CN108983482A - 彩膜基板及其制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了彩膜基板及其制作方法，所述彩膜基板包括透明基板、黑色矩阵以及多个色阻块。所述黑色矩阵设置于所述透明基板上以形成多个像素区；所述色阻块设置于对应的像素区内，所述色阻块与所述黑色矩阵之间具有间隔槽。其使照向所述彩膜基板的光线得以从所述间隔槽处通过，从而可以将这些光线用于为透过所述色阻块的光增强亮度，进而增强了所述彩膜基板应用的液晶显示面板的显示亮度，解决了液晶显示面板中显示亮度不足的问题及其引发的电量问题。并且，本发明通过进一步向所述间隔槽内填充透明光阻材料以形成间隔光阻块，能使后续制程设置于所述色阻块、所述黑色矩阵以及所述间隔光阻块上的结构能保持平稳。

Description

彩膜基板及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及彩膜基板及其制作方法。
背景技术
液晶显示面板中，通过在彩色滤光片上涂布相应颜色的色阻材料，使背光通过各个所述色阻材料后分别形成相应颜色的原色光，原色光分别以不同强弱比例进行混合，显示不同的颜色。
但是，由于背光通过色阻材料后，除对应颜色的光外，其他颜色的光被吸收，光强随之减弱，造成最终获得的显示画面的整体亮度下降。液晶显示面板应用于各类产品的显示时，尤其当用户处于户外环境下，需要对应提高背光的亮度以使用户能清楚观看到显示画面，这造成了产品电量消耗过快。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提供彩膜基板及其制作方法，来解决上述问题。
为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：
本发明提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括透明基板、黑色矩阵以及多个色阻块，所述黑色矩阵设置于所述透明基板上以形成多个像素区；所述色阻块设置于对应的像素区内，所述色阻块与所述黑色矩阵之间具有间隔槽。
优选地，所述间隔槽的最大宽度等于或者小于所述色阻块的宽度的十分之一。
优选地，所述间隔槽的宽度随着所述间隔槽的深度的增加而减小。
优选地，所述间隔槽内填充有透明光阻材料，以形成间隔光阻块。
优选地，所述彩膜基板还包括透明导电膜和间隙子，所述透明导电膜设置于所述色阻块、所述间隔光阻块和所述黑色矩阵上，所述间隙子设置于所述透明导电膜上的且位于所述黑色矩阵上方。
优选地，所述彩膜基板还包括透明导电膜和间隙子，所述透明导电膜设置于所述色阻块和所述黑色矩阵上且覆盖在所述间隔槽的槽表面上；所述间隙子设置于所述透明导电膜上且位于所述黑色矩阵上方，其中，制作所述间隙子的材料填充到所述间隔槽内。
本发明还提供了一种彩膜基板的制作方法，所述制作方法包括步骤：提供一透明基板，并在所述透明基板上制作黑色矩阵，所述黑色矩阵将所述透明基板划分为多个像素区；在所述像素区内制作对应的色阻块，所述色阻块与所述黑色矩阵之间具有间隔槽。
优选地，所述制作方法还包括步骤：向所述间隔槽内填充透明光阻材料，以形成间隔光阻块。
优选地，所述制作方法还包括步骤：在所述色阻块、所述间隔光阻块和所述黑色矩阵上制作透明导电膜；在所述透明导电膜上制作位于所述黑色矩阵上方的间隙子。
优选地，所述制作方法还包括步骤：在所述黑色矩阵、所述色阻块以及所述间隔槽的槽表面上覆设透明导电膜；在所述透明导电膜上涂覆透明光阻材料，并使所述透明光阻材料填充所述间隔槽；对所述透明光阻材料进行曝光和显影处理，从而形成位于所述间隔槽内的间隔光阻块以及位于所述黑色矩阵上方的间隙子。
本发明提供的彩膜基板及其制作方法，利用在色阻块与黑色矩阵之间设置间隔槽，使照向所述彩膜基板的光线得以从所述间隔槽处通过，从而可以将这些光线用于为透过所述色阻块的光增强亮度，进而增强了应用的液晶显示面板的显示亮度，解决了液晶显示面板中显示亮度不足的问题及其引发的应用设备电量问题。
附图说明
图1是实施例1中的一种彩膜基板的结构示意图；
图2是对应图1的所述彩膜基板的俯视图；
图3是实施例1中填充有透明光阻材料的彩膜基板的一种实施方式对应的结构示意图；
图4是实施例1中填充有透明光阻材料的彩膜基板的另一种实施方式对应的结构示意图；
图5a～5d是本发明实施例2提供的制作方法的一种实施方式中，对应各步骤获得的结构的示意图；
图6a～6d是本发明实施例2提供的制作方法的另一种实施方式中，对应各步骤获得的结构的示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。这些优选实施方式的示例在附图中进行了例示。附图中所示和根据附图描述的本发明的实施方式仅仅是示例性的，并且本发明并不限于这些实施方式。
在此，还需要说明的是，为了避免因不必要的细节而模糊了本发明，在附图中仅仅示出了与根据本发明的方案密切相关的结构和/或处理步骤，而省略了关系不大的其他细节。
实施例1
参阅图1和图2所示，本实施例提供了一种彩膜基板，包括透明基板1、黑色矩阵2以及多个色阻块3。
其中，所述黑色矩阵2设置于所述透明基板1上以形成多个像素区10，所述色阻块3设置于对应的像素区10内，所述色阻块3与所述黑色矩阵2之间具有间隔槽40。
所述彩膜基板通过在将每个所述色阻块3设置于对应的像素区10内时，所述色阻块3与所述黑色矩阵2之间设置所述间隔槽40，使所述色阻块3与所述黑色矩阵2之间形成相互间隔的区域，照向所述彩膜基板的光线得以从所述间隔槽40处通过。当所述彩膜基板应用于液晶显示面板，背光源照向所述彩膜基板的一部分背光从所述间隔槽40通过，起到为透过所述色阻块3的光增强亮度的作用，进而起到增强显示画面的亮度的作用。
具体地，所述间隔槽40的最大宽度等于或者小于所述色阻块3的宽度的十分之一。所述间隔槽40的宽度方向及所述色阻块3的宽度方向指所述间隔槽40指向所述色阻块3的方向。沿该方向上，所述间隔槽40的宽度保持在所述色阻块3的宽度的十分之一以下，能控制通过所述间隔槽40的入光量，使通过所述间隔槽40的光既能提供足够的亮度，在整体上又不至于影响透过所述色阻块3的光，从而不会干扰各个子像素的显示效果。
示例性地，每个所述色阻块3的两侧分别设置有所述间隔槽40，以使通过所述间隔槽40的光能均衡地向透过所述色阻块3的光补偿亮度。其中，在一个像素区10内，两个所述间隔槽40的最大宽度之和优选保持等于或者小于所述色阻块3的宽度的十分之一。
参阅图3或图4所示，进一步地，所述间隔槽40内填充有透明光阻材料，以形成间隔光阻块4。通过在所述间隔槽40内填充透明光阻材料，能在不影响光透过所述间隔槽40的前提下，利用光阻材料的良好伸缩性能使所述色阻块3、所述黑色矩阵2以及所述间隔光阻块4的形成顶面平整的同层结构，使后续制程设置于所述色阻块3、所述黑色矩阵2以及所述间隔光阻块4上的结构保持稳定，解决了寻常的彩膜基板中由于色阻块3在黑色矩阵2上形成牛角的不平整结构或色阻块3的表面形成碗状的不平整结构而影响器件结构的稳定性的问题。
示例性地，所述间隔槽40的宽度随着所述间隔槽40的深度的增加而减小。所述间隔槽40设置为顶宽底窄的结构，有利于所述间隔槽40填入上述透明光阻材料，同时保持通过所述间隔槽40的入光量。
作为所述彩膜基板的一种实施方式，如图2和3所示，所述彩膜基板还包括透明导电膜5和间隙子6，其中，所述透明导电膜5设置于所述色阻块3、所述间隔光阻块4和所述黑色矩阵2上；所述间隙子6设置于所述透明导电膜5上的且位于所述黑色矩阵2上方。同上所述，所述色阻块3、所述黑色矩阵2以及所述间隔光阻块4可以形成顶面平整的同层结构，设置于所述色阻块3、所述间隔光阻块4和所述黑色矩阵2上的透明导电膜5保持平整而具有良好的稳定性，避免出现由于色阻块3在黑色矩阵2上形成牛角的不平整结构或色阻块3的表面形成碗状的不平整结构而使覆设于上的透明导电膜5发生破损进而影响显示的情况。
作为所述彩膜基板的另一种实施方式，如图4所示，所述彩膜基板还包括透明导电膜5和间隙子6，其中，所述透明导电膜5设置于所述色阻块3和所述黑色矩阵2上且覆盖在所述间隔槽40的槽表面上；所述间隙子6设置于所述透明导电膜5上且位于所述黑色矩阵2上方，制作所述间隙子6的材料填充到所述间隔槽40内。在制作所述间隙子6的工序中，直接利用制作所述间隙子6的透明光阻材料填充覆设有透明导电膜5的间隔槽40，节省了额外向所述间隔槽40填充透明光阻材料的工序，从而提高了所述彩膜基板的生产效率。
实施例2
本实施提供了一种彩膜基板的制作方法，结合图5a～5d或图6a～6d所示，所述制作方法包括步骤：
如图5a或6a所示，提供一透明基板1，并在所述透明基板1上制作黑色矩阵2，所述黑色矩阵2将所述透明基板1划分为多个像素区10；
如图5b或6b所示，在所述像素区10内制作对应的色阻块3，所述色阻块3与所述黑色矩阵2之间具有间隔槽40。
作为所述彩膜基板的制作方法的一种实施方式，如图5c所示，所述制作方法还包括步骤：向所述间隔槽40内填充透明光阻材料，以形成间隔光阻块4。
进一步地，如图5d所示，在该实施方式中，所述制作方法还包括步骤：在所述色阻块3、所述间隔光阻块4和所述黑色矩阵2上制作透明导电膜5；在所述透明导电膜5上制作位于所述黑色矩阵上方的间隙子6。
具体地，所述透明导电膜5涂覆于所述色阻块3、所述间隔光阻块4和所述黑色矩阵2上。在所述透明导电膜5上制作位于所述黑色矩阵上方的间隙子6具体包括：在所述透明导电膜5上涂覆透明光阻材料，对所述透明光阻材料进行曝光和显影处理，从而形成位于所述黑色矩阵2上方的间隙子6。
更具体地，所述间隙子6包括主间隙子61和辅间隙子62，所述主间隙子61的高度大于所述辅间隙子62的高度，因此，对所述透明光阻材料进行曝光处理时，需要采用透过率不同的两个光罩进行曝光，使透明光阻材料形成被刻蚀高度不一的两个区域，进而获得所述主间隙子61和辅间隙子62。
作为所述彩膜基板的制作方法的另一种实施方式，如图6c和6d所示，所述制作方法还包括步骤：在所述黑色矩阵2、所述色阻块3以及所述间隔槽40的槽表面上覆设透明导电膜5；在所述透明导电膜5上涂覆透明光阻材料，并使所述透明光阻材料填充所述间隔槽40；对所述透明光阻材料进行曝光和显影处理，从而形成位于所述间隔槽40内的间隔光阻块4以及位于所述黑色矩阵2上方的间隙子6。
同理地，为获得所述主间隙子61、辅间隙子62以及间隔光阻块4，使透明光阻材料形成被刻蚀高度不一的三个区域，可采用透过率不同的三个光罩进行曝光。
综上所述，本实施例提供的彩膜基板及其制作方法，利用在色阻块3与黑色矩阵2之间设置间隔槽40，使照向所述彩膜基板的光线得以从所述间隔槽40处通过，从而可以将这些光线用于为透过所述色阻块3的光增强亮度，进而增强了应用的液晶显示面板的显示亮度，解决了液晶显示面板中显示亮度不足及其引发的应用设备电量问题。并且，利用进一步向所述间隔槽40内填充透明光阻材料以形成间隔光阻块4，使得后续制程设置于所述色阻块3、所述黑色矩阵2以及所述间隔光阻块4上的结构能保持稳定，避免发生因所述色阻块3与所述黑色矩阵2进行交叠而产生器件稳定性问题。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：
透明基板(1)；
黑色矩阵(2)，设置于所述透明基板(1)上以形成多个像素区(10)；
多个色阻块(3)，所述色阻块(3)设置于对应的像素区(10)内，所述色阻块(3)与所述黑色矩阵(2)之间具有间隔槽(40)。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述间隔槽(40)的最大宽度等于或者小于所述色阻块(3)的宽度的十分之一。
3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，所述间隔槽(40)的宽度随着所述间隔槽(40)的深度的增加而减小。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述间隔槽(40)内填充有透明光阻材料，以形成间隔光阻块(4)。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
设置于所述色阻块(3)、所述间隔光阻块(4)和所述黑色矩阵(2)上的透明导电膜(5)；
设置于所述透明导电膜(5)上的且位于所述黑色矩阵(2)上方的间隙子(6)。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
透明导电膜(5)，设置于所述色阻块(3)和所述黑色矩阵(2)上且覆盖在所述间隔槽(40)的槽表面上；
间隙子(6)，设置于所述透明导电膜(5)上且位于所述黑色矩阵(2)上方，其中，制作所述间隙子(6)的材料填充到所述间隔槽(40)内。
7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括步骤：
提供一透明基板(1)，并在所述透明基板(1)上制作黑色矩阵(2)，所述黑色矩阵(2)将所述透明基板(1)划分为多个像素区(10)；
在所述像素区(10)内制作对应的色阻块(3)，所述色阻块(3)与所述黑色矩阵(2)之间具有间隔槽(40)。
8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，还包括步骤：
向所述间隔槽(40)内填充透明光阻材料，以形成间隔光阻块(4)。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，还包括步骤：
在所述色阻块(3)、所述间隔光阻块(4)和所述黑色矩阵(2)上制作透明导电膜(5)；
在所述透明导电膜(5)上制作位于所述黑色矩阵上方的间隙子(6)。
10.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，还包括步骤：
在所述黑色矩阵(2)、所述色阻块(3)以及所述间隔槽(40)的槽表面上覆设透明导电膜(5)；
在所述透明导电膜(5)上涂覆透明光阻材料，并使所述透明光阻材料填充所述间隔槽(40)；
对所述透明光阻材料进行曝光和显影处理，从而形成位于所述间隔槽(40)内的间隔光阻块(4)以及位于所述黑色矩阵(2)上方的间隙子(6)。
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