CN109722630B - 掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种掩模单元及具有该掩模单元的掩模组件，其中所涉及的掩模单元包括镀膜区，镀膜区具有多个供蒸镀成型像素的蒸镀开口，掩模单元还包括第一辅助区，第一辅助区具有邻接镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部，每一第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口，第一开口于其延伸形成方向上的宽度尺寸逐渐减小；本发明掩模单元中的镀膜区通过第一辅助区与其周边区域连接，基于第一辅助区中第一开口的渐变形态，可以有效降低掩模单元镀膜区与其周边区域交界位置处的折伤概率；且由于第一辅助区的应力释放作用，在掩模单元张紧过程中能够有效减少镀膜区内蒸镀开口的位置偏移量，从而提高蒸镀开口的整体精度。
Description
技术领域
本发明涉及有机发光显示器制作领域，尤其涉及一种用于有机发光显示器像素制作的掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件。
背景技术
传统的液晶显示器(LCD)需要背光源才能工作，质量重、厚度大；有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diodes，简称OLED)是自发光器件，相较于液晶显示器，有机发光显示器(即OLED显示器)不需要背光源，质量轻、厚度薄、功耗低、视角宽、屏幕响应快，是最能符合人们未来对显示器功能要求的技术。基于此，近年来业界对有机发光显示器技术的研究越来越多。
在有机发光显示器制作过程中，目前实现像素制作较成熟的技术是采用真空蒸镀技术，通常，有机材料通过蒸镀淀积在位于蒸发源上方基板的特定位置处，从而实现特定形态像素的成型。具体而言，在像素沉积过程中，在基板下方紧贴有掩模板组件，其中，构成掩模板组件的掩模单元上预先设计有与像素图案一致的镀膜区，镀膜区内形成有蒸镀开口，有机材料即通过该蒸镀开口沉积于基板的特定位置处。
然现有技术存在以下问题：
首先，掩模单元采用金属片材制成，但由于金属片材的厚度通常为微米级别，具有蒸镀开口的镀膜区与其周边非开口区域的交界位置处容易出现折伤，从而导致掩模板报废。其次，在掩模板的制作过程中，通常需要对构成掩模板的掩模单元进行张紧，掩模单元张紧后，镀膜区靠近交界位置附近的蒸镀开口容易出现较大的位置偏移，从而影响最终像素蒸镀成型质量。再者，由于掩模单元上镀膜区各个区域受力环境不同，在张紧力的作用下，镀膜区内不同位置的形变量不同，如此导致镀膜区上蒸镀开口均匀性较差。
有鉴于此，有必要提供一种解决上述问题的技术方案。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术存在的技术问题之一，为实现上述发明目的，本发明提供了一种掩模单元，其具体设计方式如下。
一种掩模单元，用于有机发光显示器像素蒸镀成型，包括镀膜区，所述镀膜区具有多个供蒸镀成型所述像素的蒸镀开口，所述掩模单元还包括第一辅助区，所述第一辅助区具有邻接所述镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部，每一所述第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口，所述第一开口于其延伸方向上的宽度尺寸逐渐减小。
进一步，所述第一开口呈三角形或弯曲延伸形态。
进一步，所述第一开口的延伸长度尺寸范围为在该第一开口延伸方向上两相邻所述蒸镀开口中心间距的2-3倍。
进一步，所述第一侧边部还具有至少一排紧邻所述镀膜区最外侧所述蒸镀开口设置的第二开口，全部所述蒸镀开口与所述第二开口共同构成矩阵形态。
进一步，所述第一辅助区具有邻接所述镀膜区四侧设置的四个所述第一侧边部，每相邻的两个所述第一侧边部交接位置处形成有交汇部，所述交汇部内分布有若干第三开口，在远离所述镀膜区的方向上，每一所述交汇部内单位面积上所述第三开口的总开口面积呈逐渐减小趋势。
进一步，所述掩模单元呈长条状且还具有第二辅助区，所述第二辅助区具有一对于所述掩模单元宽度方向上分布于所述镀膜区相对两侧外的第二侧边部，每一所述第二侧边部的长度方向与所述掩模板的长度方向一致且内部分布有若干第四开口；于所述第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，单位面积上所述第四开口的总开口面积呈逐渐增大趋势。
