JP5664194B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents
有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5664194B2 JP5664194B2 JP2010275726A JP2010275726A JP5664194B2 JP 5664194 B2 JP5664194 B2 JP 5664194B2 JP 2010275726 A JP2010275726 A JP 2010275726A JP 2010275726 A JP2010275726 A JP 2010275726A JP 5664194 B2 JP5664194 B2 JP 5664194B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- display device
- substrate
- organic electroluminescence
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 400
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims description 36
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 148
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 134
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 109
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 85
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 74
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 27
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 227
- 238000000034 method Methods 0.000 description 50
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 43
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 39
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 21
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 21
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 15
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 9
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 8
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-1-[2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenylimidazol-2-yl]-4,5-diphenylimidazole Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(N1C2(N=C(C(=N2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MHDULSOPQSUKBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 3
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 2
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical group C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 2-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M copper phthalocyaninesulfonic acid, dioctadecyldimethylammonium salt Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC.C=1C(S(=O)(=O)[O-])=CC=C(C(=NC2=NC(C3=CC=CC=C32)=N2)[N-]3)C=1C3=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N perfluorotributylamine Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)N(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F RVZRBWKZFJCCIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Description
特許文献1には、凹面鏡部の光反射面の形成方法として、2P(Photo-Polymer)複製法が開示されている。具体的には、ガラス基板上に塗布された樹脂組成物をスタンパによって特定形状に成型し、樹脂組成物の表面に光反射率の高い金属反射層を形成し、金属反射層が積層された樹脂組成物の一部を切削することで、凹面鏡部が形成されることが記載されている。
まず、本発明の有機EL表示装置用対向基板について説明する。
本発明の有機EL表示装置用対向基板は、有機EL素子を有する有機EL素子基板に対向するように配置される有機EL表示装置用対向基板であって、透明基板と、上記透明基板上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁とを有し、上記画素間隔壁が、画素間隔壁用台座部と、上記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有することを特徴とするものである。
図1(a)は本発明の有機EL表示装置用対向基板の一例を示す概略平面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A線断面図である。図1(a)、(b)に例示するように、有機EL表示装置用対向基板1は、透明基板2と、透明基板2上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁3とを有している。この画素間隔壁3は、画素間隔壁用台座部3aと、画素間隔壁用台座部3aを覆うように形成された反射膜3bとを有している。
また、上記有機EL表示装置においては、ガスバリア性を有する封止隔壁が形成されていることにより、本発明の有機EL表示装置用対向基板と有機EL素子基板とを貼り合わせた際に、シール剤を通り抜けた水分、酸素等の浸入を防ぐことができる。したがって、有機EL層の経時的な劣化を防ぐことが可能である。
本発明における画素間隔壁は、透明基板上に形成され、画素間に配置されるものであり、画素間隔壁用台座部と、上記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有するものである。
なお、「画素」とは、画像を構成する最小単位である。例えば赤・緑・青の3個の副画素で1個の画素が構成されている場合、本発明においては1個の副画素を画素という。
「画素間」とは画素と画素との間を意味する。
中でも、画素間隔壁は異なる色の画素間に配置されていることが好ましい。例えば、図2に示すように3色の発光層(赤色発光層24R、緑色発光層24G、青色発光層24B)が形成されている場合には、異なる色の発光層間に画素間隔壁3が配置されていることが好ましい。また例えば、図4および図6に示すように3色の着色層(赤色着色層4R、緑色着色層4G、青色着色層4B)が形成されている場合には、異なる色の着色層間に画素間隔壁3が配置されていることが好ましい。この場合には、隣の画素に光が出射することにより混色を防ぐことができる。
この場合、画素間隔壁の傾斜角度は、45°〜90°の範囲内であることが好ましく、より好ましくは60°〜90°の範囲内、さらに好ましくは75°〜90°の範囲内である。画素間隔壁の傾斜角度が上記範囲であることにより、本発明の有機EL表示装置用対向基板を有機EL表示装置に用いた場合に、発光層からの発光を効率的に反射することができるからである。傾斜角度が上記範囲より小さいと、本発明の有機EL表示装置用対向基板を有機EL表示装置に用いた場合、発光層からの発光を効率良く反射することができない可能性がある。一方、傾斜角度が上記範囲よりも大きいと、画素間隔壁の表面に反射膜を形成することが困難となる。
なお、画素間隔壁の傾斜角度とは、図7に例示するような透明基板2表面と画素間隔壁3とのなす角度θをいう。傾斜角度は、タカノ株式会社製原子間力顕微鏡(AFM)を用いて3次元形状を計測することで、測定することができる。
本発明における画素間隔壁用台座部は、透明基板上に形成されるものである。
画素間隔壁用台座部に用いられる材料としては、所望の画素間隔壁用台座部を形成することができれば特に限定されるものではない。画素間隔壁用台座部に用いられる材料は、ガスバリア性を有していてもよく、ガスバリア性を有さなくてもよい。画素間隔壁用台座部がガスバリア性を有する場合には、本発明の有機EL表示装置用対向基板と有機EL素子基板とを貼り合わせた際、画素間隔壁によって、シール剤を通り抜けた水分、酸素等の透過を効果的に防ぐことができる。
一方、画素間隔壁用台座部に用いられるガスバリア性を有しない材料としては、例えば、感光性アクリル樹脂、感光性ポリイミド、ポジレジスト、カルド樹脂、ポリシロキサン、ベンゾシクロブテン等が挙げられる。
また、画素間隔壁用台座部の線幅および断面形状としては、画素間隔壁用台座部上に後述する反射膜を形成した際に、上述した画素間隔壁の線幅および断面形状と同様となるような線幅および断面形状であればよい。
本発明に用いられる反射膜は、上記画素間隔壁用台座部を覆うように形成されるものである。
なお、反射率は、顕微分光装置OSP−SP2000(OLYMPUS社製)を用いて校正用アルミ基板を100%とした際の反射スペクトルとして測定することができる。
また、反射膜が遮光性を有する場合には、金属膜と金属化合物膜とを積層することが好ましい。金属化合物膜としては、酸化クロム膜、酸化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜、酸化チタン膜、酸化スズ膜、酸化インジウム合金膜などの金属酸化物膜や、窒化クロム膜、窒化アルミニウム膜、窒化チタン膜などの金属窒化物膜が挙げられる。例えば、画素間隔壁用台座部側から順に、酸化クロム膜と窒化クロム膜とクロム膜とを積層することで、本発明の有機EL表示装置用対向基板を有機EL表示装置に用いた場合に、発光層からの発光を反射し、外光を反射しにくい反射膜を得ることができる。
本発明においては、透明基板上に複数色の着色層がパターン状に形成されていることが好ましい。本発明の有機EL表示装置用対向基板を有機EL表示装置に用いた場合、表面に反射膜を有する画素間隔壁が形成されているので、着色層が形成されている場合に隣の画素への光の出射による混色を防ぐことができるからである。また、白色発光層を有する有機EL表示装置には、通常、カラーフィルタが用いられ、赤色発光層、緑色発光層、青色発光層等の複数色の発光層を有する有機EL表示装置には、色純度の向上のためにカラーフィルタが用いられるので、本発明の有機EL表示装置用対向基板もカラーフィルタの機能を有することが好ましいのである。
着色層の形成方法としては、カラーフィルタにおける一般的な着色層の形成方法と同様とすることができ、例えばフォトリソグラフィー法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。
本発明においては、透明基板上の非表示領域に表示領域を囲むように、ガスバリア性を有する封止隔壁が形成されていてもよい。本発明の有機EL表示装置用対向基板を有機EL表示装置に用いた場合、ガスバリア性を有する封止隔壁が形成されていることにより、シール剤を通り抜けた水分、酸素等の浸入を防ぐことができ、有機EL層の経時的な劣化を防ぐことができるからである。
また、封止隔壁の高さとしては、有機EL表示装置用対向基板の種類によって適宜調整されるものであるが、1μm〜15μmの範囲内であることが好ましく、中でも3μm〜10μmの範囲内、特に5μm〜8μmの範囲内であることが好ましい。封止隔壁の高さが上記範囲に満たない場合、有機EL表示装置用対向基板および有機EL素子基板の間の気密性を保つことが困難であり、封止隔壁の高さが上記範囲を超える場合、圧力をかけても基板間距離より大きくなってしまうからである。
本態様の封止隔壁は、封止隔壁用台座部と、封止隔壁用台座部を覆うように形成されたバリア膜とを有するものである。本態様の封止隔壁は、封止隔壁用台座部がバリア膜で覆われていることで、より高いガスバリア性を有することができる。
以下、封止隔壁用台座部およびバリア膜についてそれぞれ説明する。
本態様の封止隔壁に用いられる封止隔壁用台座部は、透明基板上に形成されるものである。
なお、封止隔壁用台座部に用いられる材料については、上記画素間隔壁用台座部に用いられる材料と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、封止隔壁用台座部の線幅および断面形状としては、封止隔壁用台座部上に後述するバリア膜を形成した際に、後述する封止隔壁の線幅および断面形状と同様となるような線幅および断面形状であればよい。
本態様の封止隔壁に用いられるバリア膜は、上記封止隔壁用台座部を覆うように形成され、ガスバリア性を有するものである。
本態様の封止隔壁は、上述した封止隔壁用台座部およびバリア膜を有するものである。
封止隔壁が複数形成されている場合、封止隔壁の数は2個〜10個の範囲内であることが好ましく、中でも2個であることが好ましい。封止隔壁の数が上記範囲を超える場合、表示領域に封止隔壁が形成されてしまうおそれがある。
本態様の封止隔壁は、ガスバリア性を有する材料のみからなるものである。
本発明においては、透明基板上にスペーサが形成されていてもよい。スペーサは、画素間に配置されるものであり、本発明の有機EL表示装置用対向基板を有機EL素子基板と対向させて貼り合わせた際に、有機EL表示装置用対向基板および有機EL素子基板間のギャップを保持するために設けられるものである。上記画素間隔壁が、有機EL表示装置用対向基板および有機EL素子基板間のギャップを保持する高さを有さない場合には、スペーサが形成されていることが好ましい。
本発明においては、透明基板上に画素を画定する遮光部が形成されていてもよい。
この場合、図3(a)〜(c)に例示するように画素間隔壁3が遮光部5の一部を兼ねていてもよく、図9(a)、(b)に例示するように画素間隔壁3が遮光部5の全部を兼ねていてもよく、図5(a)、(b)に例示するように遮光部5および画素間隔壁3が別々に形成されていてもよい。
画素間隔壁が遮光部の一部を兼ねている場合には、中でも、図3(a)〜(c)に例示するように、遮光部5が、透明基板2上に形成された画素間隔壁3と、透明基板2上に形成された遮光膜5aとを有し、反射膜3bおよび遮光膜5aが同一材料からなることが好ましい。反射膜および遮光膜を同時に形成することができ、製造工程を簡素化することができるからである。この場合、反射膜は遮光性を有するものとなる。
また、画素間隔壁が遮光部の全部を兼ねている場合には、画素間隔壁用台座部および反射膜の少なくともいずれか一方は遮光性を有するものとなる。
本発明に用いられる透明基板は、上述の画素間隔壁、着色層、封止隔壁、スペーサ、遮光部等を形成可能であり、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、カラーフィルタに一般的に用いられる透明基板と同様とすることができる。
具体的には、石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材等が挙げられる。
本発明の有機EL表示装置用対向基板は、有機EL素子を有する有機EL素子基板に対向するように配置されるものであり、具体的には、トップエミッション型の有機EL素子を有する有機EL素子基板と貼り合わされることが好ましい。
なお、有機EL表示装置用対向基板と対向させる有機EL素子基板については、後述の「B.有機EL表示装置」の項に詳しく記載するのでここでの説明は省略する。
次に、本発明の有機EL表示装置について説明する。
本発明の有機EL表示装置は、有機EL素子を有する有機EL素子基板と、上記有機EL素子基板に対向するように配置された有機EL表示装置用対向基板とを備える有機EL表示装置であって、上記有機EL表示装置用対向基板が、透明基板と、上記透明基板上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁とを有し、上記画素間隔壁が、画素間隔壁用台座部と、上記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有することを特徴とするものである。すなわち、本発明の有機EL表示装置は、上述の有機EL表示装置用対向基板と、有機EL素子を有する有機EL素子基板とを備えるものである。
図2、図4および図6はそれぞれ、本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略断面図である。図2、図4および図6に示すように、有機EL表示装置30は、有機EL表示装置用対向基板1と、有機EL素子基板20と、有機EL表示装置用対向基板1の外周に形成され、有機EL素子を封止するシール剤32とを備えている。通常、有機EL表示装置用対向基板1および有機EL素子基板20の間には、充填材(図示なし)が封入される。なお、図2、図4および図6にそれぞれ示す有機EL表示装置用対向基板1および有機EL素子基板20については、上記「A.有機EL表示装置用対向基板」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
本発明に用いられる有機EL素子基板は、有機EL素子を有するものである。
