CN107120954B - 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 - Google Patents
干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN107120954B CN107120954B CN201710347983.XA CN201710347983A CN107120954B CN 107120954 B CN107120954 B CN 107120954B CN 201710347983 A CN201710347983 A CN 201710347983A CN 107120954 B CN107120954 B CN 107120954B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- intersection region
- item
- space intersection
- support
- mask strip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/004—Nozzle assemblies; Air knives; Air distributors; Blow boxes
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/06—Controlling, e.g. regulating, parameters of gas supply
- F26B21/12—Velocity of flow; Quantity of flow, e.g. by varying fan speed, by modifying cross flow area
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B25/00—Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
Abstract
本发明公开了一种干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法。干燥系统包括:具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室;多个第一风刀,设置在第一侧壁和第二侧壁上,用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥;和分离装置,用于在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,使得空间相交区域内更好地进行空气流通,从而实现空间相交区域内的清洗液也一并被吹除掉,避免掩膜版上残留清洗液。
Description
技术领域
本文涉及但不限于液晶显示技术,尤指一种干燥系统和一种掩膜版上清洗液的干燥方法。
背景技术
精细金属掩膜模式,是通过蒸镀方式将蒸镀材料按照预定程序蒸镀到(低温多晶硅)背板上,利用高精度金属掩膜版上的图形,蒸镀红绿蓝有机物到规定位置上。
在采用清洗液对掩膜版进行清洗后(掩膜版包括框架、支撑遮挡条和掩膜条,支撑遮挡条为非铁磁性材料,掩膜条为铁磁性材料,掩膜条和支撑遮挡条空间相交而形成空间相交区域,空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条之间的距离较小,积存在空间相交区域处的清洗液在清洗时难以被清洗干净),目前干燥系统内的风刀为每侧设置两个(在两侧对称设置且每个风刀的出风量相同),在干燥的过程中风不能够完全地进入到掩膜条和支撑遮挡条的空间相交区域内,在干燥结束之后,在掩膜版上的掩膜条和支撑遮挡条的空间相交区域内仍然会残留清洗液,清洗液长期积累后就会变质和结晶,最终形成颗粒物,会影响蒸镀产品的品质。
发明内容
为了解决上述技术问题中的至少之一,本文提供了一种干燥系统,在清洗掩膜版时可完全地清洗掉空间相交区域内的清洗液,清洗液在进行清洗后不会在空间相交区域内积存,有效确保了掩膜版在后续应用于蒸镀时的蒸镀品质。
为了达到本文目的,本发明提供了一种干燥系统,所述干燥系统包括:具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室;多个第一风刀,设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上,用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥;和分离装置,用于在所述多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
可选地,所述分离装置包括磁吸附件。
可选地,所述磁吸附件为磁铁或电磁铁。
可选地,所述分离装置包括第二风刀,所述第二风刀对称设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上,且所述第一侧壁上的第二风刀和第二侧壁上的第二风刀的出风量不同。
可选地,所述分离装置包括第二风刀,所述第二风刀错位设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上。
可选地,所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀上下错位设置,且所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀的出风量相同。
可选地,所述多个第一风刀包括上下间隔设置的多组,且任一组第一风刀的出风量均相同,所述分离装置设置在上下相邻的两组第一风刀之间。
本发明还提供了一种掩膜版上清洗液的干燥方法,在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,以使空间相交区域内的清洗液一并干燥。
可选地,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:
控制对称设置的第二风刀以不同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
可选地,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:控制错位设置的第二风刀以相同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
可选地,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:通过磁吸附件对空间相交区域处的掩膜条进行磁吸附,使得空间相交区域处的掩膜条背向支撑遮挡条侧发生弯曲变形而实现空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
与现有技术相比,本发明提供的干燥系统,在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以此来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,使得空间相交区域内更好地进行空气流通,从而实现空间相交区域内的清洗液也一并被吹除掉,避免掩膜版上残留清洗液。
本文的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本文而了解。本文的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本文技术方案的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本申请的实施例一起用于解释本文的技术方案,并不构成对本文技术方案的限制。
图1为本发明中掩膜版的结构示意图;
图2为图1所示的掩膜版的剖视结构示意图;
图3为本发明一个实施例所述的干燥装置的剖视结构示意图;
图4为本发明另一个实施例所述的干燥装置的剖视结构示意图;
图5为本发明再一个实施例所述的干燥装置的剖视结构示意图;
图6为图3至图5中掩膜版的结构示意图。
其中,图1至图6中附图标记与部件名称之间的对应关系为:
1干燥腔室,11第一侧壁,12第二侧壁,2第一风刀,31磁吸附件,32第二风刀,4掩膜版,41掩膜条,42支撑条,43遮挡条,44框架。
具体实施方式
为使本文的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下文中将结合附图对本文的实施例进行详细说明。需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本文,但是,本文还可以采用其他不同于在此描述的方式来实施,因此,本文的保护范围并不受下面公开的具体实施例的限制。
下面结合附图描述本文一些实施例的干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法。
本发明提供的干燥系统,如图3至图5所示,所述干燥系统包括:具有相对的第一侧壁11和第二侧壁12的干燥腔室1;多个第一风刀2,设置在所述第一侧壁11和所述第二侧壁12上,用于对清洗后的掩膜版4进行吹风干燥;和分离装置,用于在所述多个第一风刀2吹风干燥清洗后的掩膜版4时,使空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条的间距(见图2和图6中的a位置处的间距变化)。
本发明提供的干燥系统,在多个第一风刀2吹风干燥清洗后的掩膜版4时,分离装置使空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条相对远离、以此来增大空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条的间距,使得空间相交区域内更好地进行空气流通,从而实现空间相交区域内的清洗液也一并被吹除掉,避免掩膜版4上残留清洗液。
本发明的第一个具体实施例中,如图5所示,所述分离装置包括磁吸附件31,所述支撑遮挡条为非铁磁性材料,所述掩膜条41为铁磁性材料,在清洗后的掩膜版4进行吹风干燥时、掩膜条41朝向所述磁吸附件31侧,这样磁吸附件31磁吸附掩膜条41时,掩膜条41发生局部弯曲变形,在空间相交区域处掩膜条41背向支撑遮挡条弯曲,使得二者的间距增大,确保更多的风能够进入空间相交区域内进行干燥清洗液。
进一步地,所述磁吸附件31为磁铁或电磁铁,所述支撑遮挡条的材质为不锈钢(如304不锈钢),所述掩膜条41的材质为铁镍合金(如低膨胀铁镍合金)。
具体地:通过磁吸附件31对空间相交区域处的掩膜条41进行磁吸附,使得空间相交区域处的掩膜条41背向支撑遮挡条侧发生弯曲变形而实现空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条相对远离、以此来增大空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条的间距,确保更多的风能够进入空间相交区域内进行干燥清洗液。
本发明的第二个具体实施例中,如图3所示,所述分离装置包括第二风刀32,所述第二风刀32对称设置在所述第一侧壁11和所述第二侧壁12上,且所述第一侧壁11上的第二风刀32和第二侧壁12上的第二风刀32的出风量不同,即:控制对称设置的第二风刀32以不同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条相对远离、来实现增大空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条的间距,确保更多的风能够进入空间相交区域内进行干燥清洗液。
其中,掩膜条41的材料拉伸强度小于支撑遮挡条的材料拉伸强度。
本发明的第三个具体实施例中,如图4所示,所述分离装置包括第二风刀32,所述第二风刀32错位设置在所述第一侧壁11和所述第二侧壁12上,即:控制错位设置的第二风刀32以相同或不同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差(第二风刀32错位设置的方式形成)使得空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条相对远离、来实现增大空间相交区域处的掩膜条41和支撑遮挡条的间距,确保更多的风能够进入空间相交区域内进行干燥清洗液。
其中,掩膜条41的材料拉伸强度小于支撑遮挡条的材料拉伸强度。
具体地,所述第一侧壁11上的第二风刀32和所述第二侧壁12上的第二风刀32上下错位设置,所述第一侧壁11上的第二风刀32和所述第二侧壁12上的第二风刀32的出风量相同;或者是:所述第一侧壁11上的第二风刀32和所述第二侧壁12上的第二风刀32左右错位设置,所述第一侧壁11上的第二风刀32和所述第二侧壁12上的第二风刀32的出风量相同等的方式;均可实现本申请的目的,其宗旨未脱离本发明的设计思想,在此不再赘述,均应属于本申请的保护范围内。
本发明的第一个具体实施例、第二个具体实施例和第三个具体实施例中,所述多个第一风刀2包括上下间隔设置的多组(如:两组、三组、四组等,均可实现本申请的目的),且任一组第一风刀2的出风量设置为均相同,所述分离装置设置在上下相邻的两组第一风刀2之间。
多组第一风刀2对掩膜版4进行限位和保护、并保持掩膜版4的形状不发生变形,分离装置使得空间相交区域处仅发生局部分开,掩膜条41和支撑遮挡条分开的区域相对于整个掩膜版4也较小,可避免掩膜版4损坏。
其中,如图1和图2所示,支撑遮挡条包括支撑条42和遮挡条43,掩膜版4还包括框架44。
本发明提供的掩膜版上清洗液的干燥方法,在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,以使空间相交区域内的清洗液一并干燥。
在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,分离装置分离开掩膜条和支撑遮挡条的空间相交区域,使得掩膜条和支撑遮挡条的空间相交区域被打开而进行空气流通,从而实现掩膜条和支撑遮挡条空间相交区域内的清洗液被吹干,避免掩膜版上残留清洗液。
本发明的第一个具体实施例中,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:控制对称设置的第二风刀以不同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,确保更多的风能够进入空间相交区域内进行干燥清洗液(结合图3和图6)。
本发明的第二个具体实施例中,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:控制错位设置的第二风刀以相同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,确保更多的风能够进入空间相交区域内进行干燥清洗液(结合图4和图6)。
本发明的第三个具体实施例中,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:通过磁吸附件对空间相交区域处的掩膜条进行磁吸附,使得空间相交区域处的掩膜条背向支撑遮挡条侧发生弯曲变形而实现空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,确保更多的风能够进入空间相交区域内进行干燥清洗液(结合图5和图6)。
以上三个具体实施例均可实现本发明的目的,即:空间相交区域因更大程度地被打开而使得内部的清洗液被吹除干净,其宗旨均未脱离本发明的设计思想,在此不再赘述,均应属于本申请的保护范围内。
综上所述,本发明提供的干燥系统,在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以此来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,使得空间相交区域内更好地进行空气流通,从而实现空间相交区域内的清洗液也一并被吹除掉,避免掩膜版上残留清洗液。
在本文的描述中,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等均应做广义理解,例如,“连接”可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本文中的具体含义。
在本说明书的描述中,术语“一个实施例”、“一些实施例”、“具体实施例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或特点包含于本文的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实例。而且,描述的具体特征、结构、材料或特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
虽然本文所揭露的实施方式如上,但所述的内容仅为便于理解本文而采用的实施方式,并非用以限定本文。任何本文所属领域内的技术人员,在不脱离本文所揭露的精神和范围的前提下,可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化,但本文的专利保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (11)
1.一种干燥系统,其特征在于,所述干燥系统包括:
具有相对的第一侧壁和第二侧壁的干燥腔室;
多个第一风刀,设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上,用于对清洗后的掩膜版进行吹风干燥;和
分离装置,用于在所述多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
2.根据权利要求1所述的干燥系统,其特征在于,所述分离装置包括磁吸附件。
3.根据权利要求2所述的干燥系统,其特征在于,所述磁吸附件为磁铁。
4.根据权利要求1所述的干燥系统,其特征在于,所述分离装置包括第二风刀,所述第二风刀对称设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上,且所述第一侧壁上的第二风刀和第二侧壁上的第二风刀的出风量不同。
5.根据权利要求1所述的干燥系统,其特征在于,所述分离装置包括第二风刀,所述第二风刀错位设置在所述第一侧壁和所述第二侧壁上。
6.根据权利要求5所述的干燥系统,其特征在于,所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀上下错位设置,且所述第一侧壁上的第二风刀和所述第二侧壁上的第二风刀的出风量相同。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的干燥系统,其特征在于,所述多个第一风刀包括上下间隔设置的多组,且任一组第一风刀的出风量均相同,所述分离装置设置在上下相邻的两组第一风刀之间。
8.一种掩膜版上清洗液的干燥方法,其特征在于,采用如权利要求1至7中任一项所述的干燥系统,在多个第一风刀吹风干燥清洗后的掩膜版时,通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距,以使空间相交区域内的清洗液一并干燥。
9.根据权利要求8所述的掩膜版上清洗液的干燥方法,其特征在于,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:
控制对称设置的第二风刀以不同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
10.根据权利要求8所述的掩膜版上清洗液的干燥方法,其特征在于,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:
控制错位设置的第二风刀以相同的出风量对空间相交区域进行吹风,通过形成的风压差使得空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
11.根据权利要求8所述的掩膜版上清洗液的干燥方法,其特征在于,所述通过分离装置使空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、来增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距的步骤包括:
通过磁吸附件对空间相交区域处的掩膜条进行磁吸附,使得空间相交区域处的掩膜条背向支撑遮挡条侧发生弯曲变形而实现空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条相对远离、以增大空间相交区域处的掩膜条和支撑遮挡条的间距。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710347983.XA CN107120954B (zh) | 2017-05-17 | 2017-05-17 | 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 |
PCT/CN2018/071592 WO2018209981A1 (zh) | 2017-05-17 | 2018-01-05 | 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 |
US16/316,748 US10928130B2 (en) | 2017-05-17 | 2018-01-05 | Drying system and drying method for cleaning solution on mask |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710347983.XA CN107120954B (zh) | 2017-05-17 | 2017-05-17 | 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN107120954A CN107120954A (zh) | 2017-09-01 |
CN107120954B true CN107120954B (zh) | 2019-05-07 |
Family
ID=59727134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201710347983.XA Active CN107120954B (zh) | 2017-05-17 | 2017-05-17 | 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10928130B2 (zh) |
CN (1) | CN107120954B (zh) |
WO (1) | WO2018209981A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107120954B (zh) | 2017-05-17 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 |
CN107990634B (zh) * | 2017-11-27 | 2020-05-05 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 干燥设备 |
CN108364877B (zh) * | 2017-12-29 | 2020-05-29 | 通富微电子股份有限公司 | 回流炉及回流时防止基板变形的方法 |
CN110006226A (zh) * | 2019-04-09 | 2019-07-12 | 北京七星华创集成电路装备有限公司 | 干燥装置 |
CN112762695B (zh) * | 2020-12-02 | 2022-07-15 | 合肥维信诺科技有限公司 | 掩膜版干燥装置及其方法 |
TWI760133B (zh) * | 2021-03-08 | 2022-04-01 | 科毅科技股份有限公司 | 光罩清潔設備及光罩清潔方法 |
CN114713563B (zh) * | 2022-03-01 | 2023-03-07 | 长沙振安机电设备有限公司 | 马达清洁设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5525866B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2014-06-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | マスク部材の洗浄装置 |
CN204612409U (zh) * | 2015-05-14 | 2015-09-02 | 华润双鹤药业股份有限公司 | 安瓿注射液灭菌后的吹干装置 |
CN205528995U (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-31 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种掩膜板组件 |
CN105951042A (zh) * | 2016-07-01 | 2016-09-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板及其制作方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5524363A (en) * | 1995-01-04 | 1996-06-11 | W. R. Grace & Co.-Conn. | In-line processing of a heated and reacting continuous sheet of material |
JP3070511B2 (ja) * | 1997-03-31 | 2000-07-31 | 日本電気株式会社 | 基板乾燥装置 |
WO2005059984A1 (ja) | 2003-12-19 | 2005-06-30 | Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. | 基板付着物除去方法および基板乾燥方法並びにそれら方法を用いた基板付着物除去装置および基板乾燥装置 |
JP4158859B2 (ja) | 2004-02-27 | 2008-10-01 | 日立造船株式会社 | 乾燥機用ユニットおよび乾燥装置 |
JP2006261223A (ja) | 2005-03-15 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | スペーサ付カバーガラスの洗浄方法及びバレル型アッシング装置 |
US8056832B2 (en) | 2008-10-30 | 2011-11-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Jetspray nozzle and method for cleaning photo masks and semiconductor wafers |
CN202494861U (zh) | 2012-03-20 | 2012-10-17 | 深圳市龙图光电有限公司 | 掩膜版的晾干装置 |
CN203170641U (zh) | 2013-03-27 | 2013-09-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板清洁装置 |
CN104438226B (zh) * | 2014-12-02 | 2016-07-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板清洁系统 |
CN107120954B (zh) | 2017-05-17 | 2019-05-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 |
-
2017
- 2017-05-17 CN CN201710347983.XA patent/CN107120954B/zh active Active
-
2018
- 2018-01-05 US US16/316,748 patent/US10928130B2/en active Active
- 2018-01-05 WO PCT/CN2018/071592 patent/WO2018209981A1/zh active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5525866B2 (ja) * | 2010-03-02 | 2014-06-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | マスク部材の洗浄装置 |
CN204612409U (zh) * | 2015-05-14 | 2015-09-02 | 华润双鹤药业股份有限公司 | 安瓿注射液灭菌后的吹干装置 |
CN205528995U (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-31 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种掩膜板组件 |
CN105951042A (zh) * | 2016-07-01 | 2016-09-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板及其制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20190316840A1 (en) | 2019-10-17 |
WO2018209981A1 (zh) | 2018-11-22 |
CN107120954A (zh) | 2017-09-01 |
US10928130B2 (en) | 2021-02-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107120954B (zh) | 干燥系统和掩膜版上清洗液的干燥方法 | |
CN103341405B (zh) | 玻璃基板的清洗方法及实现该方法的装置 | |
CN104076545B (zh) | 制造轻型的薄液晶显示器装置的方法 | |
US20170146842A1 (en) | Curved liquid crystal display module and liquid crystal display device using the same | |
US11531234B2 (en) | Display panel and display device | |
CN101516053A (zh) | 电容式传声器芯片 | |
CN110211971A (zh) | 显示面板及其制备方法、显示装置 | |
CN103361599A (zh) | 金属掩模安装方法 | |
WO2014089862A1 (zh) | 一种液晶面板包装箱及其防水结构 | |
CN102243427A (zh) | 投影屏幕框架 | |
CN105621342A (zh) | 一种mems释放辅助结构及其制备方法 | |
CN102589113A (zh) | 吊顶过滤设备 | |
CN103150968A (zh) | 具有排气除雾结构的显示装置 | |
CN106353929B (zh) | 一种液晶显示面板以及液晶显示装置 | |
CN105063968B (zh) | 洗衣机 | |
CN208156373U (zh) | 背光源胶铁结构、背光源以及显示装置 | |
CN207517655U (zh) | 一种硅片 | |
CN201163820Y (zh) | 电容式传声器芯片 | |
CN210826322U (zh) | 掩膜组件 | |
WO2016034010A1 (en) | Assembly and apparatus for aging rubbing cloth | |
CN104299881B (zh) | 等离子刻蚀设备 | |
CN100481881C (zh) | 一种降低帧内噪声的方法和设备 | |
CN103258476A (zh) | 具静电防护设计的显示模块及其使用的光学膜片组 | |
CN105773832B (zh) | 一种便于快速安装的模方盒固定装置 | |
CN106449426B (zh) | 一种柔性基板及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |