CN102262319B - 液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器。其中液晶显示基板，包括衬底基板，以及形成在衬底基板上的薄膜层，液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成有封框胶凹槽，封框胶凹槽用于容纳封框胶。本发明实施例还提供了一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层，且在所述液晶面板的边缘区域填充有封框胶，所述彩膜基板或阵列基板中的至少一个采用上述的液晶显示基板，本发明还提供了一种液晶显示器。上述液晶显示基板以及液晶面板，能够将封框胶限制在固定区域内，有效防止封框胶内部容易分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源的对称性的影响，提高产品品质。

Description

液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器

技术领域

本发明涉及液晶显示技术，尤其涉及一种液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，以下简称：LCD)具有体积小、功耗小、无辐射等特点，在屏幕尺寸和显示质量方面都取得了很大进步，无论是电脑显示器还是电视机方面都快速取代CRT成为了市场主流产品。

在液晶显示器中，液晶面板周边区域的封框胶对产品品质影响很大，是实现高品质液晶显示的基础，现有液晶面板的基本构造，由偏光片、阵列基板、彩膜基板、液晶分子等构成。封框胶内部通常加入保持面板边缘盒厚的玻璃纤维，封框胶涂布时将已经与玻璃纤维混合均匀的封框胶按照固定位置涂布在面板的外围，它的截面积、位置与宽度都要经过检测符合标准。在液晶显示器的制造过程中，是在一种基板上进行封框胶涂布，同时在另一种基板上面进行液晶滴下，然后将两张基板放入对盒设备进行真空对盒，再对对盒完成后的基板进行光固化或热固化。

液晶面板显示区域的外围，即在彩膜基板的外围，包括冗余的黑矩阵、红、绿、蓝像素；或在阵列基板的外围，包括各种栅极电路、数据电路、维修电路、测试电路等。上述各个区域内，不同的电路由不同的结构来实现，有的包括栅极、有源层，有的包括栅极、有源层、源漏极、PVX层，有的包括栅极、ITO层等，这使得各个位置的厚度差异较大，当封框胶经过的区域的厚度差异较大时，滴注液晶成盒后在相应位置的盒厚也会有很大差异，如下表所示，是一种液晶显示面板的封框胶各不同涂布区域的厚度表：

类别	厚度(μm)
		栅线区域+黑矩阵	2.18
数据线区域+黑矩阵	2.15
		空白区域+黑矩阵	1.84
栅极层+绝缘层+源漏极层+绝缘层+黑矩阵	2.45

由于液晶显示面板周边的封框胶区域盒厚不均，而且现有技术中的封框胶内部容易分离出离子杂质，上述离子杂质进行液晶内部会形成残余直流电子，进而影响杂质聚集区域的交流电源的对称性而产生线残像。

发明内容

本发明提供一种液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响。

本发明提供一种液晶显示基板，包括衬底基板，以及形成在所述衬底基板上的薄膜层，所述液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成有封框胶凹槽，所述封框胶凹槽用于容纳封框胶。

所述液晶显示基板为彩膜基板，所述薄膜层包括黑矩阵，所述彩膜基板边缘区域的黑矩阵上形成有封框胶凹槽，所述封框胶凹槽用于容纳封框胶。

所述液晶显示基板为阵列基板，所述薄膜层包括黑矩阵，所述阵列基板边缘区域的黑矩阵上形成有封框胶凹槽，所述封框胶凹槽用于容纳封框胶。

所述液晶显示面板为阵列基板，所述薄膜层包括绝缘层，所述阵列基板边缘区域的绝缘层上形成有封框胶凹槽，所述封框胶凹槽用于容纳封框胶。

本发明还提供一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层，且在所述液晶面板的边缘区域填充有封框胶，所述彩膜基板或阵列基板中的至少一个采用上述的液晶显示基板。

本发明还提供一种液晶显示器，包括外框架和液晶面板，所述液晶面板采用上述的液晶面板。

本发明还提供一种液晶显示基板的制造方法，包括在衬底基板上形成薄膜层的步骤，所述在液晶显示基板上形成薄膜层的步骤包括：

在衬底基板上沉积薄膜层材料；

通过构图工艺形成薄膜层，并在所述液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽。

本实施例提供的液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器，通过在液晶面板边缘区域设置用于容纳封框胶的封框胶凹槽，上述封框胶凹槽能够将封框胶限制在固定区域内，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响，提高产品品质。

