CN108611596A - 掩膜板 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种掩膜板，掩模板包括：掩膜板主体；设置于掩膜板主体上的至少一子掩膜板，子掩膜板包括蒸镀区及第一遮挡区；其中，在子掩膜板的厚度方向上，蒸镀区贯穿开设有多个蒸镀孔，蒸镀孔的深度与掩膜板主体的厚度相等，第一遮挡区贯穿开设有至少一个变形孔，变形孔的深度与掩膜板主体的厚度相等，变形孔在掩膜板的张网方向上的尺寸大于蒸镀孔在掩膜板的张网方向上的尺寸，第二遮挡区开设有至少一个过渡槽，过渡槽的深度小于掩膜板主体的厚度。上述掩膜板，第一遮挡区在掩膜板的张网方向上的抗拉强度小于弱于蒸镀区在张网方向上的抗拉强度，有效减少了蒸镀区的中间区域在张力作用下的变形量。

Description

掩膜板

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种掩膜板。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)又称为有机电激光显示或有机发光半导体，具有驱动电压低、主动发光、视角宽、效率高、响应速度快、易实现全彩色大面积壁挂式显示和柔性显示的许多特点，因此逐渐取代液晶显示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)显示而广泛应用于手机、电脑、电视等显示终端。

在OLED制造技术中，真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件，该掩膜板用于控制有机材料沉积在基板上的位置，从而在基板上形成不同形状的有机图案。掩膜板主要包括通用金属掩膜板(Common Metal Mask，CMM)及精密金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)，其中，通用金属掩膜板用于蒸镀共通层，精密金属掩膜板用于蒸镀发光层。

发明人发现，采用现有技术中的掩膜板张网时，异形区容易出现褶皱，导致后续显示屏像素蒸镀位置精度降低。

发明内容

基于此，本发明提供了一种掩膜板，解决了掩膜板张网时出现褶皱的问题，提高了后续显示屏像素蒸镀位置的精度。

为实现以上目的，本发明提供了一种掩膜板。

所述掩模板包括：

掩膜板主体；

设置于所述掩膜板主体上的至少一子掩膜板，所述子掩膜板包括蒸镀区及第一遮挡区；

其中所述蒸镀区贯穿开设有多个蒸镀孔，所述蒸镀孔的深度与所述掩膜板主体的厚度相等；所述第一遮挡区贯穿开设有至少一个变形孔，所述变形孔的深度与所述掩膜板主体的厚度相等，所述变形孔在所述掩膜板的张网方向上的尺寸大于所述蒸镀孔在所述掩膜板的张网方向上的尺寸。

在其中一个实施例中，所述子掩膜板还包括第二遮挡区，所述第一遮挡区位于所述第二遮挡区与所述蒸镀区之间，所述第二遮挡区开设有至少一个过渡槽，所述过渡槽的深度小于所述掩膜板主体的厚度。

在其中一个实施例中，所述第二遮挡区在所述掩模板张网方向上的尺寸为所述第一遮挡区在所述掩模板张网方向上的尺寸的1/3-2/3。

在其中一个实施例中，所述掩膜板主体具有蒸镀面与玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置，所述蒸镀孔与所述变形孔贯穿所述蒸镀面与所述玻璃面，所述过渡槽开设于所述蒸镀面。

在其中一个实施例中，所述过渡槽为一个，所述过渡槽的底壁为所述第二遮挡区的蒸镀面。

在其中一个实施例中，所述过渡槽为多个，且每相邻两个所述过渡槽在所述蒸镀面上间隔设置。

在其中一个实施例中，所述变形孔沿所述掩模板的张网设置，或

多个所述变形孔沿所述掩膜板的张网方向间隔设置。

在其中一个实施例中，间隔板设置于相邻两个所述变形孔之间，多个所述变形孔沿垂直于所述掩模板的张网方向的方向上通过所述间隔板间隔设置。

在其中一个实施例中，所述蒸镀区包括沿所述掩膜板的张网方向间隔排列的多组蒸镀孔，相对所述第一遮挡区距离最近的一组所述蒸镀孔中，所述间隔板在张网方向上的延伸线位于相邻所述两个蒸镀孔之间的间隙内。

在其中一个实施例中，相邻两个所述变形孔之间的距离为相邻两个所述蒸镀孔之间的距离的1/3-2/5。

附图说明

图1为一实施方式的掩膜主体的示意图；

图2为图1所示的掩膜板的A区域的第一遮挡区与第二遮挡区的示意图；

图3为图2所示的掩膜板的B-B向的剖视示意图；

图4为图2所示的第一遮挡区与第二遮挡区的局部放大图；

图5为图1所示的掩膜板的A区域的第一遮挡区与蒸镀区的示意图；

图6为另一实施例的图1所示的掩膜板的A区域的第一遮挡区与蒸镀区的示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

正如背景技术中所述，采用现有技术中的掩膜板，会出现张网时褶皱的问题，发明人研究发现，出现这种问题的根本原因在于，开槽屏体在制作过程中需要在相应位置进行开口，即在掩膜板上存在遮挡部(即没有设置蒸镀孔的区域)，由于遮挡部与蒸镀区的结构存在较大区别，因此在张网过程中，掩膜板的中间区域会出现外扩现象而导致像素位置精度(pixel position accuracy，PPA)不合格。同时，遮挡部的变形不协调，也会造成遮挡部的褶皱增大，从而导致利用该掩膜板蒸镀而成的产品混色不良。

参阅图1、图2及图5，基于以上原因，本发明实施例提供一种掩膜板100，包括掩膜板主体20及设置于掩膜板主体20上的至少一子掩膜板40，子掩膜板40包括蒸镀区42及第一遮挡区44。

如图1、图3及图5所示，其中，在掩膜板主体20的厚度方向上，蒸镀区42贯穿开设有多个蒸镀孔422，蒸镀孔422的深度与掩膜板主体20的厚度相等。在掩膜板主体20的厚度方向上，第一遮挡区44贯穿开设有至少一个变形孔442，变形孔442的深度与掩膜板主体20的厚度相等，变形孔442在掩膜板100的张网方向上的尺寸大于蒸镀孔422在掩膜板100的张网方向上的尺寸。

其中，张网方向为在掩膜板100(即图1中的水平方向)上施加的拉力方向，掩膜板100在上述拉力的作用下固定在掩膜框架上。

上述掩膜板100，由于在第一遮挡区44贯穿开设有变形孔442，且变形孔442在掩膜板100的张网方向上的尺寸大于蒸镀孔422在掩膜板100的张网方向上的尺寸，因此第一遮挡区44在掩膜板100的张网方向上的抗拉强度小于蒸镀区42在张网方向上的抗拉强度，因此第一遮挡区44在张力作用下的拉伸变形量大于蒸镀区42在张力作用下的变形量而被优先拉伸，因此有效减少了蒸镀区42的中间区域在张力作用下的变形量。

进一步地，如图1、图2及图3所示，子掩膜板40还包括第二遮挡区46，第一遮挡区44位于第二遮挡区46与蒸镀区42之间。在掩膜板主体20的厚度方向上，第二遮挡区46开设有至少一个过渡槽462，过渡槽462的深度h小于掩膜板主体20的厚度H。因此，在第二遮挡区46开设的过渡槽462在掩膜板主体20的厚度方向上不会贯穿掩膜板主体20，因此该第二遮挡区46的强度大于蒸镀区42，在起到过渡作用的同时对第一遮挡区44起到支撑作用，从而减轻第一遮挡区44与第二遮挡区46的褶皱。

如图1所示，在本实施方式中，掩膜板主体20的形状大致为矩形，包括两个相对设置的长边及两个相对设置的短边。在张网过程中，拉力方向与长边的延伸方向相同并与短边的延伸方向垂直，拉力施加于该掩膜板主体20的长度方向上的两端的短边上，因此掩膜板100的张网方向与掩膜板主体20的长度方向相同。而掩模板主体20的厚度方向则同时垂直于掩模板主体20的长边与短边的延伸方向，即为图3中的竖直方向。子掩膜板40的形状也大致为矩形，至少两个子掩膜板40沿掩膜板主体20的长度方向依次间隔排列，且子掩膜板40的长度方向与掩膜板主体20的长度方向相同。

进一步地，如图1及图2所示，蒸镀区42的长度方向与掩膜板主体20的长度方向相同，蒸镀区42包括第一蒸镀区422及连接于第一蒸镀区422一侧的两个第二蒸镀区424。其中，第一蒸镀区422大致呈矩形，包括两个相对长边与两个相对的短边，且第一蒸镀区422的长边的延伸方向与掩模板主体20的长边的延伸方向相同，第一蒸镀区422的短边的延伸方向与掩模板主体20的短边的延伸方向相同。两个第二蒸镀区424间隔位于第一蒸镀区422其中一短边外侧，且两个第二蒸镀区424分别位于该短边延伸方向上的两端。第一遮挡区44与第二遮挡区46位于两个第二蒸镀区424之间，且第一遮挡区44位于第一蒸镀区422一侧，第二遮挡区46位于第一遮挡区44远离第一蒸镀区422一侧并沿第一蒸镀区422的短边方向延伸呈长条状。如此，第一遮挡区44与第二遮挡区46可在蒸镀过程中阻止蒸镀材料沉积在对应区域的被蒸镀屏体上而形成异形的蒸镀图案，进而便于异形屏体的制造。可以理解，蒸镀区42的形状不限于此，可根据需要设置。

可以理解，在其它实施方式中，掩膜板主体20的形状不受限定，如可以为规则的长方体状或圆形，在其他实施例中，也可以选用其他不规则的形状，如掩膜板主体20其中相对的两条边为直线，另外相对的两条边为弧形的异形。子掩膜板40的形状也不受限定。

如图1-图3所示，进一步地，第二遮挡区46在掩膜板100的张网方向上的尺寸为第一遮挡区44在掩膜板100的张网方向上的尺寸的1/3-2/3，因此第一遮挡区44与第二遮挡区46在掩膜板100的张网方向上具有合适的长度，因此变形孔442可产生足够的变形量，同时第二遮挡区46也可起到良好的支撑作用。而当第二遮挡区46在掩膜板100的张网方向上的尺寸与第一遮挡区44在掩膜板100的张网方向上的尺寸的比值小于1/3时，第一遮挡区44的尺寸过大而第二遮挡区46的尺寸过小，因此第二遮挡区46无法起到良好的支撑作用。当第二遮挡区46在掩膜板100的张网方向上的尺寸与第一遮挡区44在掩膜板100的张网方向上的尺寸的比值大于2/3时，第一遮挡区44的尺寸过小，因此变形孔442的尺寸过小而无法产生足够的变形量，从而难以消除蒸镀区42的较大变形。

进一步地，掩膜板100还包括掩膜板框架(图未示)，一个掩膜板主体20固定连接于掩膜板框架，或者多个掩膜板主体20并排排列固定连接于掩膜板框架。掩膜板100可以为通用金属掩膜板或精密金属掩膜板。

掩膜板主体20具有蒸镀面与玻璃面，蒸镀面与玻璃面分别位于遮挡区相背离的两侧，蒸镀面面向蒸镀源设置，玻璃面背向蒸镀源设置。蒸镀孔422与变形孔442贯穿蒸镀面与玻璃面，过渡槽462开设于蒸镀面。

进一步地，如图3所示，过渡槽462的数量为一个，该过渡槽462采用整面半刻的方式开设于第二遮挡区46，过渡槽462的底壁朝向蒸镀源而充当第二遮挡区46的蒸镀面可以理解，在其它实施方式中，过渡槽462也可仅为一个，设于第二遮挡区46的部分区域，过渡槽462也可为至少两个每相邻两个过渡槽462在蒸镀面上间隔设置，相比于过渡槽462采用整面半刻的方式开设于第二遮挡区46，开设有多个过渡槽462的第二遮挡区46的局部厚度更大，因此具有更高的强度以支撑第一遮挡区44。可以理解，过渡槽462的横截面的形状不限，可为多边形(例如长方形、五边形、六边形等)或圆形、椭圆形等形状。

变形孔442沿掩膜板100的张网方向设置而形成长条形通孔，或者多个变形孔442沿掩膜板100的张网方向间隔设置而在张网方向上形成多个长条形通孔，因此设有该变形孔442的第一遮挡区44在张网方向上的抗拉强度小于蒸镀区42在张网方向上的抗拉强度，从而在张力作用下被优先拉伸。

进一步地，间隔板444设置于相邻两个变形孔442之间，多个变形孔442沿垂直于掩膜板100的张网方向的方向上通过间隔板444间隔设置，从而使整个第一遮挡区44在垂直于掩膜板100的张网方向的方向上被均匀拉伸，进一步提高了消除蒸镀区42的中间区域的变形量的效果。

如图4所示，具体在本实施方式中，蒸镀区42包括沿掩膜板100的张网方向间隔排列的多组蒸镀孔422，相对第一遮挡区44距离最近的一组蒸镀孔422中，相邻两个变形孔442之间的间隔板444在张网方向上的延伸线位于相邻两个蒸镀孔422之间的间隙内。因此，当相对第一遮挡区44距离最近的一组蒸镀孔422受到拉力作用时，与该组中各个蒸镀孔422在拉力方向上对应的变形孔422由于更易发生变形，因此在张力作用下相对蒸镀孔422被优先拉伸，从而减少了蒸镀孔422的变形量。可以理解，如图5及图6所示，相邻两组蒸镀孔422可在掩膜板100的张网方向上相互对齐或交错。如图5所示，在一实施例中，相邻两组蒸镀孔422在掩膜板100的张网方向上交错设置，其中一组的蒸镀孔422中的任一蒸镀孔在张网方向上的延伸线位于另一组的相邻两个蒸镀孔422之间的间隙内。具体地，图中有三组蒸镀孔422，每组蒸镀孔422沿竖直方向间隔设置，中间一组的任一蒸镀孔422在张网方向上的延伸线分别对应于左右两组蒸镀孔422之间的间隙。如图6所示，在另一实施例中，蒸镀孔422可为阵列排列，相邻两组蒸镀孔422在掩膜板100的张网方向上一一对齐。具体地，图中有两组蒸镀孔422，每组蒸镀孔422沿竖直方向间隔设置，且两组中的蒸镀孔422在水平方向上一一对齐。

进一步地，相邻两个变形孔442之间的距离为相对第一遮挡区44距离最近的一组蒸镀孔422中的相邻两个蒸镀孔422之间的距离的1/3-2/5，从而在具有一定变形量的同时具有足够的强度，从而具有更好的防止蒸镀区42变形的效果。当相邻变形孔442的距离与相对第一遮挡区44距离最近的一组蒸镀孔422中的相邻两个蒸镀孔422的距离的比值小于1/3时，变形孔422自身在垂直于掩膜板100的张网方向的方向上的尺寸过大(即变形孔422的宽度过大)，因此使第一遮挡区44的整体强度过小而容易形成褶皱。当相邻变形孔442的距离与相对第一遮挡区44距离最近的一组蒸镀孔422中的相邻两个蒸镀孔422的距离的比值大于2/5时，变形孔442在垂直于掩膜板100张网方向的方向上的尺寸过小(即变形孔422的宽度过小)，因而第一遮挡区44的强度过大而在拉力作用下产生的变形过小，从而无法吸收足够的变形量。

上述掩膜板100，开设有变形孔442的第一遮挡区44可在张力作用下变形而被优先拉伸，从而消除了蒸镀区42的中间区域在张力作用下产生较大变形的问题。开设有过渡槽462的第二遮挡区46具有相对较高的强度以对子掩膜板40起到支撑作用，减轻遮挡部的褶皱。如此，该掩膜板100有效保证了像素位置精度，减小了褶皱的产生，提高了蒸镀良率，避免蒸镀形成的产品出现云纹现象或混色不良等缺陷。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩模板，其特征在于，所述掩模板包括：

掩膜板主体；

设置于所述掩膜板主体上的至少一子掩膜板，所述子掩膜板包括蒸镀区及第一遮挡区；

其中所述蒸镀区贯穿开设有多个蒸镀孔，所述蒸镀孔的深度与所述掩膜板主体的厚度相等；所述第一遮挡区贯穿开设有至少一个变形孔，所述变形孔的深度与所述掩膜板主体的厚度相等，所述变形孔在所述掩膜板的张网方向上的尺寸大于所述蒸镀孔在所述掩膜板的张网方向上的尺寸。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述子掩膜板还包括第二遮挡区，所述第一遮挡区位于所述第二遮挡区与所述蒸镀区之间，所述第二遮挡区开设有至少一个过渡槽，所述过渡槽的深度小于所述掩膜板主体的厚度。

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第二遮挡区在所述掩模板张网方向上的尺寸为所述第一遮挡区在所述掩模板张网方向上的尺寸的1/3-2/3。

4.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述掩膜板主体具有蒸镀面与玻璃面，所述蒸镀面面向蒸镀源设置，所述玻璃面背向蒸镀源设置，所述蒸镀孔与所述变形孔贯穿所述蒸镀面与所述玻璃面，所述过渡槽开设于所述蒸镀面。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述过渡槽为一个，所述过渡槽的底壁为所述第二遮挡区的蒸镀面。

6.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述过渡槽为多个，且每相邻两个所述过渡槽在所述蒸镀面上间隔设置。

7.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述变形孔沿所述掩模板的张网方向设置，或

多个所述变形孔沿所述掩膜板的张网方向间隔设置。

8.根据权利要求7所述的掩模板，其特征在于，间隔板设置于相邻两个所述变形孔之间，多个所述变形孔沿垂直于所述掩模板的张网方向的方向上通过所述间隔板间隔设置。

9.根据权利要求8所述的掩模板，其特征在于，所述蒸镀区包括沿所述掩膜板的张网方向间隔排列的多组蒸镀孔，相对所述第一遮挡区距离最近的一组所述蒸镀孔中，所述间隔板在张网方向上的延伸线位于相邻所述两个蒸镀孔之间的间隙内。

10.根据权利要求9所述的掩模板，其特征在于，相邻两个所述变形孔之间的距离为相邻两个所述蒸镀孔之间的距离的1/3-2/5。