CN205688000U - 一种掩膜板 - Google Patents

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Abstract

本实用新型提供一种掩膜板，包括叠层设置的第一掩膜板和第二掩膜板，所述第一掩膜板上设置有第一开口，所述第一开口与目标显示面板相对应；所述第二掩膜板上设置有第二开口区域，所述第二开口区域包括多个第二开口，且第二开口区域覆盖所述至少一个第一开口；由于制造第一掩膜板只需保证第一开口的形状和大小与目标显示面板的大小和形状相同即可，无需进一步制造用于形成像素图形的开口，因此，相对于现有的掩膜板来说，制造工艺简单且制造成本低。

Description

一种掩膜板
技术领域
本发明涉及OLED真空蒸镀技术领域，具体涉及一种掩膜板。
背景技术
在OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)技术中，真空蒸镀工艺是有机发光二极管制程的主要工艺，掩膜板是真空蒸镀工艺的关键组件。掩膜板内阵列设置有多个开口，用于使蒸镀材料在背板玻璃的显示面板上形成像素图形。多个开口形成多个开口区域，各开口区域的形状和大小与背板玻璃上显示面板的形状和大小相同，开口区域的分布与背板玻璃上显示面板的分布相同。随着显示行业的快速发展和人们需求的多样化，可穿戴设备领域等需求的显示面板的形状已不仅仅是传统的矩形，而是更具有设计感的圆形或非规则形状。
现有的掩膜板存在以下缺陷：
现有的掩膜板为一层的结构，掩膜板上的开口区域与目标显示面板的形状和大小相对应，因此，若要制备不同形状与大小的显示面板，就需要采用不同的掩膜板，相应的，需要制造不同形状和大小的掩膜板，而制造掩膜板内用于形成像素图形的开口的工艺较为复杂，制造精度要求较高，导致掩膜板制造成本较高。
因此，亟需一种掩膜板以解决上述技术问题。
发明内容
本实用新型针对现有技术中存在的上述不足，提供一种掩膜板，用以至少部分解决掩膜板制造成本高的问题。
本实用新型提供一种掩膜板，包括叠层设置的第一掩膜板和第二掩膜板；
所述第一掩膜板设置有第一开口，所述第一开口与目标显示面板相对应；
所述第二掩膜板设置有第二开口区域，所述第二开口区域包括多个第二开口，且第二开口区域覆盖至少一个所述第一开口。
优选的，所述第一开口的面积大于所述目标显示面板的面积。
优选的，所述第一开口在背板玻璃上的投影的边缘与背板玻璃上目标显示面板的边缘之间的间距为75-150um。
优选的，所述第二开口区域的形状为矩形。
优选的，所述第二开口区域为多个，各第二开口区域的形状相同。
优选的，所述第二开口区域的大小相同。
优选的，所述第二掩膜板覆盖于第一掩膜板上。
优选的，所述第一掩膜板与第二掩膜板的大小和形状相同。
优选的，所述第一掩膜板为一个，所述第二掩膜板由多个形状和大小相同的部分拼接形成。
进一步的，所述掩膜板还包括掩膜板边框，所述第一掩膜板与掩膜板边框通过第一焊点焊接，第二掩膜板的各部分与第一掩膜板通过第二焊点焊接。
优选的，所述第一焊点的位置与第二焊点的位置之间的间距大于2mm。
优选的，所述第一焊点位于所述第一掩膜板的周边位置，所述第二焊点位于所述第二掩膜板的各部分的第一侧和第二侧，所述第一侧与第二侧为第二掩膜板的各部分的非相邻侧。
优选的，所述第一掩膜板与第二掩膜板采用金属因瓦合金材料制成。
优选的，所述第一掩膜板的厚度为100-150um，所述第二掩膜板的厚度为20-40um。
本实用新型具有以下有益效果：
本实用新型提供的掩膜板为两层结构，包括叠层设置的第一掩膜板和第二掩膜板，第一掩膜板上设置有与目标显示面板的形状和大小相同的第一开口。第二掩膜板上设置有第二开口区域，第二开口区域内阵列设置有多个用于形成像素图形的第二开口，第二开口区域覆盖第一开口。若要制备不同形状与大小的显示面板，只需将第一掩膜板的第一开口设置为与目标显示面板的大小和形状相同，并与原有的第二掩膜板相配合，即可形成新的掩膜板。由于制造第一掩膜板只需保证第一开口的形状和大小与目标显示面板的大小和形状相同即可，无需进一步制造用于形成像素图形的开口，因此，相对于现有的掩膜板来说，制造工艺简单且制造成本低。
附图说明
图1a为本实用新型实施例提供的背板玻璃的结构示意图；
图1b为本实用新型实施例提供的掩膜板的结构示意图之一；
图2为本实用新型实施例提供的第一开口与显示面板的投影示意图；
图3为本实用新型实施例提供的掩膜板的结构示意图之二；
图4为本实用新型实施例提供的掩膜板的结构示意图之三。
附图标记：
1、第一掩膜板 2、第二掩膜板 3、背板玻璃
4、掩膜板边框 11、第一开口 12、遮挡区域 13、第一焊点
21、第二开口区域 22、条状结构 23、第二焊点 31、显示面板
211、第二开口 231、第一侧 232、第二侧
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
如图1a所示,背板玻璃3包括多个目标显示面板31，在本实用新型实施例中，以显示面板31的形状是圆形为例进行说明。需要说明的是，背板玻璃3也可以包括一个目标显示面板31。
如图1b所示，本实用新型实施例提供一种掩膜板，包括：第一掩膜板1和第二掩膜板2，第一掩膜板1与第二掩膜板2叠层设置，第一掩膜板1上设置有第一开口11，第一掩膜板1上非第一开口11的区域为遮挡区域12。第一开口11的形状和大小与背板玻璃3上显示面板31的形状和大小相同，即第一开口11与目标显示面板31相对应。第二掩膜板2上设置有第二开口区域21，且第二开口区域21覆盖至少一个第一开口11。第二开口区域21包括多个第二开口211，各第二开口211阵列设置并与各像素相对应，用于形成像素图形。
本实用新型实施例提供的掩膜板为两层结构，包括叠层设置的第一掩膜板1和第二掩膜板2，第一掩膜板1上设置有与目标显示面板31的形状和大小相同的第一开口11。第二掩膜板2上设置有第二开口区域21，第二开口区域21内阵列设置有多个用于形成像素图形的第二开口211，第二开口区域21覆盖第一开口11。若要制备不同形状与大小的显示面板31，只需将第一掩膜板1的第一开口11设置为与目标显示面板31的大小和形状相同，并与原有的第二掩膜板2相配合，即可形成新的掩膜板。由于制造第一掩膜板1只需保证第一开口11的形状和大小与目标显示面板31的大小和形状相同即可，无需进一步制造用于形成像素图形的开口，因此，相对于现有的掩膜板来说，制造工艺简单且制造成本低。
如图1b所示，第一开口11的面积略大于显示面板31的面积。这样在掩膜板张网拉伸过程中，即使第一开口11的形状和大小发生变化，也不会出现蒸镀材料无法蒸镀到显示面板31上的问题。
优选的，第一开口11在背板玻璃3上的投影的边缘与背板玻璃3上相应的显示面板31的边缘之间的间距为75-150um。在本实施例中，以显示面板31与第一开口11的形状为圆形为例进行说明。如图2所示，第一开口11在背板玻璃3上的投影的边缘与背板玻璃3上相应的显示面板31的边缘之间的间距h1为75-150um，即第一开口11的直径D2比显示面板31的直径D1大150-300um。
第二开口区域21的形状可以为圆形、矩形、多边形等，优选的，第二开口区域21的形状为矩形。在掩膜板张网拉伸过程中，矩形形状的第二开口区域21相比于非矩形形状的第二开口区域21受力应变更均匀，因此，可以保证第二掩膜板2不会产生褶皱，避免蒸镀工艺后显示面板出现混色不良的问题。
如图1b所示，当第一掩膜板1设置有多个第一开口11，且第二掩膜板2设置有多个第二开口区域21时，第二掩膜板2上的各第二开口区域21的形状可以不受显示面板31的形状、排列、分布以及边框电路的限制。只要保证各第二开口区域21的形状相同，在掩膜板张网拉伸过程中，各第二口区域21之间受力应变均匀，第二掩膜板2不会产生褶皱，相应的，各第二开口区域21内的各第二开口211产生的形变均相同，通过第二开口211形成的像素图形大小和形状一致，从而可以解决蒸镀工艺后显示面板出现混色不良的问题。
优选的，各第二开口区域21的大小也相同，这样在掩膜板张网拉伸过程中，各形状与大小均相同的第二开口区域21之间受力应变更为均匀。
如图1b所示，第二掩膜板2覆盖于第一掩膜板1上,蒸镀方向是从第二掩膜板2向第一掩膜板1蒸镀。第一掩膜板1与第二掩膜板2之间存在间距，蒸镀材料会在第一掩膜板1与第二掩膜板2之间扩散。蒸镀材料先经过第二掩膜板2上的第二开口区域21内的第二开口211，扩散后经过第一掩膜板1上的第一开口11。由于第一掩膜板1在第二掩膜板2的下方，第一掩膜板1上的遮挡区域12对蒸镀材料起到遮挡作用，因此，蒸镀材料不会蒸镀到显示面板31以外的区域。
优选的，第一掩膜板1与第二掩膜板2的大小和形状相同。
第二开口区域21可以覆盖一个或多个第一开口11，例如，可以覆盖两个第一开口11，也可以覆盖四个第一开口11。在本实施例中，如图1b所示，第二开口区域21覆盖四个第一开口11。
如图3所示，第一掩膜板1为一个，第二掩膜板2可以由多个形状和大小相同的部分拼接形成。在本实用新型的实施例中，第二掩膜板2的各部分呈条状，各条状部分22拼接形成的第二掩膜板2的大小和形状与玻璃背板的大小和形状相同，本实用新型实施例以第二掩膜板2由四个条状部分22构成为例进行说明。在掩膜板张网拉伸过程中，各条状部分22可以平均分担第二掩膜板2在张网过程所受的拉力，使各条状部分22之间应变更为均匀，进一步保证了蒸镀工艺后显示面板不会出现混色不良。
需要说明的是，第一掩膜板1上各第一开口11的边角位置处设置有第一对位孔(图中未绘示)，在第二掩膜板2上各第二开口区域21内，与各第一开口21的边角位置相对应的位置处设置有第二对位孔(图中未绘示)，通过第一对位孔与第二对位孔相互配合对位，能够将第一掩膜板1和第二掩膜板2正确对位。
如图4所示，本实用新型提供的掩膜板还包括掩膜板边框4，第一掩膜板1与掩膜板边框4通过第一焊点13焊接，第二掩膜板2的各条形部分22与第一掩膜板1通过第二焊点23焊接。这样，即使第一掩膜板1与掩膜板边框4焊接错误，在进行修复重新焊接时，可以不用修复各条状结构22的焊接位置，从而大幅提高修复效率。
优选的，如图4所示，第一焊点13的位置与第二焊点23的位置之间的间距h2大于2mm，以方便焊接，避免焊接位置错误。
第一焊点13位于第一掩膜板1的周边位置，第二焊点23位于第二掩膜板2的各条状部分22的第一侧231与第二侧232。所述第一侧231与第二侧232是指第二掩膜板2的各条状部分22的非相邻侧。
优选的，第一掩膜板1与第二掩膜板2可以采用金属因瓦合金材料制成。
优选的，第一掩膜板1的厚度可以为100-150um，第二掩膜板2的厚度可以为20-40um。
为了清楚说明本实用新型的技术方案，以下结合图4，对本实用新型提供的掩膜板张网拉伸过程进行详细说明。
首先利用张网机(图中未绘示)对第一掩膜板1进行张网拉伸，通过第一对位孔确定第一掩膜板1的位置后，将第一掩膜板1与掩膜板边框4通过第一焊点13焊接，其中，第一掩膜板的下垂量小于150um。然后对第二掩膜板2的各条状部分22进行张网拉伸，通过第二对位孔确定各条状结构22的位置后，将第二掩膜板2的各条状部分22与第一掩膜板1通过第二焊点23焊接，从而完成整个掩膜板的组装。
圆形形状的显示面板的生产制作对于掩膜板的要求较高，本实用新型提供的掩膜板与背板玻璃完全对应，第一掩膜板与第二掩膜板组合使用，能够减少显示面板的周边电路和蒸镀工艺对掩膜板在设计上的限制，从而使掩膜板按照最优设计进行制作。利用本实用新型的掩膜板不但可以生产圆形等其它非传统矩形形状的显示面板，还可以减少掩膜板引起的不良从而提高产品良率。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。

Claims (14)

1.一种掩膜板，其特征在于，包括叠层设置的第一掩膜板和第二掩膜板；
所述第一掩膜板设置有第一开口，所述第一开口与目标显示面板相对应；
所述第二掩膜板设置有第二开口区域，所述第二开口区域包括多个第二开口，且第二开口区域覆盖至少一个所述第一开口。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于,所述第一开口的面积大于所述目标显示面板的面积。
3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一开口在背板玻璃上的投影的边缘与背板玻璃上目标显示面板的边缘之间的间距为75-150um。
4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二开口区域的形状为矩形。
5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二开口区域为多个，各第二开口区域的形状相同。
6.根据权利要求5所述的掩膜板，其特征在于，所述第二开口区域的大小相同。
7.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二掩膜板覆盖于第一掩膜板上。
8.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板与第二掩膜板的大小和形状相同。
9.根据权利要求8所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板为一个，所述第二掩膜板由多个形状和大小相同的部分拼接形成。
10.根据权利要求9所述的掩膜板，其特征在于，还包括掩膜板边框，所述第一掩膜板与掩膜板边框通过第一焊点焊接，第二掩膜板的各部分与第一掩膜板通过第二焊点焊接。
11.根据权利要求10所述的掩膜板，其特征在于，所述第一焊点的位置与第二焊点的位置之间的间距大于2mm。
12.根据权利要求10所述的掩膜板，其特征在于，所述第一焊点位于所述第一掩膜板的周边位置，所述第二焊点位于所述第二掩膜板的各部分的第一侧和第二侧，所述第一侧与第二侧为第二掩膜板的各部分的非相邻侧。
13.根据权利要求1-12任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板与第二掩膜板采用金属因瓦合金材料制成。
14.根据权利要求1-12任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板的厚度为100-150um，所述第二掩膜板的厚度为20-40um。
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US17/004,382 US11396693B2 (en) 2016-06-29 2020-08-27 Mask plate and method for manufacturing the same

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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018000949A1 (zh) * 2016-06-29 2018-01-04 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制造方法
CN107653435A (zh) * 2017-10-25 2018-02-02 信利（惠州）智能显示有限公司 掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板
CN107740042A (zh) * 2017-11-30 2018-02-27 信利（惠州）智能显示有限公司 掩膜板
CN108281575A (zh) * 2018-01-26 2018-07-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN108461379A (zh) * 2017-02-21 2018-08-28 上海和辉光电有限公司 掩模装置及显示面板的制作方法
CN108611595A (zh) * 2018-05-09 2018-10-02 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模板框架及其使用方法和掩模装置
CN108611596A (zh) * 2018-05-14 2018-10-02 昆山国显光电有限公司 掩膜板
CN109371361A (zh) * 2018-12-15 2019-02-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板组件和显示面板及其制作方法
CN109722624A (zh) * 2017-10-31 2019-05-07 昆山国显光电有限公司 掩模组件
WO2019114081A1 (zh) * 2017-12-15 2019-06-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 金属掩膜板
CN111769214A (zh) * 2020-06-22 2020-10-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板及其制作方法
CN113088877A (zh) * 2021-04-08 2021-07-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版框架重复使用的方法、掩膜版框架和掩膜版

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN206706184U (zh) * 2017-05-12 2017-12-05 京东方科技集团股份有限公司 掩模板以及掩模片
CN107523788B (zh) * 2017-08-31 2023-12-12 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模板及其制作方法
CN108004521A (zh) * 2017-11-27 2018-05-08 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜版及薄膜封装方法
CN109778116B (zh) * 2019-03-28 2021-03-02 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版及其制作方法、掩膜版组件
WO2021087732A1 (zh) * 2019-11-05 2021-05-14 京东方科技集团股份有限公司 掩模装置、掩模板及框架
JP2021175824A (ja) * 2020-03-13 2021-11-04 大日本印刷株式会社 有機デバイスの製造装置の蒸着室の評価方法、評価方法で用いられる標準マスク装置及び標準基板、標準マスク装置の製造方法、評価方法で評価された蒸着室を備える有機デバイスの製造装置、評価方法で評価された蒸着室において形成された蒸着層を備える有機デバイス、並びに有機デバイスの製造装置の蒸着室のメンテナンス方法
CN111575648B (zh) * 2020-06-23 2022-07-15 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板组件及其制造方法
KR20220030437A (ko) 2020-08-31 2022-03-11 삼성디스플레이 주식회사 마스크, 이의 제조 방법, 및 표시 패널 제조 방법
KR20220055538A (ko) * 2020-10-26 2022-05-04 삼성디스플레이 주식회사 마스크 어셈블리 및 마스크 어셈블리의 제작 방법
CN115667572B (zh) * 2021-01-22 2024-05-17 京东方科技集团股份有限公司 遮挡掩膜版、掩膜版组件及蒸镀装置
KR20220113588A (ko) * 2021-02-05 2022-08-16 삼성디스플레이 주식회사 마스크 및 이의 제조 방법

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6475287B1 (en) * 2001-06-27 2002-11-05 Eastman Kodak Company Alignment device which facilitates deposition of organic material through a deposition mask
DE10132833A1 (de) 2001-07-06 2003-01-16 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zur Überwachung eines Drucksensors
CA2426641C (en) * 2001-08-24 2010-10-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Multi-face forming mask device for vacuum deposition
KR100534580B1 (ko) * 2003-03-27 2005-12-07 삼성에스디아이 주식회사 표시장치용 증착 마스크 및 그의 제조방법
KR100708654B1 (ko) * 2004-11-18 2007-04-18 삼성에스디아이 주식회사 마스크 조립체 및 이를 이용한 마스크 프레임 조립체
JP4830962B2 (ja) * 2006-10-23 2011-12-07 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、カップ体の着脱方法及び記憶媒体
KR101202346B1 (ko) * 2009-04-16 2012-11-16 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR101135544B1 (ko) * 2009-09-22 2012-04-17 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR20150106504A (ko) * 2014-03-11 2015-09-22 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 어셈블리 및 이를 이용한 디스플레이 장치 제조방법
CN205688000U (zh) * 2016-06-29 2016-11-16 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 一种掩膜板

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11396693B2 (en) 2016-06-29 2022-07-26 Ordos Yuansheng Optoelectronics Co., Ltd. Mask plate and method for manufacturing the same
US10787729B2 (en) 2016-06-29 2020-09-29 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask plate and method for manufacturing the same
WO2018000949A1 (zh) * 2016-06-29 2018-01-04 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制造方法
CN108461379A (zh) * 2017-02-21 2018-08-28 上海和辉光电有限公司 掩模装置及显示面板的制作方法
WO2019080871A1 (zh) * 2017-10-25 2019-05-02 信利（惠州）智能显示有限公司 掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板
CN107653435A (zh) * 2017-10-25 2018-02-02 信利（惠州）智能显示有限公司 掩膜装置及其掩膜组件、掩膜板
CN109722624B (zh) * 2017-10-31 2021-03-02 昆山国显光电有限公司 掩模组件
CN109722624A (zh) * 2017-10-31 2019-05-07 昆山国显光电有限公司 掩模组件
CN107740042A (zh) * 2017-11-30 2018-02-27 信利（惠州）智能显示有限公司 掩膜板
CN107740042B (zh) * 2017-11-30 2021-04-06 信利（惠州）智能显示有限公司 掩膜板
WO2019114081A1 (zh) * 2017-12-15 2019-06-20 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 金属掩膜板
CN108281575A (zh) * 2018-01-26 2018-07-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板及其制作方法
CN108611595A (zh) * 2018-05-09 2018-10-02 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模板框架及其使用方法和掩模装置
CN108611595B (zh) * 2018-05-09 2021-03-16 京东方科技集团股份有限公司 一种掩模板框架及其使用方法和掩模装置
CN108611596A (zh) * 2018-05-14 2018-10-02 昆山国显光电有限公司 掩膜板
CN109371361A (zh) * 2018-12-15 2019-02-22 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板组件和显示面板及其制作方法
CN111769214A (zh) * 2020-06-22 2020-10-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板及其制作方法
CN111769214B (zh) * 2020-06-22 2022-10-04 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩膜板及其制作方法
CN113088877A (zh) * 2021-04-08 2021-07-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版框架重复使用的方法、掩膜版框架和掩膜版

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