有機EL素子基板は、有機EL素子を有するものであればよく、例えば、基板と、基板上にパターン状に形成された背面電極層、背面電極層の開口部に形成された絶縁層、背面電極層上に形成され、少なくとも発光層を含む有機EL層、有機EL層上に形成された透明電極層を有する有機EL素子とを備えることができる。
以下、有機EL素子基板の各構成について説明する。
有機EL素子基板に用いられる基板としては、後述する有機EL素子等を支持することができるものであればよく、有機EL表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
本発明においては、有機EL表示装置用対向基板側から光が取り出されるため、基板は透明であっても不透明であってもよい。
有機EL素子は、背面電極層および透明電極層と、背面電極層および透明電極層の間に形成され、少なくとも有機発光層を含む有機EL層とを有するものである。
有機EL層は、少なくとも有機発光層を含む1層もしくは複数層の有機層を有するものであり、通常、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層などを有する。
透明電極層は、透明電極層と背面電極層との間に挟まれた有機EL層に電圧をかけ、発光層で発光を起こさせるために設けられるものである。また、発光層で発生した光を、有機EL表示装置用対向基板側に透過させるものである。この透明電極層は、有機EL層と有機EL表示装置用対向基板との間に配置される。
また、背面電極層は、有機EL層と基板との間に配置される。背面電極層は、有機EL層を発光させるための他方の電極をなすものであり、透明電極層と反対の電荷をもつ電極である。
このような透明電極層および背面電極層としては、発光層に所望の発光をさせることができるものであればよく、有機EL表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
絶縁層は、透明電極層と背面電極層とが直接接触することを防ぐために形成されるものである。
このような絶縁層としては、有機EL表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
有機EL素子基板には、図示しないが、TFTが形成されていてもよい。
TFTとしては、有機EL表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
本発明に用いられるシール剤は、有機EL表示装置用対向基板および有機EL素子基板の周縁部に形成され、有機EL素子を封止するものである。
このようなシール剤の構成材料としては、有機EL素子が大気中の水分等と接触するのを抑制することができるものであればよく、有機EL表示装置に一般的に用いられるものを使用することができる。
本発明に用いられる充填材は、有機EL表示装置用対向基板と有機EL素子基板との間に封入されるものである。
さらに、不活性液体としては、一般的な充填材であれば特に限定されるものではなく、例えば、フッ化炭化水素溶液(住友スリーエム社製:商品名フロリナート)を用いることができる。
本発明の有機EL表示装置は、必要に応じて他の構成を有していてもよい。他の構成としては、例えば、発光層からの発光を吸収し、可視光領域蛍光を発する色変換層を挙げることができる。以下、色変換層について説明する。
本発明に用いられる色変換層は、発光層からの光を吸収し、可視光領域蛍光を発する蛍光材料を含有する層であり、発光層からの光を青色、赤色または緑色とするものである。
色変換層の構成は、適用する有機EL表示装置の発光層に応じて適宜選択されるものである。例えば青色発光層の場合、色変換層は、赤色の蛍光を発光する赤色変換層、緑色の蛍光を発光する緑色変換層、および青色発光層からの光をそのまま透過する透過部を有する。
蛍光色素は、発光層から発せられる近紫外領域または可視領域の光、特に青色または青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。上記発光層が青色発光層である場合は、蛍光色素としては、例えば赤色領域の蛍光を発する蛍光色素および緑色領域の蛍光を発する蛍光色素が用いられる。
次に、本発明の有機EL表示装置用対向基板の製造方法について説明する。本発明の有機EL表示装置用対向基板の製造方法は、2つの態様を有する。
[実施例1]
1.基板準備
透明基板として、大きさが300mm×400mm、厚みが0.7mmのガラス基板(コーニング社製1737ガラス)を準備した。この透明基板を定法にしたがって洗浄した後、ネガ型感光性レジスト(東京応化工業(株)製 CFPR DN-83)を塗布し、所定のマスクを介して露光、現像して焼成して、ブラックマトリックスを形成した。
次に、下記組成の赤色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物、青色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物、緑色着色層用のネガ型感光性樹脂組成物を調製した。
・赤顔料(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 クロモフタルレッドA2B)
4.8重量部
・黄顔料(BASF社製 パリオトールイエローD1819) 1.2重量部
・分散剤(ビックケミー社製ディスパービック161) 3.0重量部
・モノマー(サートマー社製 SR399) 4.0重量部
・ポリマーI 5.0重量部
・開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア907)
1.4重量部
・開始剤(2,2´−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4´,5´−テトラフェニル−1,2´−ビイミダゾール) 0.6重量部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 80.0重量部
・青顔料(BASF社製 ヘリオゲンブルーL6700F) 6.0重量部
・顔料誘導体(アビシア社製 ソルスパース5000) 0.6重量部
・分散剤(ビックケミー社製ディスパービック161) 2.4重量部
・モノマー(サートマー社製 SR399) 4.0重量部
・ポリマーI 5.0重量部
・開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア907)
1.4重量部
・開始剤(2,2´−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4´,5´−テトラフェニル−1,2´−ビイミダゾール) 0.6重量部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 80.0重量部
・緑顔料(アビシア社製 モナストラルグリーン9Y−C) 4.2重量部
・黄顔料(BASF社製 パリオトールイエローD1819) 1.8重量部
・分散剤(ビックケミー社製ディスパービック161) 3.0重量部
・モノマー(サートマー社製 SR399) 4.0重量部
・ポリマーI 5.0重量部
・開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製 イルガキュア907)
1.4重量部
・開始剤(2,2´−ビス(o−クロロフェニル)−4,5,4´,5´−テトラフェニル−1,2´−ビイミダゾール) 0.6重量部
・溶剤(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート) 80.0重量部
ここで、上記重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により、標準ポリスチレン換算値として求めたものである。
青色着色層および緑色着色層も同様に形成した。
次に、上記の着色層を形成したガラス基板上に、下記の透明樹脂組成物をスピンコート法により塗布した。
・メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸共重合体 32重量部
・エピコート180S70(ジャパンエポキシレジン(株)製) 18重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート 42重量部
・開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア907) 8重量部
・3−メトキシブチルアセテート(メトアセと記す) 300重量部
次に、上記の画素間隔壁用台座部を形成したガラス基板上に反射膜を下記の条件でスパッタリング法にて成膜した。反射膜は酸化クロム膜500Å、窒化クロム膜400Å、クロム膜1100Åの積層とし合計膜厚を2000Åとした。
(酸化クロム膜)
・ガス流量比 Ar:N2:CO2=3:1:15
・パワー:15kW
・ガス圧:3mTorr
(窒化クロム膜)
・ガス流量比 Ar:N2:CO2=1:6:1
・パワー:12kW
・ガス圧:3mTorr
(クロム膜)
・ガス流量比 Ar:N2:CO2=12:4:1
・パワー:9kW
・ガス圧:3mTorr
上記のようにして、反射膜付き画素間隔壁を有するカラーフィルタを作製した。
(TFT基板の作製)
基板として、大きさが300mm×400mm、厚みが0.7mmのガラス基板(コーニング社製1737ガラス)を準備した。この基板を用い定法にしたがってTFT基板を作製した。
TFT基板上に、DCスパッタリング法により膜厚0.4μmのクロム膜を形成し、さらに連続してスパッタリング法により膜厚150nmのITO膜を形成した。次に、このITO膜上の全面に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ITO膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。その後、クロム膜をパターニングするために、ITO膜およびクロム膜の上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。
ポリイミド系樹脂(東レ社製、DL1602)を用いて絶縁層形成用塗工液を調製した。この絶縁層形成用塗工液をスピンコート法により背面電極層上に塗布した後、プリベーク(100℃、5分間)を行って、厚み1μmの樹脂膜を形成した。次に、マスク露光、現像、ポストベーク(200℃、30分間)を行って、絶縁層を形成した。
有機EL素子用隔壁形成用塗工液(日本ゼオン社製、フォトレジスト、ZPN2646)をスピンコート法により絶縁層上に塗布し、プリベーク(100℃、3分間)を行った。その後、所定のフォトマスクを用いて露光し、逆テーパー形成を安定させるためのベーク(100℃、3分間)を行い、現像液(日本ゼオン社製、ZTMA−100)にて現像を行い、ポストベーク(200℃、30分間)を行った。これにより、絶縁層上に有機EL素子用隔壁を形成した。この有機EL素子用隔壁は、高さ4μm、下部(絶縁層側)の幅15μm、上部の幅20μmで逆テーパーの形状を有するものであった。
次いで、上記有機EL素子用隔壁をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、白色発光層、電子注入層からなる有機EL層を形成した。
まず、4,4´,4´´−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミンを、表示領域に相当する開口部を備えたマスクを介して200nmまで蒸着して成膜し、その後、4,4´−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルを20nm厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁がマスクとなり、隔壁間のみに正孔注入層の形成材料を通過させて、透明電極層上に正孔注入層を形成した。
同様にして、4,4´−ビス(2,2´−ジフェニルビニル)ビフェニルを40nm厚まで蒸着して成膜した。このとき、同時にルブレン(アルドリッチ(株)製)を少量含有させた。これにより白色発光層を形成した。
その後、トリス(8−キノリノール)アルミニウムを20nm厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層を形成した。
次に、表示領域よりも広い所定の開口部を備えたマスクを介して、真空蒸着法によりマグネシウムと銀とを同時に蒸着(マグネシウムの蒸着速度=1.3nm/秒〜1.4nm/秒、銀の蒸着速度=0.1nm/秒)して成膜した。これにより、隔壁がマスクとなって、マグネシウム/銀化合物からなる厚み200nmの対向電極層を有機EL層上に形成した。
次に、窒素が充填されたグローブボックスにて、接着剤(熱硬化性樹脂組成物:スリーボンド社製20X−325C)を有機EL素子基板全面に定量ディスペンサーにて塗布した。次に、カラーフィルタを有機EL素子基板の接着面に所定の位置に貼り合せ、ホットプレート上にて90℃1時間加熱して接着剤を硬化させ、有機EL表示装置を得た。
下記に示すように反射膜を形成したこと以外は、実施例1と同様に有機EL表示装置を作製した。
画素間隔壁用台座部を形成したガラス基板上に銀合金膜を下記の条件でスパッタリング法にて成膜した。銀合金の膜厚は2000Åとした。
<成膜条件>
・ガス流量比 Arのみ
・パワー:30kW
・ガス圧:3mTorr
次に、この銀合金膜上の全面に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、銀合金膜のエッチング、レジスト剥離を行った。
下記に示すように封止隔壁を形成したこと以外は、実施例1と同様に有機EL表示装置を作製した。
実施例1において、画素間隔壁用台座部を形成する際に同時に封止隔壁用台座部を形成した。そして、画素間隔壁用台座部および封止隔壁用台座部を形成したガラス基板上に銀合金膜を下記の条件でスパッタリング法にて成膜した。銀合金の膜厚は2000Åとした。
<成膜条件>
・ガス流量比 Arのみ
・パワー:30kW
・ガス圧:3mTorr
次に、この銀合金膜上の全面に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、銀合金膜のエッチング、レジスト剥離を行って、画素間隔壁用台座部上に反射膜を、封止隔壁用台座部上にバリア膜を同時に形成した。
画素間隔壁用台座部および反射膜を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様に有機EL表示装置を作製した。
画素間隔壁用台座部上に反射膜を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様に有機EL表示装置を作製した。
画素間隔壁用台座部を形成する際、プロキシミティ露光するフォトマスクと透明樹脂組成物の塗布膜とのギャップを100μmから300μmに変更したこと以外は、実施例2と同様に有機EL表示装置を作製した。
実施例1〜4および比較例1,2のカラーフィルタにおける画素間隔壁の反射率を顕微分光装置OSP−SP2000(OLYMPUS社製)を用いて測定した。また、画素間隔壁の傾斜角度をタカノ社製原子間力顕微鏡にて測定した。また、画素間隔壁の寸法をキーエンス社製レーザー顕微鏡にて測定した。結果を表1に記す。
また、有機EL表示装置を白表示させ、表示ムラの有無を目視評価した。表示ムラが発生したものを×、発生しなかったものを○とした。結果を表1に記す。
また、光学SIMソフト(サイバネット社製Light Tool)を使用し、有機EL表示装置の光取り出し効率をシミュレーションにて算出した。尚、光源はランバート光とした。結果を表1に記す。
2 … 透明基板
3 … 画素間隔壁
3a … 画素間隔壁用台座部
3b … 反射膜
4 … 着色層
5 … 遮光部
5a … 遮光膜
6 … 封止隔壁
6a … 封止隔壁用台座部
6b … バリア膜
20 … 有機EL素子基板
30 … 有機EL表示装置
Claims (15)
- 有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンス素子基板に対向するように配置される有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板であって、
透明基板と、前記透明基板上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁と、前記透明基板上の非表示領域に表示領域を囲むように形成された封止隔壁とを有し、
前記画素間隔壁が、画素間隔壁用台座部と、前記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有し、
前記封止隔壁が、封止隔壁用台座部と、前記封止隔壁用台座部を覆うように形成されたバリア膜とを有し、
前記画素間隔壁用台座部および前記封止隔壁用台座部が同一材料からなり、前記反射膜および前記バリア膜が同一材料からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板。 - 前記透明基板上に複数色の着色層がパターン状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板。
- 前記画素間隔壁が、異なる色の前記着色層間に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板。
- 前記画素間隔壁の傾斜角度が45°〜90°の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板。
- 前記画素間隔壁が、前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および前記有機エレクトロルミネッセンス素子基板間のギャップを保持する高さを有することを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板。
- 前記透明基板上に画素を画定する遮光部が形成され、前記画素間隔壁が前記遮光部の一部または全部を兼ねていることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板。
- 前記遮光部が、前記透明基板上に形成された前記画素間隔壁と、前記透明基板上に形成された遮光膜とを有し、前記反射膜および前記遮光膜が同一材料からなることを特徴とする請求項6に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板。
- 有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンス素子基板と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子基板に対向するように配置された有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板とを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板が、透明基板と、前記透明基板上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁と、前記透明基板上の非表示領域に表示領域を囲むように形成された封止隔壁とを有し、
前記画素間隔壁が、画素間隔壁用台座部と、前記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有し、
前記封止隔壁が、封止隔壁用台座部と、前記封止隔壁用台座部を覆うように形成されたバリア膜とを有し、
前記画素間隔壁用台座部および前記封止隔壁用台座部が同一材料からなり、前記反射膜および前記バリア膜が同一材料からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 - 前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板が、前記透明基板上にパターン状に形成された複数色の着色層を有することを特徴とする請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 前記画素間隔壁が、異なる色の前記着色層間に形成されていることを特徴とする請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 前記画素間隔壁の傾斜角度が45°〜90°の範囲内であることを特徴とする請求項8から請求項10までのいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 前記画素間隔壁が、前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および前記有機エレクトロルミネッセンス素子基板間のギャップを保持する高さを有することを特徴とする請求項8から請求項11までのいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 前記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板が、前記透明基板上に形成され、画素を画定する遮光部を有し、前記画素間隔壁が前記遮光部の一部または全部を兼ねていることを特徴とする請求項8から請求項12までのいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 前記遮光部が、前記透明基板上に形成された前記画素間隔壁と、前記透明基板上に形成された遮光膜とを有し、前記反射膜および前記遮光膜が同一材料からなることを特徴とする請求項13に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
- 有機エレクトロルミネッセンス素子を有する有機エレクトロルミネッセンス素子基板に対向するように配置され、透明基板と、前記透明基板上に形成され、画素間に配置された画素間隔壁と、前記透明基板上の非表示領域に表示領域を囲むように形成された封止隔壁とを有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板の製造方法であって、
前記画素間隔壁が、画素間隔壁用台座部と、前記画素間隔壁用台座部を覆うように形成された反射膜とを有し、前記封止隔壁が、封止隔壁用台座部と、前記封止隔壁用台座部を覆うように形成されたバリア膜とを有し、前記画素間隔壁用台座部および前記封止隔壁用台座部を同一材料を用いて同時に形成し、前記反射膜および前記バリア膜を同一材料を用いて同時に形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010275726A JP5664194B2 (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010275726A JP5664194B2 (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012124103A JP2012124103A (ja) | 2012-06-28 |
JP5664194B2 true JP5664194B2 (ja) | 2015-02-04 |
Family
ID=46505320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010275726A Active JP5664194B2 (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5664194B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014071399A (ja) * | 2012-10-01 | 2014-04-21 | Seiko Epson Corp | カラーフィルター基板、電気光学装置、及び電子機器 |
CN104241541B (zh) | 2014-09-15 | 2016-12-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 有机电致发光器件及显示装置 |
WO2017037560A1 (en) | 2015-08-28 | 2017-03-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
CN108963100A (zh) * | 2017-05-18 | 2018-12-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制作方法、显示面板 |
EP3631859A4 (en) * | 2017-06-01 | 2021-01-06 | BOE Technology Group Co., Ltd. | MATRIX SUBSTRATE, DISPLAY BOARD HAVING THIS LATEST AND METHOD OF MANUFACTURING A MATRIX SUBSTRATE |
CN107331692B (zh) * | 2017-08-25 | 2019-09-17 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | Oled显示面板及其制作方法 |
US10658621B2 (en) | 2018-04-09 | 2020-05-19 | Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. | OLED panel and manufacturing method thereof and OLED display |
CN108538888A (zh) * | 2018-04-09 | 2018-09-14 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | Oled面板及其制造方法、oled显示器 |
CN110416432B (zh) | 2019-07-31 | 2021-12-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种oled面板的制备方法、oled面板及oled装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1969595A (zh) * | 2004-08-26 | 2007-05-23 | 出光兴产株式会社 | 有机el显示装置 |
JP2010096882A (ja) * | 2008-10-15 | 2010-04-30 | Sony Corp | 反射板、発光装置およびその製造方法 |
JP2010225362A (ja) * | 2009-03-23 | 2010-10-07 | Toppan Printing Co Ltd | 有機el用隔壁形成体及び有機el用隔壁形成体用感光性樹脂組成物、並びに有機el用カラーフィルタ |
-
2010
- 2010-12-10 JP JP2010275726A patent/JP5664194B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012124103A (ja) | 2012-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5515522B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタおよび有機エレクトロルミネッセンス表示装置 | |
JP5664194B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用対向基板および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 | |
US8446093B2 (en) | Organic electro-luminescent display device and manufacturing method thereof | |
CN109524568B (zh) | 有机发光二极管面板及其制备方法、显示装置 | |
TWI312081B (ja) | ||
JP6318676B2 (ja) | 有機発光装置の製造方法、有機発光装置、及び電子機器 | |
JP4385563B2 (ja) | 有機el素子とその製造方法ならびに表示装置 | |
US20090206733A1 (en) | Organic light emitting diode display and method of manufacturing the same | |
JP5629993B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタおよび有機エレクトロルミネッセンス表示装置 | |
TW201306250A (zh) | 有機el裝置、有機el裝置之製造方法及電子機器 | |
JP2011204384A (ja) | 表示装置 | |
JP2016149350A (ja) | 有機発光装置およびその製造方法 | |
JP2008525955A (ja) | 有機電子発光装置 | |
US20240040883A1 (en) | Display panel | |
JP2011076760A (ja) | 有機el装置およびその製造方法 | |
JP5782812B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス装置および有機エレクトロルミネッセンス素子用対向基板 | |
JP2010225362A (ja) | 有機el用隔壁形成体及び有機el用隔壁形成体用感光性樹脂組成物、並びに有機el用カラーフィルタ | |
JP2006253097A (ja) | 自発光パネルおよび自発光パネルの製造方法 | |
JP5266765B2 (ja) | 横電界液晶駆動方式用カラーフィルタ | |
JP2011181304A (ja) | 有機el装置及びその製造方法 | |
JP5453724B2 (ja) | 横電界液晶駆動方式用カラーフィルタ | |
JP2009151945A (ja) | 有機el発光デバイスおよびその製造方法 | |
US20220216443A1 (en) | Multi-layer display structure | |
JP2011054424A (ja) | トップエミッション型有機elディスプレイ及びその製造方法並びにそれに用いる色フィルター | |
JP4729754B2 (ja) | 複数の有機el発光素子を利用した表示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131017 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140430 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140626 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141111 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5664194 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |