CN113862612A - 一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺，包括掩膜条板材，所述掩膜条板材上设有若干组等间距分布的有效区域，所述有效区域为石英光罩，所述有效区域外侧设有包围层，包围层为蚀刻区域，蚀刻区域呈矩形设置，所述有效区域与对应的蚀刻区域之间为缓冲区域，所述有效区域内均匀分布有若干组贯穿孔，所述缓冲区域内均匀分布有若干组非贯穿孔；本发明可以提高用于异形屏的掩膜条板材张网良率，提高张网效率；本发明掩膜条板材结构减缓异形屏的受力不均匀现象，解决褶皱问题，降低混色风险，改善混色现象。

Description

一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺
技术领域
本发明属于OLED显示面板技术领域，具体涉及一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺。
背景技术
OLED显示面板具有厚度薄，功耗低，可弯曲及柔性显示等优势，近年来成为下一代面板显示器的发展趋势。
现有的OLED面板是在真空环境下利用蒸发源将有机材料加热后蒸发，有机材料透过金属掩膜条上开孔位置，在基板表面形成有机薄膜，成膜位置需是基板上被指定的发光位置，基板的电流才能有效传入OLED器件发光，所以需要金属掩膜条要有较高的位置精度以及稳定性，并且需与基板紧密贴合，防止有机材料蒸发到错误位置、产生混色现象。
目前主流的屏幕均是设计成矩形，金属掩膜条中的有效区域也需要与其配合设计成矩形，即两端的张力会比较均匀的施加在有效区域。在开发异形屏（圆形、菱形等）的时候，掩膜条的有效区域需设计成异形（圆形、菱形等），有效区域的两侧就会存在圆弧或者顶点，即两端张力在施加时会产生不同的张力效果，有效区域边缘受力不均匀，容易发生有效区域变形、位置偏移、产生褶皱等问题，直接影响了混色良率，这也是目前开发异形屏幕的难点之一。为此，我们提出一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺，以解决上述背景技术中提到的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于异形屏的掩膜条结构，包括掩膜条板材，所述掩膜条板材上设有若干组等间距分布的有效区域，所述有效区域为石英光罩，所述有效区域外侧设有包围层，包围层为蚀刻区域，蚀刻区域呈矩形设置，所述有效区域与对应的蚀刻区域之间为缓冲区域，在异形屏的有效区域外，设计一层缓冲区域的包围层，使得整体蚀刻区域仍保持矩形状态，受力均匀性较高。
所述有效区域内均匀分布有若干组贯穿孔，所述缓冲区域内均匀分布有若干组非贯穿孔。由贯穿孔组成的区域为异形屏，而周围有非贯穿孔起到包围层的作用；
所述掩膜条板材采用金属INVAR36材质制成，其厚度为20-100um。
所述非贯穿孔表面为残留层，其厚度为1-3um。
一种用于异形屏的掩膜条结构的制造工艺，具体包括以下步骤：
S1、采用主流材质制造掩膜条板材，目前主流采用金属INVAR36材质，厚度为20-100um，不设限；
S2、设计第一组有效区域的石英光罩，确认有效区域为异形屏；
S3、设计第二组缓冲区域的石英光罩，确认缓冲区域为异形屏四周的包围层，且包围层的蚀刻面积不设限制；
S4、采用第一组有效区域的石英光罩，对掩膜条板材进行正面蚀刻；
S5、采用第一组有效区域的石英光罩，对掩膜条板材进行背面蚀刻，需确认本次双面的蚀刻区域为贯穿孔；
S6、完成异形屏有效区域的贯穿孔工艺，确认实际可蒸镀范围为目标异形屏；
S7、采用第二组缓冲区域的石英光罩，对掩膜条板材进行正面蚀刻；
S8、采用第二组缓冲区域的石英光罩，需进行蚀刻药液量减少调整，对掩膜条板材进行背面蚀刻；
S9、完成异形屏包围层缓冲区域的非贯穿孔工艺，非贯穿孔的残留层的厚度为1-3um；
S10、掩膜条板材的蚀刻区域的制程工艺结束。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明提供的一种用于异形屏的掩膜条结构及其制造工艺，本发明可以提高用于异形屏的掩膜条板材张网良率，提高张网效率；本发明掩膜条板材结构减缓异形屏的受力不均匀现象，解决褶皱问题，降低混色风险，改善混色现象。
附图说明
图1为矩形屏的掩膜条板材的受力状况示意图；
图2为圆形屏的掩膜条板材受力状况示意图；
图3为本发明的贯穿孔截面结构示意图；
图4为本发明的非贯穿孔截面结构示意图；
图5为本发明掩膜条板材的整体结构示意图；
图6为本发明掩膜条板材的微观结构示意图；
图7为本发明掩膜条板材的制造流程图。
图中：1、有效区域；2、掩膜条板材；3、贯穿孔；4、残留层；5、非贯穿孔；6、蚀刻区域；7、缓冲区域。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1所示，矩形屏的掩膜条板材2受力状况：由于有效区域1是规则型面积（例如矩形），在张力方向上的受力均匀性高；
OLED异形屏在开发过程中，除了基板需要设计成圆形（或其他形状）以外，还需要设计掩膜条板材2与其相匹配，保证有机材料可以精准的蒸镀到基板上的发光区域。然而掩膜条板材2在张网过程中，两侧的治具会先对其进行施力拉伸后焊接，张力对矩形的施力分布均匀性高，而对圆形等异形屏的施力均匀性低，这是根据其形状的不规则形成的。而受力不均匀则会产生不同的形变量，即圆形等异形区域易发生变形，且易产生褶皱、波浪，这对异形屏的掩膜条板材2张网制程造成了很大的影响。
如图2所示，圆形屏（异形屏）的掩膜条板材2受力状况：由于有效区域在张力方向上的边缘不整齐，故其受力均匀性较差，易引起圆弧变形与产生褶皱；
在蚀刻区域6的结构中可提出两种概念：贯穿孔3与非贯穿孔5，当有效区域1是异形（以圆形举例）时，其区域内部结构是以贯穿孔3进行设计与处理。在缓冲区域7处用非贯穿孔5对有效区域1进行补充，将其异形区域扩大至与矩形相同。此时，在有效区域1的贯穿孔3的周围已经排列非贯穿孔5，且贯穿孔3与非贯穿孔5的差异极小，仅在中间结构存在微米级别的残留层，故当两端张力进行施力时，拥有包围层的蚀刻区域6的受力作用与真实矩形有效区域1受力基本相近。
本发明提供了如图3-6的一种用于异形屏的掩膜条结构，包括掩膜条板材2，所述掩膜条板材2上设有若干组等间距分布的有效区域1，所述有效区域1为石英光罩，所述有效区域1外侧设有包围层，包围层为蚀刻区域6，蚀刻区域6呈矩形设置，所述有效区域1与对应的蚀刻区域6之间为缓冲区域7，在异形屏的有效区域1外，设计一层缓冲区域7的包围层，使得整体蚀刻区域6仍保持矩形状态，受力均匀性较高。
所述有效区域1内均匀分布有若干组贯穿孔3，所述缓冲区域7内均匀分布有若干组非贯穿孔5。由贯穿孔3组成的区域为异形屏，而周围有非贯穿孔5起到包围层的作用；
所述掩膜条板材2采用金属INVAR36材质制成，其厚度为20-100um。
所述非贯穿孔5表面为残留层4，其厚度为1-3um。
如图7所示的一种用于异形屏的掩膜条结构的制造工艺，具体包括以下步骤：
S1、采用主流材质制造掩膜条板材2，目前主流采用金属INVAR36材质，厚度为20-100um，不设限；
S2、设计第一组有效区域1的石英光罩，确认有效区域1为异形屏；
S3、设计第二组缓冲区域7的石英光罩，确认缓冲区域7为异形屏四周的包围层，且包围层的蚀刻面积不设限制；
S4、采用第一组有效区域1的石英光罩，对掩膜条板材2进行正面蚀刻；
S5、采用第一组有效区域1的石英光罩，对掩膜条板材2进行背面蚀刻，需确认本次双面的蚀刻区域6为贯穿孔3；
S6、完成异形屏有效区域1的贯穿孔3工艺，确认实际可蒸镀范围为目标异形屏；
S7、采用第二组缓冲区域7的石英光罩，对掩膜条板材2进行正面蚀刻；
S8、采用第二组缓冲区域7的石英光罩，需进行蚀刻药液量减少调整，对掩膜条板材2进行背面蚀刻；
S9、完成异形屏包围层缓冲区域7的非贯穿孔5工艺，非贯穿孔5的残留层4的厚度为1-3um；
S10、掩膜条板材2的蚀刻区域6的制程工艺结束。
本发明主要通过对异形屏的周围区域进行结构改变，设计缓冲区域7用于减少受力不均匀现象。
异形屏的有效区域1设计为贯穿孔3结构，确保有效区域1为实际蒸镀区域，即有机材料可透过贯穿孔3，成膜于基板表面。
缓冲区域7设计为非贯穿孔5结构，将非贯穿孔5排列在有效区域1的四周外围，形成一圈包围层，确保蚀刻区域6整体仍为矩形区域，提高整体的受力均匀性。同时结构为非贯穿孔5也可阻挡有机材料成膜，保证基板成膜的异形状况。
综上所述，与现有技术相比，本发明可以提高用于异形屏的掩膜条板材2张网良率，提高张网效率；本发明掩膜条板材2结构减缓异形屏的受力不均匀现象，解决褶皱问题，降低混色风险，改善混色现象。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种用于异形屏的掩膜条结构，包括掩膜条板材（2），其特征在于：所述掩膜条板材（2）上设有若干组等间距分布的有效区域（1），所述有效区域（1）为石英光罩，所述有效区域（1）外侧设有包围层，包围层为蚀刻区域（6），蚀刻区域（6）呈矩形设置，所述有效区域（1）与对应的蚀刻区域（6）之间为缓冲区域（7），所述有效区域（1）内均匀分布有若干组贯穿孔（3），所述缓冲区域（7）内均匀分布有若干组非贯穿孔（5）。
2.根据权利要求1所述的一种用于异形屏的掩膜条结构，其特征在于：所述掩膜条板材（2）采用金属INVAR36材质制成，其厚度为20-100um。
3.根据权利要求1所述的一种用于异形屏的掩膜条结构，其特征在于：所述非贯穿孔（5）表面为残留层（4），其厚度为1-3um。
4.一种权利要求1-3任意一项所述的用于异形屏的掩膜条结构的制造工艺，其特征在于：具体包括以下步骤：
S1、采用主流材质制造掩膜条板材（2），目前主流采用金属INVAR36材质，厚度为20-100um，不设限；
S2、设计第一组有效区域（1）的石英光罩，确认有效区域（1）为异形屏；
S3、设计第二组缓冲区域（7）的石英光罩，确认缓冲区域（7）为异形屏四周的包围层，且包围层的蚀刻面积不设限制；
S4、采用第一组有效区域（1）的石英光罩，对掩膜条板材（2）进行正面蚀刻；
S5、采用第一组有效区域（1）的石英光罩，对掩膜条板材（2）进行背面蚀刻，需确认本次双面的蚀刻区域（6）为贯穿孔（3）；
S6、完成异形屏有效区域（1）的贯穿孔（3）工艺，确认实际可蒸镀范围为目标异形屏；
S7、采用第二组缓冲区域（7）的石英光罩，对掩膜条板材（2）进行正面蚀刻；
S8、采用第二组缓冲区域（7）的石英光罩，需进行蚀刻药液量减少调整，对掩膜条板材（2）进行背面蚀刻；
S9、完成异形屏包围层缓冲区域（7）的非贯穿孔（5）工艺，非贯穿孔（5）的残留层（4）的厚度为1-3um；
S10、掩膜条板材（2）的蚀刻区域（6）的制程工艺结束。
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CN116200746A (zh) * 2023-02-07 2023-06-02 福建华佳彩有限公司 一种掩膜条的制作方法

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