CN111769214B - 掩膜板及其制作方法 - Google Patents
掩膜板及其制作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111769214B CN111769214B CN202010571480.2A CN202010571480A CN111769214B CN 111769214 B CN111769214 B CN 111769214B CN 202010571480 A CN202010571480 A CN 202010571480A CN 111769214 B CN111769214 B CN 111769214B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- openings
- shielding
- mask
- shielding layer
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本申请公开了一种掩膜板及其制作方法,所述掩膜板包括:外框;第一遮挡层,设置于所述外框上,所述第一遮挡层具有多个第一开口;第二遮挡层,可拆卸地设置于所述第一遮挡层上,所述第二遮挡层具有多个第二开口,且所述多个第二开口与所述多个第一开口一一对应,所述多个第二开口中每一者的面积均小于或等于其对应的所述第一开口的面积;相比于现有技术,本申请提供的掩膜板可满足同一掩膜板进行不同尺寸的面板的制作,减小了制作掩膜板的成本以及时间,提高了工艺效率。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板及其制作方法。
背景技术
近年来,OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示装置以其独有的优势正吸引着业内绝大多数从业者注意,在中小尺寸显示领域更有取代LCD(LiquidCrystal Display,液晶显示)面板的趋势,现阶段中小尺寸的OLED面板大多依赖蒸镀制程,其中在蒸镀制程中用于图形定义的治具为掩模板。
目前主流的OLED显示装置制程中,发光像素是通过掩膜板对蒸镀材料的遮挡来成型,不同的产品需要不同的掩膜板,但掩膜板成本很高,而且制作时间较长,效率较低,因此,针对不同尺寸的产品需要不用尺寸的掩膜板,需要耗费大量的成本和时间。
发明内容
本申请实施例提供一种掩膜板及其制作方法,能够满足不同尺寸的显示面板的制作,以解决现有技术中的掩膜板由于只能针对单一尺寸的显示面板的制作,进而增大成本和时间的技术问题。
为解决上述技术问题,本申请提供一种掩膜板,所述掩膜板包括:
外框;
第一遮挡层,设置于所述外框上,所述第一遮挡层具有多个第一开口;
第二遮挡层,可拆卸地设置于所述第一遮挡层上,所述第二遮挡层具有多个第二开口,且所述多个第二开口与所述多个第一开口一一对应,所述多个第二开口中每一者的面积均小于或等于其对应的所述第一开口的面积。
在本申请的一种实施例中,所述掩膜板还包括设置于所述第一遮挡层以及所述第二遮挡层之间的掩膜层,且所述掩膜层包括与所述多个第一开口一一对应的多个掩膜部,且所述多个掩膜部中的每一者皆具有网格结构。
在本申请的一种实施例中,所述掩膜板用于多块面板的制备,且所述多块面板与所述多个掩膜部一一对应,所述多块面板中每一者的像素区均与其对应的所述掩膜部中的所述网格结构相对应,所述网格结构中的网格开孔与所述像素区中的像素单元相对应。
在本申请的一种实施例中,所述第二开口在所述网格结构上的投影的边界比所述像素区在所述网格结构上的投影的边界外扩第一距离,所述第一距离大于或等于三排所述像素单元的开口的宽度。
在本申请的一种实施例中,所述第二遮挡层包括彼此平行的多个第一遮挡条以及彼此平行的多个第二遮挡条,其中所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条相互垂直相交且上下配置,且所述多个第二遮挡条为可拆卸式并与所述多个第一遮挡条彼此相接,以形成所述多个第二开口。
在本申请的一种实施例中,所述第二遮挡层包括彼此平行的多个第一遮挡条以及彼此平行的多个第二遮挡条,其中所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条相互垂直相交且上下配置,且所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条一体成型,以形成所述多个第二开口。
在本申请的一种实施例中,所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条相交叠区域的厚度与所述第二遮挡层中其他区域的厚度相同,所述第二遮挡层的厚度小于或等于30微米。
在本申请的一种实施例中,所述多个第二开口中每一者的面积相同或不相同,所述多个第二开口中的每一者的形状皆独立地包括四边形或具有凹部和/或凸部的多边形。
根据本申请的上述目的,提供一种掩膜板的制作方法,所述方法包括:
S10、制备第一遮挡层于外框上,且所述第一遮挡层具有多个第一开口;以及
