CN109722624A - 掩模组件 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，包括：掩模板，设有若干开口域，以使蒸镀材料通过所述开口域进行沉积；开口域遮挡部件，遮挡所述若干开口域中对应预设沉积位置之外的开口域，可将掩模板制作为有利于其张网及调节的形状，从而改善异形显示屏中掩模板的张网及精度问题。

Description

掩模组件
技术领域
本发明涉及异形显示领域，特别是涉及掩模组件。
背景技术
随着电子技术的发展，电子显示屏也越来越多样化，并随之出现了圆角显示屏、曲面屏等异形显示屏。
传统技术中，OLED显示屏具有由轮廓线界定的有效显示区。对应的像素或子像素沿着轮廓线排布，以拟合轮廓线的形状。当轮廓线中存在非直线型部分时，针对该非直线型轮廓线的部分，沿轮廓线排布的像素或子像素通常呈现阶梯状或锯齿状。例如，当显示屏根据需要设计有倒角时，沿着倒角排布的像素或子像素通常呈阶梯状或锯齿状。
申请人在实现现有技术的过程中发现：
当轮廓线中存在非直线型部分时，针对该非直线型轮廓线的部分，沿轮廓线排布的像素或子像素呈阶梯排布，不同列的子像素数量不同，这就要求对应的精密金属掩模板上的不同列的子像素开口域数量也不同，从而使精密金属掩模板的开口呈不规则状，影响其张网及精度调节。
发明内容
基于此，有必要针对显示屏的轮廓线中存在非直线型部分时，针对该非直线型轮廓线部分不同列子像素数量不同的要求，从而使与之对应匹配的精密金属掩模板的开口呈不规则状，影响其张网及精度调节的问题，提供一种技术方案。
一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，包括：
掩模板，设有若干开口域，以使蒸镀材料通过所述开口域进行沉积；
开口域遮挡部件，遮罩于所述开口域的蒸镀方向，以便形成显示倒角。
在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件设置于所述开口域的角落。
在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件焊接于所述开口域的角落。
在其中一个实施例中，所述掩模组件还包括掩模附件；
所述开口域遮挡部件固定连接于所述掩模附件。
在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件具有若干个；若干个所述开口域遮挡部件成阵列分布固定连接于所述掩模附件。
在其中一个实施例中，所述掩模附件可相对所述掩模板平动及定位。
在其中一个实施例中，所述掩模附件可相对所述掩模板转动及定位。
在其中一个实施例中，所述掩模附件与所述掩模板共转轴。
在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件用于形成倒角的轮廓线为光滑圆弧。
在其中一个实施例中，所述开口域遮挡部件用于形成倒角的轮廓线为阶梯状折线。
本发明通过在掩模组件中设置开口域遮挡部件，遮挡所述开口域中对应预设沉积位置之外的开口域，以便形成显示倒角，可将掩模板制作为有利于其张网及调节的形状，从而改善异形显示屏中掩模板的张网及精度问题。
附图说明
图1为现有技术中蒸镀设备的结构示意图。
图2为本申请的提供的掩模组件的结构示意图。
图3为本申请的提供的掩模附件的结构示意图。
其中，
真空室 11
蒸发源 12
TFT基板 13
掩模板 14
开口域 141
子开口 1410
磁力板 15
对位系统 16
开口域遮挡部件 20
掩模附件 201
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。
在有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示技术中，通常采用蒸镀技术来获得OLED显示屏。OLED显示屏的典型结构为：在布设有阳极的TFT基板上蒸镀一层几十纳米厚的发光材料，然后再在发光材料上蒸镀一层阴极。阴极和阳极两端施加电压后，发光层发光。
发光材料为主要蒸镀材料。发光材料被蒸镀在TFT基板上形成发光层。如图1所示，为一种蒸镀设备的结构示意图。蒸镀设备包括真空室11，以及置于真空室11内的蒸发源12、TFT基板13、掩模板14、磁力板15和对位系统16。
在真空室11内，将TFT基板13放置在旋转样品托架上。对发光材料或金属电极材料等蒸镀材料进行加热，以使蒸镀材料蒸发成气态的原子或分子。气态的原子或分子在真空室内做布朗运动，碰撞到TFT基板13后，在表面凝结形成薄膜。对蒸镀材料的进行加热方法包括：电流加热、电子束轰击加热或激光加热等的一种或多种。
请参照图2，在蒸镀的过程中，为能精准控制发光材料的位置，通常需要利用精密金属掩模板14。精密金属掩模板14设有开口域141以蒸镀一个完整的显示屏。开口域141包括若干子开口1410。每一子开口1410对应一个子像素。可以理解的是，子像素通常可以包括第一子像素、第二子像素和第三子像素。第一子像素、第二子像素和第三子像素通常可以分别为红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。在蒸镀过程中，红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素通常是分别进行蒸镀的。为了防止子像素之间的错位，通常可以使用遮挡条来遮罩不同的子开口1410以分别蒸镀需要的子像素。
随着显示屏技术的扩展，出现了显示屏设置倒角，以改善显示效果的需求。为了满足该需求可以改变遮挡条的形状，以便蒸镀具有倒角的显示屏。然而，这样遮挡条设置对应倒角的结构时，遮挡条容易由于应力集中而产生褶皱。
请参照图2，本申请提供的一种实施例中，一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，包括：
掩模板14，设有若干开口域141，以使蒸镀材料通过所述开口域141进行沉积；
开口域遮挡部件20，遮罩于所述开口域141的蒸镀方向，以便形成显示屏的显示倒角。
掩模板14，用于控制有机材料沉积在基板上的预设位置。如前所述，掩模板14设有开口域141。开口域141通常可以对应一个完整产品的显示屏。开口域141包括若干子开口1410。每一子开口1410对应一个子像素。为了精确控制有机材料沉积的位置，掩模板14可以使用精密金属掩模板14(fine metal mask，FMM)。精密金属掩模板14的材料可以使用SUS420或SUS 430。
开口域遮挡部件20用以遮罩于所述开口域141的蒸镀方向，以便形成显示屏的显示倒角。或者说，所述开口域遮挡部件20可以对应显示屏的显示倒角。为了保证精度，开口域遮挡部件20同样可以使用SUS 420或SUS 430。
进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述开口域遮挡部件20设置于所述开口域141的角落。
可以理解的是，为了形成显示屏的显示倒角，开口域遮挡部件20至少有一部分必须设置于开口域141的角落。这样在蒸镀时，蒸镀材料沉积于开口域遮挡部件20，而不会进一步透过开口域遮挡部件20沉积于预设位置以外的其他位置。
进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述开口域遮挡部件20焊接于所述开口域141的角落。
开口域遮挡部件20焊接于开口域141的角落，这样，当开口域遮挡部件20的厚度与掩模板14的厚度一致时，开口域141未被开口域遮挡部件20遮罩的部分可以沉积蒸镀材料。可以理解的是，当开口域遮挡部件20在蒸镀方向上位于掩模板14前面时，在开口域遮挡部件20的蒸镀方向的后方，可能会扩散沉积一些蒸镀材料，从而，降低蒸镀的质量。而本申请实施例中，开口域遮挡部件20焊接于开口域141时，则可以提高蒸镀的质量。
请参照图3，进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述掩模组件还包括掩模附件201；
所述开口域遮挡部件20固定连接于所述掩模附件201。
从前述内容可知，开口域遮挡部件20焊接于掩模板14时，需要对现有的掩模板14进行改造，而且，焊接或固定连接的质量的高低，会最终影响蒸镀的质量。而该实施例中，开口域遮挡部件20固定连接于掩模附件201时，不必对原有的掩模板14进行改造，防止两次加工制造时精度差，从而可以提高蒸镀的质量。
进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述掩模组件还包括掩模附件201；
所述开口域遮挡部件20具有若干个；
若干个所述开口域遮挡部件20成阵列分布固定连接于所述掩模附件201。
在该申请实施例中，若干个成阵列分布固定连接于所述掩模附件201，从而可以一次制备多个具有倒角的显示屏，可以有效提高生产效率。
进一步的，在本申请提供的一种实施例中，所述掩模附件201可相对所述掩模板14平动及定位。
通常，掩模板14可以通过框架来固定。这里，掩模附件201同样可以通过框架来固定。可以在框架上设置掩模附件201的滑轨。这样，掩模附件201可以通过滑轨相对掩模板14平动。当然，框架上可以设置限位件，例如限位螺钉等。掩模附件201相对掩模板14平动调整开口域遮挡部件20相对开口域141的位置，当掩模附件201相对掩模板14调整到适当位置时，使用限位件对掩模附件201进行限位。从而，可以便利地制备具有倒角的显示屏。
进一步的，在本申请提供的又一种实施例中，所述掩模附件201可相对所述掩模板14转动及定位。
进一步的，在本申请提供的又一种实施例中，所述掩模附件201与所述掩模板14共转轴。
通常，掩模板14可以通过框架来固定。这里，掩模附件201同样可以通过框架来固定。可以在框架上设置转轴。这样，掩模附件201可以通过转轴相对掩模板14转动。当然，框架上可以设置限位件，例如限位螺钉等。掩模附件201相对掩模板14转动调整开口域遮挡部件20相对开口域141的位置，当掩模附件201相对掩模板14调整到适当位置时，使用限位件对掩模附件201进行限位。从而，可以便利地制备具有倒角的显示屏。
当然，还可将转轴设置于掩模板14，掩模附件201与掩模板14共转轴。
进一步的，在本申请提供的又一种实施例中，所述开口域遮挡部件20用于形成倒角的轮廓线为光滑圆弧。
可以理解的是，当开口域遮挡部件20的微结构中用于形成倒角的轮廓线为光滑圆弧，对应的，沉积获得的子像素至少有一部分具有与光滑圆弧对应的形状，从而，可以降低倒角处的锯齿感。
进一步的，在本申请提供的又一种实施例中，所述开口域遮挡部件20用于形成倒角的轮廓线为阶梯状折线。
当开口域遮挡部件20的微结构中用于形成倒角的轮廓线为阶梯状折线时，形成的子像素为完整的子像素，子像素的驱动程序不必进行适应性修改，从而，可以扩大开口域遮挡部件20的使用范围。
下面介绍本申请实施的具体应用场景：
在制备具有倒角的显示屏时，将掩模板14固定于框架上，同时，将开口域遮挡部件20遮挡于掩模板14的开口域141以便形成倒角。
在本申请提供的一种实现方式中，可以将开口域遮挡部件20固定于掩模板14的开口域141。固定的方式可以是焊接、粘接、吸附等常用的连接方式。
在本申请提供的另一种实现方式，可以将开口域遮挡部件20固定于掩模附件201，通过掩模附件201与掩模板14之间的相对运动调整开口域遮挡部件20相对开口域141的位置，以便两者调整到适宜的位置。掩模附件201可以相对掩模板14平动，也可以相对掩模板14转动。而且，掩模附件201还可以与掩模板14共转轴。
当开口域遮挡部件20相对掩模板14调整到适宜位置时，开启蒸镀气氛进行蒸镀。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种掩模组件，用于显示屏制备的蒸镀工艺，其特征在于，包括：
掩模板，设有若干开口域，以使蒸镀材料通过所述开口域进行沉积；
开口域遮挡部件，遮罩于所述开口域的蒸镀方向，以便形成显示倒角。
2.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，所述开口域遮挡部件设置于所述开口域的角落。
3.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述开口域遮挡部件焊接于所述开口域的角落。
4.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模组件还包括掩模附件；
所述开口域遮挡部件固定连接于所述掩模附件。
5.根据权利要求2所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模组件还包括掩模附件；
所述开口域遮挡部件具有若干个；
若干个所述开口域遮挡部件成阵列分布固定连接于所述掩模附件。
6.根据权利要求5所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模附件可相对所述掩模板平动及定位。
7.根据权利要求5所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模附件可相对所述掩模板转动及定位。
8.根据权利要求7所述的掩模组件，其特征在于，所述掩模附件与所述掩模板共转轴。
9.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，所述开口域遮挡部件用于形成倒角的轮廓线为光滑圆弧。
10.根据权利要求1所述的掩模组件，其特征在于，所述开口域遮挡部件用于形成倒角的轮廓线为阶梯状折线。
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