CN108963100A - 彩膜基板及其制作方法、显示面板 - Google Patents

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Abstract

提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板。该彩膜基板包括多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间设置有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。该彩膜基板可以抑制漏光光线对临近子像素光色的影响。

Description

彩膜基板及其制作方法、显示面板
技术领域
本公开至少一实施例涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)器件相对于液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，被认为是下一代显示技术。
发明内容
本公开的至少一实施例涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，以抑制漏光光线对临近子像素光色的影响。
本公开的至少一实施例提供一种彩膜基板，包括多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间设置有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。
本公开的至少一实施例还提供一种彩膜基板的制作方法，包括形成多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间形成有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。
本公开的至少一实施例还提供一种显示面板，包括本公开的至少一实施例提供的任一彩膜基板。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。
图1为一种顶发射OLED显示面板的剖面示意图；
图2为一种顶发射OLED显示面板的阵列基板的俯视示意图；
图3为与图2的阵列基板对应的彩膜基板的俯视示意图；
图4为另一种顶发射OLED显示面板的阵列基板的俯视示意图；
图5为与图4的阵列基板对应的彩膜基板的俯视示意图；
图6为本公开一实施例提供的一种彩膜基板的俯视示意图；
图7为本公开一实施例提供的包括图6所示的彩膜基板的显示面板的剖视示意图(图6所示的彩膜基板AB处剖视图)；
图8为本公开一实施例提供的包括图6所示的彩膜基板的显示面板的剖视示意图(图6所示的彩膜基板的CD处剖视图)；
图9为本公开一实施例提供的一种彩膜基板的剖视示意图；
图10为本公开一实施例提供的包括反射层的彩膜基板形成的显示面板减少漏光的示意图；
图11为本公开一实施例提供的一种彩膜基板的附视示意图；
图12为本公开一实施例提供的一种显示面板的剖视示意图。
附图标记：
10-彩膜基板；20-阵列基板；101-第一衬底基板；201-第二衬底基板；0103-子像素；210-第一电极；103-彩色滤光层；105-挡墙；2002-发光单元；106-反射层；1030-彩膜叠层；104-平坦层；12-显示面板；10300-彩膜子层。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
OLED器件通常由阳极、发光功能层213和阴极组成，根据发光面不同可分为底发射和顶发射两种，由于顶发射器件可以获得更大的开口率，近年来成为研究的热点。
对于喷墨打印OLED器件来说，制备顶发射难度很大，这是因为顶发射OLED器件要求发光功能层(EL)各膜层厚度均匀，为了进一步提升顶发射器件的色域，有一种OLED+CF技术，OLED器件经过相应彩色滤光层后可以过滤掉相应的不纯，而保留特定的光谱，从而提升OLED器件单色色纯度，从而提升OLED器件色域。
然而，如图1所示，彩膜基板10的第一衬底基板101上可设置黑矩阵102和彩色滤光层103，各子像素0103包括彩色滤光层103，彩色滤光层103被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，彩色滤光层103可包括红色滤光层1031、绿色滤光层1032和蓝色滤光层1033。根据光透过子像素后显示的颜色，子像素0103可包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。阵列基板20包括发光单元2002，发光单元2002可包括第一电极210，第一电极210可设置在第二衬底基板201上。第一电极210可采用透明导电氧化物，例如氧化铟锡(Indium TinOxide，ITO)，但不限于此。图1中未示出发光单元2002的全部结构。
如图1所示，顶发射OLED器件，阵列基板20和彩膜基板10对盒后两者之间存在空隙，从而各子像素(例如红绿蓝)0103间发光时容易发生漏光而相互串色。本公开的实施例中以一个像素包括红绿蓝三基色的子像素为例进行说明，但并不限于此。子像素还可以采用其他颜色。
如图1所示，因阵列基板20和彩膜基板10之间空隙的存在，出现漏光。θ1是入射角，θ2是出射角，空气的折射率为1.0，玻璃的折射率为1.5(以第一衬底基板101为玻璃基板为例)，这样当θ2等于41°时，θ2等于90°，也就是说，入射角θ1＞41°光线无法射出，不会发生漏光，入射角θ1小于41°，光线可以射出，发生漏光。
图1中，第一电极210上可设置像素限定层(Pixel Definition Layer，PDL)。例如，如图1所示，对于喷墨打印器件，像素限定层可包括第一像素限定层(第一PDL)211和第二像素限定层(第二PDL)212双层结构，第一PDL211可用来定义发光单元202的实际发光面积，第一PDL211可使用高表面能的材料，例如SiO2、Si3N4等。第二PDL212可用于喷墨打印器件墨水的盛放，第二PDL212可使用表面具备高的疏液性能的材料，可防止墨水溢流到子像素外面。第二PDL212可采用含氟亚克力树脂，氟化聚酰亚胺树脂等材料。
对于蒸镀器件，不需要特别的表面特性，第二PDL212可采用聚酰亚胺、亚克力树脂、SiO2、陶瓷等材料。
如图2所示，阵列基板包含薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)2001、OLED子像素区、第一PDL211和第二PDL212结构。可根据内部补偿电路需要，设置2T1C、3T2C、3T1C等结构。如图2所示，TFT2001可放在子像素的长边方向，图2中示出了沿每个子像素的长边方向设置三个TFT2001。OLED子像素区可用来定义子像素的发光形状、位置和大小。
PDL之后在第一电极210上形成发光功能层213，发光功能层213可包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、空穴阻挡层、电子阻挡层、电子传输层、电子注入层等其中的一层或多层组成。OLED可发白光，再通过彩色滤光层滤色从而进行彩色显示。
例如，第二PDL212的宽度可为5-30μm，进一步可为10μm；第二PDL212厚度可为1-5μm，进一步可为1.5μm；第二PDL212坡脚可为40-60°，进一步可为45°。
如图3所示，可在彩膜基板10上设置柱状的支撑物0105，支撑物0105可设置在各子像素0103的四角上。
例如，阵列基板20和彩膜基板10之间的空隙可为10-15μm，进一步可为10μm左右，空隙受制于设备压合能力。
例如，从子像素的短边方向看，当空隙为15μm时，第一PDL211宽度13μm时，θ1角度约为41°，这样刚好漏光光线射不出。考虑到设备对位误差±5μm，第二PDL212宽度大于18μm时，才能使得θ1的角度＞41°；实际子像素设计时，为了尽可能提升开口率，短边方向第二PDL212的宽度设计会尽可能窄，为了减少漏光，子像素的短边方向上，第二PDL212的宽度最小可为18μm。
显然，提升开口率和减小漏光是个矛盾，对于高分辨OLED器件来说，漏光和开口率必须综合考虑。
如图4所示，阵列基板20中，TFT2001沿着子像素的短边方向设置，如图5所示，为与图4对应的彩膜基板10的平面示意图。彩膜基板10上设置柱状的支撑物0105，支撑物0105可设置在各子像素0103的四角上。彩膜基板10中，各子像素0103可呈阵列排布。
例如，如图4所示，从子像素长边方向，由于TFT尺寸约为50μm宽，已经大于18μm，所以不会发生漏光风险，即便漏光也是同色子像素，不会引起色偏的风险。
本公开至少一实施例提供一种彩膜基板，如图6所示，包括多个子像素0103，各子像素0103包括彩色滤光层103，彩色滤光层103可被配置为透过光。彩色滤光层103被配置为使透过该子像素0103的光显示一种颜色，不同颜色的子像素0103之间设置有挡墙105，挡墙105在被其分隔的子像素0103间连续延伸。挡墙可起到支撑和挡光的作用。图6中示出了8个子像素0103，但本公开实施例中子像素的个数不限于图中所示。挡墙105在被其分隔的子像素0103间连续延伸例如是指在被其分隔的至少一个子像素0103间连续延伸，连续延伸例如是指没有间隔/间断。
本公开至少一实施例提供一种彩膜基板，因在子像素0103间连续延伸的挡墙的设置，可限制发光单元发出的光在特定的子像素中，可抑制漏光光线对临近子像素光色的影响，可以避免不同子像素间串色。
例如，如图6所示，彩色滤光层103可包括红色滤光层1031、绿色滤光层1032和蓝色滤光层1033，但不限于此。
例如，挡墙105可呈条状分布。挡墙105可放置于数据线上方，起到遮光作用。例如，数据线可被配置为给TFT施加电信号。例如，挡墙105的高度可为5-10μm，由第二PDL212的宽度和光刻胶曝光能力决定，根据对盒时目标盒厚决定。由于挡墙105成条状，可以很好限定发光在特定的子像素内，避免发生串色的风险。高度例如是指垂直于第一衬底基板的方向上的厚度。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图6所示，还可包括柱状(点状)的支撑物0105，支撑物0105可设置在相同颜色的子像素0103之间。例如，为了更好的起到支撑作用，支撑物0105位于相邻子像素间没有设置挡墙105的位置处。例如，支撑物0105和挡墙105可分别位于子像素的不同的边上。例如，点状支撑物0105可放置于TFT区域上方，可以尽可能放置大的支撑物0105，起到稳固盒厚的目的。支撑物0105的高度可大于挡墙105的高度，从而，支撑物0105起到主支撑的作用，挡墙105起到辅助支撑的作用，可避免彩膜基板与阵列基板压合过程中挡墙105变形。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图6所示，多个子像素0103呈阵列排布，同一颜色的子像素0103沿第一方向延伸，不同颜色的子像素0103沿第二方向排布，在第一方向上，挡墙105在不同子像素0103间具有间隔。挡墙105断开处即形成间隔。彩膜基板与阵列基板压合过程中，若挡墙105受力不均，则易变形，间隔的设置，可易于释放、分散压合力，即使有变形，变形也可被限制在局部。例如，第一方向为沿纸面的竖直方向，第二方向为沿纸面的水平方向。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图7所示，还包括第一衬底基板101，挡墙105具有梯形截面，梯形的上底面相对于下底面更远离第一衬底基板101。具有梯形截面的挡墙105在彩膜基板与阵列基板压合时，不易倒。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，挡墙105可采用不透光的树脂材料(吸光材料)。从而，漏光的光线经过挡墙105会被吸收掉，从而不会从临近子像素发光。为了进一步提高光的利用率，挡墙105也可选择高反射率材料。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图7所示，挡墙105在各位置处具有同一高度以利于支撑盒厚。例如，支撑物0105和挡墙105也可具有同一高度，以利于支撑盒厚。支撑物0105和挡墙105可采用相同材料并采用同一制备工艺获得。支撑物0105的高度也可以大于挡墙105的高度。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图7和8所示，彩膜基板10还可包括黑矩阵(Black Matrix，BM)102，黑矩阵102可设置在相邻子像素0103之间以分隔各子像素0103。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图7和8所示，彩膜基板10还可包括彩膜叠层1030，彩膜叠层1030包括多种不同颜色的彩膜子层10300，彩膜子层10300例如可包括红色子层10301、绿色子层10302和蓝色子层10301。彩膜叠层1030不透光，可起到黑矩阵的效果。彩膜叠层1030的高度大于彩色滤光层103的高度，挡墙105设置在彩膜叠层1030上，挡墙105在彩膜基板上的投影位于彩膜叠层1030在彩膜基板10上的投影内。彩膜叠层1030可设置在相邻子像素0103之间。从而，彩膜叠层1030可起到替代部分挡墙105或替代部分支撑物0105的作用，包含本实施例提高的彩膜基板的显示面板中挡墙105/支撑物0105的高度可小于显示装置的盒厚，可提高挡墙105/支撑物0105的强度。例如，彩膜叠层1030的高度可大于或等于挡墙105的高度。例如，彩膜子层10300的厚度(垂直于第一衬底基板101的方向上的高度)可等于或小于彩色滤光层103的厚度。例如，红色子层10301、绿色子层10302和蓝色子层10301可分别与红色滤光层1031、绿色滤光层1032和蓝色滤光层1033的厚度相等，但不限于此。红色子层10301、绿色子层10302和蓝色子层10301可分别小于红色滤光层1031、绿色滤光层1032和蓝色滤光层1033的厚度(垂直于第一衬底基板101的方向上的高度)。例如，红色子层10301可与红色滤光层1031采用相同材料并使用同一制备工艺制作，绿色子层10302可与绿色滤光层1032采用相同材料并使用同一制备工艺制作，蓝色子层10303可与蓝色滤光层1033采用相同材料并使用同一制备工艺制作。若需制作不同厚度的彩膜子层10300和彩色滤光层103，可通过多色调掩模板来实现。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图9所示，为了减少漏光光线造成的其所在子像素的效能的损失，在挡墙105的侧壁上设置有反射层106，反射层106被配置为反射照射到其上的光。例如，如图10所示，照射到反射层106上的光被反射，提高了发光单元的出光的利用率。反射层106可采用反射型金属以提高挡墙105的反射率，以进一步反射发光单元发出的光到此子像素出光。例如，在支撑物0105的侧壁上也可设置有反射层106，以提高效能。或者，反射层106也可以替换为吸光层，吸光层吸被配置为吸收照射到其上的光。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板，如图11所示，为了更好的减少漏光，多个子像素0103呈阵列排布，同一颜色的子像素0103沿第一方向延伸，不同颜色的子像素0103沿第二方向排布，挡墙105沿着第一方向连续延伸。即，挡墙105可从第一衬底基板101的同一表面的一侧(一端)延伸至另一侧(另一端)。
本公开至少一实施例提供一种彩膜基板的制作方法，包括形成多个子像素0103，各子像素0103包括彩色滤光层103，彩色滤光层103被配置为使透过该子像素0103的光显示一种颜色，不同颜色的子像素0103之间形成有挡墙105，挡墙105在被其分隔的子像素0103间连续延伸。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，在挡墙105的侧壁上设置有反射层106，反射层106被配置为反射照射到其上的光。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，挡墙105采用不透光的树脂材料。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，挡墙105在各位置处具有同一高度。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，还包括第一衬底基板101，挡墙105具有梯形截面，梯形的上底面相对于下底面更远离第一衬底基板101。例如，梯形的下底面的宽度10-15μm，梯形的上底面宽度可为3-10μm。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，多个子像素0103呈阵列排布，同一颜色的子像素0103沿第一方向延伸，不同颜色的子像素0103沿第二方向排布，挡墙105沿着第一方向连续延伸。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，多个子像素0103呈阵列排布，同一颜色的子像素0103沿第一方向延伸，不同颜色的子像素0103沿第二方向排布，在第一方向上，挡墙105在不同子像素0103间具有间隔。从而，挡墙105可限制发光单元发出的光在特定的子像素中，可抑制漏光光线对临近子像素光色的影响，可以避免不同子像素间串色。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，还包括形成支撑物0105，支撑物0105设置在相同颜色的子像素0103之间，支撑物0105和挡墙105可具有同一高度。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，还包括形成彩膜叠层1030，彩膜叠层1030包括多种不同颜色的彩膜子层10300，彩膜叠层1030的高度大于彩色滤光层103的高度。
根据本公开一实施例提供的彩膜基板的制作方法，可包括如下步骤。
在第一衬底基板101上通过曝光显影工艺形成BM、彩色滤光层(R/G/B)103以及平坦层(Over Coating)104，然后在平坦层104上方形成支撑物0105和挡墙105，彩膜基板可通过调整支撑物0105和挡墙105的形状、高度、位置以获得合适的支撑、盒厚和高度均匀性。即，可采用BM→R→G→B→OC→挡墙105/撑物0105的结构。形成的彩膜基板可如图12所示。为了提升支撑物0105和挡墙105的反射率，可以选择反射率高的树脂材料，可以进一步在挡墙105和支撑物0105外侧制备反射层以提升其反光性能。
本公开至少一实施例提供一种显示面板12，如图12所示，包括本公开至少一实施例提供任一彩膜基板。
根据本公开至少一实施例提供的显示面板，如图12所示，还包括阵列基板20，阵列基板20和彩膜基板10对盒，挡墙105的高度H小于阵列基板20和彩膜基板10形成的盒的盒厚T。例如，盒厚T为子像素0103位置处的盒的厚度。例如，彩膜叠层1030的高度可大于或等于挡墙105的高度。例如，彩膜叠层1030与挡墙105的高度之比小于或等于1.5。例如，若盒厚T为8μm，彩膜叠层1030的高度可为6μm(每个子层可为2μm)，起到盒厚支撑作用的可为4μm)，挡墙105/支撑物0105的高度可为4μm。盒厚可根据结构需要进行调整，可对封装胶填充提及调整有利，且控制漏光。
例如，阵列基板可采用如下方法制作。
(1)TFT层制备：包括在第二衬底基板201上多次重复成膜、曝光，刻蚀，显影工艺来形成厚度为1μm-100μm TFT图案的步骤，常见的成膜工艺包括溅射法、等离子体增强化学的气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)、蒸镀、旋涂、刮涂、印刷、喷墨打印等。图12给出了一代表性的TFT结构，从第二衬底基板201往上依次形成缓冲层202、栅极203，栅极绝缘层204、有源层205、刻蚀阻挡层206、源漏极层207(包括源极2072和漏极2071)、钝化层208、平坦层209、第一电极210。
(2)PDL层制作：在第一电极210上形成第一PDL211和第二PDL212。
(3)发光功能层213制备：
WOLED结构：由于精细金属掩模(Mask)在制作大尺寸OLED面板的困难，顶发射OLED器件一般采取WOLED器件结构，也即在PDL层上用开口掩模(Open Mask)依次蒸镀发光功能层213和第二电极214，从而可形成面状的第二电极214。
当然也可直接通过形成RGB三原色结构，成膜方式包括蒸镀、喷墨打印等，然后形成面阴极的结构。
例如，发光单元2002可包括第一电极210、发光功能层213第二电极214，发光单元2002可与子像素0103一一对应。
形成阵列基板20和彩膜基板10后，可进行真空压合对合，以形成显示面板。彩膜基板和阵列基板在真空下对盒，真空对合可控制彩膜基板和阵列基板的精确对位，例如两者间对位误差控制在±5μm内，以减少漏光几率。
根据本公开至少一实施例提供的显示面板，彩膜基板还包括彩膜叠层1030，彩膜叠层1030包括多种不同颜色的彩膜子层10300，彩膜叠层1030的高度大于彩色滤光层103的高度，挡墙105设置在彩膜叠层1030上，挡墙105在彩膜基板10上的投影位于彩膜叠层1030在彩膜基板10上的投影内。
本公开的实施例中，彩膜基板及其制作方法和显示面板中，相同或相似之处可相互参见，在此不再赘述。
有以下几点需要说明：
(1)除非另作定义，本公开实施例以及附图中，同一附图标记代表同一含义。
(2)本公开实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。
(3)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大。可以理解，当诸如层、膜、区域或基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。
(4)在不冲突的情况下，本公开的同一实施例及不同实施例中的特征可以相互组合。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (19)

1.一种彩膜基板，包括多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间设置有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，在所述挡墙的侧壁上设置有反射层，所述反射层被配置为反射照射到其上的光。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述挡墙采用不透光的树脂材料。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述挡墙在各位置处具有同一高度。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，还包括衬底基板，其中，所述挡墙具有梯形截面，所述梯形的上底面相对于所述下底面更远离所述衬底基板。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述多个子像素呈阵列排布，同一颜色的子像素沿第一方向延伸，不同颜色的子像素沿第二方向排布，所述挡墙沿着所述第一方向连续延伸。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其中，所述多个子像素呈阵列排布，同一颜色的子像素沿第一方向延伸，不同颜色的子像素沿第二方向排布，在所述第一方向上，所述挡墙在不同子像素间具有间隔。
8.根据权利要求1所述的彩膜基板，还包括支撑物，其中，所述支撑物设置在相同颜色的子像素之间，所述支撑物的高度大于或等于所述挡墙的高度。
9.根据权利要求1-7任一项所述的彩膜基板，还包括彩膜叠层，其中，所述彩膜叠层包括多种不同颜色的彩膜子层，所述彩膜叠层的高度大于所述彩色滤光层的高度。
10.一种彩膜基板的制作方法，包括形成多个子像素，各子像素包括彩色滤光层，所述彩色滤光层被配置为使透过该子像素的光显示一种颜色，其中，不同颜色的子像素之间形成有挡墙，所述挡墙在被其分隔的子像素间连续延伸。
11.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，在所述挡墙的侧壁上设置有反射层，所述反射层被配置为反射照射到其上的光。
12.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述挡墙采用不透光的树脂材料。
13.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述挡墙在各位置处具有同一高度。
14.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，还包括衬底基板，其中，所述挡墙具有梯形截面，所述梯形的上底面相对于下底面更远离所述衬底基板。
15.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述多个子像素呈阵列排布，同一颜色的子像素沿第一方向延伸，不同颜色的子像素沿第二方向排布，所述挡墙沿着第一方向连续延伸。
16.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述多个子像素呈阵列排布，同一颜色的子像素沿第一方向延伸，不同颜色的子像素沿第二方向排布，在所述第一方向上，所述挡墙在不同子像素间具有间隔。
17.一种显示面板，包括权利要求1-9任一项所述的彩膜基板。
18.根据权利要求17所述的显示面板，还包括阵列基板，其中，所述阵列基板和所述彩膜基板对盒，所述挡墙的高度小于所述阵列基板和所述彩膜基板形成的盒的盒厚。
19.一种显示面板，包括权利要求9所述的彩膜基板，所述挡墙设置在所述彩膜叠层上，所述挡墙在所述彩膜基板上的投影位于所述彩膜叠层在所述彩膜基板上的投影内。
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