CN105951042B - 掩膜板及其制作方法 - Google Patents

掩膜板及其制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105951042B
CN105951042B CN201610515906.6A CN201610515906A CN105951042B CN 105951042 B CN105951042 B CN 105951042B CN 201610515906 A CN201610515906 A CN 201610515906A CN 105951042 B CN105951042 B CN 105951042B
Authority
CN
China
Prior art keywords
item
mask
mask strip
support bar
blocks
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610515906.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105951042A (zh
Inventor
吕守华
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201610515906.6A priority Critical patent/CN105951042B/zh
Publication of CN105951042A publication Critical patent/CN105951042A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105951042B publication Critical patent/CN105951042B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种掩膜板及其制作方法，涉及显示领域，能够减小现有掩膜板组成部分的流动性，解决由此导致的面板混色不良，产品良率降低的问题，同时降低掩膜板在运输、清洗、对位、贴合等过程中发生振动损伤的风险，延长使用寿命，降低生产成本。本发明的掩膜板，包括：框架，以及，包含有效开口的掩膜条，所述掩膜条相互拼接；遮挡条，遮挡在所述掩膜条的相互拼接处，用于避免蒸镀材料渗透；用于支撑所述掩膜条的支撑条，垂直于所述掩膜条和所述遮挡条设置；所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域连接在一起，所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域连接在一起。

Description

掩膜板及其制作方法
技术领域
本发明涉及显示领域，尤其涉及一种掩膜板及其制作方法。
背景技术
目前OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)采用真空蒸镀技术制备有机发光层。在器件制备过程中，有机材料通过高温蒸镀淀积在位于蒸发源上方的基板上，为使有机材料按照设计蒸镀到特定的位置上，在基板下方需使用高精度金属掩膜板，掩膜板(即高精度金属掩膜板)上留有预先设计好的有效开口区域，通过该有效开口区域，有机材料沉积到背板上面，形成预设图形。金属掩膜板上有效开口区域的尺寸、位置的变化会直接影响镀膜的精度。
现有金属掩膜板一般由包含有效开口的金属掩膜条11，用于遮挡避免有机材料渗透的遮挡条(Cover Stick)12和用于支撑金属掩膜条11的支撑条(Howling Stick)13按图1所示方式拼接，并焊接到框架14上而成，但当金属掩膜板进入真空腔室内进行蒸镀时，尽管在其上方安装有磁隔板来增强金属掩膜板和背板玻璃的贴合性，但是，在蒸镀过程中单条的金属掩膜条11仍存在流动性，这种流动会直接影响镀膜开口区的精度，导致最终形成的面板发生混色不良，产品良率降低。
发明内容
本发明提供一种掩膜板及其制作方法，可减小现有掩膜板组成部分的流动性，解决由此导致的面板混色不良，产品良率降低的问题，同时降低掩膜板在运输、清洗、对位、贴合等过程中发生振动损伤的风险，延长使用寿命，降低生产成本。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
本发明实施例提供一种掩膜板，包括：框架，以及，包含有效开口的掩膜条，所述掩膜条相互拼接；遮挡条，遮挡在所述掩膜条的相互拼接处，用于避免蒸镀材料渗透；用于支撑所述掩膜条的支撑条，垂直于所述掩膜条和所述遮挡条设置；所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域连接在一起，所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域连接在一起。
可选地，所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。
优选地，所述遮挡条与所述掩膜条之间的焊接点位于所述掩膜条的边缘。
可选地，所述支撑条设置于所述掩膜条和所述框架之间；所述遮挡条设置于所述掩膜条远离框架的一面，或者，所述遮挡条设置于所述支撑条和掩膜条之间。