进一步，全部所述第四开口的开口尺寸均匀一致，且于所述第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，相邻两所述第四开口之间的中心间距逐渐减小。
进一步，全部所述第四开口等间距分布，且于所述第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，所述第四开口的开口尺寸逐渐增大。
进一步，所述掩模单元呈长条状且至少具有一对于所述掩模单元宽度方向上分布于所述镀膜区相对两侧的所述第一侧边部，且于每一所述第一侧边部中间所述第一开口指向两端所述第一开口的分布方向上，相邻两所述第一开口之间的间距逐渐减小。
本发明还提供了一种掩模板组件，该掩模板组件包括掩模外框，所述掩模板组件还至少包括一个张紧设置于所述掩模外框上如以上所述的掩模单元。
本发明的有益效果是：本发明中所涉及掩模板单元的镀膜区通过第一辅助区与其周边区域连接，基于第一辅助区中第一开口的渐变形态，可以有效降低掩模单元的镀膜区与其周边区域交界位置处的折伤概率，提高掩模组件的寿命；此外，第一辅助区可以起到应力释放作用，如此在掩模单元张紧过程中能够有效减少镀膜区内蒸镀开口的位置偏移量，从而提高蒸镀开口的整体精度，利于最终像素蒸镀成型质量。
附图说明
图1所示为掩模单元的一种结构示意图；
图2所示为图1中a部分的第一种放大示意图；
图3所示为图1中a部分的第二种放大示意图；
图4所示为图1中a部分的第三种放大示意图；
图5所示为图1中a部分的第四种放大示意图；
图6所示为掩模单元的另一种结构示意图；
图7所示为图6中b部分的第一种放大示意图；
图8所示为图6中b部分的第二种放大示意图；
图9所示为掩模单元的第三种结构示意图；
图10所示为图9中c部分的放大示意图。
具体实施方式
本发明中所涉及的掩模单元100用于有机发光显示器像素蒸镀成型，以下将结合附图所示的各具体实施例对本发明进行详细描述。
实施例一
参考图1所示，其展示了本发明掩模单元100的一种实施方式，结合图2所示，本实施例中的掩模单元100包括镀膜区11，镀膜区11具有多个供蒸镀成型像素的蒸镀开口110。在具体实施过程中，多个蒸镀开口110的排布方式与有机发光显示器上像素的排布方式一致，其通常呈阵列形态排布。
在本实施例中，掩模单元100还包括第一辅助区12，参考图2所示，第一辅助区12具有邻接镀膜区11四个侧边设置的四个第一侧边部(图中仅展示相邻的两个第一侧边部)。在本实施例的其它实施结构中，也可以是邻接镀膜区11一个侧边、两个侧边或三个侧边设置有第一侧边部。其中，作为本实施例的一种优选实施结构，第一侧边部通常成对邻接设置于镀膜区11相对两侧边，对称的设置方式有利于提高镀膜区11内蒸镀开口110的位置精度。
进一步参考图2中所示，本实施例中的每一第一侧边部包括一排由该侧边部12内侧向外侧延伸形成的第一开口120，其中，第一开口120于其延伸方向上的宽度尺寸逐渐减小。于本发明中，较为容易了理解的是，侧边部12内侧指的是侧边部12靠近镀膜区11的一侧，侧边部12外侧指的是侧边部12远离镀膜区11的一侧。
在具体实施过程中，掩模单元100通常采用金属片材制成，金属片材通常具有微米级别的厚度。本发明中所涉及掩模板单元100的镀膜区11通过第一辅助区12的第一侧边部与其周边区域连接，基于第一侧边部中第一开口120的渐变形态，可以缓冲镀膜区11与周边非开口区的连接，有效降低掩模单元100的镀膜区11与其周边区域交界位置处的折伤概率；此外，第一辅助区12可以起到应力释放作用，如此在掩模单元100张紧过程中能够有效减少镀膜区11内蒸镀开口110的位置偏移量，从而提高蒸镀开口110的整体精度，利于最终像素蒸镀成型质量。
本实施例中的第一开口120呈三角形形态。优选地，第一开口120为等腰三角形，其中，每一开口120远离镀膜区11的一端构成等腰三角形的顶角。
作为本实施例的一种具体实施结构，参考图2所示，第一开口120的延伸长度尺寸范围为在该第一开口120延伸方向上两相邻蒸镀开口110中心间距的2-3倍。此时，第一辅助区12所起到的防折伤作用及应力释放作用的综合效果最好。
此外，于本实施例中，每一第一侧边部内的第一开口均匀分布，分布间距与同方向上相邻两个蒸镀开口110的中心间距相同。
实施例二
结合图1、图3所示，与实施例一不同点在于，本实施例中第一侧边部还具有至少一排紧邻镀膜区11最外侧蒸镀开口110设置的第二开口130，且全部蒸镀开口110与第二开口130共同构成矩阵形态。
具体而言，第二开口130与蒸镀开口110具有相同的开口尺寸；且于同一方向上，第二开口130与最外侧蒸镀开口110之间的中心间距、相邻两个第二开口130之间的中心间距以及相邻两个蒸镀开口110之间的中心间距均具有相同的设定值。如此，镀膜区11的蒸镀开口110在掩模单元100张紧后相对实施例一具有更为优异的位置精度。
具体于图3所示实施结构中，第一侧边部具有一排紧邻镀膜区11最外侧蒸镀开口110设置的第二开口130；在本实施例的其它实施结构中，第一侧边部也可以具有两排甚至多排紧邻镀膜区11最外侧蒸镀开口110设置的第二开口130。
实施例三
结合图1、图4所示，与实施例一、实施例二不同点在于，本实施例中第一辅助区12具有邻接镀膜区11四侧设置的四个第一侧边部，每相邻的两个第一侧边部交接位置处形成有交汇部14，交汇部14内分布有若干第三开口140，其中，在远离镀膜区11的方向上，每一交汇部14内单位面积上第三开口140的总开口面积呈逐渐减小趋势。
具体于图4所示的实施结构中，横向上每相邻的两个第三开口140具有相同的间距值，纵向上每相邻的两个第三开口140亦具有相同的间距值；在横向远离镀膜区11的方向上以及纵向远离镀膜区11的方向上，交汇部14内第三开口140的开口尺寸逐渐减小。如此，在蒸镀单元100的张紧过程中，交汇部14可以对镀膜区11边角位置所承受应力进行渐变式释放，能够进一步优化镀膜区11内蒸镀开口110的位置精度。
本实施例中交汇部14也可以通过其它实施结构实现“在远离镀膜区11的方向上，每一交汇部14内单位面积上第三开口140的总开口面积呈逐渐减小趋势”的目的。例如，交汇部14内的第三开口140的开口尺寸可以全部一致，但在远离镀膜区11的方向上，第三开口140的排布越来越稀疏(图中未示出)。
实施例四
结合图1、图5所示，与实施例一、实施例二、实施例三的不同点在于，本实施例中的第一开口120呈弯曲延伸形态。具体于图5中所示结构，第一开口120呈S型，在本实施例的其它实施结构中，第一开口120也可以呈C型等其它弯曲延伸形态，具体在此不做进一步展开。
实施例五
结合图6、图7所示，与实施例一、实施例二、实施例三、实施例四的不同点在于，本实施例中的掩模单元100还具有第二辅助区14，在具体实施过程中，掩模单元100呈长条状，第二辅助区14具有一对分布于镀膜区11相对两侧外的第二侧边部，参考图6所示，构成第二辅助区14的一对第二侧边部在掩模单元100宽度方向上分布于镀膜区11相对两侧。
进一步地，本实施例中的每一第二侧边部的长度方向与掩模板100的长度方向一致且内部分布有若干第四开口140；参考图7中箭头所示方向，于第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，单位面积上第四开口140的总开口面积呈逐渐增大趋势。
通常，于掩模单元100的长度方向上对掩模单元100的两端施加张紧力后，在每一镀膜区11长度方向的跨度范围内，掩模单元100中间区域于宽度方向上的收缩量大于两端区域于宽度方向上的收缩量。然基于本实施例中第二辅助区14内第四开口140的设计方式，在每一镀膜区11长度方向的跨度范围内，掩模单元100中间区域非开口区域对镀膜区11的牵扯力大于两端区域非开口区域对镀膜区11的牵扯力，如此可以平衡掩模单元100在每一镀膜区11长度方向的跨度范围内的收缩量，从而使得每一镀膜区11内的掩膜开口110具有较优的均匀性。
参考图7中所示，于本具体实施结构中，全部第四开口140的开口尺寸均匀一致，且于第二侧边部中间朝向两端的分布方向上(参考箭头所示方向)，相邻两第四开口140之间的中心间距逐渐减小。如图中所示，靠近端部相邻两第四开口140之间的间距L1小于靠中间相邻两第四开口140之间的间距L2。
此外，在具体实施过程中，第四开口140的形状可以为圆形、矩形或其它形状。
实施例六
结合图6、图8所示，与实施例五的不同点在于，本实施例中实现“于第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，单位面积上第四开口140的总开口面积呈逐渐增大趋势”的方式为：全部第四开口140等间距分布，于第二侧边部中间朝向两端的分布方向上(参考图8中箭头所示方向)，第四开口140的开口尺寸逐渐增大。如此可以实现实施例五中提高每一镀膜区11内掩膜开口110均匀性的技术效果。
实施例七
参考图9、图10所示，本实施例中的掩模单元100呈长条状，与实施例一、实施例二、实施例三、实施例四的不同点在于，本实施例中的掩模单元100至少具有一对于掩模单元100宽度方向上分布于镀膜区11相对两侧的第一侧边部(图10中仅展示镀膜区11一侧的第一侧边部)，且于每一第一侧边部中间第一开口120指向两端第一开口120的分布方向上(参考图10中箭头所示方向)，相邻两第一开口120之间的间距逐渐减小。如图中所示，靠近端部相邻两第一开口120之间的间距D1小于靠中间相邻两第一开口120之间的间距D2。
如此，本实施例中无需设置实施例五、实施例六中的第二辅助区14，也可以实现实施例五、实施例六提高镀膜区11内镀膜开口110均匀性的技术效果。
实施例八
本实施提供了一种掩模板组件，具体地，该掩模板组件包括掩模外框(图中未示出)，本事实例中的掩模板组件还至少包括一个张紧设置于掩模外框上如实施例一至实施例7中所描述的掩模单元100。
本发明中所涉及的掩模组件在应用于有机发光显示器像素的蒸镀成型时，可以提高像素的蒸镀位置精度，提高最终有机发光显示器的质量。
应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施方式中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本发明的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本发明的保护范围，凡未脱离本发明技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种掩模单元，用于有机发光显示器像素蒸镀成型，包括镀膜区，所述镀膜区具有多个供蒸镀成型所述像素的蒸镀开口，其特征在于，所述掩模单元还包括第一辅助区，所述第一辅助区具有邻接所述镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部，每一所述第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口，所述第一开口于其延伸方向上的宽度尺寸逐渐减小；
所述掩模单元呈长条状且还具有第二辅助区，所述第二辅助区具有一对于所述掩模单元宽度方向上分布于所述镀膜区相对两侧外的第二侧边部，每一所述第二侧边部的长度方向与所述掩模板的长度方向一致且内部分布有若干第四开口；于所述第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，单位面积上所述第四开口的总开口面积呈逐渐增大趋势。
2.根据权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，所述第一开口呈三角形或弯曲延伸形态。
3.根据权利要求2所述的掩模单元，其特征在于，所述第一开口的延伸长度尺寸范围为在该第一开口延伸方向上两相邻所述蒸镀开口中心间距的2-3倍。
4.根据权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，所述第一侧边部还具有至少一排紧邻所述镀膜区最外侧所述蒸镀开口设置的第二开口，全部所述蒸镀开口与所述第二开口共同构成矩阵形态。
5.根据权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，所述第一辅助区具有邻接所述镀膜区四侧设置的四个所述第一侧边部，每相邻的两个所述第一侧边部交接位置处形成有交汇部，所述交汇部内分布有若干第三开口，在远离所述镀膜区的方向上，每一所述交汇部内单位面积上所述第三开口的总开口面积呈逐渐减小趋势。
6.根据权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，全部所述第四开口的开口尺寸均匀一致，且于所述第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，相邻两所述第四开口之间的中心间距逐渐减小。
7.根据权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，全部所述第四开口等间距分布，且于所述第二侧边部中间朝向两端的分布方向上，所述第四开口的开口尺寸逐渐增大。
8.一种掩模单元，用于有机发光显示器像素蒸镀成型，包括镀膜区，所述镀膜区具有多个供蒸镀成型所述像素的蒸镀开口，其特征在于，所述掩模单元还包括第一辅助区，所述第一辅助区具有邻接所述镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部，每一所述第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口，所述第一开口于其延伸方向上的宽度尺寸逐渐减小；
所述掩模单元呈长条状且至少具有一对于所述掩模单元宽度方向上分布于所述镀膜区相对两侧的所述第一侧边部，且于每一所述第一侧边部中间所述第一开口指向两端所述第一开口的分布方向上，相邻两所述第一开口之间的间距逐渐减小。
9.一种掩模板组件，包括掩模外框，其特征在于，所述掩模板组件还至少包括一个张紧设置于所述掩模外框上如权利要求1-8中任意一项所述的掩模单元。
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