CN206692716U - 一种掩膜版组件中的遮蔽条、掩膜版组件及蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例提供一种掩膜版组件中的遮蔽条、掩膜版组件及蒸镀装置，涉及蒸镀领域，能够避免因支撑条的弯曲变形造成的云纹现象、混色现象的问题。该遮蔽条中背离遮蔽面一侧的表面划分为搭接区和至少两个非搭接区，其中，遮蔽面为遮蔽条在蒸镀时用于遮蔽蒸镀材料的表面，搭接区为遮蔽条与掩膜版组件中的其他部件搭接的区域；遮蔽条包括位于至少一个非搭接区的至少一个凸部。

Description

一种掩膜版组件中的遮蔽条、掩膜版组件及蒸镀装置

技术领域

本实用新型涉及蒸镀领域，尤其涉及一种掩膜版组件中的遮蔽条、掩膜版组件及蒸镀装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)显示器因其具有自发光、轻薄、功耗低、高对比度、高色域、可实现柔性显示等优点，已被广泛地应用于包括电脑、手机等电子产品在内的各种电子设备中。其中，OLED显示器件中的发光器件一般利用掩膜版，例如FMM(Fine Metal Mask，精细金属掩膜版)，采用蒸镀的方式将蒸镀材料蒸镀至背板(例如LTPS背板、Oxide背板)的预设位置。

如图1所示，现有技术中，在蒸镀作业前，需要在支撑架11上依次焊接遮蔽条(Cover)100、支撑条(Howling)200、以及多个掩膜版10，其中，该掩膜版10划分为有效掩膜区110和无效掩膜区120，遮蔽条100设置于相邻两个掩膜版10之间，以避免在蒸镀过程中，蒸镀材料会透过相邻的掩膜版10之间的缝隙蒸镀至背板上；支撑条200设置于掩膜版10的无效掩膜区120对应的位置，且与掩膜版10的列方向垂直，以使得在蒸镀过程中，对掩膜板10以及背板均起到一定的支撑作用。

如图2所示(沿图1的O-O’位置的剖面示意图，另外，图2中还示出背板20和磁搁板30)，在进行蒸镀作业时，背板20位于掩膜版10背离遮蔽条100的一侧，且在背板20背离掩膜版10的一侧设置有磁搁板30，通过磁搁板30的磁性吸附力，能够使得掩膜版10与背板20之间紧密贴合，以保证正常的蒸镀作业。

然而，如图2所示，由于在位于相邻的掩膜版10之间的缝隙位置处，遮蔽条100与背板20具有一定的间隙D，且现有的遮蔽条100一般多采用镍铬合金制成，这样一来，在进行蒸镀作业时，磁搁板30会对遮蔽条100产生吸附力，在该吸附力的作用下，遮蔽条100在靠近磁搁板30一侧的表面向上突起发生弯曲形变，并且该发生弯曲形变的遮蔽条100会对相邻两侧的掩膜版10产生横向的挤压力，从而导致掩膜版10边缘发生卷曲变形，进而造成与该边缘位置对应有效掩膜区110的边缘同样产生变形，导致在有效掩膜区110边缘位置处，蒸镀材料不能准确的蒸镀至背板20的预设位置，进而造成采用该背板20的显示产品在显示时会出现Mura(云纹现象)、混色现象等，使得产品的合格率下降。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种掩膜版组件中的遮蔽条、掩膜版组件及蒸镀装置，能够避免因支撑条的弯曲变形造成的云纹现象、混色现象的问题。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

本实用新型实施例一方面提供一种掩膜版组件中的遮蔽条，其特征在于，所述遮蔽条中背离遮蔽面一侧的表面划分为搭接区和至少两个非搭接区，其中，所述遮蔽面为所述遮蔽条在蒸镀时用于遮蔽蒸镀材料的表面，所述搭接区为所述遮蔽条与掩膜版组件中的其他部件搭接的区域；所述遮蔽条包括位于至少一个所述非搭接区的至少一个凸部。

进一步的，每一所述非搭接区具有一个凸部，且所述凸部沿所述遮蔽条的长度方向贯穿所述非搭接区。

进一步的，每一所述非搭接区具有多个凸部，且所述多个凸部沿所述遮蔽条的长度方向均匀分布于所述非搭接区。

进一步的，所述凸部背离所述遮蔽面一侧的表面为平面。

进一步的，所述遮蔽条主要由非磁性不锈钢材料构成。

本实用新型实施例另一方面提供一种掩膜版组件，包括支撑架以及依次设置于所述支撑架上的前述的遮蔽条、支撑条以及至少两个掩膜版；所述遮蔽条位于相邻两个所述掩膜版之间，且所述遮蔽条在搭接区域与所述支撑架和所述掩膜版搭接；所述遮蔽条的凸部背离所述遮蔽面一侧的表面与所述掩膜版背离所述支撑条一侧的表面之间的高度差的绝对值小于或等于10μm。

进一步的，所述遮蔽条的凸部背离所述遮蔽面一侧的表面与所述掩膜版背离所述支撑条一侧的表面平齐。

进一步的，所述凸部与相邻两个所述掩膜版之间具有3μm～200μm宽度的间隙。

进一步的，所述掩膜版包括有效掩膜区和包围所述有效掩膜区的非有效掩膜区，所述非有效掩膜区中靠近所述遮蔽条一侧的宽度为0.1mm～0.5mm。

本实用新型实施例再一方面还提供一种蒸镀装置，包括前述的掩膜版组件、蒸镀源和磁搁板，且所述磁搁板位于所述掩膜版组件背离所述蒸镀源的一侧。

本实用新型实施例提供一种掩膜版组件中的遮蔽条、掩膜版组件及蒸镀装置，该蒸镀组件中的遮蔽条在背离遮蔽面一侧的表面划分为搭接区和至少两个非搭接区，其中，遮蔽面为遮蔽条在蒸镀时用于遮蔽蒸镀材料的表面，搭接区为遮蔽条与蒸镀组件中的其他部件搭接的区域；该遮蔽条包括位于至少一个非搭接区的至少一个凸部，这样一来，在进行蒸镀作业时，背板的下表面会直接与遮蔽条中的凸部的上表面接触，在此情况下，即使位于背板背离遮蔽条一侧的磁搁板会对该遮蔽条产生吸附力，由于该遮蔽条的凸部的上表面与背板的下表面直接接触，从而使得该遮蔽条不会在该吸附力的作用下产生弯曲变形，进而不会对位于该遮蔽条相邻两侧的掩膜版产生横向的挤压力，避免了因支撑条的弯曲变形造成的云纹现象、混色现象的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中提供的一种掩膜板组件的结构示意图；

图2为图1沿O-O’位置的剖面结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的一种遮蔽条的结构示意图；

图4为本实用新型实施例提供的另一种遮蔽条的结构示意图；

图5为本实用新型实施例提供的一种掩膜版组件的结构示意图；

图6为图5沿P-P’位置的剖面结构示意图；

图7为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图。

附图标记：

01-掩膜版组件；10-掩膜版；100-遮蔽条；101-搭接区；102-非搭接区；1021-凸部；110-有效掩膜区；120-无效掩膜区；11-支撑架；20-背板；200-支撑条；30-磁搁板；40-蒸镀源。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型实施例提供一种掩膜版组件中的遮蔽条，如图3所示，该遮蔽条(Cover)100中背离遮蔽面一侧的表面划分为搭接区101和至少两个非搭接区102，图3仅是以具有三个非搭接区102为例进行示意说明的，实际中可以根据需要进行设置，本实用新型并不限制于此。

其中，遮蔽面为遮蔽条100在蒸镀时用于遮蔽蒸镀材料的表面，也即，在蒸镀作业时，朝向蒸镀源一侧的表面(可以参考图7)；搭接区101为遮蔽条100与掩膜板组件中的其他部件搭接的区域，具体的，可以结合图3与图5，搭接区101一般可以为掩膜板组件中掩膜版10以及支撑条200搭接的区域。

另外，如图3所示，该遮蔽条100包括位于至少一个非搭接区102的至少一个凸部1021。

这样一来，在进行蒸镀作业时，背板的下表面会直接与遮蔽条中的凸部的上表面接触，在此情况下，即使位于背板背离遮蔽条一侧的磁搁板会对该遮蔽条产生吸附力，由于该遮蔽条的凸部的上表面与背板的下表面直接接触，从而使得该遮蔽条不会在该吸附力的作用下产生弯曲变形，进而不会对位于该遮蔽条相邻两侧的掩膜版产生横向的挤压力，避免了因支撑条的弯曲变形造成的云纹现象、混色现象的问题。

以下通过具体的实施例对上述凸部1021的具体设置情况做进一步的说明。

对于上述凸部1021，可以如图3所示，为圆柱状结构；也可以如图4所示，为条状结构凸起结构；当然还可以是其他凸起结构，例如半球状凸起结构、梯形凸起结构等，本实用新型对此不作限定。但是为了保证在进行蒸镀作业时，该凸部1021的上表面能够有效的与背板的下表面接触，进而有效的避免弯曲变形的发生，本实用新型优选的，该凸部1021的上表面为平面结构，也即该凸部1021背离遮蔽面一侧的表面为平面。

另外，为了在进行蒸镀作业时，尽可能的保证该遮蔽条100上的每一非搭接区102都能与背板的下表面会直接接触，从而最大程度的避免该遮蔽条100发生弯曲变形，本实用新型优选的，可以如图4所示，在每一非搭接区102均设置一个凸部1021，且该凸部1021沿遮蔽条100的长度方向A-A’贯穿该非搭接区102；也可以如图3所示，每一非搭接区102具有多个凸部1021，且多个凸部1021沿遮蔽条100的长度方向A-A’均匀分布于非搭接区102。

在此基础上，为了更进一步的避免在蒸镀作业中遮蔽条100因受磁力作用发生变形，本实用新型优选的，该遮蔽条100采用非磁性材料制成，具体的，可以采用非磁性不锈钢材料，例如，奥氏体不锈钢(304、316等)，本实用新型对此不作限定。

本实用新型实施例还提供一种掩膜版组件，如图5所示，该掩膜版组件01包括支撑架11以及依次设置于支撑架11上的前述的遮蔽条(Cover)100、支撑条(Howling)200以及至少两个掩膜版10。其中，遮蔽条100位于相邻两个掩膜版10之间，且遮蔽条100在搭接区域101与支撑架200和掩膜版10搭接(可结合图4和图5)。

另外，如图6所示(图5在P-P’位置侧剖面示意图，另外图5中还示出背板20和磁搁板30)，该遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面(结合图5和图6)之间的高度差的绝对值小于或等于10μm。

需要说明的是，上述掩膜版10包括有效掩膜区110和包围有效掩膜区110的无效掩膜区120，其中，有效掩膜区110是指蒸镀材料能够透过该区域，并蒸镀至位于掩膜版10上方的背板20上；无效掩膜区120用于遮挡蒸镀材料，以使得该蒸镀材料无法透过该区域蒸镀至背板20上。

这样一来，在进行蒸镀作业时，背板的下表面会直接与遮蔽条中的凸部的上表面接触，在此情况下，即使位于背板背离遮蔽条一侧的磁搁板会对该遮蔽条产生吸附力，由于该遮蔽条的凸部的上表面与背板的下表面直接接触，从而使得该遮蔽条不会在该吸附力的作用下产生弯曲变形，进而不会对位于该遮蔽条相邻两侧的掩膜版产生横向的挤压力，避免了因支撑条的弯曲变形造成的云纹现象、混色现象的问题。

以下对上述遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面之间的高度差的绝对值小于或等于10μm的具体情况做进一步的说明。

例如，结合图5和图6，可以是遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面平齐，也即该遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面位于同一平面内。当然，在具体的制作过程中，该遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面之间在制作公差范围内引起的细微偏差而未完全处于同一平面内，可以视为遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面平齐。

基于此，在实际的制作中可以设置凸部1021的高度D1等于掩膜版10的高度D2与支撑条200的高度D3之和，即D1＝D2+D3，以保证凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面平齐，当然，图6中示出的支撑条200只是为了更清楚的上述厚度进行说明，实际在该位置的剖面图中并不会出现支撑条200。

又例如，该遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面可以略高于掩膜版10背离支撑条200一侧的表面，即遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面之间的具有一定的高度差，由于当该高度差大于10μm时，在蒸镀作业时，会导致背板20与掩膜版10之间形成较大的缝隙，不能较好的贴合，从而容易导致蒸镀阴影(Shadow)，因此本实用新型优选的，上述高度差小于10μm。

再例如，该遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面可以略低于掩膜版10背离支撑条200一侧的表面，即掩膜版10背离支撑条200一侧的表面与遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面之间的具有一定的高度差，由于当该高度差大于10μm时，在蒸镀作业时，会导致背板20与支撑条200之间存在较大的缝隙，在磁性吸附力的作用下，由于该遮蔽条的凸部的上表面与背板的下表面不能有效的接触，从而使得该遮蔽条在磁性吸附力的作用下仍会产生一定的弯曲变形，因此本实用新型优选的，上述高度差小于10μm。

综上所述，为了在蒸镀作业时，保证支撑条200不会因磁性吸附力发生变形，同时避免在背板20上形成蒸镀阴影，本实用新型优选的，遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面之间的高度差的绝对值小于或等于10μm。当然，遮蔽条100的凸部1021背离遮蔽面S一侧的表面与掩膜版10背离支撑条200一侧的表面平齐作为本实用新型的最优方案。

另外，为了避免掩膜版10与凸部1021之间产生横向挤压，导致有效掩膜区110的边缘发生变形，出现Mura(云纹现象)、混色现象等，本实用新型优选的，如图6所示，在凸部1021与相邻两个掩膜版10之间设置3μm～200μm宽度的间隙H，例如，该间隙H可以是100μm、150μm，本实用新型对此不作限制，具体的尺寸可根据需要设置。

在此基础上，为了更进一步的，减小支撑条200对有效掩膜区110的边缘产生影响，本实用新型优选的，可以加宽非有效掩膜区120中靠近遮蔽条100一侧的宽度，即图5中示出的Dummy区域的宽度，现有技术中一般设置该区域的宽度为50μm左右，因此本实用新型优选的，设置该区域的宽度大于现有技术中的设置宽度，例如该宽度可以为0.1mm～0.5mm。

本实用新型实施例还提供一种蒸镀装置，如图7所示，该蒸镀装置包括前述的掩膜版组件01、蒸镀源40和磁搁板30，且磁搁板30位于掩膜版组件01背离蒸镀源40的一侧。在进行蒸镀作业时，将背板20放置于掩膜版组件01与磁搁板30之间。

该蒸镀装置包括如上所述的掩膜版组件，具有与前述实施例提供的掩膜版组件相同的结构和有益效果。由于前述实施例已经对掩膜版组件的结构和有益效果进行了详细的描述，此处不再赘述。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种掩膜版组件中的遮蔽条，其特征在于，所述遮蔽条中背离遮蔽面一侧的表面划分为搭接区和至少两个非搭接区，其中，所述遮蔽面为所述遮蔽条在蒸镀时用于遮蔽蒸镀材料的表面，所述搭接区为所述遮蔽条与掩膜版组件中的其他部件搭接的区域；

所述遮蔽条包括位于至少一个所述非搭接区的至少一个凸部。

2.根据权利要求1所述的遮蔽条，其特征在于，每一所述非搭接区具有一个凸部，且所述凸部沿所述遮蔽条的长度方向贯穿所述非搭接区。

3.根据权利要求1所述的遮蔽条，其特征在于，每一所述非搭接区具有多个凸部，且所述多个凸部沿所述遮蔽条的长度方向均匀分布于所述非搭接区。

4.根据权利要求1-3任一项所述的遮蔽条，其特征在于，所述凸部背离所述遮蔽面一侧的表面为平面。

5.根据权利要求1所述的遮蔽条，其特征在于，所述遮蔽条主要由非磁性不锈钢材料构成。

6.一种掩膜版组件，其特征在于，包括支撑架以及依次设置于所述支撑架上的权利要求1-5任一项所述遮蔽条、支撑条以及至少两个掩膜版；所述遮蔽条位于相邻两个所述掩膜版之间，且所述遮蔽条在搭接区域与所述支撑架和所述掩膜版搭接；

所述遮蔽条的凸部背离所述遮蔽面一侧的表面与所述掩膜版背离所述支撑条一侧的表面之间的高度差的绝对值小于或等于10μm。

7.根据权利要求6所述的掩膜版组件，其特征在于，所述遮蔽条的凸部背离所述遮蔽面一侧的表面与所述掩膜版背离所述支撑条一侧的表面平齐。

8.根据权利要求6所述的掩膜版组件，其特征在于，所述凸部与相邻两个所述掩膜版之间具有3μm～200μm宽度的间隙。

9.根据权利要求6-8任一项所述的掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版包括有效掩膜区和包围所述有效掩膜区的非有效掩膜区，所述非有效掩膜区中靠近所述遮蔽条一侧的宽度为0.1mm～0.5mm。

10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求6-9任一项所述的掩膜版组件、蒸镀源和磁搁板，且所述磁搁板位于所述掩膜版组件背离所述蒸镀源的一侧。