可选地，所述遮挡条、所述支撑条、所述掩膜条均焊接在所述框架的对应沟槽内。
可选地，所述遮挡条、所述支撑条和所述掩膜条中的其中之一或全部采用下述材质中的一种制成：镍铁合金、镍钴合金和不锈钢。
可选地，所述遮挡条、所述支撑条和所述掩膜条中的其中之一或全部采用因瓦合金制成。
本发明实施例提供一种掩膜板的制作方法，包括：将支撑条、遮挡条和掩膜条依次焊接到框架的对应沟槽内，其中，所述掩膜条相互拼接，所述遮挡条设置于所述掩膜条的下方，且遮挡在所述掩膜条的相互拼接处，所述支撑条设置于所述遮挡条的下方，且垂直于所述掩膜条和所述遮挡条设置；将所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，并将所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。
可选地，通过激光焊接，将支撑条、遮挡条和掩膜条依次焊接到框架的对应沟槽内；并通过激光焊接将所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，将所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。
优选地，所述遮挡条与所述掩膜条之间的焊接点位于所述掩膜条的边缘。
本发明提供一种掩膜板及其制作方法，将包含有效开口的掩膜条和用来遮挡有机材料渗透的遮挡条在二者重叠区域进行连接，同时，还将遮挡条和支撑掩膜条的支撑条在二者的交叠区域进行连接，此处所述的连接可以采用包括但不限于焊接等方式。这样，每个包含有效开口的掩膜条同时被固定在支撑条和遮挡条，可减小掩膜条的流动性，解决由此导致的面板混色不良，提高产品良率；同时，可达到对掩膜板整体加固的效果，降低掩膜板在运输、清洗、对位、贴合等过程中发生振动损伤的风险，延长使用寿命，降低生产成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为现有掩膜板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图。
附图标记
11-掩膜条，12-遮挡条，13-支撑条，14-框架。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
本发明实施例提供一种掩膜板，参照图2所示，包括：框架14，以及，包含有效开口的掩膜条11，掩膜条11相互拼接；遮挡条12，遮挡在掩膜条11的相互拼接处，用于避免蒸镀材料渗透；用于支撑掩膜条11的支撑条13，垂直于掩膜条11和遮挡条12设置；遮挡条12与掩膜条11在二者重叠区域连接在一起，支撑条13与遮挡条12在二者重叠区域连接在一起。
本发明实施例提供的掩膜板包括：框架14和设置于框架14上的掩膜条11、遮挡条12和支撑条13，掩膜条11包含有效开口，各掩膜条11相互拼接组成掩膜板的图形；遮挡条12遮挡在掩膜条11的相互拼接处，一般平行于掩膜条11设置，用来起遮挡避免蒸镀时蒸镀材料自拼接处渗透；支撑条13用于支撑各掩膜条11，避免其下垂导致产生有效开口变形。
形成掩膜板时，掩膜条11相互拼接，遮挡条12遮挡在掩膜条11的相互拼接处，支撑条13垂直于掩膜条11和遮挡条12设置，遮挡条12与掩膜条11在二者重叠区域连接在一起，支撑条13与遮挡条12在二者重叠区域连接在一起，此处所述连接方式不做限定，可以是焊接，也可以是其他方式如卡合等。支撑条13用于支撑掩膜条11，支撑条13需要设置于掩膜条11和框架14之间，而遮挡条12可以设置在掩膜条11的远离框架的一面，也可以设置于支撑条13和掩膜条11之间，次选地，遮挡条12还可以设置于支撑条13和框架14之间，意即：形成掩膜板时，可以先在框架14上先焊接支撑条13，再焊接掩膜条11，最后焊接遮挡条12；还可以是先在框架14上先焊接遮挡条12，再焊接支撑条13，最后焊接掩膜条11；次选地，还可以先在框架14上焊接遮挡条12，再焊接支撑条13，最后焊接掩膜条11，本实施例对此不做限定。
本发明提供的上述掩膜板，将遮挡条12与掩膜条11在二者重叠区域连接在一起，支撑条13与遮挡条12在二者重叠区域连接在一起，可减小掩膜条的流动性，解决由此导致的面板混色不良，提高产品良率；同时，可达到对掩膜板整体加固的效果，降低掩膜板在运输、清洗、对位、贴合等过程中发生振动损伤的风险，延长使用寿命，降低生产成本。
为了本领域技术人员更好的理解本发明实施例提供的掩膜板的结构，下面通过具体的实施例对本发明提供的掩膜板进行详细说明。
如图2所示，本实施例提供的掩膜板，框架14上设置有沟槽，支撑条13、遮挡条12、掩膜条11依次通过焊接固定于框架14上对应的沟槽内，即自下而上各部件的顺序为：框架14、支撑条13、遮挡条12和掩膜条11；并且，遮挡条12与掩膜条11在二者重叠区域焊接在一起，支撑条13与遮挡条12在二者重叠区域焊接在一起。
上述设计基于以下考虑：如果采用图1中的(I)方式，即支撑条13、遮挡条12和掩膜条11均在其两端焊接在框架14上，同时，仅将支撑条13与掩膜条11在二者重叠区域焊接在一起，该种方式，由于焊接后焊点的高度影响，会使焊接好的掩膜板在蒸镀时，与背板玻璃贴合存在缝隙，引发蒸镀阴影(蒸镀Shadow)效应，导致在焊点对应的两侧Cell有效区边缘产生混色不良；且在同一条支撑条13的方向上，如果有一组焊接发生问题，会连带整条支撑条13上的其余Cell的焊接和蒸镀情况。上述的Cell有效区指的是镀膜区域，也是开口区域，开口区域边缘一般容易发生混色不良。
如果采用图1中(II)方式，即支撑条13、遮挡条12和掩膜条11均在其两端焊接在框架14上，同时，仅将支撑条13与遮挡条12在二者重叠区域焊接在一起，该种方式并不能阻止带有效开口的掩膜条11在垂直于掩膜条11方向上的流动，这种流动会直接影响镀膜开口区的精度，导致最终形成的面板发生混色不良，产品良率降低。
而采用本实施例所示方式，将包含有效开口的掩膜条11和用来起遮挡有机材料渗透的遮挡条12的重叠区域进行焊接(如图2中的横向排列的焊点A)，同时，将遮挡条13和支撑条13的垂直交叠区域进行焊接(如图2中的竖向排列的焊点B)，焊点A横向排列，Cell区域的上下边缘一般设置非显示区，因此可解决了方式(I)会引发相邻Cell边缘产生蒸镀阴影(蒸镀Shadow)的问题，且避免了因一组发生焊接问题而对同一条支撑条13上的其余Cell的焊接和蒸镀情况产生影响的问题；并且，通过对单条掩膜条11在单个Cell周围进行焊接(相当于围着开口区域焊接一周)，来对掩膜板进行整体加固，减小掩膜板的流动性，减小蒸镀面板混色不良，提高产品良率，同时降低金属掩膜板在运输，清洗，对位，贴合等过程中发生振动损伤的风险，延长使用寿命，降低生产成本。
优选地，上述遮挡条12与掩膜条11之间的焊接点位于掩膜条11的边缘。为避免焊点高度在蒸镀贴合过程中引起贴合狭缝，进而带来蒸镀阴影(蒸镀Shadow)，焊点尽量靠近重叠区域边缘(即靠近掩膜条11的边缘)，且可以将掩膜条11与遮挡条12的重叠区域加宽，做到二者的重叠区域焊点尽量远离Cell有效区，以减小焊点对有效开口区的影响。
上述的掩膜条11、遮挡条12、支撑条13以及框架14可以采用相同或不同的材质，例如掩膜条11、遮挡条12、支撑条13以及框架14中的其中之一或全部采用下述材质中的一种制成：镍铁合金、镍钴合金和不锈钢。优选地，掩膜条11、遮挡条12和支撑条13之一或全部采用因瓦合金制成，因瓦合金属于铁镍合金的一种，其成分一般为镍36％，铁63.8％，碳0.2％，在常温下(-80～230℃)内表现出很小的热膨胀系数，因瓦合金制成的掩膜板不易变形，不受温度变化影响。
本实施例还提供一种掩膜板的制作方法，包括：将支撑条、遮挡条和掩膜条依次焊接到框架的对应沟槽内，其中，掩膜条相互拼接，遮挡条设置于掩膜条的下方，且遮挡在掩膜条的相互拼接处，支撑条设置于遮挡条的下方，且垂直于掩膜条和遮挡条设置；将遮挡条与掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，并将支撑条与遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。
可选地，可以通过激光焊接，将支撑条、遮挡条和掩膜条依次焊接到框架的对应沟槽内；并通过激光焊接将遮挡条与掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，将支撑条与遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。遮挡条与掩膜条之间的焊接点位于掩膜条的边缘。下面通过具体的实施例对本发明提供的掩膜板制造方法进行详细说明。
本实施例提供一中OLED有机材料蒸镀时使用的金属掩膜，包括：框架14掩膜条11、遮挡条12和支撑条13。其中，框架14材料可采用：因瓦合金，如Invar36，尺寸可为800～900mm(意即框架14的长宽都在这个范围内，比如长800，宽900mm)，厚度为22～24mm，内框尺寸为600～700mm；掩膜条11材料可为：因瓦合金，如Invar36，宽度为：45～130mm，长度为：850～900mm，厚度为10～40μm，拉伸率为0.015％～0.04％；遮挡条12材料可为：因瓦合金或不锈钢，如Invar36或SUS304(一种不锈钢型号)，宽度为1～10mm，长度为1000mm，厚度为30～50μm，遮挡条12位于与掩膜条11的下一层，两者之间的重叠区域宽度为0.3～1.5mm；支撑条13材料可为:Invar合金或不锈钢，如Invar36或SUS304。宽度为2～10mm，长度为1000mm，厚度为30～100μm，支撑条13位于遮挡条12的下一层，两者之间要有一定的距离，不要完全接触，这个距离一般为5～10μm。
其中，遮挡条12、支撑条13和掩膜条11焊接到Frame框架上使用激光焊接，焊接能量为0.3～0.8J。
具体操作时，首先，将支撑条13焊接到框架14表面的对应沟槽内，再将遮挡条12焊接到框架14表面的对应沟槽内，最后将掩膜条11焊接到框架14表面的对应沟槽内。然后，将掩膜条11和遮挡条12的重叠区域使用激光进行焊接，为避免焊点高度在蒸镀贴合过程中引起贴合狭缝，带来蒸镀阴影(蒸镀Shadow)效应，焊点尽量靠近重叠区域边缘。将焊点尽量靠近重叠区域边缘，且将掩膜条11与遮挡条12的重叠区域加宽，做到二者的重叠区域焊点尽量远离Cell有效区，减小焊点对Cell有效区的影响。最后，将遮挡条12和支撑条13的重叠区域使用激光进行焊接。其中，上述的焊接顺序可以根据需要进行变动，本实施例不做限定。
本发明实施例提供掩膜板制作方法，将遮挡条12与掩膜条11在二者重叠区域连接在一起，并将支撑条13与遮挡条12在二者重叠区域连接在一起，可减小掩膜条的流动性，解决由此导致的面板混色不良，提高产品良率；同时，可达到对掩膜板整体加固的效果，降低掩膜板在运输、清洗、对位、贴合等过程中发生振动损伤的风险，延长使用寿命，降低生产成本。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：框架，以及，
包含有效开口的掩膜条，所述掩膜条相互拼接；
遮挡条，遮挡在所述掩膜条的相互拼接处，用于避免蒸镀材料渗透；
用于支撑所述掩膜条的支撑条，垂直于所述掩膜条和所述遮挡条设置，所述支撑条的两端焊接在所述框架的对应沟槽内；
所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域连接在一起，所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域连接在一起。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡条与所述掩膜条之间的焊接点位于所述掩膜条的边缘。
4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述支撑条设置于所述掩膜条和所述框架之间；所述遮挡条设置于所述掩膜条远离框架的一面，或者，
所述遮挡条设置于所述支撑条和掩膜条之间。
5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡条、所述掩膜条均焊接在所述框架的对应沟槽内。
6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡条、所述支撑条和所述掩膜条中的其中之一或全部采用下述材质中的一种制成：镍铁合金、镍钴合金和不锈钢。
7.根据权利要求6所述的掩膜板，其特征在于，所述遮挡条、所述支撑条和所述掩膜条中的其中之一或全部采用因瓦合金制成。
8.一种掩膜板的制作方法，其特征在于，包括：
将支撑条、遮挡条和掩膜条依次焊接到框架的对应沟槽内，其中，所述掩膜条相互拼接，所述遮挡条设置于所述掩膜条的下方，且遮挡在所述掩膜条的相互拼接处，所述支撑条设置于所述遮挡条的下方，且垂直于所述掩膜条和所述遮挡条设置；
将所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，并将所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，通过激光焊接，将支撑条、遮挡条和掩膜条依次焊接到框架的对应沟槽内；并通过激光焊接将所述遮挡条与所述掩膜条在二者重叠区域焊接在一起，将所述支撑条与所述遮挡条在二者重叠区域焊接在一起。
10.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述遮挡条与所述掩膜条之间的焊接点位于所述掩膜条的边缘。
CN201610515906.6A 2016-07-01 2016-07-01 掩膜板及其制作方法 Active CN105951042B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610515906.6A CN105951042B (zh) 2016-07-01 2016-07-01 掩膜板及其制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610515906.6A CN105951042B (zh) 2016-07-01 2016-07-01 掩膜板及其制作方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105951042A CN105951042A (zh) 2016-09-21
CN105951042B true CN105951042B (zh) 2018-06-15

Family

ID=56902244

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610515906.6A Active CN105951042B (zh) 2016-07-01 2016-07-01 掩膜板及其制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105951042B (zh)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108531862B (zh) * 2017-03-03 2020-12-08 上海和辉光电股份有限公司 一种金属掩膜板及其制备方法
CN107120954B (zh) * 2017-05-17 2019-05-07 京东方科技集团股份有限公司 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法
CN107201498B (zh) * 2017-06-30 2019-03-15 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜条的接合方法、接合装置、掩膜版
CN107065431A (zh) * 2017-06-30 2017-08-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板
CN107686964A (zh) * 2017-08-24 2018-02-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板支撑框架和掩膜板
CN107653436B (zh) * 2017-10-31 2023-09-19 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法、蒸镀方法
CN107723659B (zh) * 2017-11-28 2019-11-08 信利（惠州）智能显示有限公司 用于蒸镀的掩膜板及制备方法
CN110359010B (zh) * 2018-03-26 2021-09-03 京东方科技集团股份有限公司 金属掩膜条、金属掩膜板及其修复方法
CN110343999B (zh) * 2018-04-02 2021-10-12 京东方科技集团股份有限公司 掩模装置及其制造方法、蒸镀方法
CN108598281B (zh) * 2018-04-27 2024-03-15 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置
CN109487215B (zh) * 2018-12-25 2023-08-01 福建华佳彩有限公司 一种高精度金属掩膜板及其制造方法
CN109852942B (zh) * 2019-01-09 2024-05-07 杭州比凡科电子科技有限公司 一种防污染片式组合挡板
CN110048007B (zh) * 2019-04-25 2022-03-08 云谷（固安）科技有限公司 掩膜版及其制造方法
CN110541144B (zh) * 2019-09-29 2022-05-17 昆山国显光电有限公司 掩模框架、掩模板以及掩模结构
CN110724928A (zh) * 2019-11-20 2020-01-24 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板
CN111020478B (zh) * 2019-12-18 2022-08-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件及一种蒸镀设备
CN110863176B (zh) * 2019-12-26 2022-02-22 武汉天马微电子有限公司 一种掩膜版及其制作方法、显示面板
CN111235525A (zh) * 2020-01-10 2020-06-05 合肥维信诺科技有限公司 掩膜版及制备方法
CN111188008B (zh) * 2020-02-21 2021-03-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种金属掩膜条、金属掩膜板及其制作方法以及玻璃光罩
CN111500981B (zh) * 2020-06-10 2022-06-24 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN112080720A (zh) * 2020-08-12 2020-12-15 福建华佳彩有限公司 一种支撑条、oled蒸镀掩膜板及其制作方法
CN113481468A (zh) * 2021-06-29 2021-10-08 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版
CN113984890A (zh) * 2021-09-10 2022-01-28 福建华佳彩有限公司 一种掩膜板焊接前的检测方法
CN114054925A (zh) * 2021-11-10 2022-02-18 合肥维信诺科技有限公司 一种掩膜板的制作方法
CN115110029A (zh) * 2022-06-30 2022-09-27 昆山国显光电有限公司 掩膜版及掩膜版的制作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN203159695U (zh) * 2013-01-22 2013-08-28 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用掩模组件
CN103938153A (zh) * 2013-01-22 2014-07-23 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用掩模组件及相应的掩模板安装方法
CN204361134U (zh) * 2014-12-22 2015-05-27 信利（惠州）智能显示有限公司 一种oled蒸镀用掩膜板支撑架
CN104846329A (zh) * 2015-04-28 2015-08-19 信利（惠州）智能显示有限公司 一种金属掩膜板结构及其制作方法
CN105039907A (zh) * 2015-09-22 2015-11-11 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩膜板的固定组件
CN105369195A (zh) * 2015-10-14 2016-03-02 南京高光半导体材料有限公司 一种制备oled器件的掩膜板制备方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN203159695U (zh) * 2013-01-22 2013-08-28 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用掩模组件
CN103938153A (zh) * 2013-01-22 2014-07-23 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用掩模组件及相应的掩模板安装方法
CN204361134U (zh) * 2014-12-22 2015-05-27 信利（惠州）智能显示有限公司 一种oled蒸镀用掩膜板支撑架
CN104846329A (zh) * 2015-04-28 2015-08-19 信利（惠州）智能显示有限公司 一种金属掩膜板结构及其制作方法
CN105039907A (zh) * 2015-09-22 2015-11-11 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩膜板的固定组件
CN105369195A (zh) * 2015-10-14 2016-03-02 南京高光半导体材料有限公司 一种制备oled器件的掩膜板制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN105951042A (zh) 2016-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105951042B (zh) 掩膜板及其制作方法
TWI463022B (zh) 遮罩組件及其製造方法
CN103852968B (zh) 掩模条和使用掩模条制造有机发光二极管显示器的方法
CN106086782B (zh) 一种掩膜版组件及其安装方法、蒸镀装置
US8286579B2 (en) Mask assembly for thin film vapor deposition of flat panel display
US10774415B2 (en) Mask and assembling method thereof
US9604240B2 (en) Mask assembly and method of fabricating the same
US10283713B2 (en) Method of manufacturing display device using deposition mask assembly
KR20090123590A (ko) 마스크 조립체 및 그의 제조 방법
JP2003217850A (ja) 有機ｅｌデバイスの薄膜蒸着用マスクフレーム組立体
CN107435130A (zh) 掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法
CN105586568B (zh) 一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板
EP3594377B1 (en) Mask assembly, deposition apparatus having the same, and method of fabricating display device using the same
CN108441814A (zh) 掩膜装置及其制作方法、蒸镀系统
KR100982021B1 (ko) 분할 마스크 조립체
CN107686964A (zh) 掩膜板支撑框架和掩膜板
CN110965018B (zh) 掩模框架组件及制造其的方法
CN107723658A (zh) 掩膜版框架和蒸镀系统
CN109487215B (zh) 一种高精度金属掩膜板及其制造方法
CN110241382A (zh) 框架一体型掩模的制造方法
KR100719689B1 (ko) 평판 표시장치 제조용 엔드 이펙터
TWI829779B (zh) 框架一體型遮罩及框架一體型遮罩的製造方法
KR102210022B1 (ko) 위치 정확도를 향상시킨 분할 타입의 oled 증착용 메탈 마스크 조립체 및 그 제조 방법
KR100995064B1 (ko) 증착용 마스크 어셈블리 및 이를 사용한 박막 증착 방법
KR102642237B1 (ko) 틈새 스틱과 장변 스틱이 필요없는 샵 마스크 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant