CN107686964A - 掩膜板支撑框架和掩膜板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示器制备技术领域，公开了一种掩膜板支撑框架和掩膜板，用以减少掩膜板褶皱现象的发生，减少混色现象的发生，提高掩膜效果。掩膜板支撑框架，包括：外框；焊接于外框上的多个间隔分布的遮挡条和多个间隔分布的支撑条，其中，多个支撑条和多个遮挡条相交设置，任一支撑条与任一遮挡条相交的位置处：支撑条上设有容纳遮挡条的缺口，遮挡条朝向缺口的底部的一面与缺口的底部之间设有焊接点。

Description

掩膜板支撑框架和掩膜板
技术领域
本发明涉及显示器制备技术领域，尤其涉及一种掩膜板支撑框架和掩膜板。
背景技术
目前OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)采用真空蒸镀技术制备有机发光层。在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在基板下方需使用高精度金属掩膜板，掩膜板(即高精度金属掩膜板)上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。金属掩膜板上有效开口区域的尺寸、位置的变化会直接影响镀膜的精度。
如图1所示，目前掩膜板的制作是在掩膜板框架01上分别焊接横向的遮挡条02和竖向的支撑条03，再在焊有遮挡条02和支撑条03的掩膜板框架01上焊接掩膜条04。遮挡条02的作用是遮挡各个掩膜条04之间的缝隙，支撑条03主要起支撑掩膜条04的作用，遮挡条02和支撑条03在搭接处焊接在一起。
由于焊接时焊点的高度不同，容易导致支撑条形成的面凹凸不平，掩膜条焊接后容易出现褶皱，且相邻的两个开口区域容易出现混色。
发明内容
本发明实施例提供了一种掩膜板支撑框架和掩膜板，用以减少掩膜板褶皱现象的发生，减少混色现象的发生，提高掩膜效果。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
本发明提供了一种掩膜板支撑框架，包括：外框；焊接于所述外框上的多个间隔分布的遮挡条和多个间隔分布的支撑条，其中，多个所述支撑条和多个所述遮挡条相交设置，任一所述支撑条与任一所述遮挡条相交的位置处：所述支撑条上设有容纳所述遮挡条的缺口，所述遮挡条朝向所述缺口的底部的一面与所述缺口的底部之间设有焊接点。
本发明提供的掩膜板支撑框架，通过设置的缺口，可以使得支撑条和遮挡条交叉焊接，设置的缺口可以容纳焊接点，焊接时可以通过缺口的深度以及遮挡条的高度限制焊接点的高度，使得焊接后多个支撑条形成的面较平整。
故，本发明提供的掩膜板支撑框架，可以减少掩膜板褶皱现象的发生，减少混色现象的发生，提高掩膜效果。
在一些可选的实施方式中，任一所述支撑条与任一所述遮挡条相交的位置处：所述遮挡条嵌入所述缺口内的高度和焊接点的高度等于所述缺口的深度。便于提高焊接后的支撑条形成的面的平整性。
在一些可选的实施方式中，每个所述支撑条上设有的所述缺口的深度大于等于60微米且小于等于70微米。
在一些可选的实施方式中，多个所述遮挡条与多个所述支撑条垂直设置。
在一些可选的实施方式中，多个所述遮挡条和多个所述支撑条形成多个开口，且每个开口的四个角位置处为圆角，每个所述遮挡条与多个所述支撑条相交的位置处均具有用于形成其所围成的开口的圆角的延伸部。可以便于对有圆角设置的面板进行蒸镀。
在一些可选的实施方式中，每个所述遮挡条上设有的延伸部沿第一方向上的最小宽度小于等于与其相交的支撑条的宽度，每个所述遮挡条上设有的延伸部沿所述第一方向上的最大宽度大于与其相交的支撑条的宽度，其中所述第一方向平行于所述遮挡条的长度方向。
在一些可选的实施方式中，所述遮挡条为不锈钢材料的遮挡条。
在一些可选的实施方式中，所述缺口为矩形缺口。
在一些可选的实施方式中，所述缺口为梯形缺口。
本发明还提供了一种掩膜板，包括上述任一项所述的掩膜板支撑框架以及覆盖于所述掩膜板支撑框架上的掩膜层。由于上述掩膜板支撑框架，可以减少掩膜板褶皱现象的发生，减少混色现象的发生，提高掩膜效果。故本发明提供的掩膜板具有较好的掩膜效果。
附图说明
图1为现有技术中的掩膜板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的掩膜板支撑框架内的支撑条和掩膜条焊接处结构示意图；
图3为本发明实施例提供的掩膜板支撑框架的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的掩膜板支撑框架内的遮挡条的部分结构示意图；
图5为图3所示的掩膜板支撑框架的A处局部放大示意图；
图6为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的掩膜板内的掩膜层覆盖到掩膜板支撑框架上后与图6所示的虚线框B的对应的部分结构示意图。
附图标记：
01-掩膜板框架 02-遮挡条
03-支撑条 04-掩膜条
1-外框 2-遮挡条
21-延伸部 211-圆弧面
3-支撑条 31-缺口
4-焊接点 5-掩膜层
51-开口区域
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明专利保护的范围。
如图1、与2和图3随时，本发明提供了一种掩膜板支撑框架，包括：外框1；焊接于外框1上的多个间隔分布的遮挡条2和多个间隔分布的支撑条3，其中，多个支撑条3和多个遮挡条2相交设置，任一支撑条3与任一遮挡条2相交的位置处：支撑条3上设有容纳遮挡条2的缺口31，遮挡条2朝向缺口31的底部的一面与缺口31的底部之间设有焊接点4。
本发明提供的掩膜板支撑框架，通过设置的缺口31，可以使得支撑条3和遮挡条2交叉焊接，设置的缺口31可以容纳焊接点4，焊接时可以通过缺口31的深度以及遮挡条2的高度限制焊接点4的高度，使得焊接后多个支撑条3形成的面较平整。
故，本发明提供的掩膜板支撑框架，可以减少掩膜板褶皱现象的发生，减少混色现象的发生，提高掩膜效果。
另外，本发明提供的掩膜板支撑框架，相对已有技术，由于支撑条3上设置了缺口31，故可以减小支撑条3的重量，进而减少支撑条3和遮挡条2因重力产生的下垂量，保证蒸镀间隙，提高掩膜蒸镀效果。
通常的设计中，支撑条位于遮挡条的上方。
进一步的，如图2所示，任一支撑条3与任一遮挡条2相交的位置处：遮挡条2嵌入缺口31内的高度h1和焊接点4的高度h2等于缺口31的深度h3。这样的结构设计，便于提高焊接后的支撑条形成的面的平整性。焊接点4可能不是规则的图形，则上述焊接点4的高度为焊接点4的最大高度。
上述缺口31的具体深度可以根据需要设定，可选的每个支撑条3上设有的缺口31的深度h3大于等于60微米且小于等于70微米。可选的，缺口31的深度可以为60微米、61微米、63微米、64微米、68微米、70微米等，这里就不再一一赘述。
上述多个遮挡条2与支撑条3相交的角度可以为任何角度，例如60度，45度等，可选的，多个遮挡条2与多个支撑条3垂直设置。即多个遮挡条2与多个支撑条3之间的相交夹角为90度。
如图3和图4所示，多个遮挡条2和多个支撑条3形成多个开口，且每个开口的四个角位置处为圆角，每个遮挡条2与多个支撑条3相交的位置处均具有用于形成其所围成的开口的圆角的延伸部21。可以便于对有圆角设置的面板进行蒸镀。不需要将掩膜层与圆角对应的部分半刻蚀，这样就可以进一步减少掩膜板褶皱现象的发生。
如图4所示，遮挡条2的延伸部21上设有圆弧面211以形成开口的圆角。
如图4和图5所示，每个遮挡条2上设有的延伸部21沿第一方向(如图5中所述箭头C方向)上的最小宽度W1小于等于与其相交的支撑条3的宽度W3，每个遮挡条2上设有的延伸部21沿第一方向上的最大宽度W2大于与其相交的支撑条3的宽度W3，其中第一方向平行于遮挡条2的长度方向。
上述遮挡条2的具体材料可以有多种，可选的，遮挡条2为不锈钢材料的遮挡条2。不锈钢材料可以避免后期制备过程中被磁化，产生磁性。
上述缺口31的具体形状可以有多种，一种可选的实施方式中，缺口31为矩形缺口31。
另一种可选的实施方式中，缺口31为梯形缺口31。
基于同一发明构思，如图6和图7所示，本发明还提供了一种掩膜板，包括上述任一项所述的掩膜板支撑框架以及覆盖于掩膜板支撑框架上的掩膜层。由于上述掩膜板支撑框架，可以减少掩膜板褶皱现象的发生，减少混色现象的发生，提高掩膜效果。故本发明提供的掩膜板具有较好的掩膜效果。
如图7所示，本发明提供的掩模板中的掩模板支撑框架可以对掩模层5位于角位置处的开口区域51进行遮挡，避免面板与此位置处对应的部分上被蒸镀上有机材料，可以实现对圆角面板的蒸镀。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种掩膜板支撑框架，其特征在于，包括：外框；焊接于所述外框上的多个间隔分布的遮挡条和多个间隔分布的支撑条，其中，多个所述支撑条和多个所述遮挡条相交设置，任一所述支撑条与任一所述遮挡条相交的位置处：所述支撑条上设有容纳所述遮挡条的缺口，所述遮挡条朝向所述缺口的底部的一面与所述缺口的底部之间设有焊接点。
2.根据权利要求1所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，任一所述支撑条与任一所述遮挡条相交的位置处：所述遮挡条嵌入所述缺口内的高度和焊接点的高度等于所述缺口的深度。
3.根据权利要求1所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，每个所述支撑条上设有的所述缺口的深度大于等于60微米且小于等于70微米。
4.根据权利要求1所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，多个所述遮挡条与多个所述支撑条垂直设置。
5.根据权利要求4所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，多个所述遮挡条和多个所述支撑条形成多个开口，且每个开口的四个角位置处为圆角，每个所述遮挡条与多个所述支撑条相交的位置处均具有用于形成其所围成的开口的圆角的延伸部。
6.根据权利要求5所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，每个所述遮挡条上设有的延伸部沿第一方向上的最小宽度小于等于与其相交的支撑条的宽度，每个所述遮挡条上设有的延伸部沿所述第一方向上的最大宽度大于与其相交的支撑条的宽度，其中所述第一方向平行于所述遮挡条的长度方向。
7.根据权利要求1～6任一项所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，所述遮挡条为不锈钢材料的遮挡条。
8.根据权利要求7所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，所述缺口为矩形缺口。
9.根据权利要求7所述的掩膜板支撑框架，其特征在于，所述缺口为梯形缺口。
10.一种掩膜板，其特征在于，包括如权利要求1～9任一项掩膜板支撑框架以及覆盖于所述掩膜板支撑框架上的掩膜层。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109321880A (zh) * 2018-10-18 2019-02-12 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板
CN110117768A (zh) * 2019-05-17 2019-08-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置
CN110965018A (zh) * 2018-09-28 2020-04-07 三星显示有限公司 掩模框架组件及制造其的方法
CN111509016A (zh) * 2020-04-28 2020-08-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩摸版及其制作方法
CN111534788A (zh) * 2019-02-06 2020-08-14 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模装置、掩模支承机构及蒸镀掩模装置的制造方法
CN111748766A (zh) * 2020-06-22 2020-10-09 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 金属掩膜板
CN112080720A (zh) * 2020-08-12 2020-12-15 福建华佳彩有限公司 一种支撑条、oled蒸镀掩膜板及其制作方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1678145A (zh) * 2004-03-31 2005-10-05 精工爱普生株式会社 掩模及其制造方法、电光学装置的制造方法和电子设备
CN203960317U (zh) * 2014-07-08 2014-11-26 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种掩模板
CN204361134U (zh) * 2014-12-22 2015-05-27 信利（惠州）智能显示有限公司 一种oled蒸镀用掩膜板支撑架
CN205420527U (zh) * 2016-03-18 2016-08-03 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种蒸镀掩模板及显示基板
CN105839051A (zh) * 2016-05-09 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及其制作方法、oled显示基板和显示装置
CN105951042A (zh) * 2016-07-01 2016-09-21 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN106480404A (zh) * 2016-12-28 2017-03-08 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜集成框架及蒸镀装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1678145A (zh) * 2004-03-31 2005-10-05 精工爱普生株式会社 掩模及其制造方法、电光学装置的制造方法和电子设备
CN203960317U (zh) * 2014-07-08 2014-11-26 上海天马有机发光显示技术有限公司 一种掩模板
CN204361134U (zh) * 2014-12-22 2015-05-27 信利（惠州）智能显示有限公司 一种oled蒸镀用掩膜板支撑架
CN205420527U (zh) * 2016-03-18 2016-08-03 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种蒸镀掩模板及显示基板
CN105839051A (zh) * 2016-05-09 2016-08-10 京东方科技集团股份有限公司 掩模板及其制作方法、oled显示基板和显示装置
CN105951042A (zh) * 2016-07-01 2016-09-21 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN106480404A (zh) * 2016-12-28 2017-03-08 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜集成框架及蒸镀装置

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110965018A (zh) * 2018-09-28 2020-04-07 三星显示有限公司 掩模框架组件及制造其的方法
CN109321880A (zh) * 2018-10-18 2019-02-12 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板
CN111534788A (zh) * 2019-02-06 2020-08-14 大日本印刷株式会社 蒸镀掩模装置、掩模支承机构及蒸镀掩模装置的制造方法
CN110117768A (zh) * 2019-05-17 2019-08-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置
CN111509016A (zh) * 2020-04-28 2020-08-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩摸版及其制作方法
CN111748766A (zh) * 2020-06-22 2020-10-09 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 金属掩膜板
CN112080720A (zh) * 2020-08-12 2020-12-15 福建华佳彩有限公司 一种支撑条、oled蒸镀掩膜板及其制作方法

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