CN105467660A - 彩膜基板的制作方法 - Google Patents

彩膜基板的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105467660A
CN105467660A CN201610003369.7A CN201610003369A CN105467660A CN 105467660 A CN105467660 A CN 105467660A CN 201610003369 A CN201610003369 A CN 201610003369A CN 105467660 A CN105467660 A CN 105467660A
Authority
CN
China
Prior art keywords
several
color
black matrix
black
photoresistance separation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201610003369.7A
Other languages
English (en)
Inventor
孙海燕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201610003369.7A priority Critical patent/CN105467660A/zh
Publication of CN105467660A publication Critical patent/CN105467660A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明提供一种彩膜基板的制作方法，通过采用一道半色调光罩对黑色遮光层进行曝光、显影，同时制作出黑色矩阵和位于黑色矩阵上的黑色光阻间隙物，有效避免彩色光阻层上相邻色阻块叠加或者相邻色阻块的高度不均时产生的混色和色差等问题，可以有效改善产品视角和提升产品显示品质，同时也可以节省制程工艺和材料，提升良率。

Description

彩膜基板的制作方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板的制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
现有市场上的液晶显示装置大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlightmodule)。液晶显示面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，两片玻璃基板中间有许多垂直和水平的细小电线，通过通电与否来控制液晶分子改变方向，将背光模组的光线折射出来产生画面。
通常液晶显示面板由彩膜(CF，ColorFilter)基板、薄膜晶体管(TFT，ThinFilmTransistor)基板、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，LiquidCrystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(彩膜基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成彩膜基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在彩膜基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。
彩膜基板是液晶显示器的重要组成部分，如图1-2所示，现有的彩膜基板的制作过程为：在基板100上依次制作黑色矩阵200、彩色光阻层300、平坦层或者公共电极层400、及光阻间隙物500；目前的液晶显示装置，当人眼在不同角度观察时候，在彩色光阻层300的相邻色阻块310的叠加(Overlay)位置，或者相邻色阻块310的高度不均的位置，其发出的光会发生重叠，就会产生混色，造成画面不纯，影响画面显示效果。
目前的手机等智能移动和穿戴设备，其彩膜要求更加高精细度，因此黑色矩阵200及彩色光阻层300会要求更细的线宽，在彩色光阻层300的制作过程中，更容易产生相邻色阻块310的叠加引起混色，造成产品品质下降。
发明内容
本发明的目的在于提供一种彩膜基板的制作方法，可有效避免相邻色阻块叠加或者相邻色阻块的高度不均时产生的混色和色差等问题，有效改善产品视角和提升产品显示品质，同时也可以节省制程工艺和材料，提升良率。
为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：提供一基板，在所述基板上形成彩色光阻层、及黑色遮光层，采用一道半色调光罩对所述黑色遮光层进行曝光、显影，同时得到黑色矩阵、及位于所述黑色矩阵上的数个光阻间隙物。
具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板，在所述基板上形成彩色光阻层，所述彩色光阻层包括数个红色色阻块、数个绿色色阻块、及数个蓝色色阻块；
步骤2、在所述彩色光阻层上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层，采用一道半色调光罩对所述黑色遮光层进行曝光、显影，同时得到黑色矩阵、及位于所述黑色矩阵上的数个光阻间隙物。
所述黑色矩阵位于所述彩色光阻层上相邻的色阻块的交界处；所述数个光阻间隙物包括数个主要光阻间隙物及数个次要光阻间隙物；所述主要光阻间隙物的高度大于所述次要光阻间隙物的高度。
具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板，在所述基板上采用半色调光罩制程形成彩色光阻层，所述彩色光阻层包括数个红色色阻块、数个绿色色阻块、及数个蓝色色阻块，同时所述彩色光阻层具有数条横向沟槽与数条纵向沟槽，所述数条横向沟槽与数条纵向沟槽位于相邻的色阻块的交界处；
步骤2、在所述彩色光阻层上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层，采用一道半色调光罩对所述黑色遮光层进行曝光、显影，同时得到位于数条横向沟槽与数条纵向沟槽内的黑色矩阵、及位于所述黑色矩阵上的数个光阻间隙物。
所述数个光阻间隙物包括数个主要光阻间隙物及数个次要光阻间隙物；所述主要光阻间隙物的高度大于所述次要光阻间隙物的高度。
具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板，在所述基板上形成第一黑色矩阵，在所述第一黑色矩阵及基板上形成彩色光阻层，所述彩色光阻层包括数个红色色阻块、数个绿色色阻块、及数个蓝色色阻块；
步骤2、在所述彩色光阻层上制作平坦层，在所述平坦层上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层，采用一道半色调光罩对所述黑色遮光层进行曝光、显影，同时得到第二黑色矩阵、及位于所述第二黑色矩阵上的数个光阻间隙物。
所述第一黑色矩阵对应于所述彩色光阻层上相邻的色阻块的交界处设置；所述第二黑色矩阵对应于所述第一黑色矩阵设置，且所述第二黑色矩阵的宽度小于所述第一黑色矩阵的宽度；
所述数个光阻间隙物包括数个主要光阻间隙物及数个次要光阻间隙物；所述主要光阻间隙物的高度大于所述次要光阻间隙物的高度。
具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板，在所述基板上形成第一黑色矩阵，在所述第一黑色矩阵及基板上采用半色调光罩制程形成彩色光阻层，所述彩色光阻层包括数个红色色阻块、数个绿色色阻块、及数个蓝色色阻块，同时所述彩色光阻层具有对应于所述第一黑色矩阵上方的数条横向沟槽与数条纵向沟槽；
步骤2、在所述彩色光阻层上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层，采用一道半色调光罩对所述黑色遮光层进行曝光、显影，同时得到位于数条横向沟槽与数条纵向沟槽内的第二黑色矩阵、及位于所述第二黑色矩阵上的数个光阻间隙物。
所述第一黑色矩阵对应于所述彩色光阻层上相邻的色阻块的交界处设置；所述第二黑色矩阵的宽度小于所述第一黑色矩阵的宽度；
所述数个光阻间隙物包括数个主要光阻间隙物及数个次要光阻间隙物；所述主要光阻间隙物的高度大于所述次要光阻间隙物的高度。
本发明的有益效果：本发明提供的一种彩膜基板的制作方法，通过采用一道半色调光罩对黑色遮光层进行曝光、显影，同时制作出黑色矩阵和位于黑色矩阵上的黑色光阻间隙物，有效避免彩色光阻层上相邻色阻块叠加或者相邻色阻块的高度不均时产生的混色和色差等问题，可以有效改善产品视角和提升产品显示品质，同时也可以节省制程工艺和材料，提升良率。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有的彩膜基板的剖视示意图；
图2为现有的彩膜基板的俯视示意图；
图3为本发明的彩膜基板的制作方法第一实施例的示意流程图；
图4-5为图3的彩膜基板的制作方法的步骤1的示意图；
图6-8为图3的彩膜基板的制作方法的步骤2的示意图；
图9为本发明的彩膜基板的制作方法第二实施例的示意流程图；
图10-11为图9的彩膜基板的制作方法的步骤1的示意图；
图12-14为图9的彩膜基板的制作方法的步骤2的示意图；
图15为本发明的彩膜基板的制作方法第三实施例的示意流程图；
图16-17为图15的彩膜基板的制作方法的步骤1的示意图；
图18-20为图15的彩膜基板的制作方法的步骤2的示意图；
图21为本发明的彩膜基板的制作方法第四实施例的示意流程图；
图22-23为图21的彩膜基板的制作方法的步骤1的示意图；
图24-26为图21的彩膜基板的制作方法的步骤2的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
本发明提供一种彩膜基板的制作方法，包括：提供一基板，在所述基板上形成彩色光阻层、及黑色遮光层，采用一道半色调光罩对所述黑色遮光层进行曝光、显影，同时得到黑色矩阵、及位于所述黑色矩阵上的数个光阻间隙物。
请参阅图3，为本发明的彩膜基板的制作方法的第一实施例，具体包括如下步骤：
步骤1、如图4-5所示，提供一基板10，在所述基板10上形成彩色光阻层20，所述彩色光阻层20包括数个红色色阻块21、数个绿色色阻块22、及数个蓝色色阻块23。
具体的，所述基板10为透明基板，优选为玻璃基板。
具体的，所述彩色光阻层20还可以包括数个白色色阻块。进一步的，所述红色色阻块21、数个绿色色阻块22、数个蓝色色阻块23、及数个白色色阻块的制作顺序不做限定，可根据需要进行选择。
步骤2、如图6-8所示，在所述彩色光阻层20上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，采用一道半色调光罩60对所述黑色遮光层50进行曝光、显影，同时得到黑色矩阵30、及位于所述黑色矩阵30上的数个光阻间隙物40。
具体的，所述黑色矩阵30位于所述彩色光阻层20上相邻的色阻块21/22/23的交界处。所述数个光阻间隙物40包括数个主要光阻间隙物41及数个次要光阻间隙物42。所述主要光阻间隙物41的高度大于所述次要光阻间隙物42的高度。
具体的，所述黑色矩阵30包括数条横向黑色遮光带31及数条纵向黑色遮光带32，所述数条横向黑色遮光带31与数条纵向黑色遮光带32垂直交叉排列，形成数个交叉位点35，所述数个光阻间隙物40分别位于数个交叉位点35上。
具体的，所述步骤2中，还可以在所述彩色光阻层20上首先形成平坦层或像素电极层，之后在所述平坦层或像素电极层上涂布黑色遮光材料，经曝光、显影后形成黑色矩阵30及光阻间隙物40。
上述彩膜基板的制作方法，首先形成彩色光阻层20，之后在彩色光阻层20上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，利用一道半色调光罩对黑色遮光层50进行曝光、显影，同时制作出黑色矩阵30和位于黑色矩阵30上的黑色光阻间隙物40，有效避免彩色光阻层30上相邻色阻块21/22/23叠加或者相邻色阻块21/22/23的高度不均时产生的混色和色差等问题，可以有效改善产品视角和提升产品显示品质，同时也可以节省制程工艺和材料，提升良率。
请参阅图9，为本发明的彩膜基板的制作方法的第二实施例，具体包括如下步骤：
步骤1、如图10-11所示，提供一基板10，在所述基板10上采用半色调光罩制程形成彩色光阻层20，所述彩色光阻层20包括数个红色色阻块21、数个绿色色阻块22、及数个蓝色色阻块23，同时所述彩色光阻层20具有数条横向沟槽25与数条纵向沟槽26，所述数条横向沟槽25与数条纵向沟槽26位于相邻的色阻块21/22/23的交界处。
具体的，所述基板10为透明基板，优选为玻璃基板。
具体的，所述彩色光阻层20还可以包括数个白色色阻块。进一步的，所述红色色阻块21、数个绿色色阻块22、数个蓝色色阻块23、及数个白色色阻块的制作顺序不做限定，可根据需要进行选择。
步骤2、如图12-14所示，在所述彩色光阻层20上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，采用一道半色调光罩60对所述黑色遮光层50进行曝光、显影，同时得到位于数条横向沟槽25与数条纵向沟槽26内的黑色矩阵30、及位于所述黑色矩阵30上的数个光阻间隙物40。
具体的，所述步骤2还可以包括：在所述黑色矩阵30、光阻间隙物40、及彩色光阻层20上形成平坦层或像素电极层。
具体的，所述数个光阻间隙物40包括数个主要光阻间隙物41及数个次要光阻间隙物42。所述主要光阻间隙物41的高度大于所述次要光阻间隙物42的高度。
由于黑色矩阵30位于所述数条横向沟槽25与数条纵向沟槽26内，因而降低了黑色矩阵30及光阻间隙物40与彩色光阻层20之间的断差，从而在后续制作平坦层或像素电极层时，可以节约材料，避免浪费。
具体的，所述黑色矩阵30包括位于数条横向沟槽25内的数条横向黑色遮光带31及位于数条纵向沟槽26内的数条纵向黑色遮光带32，所述数条横向黑色遮光带31与数条纵向黑色遮光带32垂直交叉排列，形成数个交叉位点35，所述数个光阻间隙物40分别位于数个交叉位点35上。
上述彩膜基板的制作方法，首先采用半色调光罩制程制作彩色光阻层20，在所述彩色光阻层20上形成数条横向与纵向沟槽25、26，之后在彩色光阻层20上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，利用一道半色调光罩对黑色遮光层50进行曝光、显影，同时制作出位于沟槽内的黑色矩阵30和位于黑色矩阵上的黑色光阻间隙物40，有效避免彩色光阻层20上相邻色阻块21/22/23叠加或者相邻色阻块21/22/23的高度不均时产生的混色和色差等问题，可以有效改善产品视角和提升产品显示品质，也可以节省制程工艺和材料，提升良率；同时由于将黑色矩阵30设于彩色光阻层20的沟槽之中，从而降低了黑色矩阵30及光阻间隙物40与彩色光阻层20之间的断差，从而在后续制作平坦层或像素电极层时，可以节约材料，避免浪费。
请参阅图15，为本发明的彩膜基板的制作方法的第三实施例，具体包括如下步骤：
步骤1、如图16-17所示，提供一基板10，在所述基板10上形成第一黑色矩阵70，在所述黑色矩阵20及基板10上形成彩色光阻层20，所述彩色光阻层20包括数个红色色阻块21、数个绿色色阻块22、及数个蓝色色阻块23。
具体的，所述基板10为透明基板，优选为玻璃基板。
具体的，所述第一黑色矩阵70对应于所述彩色光阻层20上相邻的色阻块21/22/23的交界处设置。
优选的，所述彩色光阻层20还可以包括数个白色色阻块。进一步的，所述红色色阻块21、数个绿色色阻块22、数个蓝色色阻块23、及数个白色色阻块的制作顺序不做限定，可根据需要进行选择。
步骤2、如图18-20所示，在所述彩色光阻层20上制作平坦层80，在所述平坦层80上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，采用一道半色调光罩60对所述黑色遮光层50进行曝光、显影，同时得到第二黑色矩阵30、及位于所述第二黑色矩阵30上的数个光阻间隙物40。
具体的，所述第二黑色矩阵30对应于所述第一黑色矩阵70设置，且所述第二黑色矩阵30的宽度小于所述第一黑色矩阵70的宽度。
所述数个光阻间隙物40包括数个主要光阻间隙物41及数个次要光阻间隙物42。所述主要光阻间隙物41的高度大于所述次要光阻间隙物42的高度。
具体的，所述第二黑色矩阵30包括数条横向黑色遮光带31及数条纵向黑色遮光带32，所述数条横向黑色遮光带31与数条纵向黑色遮光带32垂直交叉排列，形成数个交叉位点35，所述数个光阻间隙物40分别位于数个交叉位点35上。
上述彩膜基板的制作方法，首先制作第一黑色矩阵70，然后形成彩色光阻层20，之后在彩色光阻层20上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，利用一道半色调光罩对黑色遮光层50进行曝光、显影，同时制作出第二黑色矩阵30和位于第二黑色矩阵30上的黑色光阻间隙物40，有效避免彩色光阻层20上相邻色阻块21/22/23叠加或者相邻色阻块21/22/23的高度不均时产生的混色和色差等问题，可以有效改善产品视角和提升产品显示品质，同时也可以节省制程工艺和材料，提升良率。
请参阅图21，为本发明的彩膜基板的制作方法的第四实施例，具体包括如下步骤：
步骤1、如图22-23所示，提供一基板10，在所述基板10上形成第一黑色矩阵70，在所述第一黑色矩阵70及基板10上采用半色调光罩制程形成彩色光阻层20，所述彩色光阻层20包括数个红色色阻块21、数个绿色色阻块22、及数个蓝色色阻块23，同时所述彩色光阻层20具有对应于所述第一黑色矩阵70的数条横向沟槽25与数条纵向沟槽26。
具体的，所述基板10为透明基板，优选为玻璃基板。
具体的，所述第一黑色矩阵70对应于所述彩色光阻层20上相邻的色阻块21/22/23的交界处设置。
优选的，所述彩色光阻层20还可以包括数个白色色阻块。进一步的，所述红色色阻块21、数个绿色色阻块22、数个蓝色色阻块23、及数个白色色阻块的制作顺序不做限定，可根据需要进行选择。
步骤2、如图24-26所示，在所述彩色光阻层20上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，采用一道半色调光罩60对所述黑色遮光层50进行曝光、显影，同时得到位于数条横向沟槽25与数条纵向沟槽26内的第二黑色矩阵30、及位于所述第二黑色矩阵30上的数个光阻间隙物40。
具体的，所述第二黑色矩阵30的宽度小于所述第一黑色矩阵70的宽度。
具体的，所述步骤2还可以包括：在所述第二黑色矩阵30、光阻间隙物40、及彩色光阻层20上形成平坦层或像素电极层。
具体的，所述数个光阻间隙物40包括数个主要光阻间隙物41及数个次要光阻间隙物42。所述主要光阻间隙物41的高度大于所述次要光阻间隙物42的高度。
由于第二黑色矩阵30位于所述数条横向沟槽25与数条纵向沟槽26内，因而降低了第二黑色矩阵30及光阻间隙物40与彩色光阻层20之间的断差，从而在后续制作平坦层或像素电极层时，可以节约材料，避免浪费。
具体的，所述第二黑色矩阵30包括位于数条横向沟槽25内的数条横向黑色遮光带31及位于数条纵向沟槽26内的数条纵向黑色遮光带32，所述数条横向黑色遮光带31与数条纵向黑色遮光带32垂直交叉排列，形成数个交叉位点35，所述数个光阻间隙物40分别位于数个交叉位点35上。
上述彩膜基板的制作方法，首先制作第一黑色矩阵70，然后采用半色调光罩制程制作彩色光阻层20，在所述彩色光阻层20上形成数条横向与纵向沟槽25、26，之后在彩色光阻层20上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层50，利用一道半色调光罩对黑色遮光层50进行曝光、显影，同时制作出位于沟槽内的第二黑色矩阵30和位于第二黑色矩阵30上的黑色光阻间隙物40，有效避免彩色光阻层20上相邻色阻块21/22/23叠加或者相邻色阻块21/22/23的高度不均时产生的混色和色差等问题，可以有效改善产品视角和提升产品显示品质，也可以节省制程工艺和材料，提升良率；同时由于将第二黑色矩阵30设于彩色光阻层20的沟槽之中，从而降低了第二黑色矩阵30及光阻间隙物40与彩色光阻层20之间的断差，从而在后续制作平坦层或像素电极层时，可以节约材料，避免浪费。
综上所述，本发明提供的一种彩膜基板的制作方法，通过采用一道半色调光罩对黑色遮光层进行曝光、显影，同时制作出黑色矩阵和位于黑色矩阵上的黑色光阻间隙物，有效避免彩色光阻层上相邻色阻块叠加或者相邻色阻块的高度不均时产生的混色和色差等问题，可以有效改善产品视角和提升产品显示品质，同时也可以节省制程工艺和材料，提升良率。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：提供一基板，在所述基板上形成彩色光阻层、及黑色遮光层，采用一道半色调光罩对所述黑色遮光层进行曝光、显影，同时得到黑色矩阵、及位于所述黑色矩阵上的数个光阻间隙物。
2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板(10)，在所述基板(10)上形成彩色光阻层(20)，所述彩色光阻层(20)包括数个红色色阻块(21)、数个绿色色阻块(22)、及数个蓝色色阻块(23)；
步骤2、在所述彩色光阻层(20)上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层(50)，采用一道半色调光罩(60)对所述黑色遮光层(50)进行曝光、显影，同时得到黑色矩阵(30)、及位于所述黑色矩阵(30)上的数个光阻间隙物(40)。
3.如权利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述黑色矩阵(30)位于所述彩色光阻层(20)上相邻的色阻块(21/22/23)的交界处；所述数个光阻间隙物(40)包括数个主要光阻间隙物(41)及数个次要光阻间隙物(42)；所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度。
4.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板(10)，在所述基板(10)上采用半色调光罩制程形成彩色光阻层(20)，所述彩色光阻层(20)包括数个红色色阻块(21)、数个绿色色阻块(22)、及数个蓝色色阻块(23)，同时所述彩色光阻层(20)具有数条横向沟槽(25)与数条纵向沟槽(26)，所述数条横向沟槽(25)与数条纵向沟槽(26)位于相邻的色阻块(21/22/23)的交界处；
步骤2、在所述彩色光阻层(20)上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层(50)，采用一道半色调光罩(60)对所述黑色遮光层(50)进行曝光、显影，同时得到位于数条横向沟槽(25)与数条纵向沟槽(26)内的黑色矩阵(30)、及位于所述黑色矩阵(30)上的数个光阻间隙物(40)。
5.如权利要求4所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述数个光阻间隙物(40)包括数个主要光阻间隙物(41)及数个次要光阻间隙物(42)；所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度。
6.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板(10)，在所述基板(10)上形成第一黑色矩阵(70)，在所述第一黑色矩阵(70)及基板(10)上形成彩色光阻层(20)，所述彩色光阻层(20)包括数个红色色阻块(21)、数个绿色色阻块(22)、及数个蓝色色阻块(23)；
步骤2、在所述彩色光阻层(20)上制作平坦层(40)，在所述平坦层(80)上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层(50)，采用一道半色调光罩(80)对所述黑色遮光层(50)进行曝光、显影，同时得到第二黑色矩阵(30)、及位于所述第二黑色矩阵(30)上的数个光阻间隙物(40)。
7.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一黑色矩阵(70)对应于所述彩色光阻层(20)上相邻的色阻块(21/22/23)的交界处设置；所述第二黑色矩阵(30)对应于所述第一黑色矩阵(70)设置，且所述第二黑色矩阵(30)的宽度小于所述第一黑色矩阵(70)的宽度；
所述数个光阻间隙物(40)包括数个主要光阻间隙物(41)及数个次要光阻间隙物(42)；所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度。
8.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，具体包括如下步骤：
步骤1、提供一基板(10)，在所述基板(10)上形成第一黑色矩阵(70)，在所述第一黑色矩阵(70)及基板(10)上采用半色调光罩制程形成彩色光阻层(20)，所述彩色光阻层(20)包括数个红色色阻块(21)、数个绿色色阻块(22)、及数个蓝色色阻块(23)，同时所述彩色光阻层(20)具有对应于所述第一黑色矩阵(70)上方的数条横向沟槽(25)与数条纵向沟槽(26)；
步骤2、在所述彩色光阻层(20)上涂布黑色遮光材料，形成黑色遮光层(50)，采用一道半色调光罩(80)对所述黑色遮光层(50)进行曝光、显影，同时得到位于数条横向沟槽(25)与数条纵向沟槽(26)内的第二黑色矩阵(30)、及位于所述第二黑色矩阵(30)上的数个光阻间隙物(40)。
9.如权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一黑色矩阵(70)对应于所述彩色光阻层(20)上相邻的色阻块(21/22/23)的交界处设置；所述第二黑色矩阵(30)的宽度小于所述第一黑色矩阵(70)的宽度；
所述数个光阻间隙物(40)包括数个主要光阻间隙物(41)及数个次要光阻间隙物(42)；所述主要光阻间隙物(41)的高度大于所述次要光阻间隙物(42)的高度。
CN201610003369.7A 2016-01-05 2016-01-05 彩膜基板的制作方法 Pending CN105467660A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610003369.7A CN105467660A (zh) 2016-01-05 2016-01-05 彩膜基板的制作方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610003369.7A CN105467660A (zh) 2016-01-05 2016-01-05 彩膜基板的制作方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105467660A true CN105467660A (zh) 2016-04-06

Family

ID=55605523

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610003369.7A Pending CN105467660A (zh) 2016-01-05 2016-01-05 彩膜基板的制作方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105467660A (zh)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105867010A (zh) * 2016-06-22 2016-08-17 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN105974651A (zh) * 2016-07-18 2016-09-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法
CN105974636A (zh) * 2016-07-18 2016-09-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法
CN106338856A (zh) * 2016-11-08 2017-01-18 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板
CN106646990A (zh) * 2016-10-21 2017-05-10 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、其制备方法及显示装置
CN106707609A (zh) * 2017-03-24 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板
CN106872380A (zh) * 2017-02-28 2017-06-20 深圳市华星光电技术有限公司 评估彩膜基板中色阻单体信赖性的方法
WO2018188114A1 (zh) * 2017-04-10 2018-10-18 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法
WO2018209933A1 (zh) * 2017-05-18 2018-11-22 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置
CN108983482A (zh) * 2018-07-24 2018-12-11 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN110297354A (zh) * 2019-05-09 2019-10-01 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、液晶显示装置及制备方法
CN110703488A (zh) * 2019-09-29 2020-01-17 武汉华星光电技术有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN110967861A (zh) * 2018-09-28 2020-04-07 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种液晶面板、彩膜基板及其制备方法
TWI707180B (zh) * 2019-11-08 2020-10-11 友達光電股份有限公司 對向基板
WO2021179372A1 (zh) * 2020-03-11 2021-09-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 有机发光二极体显示面板、彩膜基板及其制作方法
US11199686B2 (en) 2018-09-30 2021-12-14 Jiangxi Lianchuang Electronic Co., Ltd. Wide-angle lens and panoramic imaging system including seven lenses of -++-++ refractive powers and a reflective element
CN114077090A (zh) * 2021-11-29 2022-02-22 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置
US11386694B2 (en) * 2020-09-23 2022-07-12 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate, display panel and display device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050095718A (ko) * 2004-03-27 2005-09-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20060079709A (ko) * 2005-01-03 2006-07-06 삼성전자주식회사 색필터 표시판 및 액정 표시 장치
TW200729503A (en) * 2006-01-26 2007-08-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display device and manufacturing process thereof
CN202837751U (zh) * 2012-10-19 2013-03-27 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板
CN104834124A (zh) * 2015-04-07 2015-08-12 武汉华星光电技术有限公司 彩色滤光基板和液晶面板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050095718A (ko) * 2004-03-27 2005-09-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20060079709A (ko) * 2005-01-03 2006-07-06 삼성전자주식회사 색필터 표시판 및 액정 표시 장치
TW200729503A (en) * 2006-01-26 2007-08-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal display device and manufacturing process thereof
CN202837751U (zh) * 2012-10-19 2013-03-27 京东方科技集团股份有限公司 一种彩膜基板、液晶显示面板
CN104834124A (zh) * 2015-04-07 2015-08-12 武汉华星光电技术有限公司 彩色滤光基板和液晶面板

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105867010B (zh) * 2016-06-22 2019-01-15 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN105867010A (zh) * 2016-06-22 2016-08-17 武汉华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN105974651A (zh) * 2016-07-18 2016-09-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法
CN105974636A (zh) * 2016-07-18 2016-09-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法
CN105974636B (zh) * 2016-07-18 2019-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法
CN105974651B (zh) * 2016-07-18 2019-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法
CN106646990A (zh) * 2016-10-21 2017-05-10 京东方科技集团股份有限公司 显示基板、其制备方法及显示装置
CN106338856A (zh) * 2016-11-08 2017-01-18 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板
CN106872380A (zh) * 2017-02-28 2017-06-20 深圳市华星光电技术有限公司 评估彩膜基板中色阻单体信赖性的方法
CN106707609A (zh) * 2017-03-24 2017-05-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板
US10481426B2 (en) 2017-03-24 2019-11-19 Boe Technology Group Co., Ltd. Method for manufacturing color filter substrate, color filter substrate and display panel
WO2018188114A1 (zh) * 2017-04-10 2018-10-18 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法
US10197845B2 (en) 2017-04-10 2019-02-05 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd Manufacturing method of color filter substrate and manufacturing method of liquid crystal panel
CN108963100A (zh) * 2017-05-18 2018-12-07 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板
WO2018209933A1 (zh) * 2017-05-18 2018-11-22 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板和显示装置
US10665641B2 (en) 2017-05-18 2020-05-26 Boe Technology Group Co., Ltd. Color filter (CF) substrate, manufacturing method thereof, display panel and display device
CN108983482A (zh) * 2018-07-24 2018-12-11 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制作方法
CN110967861A (zh) * 2018-09-28 2020-04-07 咸阳彩虹光电科技有限公司 一种液晶面板、彩膜基板及其制备方法
US11199686B2 (en) 2018-09-30 2021-12-14 Jiangxi Lianchuang Electronic Co., Ltd. Wide-angle lens and panoramic imaging system including seven lenses of -++-++ refractive powers and a reflective element
WO2020224317A1 (zh) * 2019-05-09 2020-11-12 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、液晶显示装置、彩膜基板的制备方法以及液晶显示装置的制备方法
CN110297354A (zh) * 2019-05-09 2019-10-01 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、液晶显示装置及制备方法
CN110703488A (zh) * 2019-09-29 2020-01-17 武汉华星光电技术有限公司 一种显示面板及其制备方法、显示装置
WO2021056692A1 (zh) * 2019-09-29 2021-04-01 武汉华星光电技术有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置
TWI707180B (zh) * 2019-11-08 2020-10-11 友達光電股份有限公司 對向基板
WO2021179372A1 (zh) * 2020-03-11 2021-09-16 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 有机发光二极体显示面板、彩膜基板及其制作方法
US11386694B2 (en) * 2020-09-23 2022-07-12 Boe Technology Group Co., Ltd. Color film substrate, display panel and display device
CN114077090A (zh) * 2021-11-29 2022-02-22 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置
CN114077090B (zh) * 2021-11-29 2023-10-13 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105467660A (zh) 彩膜基板的制作方法
US10317757B2 (en) Manufacturing method of black matrix with easy recognition of alignment mark
CN107039352B (zh) Tft基板的制作方法及tft基板
CN102262319B (zh) 液晶显示基板及其制造方法、液晶面板和液晶显示器
CN104965333A (zh) Coa型液晶显示面板及其制作方法
CN104503150A (zh) 液晶面板及其制作方法
CN104749817B (zh) 一种显示面板及显示装置
US20180067367A1 (en) Ltps display panel and manufacture method thereof
CN105974728A (zh) 光罩及彩膜基板的制作方法
CN107688254B (zh) Coa型液晶显示面板及其制作方法
JP2005352489A (ja) スペーサー支持構造を具えるパネル型表示装置
CN102681245B (zh) 半透半反液晶显示阵列基板及其制造方法、显示装置
US20200033658A1 (en) Liquid crystal display panel and liquid crystal display device
US10197845B2 (en) Manufacturing method of color filter substrate and manufacturing method of liquid crystal panel
US20190049804A1 (en) Active switch array substrate, manufacturing method therfor, and display panel
CN105652508A (zh) 彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板
CN105514033A (zh) 阵列基板的制作方法
CN105511175A (zh) 显示面板及其制作方法
CN109143774A (zh) 掩膜板及金属线的制作方法
CN104765190A (zh) 黑色矩阵的制作方法
CN105204210A (zh) 一种拼接式液晶面板及其制造方法
CN103901659A (zh) 用于ips模式液晶显示面板的滤光板、液晶显示装置
CN105116650A (zh) 液晶显示面板
CN109212839B (zh) 阵列基板、显示器件及显示器件的控制方法
CN104503156A (zh) 显示基板及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20160406

RJ01 Rejection of invention patent application after publication