附图说明

图1为本发明实施例中彩膜基板的剖切结构示意图一；

图2为本发明实施例中彩膜基板的剖切结构示意图二；

图3为本发明实施例中彩膜基板的剖切结构示意图三；

图4为本发明实施例中阵列基板的剖切结构示意图一；

图5为本发明实施例中阵列基板的剖切结构示意图二；

图6为本发明实施例中阵列基板的剖切结构示意图三；

图7为本发明实施例中阵列基板的剖切结构示意图四；

图8为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图一；

图9为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图二；

图10为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图三；

图11为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图四；

图12为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图五；

图13为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图六；

图14为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图七；

图15为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图八；

图16为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图九；

图17为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图十；

图18为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图十一；

图19为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图十二；

图20为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图十三；

图21为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图十四；

图22为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图十五。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

为解决现有技术中会由于封框胶内部容易分离出离子杂质，进而影响杂质聚集区域的交流电源的对称性而产生线残像的缺陷，本发明实施例提供了一种液晶显示基板，该液晶显示基板包括衬底基板，以及形成在衬底基板上的薄膜层，且上述液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成有封框胶凹槽，封框胶凹槽用于容纳封框胶。通过上述的实施方式，能够使得在彩膜基板和阵列基板对盒后，将封框胶封闭在一个相对固定的区域内。

具体的上述对液晶显示基板上的薄膜层进行改进可以是对黑矩阵或绝缘层进行改进，例如是对彩膜基板上的黑矩阵层进行改进，对阵列基板上的黑矩阵进行改进，或者是对阵列基板上的绝缘层进行改进。

图1为本发明实施例中彩膜基板的剖切结构示意图一，给出了对彩膜基板上的黑矩阵进行改进的具体实施例，如图1所示，该彩膜基板包括衬底基板11，以及形成在上述衬底基板11上的黑矩阵12和像素树脂13，其中彩膜基板边缘区域的黑矩阵12上形成有封框胶凹槽14，上述的封框胶凹槽14用于容纳封框胶。

本实施例提供的彩膜基板，其中在彩膜基板边缘区域设置用于容纳封框胶的封框胶凹槽，上述的封框胶凹槽能够将封框胶限制在固定区域内，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源的对称性的影响，提高产品品质。

本发明上述实施例中在彩膜基板边缘区域的黑矩阵上形成封框胶凹槽，上述封框胶凹槽的截面形状可以为矩形、梯形或凹弧线形，具体的可以有多种实施方式，例如在黑矩阵层上形成两条黑矩阵凸起15，上述的两条黑矩阵凸起15之间构成一个封框胶凹槽，另外上述的黑矩阵凸起15的截面形状可以是矩形或者是梯形。另外如图3所示的实施例，还可以进一步的在黑矩阵凸起15的外侧设置低于上述黑矩阵凸起的小凸起16，上述小凸起16能够对面板内的液晶层起到阻挡作用，使面板内液晶层与封框胶之间又增加了一个缓冲区域。

上述封框胶凹槽的高度可以为0.5～2μm，所述封框胶凹槽的宽度为0.3～5mm，具体的可以根据在形成液晶面板时产品的尺寸和盒厚不同而有所不同。

在图1所示的具体实施例中，封框胶凹槽底部的黑矩阵材料的厚度与凹槽外其他区域的黑矩阵材料的厚度相同。另外具体的实施例中，还可以将封框胶凹槽底部可以延伸至所述衬底基板，即可以在制造工艺中将封框胶底部的黑矩阵材料全部刻蚀掉，具体的可如图2所示；或者是在封框胶凹槽底部仍存在黑矩阵材料，但该黑矩阵材料的厚度低于凹槽外其他区域的黑矩阵材料的厚度，具体可如图3所示。

另外对于在阵列基板上设置黑矩阵的情况，也可以是在在阵列基板边缘区域的黑矩阵上形成有封框胶凹槽，该封框胶凹槽用于容纳封框胶。此时在阵列基板的衬底基板上还形成有导电图案，上述在阵列基板上形成的封框胶凹槽的高度可以为0.5～2μm，封框胶凹槽的宽度为0.3～5mm，具体的可以根据形成液晶面板时产品的尺寸和盒厚不同而有所不同。

另外也可以在阵列基板的绝缘层上形成封框胶凹槽，可参见图4所示的实施例，图4为本发明实施例中阵列基板的剖切结构示意图一，如图4所示，上述的阵列基板包括衬底基板21、所述衬底基板21上形成有导电图案22和绝缘层23，上述的导电图案22包括栅线层和公共电极层等，并且在上述的阵列基板边缘区域的绝缘层23上形成有封框胶凹槽24，上述的封框胶凹槽24用于容纳封框胶。

本发明上述实施例提供的阵列基板，在阵列基板边缘区域的绝缘层上形成有封框胶凹槽，上述的封框胶凹槽能够在液晶面板对盒后，将封框胶限制在固定区域内，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响，提高产品品质。

本发明上述实施例中的封框胶凹槽的截面形状可以为矩形、梯形或凹弧线形，具体的可以有多种实施方式，其中的上述的封框胶凹槽可以是由两条在绝缘层平面上设置的绝缘层凸起25形成，此时上述的绝缘层凸起25的截面可以为矩形，或者是梯形。另外在图4所示的实施例中，其中的封框胶凹槽底部的绝缘层材料厚度与凹槽外其他区域的绝缘层厚度相同；还可以是如图5所示，封框胶凹槽底部的绝缘层被全部刻蚀掉；或者是如图6所示，封框胶凹槽底部的绝缘层的厚度略小于凹槽外其他区域的绝缘层厚度。图4～图6所示实施例中是以在阵列基板的绝缘层上形成封框胶凹槽为例进行说明，另外在阵列基板的黑矩阵上形成封框胶凹槽也是类似的。

另外如图7所示，上述实施例中的封框胶凹槽24还可以是形成在一绝缘层平台26上，该绝缘层平台26的高度高于绝缘层23其他部分的高度，在绝缘层平台26的上部凹进一部分以形成封框胶凹槽24，且上述的封框胶凹槽24的形状也可以设置为倒梯形，对于彩膜基板或者是阵列基板的黑矩阵上形成封框胶凹槽的情形，也可以是将封框胶凹槽形成在一黑矩阵平台上。上述在形成封框胶凹槽的区域先形成一个平台，相对比厚度较小的绝缘层区域，能够形成深度更大的封框胶凹槽，以形成足够大的空间容纳封框胶。

上述各个实施中提供的阵列基板上设置的封框胶凹槽的高度可以为0.1～2μm，所述封框胶凹槽的宽度为0.3～6mm，上述各个实施例中阵列基板，通过设置封框胶凹槽，能够将封框胶限制在固定区域内。

本发明实施例还提供了一种液晶面板，该液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层，且在所述液晶面板的边缘区域填充有封框胶，所述彩膜基板或阵列基板中的至少一个采用上述实施例提供的液晶显示基板。具体的可以是仅在彩膜基板上设置封框胶凹槽，或者是仅在阵列基板上设置封框胶凹槽，还可以同时在彩膜基板和阵列基板上设置封框胶凹槽。其中在阵列基板上设置封框胶凹槽时包括两种情况，即包括在阵列基板的黑矩阵上设置封框胶凹槽，或者是在阵列基板的绝缘层上设置封框胶凹槽。

若同时在彩膜基板和阵列基板上设置了封框胶凹槽，将上述两个封框胶凹槽对齐即可实现将封框胶限制在固定区域。

图8为本发明具体实施例中液晶面板剖切结构示意图一，如图8所示，液晶面板包括对盒设置的彩膜基板1和阵列基板2，上述的彩膜基板1和阵列基板2之间填充有液晶层3，且在上述的彩膜基板1与阵列基板2的边缘区域均设置有封框胶凹槽，在对盒后形成一固定区域4，上述固定区域4内填充有封框胶5。对于仅在彩膜基板或者是仅在阵列基板上设置封框胶凹槽的情况，可以参照图9或图10，封框胶凹槽的截面形状可以为矩形、梯形或凹弧线形，黑矩阵凸起15的截面形状可以是矩形或者是梯形。例如彩膜基板上形成的封框胶凹槽的形状可参照如图1～图3所示，阵列基板上形成的封框胶凹槽的形状可参照图4-图6所示。

通过上述的实施例，在液晶面板的彩膜基板或者是阵列基板上设置封框胶凹槽，上述的封框胶凹槽能够将封框胶限制在固定区域内，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响，提高产品品质。

如图11～22所示，还给出了本发明实施例中液晶面板的几个具体实施例。如图11所示，液晶面板的彩膜基板在涂布封框胶的对应区域形成有封框胶凹槽，上述封框胶凹槽用于容纳封框胶，两边凸起起到固定和包裹封框胶的作用，并且上述两侧凸起的截面形状可以设为矩形，除上述的封框胶凹槽区域外，黑矩阵的厚度通常不大于1.5μm，在本实施例中，封框胶凹槽底部的黑矩阵厚度也可以设置为与凹槽区域外的黑矩阵厚度相同，即不大于1.5μm，而两侧凸起的高度可以为0.5～2μm，并且还可以可进一步的在外围设置高度为0.5～1μm的小凸起，上述的小凸起能够对面板内的液晶层起到阻挡作用，使面板内液晶与封框胶又增加了一个缓冲区域，进一步防止封框胶内部分离出离子杂质对液晶层的污染。另外对于不同型号的产品，封框胶凹槽的高度可随盒厚不同而有所不同。

另外对于上述的阵列基板，其中的金属层，即栅极层和公共电极层根据实际产品需要设计成不同的图案，而对于绝缘层的设计，在涂布封框胶的对应区域设置封框胶凹槽，如图11所示，上述的封框胶凹槽由两条绝缘层凸起构成，在凹槽低处用来容纳封框胶，而两侧的高处可以起到固定、包裹封框胶的作用，并且凹槽低处的绝缘层的厚度与现有绝缘层的厚度相同，通常情况下不大于1μm，而对于两条绝缘层凸起的高度可以设为0.1～1μm，具体的可以根据不同种类产品的盒厚的不同而有所区别。

另外如图12所示，为另一种液晶面板的剖切结构示意图，本实施例中的彩膜基板与图11所示实施例中的彩膜基板的结构相同，而阵列基板的结构有所不同，具体的，上述阵列基板的金属层，即栅极层和公共电极层根据实际产品需要设计成不同的图案，且绝缘层的厚度在有效显示区域以及位于边缘的非封框胶区域厚度相同，而在涂布封框胶的区域设置有一个封框胶凹槽，上述的封框胶凹槽设置在一个绝缘层平台上，封框胶凹槽的低处厚度与有效显示区域的厚度相同，通常情况下不大于1μm，而封框胶凹槽的高度，可以根据实际产品的盒厚的不同而有所区别，例如可以为0.1～1μm，上述在绝缘层平台上形成的封框胶凹槽也可以起到固定、包裹封框胶的作用。

如图13所示，给出了另一个具体实施例的液晶面板的剖切结构示意图，本实施例中的彩膜基板与图11所示实施例略有不同，即在封框胶凹槽底部完全没有黑矩阵，使得填充的封框胶与衬底基板直接接触；本实施例中阵列基板的结构与图11所示实施例中阵列基板结构相同。

如图14所示，给出了另一个具体实施例的液晶面板的剖切结构示意图，如图14所示，本实施例中的彩膜基板采用图13所示实施例中的彩膜基板，阵列基板采用图12所示实施例中的阵列基板。

如图15所示，给出了另一个具体实施例液晶面板的剖切结构示意图，在本实施例中，彩膜基板的两条黑矩阵凸起的截面形状与图11～图14所示实施例中的黑矩阵凸起不同，本实施例中两条黑矩阵凸起的上下高度不同，截面为一梯形，上述的黑矩阵凸起也可以起到固定、包裹封框胶的作用，而凹槽的低处能够起到容纳封框胶的作用。本实施例中的阵列基板的结构可如图11所示实施例中的阵列基板。另外如图16所示，其中的彩膜基板如图15所示实施例中的彩膜基板设计，而阵列基板可以如图12所示实施例中的阵列基板设计。

如图17所示，在图15所示实施例的基础上，将彩膜基板上的黑矩阵凹槽低处的黑矩阵材料完全刻蚀掉，使得封框胶直接与衬底基板接触。而阵列基板的结构和图16所示实施例中阵列基板结构相同。

如图18所示，在图16所示实施例的基础上，将彩膜基板上的黑矩阵凹槽低处的黑矩阵材料完全刻蚀掉，使得封框胶直接与衬底基板接触。而阵列基板的结构和图17所示实施例中阵列基板结构相同。

如图19所示，给出了另一个具体实施例中液晶面板的剖切结构示意图，其中液晶面板中彩膜基板的结构与图16所示实施例中有所不同，即其中仅在封框胶凹槽两侧设置两条黑矩阵凸起，而不设置两侧高度较低的黑矩阵凸起。阵列基板的结构与图16所示实施例相同。

如图20所示，给出了另一个具体实施例中液晶面板的剖切结构示意图，其中液晶面板中彩膜基板的结构与图19所示实施例中的彩膜基板相比，区别在于其中的封框胶凹槽低处无黑矩阵材料。阵列基板的结构与图16所示实施例相同。

如图21所示，给出了另一个具体实施例中液晶面板的剖切结构示意图，其中液晶面板中彩膜基板的结构与图20所示实施例中的彩膜基板相同，而阵列基板采用图17所示实施例中的阵列基板。

如图22所示，给出了另一个具体实施例中液晶面板的剖切结构示意图，其中液晶面板中彩膜基板采用图19所示实施例中的彩膜基板，而阵列基板采用如图21所示实施例中的阵列基板。

本发明上述实施例中给出了多种液晶面板的实施方式，其中图8～图22均为同时在彩膜基板和阵列基板上设置封框胶凹槽，同时也可以是仅在其中一个基板上设置封框胶凹槽。上述实施例中通过在阵列基板和/或彩膜基板上设置封框胶凹槽，上述的封框胶凹槽能够将封框胶限制在固定区域内，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响，提高产品品质。

本发明实施例还提供了一种液晶显示器，该液晶显示器包括外框架和液晶面板，其中所述液晶面板采用上述图8～图22给出的实施例中的任一种液晶面板。该液晶显示器通过在液晶面板的边缘区域形成容纳封框胶的固定区域，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响，提高产品品质。

本发明实施例还提供了一种液晶显示基板的制造方法，本实施例中提供的制造方法，能够制成上述各个实施例中提供的显示面板。具体的该制造方法包括在衬底基板上形成在形成薄膜层的步骤，并且该步骤具体包括：

在衬底基板上沉积薄膜层材料；

通过构图工艺形成薄膜层，并在所述液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽。

本实施例中通过对曝光工艺进行控制，在液晶显示基板上形成高度不同的薄膜层，以形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽。上述的封框胶凹槽在对盒时，能够将封框胶限制在固定区域内，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响，提高产品品质。

具体的上述的液晶显示基板可以为彩膜基板，薄膜层包括黑矩阵，上述方法还包括在衬底基板上形成像素树脂的步骤；上述液晶显示基板可以为阵列基板，薄膜层包括黑矩阵，上述方法还包括在衬底基板上形成导电图案的步骤；上述液晶显示基板可以为阵列基板，薄膜层包括绝缘层，上述方法还包括在衬底基板上形成导电图案的步骤。

另外通过构图工艺形成薄膜层，并在所述液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽，可以具体为通过使用双色调掩模板以形成薄膜层，并在液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽；或者是通过对曝光时间进行控制以形成薄膜层，并在液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽。

具体的上述可以使用半色调掩模板或者是灰色调掩模板在液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成封框胶凹槽。具体的可包括如下步骤，首先在衬底基板上沉积一薄膜层，并在上述的薄膜层上涂覆光刻胶；然后使用双色调掩模板进行曝光处理以形成封框胶凹槽，具体的在形成如图1所示的封框胶凹槽时，进行曝光处理的过程可以具体是，掩模板的完全透光区域对应液晶显示基板的有效显示区域，完全不透光区域对应黑矩阵凸起的部分，部分透光区域对应封框胶凹槽的底部以及黑矩阵上非封框胶凹槽以外的其他区域；上述进行显影处理后，液晶显示基板的有效显示区域的光刻胶被全部清除，进行第一次刻蚀工艺即可将其上分布的黑矩阵材料刻蚀掉；然后进行灰化处理，将封框胶凹槽的底部以及黑矩阵上非封框胶凹槽以外的其他区域的光刻胶灰化掉，然后再进行第二次刻蚀工艺，刻蚀掉上述区域的部分黑矩阵材料，形成封框胶凹槽。另外对于不同形式的封框胶凹槽，其中曝光处理的方式也会有所不同，例如获得图2所示的封框胶凹槽时，其中的封框胶凹槽底部也对应完全透光区域。另外本发明实施中使用双色调掩模板的方式进行处理以获得封框胶凹槽的方式，也可以通过对不同区域的曝光时间进行控制而达到，或者是在刻蚀时对不同区域的刻蚀时间进行控制而达到。

本实施例中在进行液晶显示基板的制造工艺时，其与现有技术中的液晶显示基板制造工艺基本相同，区别仅在于在制作薄膜层时，可以通过对曝光工艺进行控制，在封框胶涂布区域对薄膜层进行处理以形成封框胶凹槽。

本发明上述实施例提供的液晶面板以及彩膜基板、阵列基板的制造方法，通过在彩膜基板、阵列基板或者是同时在彩膜基板和阵列基板的边缘区域设置用于容纳封框胶的封框胶凹槽，上述的封框胶凹槽能够将封框胶限制在固定区域内，能够有效防止封框胶内部分离出离子杂质，降低对杂质聚集区域的交流电源对称性的影响，提高产品品质。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种液晶显示基板，包括衬底基板，以及形成在所述衬底基板上的薄膜层，其特征在于，所述液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成有封框胶凹槽，所述封框胶凹槽用于容纳封框胶；

其中，所述液晶显示基板为彩膜基板，所述薄膜层包括黑矩阵，所述彩膜基板边缘区域的黑矩阵上形成有封框胶凹槽，所述封框胶凹槽用于容纳封框胶，封框胶凹槽由两条与所述黑矩阵一体形成的黑矩阵凸起形成；

或者，所述液晶显示基板为阵列基板，所述薄膜层包括黑矩阵，所述阵列基板边缘区域的黑矩阵上形成有封框胶凹槽，所述封框胶凹槽用于容纳封框胶，封框胶凹槽由两条与所述黑矩阵一体形成的黑矩阵凸起形成；

所述黑矩阵凸起外侧设置有低于所述黑矩阵凸起的小凸起。

2.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，所述黑矩阵凸起的截面形状为矩形或梯形。

3.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，所述封框胶凹槽的高度为0.5～2μm，所述封框胶凹槽的宽度为0.3～5mm。

4.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，所述封框胶凹槽的截面形状为矩形、梯形或凹弧线形。

5.根据权利要求1所述的液晶显示基板，其特征在于，所述封框胶凹槽底部延伸至所述衬底基板，或所述封框胶凹槽底部与所述衬底基板之间间隔有薄膜层。

6.一种液晶面板，包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板和彩膜基板之间填充有液晶层，且在所述液晶面板的边缘区域填充有封框胶，其特征在于，所述彩膜基板或阵列基板中的至少一个采用权利要求1-5其中任一项所述的液晶显示基板。

7.一种液晶显示器，包括外框架和液晶面板，其特征在于，所述液晶面板采用权利要求6所述的液晶面板。

8.一种液晶显示基板的制造方法，其特征在于，包括在衬底基板上形成薄膜层的步骤，其特征在于，所述在衬底基板上形成薄膜层的步骤包括：

在衬底基板上沉积薄膜层材料；

通过构图工艺形成薄膜层，并在所述液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽；

其中，所述液晶显示基板为彩膜基板，所述薄膜层包括黑矩阵，且所述封框胶凹槽由两条与所述黑矩阵一体形成的黑矩阵凸起形成；

或者，所述液晶显示基板为阵列基板，所述薄膜层包括黑矩阵，且所述封框胶凹槽由两条与所述黑矩阵一体形成的黑矩阵凸起形成；

所述黑矩阵凸起外侧设置有低于所述黑矩阵凸起的小凸起。

9.根据权利要求8所述的液晶显示基板的制造方法，其特征在于，所述液晶显示基板为彩膜基板，所述薄膜层包括黑矩阵，所述在液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽包括：

通过使用双色调掩模板以形成黑矩阵，并在彩膜基板边缘区域的黑矩阵上形成用于容纳封框胶的所述封框胶凹槽；或

通过对曝光时间进行控制以形成黑矩阵，并在彩膜基板边缘区域的黑矩阵上形成用于容纳封框胶的所述封框胶凹槽。

10.根据权利要求8所述的液晶显示基板的制造方法，其特征在于，所述液晶显示基板为阵列基板，所述薄膜层包括黑矩阵，所述在液晶显示基板边缘区域的薄膜层上形成用于容纳封框胶的封框胶凹槽包括：

通过使用双色调掩模板以形成黑矩阵，并在阵列基板边缘区域的黑矩阵上形成用于容纳封框胶的所述封框胶凹槽；或

通过对曝光时间进行控制以形成黑矩阵，并在阵列基板边缘区域的黑矩阵上形成用于容纳封框胶的所述封框胶凹槽。