればよい。以下、（ａ）に
示すように素材（５）の長尺方向とシャドウマスクパタ
ーン（６）枠の短辺方向とが一致する（従っる てスロ先ト状孔ンヤドウマスクにあっては素材（５）の
長尺方向とスロット状孔の長辺とが平行となる）ような
配列を「Ａ型部付配置」といい。
示すように素材（５）の長尺方向とシャドウマスクパタ
ーン（６）枠の短辺方向とが一致する（従っる てスロ先ト状孔ンヤドウマスクにあっては素材（５）の
長尺方向とスロット状孔の長辺とが平行となる）ような
配列を「Ａ型部付配置」といい。
（′ｂ）に示すように素材（５）の長尺方向とシャドウ
マスクパターン１６）の長辺方向とが一致する（従って
スロット状孔シャドウマスクにあっては素材（５）の長
尺方向とスロット状孔の長辺とがたがいに直角となる）
ような配列を「Ｂ予焼付配置」ということとする、ここ
で、丸形孔の場合にはＡ型部付配置であっても、Ｂ予焼
付配置であっても、腐蝕工程時の前述した腐蝕液の流れ
方向による影響は殆んどない―またスロット状孔の場合
であってもＡ型部付配置のときは、矩形の。
マスクパターン１６）の長辺方向とが一致する（従って
スロット状孔シャドウマスクにあっては素材（５）の長
尺方向とスロット状孔の長辺とがたがいに直角となる）
ような配列を「Ｂ予焼付配置」ということとする、ここ
で、丸形孔の場合にはＡ型部付配置であっても、Ｂ予焼
付配置であっても、腐蝕工程時の前述した腐蝕液の流れ
方向による影響は殆んどない―またスロット状孔の場合
であってもＡ型部付配置のときは、矩形の。
角部が若干丸味を帯びる程度で、実用上問題がない。こ
れに対し、Ｂ予焼付配置のときは、第５図に示すように
、腐蝕液の流れ（７）の上流側（長尺帯状素材の中央部
寄９）の位１ｆＯ）においては新鮮な腐蝕液によって素
材を腐蝕するので腐蝕の進行具合が比較的早く、一方腐
蝕液の流れ（７）の下流ｆ！ｌｌ （長尺帯状素材の縁
辺部寄り）の位置αりにおいては腐蝕液が若干疲労する
（腐蝕能力が低下する）ので腐蝕の進行具合がＫｔ ｔ
ＦＬ Ｃ１）に比べて遅くなる。この結果、腐蝕によっ
て素材面に穿設されたスロット形孔の形状が区々となり
、長尺帯状素材の中央部から縁辺部へ向かって、その形
状が矩形状から、中央部方向に拡がる楔形状（台形状）
へと変化し、（素材厚によって異なるが、最も台形化し
た孔で（ａ−ｂ）が０．０３ａｍ程度）、実用上シャド
ウマスクとして使用することには支障があった。
れに対し、Ｂ予焼付配置のときは、第５図に示すように
、腐蝕液の流れ（７）の上流側（長尺帯状素材の中央部
寄９）の位１ｆＯ）においては新鮮な腐蝕液によって素
材を腐蝕するので腐蝕の進行具合が比較的早く、一方腐
蝕液の流れ（７）の下流ｆ！ｌｌ （長尺帯状素材の縁
辺部寄り）の位置αりにおいては腐蝕液が若干疲労する
（腐蝕能力が低下する）ので腐蝕の進行具合がＫｔ ｔ
ＦＬ Ｃ１）に比べて遅くなる。この結果、腐蝕によっ
て素材面に穿設されたスロット形孔の形状が区々となり
、長尺帯状素材の中央部から縁辺部へ向かって、その形
状が矩形状から、中央部方向に拡がる楔形状（台形状）
へと変化し、（素材厚によって異なるが、最も台形化し
た孔で（ａ−ｂ）が０．０３ａｍ程度）、実用上シャド
ウマスクとして使用することには支障があった。
このため従来スロット状孔シャドウマスクを製作する場
合には、必ずＡ型部付配置によって行なわなければなら
なかった。
合には、必ずＡ型部付配置によって行なわなければなら
なかった。
従前のシャドウマスクは、１４インチ及び２０インチの
サイズのものが主流であり、その他偶数インチの各種シ
ャドウマスクが製作されていた。ここで１例えば１４イ
ンチのスロット状孔シャドウマスクを製作しようとする
場合には９幅が６３７顛の軟鋼板やアンバー鋼板等の長
尺帯状素材を史用し、シャドウマスクパターンをＡ型部
付配置で幅方向に、ぎシぎり一杯に２枚ずつ並列して焼
き付けていた（尚、１４インチの丸形孔シャドウマスク
を製作する場合はＢ型焼付配置もとれるため９幅５４３
１１２１の長尺帯状素材に対・し幅方向に２枚取りする
ことができる）。
サイズのものが主流であり、その他偶数インチの各種シ
ャドウマスクが製作されていた。ここで１例えば１４イ
ンチのスロット状孔シャドウマスクを製作しようとする
場合には９幅が６３７顛の軟鋼板やアンバー鋼板等の長
尺帯状素材を史用し、シャドウマスクパターンをＡ型部
付配置で幅方向に、ぎシぎり一杯に２枚ずつ並列して焼
き付けていた（尚、１４インチの丸形孔シャドウマスク
を製作する場合はＢ型焼付配置もとれるため９幅５４３
１１２１の長尺帯状素材に対・し幅方向に２枚取りする
ことができる）。
ところが最近になって、カラー受ｆ大管にて画１象を管
面の四隅部でも欠けることなく表示できるようにシャド
ウマスクの、いわゆる・スクエアー化が進行してお９．
その場合にはンヤドウマスクのサイズが１４インチから
１５インチへ ２０インチから２１インチへというよう
に１インチずつ大型化するのであざが、かかる大型化は
種々の理由からシャドウマスクの縦横寸法の大型化を要
する。
面の四隅部でも欠けることなく表示できるようにシャド
ウマスクの、いわゆる・スクエアー化が進行してお９．
その場合にはンヤドウマスクのサイズが１４インチから
１５インチへ ２０インチから２１インチへというよう
に１インチずつ大型化するのであざが、かかる大型化は
種々の理由からシャドウマスクの縦横寸法の大型化を要
する。
ところが、シャドウマスクが１インチずつ大型化すると
、従来性なっていたようなＡ型焼付配＠をとれないこと
がある。例えばンヤドウマスクのサイズが１４インチか
ら１５インチになると。
、従来性なっていたようなＡ型焼付配＠をとれないこと
がある。例えばンヤドウマスクのサイズが１４インチか
ら１５インチになると。
幅６３７ 顕（素材鉄板の現時点における最大幅）の長
尺帯状素材ではＡ型焼付配置で幅方向に２枚数カするこ
とができなくなり１幅５４３眞の素材を用いて、Ａ型焼
付配置で幅方向に１枚数シせざるを得なくなる。しかし
、これでは素材の使用効率や量産効率が著しく低下し、
ひいては生産コストの上昇へとつながる。尚、素材鉄板
の幅を現在のものよシ広くすることも考えられなくはな
いが、その場合は鉄板の圧延メーカーの設備改良、シャ
ドウマスクメーカーの搬送設備の改良等が必須であり、
非現実的である。このように、前述の如くＢ型焼付配置
ではスロット状孔が楔形状になる不都合があるにもかか
わらず。
尺帯状素材ではＡ型焼付配置で幅方向に２枚数カするこ
とができなくなり１幅５４３眞の素材を用いて、Ａ型焼
付配置で幅方向に１枚数シせざるを得なくなる。しかし
、これでは素材の使用効率や量産効率が著しく低下し、
ひいては生産コストの上昇へとつながる。尚、素材鉄板
の幅を現在のものよシ広くすることも考えられなくはな
いが、その場合は鉄板の圧延メーカーの設備改良、シャ
ドウマスクメーカーの搬送設備の改良等が必須であり、
非現実的である。このように、前述の如くＢ型焼付配置
ではスロット状孔が楔形状になる不都合があるにもかか
わらず。
シャドウマスクのサイズの大型化と素材鉄板の有効利用
とを両立する必要から、Ｂ型焼付配置することが強く求
められている。
とを両立する必要から、Ｂ型焼付配置することが強く求
められている。
この発明は９以上のような問題点を解決するためになさ
れたものであシ、現在入手できる長尺帯状素材をそのま
ま使用し、かつスロット状孔シャドウマスクを製作する
場合でもＡ型焼付配置だけでなくＢ型焼付配置もとるこ
とができ。
れたものであシ、現在入手できる長尺帯状素材をそのま
ま使用し、かつスロット状孔シャドウマスクを製作する
場合でもＡ型焼付配置だけでなくＢ型焼付配置もとるこ
とができ。
しかもんロット形孔の楔形化現象を起こすことのないよ
うなシャドウマスクの製造方法を提供するものである。
うなシャドウマスクの製造方法を提供するものである。
この発明では、上記課題を解決するための技術的手段と
して、フォトレジスト層パターンの形成を行なうに当た
って、上述した楔形化現象の起こる量を予測し、それに
基づいて個々のスロット状孔のパターン形状をシャドウ
マスク素材の中央部から縁辺部方向に拡がる楔形状にし
たフォトレジスト層パターンを形成することである。す
なわちこの発明に係るスロット状孔シャＦ’７マスクの
製造方法は１表面にフォトレジスト層が被着された長尺
帯状のシャドウマスク素材に、少くとも露光、現像、乾
燥、バーニング及び腐蝕の各工程を施してスロット形電
子ビーム通過孔を穿設するよ°うにするスロット状孔シ
ャドウマスクの製造方法において、前記露光工程を行な
うに際し、シャドウマスク素材の中央部から縁辺部へ向
かって、拡がる楔形状にスロット形画像が多数画かれた
マスターパターンを作製し、このマスターパターンから
複製された焼付パターンを前記シャドウマスク素材に、
そのパターン枠長辺方向と素材畏手方向とが一致するよ
うにｅ＊させて露光するか、またはこのスロット形画像
を直接前記シャドウマスク素材に露光することにより、
このスロット形画像が多数画かれたフォトレジスト層パ
ターンを形成することを特徴とする。
して、フォトレジスト層パターンの形成を行なうに当た
って、上述した楔形化現象の起こる量を予測し、それに
基づいて個々のスロット状孔のパターン形状をシャドウ
マスク素材の中央部から縁辺部方向に拡がる楔形状にし
たフォトレジスト層パターンを形成することである。す
なわちこの発明に係るスロット状孔シャＦ’７マスクの
製造方法は１表面にフォトレジスト層が被着された長尺
帯状のシャドウマスク素材に、少くとも露光、現像、乾
燥、バーニング及び腐蝕の各工程を施してスロット形電
子ビーム通過孔を穿設するよ°うにするスロット状孔シ
ャドウマスクの製造方法において、前記露光工程を行な
うに際し、シャドウマスク素材の中央部から縁辺部へ向
かって、拡がる楔形状にスロット形画像が多数画かれた
マスターパターンを作製し、このマスターパターンから
複製された焼付パターンを前記シャドウマスク素材に、
そのパターン枠長辺方向と素材畏手方向とが一致するよ
うにｅ＊させて露光するか、またはこのスロット形画像
を直接前記シャドウマスク素材に露光することにより、
このスロット形画像が多数画かれたフォトレジスト層パ
ターンを形成することを特徴とする。
なお、かかる楔形のスロット形画像の形状は。
シャドウマスク素材中央部では矩形状であって。
シャドウマスク素材縁辺部寄シに位置するスロット状孔
はど楔形の拡がり角度が漸次大きくなるようにするのが
最適であるが１例えばエツチング装置にてエツチング液
噴出ノズルの向きを工夫する等して、エツチング液の流
れを少しでも改善した場合等では９シャドウマスク素材
縁辺部の所要区域のみを楔形としてもよく、するいは拡
が９角度を均一にしても、実用上さしつかえない。
はど楔形の拡がり角度が漸次大きくなるようにするのが
最適であるが１例えばエツチング装置にてエツチング液
噴出ノズルの向きを工夫する等して、エツチング液の流
れを少しでも改善した場合等では９シャドウマスク素材
縁辺部の所要区域のみを楔形としてもよく、するいは拡
が９角度を均一にしても、実用上さしつかえない。
スロット状孔シャドウマスクをＢ形焼付配置で通常の方
法によ勺製作した場合には、前述したように、長尺帯状
素材の中央部から縁辺部へ向かって、孔形状が矩形状か
ら、中央部方向に拡がる楔形状へと変化するが、この発
明では。
法によ勺製作した場合には、前述したように、長尺帯状
素材の中央部から縁辺部へ向かって、孔形状が矩形状か
ら、中央部方向に拡がる楔形状へと変化するが、この発
明では。
焼付パターン自体のスロット形画像を、長尺帯状素材の
中央部から縁辺部へ向かって、その形状が矩形状から、
前記とは逆の縁辺部方向に拡がる楔形状へと変化させな
がら画いていることによシ、相浦的に作用し、腐蝕工程
終了後におけるスロット形孔の形状は、全面にわたって
一律に矩形状となる。
中央部から縁辺部へ向かって、その形状が矩形状から、
前記とは逆の縁辺部方向に拡がる楔形状へと変化させな
がら画いていることによシ、相浦的に作用し、腐蝕工程
終了後におけるスロット形孔の形状は、全面にわたって
一律に矩形状となる。
以下、第１図及び第２図１に参照しながらこの発明の実
施例について説明する。
施例について説明する。
この発明は、ｌｔ光工程においてシャドウマスク素材表
面に密着させてスロット形画像を焼き付ける焼付パター
ン、従ってマスターパターンの作製方法に特徴を有する
ものであシ、まずこのパターン作製について説明する。
面に密着させてスロット形画像を焼き付ける焼付パター
ン、従ってマスターパターンの作製方法に特徴を有する
ものであシ、まずこのパターン作製について説明する。
第１図（ａ）に示すように、長尺帯状のシャドウマスク
素材（５）面にシャドウマスクパターン（６）ヲＢ型焼
付配置する場合を例にとると、ンヤドウマスク素材（５
）の中央部位置■におけるスロット形画＠Ｇαの形状は
、同図（ｂ）に示すように矩形状とし、上方縁辺部位置
領におけるスロット彩画慮α６の形状は、同図（Ｃ）に
示すように上方（すなわちシャドウマスク素材縁辺方向
）に拡がる楔、形状とし、また下方縁辺部位置のにおけ
るスロット形画像ααの形状は、同図（ｄ）に示すよう
に下方（すなわちシャドウマスク素材縁辺方向）に拡が
る楔形状とする。そしてこの楔形状スロット形画像αＧ
−〇の拡がり角度は１通常の方法でＢ型焼付配置にて露
光し、現像後に腐蝕工程を施した場合に生ずる横形化の
程度を経験的に把握しておき、その変化量に応じてそれ
を浦償するように素材の縁辺部寄りになるほど大きくす
る。以上のようなシャドウマスクのマスターパターンを
作製し、これを複製して焼付パターンを作るのであるが
、楔形状スロット形画像のパターンを作製する方法の１
例を次に説明する。
素材（５）面にシャドウマスクパターン（６）ヲＢ型焼
付配置する場合を例にとると、ンヤドウマスク素材（５
）の中央部位置■におけるスロット形画＠Ｇαの形状は
、同図（ｂ）に示すように矩形状とし、上方縁辺部位置
領におけるスロット彩画慮α６の形状は、同図（Ｃ）に
示すように上方（すなわちシャドウマスク素材縁辺方向
）に拡がる楔、形状とし、また下方縁辺部位置のにおけ
るスロット形画像ααの形状は、同図（ｄ）に示すよう
に下方（すなわちシャドウマスク素材縁辺方向）に拡が
る楔形状とする。そしてこの楔形状スロット形画像αＧ
−〇の拡がり角度は１通常の方法でＢ型焼付配置にて露
光し、現像後に腐蝕工程を施した場合に生ずる横形化の
程度を経験的に把握しておき、その変化量に応じてそれ
を浦償するように素材の縁辺部寄りになるほど大きくす
る。以上のようなシャドウマスクのマスターパターンを
作製し、これを複製して焼付パターンを作るのであるが
、楔形状スロット形画像のパターンを作製する方法の１
例を次に説明する。
通常のスロット状孔シャドウマスク用のマスターパター
ンを作製するには、微小な矩形状スロット彩画倣を１個
１個、フォトプロフタ−等の露光式作図機を使用して、
銀塩乳剤を塗布した写真乾板ま九はフィルムに光学的に
プロットして行くのであるが、この実施例では３囮コ。
ンを作製するには、微小な矩形状スロット彩画倣を１個
１個、フォトプロフタ−等の露光式作図機を使用して、
銀塩乳剤を塗布した写真乾板ま九はフィルムに光学的に
プロットして行くのであるが、この実施例では３囮コ。
１４３４ ＵＲ１Ｔ’ＲＡ−ＰＲＥＣＩＳＥ ａＲＫ−
ＧＥＮＥＲＡＴＯＲげ耶ＧＥ冊ＥＲ８ＣＩγＩＦＩＣｌ
Ｎ５Ｔ側部冑社製品名）を用いてプロットしていく。但
し、プロットする角度を変えて２度プロットを行なうよ
うにする。すなわち、第２図に示すように点（ｘ、ｙ）
を画像の中心とし、短辺１．ｍｃｉ〉ｍ）、長辺りの楔
形状スロット形画像を作る場合を考えると、短辺ｍ、長
辺りの矩形状スロット彩画１象を、１回目は （ｘ−Ｊ
二ｍ、ｙ）を中心として左に角度α（ｔａｎα＝Ｌ≦シ
ーだけ傾けま た状態でプロットし、２回目ａ、 ＜ｘ＋’二ｍ、 ｙ
）を中心として右に角度αだけ傾けた状態でプロットす
る。ただし、かかる角度αは長尺帯状素材中心部ではＯ
ｏであって、縁辺部になるほど漸次増加するのであるが
、その増加の程度は笑殺的に決定されるもので、限定で
きない。このような操作を行なうことによって、はぼ所
留の楔形状スロット形画像が１個ずつ得られることとな
る。尚、楔形状スロット彩画＠（おける短辺と長辺との
比は、ｍ：ｈ＝１：４〜７程度であり。
ＧＥＮＥＲＡＴＯＲげ耶ＧＥ冊ＥＲ８ＣＩγＩＦＩＣｌ
Ｎ５Ｔ側部冑社製品名）を用いてプロットしていく。但
し、プロットする角度を変えて２度プロットを行なうよ
うにする。すなわち、第２図に示すように点（ｘ、ｙ）
を画像の中心とし、短辺１．ｍｃｉ〉ｍ）、長辺りの楔
形状スロット形画像を作る場合を考えると、短辺ｍ、長
辺りの矩形状スロット彩画１象を、１回目は （ｘ−Ｊ
二ｍ、ｙ）を中心として左に角度α（ｔａｎα＝Ｌ≦シ
ーだけ傾けま た状態でプロットし、２回目ａ、 ＜ｘ＋’二ｍ、 ｙ
）を中心として右に角度αだけ傾けた状態でプロットす
る。ただし、かかる角度αは長尺帯状素材中心部ではＯ
ｏであって、縁辺部になるほど漸次増加するのであるが
、その増加の程度は笑殺的に決定されるもので、限定で
きない。このような操作を行なうことによって、はぼ所
留の楔形状スロット形画像が１個ずつ得られることとな
る。尚、楔形状スロット彩画＠（おける短辺と長辺との
比は、ｍ：ｈ＝１：４〜７程度であり。
また上式で通常Ｊ −ｍ＜０．０３ＪＥ１であるため、
第２図に５ｊ！線で示す程度の形状であれば、実用上何
ら差し支えない。
第２図に５ｊ！線で示す程度の形状であれば、実用上何
ら差し支えない。
上述したシャドウマスクのマスターパターンの作製以外
の工程については、従前と全く同様であるので、以下に
簡単に説明するにとどめる。
の工程については、従前と全く同様であるので、以下に
簡単に説明するにとどめる。
まず、厚さ０．１〜０．３３Ｅｌの軟鋼板やアンバー鋼
板等からなる長尺帯状のシャドウマスク素材の両面に１
例えばカゼイン及び重クロム酸アンモニウムからなる水
溶性フォトレジストｔ−塗布した後乾燥させ、フォトレ
ジスト層を被着形成する。次に上記のような方法で作製
しておいた大孔用（螢光面側）及び小孔用（を子銃側）
のシャドウマスクパターンを、それぞれ表裏感光膜面に
密着させて焼付露光する。次いで表面に温水を噴射させ
て現象を行ない、硬膜処理を施した後乾燥させ、続いて
バーニングを行なって。
板等からなる長尺帯状のシャドウマスク素材の両面に１
例えばカゼイン及び重クロム酸アンモニウムからなる水
溶性フォトレジストｔ−塗布した後乾燥させ、フォトレ
ジスト層を被着形成する。次に上記のような方法で作製
しておいた大孔用（螢光面側）及び小孔用（を子銃側）
のシャドウマスクパターンを、それぞれ表裏感光膜面に
密着させて焼付露光する。次いで表面に温水を噴射させ
て現象を行ない、硬膜処理を施した後乾燥させ、続いて
バーニングを行なって。
前述した形状のフォトレジストパターン層を形成させる
。バーニング工程を終了したシャドウマスク素材に対し
必要に応じてプリエツチング処理を施した後、素材両面
に塩化第２鉄水溶液（腐蝕液）を噴射ノズルから吹き付
け、所望の電子ビーム通過孔を穿設する。
。バーニング工程を終了したシャドウマスク素材に対し
必要に応じてプリエツチング処理を施した後、素材両面
に塩化第２鉄水溶液（腐蝕液）を噴射ノズルから吹き付
け、所望の電子ビーム通過孔を穿設する。
この最後の腐蝕工程において、腐蝕層はシャドウマスク
素材の長手方向に対して直角方向に。
素材の長手方向に対して直角方向に。
素材中央部から縁辺部へ向かって流れるが、上述したよ
うにシャドウマスク素材には、素材中央部寄シ、従って
腐蝕液の流れの上流側の幅が狭く、素材縁辺部寄り、従
って腐蝕液の流れの下流側の幅が広い楔形状スロット形
＠像が焼付・現像されてい゛る。このため０画像の幅の
狭い部分では新鮮な腐蝕液によって比較的速やかに腐蝕
が進行し、他方幅の広い部分では若干疲労した（腐蝕能
力が低下した）腐蝕液によって比較的緩やかに腐蝕が進
行することとなる。この結果、腐蝕工程終了時に形成さ
れるスロット状孔は１両者の相補的な作用によって形状
がほぼ矩形状となシ、楔形化現象は起こらない。
うにシャドウマスク素材には、素材中央部寄シ、従って
腐蝕液の流れの上流側の幅が狭く、素材縁辺部寄り、従
って腐蝕液の流れの下流側の幅が広い楔形状スロット形
＠像が焼付・現像されてい゛る。このため０画像の幅の
狭い部分では新鮮な腐蝕液によって比較的速やかに腐蝕
が進行し、他方幅の広い部分では若干疲労した（腐蝕能
力が低下した）腐蝕液によって比較的緩やかに腐蝕が進
行することとなる。この結果、腐蝕工程終了時に形成さ
れるスロット状孔は１両者の相補的な作用によって形状
がほぼ矩形状となシ、楔形化現象は起こらない。
この発明は以上述べたような構成を有するので、この発
明に係るシャドウマスクの製造方法によれば、Ａ型焼付
配置だけでなくＢ型焼付配置をとった場合でも、スロッ
ト形孔の楔形化現象を起こすことがない。このため、シ
ャドウマスクのサイズが多様化した場合であっても、現
在入手し得る素材鉄板をそのまま使用して、かつ最も効
率の良い焼付配置を行なうことができ。
明に係るシャドウマスクの製造方法によれば、Ａ型焼付
配置だけでなくＢ型焼付配置をとった場合でも、スロッ
ト形孔の楔形化現象を起こすことがない。このため、シ
ャドウマスクのサイズが多様化した場合であっても、現
在入手し得る素材鉄板をそのまま使用して、かつ最も効
率の良い焼付配置を行なうことができ。
素材の利用率や量産効率を高く維持することができる。
また素材鉄板の幅を現在のものより広くする必要もない
から、圧延メーカーの設備改良等を行なうことも要しな
い。さらに、この発明に係る製造方法は、既存の一連の
シャドウマスク製造、設備を何ら変更することなく、そ
の製造ラインへの投入が可能であ汎実施化する上で極め
て有利である。
から、圧延メーカーの設備改良等を行なうことも要しな
い。さらに、この発明に係る製造方法は、既存の一連の
シャドウマスク製造、設備を何ら変更することなく、そ
の製造ラインへの投入が可能であ汎実施化する上で極め
て有利である。
第１図及び第２図は、この発明に係るスロット状孔シャ
ドウマスクの製造方法の１％施例を説明するための平面
図、＄３図（ａ）はシャドウマスクの平面図、同図（ｂ
）はＡ部分の拡大図、第１図（ａ） （ｂ）は焼付配置
の例を示す図、第５図は腐蝕工程においてスロット状孔
の楔形化現象が起こる理由を説明するための図である。 １・・・シャドウマスク ４・・・スロット状孔５・
・・シャドウマスク素材 ６・・・焼付パターン１０
・・・スロット彩画激 第１図 （ａ） （ｂ） （ｃ） 第２図 ０−−「−争
ドウマスクの製造方法の１％施例を説明するための平面
図、＄３図（ａ）はシャドウマスクの平面図、同図（ｂ
）はＡ部分の拡大図、第１図（ａ） （ｂ）は焼付配置
の例を示す図、第５図は腐蝕工程においてスロット状孔
の楔形化現象が起こる理由を説明するための図である。 １・・・シャドウマスク ４・・・スロット状孔５・
・・シャドウマスク素材 ６・・・焼付パターン１０
・・・スロット彩画激 第１図 （ａ） （ｂ） （ｃ） 第２図 ０−−「−争
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面にフォトレジスト層が被着された長尺帯状のシ
ャドウマスク素材に、少くとも露光、現像、乾燥、バー
ニング及び腐蝕の各工程を施してスロット形電子ビーム
通過孔を穿設するようにするスロット状孔シャドウマス
クの製造方法において、前記露光工程によりシャドウマ
スク素材の中央部から縁辺部へ向かって拡がる楔形状に
スロット形画像が多数画かれたフォトレジスト層パター
ンを形成することを特徴とするスロット状孔シャドウマ
スクの製造方法。 ２、シャドウマスク素材の中央部から縁辺部へ向かって
、形状が矩形状から縁辺部方向に拡がる楔形状へと、か
つ縁辺部寄りになるほどその拡がり角度が大きくなるよ
うにスロット形画像が多数画かれたフォトレジスト層パ
ターンを形成する特許請求の範囲第１項記載のスロット
状孔シャドウマスクの製造方法。 ３、フォトプロッターを用いてマスクパターンを作製し
、かかるマスクパターンをフォトレジスト層が被着され
たシャドウマスク素材に密着露光することによって、フ
ォトレジスト層パターンを形成する特許請求の範囲第１
項記載のスロット状孔シャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169776A JPS6147039A (ja) | 1984-08-13 | 1984-08-13 | スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法 |
| DE19853527146 DE3527146A1 (de) | 1984-08-13 | 1985-07-29 | Verfahren zur herstellung einer lochmaske mit schlitzartigen oeffnungen |
| KR1019850005747A KR900001704B1 (ko) | 1984-08-13 | 1985-08-09 | 슬롯형 구멍 새도우마스크의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59169776A JPS6147039A (ja) | 1984-08-13 | 1984-08-13 | スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147039A true JPS6147039A (ja) | 1986-03-07 |
Family
ID=15892646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59169776A Pending JPS6147039A (ja) | 1984-08-13 | 1984-08-13 | スロツト状孔シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6147039A (ja) |
| KR (1) | KR900001704B1 (ja) |
| DE (1) | DE3527146A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0286027A (ja) * | 1988-06-22 | 1990-03-27 | Dainippon Printing Co Ltd | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0731982B2 (ja) * | 1986-07-04 | 1995-04-10 | 株式会社東芝 | シャドウマスク |
| DE4447890B4 (de) * | 1993-09-28 | 2005-01-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Schlitzmaske |
| JP2764526B2 (ja) * | 1993-09-28 | 1998-06-11 | 大日本印刷株式会社 | アパーチャグリルの製造方法及びアパーチャグリル |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51142268A (en) * | 1975-06-02 | 1976-12-07 | Hitachi Ltd | Method of making rectangular hole by etching |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3645734A (en) * | 1969-12-22 | 1972-02-29 | Toppan Printing Co Ltd | Process of manufacturing a master dot pattern for photoetching a graded-hole shadow mask |
| FR2394896A1 (fr) * | 1977-06-17 | 1979-01-12 | Thomson Csf | Dispositif de couplage parametrique d'ondes progressives, notamment pour recepteur microondes, et recepteur microondes comportant un tel dispositif |
| DE2906611C2 (de) * | 1979-02-21 | 1985-05-15 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung einer Farbwahlmaske für eine Farbbildkathodenstrahlröhre |
| US4210843A (en) * | 1979-04-03 | 1980-07-01 | Zenith Radio Corporation | Color CRT shadow mask and method of making same |
| US4429028A (en) * | 1982-06-22 | 1984-01-31 | Rca Corporation | Color picture tube having improved slit type shadow mask and method of making same |
-
1984
- 1984-08-13 JP JP59169776A patent/JPS6147039A/ja active Pending
-
1985
- 1985-07-29 DE DE19853527146 patent/DE3527146A1/de not_active Ceased
- 1985-08-09 KR KR1019850005747A patent/KR900001704B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51142268A (en) * | 1975-06-02 | 1976-12-07 | Hitachi Ltd | Method of making rectangular hole by etching |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0286027A (ja) * | 1988-06-22 | 1990-03-27 | Dainippon Printing Co Ltd | シャドウマスク製版用パターン及び製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR860002133A (ko) | 1986-03-26 |
| DE3527146A1 (de) | 1986-02-13 |
| KR900001704B1 (ko) | 1990-03-19 |
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