S20、制备可拆卸地第二遮挡层于所述第一遮挡层上,且所述第二遮挡层具有多个第二开口,所述多个第二开口与所述多个第一开口一一对应,且所述多个第二开口中每一者的面积皆小于或等于其对应的所述第一开口的面积。
在本申请的一种实施例中,所述步骤S10还包括:制备掩膜层于所述第一遮挡层上,且所述掩膜层包括与所述多个第一开口一一对应的多个掩膜部,所述多个掩膜部中的每一者皆具有网格结构。
本申请的有益效果:本申请通过在掩膜板的第一遮挡层上设置第二遮挡层,以对第一遮挡层中的第一开口的尺寸和形状进行进一步限定,以满足同一掩膜板可以进行不同尺寸的面板的制作,减小了制作掩膜板的成本以及时间,提高了工艺效率。
附图说明
下面结合附图,通过对本申请的具体实施方式详细描述,将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本申请实施例提供的一种掩膜板平面结构示意图。
图2为本申请实施例提供的掩膜板侧面结构示意图。
图3为本申请实施例提供的掩膜板制作方法流程图。
图4为本申请实施例提供的掩膜板制作流程结构示意图。
图5为本申请实施例提供的掩膜板制作流程结构示意图。
图6为本申请实施例提供的掩膜板制作流程结构示意图。
图7为本申请实施例提供的掩膜板平面放大结构示意图
图8为本申请实施例提供的另一种掩膜板平面结构示意图。
图9为本申请实施例提供的又一种掩膜板平面结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接或可以相互通讯;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本申请。此外,本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本申请针对现有的掩膜板,只能针对单一尺寸的面板结构进行制备,在进行多尺寸的面板制备时,需要耗费大量的时间以及成本进行不同尺寸掩膜板的制作,进而影响效率的技术问题。
为解决上述技术问题,本申请实施例提供一种掩膜板,请参照图1、图2图4、图5、图6以及图7所示,所述掩膜板包括:外框101;第一遮挡层102,设置于所述外框101上,所述第一遮挡层102具有多个第一开口103;第二遮挡层104,可拆卸地设置于所述第一遮挡层102上,所述第二遮挡层104具有多个第二开口105,且所述多个第二开口105与所述多个第一开口103一一对应,所述多个第二开口105中每一者的面积均小于或等于其对应的所述第一开口103的面积。
在实施应用过程中,现有的掩膜板只能针对单一尺寸的面板进行制备,但是不同的产品需要不同尺寸的掩膜板,且因掩膜板成本很高,而且制作时间较长,导致效率较低,而本申请实施例提供的掩膜板通过设置第二遮挡层,以进一步地限制第一遮挡层中第一开口的面积和形状,从而使得本申请实施例提供的掩膜板可以进行更多尺寸的面板的制备,节省了掩膜板的制作成本和时间,提高了产品的生产效率。
具体地,请接着参照图1、图2、图4、图5以及图6所示,所述掩膜板包括所述外框101、所述第一遮挡层102、所述第二遮挡层104以及所述掩膜层106。
所述外框101可以为一中空的框架,其材料包括金属、合金或其他高分子材料,所述第一遮挡层102设置与所述外框101上,且所述第一遮挡层102的四周固定于所述外框101上,且所述第一遮挡层102的固定方式可以为焊接,其中,所述第一遮挡层102包括多个第一开口103。
所述掩膜层106设置于所述第一遮挡层102上,所述掩膜层106包括多个掩膜部107,所述多个掩膜部107与所述多个第一开口103一一对应设置,且所述多个掩膜部107中的每一这皆包括金属网格1071,需要说明的是,本申请实施例提供的所述掩膜板可同时用于多块面板(图中并未示出)的制备,其中,所述多块面板与所述多个掩膜部107一一对应设置,所述多块面板中每一者的像素区108均与其对应的所述掩膜部107中的所述网格结构1071相对应,所述网格结构中的网格开孔与所述像素区108中的像素单元相对应。
所述第二遮挡层104可拆卸地设置于所述掩膜层106上,即所述掩膜层106位于所述第一遮挡层102与所述第二遮挡层104之间,所述第二遮挡层104包括多个第二开口105,且所述多个第二开口105与所述多个第一开口103一一对应设置,在本申请实施例中,所述多个第二开口105中每一者的面积皆小于或等于其对应的所述第一开口103的面积,因此,本申请实施例提供的掩膜板中,所述第二开口105可以对所述第一开口103的尺寸进行进一步地的限定,使得所述掩膜板可以满足多种尺寸的掩膜板的制备,即在去除所述第二遮挡层104时,以所述第一开口103限定的尺寸制备面板,当加上所述第二遮挡层104时,则以所述第二开口105限定的尺寸制备面板。
在本申请实施例中,请参照图7所示,所述第二开口105在所述网格结构1071上的投影的边界比所述像素区108在所述网格结构107上的投影的边界外扩第一距离,且所述第一距离大于或等于三排所述像素单元的开口的宽度,即所述第一距离大于或等于所述网格结构107中三排所述网格开孔的宽度,以减少所述掩膜层106因贴合不良造成的产品良率问题。
在本申请的一种实施例中,请参照图1所示,所述第二遮挡层104包括彼此平行的多个第一遮挡条1041以及彼此平行的多个第二遮挡条1042,其中所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042相互垂直相交且上下配置,且所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042一体成型,以形成所述多个第二开口105。
在本申请的另一种实施例中,请参照图8所示,所述第二遮挡层104包括彼此平行的多个第一遮挡条1041以及彼此平行的多个第二遮挡条1042,其中所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042相互垂直相交且上下配置,且所述多个第二遮挡条1042为可拆卸式并与所述多个第一遮挡条1041彼此相接,以形成所述多个第二开口105。
需要说明的是,所述第一遮挡条1041与所述第二遮挡条1042为一体成型,或所述第一遮挡条1041与所述第二遮挡条1042位可拆卸式,所述第二遮挡层104的厚度都为均一的,当所述第一遮挡条1041与所述第二遮挡条1042为可拆卸式时,所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042相交叠区域的厚度与所述第二遮挡层104其他区域的厚度相同,且所述第二遮挡层104的厚度小于或等于30微米,以减少结构阴影对制备过程中的不良影响,导致光线的路径产生偏差。
另外,所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042不限于垂直相交,可根据实际情况进行选择。
且当所述第一遮挡条1041与所述第二遮挡条1042位可拆卸式结构时,需要在两者的交叠区域进行半刻蚀处理,以保证所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042相交叠区域的厚度与所述第二遮挡层104其他区域的厚度相同,另外,本申请实施例不限于所述多个第一遮挡条1041以及所述多个第二遮挡条1042的设置顺序,即先制备所述多个第一遮挡条1041或先制备所述多个第二遮挡条1042均可,或者进行交叉顺序的制备亦可,可采用焊接技术或卡扣连接将所述多个第一遮挡条1041以及所述多个所述第二遮挡条1042设置于所述外框101上,且易于分离。
另外,所述第一遮挡层102包括彼此平行的多个第三遮挡条1021以及彼此平行的多个第四遮挡条1022,其中所述多个第三遮挡条1021与所述多个第四遮挡条1022相互垂直相交且上下配置,且所述多个第三遮挡条1021与所述多个第四遮挡条1022彼此相接,以形成所述多个第一开口103,其中,所述多个第三遮挡条1021与所述多个第四遮挡条1022可以为一体式或可拆卸式,连接方式可与所述多个第一遮挡条1041以及所述多个第二遮挡条1042相同。
需要说明的是,所述多个第三遮挡条1021与所述多个第四遮挡条1022也不限于垂直相交,且所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042的相交角度与所述多个第三遮挡条1021与所述多个第四遮挡条1022的相交角度相同,且所述多个第一遮挡条1041与所述多个第二遮挡条1042相交叠的区域可与所述多个第三遮挡条1021与所述多个第四遮挡条102相交叠的区域位置相同。
请参照图9所示,所述多个第二开口105中每一者的面积可以相同,也可以不相同,所述多个第二开口105中的每一者的形状也可以相同或不相同,且所述多个第二开口105中的每一者的形状皆独立地包括四边形或具有凹部和/或凸部的多边形,如所述第二开口1051为具有凹部的多边形,所述第二开口1052为尺寸小的四边形,所述第二开口1053为具有凸部的多边形,具体的面积以及形状可根据实际需求进行选择,在此不做限定。
综上所述,本申请通过在掩膜板上设置第二遮挡层,以对第一遮挡层中的第一开口的尺寸和形状进行进一步限定,以满足同一掩膜板可以进行不同尺寸的面板的制作,减小了制作掩膜板的成本以及时间,提高了工艺效率。
在本申请实施例中,请参照图1、图2、图3、图4、图5、图6以及图7所示,还提供一种如上述实施例所述的掩膜板的制作方法,所述方法包括:
S10、制备第一遮挡层于外框上,且所述第一遮挡层具有多个第一开口。
S20、制备可拆卸地第二遮挡层于所述第一遮挡层上,且所述第二遮挡层具有多个第二开口,所述多个第二开口与所述多个第一开口一一对应,且所述多个第二开口中每一者的面积皆小于或等于其对应的所述第一开口的面积。
S10、制备第一遮挡层102于外框101上,且所述第一遮挡层102具有多个第一开口103。
其中,所述第一遮挡层102包括多个第三遮挡条1021以及多个第四遮挡条1022,且不限于一体式或可拆卸式,可采用焊接技术将所述多个第三遮挡条1021以及所述多个第四遮挡条1022中每一者的两端固定于所述外框上。
且所述步骤S10还包括:制备掩膜层106于所述第一遮挡层102上,且所述掩膜层106包括与所述多个第一开口103一一对应的多个掩膜部107,所述多个掩膜部107中的每一者皆具有网格结构1071,所述掩膜板用于多块面板的制备,且所述多块面板与所述多个掩膜部107一一对应,所述多块面板中每一者的像素区108均与其对应的所述掩膜部107中的所述网格结构1071相对应,所述网格结构1071中的网格开孔与所述像素区108中的像素单元相对应。
S20、制备可拆卸地第二遮挡层104于所述第一遮挡层102上,且所述第二遮挡层104具有多个第二开口105,所述多个第二开口105与所述多个第一开口103一一对应,且所述多个第二开口105中每一者的面积皆小于或等于其对应的所述第一开口103的面积。
其中,所述第二遮挡层104包括多个第一遮挡条1041以及多个第二遮挡条1042,且不限于一体式或可拆卸式,可采用焊接技术将所述多个第一遮挡条1041以及所述多个第二遮挡条1042中每一者的两端固定于所述外框上,需要说明的是,所述多个第一遮挡条1041以及所述多个第二遮挡条1042的焊接位置,以及所述多个第三遮挡条1021以及所述多个第四遮挡条1022的焊接位置可以相同,也可以不相同,在此不作限定。
需要说明的是,所述第二遮挡层104可拆卸地设置于所述第一遮挡层102上,当拆除所述第二遮挡层104时,以所述第一开口103的尺寸和形状制备面板,当加上所述第二遮挡层104时,以所述第二开口105的尺寸和形状制备面板,使得本申请实施例提供的掩膜板可以满足多种尺寸和形状的面板的制备,减小了制作掩膜板的成本以及时间,提高了工艺效率。
本申请实施例中的掩膜板,可应用于OLED面板制程中的EL材料蒸镀过程,主要应用在于使用完正常掩膜板后,可以在原基础上加上第二遮挡层,以完成其他尺寸产品形态的掩膜。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例所提供的一种掩膜板及其制作方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (7)
1.一种掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括:
外框;
第一遮挡层,设置于所述外框上,所述第一遮挡层具有多个第一开口;
第二遮挡层,可拆卸地设置于所述第一遮挡层上,所述第二遮挡层具有多个第二开口,且所述多个第二开口与所述多个第一开口一一对应,所述多个第二开口中每一者的面积均小于或等于其对应的所述第一开口的面积;
掩膜层,设置于所述第一遮挡层以及所述第二遮挡层之间,所述掩膜层包括与所述多个第一开口一一对应的多个掩膜部,且所述多个掩膜部中的每一者皆具有网格结构;
其中,所述掩膜板用于多块面板的制备,且所述多块面板与所述多个掩膜部一一对应,所述多块面板中每一者的像素区均与其对应的所述掩膜部中的所述网格结构相对应,所述网格结构中的网格开孔与所述像素区中的像素单元相对应。
2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第二开口在所述网格结构上的投影的边界比所述像素区在所述网格结构上的投影的边界外扩第一距离,所述第一距离大于或等于三排所述像素单元的开口的宽度。
3.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第二遮挡层包括彼此平行的多个第一遮挡条以及彼此平行的多个第二遮挡条,其中所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条相互垂直相交且上下配置,且所述多个第二遮挡条为可拆卸式并与所述多个第一遮挡条彼此相接,以形成所述多个第二开口。
4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第二遮挡层包括彼此平行的多个第一遮挡条以及彼此平行的多个第二遮挡条,其中所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条相互垂直相交且上下配置,且所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条一体成型,以形成所述多个第二开口。
5.根据权利要求3或4所述的掩膜板,其特征在于,所述多个第一遮挡条与所述多个第二遮挡条相交叠区域的厚度与所述第二遮挡层中其他区域的厚度相同,所述第二遮挡层的厚度小于或等于30微米。
6.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述多个第二开口中每一者的面积相同或不相同,所述多个第二开口中的每一者的形状皆独立地包括四边形或具有凹部和/或凸部的多边形。
7.一种掩膜板的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
S10、制备第一遮挡层于外框上,且所述第一遮挡层具有多个第一开口,制备掩膜层于所述第一遮挡层上,所述掩膜层包括与所述多个第一开口一一对应的多个掩膜部,且所述多个掩膜部中的每一者皆具有网格结构;
S20、制备可拆卸地第二遮挡层于所述掩膜层远离所述第一遮挡层的一侧,且所述第二遮挡层具有多个第二开口,所述多个第二开口与所述多个第一开口一一对应,且所述多个第二开口中每一者的面积皆小于或等于其对应的所述第一开口的面积,其中,所述掩膜板用于多块面板的制备,且所述多块面板与所述多个掩膜部一一对应,所述多块面板中每一者的像素区均与其对应的所述掩膜部中的所述网格结构相对应,所述网格结构中的网格开孔与所述像素区中的像素单元相对应。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010571480.2A CN111769214B (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 掩膜板及其制作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010571480.2A CN111769214B (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 掩膜板及其制作方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111769214A CN111769214A (zh) | 2020-10-13 |
CN111769214B true CN111769214B (zh) | 2022-10-04 |
Family
ID=72721556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010571480.2A Active CN111769214B (zh) | 2020-06-22 | 2020-06-22 | 掩膜板及其制作方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111769214B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113789497B (zh) * | 2021-09-10 | 2024-02-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004030975A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 有機電子発光素子用メタルマスク及びこれを利用した有機電子発光素子の製造方法 |
CN104536260A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 组合式掩模板及其制作方法 |
CN105531394A (zh) * | 2013-09-09 | 2016-04-27 | 株式会社V技术 | 成膜掩模、成膜装置、成膜方法以及触摸面板基板 |
CN205688000U (zh) * | 2016-06-29 | 2016-11-16 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种掩膜板 |
KR20180017301A (ko) * | 2016-08-08 | 2018-02-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치, 이를 이용한 표시 장치의 제조방법 및 표시 장치 |
CN107833983A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-03-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板及其制备方法、基板的制备方法 |
CN208378978U (zh) * | 2018-07-10 | 2019-01-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜组件及蒸镀设备 |
CN109328242A (zh) * | 2016-06-28 | 2019-02-12 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩膜、有机半导体元件的制造方法以及有机el显示屏的制造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105140421B (zh) * | 2015-07-27 | 2017-04-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组及制作电致发光层的方法、显示面板及驱动方法 |
-
2020
- 2020-06-22 CN CN202010571480.2A patent/CN111769214B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004030975A (ja) * | 2002-06-21 | 2004-01-29 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 有機電子発光素子用メタルマスク及びこれを利用した有機電子発光素子の製造方法 |
CN105531394A (zh) * | 2013-09-09 | 2016-04-27 | 株式会社V技术 | 成膜掩模、成膜装置、成膜方法以及触摸面板基板 |
CN104536260A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 组合式掩模板及其制作方法 |
CN109328242A (zh) * | 2016-06-28 | 2019-02-12 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩膜、有机半导体元件的制造方法以及有机el显示屏的制造方法 |
CN205688000U (zh) * | 2016-06-29 | 2016-11-16 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 | 一种掩膜板 |
KR20180017301A (ko) * | 2016-08-08 | 2018-02-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치, 이를 이용한 표시 장치의 제조방법 및 표시 장치 |
CN107833983A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-03-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板及其制备方法、基板的制备方法 |
CN208378978U (zh) * | 2018-07-10 | 2019-01-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜组件及蒸镀设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN111769214A (zh) | 2020-10-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11800771B2 (en) | Display substrate, fine metal mask set and display device | |
CN102262319B (zh) | 液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器 | |
US11563060B2 (en) | Pixel arrangement structure, display substrate, and display device | |
DE102016113540A1 (de) | Anzeigefeld, fertigungsverfahren und elektronische vorrichtung | |
CN109994515B (zh) | 具有不规则形状的像素的不规则形状的平板显示器 | |
CN109023235B (zh) | 掩模基板、掩膜组件、显示面板和显示装置 | |
CN109487206B (zh) | 掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置 | |
JP2023510055A (ja) | 支持プレート及び折り畳みディスプレイ | |
CN111769214B (zh) | 掩膜板及其制作方法 | |
CN107785402B (zh) | 一种oled显示面板及其制作方法、显示装置 | |
KR20150011833A (ko) | 스크린 인쇄용 메쉬 부재 및 스크린 인쇄판 | |
US20210408181A1 (en) | Array substrate and manufacturing method thereof, display device | |
TWI345434B (en) | Substrate with plane patterns and display device using the same | |
CN110967884A (zh) | 一种阵列基板及显示面板 | |
KR20220024278A (ko) | 증착 마스크용 기판, 증착 마스크 및 이의 제조방법 | |
CN110187545B (zh) | 彩膜基板以及显示面板 | |
CN108710242B (zh) | 一种显示面板和显示装置 | |
CN104298018A (zh) | 阵列基板及其制作方法、显示面板 | |
CN111864123B (zh) | 显示面板、掩膜板组以及显示装置 | |
CN110568646A (zh) | 显示面板及其制作方法 | |
WO2021052259A1 (zh) | 一种掩膜版、掩膜版制备方法以及驱动背板母板 | |
CN111509016B (zh) | 掩膜版及其制作方法 | |
CN112198706A (zh) | 彩膜基板及其制作方法、显示面板 | |
CN216956665U (zh) | 掩膜版、显示面板及显示装置 | |
CN111443533A (zh) | 像素单元及液晶显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |