WO2014109212A1 - 硬化性エポキシ樹脂組成物 - Google Patents

硬化性エポキシ樹脂組成物 Download PDF

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▲高▼林尚史
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Definitions

  • the present invention relates to a curable epoxy resin composition, a cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition, an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition, And an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is bonded to an electrode (metal) with the curable epoxy resin composition.
  • an epoxy resin that forms a transparent cured product (resin cured product) by being cured is widely used.
  • the epoxy resin is mainly used as an encapsulant for sealing and protecting an optical semiconductor element in an optical semiconductor device, and an adhesive for adhering and fixing the optical semiconductor element and an electrode (metal). (Die attach paste, die bond agent) and the like.
  • an epoxy resin used in an optical semiconductor device for example, a composition containing monoallyl diglycidyl isocyanurate and a bisphenol A type epoxy resin is known (see Patent Document 1).
  • a composition containing monoallyl diglycidyl isocyanurate and a bisphenol A type epoxy resin is known (see Patent Document 1).
  • coloring of the cured product proceeds by light or heat emitted from the optical semiconductor element.
  • the light extraction efficiency of the optical semiconductor device is lowered.
  • epoxy resins used in optical semiconductor devices include 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexane.
  • the cured product of the above-described alicyclic epoxy resin has a problem that it is susceptible to various stresses and easily causes cracks. For this reason, when the above-described alicyclic epoxy resin is used as a sealant or a die attach paste agent in an optical semiconductor device, particularly in a high temperature environment (for example, when heated at an extremely high temperature such as a reflow process). Or when exposed to a high temperature for a long time) or when a thermal shock such as a cooling cycle (repeating heating and cooling periodically) is applied, there is a problem that the light intensity tends to decrease. .
  • the cured product does not have sufficient adhesive force for fixing the optical semiconductor element and the electrode (metal) in the optical semiconductor device, and the optical semiconductor.
  • the optical semiconductor element may be peeled off from the electrode (metal), and a crack may be remarkably generated in the sealing material of the optical semiconductor element.
  • an inorganic substance such as a filler may be blended in order to improve its thermal shock resistance.
  • the transparency of the cured product to be formed is reduced, and light emitted from the optical semiconductor element is absorbed by the cured product, resulting in a problem that the light extraction efficiency of the optical semiconductor device is reduced. It was.
  • the object of the present invention is to provide a cured product that is excellent in transparency, heat resistance, thermal shock resistance (characteristics that do not easily cause defects such as cracks when a thermal shock is applied), and adhesiveness.
  • the object is to provide an epoxy resin composition.
  • Another object of the present invention is to provide a cured product excellent in transparency, heat resistance, thermal shock resistance, and adhesiveness.
  • another object of the present invention is to prevent problems such as energization characteristics at high temperatures and reflow resistance of the optical semiconductor device (such as cracks in the sealing material and decrease in light intensity of the optical semiconductor device even after the reflow process).
  • the object is to provide a resin composition for an adhesive (adhesive) capable of improving impact resistance and heat resistance.
  • another object of the present invention is to provide an optical semiconductor device that has high light extraction efficiency and is excellent in energization characteristics at high temperatures, reflow resistance, and thermal shock resistance.
  • a curable epoxy resin composition containing an alicyclic epoxy compound and an acrylic resin having a specific structure has transparency, heat resistance, thermal shock resistance,
  • a cured product excellent in adhesiveness can be formed and is useful as a sealant for an optical semiconductor element and a die attach paste agent in an optical semiconductor device.
  • the present invention is a composition comprising an alicyclic epoxy compound (A) and an acrylic resin (B), A curable epoxy resin wherein the acrylic resin (B) is a polymer containing an acrylic monomer and a styrene monomer as essential monomer components and having an epoxy group in a side chain A composition is provided.
  • the content of the alicyclic epoxy compound (A) is 65 to 95% by weight and the content of the acrylic resin (B) with respect to the total amount (100% by weight) of the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B).
  • the curable epoxy resin composition is provided in an amount of 5 to 35% by weight.
  • the curable epoxy resin composition is provided in which the alicyclic epoxy compound (A) is a compound having a cyclohexene oxide group.
  • the alicyclic epoxy compound (A) has the following formula (I-1)
  • the said curable epoxy resin composition which is a compound represented by these is provided.
  • the above-mentioned curable epoxy resin composition containing at least one selected from the group consisting of an antioxidant (C) and an ultraviolet absorber (D) is provided.
  • curable epoxy resin composition containing a curing agent (E) and a curing accelerator (F) or a curing catalyst (G) is provided.
  • the present invention also provides a cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition.
  • the said curable epoxy resin composition which is a resin composition for optical semiconductor sealing is provided.
  • the present invention also provides an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition.
  • the curable epoxy resin composition is provided as a resin composition for adhesives.
  • the present invention also provides an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is bonded to an electrode with a cured product of the curable epoxy resin composition.
  • the present invention relates to the following.
  • a composition comprising an alicyclic epoxy compound (A) and an acrylic resin (B), wherein the acrylic resin (B) is an essential monomer comprising an acrylic monomer and a styrene monomer.
  • a curable epoxy resin composition comprising a component and a polymer having an epoxy group in a side chain.
  • the content of the alicyclic epoxy compound (A) relative to the total amount (100% by weight) of the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B) is 65 to 95% by weight, and the acrylic resin (B)
  • the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) is 10 to 95% by weight with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight).
  • the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) is based on the curable epoxy resin composition (100% by weight).
  • the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) is 25 to 95% by weight with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight).
  • the curable epoxy resin composition according to any one of (6) and (7). (10) The content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) with respect to the total amount of the compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition (total epoxy compound) (100 wt%) is 20 to 98 The curable epoxy resin composition according to any one of (1) to (9), wherein the composition is% by weight. (11)
  • the acrylic monomer is at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid alkyl esters having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an epoxy group-containing acrylic monomer (1
  • the ratio of the acrylic monomer to the total amount (100% by weight) of the monomers constituting the acrylic resin (B) is 45 to 98% by weight, according to any one of (1) to (13) Curable epoxy resin composition.
  • the ratio of the styrene monomer to the total amount (100% by weight) of the monomers constituting the acrylic resin (B) is 1 to 50% by weight, according to any one of (1) to (14) Curable epoxy resin composition.
  • the ratio of the epoxy group-containing monomer to the total amount (100% by weight) of the monomers constituting the acrylic resin (B) is 5 to 50% by weight, according to any one of (1) to (15) The curable epoxy resin composition described.
  • the ratio of the other monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic resin (B) is less than 10% by weight, according to any one of (1) to (16) Curable epoxy resin composition.
  • the content (blending amount) of the acrylic resin (B) is 1 to 40% by weight with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight).
  • the content (blending amount) of the acrylic resin (B) with respect to the total amount (100 wt%) of the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B) is 5 to 35 wt% (1)
  • the antioxidant (C) is a phenolic antioxidant (phenolic compound), a hindered amine antioxidant (hindered amine compound), a phosphorus antioxidant (phosphorus compound), and a sulfur antioxidant.
  • the content (blending amount) of the antioxidant (C) is 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A).
  • the ultraviolet absorber (D) is a group consisting of a benzophenone ultraviolet absorber (benzophenone compound), a benzotriazole ultraviolet absorber (benzotriazole compound), and a benzoate ultraviolet absorber (benzoate compound).
  • the content (blending amount) of the ultraviolet absorber (D) is 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A).
  • the content (blending amount) of the curing agent (E) is 50 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition (1) The curable epoxy resin composition according to any one of to (25).
  • the content (blending amount) of the curing accelerator (F) is 0.01 to 5 parts by weight relative to the total amount (100 parts by weight) of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition.
  • the content (blending amount) of the curing catalyst (G) is 0.01 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition ( The curable epoxy resin composition according to any one of 1) to (27). (29) A cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition according to any one of (1) to (28). (30) The curable epoxy resin composition according to any one of (1) to (28), which is a resin composition for sealing an optical semiconductor. (31) An optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition according to (30). (32) The curable epoxy resin composition according to any one of (1) to (28), which is a resin composition for an adhesive. (33) An optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is bonded to an electrode with a cured product of the curable epoxy resin composition according to (32).
  • the curable epoxy resin composition of the present invention has the above-described configuration, a cured product excellent in transparency, heat resistance, thermal shock resistance, and adhesiveness can be formed by curing the resin composition. .
  • the curable epoxy resin composition of the present invention as an encapsulant for optical semiconductor elements, it is possible to improve the current-carrying characteristics, reflow resistance, and thermal shock resistance of the optical semiconductor device at high temperatures.
  • the light extraction efficiency, thermal shock resistance, and heat resistance of an optical semiconductor device can be improved by using the curable epoxy resin composition of the present invention as a die attach paste agent in the optical semiconductor device. Therefore, an optical semiconductor device with high durability and quality can be obtained by using the curable epoxy resin composition of the present invention.
  • FIG. 1 It is the schematic which shows one Embodiment of the optical semiconductor device by which the optical semiconductor element was sealed with the hardened
  • the left figure (a) is a perspective view
  • the right figure (b) is a sectional view. It is an example of the surface temperature profile (temperature profile in one heat processing among two heat processing) of the optical semiconductor device in the solder heat resistance test of an Example.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention is a composition (curable composition) containing at least the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B).
  • the curable epoxy resin composition of the present invention may contain other components as required in addition to the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B).
  • the alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is a compound having at least an alicyclic (aliphatic hydrocarbon ring) structure and an epoxy group in the molecule (in one molecule).
  • the alicyclic epoxy compound (A) specifically, (i) a compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring, (Ii) a compound in which an epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond, and (iii) a compound having an alicyclic ring and a glycidyl group.
  • the acrylic resin (B) is not included in the alicyclic epoxy compound (A).
  • the compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring (i) is arbitrarily selected from known or commonly used compounds. Can be used. Especially, as said alicyclic epoxy group, a cyclohexene oxide group is preferable.
  • a compound having a cyclohexene oxide group is preferable from the viewpoint of transparency and heat resistance.
  • a compound (alicyclic epoxy compound) represented by the following formula (I) is preferable.
  • X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms).
  • the linking group include a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and a group in which a plurality of these are linked.
  • Examples of the compound in which X in the above formula (I) is a single bond include 3,4,3 ', 4'-diepoxybicyclohexane and the like.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include a linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms and a divalent alicyclic hydrocarbon group.
  • Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group.
  • divalent alicyclic hydrocarbon group examples include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.
  • the linking group X is particularly preferably a linking group containing an oxygen atom, specifically, —CO—, —O—CO—O—, —COO—, —O—, —CONH—; A group in which a plurality of groups are linked; a group in which one or more of these groups are linked to one or more of divalent hydrocarbon groups, and the like.
  • Examples of the divalent hydrocarbon group include those exemplified above.
  • Typical examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (I) include compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-10).
  • l and m each represents an integer of 1 to 30.
  • R in the following formula (I-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and is a methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, s-butylene group, pentylene group, hexylene.
  • linear or branched alkylene groups such as a group, a heptylene group, and an octylene group.
  • linear or branched alkylene groups having 1 to 3 carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and an isopropylene group are preferable.
  • N1 to n6 in the following formulas (I-9) and (I-10) each represents an integer of 1 to 30.
  • 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propane, 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) ethane examples include 3-bis (3,4-epoxycyclohexyl) oxirane and bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether.
  • Examples of the compound (ii) in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (II).
  • R ′ is a group obtained by removing p —OH from a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number.
  • the p-valent alcohol [R ′-(OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (alcohols having 1 to 15 carbon atoms, etc.).
  • p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30.
  • n in each () (in parentheses) may be the same or different.
  • Examples of the compound (iii) having an alicyclic ring and a glycidyl group include 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane, 2,2-bis [3,5 A compound obtained by hydrogenating a bisphenol A type epoxy compound such as dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] propane (hydrogenated bisphenol A type epoxy compound); bis [o, o- (2,3 -Epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [o, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, bis [p, p- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane, Hydrogenation of bisphenol F-type epoxy compounds such as bis [3,5-dimethyl-4- (2,3-epoxypropoxy) cyclohexyl] methane Compound (hydrogenated bisphenol F type epoxy compound
  • the alicyclic epoxy compound (A) can be used singly or in combination of two or more.
  • commercially available products such as trade names “Celoxide 2021P” and “Celoxide 2081” (manufactured by Daicel Corporation) may be used.
  • Examples of the alicyclic epoxy compound (A) include compounds represented by the above formula (I-1) [3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate; for example, trade name “Celoxide 2021P”. (Daicel Co., Ltd.) etc. are particularly preferred.
  • the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 10 to 95 with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight). % By weight is preferred, more preferably 15 to 95% by weight, and still more preferably 20 to 90% by weight. When content of an alicyclic epoxy compound (A) remove
  • the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but the curable epoxy resin composition of the present invention uses the curing agent (E).
  • the content is preferably 10 to 90% by weight, more preferably 15 to 80% by weight, and still more preferably 20 to 70% by weight with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight). .
  • the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) is set to a curable epoxy resin composition ( 100% by weight) is preferably 25 to 95% by weight, more preferably 30 to 90% by weight, and still more preferably 35 to 90% by weight.
  • the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) with respect to the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition (total epoxy compound) (100% by weight) is not particularly limited. It is preferably -98% by weight, more preferably 30-95% by weight, still more preferably 40-95% by weight. When the content of the alicyclic epoxy compound (A) is less than 20% by weight, the heat resistance, light resistance, thermal shock resistance, and moisture absorption reflow resistance of the cured product may be lowered.
  • the acrylic resin (B) in the curable epoxy resin composition of the present invention contains an acrylic monomer and a styrene monomer as essential monomer components, and has a polymer having an epoxy group in the side chain ( Copolymer). That is, the acrylic resin (B) is a polymer containing a structural unit derived from an acrylic monomer and a structural unit derived from a styrene monomer as essential structural units, and having an epoxy group in the side chain. .
  • acrylic monomer that is an essential monomer component of the acrylic resin (B) a known or conventional acrylic monomer can be used, and is not particularly limited.
  • an acrylic monomer can also be used individually by 1 type as a monomer component of an acrylic resin (B), and can also be used in combination of 2 or more type.
  • the acrylic monomer is preferably a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an epoxy group-containing acrylic monomer, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • “(meth) acryl” means acryl and / or methacryl (any one or both of acryl and methacryl), and other similar expressions are also synonymous.
  • R ⁇ 1 > shows a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 2 represents an alkylene group.
  • R 2 in the above formula (1) is, for example, methylene group, ethylene group, propylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, heptamethylene group, octamethylene group, nonamethylene group, decamethylene group. And an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
  • styrene monomer which is an essential monomer component of the acrylic resin (B) a known or commonly used aromatic vinyl monomer (a monomer having a styrene skeleton) can be used, and is not particularly limited.
  • aromatic vinyl monomer a monomer having a styrene skeleton
  • styrene In addition, a styrene-type monomer can also be used individually as a monomer component of an acrylic resin (B), and can also be used in combination of 2 or more type. Of these, styrene is preferred as the styrene monomer.
  • the epoxy group that the acrylic resin (B) has in the side chain is usually a structure derived from a monomer having an epoxy group in its molecule (sometimes referred to as “epoxy group-containing monomer”).
  • the epoxy group-containing monomer may be a known or commonly used monomer having a polymerizable functional group and an epoxy group in the molecule, and is not particularly limited.
  • glycidyl (meth) acrylate An epoxy group-containing acrylic monomer such as a compound represented by the above formula (1) (for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate), 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether; Styrenic monomers having an epoxy group such as 4-ethenylphenyl) methyl] oxirane, 4- (glycidyloxy) styrene; 4-vinylepoxycyclohexane, diglycidyl fumarate, diepoxycyclohexylmethyl fumarate, allyl glycidyl ether Etc.
  • an epoxy group-containing acrylic monomer such as a compound represented by the above formula (1) (for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate), 4-hydroxybutyl (meth) acrylate glycidyl ether; Styrenic monomers having an epoxy group such as 4-
  • an epoxy group containing monomer can also be used individually by 1 type as a monomer component of an acrylic resin (B), and can also be used in combination of 2 or more type. Of these, glycidyl methacrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate are preferred as the epoxy group-containing monomer.
  • the acrylic resin (B) is not particularly limited, but may contain a monomer other than the above-described monomers (sometimes referred to as “other monomers”) as a monomer component.
  • the other monomers include unsaturated nitrile compounds such as (meth) acrylonitrile; olefins such as ethylene, propylene, isoprene and isobutene; conjugated dienes such as butadiene; vinyl chloride; vinylidene chloride; Unsaturated acid anhydrides; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate, and various vinyl compounds such as isobutyl vinyl ether, methyl vinyl sulfide, N-vinyl carbazole, and methyl vinyl ketone.
  • another monomer can also be used individually as a monomer component of an acrylic resin (B), and can also be used in combination of 2 or more type.
  • the ratio of the acrylic monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is preferably 45 to 98% by weight, more preferably 60 to 95% by weight, More preferably, it is 65 to 90% by weight. That is, the proportion (content) of the structural unit derived from the acrylic monomer in the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is 45% with respect to the total structural unit (100% by weight) of the acrylic resin (B). It is preferably -98 wt%, more preferably 60-95 wt%, still more preferably 65-90 wt%.
  • the ratio of the acrylic monomer (the ratio of the structural unit derived from the acrylic monomer) is less than 45% by weight, the heat resistance and adhesiveness of the cured product may be deteriorated.
  • the ratio exceeds 98% by weight, the ratio of the styrene copolymer as the monomer component is relatively decreased, and the adhesiveness may be lowered.
  • the ratio of the styrene monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 45% by weight, More preferably, it is 10 to 40% by weight. That is, the proportion (content) of the structural unit derived from the styrenic monomer in the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is 1 with respect to the total structural unit (100 wt%) of the acrylic resin (B). Is preferably 50 to 50% by weight, more preferably 5 to 45% by weight, and still more preferably 10 to 40% by weight.
  • the ratio of the styrene monomer (the ratio of the structural unit derived from the styrene monomer) is less than 1% by weight, the adhesiveness of the cured product may be deteriorated. On the other hand, when the above ratio exceeds 50% by weight, the solubility may be lowered and the transparency may be lowered.
  • the ratio of the epoxy group-containing monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 15 to 45% by weight. More preferably, it is 25 to 40% by weight. That is, the proportion (content) of the structural unit derived from the epoxy group-containing monomer in the acrylic resin (B) is not particularly limited, but with respect to the total structural unit (100 wt%) of the acrylic resin (B), It is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 15 to 45% by weight, still more preferably 25 to 40% by weight.
  • the ratio of the epoxy group-containing monomer (the ratio of structural units derived from the epoxy group-containing monomer) is less than 5% by weight, the heat resistance and adhesiveness of the cured product may be lowered. On the other hand, when the ratio exceeds 50% by weight, the cured product becomes too hard, and the thermal shock resistance may be lowered.
  • the ratio of the other monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is less than 10% by weight (for example, 0% by weight or more and less than 10% by weight). Is preferred, and more preferably less than 5% by weight. That is, the ratio (total ratio) of the acrylic monomer, the styrene monomer, and the epoxy group-containing monomer with respect to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic resin (B) is particularly limited. However, it is preferably 90% by weight or more (for example, 90 to 100% by weight), more preferably 95% by weight or more. When the ratio of the other monomer is 10% by weight or more, the heat resistance, transparency, adhesiveness, and thermal shock resistance of the cured product may be lowered.
  • the acrylic resin (B) can be produced by polymerizing (copolymerizing) an acrylic monomer, a styrene monomer, an epoxy group-containing monomer, and, if necessary, other monomers. it can.
  • Examples of the method for producing the acrylic resin (B) include known or conventional polymer production methods, and are not particularly limited.
  • the acrylic resin (B) is prepared by advancing the radical polymerization reaction (radical copolymerization reaction) of the above monomers. Examples thereof include a method for producing the resin (B).
  • the polymerization reaction of the monomer constituting the acrylic resin (B) can be allowed to proceed in the absence of a solvent, or can be allowed to proceed in the presence of a solvent (polymerization solvent).
  • a solvent polymerization solvent
  • the polymerization solvent include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane; alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene; chloroform, dichloromethane, 1, 2 Halogenated hydrocarbons such as dichloroethane; ethers such as diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone; esters such as methyl acetate, ethyl a
  • an alicyclic epoxy compound (A) can also be used as the polymerization solvent.
  • the alicyclic epoxy compound (A) as a polymerization solvent and proceeding the polymerization reaction of the monomer constituting the acrylic resin (B) in the polymerization solvent, the alicyclic epoxy compound (A) and acrylic A mixture of the resin (B) can be obtained in one step.
  • such a method removes the polymerization solvent from the acrylic resin (B) and dissolves (re-dissolves) it in the alicyclic epoxy compound (A).
  • the alicyclic epoxy compound (A) used as the polymerization solvent may be a partial amount or a total amount of the alicyclic epoxy compound (A) constituting the curable epoxy resin composition. Also good.
  • the amount of the polymerization solvent used is not particularly limited, but is preferably 10 to 800 parts by weight, more preferably 50 to 700 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers constituting the acrylic resin (B). is there.
  • an alicyclic epoxy compound (A) as a polymerization solvent, an alicyclic epoxy is obtained so that the mixture of the alicyclic epoxy compound (A) and acrylic resin (B) of a desired composition may be obtained.
  • the usage-amount of a compound (A) can be set suitably.
  • the polymerization reaction of the monomer constituting the acrylic resin (B) can proceed in the presence of a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator include known or conventional polymerization initiators, and are not particularly limited. Examples thereof include 2,2′-azobisisobutyronitrile (AIBN), benzoyl peroxide, and isobutyryl peroxide. Can be mentioned.
  • AIBN 2,2′-azobisisobutyronitrile
  • benzoyl peroxide benzoyl peroxide
  • isobutyryl peroxide Can be mentioned.
  • a polymerization initiator can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.
  • the amount of the polymerization initiator used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.2 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of monomers constituting the acrylic resin (B). ⁇ 3 parts by weight. If the amount of the polymerization initiator used is less than 0.1 parts by weight, the molecular weight of the acrylic resin (B) is small, the crosslinked structure in the cured product is too loose, and the heat resistance may decrease. On the other hand, when the usage-amount of a polymerization initiator exceeds 5 weight part, the molecular weight of an acrylic resin (B) will become large, a crosslinked structure will be formed densely in hardened
  • the polymerization reaction of the monomer constituting the acrylic resin (B) may proceed in the presence of a known or commonly used polymerization inhibitor such as methoxyhydroquinone or hydroquinone for the purpose of controlling the molecular weight of the resin.
  • a polymerization inhibitor can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.
  • the amount of the polymerization inhibitor used is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomers constituting the acrylic resin (B). 1 part by weight.
  • the temperature at which the polymerization reaction of the monomer constituting the acrylic resin (B) proceeds can be appropriately selected depending on the type of polymerization initiator used and the like, and is not particularly limited, but is preferably 0 to 150 ° C., more The temperature is preferably 80 to 130 ° C.
  • the polymerization temperature can be controlled to be constant, or can be controlled to vary stepwise or continuously.
  • the time for the polymerization reaction to proceed is not particularly limited, but is preferably 1 to 900 minutes, more preferably 180 to 480 minutes.
  • the polymerization reaction of the monomer constituting the acrylic resin (B) can be allowed to proceed under normal pressure, or can be allowed to proceed under increased pressure or reduced pressure.
  • the polymerization reaction is not particularly limited, but it is preferable to proceed in an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon atmosphere.
  • the acrylic resin (B) is separated from the acrylic resin (B) by a known or conventional method (for example, reprecipitation, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc.) And a separation means combining these, etc.).
  • a known or conventional method for example, reprecipitation, filtration, concentration, distillation, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, etc.
  • a separation means combining these, etc. As described above, when the alicyclic epoxy compound (A) is used as a polymerization solvent, a mixture of the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B) is formed in one step by the polymerization reaction. Since it can be generated, it is not necessary to separate the acrylic resin (B), which is advantageous in terms of cost.
  • the weight average molecular weight of the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is preferably 500 to 100,000, more preferably 1000 to 60000, and still more preferably 3000 to 50000.
  • the weight average molecular weight exceeds 100,000, the compatibility with the curable epoxy compound (A) is lowered, and the transparency, adhesiveness, thermal shock resistance and the like of the cured product may be lowered.
  • the weight average molecular weight is less than 500, the heat resistance and thermal shock resistance of the cured product may be lowered.
  • the number average molecular weight of the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is preferably 200 to 50000, more preferably 400 to 30000, and still more preferably 1000 to 30000. When the number average molecular weight exceeds 50000, the compatibility with the curable epoxy compound (A) is lowered, and the transparency, adhesiveness, thermal shock resistance and the like of the cured product may be lowered. On the other hand, if the number average molecular weight is less than 200, the heat resistance and thermal shock resistance of the cured product may be lowered. In addition, the weight average molecular weight and number average molecular weight of an acrylic resin (B) are computable from the molecular weight of standard polystyrene conversion measured by a gel permeation chromatography (GPC) method.
  • GPC gel permeation chromatography
  • the acrylic resin (B) in the curable epoxy resin composition of the present invention, can be used alone or in combination of two or more.
  • the content (blending amount) of the acrylic resin (B) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 1 to 40% by weight with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight). Preferably, it is 3 to 30% by weight. If the content of the acrylic resin (B) is less than 1% by weight, the thermal shock resistance and adhesiveness of the cured product may be lowered. On the other hand, when content of an acrylic resin (B) exceeds 40 weight%, transparency of hardened
  • the content (blending amount) of the acrylic resin (B) with respect to the total amount (100% by weight) of the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is preferably 5 to 35% by weight, More preferably, it is 8 to 32% by weight. That is, the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) with respect to the total amount (100% by weight) of the alicyclic epoxy compound (A) and the acrylic resin (B) is not particularly limited, but is 65 to 95. % By weight is preferred, more preferably 68-92% by weight.
  • the content of the acrylic resin (B) is less than 5% by weight, the thermal shock resistance and adhesiveness of the cured product may be deteriorated. On the other hand, if the content of the acrylic resin (B) exceeds 35% by weight, the transparency of the cured product may be lowered.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention may contain an antioxidant (C).
  • an antioxidant known or conventional antioxidants can be used, and are not particularly limited.
  • phenol antioxidants phenolic compounds
  • hindered amine antioxidants hindered amine compounds
  • Phosphorus antioxidants phosphorus compounds
  • sulfur antioxidants sulfur compounds
  • phenol-based antioxidant examples include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-p-ethylphenol, stearyl- ⁇ - ( Monophenols such as 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate; 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-ethyl) -6-tert-butylphenol), 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-tert-butylphenol), 3,9-bis [ 1,1-dimethyl-2- ⁇ - (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy ⁇ ethyl] 2,4,8,10-tetrao Bisphenols such as oxaspiro [5.5] undecane; 1,1,3
  • hindered amine antioxidant examples include bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) [[3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxyphenyl]. Methyl] butyl malonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, methyl-1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl sebacate, 4-benzoyloxy -2,2,6,6-tetramethylpiperidine and the like.
  • Examples of the phosphorus antioxidant include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, diisodecylpentaerythritol phosphite, tris (2,4-di-t -Butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (octadecyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis ( 2,4-di-tert-butyl-4-methylphenyl) phosphite, bis [2-tert-butyl-6-methyl-4- ⁇ 2- (oct
  • Phosphites 9,1 -Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, 10- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -9,10-dihydro-9-oxa-10-phospha And oxaphosphaphenanthrene oxides such as phenanthrene-10-oxide.
  • sulfur antioxidant examples include dodecanethiol, dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate. Etc.
  • antioxidant (C) can also be used individually by 1 type in the curable epoxy resin composition of this invention, and can also be used in combination of 2 or more type.
  • commercially available products of phenolic antioxidants include, for example, trade names “Irganox 1010”, “Irganox 1076”, “Irganox 1098”, “Irganox 1330”, “ “Irganox 245", “Irganox 259”, “Irganox 3114", “Irganox 3790” (manufactured by BASF); trade names “ADK STAB AO-60", “ADK STAB AO-30", “ADK STAB AO-40” "Adeka Stub AO-80” (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • antioxidant (C) a phenolic antioxidant, a phosphorus antioxidant, and a sulfur antioxidant are preferable, and in particular, it is possible to use a phenolic antioxidant and a phosphorus antioxidant in combination. preferable.
  • the content (blending amount) of the antioxidant (C) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 0.1 to 5 with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A). Part by weight is preferred, more preferably 0.2 to 3 parts by weight. If the content of the antioxidant (C) is less than 0.1 parts by weight, the heat resistance and light resistance of the cured product may be insufficient. On the other hand, when content of antioxidant (C) exceeds 5 weight part, hardened
  • the curable epoxy resin composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber (D).
  • an ultraviolet absorber (D) known or conventional ultraviolet absorbers can be used, and are not particularly limited.
  • benzophenone ultraviolet absorbers benzophenone compounds
  • benzotriazole ultraviolet absorbers benzotriazole
  • benzoate ultraviolet absorbers benzoate compounds
  • benzophenone ultraviolet absorber examples include 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, and the like.
  • benzotriazole ultraviolet absorber examples include 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′). -T-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-amyl-5'-isobutylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3'-isobutyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-isobutyl-5'-propylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzo Zotoriazoru, 2- [2'-hydroxy-5 '-methyl
  • benzoate ultraviolet absorber examples include 2,4-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) -5- Examples thereof include chlorobenzoate, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzoate, 2,4-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate and the like.
  • the ultraviolet absorber (D) can be used alone or in combination of two or more.
  • a ultraviolet absorber (D) commercial items, such as a brand name "Viosorb130" (a benzophenone series ultraviolet absorber, Kyodo Chemical Co., Ltd.), can also be used, for example.
  • the ultraviolet absorber (D) a benzophenone ultraviolet absorber and a benzotriazole ultraviolet absorber are preferable.
  • the content (blending amount) of the ultraviolet absorber (D) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 0.1 to 5 with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A). Part by weight is preferred, more preferably 0.2 to 3 parts by weight. If the content of the ultraviolet absorber (D) is less than 0.1 parts by weight, the light resistance of the cured product may be insufficient. On the other hand, when the content of the ultraviolet absorber (D) exceeds 5 parts by weight, the cured product is likely to be colored, and the light intensity of the optical semiconductor device may be easily lowered.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention may contain a curing agent (E).
  • the curing agent (E) is a compound having a function of curing a compound having an epoxy group.
  • curing agent (E) a well-known thru
  • curing agent can be used as a hardening
  • an acid anhydride which is liquid at 25 ° C. is preferable, and examples thereof include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, and methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride. Can be mentioned.
  • solid acid anhydrides at room temperature such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride are also liquid at room temperature (about 25 ° C.).
  • It can be preferably used as the curing agent (E) in the curable epoxy resin composition of the present invention by dissolving it in an acid anhydride.
  • curing agent (E) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • an anhydride of a saturated monocyclic hydrocarbon dicarboxylic acid (a substituent such as an alkyl group is bonded to the ring) are also preferable).
  • the curing agent (E) trade names “Rikacid MH-700”, “Rikacid MH-700F” (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.); trade name “HN-5500” (Hitachi) Commercial products such as Kasei Kogyo Co., Ltd. can also be used.
  • the content (blending amount) of the curing agent (E) is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. More preferably, it is 100 to 145 parts by weight. More specifically, it is preferably used in a ratio of 0.5 to 1.5 equivalents per 1 equivalent of epoxy groups in all compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition of the present invention.
  • curing agent (E) is less than 50 weight part, hardening will become inadequate and there exists a tendency for the toughness of hardened
  • the curable epoxy resin composition of the present invention may contain a curing accelerator (F).
  • a hardening accelerator (F) is a compound which has a function which accelerates
  • the curing accelerator (F) a known or conventional curing accelerator can be used.
  • 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 DBU or a salt thereof (for example, phenol) Salt, octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate, etc.); 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN) or a salt thereof (eg, phenol salt, Octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate, etc.); tertiary such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N, N-dimethylcyclohexylamine Amines; imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole; Esters, phosphines such as triphenyl phosphine
  • the content (blending amount) of the curing accelerator (F) is not particularly limited, but is 0.01 to 5 with respect to the total amount (100 parts by weight) of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. Part by weight is preferable, more preferably 0.03 to 3 parts by weight, and still more preferably 0.03 to 2 parts by weight.
  • the curing accelerator (F) is less than 0.01 parts by weight, the curing accelerating effect may be insufficient.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention may further contain a curing catalyst (G) (for example, instead of the curing agent (E) and the curing accelerator (F)).
  • the curing catalyst (G) is a compound having a function of initiating and / or promoting a curing reaction of a compound having an epoxy group.
  • the cationic catalyst cationic polymerization initiator which generate
  • a curing catalyst (G) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • Examples of the cation catalyst that generates cation species by ultraviolet irradiation include hexafluoroantimonate salt, pentafluorohydroxyantimonate salt, hexafluorophosphate salt, and hexafluoroarsenate salt.
  • cationic catalyst examples include trade names “UVACURE1590” (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.); trade names “CD-1010”, “CD-1011”, “CD-1012” (above, manufactured by Sartomer, USA); Commercial products such as trade name “Irgacure 264” (manufactured by BASF); trade name “CIT-1682” (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) can also be preferably used.
  • Examples of the cation catalyst that generates a cation species by heat treatment include aryldiazonium salts, aryliodonium salts, arylsulfonium salts, and allene-ion complexes, and trade names “PP-33”, “CP- 66 ”,“ CP-77 ”(manufactured by ADEKA); trade name“ FC-509 ”(manufactured by 3M); trade name“ UVE1014 ”(manufactured by GE); trade name“ Sun-Aid SI-60L ” , "Sun-Aid SI-80L", “Sun-Aid SI-100L", “Sun-Aid SI-110L”, “Sun-Aid SI-150L” (above, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.); product name "CG-24-61" Commercial products such as (made by BASF) can be preferably used.
  • a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and a acetoacetate or diketone compound and a silanol such as triphenylsilanol or a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and acetoacetate or diketone and bisphenol S
  • a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and acetoacetate or diketone and bisphenol S
  • the compound with phenols, such as these may be sufficient.
  • the content (blending amount) of the curing catalyst (G) is not particularly limited, but is 0.01 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition.
  • the amount is preferably 0.01 to 12 parts by weight, more preferably 0.05 to 10 parts by weight, and particularly preferably 0.05 to 8 parts by weight.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention may contain various additives within a range that does not impair the effects of the present invention.
  • a compound having a hydroxyl group such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, or glycerin
  • the reaction can be allowed to proceed slowly.
  • Other silane coupling agents such as silicone-based and fluorine-based antifoaming agents, leveling agents, ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane as long as the viscosity and transparency are not impaired.
  • Surfactants inorganic fillers such as silica and alumina, flame retardants, colorants, ion adsorbents, pigments, phosphors (for example, inorganic phosphor fine particles such as YAG phosphor fine particles, silicate phosphor fine particles, etc. ), A conventional additive such as a release agent can be used.
  • inorganic fillers such as silica and alumina, flame retardants, colorants, ion adsorbents, pigments, phosphors (for example, inorganic phosphor fine particles such as YAG phosphor fine particles, silicate phosphor fine particles, etc. ),
  • a conventional additive such as a release agent can be used.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but can be prepared by stirring and mixing each of the above components in a heated state as necessary.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance, for example, two or more stored separately.
  • the components (each component may be a mixture of two or more components) can be used as a multi-component (for example, two-component) composition that is used by mixing at a predetermined ratio before use. .
  • the stirring / mixing method is not particularly limited, and for example, known or conventional stirring / mixing means such as various mixers such as a dissolver and a homogenizer, a kneader, a roll, a bead mill, and a self-revolving stirrer can be used. Further, after stirring and mixing, defoaming may be performed under vacuum.
  • known or conventional stirring / mixing means such as various mixers such as a dissolver and a homogenizer, a kneader, a roll, a bead mill, and a self-revolving stirrer can be used. Further, after stirring and mixing, defoaming may be performed under vacuum.
  • the viscosity of the curable epoxy resin composition of the present invention at 25 ° C. is not particularly limited, but is preferably 100 to 50000 mPa ⁇ s, more preferably 200 to 30000 mPa ⁇ s, and still more preferably 300 to 20000 mPa ⁇ s.
  • the viscosity at 25 ° C. is less than 100 mPa ⁇ s, workability during casting or coating tends to be reduced, or defects derived from casting defects or coating defects tend to occur in the cured product.
  • the viscosity of the curable epoxy resin composition at 25 ° C. is, for example, using a digital viscometer (model number “DVU-EII type”, manufactured by Tokimec Co., Ltd.), rotor: standard 1 ° 34 ′ ⁇ R24, temperature : Measured under conditions of 25 ° C. and rotation speed: 0.5 to 10 rpm.
  • the light transmittance of light having a wavelength of 450 nm [in terms of thickness 10 mm] of the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 80% or more (for example, 80% or more, less than 100%), more preferably. 82% or more. If the total light transmittance is less than 80%, the transparency of the cured product may be lowered.
  • the light transmittance can be measured using, for example, a spectrophotometer (for example, trade name “UV-2400”, manufactured by Shimadzu Corporation).
  • cured product of the present invention By curing the curable epoxy resin composition of the present invention, a cured product excellent in transparency, heat resistance, thermal shock resistance and adhesion (sometimes referred to as “cured product of the present invention”) is obtained. Can do.
  • the heating temperature (curing temperature) during curing is not particularly limited, but is preferably 45 to 200 ° C, more preferably 100 to 190 ° C, and still more preferably 100 to 180 ° C.
  • the heating time (curing time) for curing is not particularly limited, but is preferably 30 to 600 minutes, more preferably 45 to 540 minutes, and further preferably 60 to 480 minutes. When the curing temperature and the curing time are lower than the lower limit value in the above range, curing is insufficient.
  • the resin component may be decomposed.
  • the curing conditions depend on various conditions, for example, when the curing temperature is increased, the curing time can be shortened, and when the curing temperature is decreased, the curing time can be appropriately increased.
  • the light transmittance of the cured product of the present invention having a wavelength of 450 nm [in terms of thickness of 3 mm] is not particularly limited, but is preferably 80% or more (for example, 80% or more and less than 100%), more preferably 82% or more. is there.
  • the total light transmittance is less than 80%, when the curable epoxy resin composition is used as a sealant or die attach paste for an optical semiconductor element in an optical semiconductor device, the luminous intensity emitted from the optical semiconductor device is high. May be lower.
  • the light transmittance can be measured using, for example, a spectrophotometer (for example, trade name “UV-2400”, manufactured by Shimadzu Corporation).
  • the curable epoxy resin composition of the present invention is a resin composition for sealing an optical semiconductor (optical semiconductor element) in an optical semiconductor device, that is, an optical semiconductor sealing resin composition (sealing of an optical semiconductor element). It can be preferably used as a stopper.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention as a resin composition for sealing an optical semiconductor, the optical semiconductor element was sealed with a cured product excellent in transparency, heat resistance, thermal shock resistance, and adhesiveness. An optical semiconductor device is obtained.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention can be preferably used as a resin composition for adhering and fixing a member or the like to an adherend, that is, a resin composition for an adhesive (adhesive).
  • the curable epoxy resin composition of the present invention is a die attach paste (die bond agent) for bonding and fixing an optical semiconductor element to an electrode (metal) in an optical semiconductor device (for example, the optical semiconductor device shown in FIG. 1).
  • the curable epoxy resin composition of the present invention As a die attach paste agent, the optical semiconductor element was adhered to the electrode (metal) with a cured product excellent in transparency, heat resistance, thermal shock resistance, and adhesiveness. An optical semiconductor device is obtained.
  • the curable epoxy resin composition (adhesive resin composition) of the present invention for example, fixes a lens of a camera or the like to an adherend or bonds the lenses together.
  • Adhesive for lenses for fixing optical films (for example, polarizers, polarizer protective films, retardation films, etc.) to adherends, or bonding optical films together or optical films and other films
  • optical films for example, polarizers, polarizer protective films, retardation films, etc.
  • it can be used in various applications that require excellent transparency, heat resistance, thermal shock resistance, and adhesion, such as adhesives for optical films.
  • the optical semiconductor device of the present invention is an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition (resin composition for optical semiconductor encapsulation) of the present invention, or the curable property of the present invention.
  • This is an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is bonded to an electrode (metal) with a cured product of an epoxy resin composition (resin composition for adhesive).
  • the optical semiconductor element is bonded to the electrode (metal) by the cured product of the curable epoxy resin composition (adhesive resin composition) of the present invention, and the optical semiconductor element is the present invention.
  • cured material of this curable epoxy resin composition may be sufficient. Therefore, the optical semiconductor device of the present invention has high light extraction efficiency, excellent current-carrying characteristics at high temperatures, reflow resistance, and thermal shock resistance, and has high quality and durability.
  • Sealing of the optical semiconductor element in the optical semiconductor device of the present invention can be carried out by a known or conventional method, and is not particularly limited.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention is injected into a predetermined mold, It can be performed by heating and curing under predetermined conditions. Thereby, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened
  • the curing temperature and the curing time can be appropriately set within the same range as when the cured product is prepared.
  • the adhesion of the optical semiconductor element to the electrode (metal) in the optical semiconductor device of the present invention can be carried out by a known or conventional method, and is not particularly limited.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention is applied to the optical semiconductor. It can be performed by applying (applying) a predetermined position of an electrode (metal) in the apparatus, placing an optical semiconductor element on the curable epoxy resin composition, and then heat-curing under a predetermined condition. Thereby, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was adhere
  • a known or conventional method can be used, and is not particularly limited. Examples thereof include a method using a dispenser, a printer, a spin coater, a bar coater and the like.
  • the curable epoxy resin composition of the present invention is not limited to the above-mentioned optical semiconductor element sealing application or adhesive application, for example, electrical insulating material, laminated board, coating, ink, paint, sealant, resist, composite material , Transparent base material, transparent sheet, transparent film, optical element, optical lens, optical member, stereolithography, electronic paper, touch panel, solar cell substrate, optical waveguide, light guide plate, holographic memory, etc. it can.
  • Production Examples 2-5 Manufacture of acrylic resin
  • Acrylic resins (B2) to (B5) were produced in the same manner as in Production Example 1 except that the types and amounts of monomers used were changed as shown in Table 1.
  • Example 1 First, with the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2, the trade name “Celoxide 2021P” (alicyclic epoxy compound, manufactured by Daicel Corporation) and the acrylic resin (B1) obtained in Production Example 1 were used. , Using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.), uniformly mixing, defoaming, and mixing the cycloaliphatic epoxy compound and acrylic resin Produced. Next, the mixture obtained above and the curing agent composition obtained in Production Example 6 were mixed in a self-revolving stirrer (trade name “Awa” so that the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2 was obtained.
  • a self-revolving stirrer trade name “Awa” so that the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2 was obtained.
  • Tori Netaro AR-250 (manufactured by Shinky Co., Ltd.) was mixed uniformly and defoamed to obtain a curable epoxy resin composition. Further, the curable epoxy resin composition obtained above was cast into an optical semiconductor lead frame (InGaN element, 3.5 mm ⁇ 2.8 mm) shown in FIG. 1, and then in an oven (resin curing oven) at 120 ° C. By heating for 5 hours, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened
  • 100 is a reflector (light reflecting resin composition)
  • 101 is a metal wiring (electrode)
  • 102 is an optical semiconductor element
  • 103 is a bonding wire
  • 104 is a cured product (sealing material)
  • 105 is an adhesive.
  • the material die attach paste material
  • Examples 2-8, Comparative Examples 1-5 A curable epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the curable epoxy resin composition was changed to the composition shown in Table 2.
  • these components are shown in Table 2 when mixed with a mixture of an alicyclic epoxy compound and an acrylic resin (or an alicyclic epoxy compound).
  • Use a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nerita AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.) and mix evenly and degas so that the mixing ratio (unit: parts by weight) is obtained. Produced.
  • antioxidant when using antioxidant, it stirs at 80 degreeC for 1 hour, dissolves antioxidant, and when using antioxidant and ultraviolet absorber, it stirs at 80 degreeC for 1 hour and oxidizes. The inhibitor was dissolved, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 1 hour to dissolve the ultraviolet absorber.
  • the mixture obtained above and the curing agent composition obtained in Production Example 6 were used using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nerita AR-250”, manufactured by Shinky Corporation). Were mixed uniformly and defoamed to obtain a curable epoxy resin composition. Further, an optical semiconductor device was fabricated in the same manner as in Example 1.
  • Example 9 First, with the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 3, the trade name “Celoxide 2021P” (alicyclic epoxy compound, manufactured by Daicel Corporation) and the acrylic resin (B1) obtained in Production Example 1 were used. , Using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.), uniformly mixing, defoaming, and mixing the cycloaliphatic epoxy compound and acrylic resin Produced. Next, the mixture obtained above and the trade name “Sun-Aid SI-100L” (curing catalyst, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) so that the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 3 is obtained.
  • a self-revolving stirrer trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.
  • the mixture was uniformly mixed and defoamed to obtain a curable epoxy resin composition.
  • the curable epoxy resin composition obtained above was cast into an optical semiconductor lead frame (InGaN element, 3.5 mm ⁇ 2.8 mm) shown in FIG. 1, and then in an oven (resin curing oven) at 120 ° C. By heating for 5 hours, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened
  • Examples 10 to 16, Comparative Examples 6 to 10 A curable epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 9 except that the composition of the curable epoxy resin composition was changed to the composition shown in Table 3.
  • an antioxidant and / or an ultraviolet absorber for these components, when mixing a mixture of an alicyclic epoxy compound and an acrylic resin (or alicyclic epoxy compound) and a curing catalyst, Using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinkey Co., Ltd.) so that the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 3 is achieved, It was prepared by defoaming.
  • antioxidant when using antioxidant, it stirs at 80 degreeC for 1 hour, dissolves antioxidant, and when using antioxidant and ultraviolet absorber, it stirs at 80 degreeC for 1 hour and oxidizes. The inhibitor was dissolved, and the mixture was further stirred at 50 ° C. for 1 hour to dissolve the ultraviolet absorber.
  • the mixture obtained above and the trade name “Sun-Aid SI-100L” curing catalyst, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.
  • a self-revolving stirrer trade name “Awatori Netaro AR-250”. , Made by Shinky Co., Ltd.
  • an optical semiconductor device was fabricated in the same manner as in Example 9.
  • FIG. 2 shows an example of a surface temperature profile (temperature profile in one of the two heat treatments) of the optical semiconductor device when heated by the reflow furnace. Thereafter, the optical semiconductor device was observed using a digital microscope (trade name “VHX-900”, manufactured by Keyence Corporation) to evaluate whether or not a crack having a length of 90 ⁇ m or more occurred in the cured product. .
  • VHX-900 digital microscope
  • the number of optical semiconductor devices having a crack of 90 ⁇ m or more in the cured product is shown in the column of “Solder heat resistance test [number]” in Tables 2 and 3.
  • Thermal shock test The optical semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples (two were used for each curable epoxy resin composition) were exposed in an atmosphere of ⁇ 40 ° C. for 30 minutes, and then in an atmosphere of 120 ° C. A thermal shock with one cycle of exposure to 30 minutes was applied for 200 cycles using a thermal shock tester. After that, the length of cracks generated in the cured product in the optical semiconductor device was observed using a digital microscope (trade name “VHX-900”, manufactured by Keyence Corporation), and cured among the two optical semiconductor devices. The number of optical semiconductor devices in which cracks having a length of 90 ⁇ m or more occurred in the object was measured. The results are shown in the column of “Thermal shock test [number]” in Tables 2 and 3.
  • the component used in the present Example is as follows.
  • CEL2021P (Celoxide 2021P): 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, manufactured by Daicel Corporation
  • YD-128 Bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
  • AO-60 (Adekastab AO-60): Phenolic antioxidant, ADEKA Corporation HP-10 (Adekastab HP-10): Phosphorous antioxidant, ADEKA Corporation (ultraviolet absorber) Viosorb 130: Benzophenone UV absorber, manufactured by Kyodo Yakuhin Co., Ltd.
  • U-CAT 18X curing accelerator, manufactured by San Apro Co., Ltd.
  • Glycol Wako Pure Chemical Industries, Ltd.
  • (curing catalyst) Sun-Aid SI-100L Curing catalyst, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.
  • Test equipment Resin curing oven Espec Co., Ltd. GPHH-201 -Thermostatic chamber ESPEC Co., Ltd. Small high temperature chamber ST-120B1 ⁇ Total luminous flux measuring machine Optronic Laboratories Multi-spectral Radiation Measurement System OL771 ⁇ Thermal shock tester Espec Co., Ltd. Small thermal shock device TSE-11-A ⁇ Reflow furnace manufactured by Nippon Antom Co., Ltd., UNI-5016F
  • the curable epoxy resin composition of the present invention has the above-described configuration, a cured product excellent in transparency, heat resistance, thermal shock resistance, and adhesiveness can be formed by curing the resin composition. .
  • the curable epoxy resin composition of the present invention as an encapsulant for optical semiconductor elements, it is possible to improve the current-carrying characteristics, reflow resistance, and thermal shock resistance of the optical semiconductor device at high temperatures.
  • the light extraction efficiency, thermal shock resistance, and heat resistance of an optical semiconductor device can be improved by using the curable epoxy resin composition of the present invention as a die attach paste agent in the optical semiconductor device. Therefore, an optical semiconductor device with high durability and quality can be obtained by using the curable epoxy resin composition of the present invention.
  • Reflector resin composition for light reflection
  • Metal wiring electrode
  • Optical semiconductor element 102
  • Bonding wire Cured material (sealing material)
  • Adhesive Die attach paste

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Abstract

 透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物を形成できる硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)とを含む組成物であって、アクリル樹脂(B)が、アクリル系単量体及びスチレン系単量体を必須の単量体成分として含有し、なおかつ側鎖にエポキシ基を有する重合体であることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物。当該硬化性エポキシ樹脂組成物においては、脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の合計量(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が65~95重量%、アクリル樹脂(B)の含有量が5~35重量%であることが好ましい。

Description

硬化性エポキシ樹脂組成物
 本発明は、硬化性エポキシ樹脂組成物、該硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物、該硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置、及び上記硬化性エポキシ樹脂組成物により光半導体素子が電極(金属)に接着された光半導体装置に関する。本願は、2013年1月9日に日本に出願した特願2013-002167号の優先権を主張し、その内容をここに援用する。
 光半導体装置には、硬化させることによって透明な硬化物(樹脂硬化物)を形成するエポキシ樹脂が広く使用されている。上記エポキシ樹脂は、光半導体装置において主に、光半導体素子を封止して保護するための封止剤として、また、光半導体素子と電極(金属)とを接着し、固定するための接着剤(ダイアタッチペースト剤、ダイボンド剤)などとして使用される。
 光半導体装置において使用されるエポキシ樹脂としては、例えば、モノアリルジグリシジルイソシアヌレートとビスフェノールA型エポキシ樹脂とを含む組成物が知られている(特許文献1参照)。しかしながら、上記組成物を光半導体装置における封止剤やダイアタッチペースト剤として使用した場合には、光半導体素子から発せられる光や熱によって硬化物(封止材、接着材)の着色が進行し、光半導体装置の光取り出し効率が低下するという問題が生じていた。
 また、光半導体装置において使用されるエポキシ樹脂としては、その他に、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレートとε-カプロラクトンの付加物、1,2,8,9-ジエポキシリモネンなどの脂環骨格を有する液状の脂環式エポキシ樹脂などが知られている。
特開2000-344867号公報
 しかしながら、上述の脂環式エポキシ樹脂の硬化物は各種応力に弱く、クラック(ひび割れ)を生じやすいという問題を有していた。このため、上述の脂環式エポキシ樹脂を光半導体装置における封止剤やダイアタッチペースト剤として使用した場合には、特に、高温環境下(例えば、リフロー工程のような極めて高温で加熱された場合や、長時間高温に曝露された場合など)や、冷熱サイクル(加熱と冷却を周期的に繰り返すこと)のような熱衝撃が加えられた場合に、光度が低下しやすいという問題が生じていた。また、特に脂環式エポキシ樹脂をダイアタッチペースト剤として使用する場合、その硬化物は、光半導体装置における光半導体素子と電極(金属)とを固定するための接着力が十分でなく、光半導体装置に対して熱衝撃等による応力が加えられた場合に、光半導体素子が電極(金属)から剥離し、光半導体素子の封止材にクラックを顕著に生じさせる場合があった。
 一方、特に、上記脂環式エポキシ樹脂をダイアタッチペースト剤として使用する場合には、その耐熱衝撃性を改良するためにフィラー等の無機物が配合される場合がある。しかしながら、このような場合には形成される硬化物の透明性が低下し、光半導体素子から発せられる光が当該硬化物により吸収され、光半導体装置の光取り出し効率が低下するという問題が生じていた。
 従って、本発明の目的は、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性(熱衝撃が加えられた場合にもクラック等の不具合を生じにくい特性)、及び接着性に優れた硬化物を形成できる硬化性エポキシ樹脂組成物を提供することにある。
 また、本発明の他の目的は、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物を提供することにある。
 さらに、本発明の他の目的は、光半導体装置の高温における通電特性、耐リフロー性(リフロー工程を経た場合にも封止材へのクラック発生や光半導体装置の光度低下などの不具合を生じにくい特性)、及び耐熱衝撃性を向上させることができる光半導体封止用樹脂組成物(光半導体素子の封止剤)を提供することにある。
 さらに、本発明の他の目的は、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れ、特に光半導体装置におけるダイアタッチペースト剤として使用することにより、光半導体装置の光取り出し効率、耐熱衝撃性、及び耐熱性を向上させることができる接着剤用樹脂組成物(接着剤)を提供することにある。
 さらに、本発明の他の目的は、光取り出し効率が高く、高温における通電特性、耐リフロー性、及び耐熱衝撃性に優れた光半導体装置を提供することにある。
 本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、脂環式エポキシ化合物と、特定構造のアクリル樹脂とを含む硬化性エポキシ樹脂組成物が、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物を形成でき、なおかつ光半導体素子の封止剤や光半導体装置におけるダイアタッチペースト剤として有用であることを見出し、本発明を完成させた。
 すなわち、本発明は、脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)とを含む組成物であって、
 アクリル樹脂(B)が、アクリル系単量体及びスチレン系単量体を必須の単量体成分として含有し、なおかつ側鎖にエポキシ基を有する重合体であることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 さらに、脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の合計量(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が65~95重量%、アクリル樹脂(B)の含有量が5~35重量%である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 さらに、脂環式エポキシ化合物(A)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 さらに、脂環式エポキシ化合物(A)が、下記式(I-1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
で表される化合物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 さらに、酸化防止剤(C)及び紫外線吸収剤(D)からなる群より選択された少なくとも1種を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 さらに、硬化剤(E)及び硬化促進剤(F)、又は、硬化触媒(G)を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 また、本発明は、前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより得られる硬化物を提供する。
 さらに、光半導体封止用樹脂組成物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 また、本発明は、前記の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を提供する。
 さらに、接着剤用樹脂組成物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
 また、本発明は、前記の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が電極に接着された光半導体装置を提供する。
 すなわち、本発明は以下に関する。
 (1)脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)とを含む組成物であって、アクリル樹脂(B)が、アクリル系単量体及びスチレン系単量体を必須の単量体成分として含有し、なおかつ側鎖にエポキシ基を有する重合体であることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (2)脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の合計量(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が65~95重量%、アクリル樹脂(B)の含有量が5~35重量%である(1)に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (3)脂環式エポキシ化合物(A)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である(1)又は(2)に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (4)脂環式エポキシ化合物(A)が、前記式(I-1)で表される化合物である(1)~(3)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (5)さらに、酸化防止剤(C)及び紫外線吸収剤(D)からなる群より選択された少なくとも1種を含む(1)~(4)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (6)さらに、硬化剤(E)及び硬化促進剤(F)、又は、硬化触媒(G)を含む(1)~(5)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (7)脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)が、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、10~95重量%である(1)~(6)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (8)硬化性エポキシ樹脂組成物が硬化剤(E)を含む場合、脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)が、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、10~90重量%である(6)又は(7)に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (9)硬化触媒(G)を含む場合、脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)が、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、25~95重量%である(6)又は(7)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (10)硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(全エポキシ化合物)(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)が、20~98重量%である(1)~(9)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (11)アクリル系単量体が、炭素数1~10のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル及びエポキシ基含有アクリル系単量体からなる群より選択された少なくとも1種である(1)~(10)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (12)スチレン系単量体が、スチレンである(1)~(11)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (13)エポキシ基含有単量体が、グリシジルメタクリレート及び3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートからなる群より選択された少なくとも1種である(1)~(12)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (14)アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するアクリル系単量体の割合が、45~98重量%である(1)~(13)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (15)アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するスチレン系単量体の割合が、1~50重量%である(1)~(14)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (16)アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するエポキシ基含有単量体の割合が、5~50重量%である(1)~(15)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (17)アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するその他の単量体の割合が、10重量%未満である(1)~(16)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (18)アクリル樹脂(B)の重量平均分子量が、500~100000である(1)~(17)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (19)アクリル樹脂(B)の数平均分子量が、200~50000である(1)~(18)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (20)アクリル樹脂(B)の含有量(配合量)が、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、1~40重量%である(1)~(19)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (21)脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の合計量(100重量%)に対するアクリル樹脂(B)の含有量(配合量)が、5~35重量%である(1)~(20)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (22)酸化防止剤(C)が、フェノール系酸化防止剤(フェノール系化合物)、ヒンダードアミン系酸化防止剤(ヒンダードアミン系化合物)、リン系酸化防止剤(リン系化合物)、及びイオウ系酸化防止剤(イオウ系化合物)からなる群より選択された少なくとも1種である(1)~(21)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (23)酸化防止剤(C)の含有量(配合量)が、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、0.1~5重量部である(1)~(22)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (24)紫外線吸収剤(D)が、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(ベンゾフェノン系化合物)、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(ベンゾトリアゾール系化合物)、及びベンゾエート系紫外線吸収剤(ベンゾエート系化合物)からなる群より選択された少なくとも1種である(1)~(23)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (25)紫外線吸収剤(D)の含有量(配合量)が、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、0.1~5重量部である(1)~(24)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (26)硬化剤(E)の含有量(配合量)が、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、50~200重量部である(1)~(25)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (27)硬化促進剤(F)の含有量(配合量)が、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量部)に対して、0.01~5重量部である(1)~(26)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (28)硬化触媒(G)の含有量(配合量)が、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.01~15重量部である(1)~(27)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (29)(1)~(28)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより得られる硬化物。
 (30)光半導体封止用樹脂組成物である(1)~(28)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (31)(30)に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置。
 (32)接着剤用樹脂組成物である(1)~(28)のいずれかに記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
 (33)(32)に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が電極に接着された光半導体装置。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は上記構成を有するため、該樹脂組成物を硬化させることにより、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物を形成することができる。このため、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体素子の封止剤として用いることにより、光半導体装置の高温における通電特性、耐リフロー性、及び耐熱衝撃性を向上させることができる。また、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体装置におけるダイアタッチペースト剤として用いることにより、光半導体装置の光取り出し効率、耐熱衝撃性、及び耐熱性を向上させることができる。従って、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を用いることにより、耐久性及び品質の高い光半導体装置を得ることができる。
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置の一実施形態を示す概略図である。左側の図(a)は斜視図であり、右側の図(b)は断面図である。 実施例のはんだ耐熱性試験における光半導体装置の表面温度プロファイル(二度の加熱処理のうち一方の加熱処理における温度プロファイル)の一例である。
<硬化性エポキシ樹脂組成物>
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)とを少なくとも含む組成物(硬化性組成物)である。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)やアクリル樹脂(B)以外にも必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。
[脂環式エポキシ化合物(A)]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)は、分子内(一分子中)に脂環(脂肪族炭化水素環)構造とエポキシ基とを少なくとも有する化合物である。脂環式エポキシ化合物(A)としては、具体的には、(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物、(ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物、(iii)脂環とグリシジル基とを有する化合物などが挙げられる。但し、脂環式エポキシ化合物(A)には、アクリル樹脂(B)は含まれないものとする。
 上述の(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物としては、公知乃至慣用のものの中から任意に選択して使用することができる。中でも、上記脂環エポキシ基としては、シクロヘキセンオキシド基が好ましい。
 上述の(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物としては、透明性、耐熱性の観点で、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物が好ましく、特に、下記式(I)で表される化合物(脂環式エポキシ化合物)が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 上記式(I)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する2価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、2価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基などが挙げられる。
 上記式(I)中のXが単結合である化合物としては、3,4,3’,4’-ジエポキシビシクロヘキサンなどが挙げられる。
 上記2価の炭化水素基としては、炭素数が1~18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、2価の脂環式炭化水素基などが挙げられる。炭素数が1~18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基などが挙げられる。上記2価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2-シクロペンチレン基、1,3-シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2-シクロヘキシレン基、1,3-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基などの2価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)などが挙げられる。
 上記連結基Xとしては、特に、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、-CO-、-O-CO-O-、-COO-、-O-、-CONH-;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と2価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基などが挙げられる。2価の炭化水素基としては上記で例示したものが挙げられる。
 上記式(I)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、下記式(I-1)~(I-10)で表される化合物などが挙げられる。なお、下記式(I-5)、(I-7)中のl、mは、それぞれ1~30の整数を表す。下記式(I-5)中のRは炭素数1~8のアルキレン基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、s-ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1~3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(I-9)、(I-10)中のn1~n6は、それぞれ1~30の整数を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 また、式(I)で表される化合物として、上述した以外に、2,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキシル)プロパン、1,2-ビス(3,4-エポキシシクロヘキシル)エタン、2,3-ビス(3,4-エポキシシクロヘキシル)オキシラン、ビス(3,4-エポキシシクロヘキシルメチル)エーテルが挙げられる。
 上述の(ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(II)で表される化合物などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 式(II)中、R′はp価のアルコールからp個の-OHを除した基であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R′-(OH)p]としては、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノール等の多価アルコールなど(炭素数1~15のアルコール等)が挙げられる。pは1~6が好ましく、nは1~30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(丸括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(II)で表される化合物としては、具体的には、2,2-ビス(ヒドロキシメチル)-1-ブタノールの1,2-エポキシ-4-(2-オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)など]などが挙げられる。
 上述の(iii)脂環とグリシジル基とを有する化合物としては、例えば、2,2-ビス[4-(2,3-エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパン、2,2-ビス[3,5-ジメチル-4-(2,3-エポキシプロポキシ)シクロへキシル]プロパンなどのビスフェノールA型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールA型エポキシ化合物);ビス[o,o-(2,3-エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[o,p-(2,3-エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[p,p-(2,3-エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタン、ビス[3,5-ジメチル-4-(2,3-エポキシプロポキシ)シクロへキシル]メタンなどのビスフェノールF型エポキシ化合物を水素化した化合物(水素化ビスフェノールF型エポキシ化合物);水添ビフェノール型エポキシ化合物;水添フェノールノボラック型エポキシ化合物;水添クレゾールノボラック型エポキシ化合物;ビスフェノールAの水添クレゾールノボラック型エポキシ化合物;水添ナフタレン型エポキシ化合物;トリスフェノールメタンから得られるエポキシ化合物の水添エポキシ化合物などの水素化芳香族グリシジルエーテル系エポキシ化合物などが挙げられる。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において、脂環式エポキシ化合物(A)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。また、脂環式エポキシ化合物(A)としては、例えば、商品名「セロキサイド2021P」、「セロキサイド2081」(以上、(株)ダイセル製)などの市販品を使用することもできる。
 脂環式エポキシ化合物(A)としては、上記式(I-1)で表される化合物[3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート;例えば、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)など]が特に好ましい。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、10~95重量%が好ましく、より好ましくは15~95重量%、さらに好ましくは20~90重量%である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が上記範囲を外れると、硬化物の耐熱性や耐光性が不十分となる場合がある。
 また、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物が硬化剤(E)を必須成分として含む場合には、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、10~90重量%が好ましく、より好ましくは15~80重量%、さらに好ましくは20~70重量%である。一方、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物が硬化触媒(G)を必須成分として含む場合には、脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、25~95重量%が好ましく、より好ましくは30~90重量%、さらに好ましくは35~90重量%である。
 硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(全エポキシ化合物)(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、20~98重量%が好ましく、より好ましくは30~95重量%、さらに好ましくは40~95重量%である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が20重量%未満では、硬化物の耐熱性、耐光性、耐熱衝撃性、耐吸湿リフロー性が低下する場合がある。
[アクリル樹脂(B)]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるアクリル樹脂(B)は、アクリル系単量体及びスチレン系単量体を必須の単量体成分として含有し、なおかつ側鎖にエポキシ基を有する重合体(共重合体)である。即ち、アクリル樹脂(B)は、アクリル系単量体に由来する構成単位及びスチレン系単量体に由来する構成単位を必須の構成単位として含み、なおかつ側鎖にエポキシ基を有する重合体である。
 アクリル樹脂(B)の必須の単量体成分であるアクリル系単量体としては、公知乃至慣用のアクリル系単量体を使用することができ、特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n-プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n-ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸t-ブチル、(メタ)アクリル酸2-エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリルなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステル(例えば、炭素数1~18のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルなど);(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピルなどの(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル;(メタ)アクリル酸グリシジル、下記式(1)で表される化合物(例えば、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートなど)などのエポキシ含有アクリル系単量体;γ-トリメトキシシラン(メタ)アクリレート、γ-トリエトキシシラン(メタ)アクリレートなどのシリル基含有アクリル系単量体;(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-ブトキシメチル(メタ)アクリルアミドなどのアミド基含有アクリル系単量体;アクロレイン、メタクロレインなどのアルデヒド基含アクリル系単量体などが挙げられる。なお、アクリル樹脂(B)の単量体成分としてアクリル系単量体は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。中でも、アクリル系単量体としては、炭素数1~10のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、エポキシ基含有アクリル系単量体が好ましく、より好ましくは炭素数1~4のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸グリシジル、下記式(1)で表される化合物である。なお、本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリル及び/又はメタクリル(アクリル及びメタクリルのいずれか一方又は両方)を意味するものとし、その他の同様の表現についても同義である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
[式(1)中、R1は、水素原子又はメチル基を示す。R2は、アルキレン基を示す。]
 上記式(1)におけるR2としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基などの炭素数1~10のアルキレン基などが挙げられる。
 アクリル樹脂(B)の必須の単量体成分であるスチレン系単量体としては、公知乃至慣用の芳香族ビニル単量体(スチレン骨格を有する単量体)を使用でき、特に限定されないが、例えば、スチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、2,5-ジメチルスチレン、エチルスチレン、トリメチルスチレン、ペンタメチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン(3-t-ブチルスチレン、4-t-ブチルスチレンなど)などのアルキルスチレン;クロロスチレン(o-クロロスチレン、m-クロロスチレン、p-クロロスチレンなど)、ジクロロスチレン(2,4-ジクロロスチレン、2,5-ジクロロスチレンなど)、トリクロロスチレン、ブロモスチレン(2-ブロモスチレン、3-ブロモスチレン、4-ブロモスチレンなど)、フルオロスチレン(2-フルオロスチレン、3-フルオロスチレン、4-フルオロスチレンなど)、p-ヨードスチレンなどのハロゲン化スチレン;メトキシスチレン、メトキシメチルスチレン、ジメトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニルフェニルアリルエーテルなどのアルコキシスチレン;ヒドロキシスチレン、メトキシヒドロキシスチレン、アセトキシスチレン、α-メチルスチレン、α-メチル-p-メチルスチレン、1,1-ジフェニルエチレン、p-(N,N-ジエチルアミノエチル)スチレン、p-(N,N-ジエチルアミノメチル)スチレン、ビニルナフタレン、〔(4-エテニルフェニル)メチル〕オキシラン、4-(グリシジルオキシ)スチレンなどなどが挙げられる。なお、アクリル樹脂(B)の単量体成分としてスチレン系単量体は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。中でも、スチレン系単量体としては、スチレンが好ましい。
 アクリル樹脂(B)が側鎖に有するエポキシ基は、通常、分子内にエポキシ基を有する単量体(「エポキシ基含有単量体」と称する場合がある)に由来する構造である。上記エポキシ基含有単量体としては、分子内に重合性官能基とエポキシ基とを有する公知乃至慣用の単量体を使用することができ、特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル酸グリシジル、上記式(1)で表される化合物(例えば、3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート)、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートグリシジルエーテルなどのエポキシ基含有アクリル系単量体;〔(4-エテニルフェニル)メチル〕オキシラン、4-(グリシジルオキシ)スチレンなどのエポキシ基を有するスチレン系単量体;4-ビニルエポキシシクロヘキサン、ジグリシジルフマレート、ジエポキシシクロヘキシルメチルフマレート、アリルグリシジルエーテルなどが挙げられる。なお、アクリル樹脂(B)の単量体成分としてエポキシ基含有単量体は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。中でも、エポキシ基含有単量体としては、グリシジルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメチルアクリレートが好ましい。
 アクリル樹脂(B)は、特に限定されないが、上述の単量体以外の単量体(「その他の単量体」と称する場合がある)を単量体成分として含んでいてもよい。上記その他の単量体としては、例えば、(メタ)アクリロニトリルなどの不飽和ニトリル化合物;エチレン、プロピレン、イソプレン、イソブテンなどのオレフィン;ブタジエンなどの共役ジエン;塩化ビニル;塩化ビニリデン;無水マレイン酸などの不飽和酸無水物;酢酸ビニルやプロピオン酸ビニルなどのビニルエステル、イソブチルビニルエーテル、メチルビニルスルフィド、N-ビニルカルバゾール、メチルビニルケトンなどの各種ビニル化合物などが挙げられる。なお、アクリル樹脂(B)の単量体成分としてその他の単量体は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するアクリル系単量体の割合は、特に限定されないが、45~98重量%が好ましく、より好ましくは60~95重量%、さらに好ましくは65~90重量%である。即ち、アクリル樹脂(B)におけるアクリル系単量体に由来する構成単位の割合(含有量)は、特に限定されないが、アクリル樹脂(B)の全構成単位(100重量%)に対して、45~98重量%が好ましく、より好ましくは60~95重量%、さらに好ましくは65~90重量%である。アクリル系単量体の割合(アクリル系単量体に由来する構成単位の割合)が45重量%未満であると、硬化物の耐熱性、接着性が低下する場合がある。一方、上記割合が98重量%を超えると、相対的に単量体成分としてのスチレン系共重合体の割合が少なくなり、接着性が低下する場合がある。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するスチレン系単量体の割合は、特に限定されないが、1~50重量%が好ましく、より好ましくは5~45重量%、さらに好ましくは10~40重量%である。即ち、アクリル樹脂(B)におけるスチレン系単量体に由来する構成単位の割合(含有量)は、特に限定されないが、アクリル樹脂(B)の全構成単位(100重量%)に対して、1~50重量%が好ましく、より好ましくは5~45重量%、さらに好ましくは10~40重量%である。スチレン系単量体の割合(スチレン系単量体に由来する構成単位の割合)が1重量%未満であると、硬化物の接着性が低下する場合がある。一方、上記割合が50重量%を超えると、溶解性が低下し、透明性が低下する場合がある。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するエポキシ基含有単量体の割合は、特に限定されないが、5~50重量%が好ましく、より好ましくは15~45重量%、さらに好ましくは25~40重量%である。即ち、アクリル樹脂(B)におけるエポキシ基含有単量体に由来する構成単位の割合(含有量)は、特に限定されないが、アクリル樹脂(B)の全構成単位(100重量%)に対して、5~50重量%が好ましく、より好ましくは15~45重量%、さらに好ましくは25~40重量%である。エポキシ基含有単量体の割合(エポキシ基含有単量体に由来する構成単位の割合)が5重量%未満であると、硬化物の耐熱性、接着性が低下する場合がある。一方、上記割合が50重量%を超えると、硬化物が硬くなり過ぎて、耐熱衝撃性が低下する場合がある。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するその他の単量体の割合は、特に限定されないが、10重量%未満(例えば、0重量%以上、10重量%未満)が好ましく、より好ましくは5重量%未満である。即ち、アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量(100重量%)に対するアクリル系単量体、スチレン系単量体、及びエポキシ基含有単量体の割合(合計割合)は、特に限定されないが、90重量%以上(例えば、90~100重量%)が好ましく、より好ましくは95重量%以上である。その他の単量体の割合が10重量%以上であると、硬化物の耐熱性、透明性、接着性、耐熱衝撃性が低下する場合がある。
 アクリル樹脂(B)は、アクリル系単量体、スチレン系単量体、及びエポキシ基含有単量体、さらに必要に応じてその他の単量体を重合(共重合)することによって製造することができる。アクリル樹脂(B)の製造方法としては、公知乃至慣用の重合体の製造方法が挙げられ、特に限定されないが、例えば、上記単量体のラジカル重合反応(ラジカル共重合反応)を進行させてアクリル樹脂(B)を生成させる方法などが挙げられる。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の重合反応は、溶媒の非存在下で進行させることもできるし、溶媒(重合溶媒)の存在下で進行させることもできる。上記重合溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素;シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素;クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素;ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのアミド;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのアルコール;ジメチルスルホキシドなどの各種有機溶媒が挙げられる。なお、重合溶媒は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
 また、重合溶媒としては、脂環式エポキシ化合物(A)を使用することもできる。脂環式エポキシ化合物(A)を重合溶媒として使用し、当該重合溶媒中でアクリル樹脂(B)を構成する単量体の重合反応を進行させることにより、脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の混合物を一段階で得ることができる。このような方法は、溶媒として周知慣用の有機溶剤を使用した方法と比較して、アクリル樹脂(B)から重合溶媒を除去し、脂環式エポキシ化合物(A)に溶解(再溶解)させる手間や、アクリル樹脂(B)を含む重合溶媒に脂環式エポキシ化合物(A)を溶解させ、その後、重合溶媒を除去する手間などを省くことができるため、生産性及びコストの観点で有利である。なお、重合溶媒として使用する脂環式エポキシ化合物(A)は、硬化性エポキシ樹脂組成物を構成する脂環式エポキシ化合物(A)の一部の量であってもよいし、全量であってもよい。
 上記重合溶媒の使用量は、特に限定されないが、アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量100重量部に対して、10~800重量部が好ましく、より好ましくは50~700重量部である。なお、脂環式エポキシ化合物(A)を重合溶媒として使用する場合には、所望の組成の脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の混合物が得られるように、脂環式エポキシ化合物(A)の使用量を適宜設定できる。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の重合反応は、重合開始剤の存在下で進行させることができる。上記重合開始剤としては、公知乃至慣用の重合開始剤が挙げられ、特に限定されないが、例えば、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)、ベンゾイルパーオキサイド、イソブチリルパーオキサイドなどが挙げられる。なお、重合開始剤は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
 上記重合開始剤の使用量は、特に限定されないが、アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量100重量部に対して、0.1~5重量部が好ましく、より好ましくは0.2~3重量部である。重合開始剤の使用量が0.1重量部未満であると、アクリル樹脂(B)の分子量が小さく、硬化物における架橋構造が緩すぎて耐熱性が低下する場合がある。一方、重合開始剤の使用量が5重量部を超えると、アクリル樹脂(B)の分子量が大きくなり、硬化物において架橋構造が緻密に形成され、耐熱衝撃性が低下する場合がある。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の重合反応は、例えば、樹脂の分子量制御を目的として、メトキシハイドロキノン、ハイドロキノンなどの公知乃至慣用の重合禁止剤の存在下で進行させてもよい。重合禁止剤は1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。重合禁止剤の使用量は、特に限定されないが、アクリル樹脂(B)を構成する単量体の全量100重量部に対して、0.01~5重量部が好ましく、より好ましくは0.1~1重量部である。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の重合反応を進行させる温度(重合温度)は、使用する重合開始剤の種類等により適宜選択でき、特に限定されないが、0~150℃が好ましく、より好ましくは80~130℃である。なお、重合反応を進行させる間、重合温度は一定となるように制御することもできるし、段階的又は連続的に変動するように制御することもできる。また、上記重合反応を進行させる時間(重合時間)は、特に限定されないが、1~900分が好ましく、より好ましくは180~480分である。
 アクリル樹脂(B)を構成する単量体の重合反応は、常圧下で進行させることもできるし、加圧下又は減圧下で進行させることもできる。また、上記重合反応は、特に限定されないが、窒素雰囲気下やアルゴン雰囲気下などの不活性ガス雰囲気下で進行させることが好ましい。
 重合反応の終了後、必要に応じて、アクリル樹脂(B)を公知乃至慣用の方法(例えば、再沈殿、濾過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の分離手段や、これらを組み合わせた分離手段など)により精製することができる。なお、上述のように、重合溶媒として脂環式エポキシ化合物(A)を使用した場合には、上記重合反応により一段階で脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)との混合物を生成させることができるため、アクリル樹脂(B)の分離を行わなくてもよく、コスト面で有利である。
 アクリル樹脂(B)の重量平均分子量は、特に限定されないが、500~100000が好ましく、より好ましくは1000~60000、さらに好ましくは3000~50000である。重量平均分子量が100000を超えると、硬化性エポキシ化合物(A)との相溶性が低下し、硬化物の透明性、接着性、耐熱衝撃性等が低下する場合がある。一方、重量平均分子量が500未満であると、硬化物の耐熱性、耐熱衝撃性が低下する場合がある。
 アクリル樹脂(B)の数平均分子量は、特に限定されないが、200~50000が好ましく、より好ましくは400~30000、さらに好ましくは1000~30000である。数平均分子量が50000を超えると、硬化性エポキシ化合物(A)との相容性が低下し、硬化物の透明性、接着性、耐熱衝撃性等が低下する場合がある。一方、数平均分子量が200未満であると、硬化物の耐熱性、耐熱衝撃性が低下する場合がある。なお、アクリル樹脂(B)の重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)法により測定される標準ポリスチレン換算の分子量から算出することができる。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物においてアクリル樹脂(B)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるアクリル樹脂(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、1~40重量%が好ましく、より好ましくは3~30重量%である。アクリル樹脂(B)の含有量が1重量%未満であると、硬化物の耐熱衝撃性、接着性が低下する場合がある。一方、アクリル樹脂(B)の含有量が40重量%を超えると、硬化物の透明性が低下する場合がある。
 脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の合計量(100重量%)に対するアクリル樹脂(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、5~35重量%が好ましく、より好ましくは8~32重量%である。即ち、脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の合計量(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、65~95重量%が好ましく、より好ましくは68~92重量%である。アクリル樹脂(B)の含有量が5重量%未満であると、硬化物の耐熱衝撃性、接着性が低下する場合がある。一方、アクリル樹脂(B)の含有量が35重量%を超えると、硬化物の透明性が低下する場合がある。
[酸化防止剤(C)]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、酸化防止剤(C)を含んでいてもよい。酸化防止剤(C)としては、公知乃至慣用の酸化防止剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、フェノール系酸化防止剤(フェノール系化合物)、ヒンダードアミン系酸化防止剤(ヒンダードアミン系化合物)、リン系酸化防止剤(リン系化合物)、イオウ系酸化防止剤(イオウ系化合物)などが挙げられる。
 上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6-ジ-t-ブチル-p-エチルフェノール、ステアリル-β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート等のモノフェノール類;2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-エチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4’-ブチリデンビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、3,9-ビス[1,1-ジメチル-2-{β-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオキシ}エチル]2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン等のビスフェノール類;1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-t-ブチルフェニル)ブタン、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、テトラキス[メチレン-3-(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、ビス[3,3’-ビス-(4’-ヒドロキシ-3’-t-ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、1,3,5-トリス(3’,5’-ジ-t-ブチル-4’-ヒドロキシベンジル)-s-トリアジン-2,4,6-(1H,3H,5H)トリオン、トコフェノール等の高分子型フェノール類などが挙げられる。
 上記ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)[[3,5-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジル)セバケート、メチル-1,2,2,6,6-ペンタメチル-4-ピペリジルセバケート、4-ベンゾイルオキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジンなどが挙げられる。
 上記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールホスファイト、トリス(2、4-ジ-t-ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ホスファイト、ビス[2-t-ブチル-6-メチル-4-{2-(オクタデシルオキシカルボニル)エチル}フェニル]ヒドロゲンホスファイト等のホスファイト類;9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキサイド、10-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン-10-オキサイド等のオキサホスファフェナントレンオキサイド類などが挙げられる。
 上記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ドデカンチオール、ジラウリル-3,3’-チオジプロピオネート、ジミリスチル-3,3’-チオジプロピオネート、ジステアリル-3,3’-チオジプロピオネートなどが挙げられる。
 なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において酸化防止剤(C)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、酸化防止剤(C)としては、フェノール系酸化防止剤の市販品として、例えば、商品名「イルガノックス1010」、「イルガノックス1076」、「イルガノックス1098」、「イルガノックス1330」、「イルガノックス245」、「イルガノックス259」、「イルガノックス3114」、「イルガノックス3790」(以上、BASF製);商品名「アデカスタブ AO-60」、「アデカスタブ AO-30」、「アデカスタブ AO-40」、「アデカスタブ AO-80」(以上、(株)ADEKA製)などが挙げられる。また、リン系酸化防止剤の市販品として、例えば、商品名「IRGAFOS 168」、「IRGAFOS P-EPQ」、「IRGAFOS 12」(以上、BASF製);商品名「アデカスタブHP-10」、「アデカスタブ TPP」、「アデカスタブ C」、「アデカスタブ 517」、「アデカスタブ 3010」、「アデカスタブ PEP-24G」、「アデカスタブ PEP-4C」、「アデカスタブ PEP-36」、「アデカスタブ PEP-45」、「アデカスタブ 1178」、「アデカスタブ 135A」、「アデカスタブ 1178」、「アデカスタブ PEP-8」、「アデカスタブ 329K」、「アデカスタブ 260」、「アデカスタブ 522A」、「アデカスタブ 1500」(以上、(株)ADEKA製)商品名「GSY-P101」、「Chelex-OL」、「Chelex-PC」(以上、堺化学工業(株)製);商品名「JP302」、「JP304」、「JPM313」、「JP308」、「JPP100」、「JPS312」、「JP318E」、「JP333E」、「JPH1200」、「HBP」(以上、城北化学工業(株)製);商品名「SANKO-HCA」(三光(株)製)などが挙げられる。
 中でも、酸化防止剤(C)としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤が好ましく、特に、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを併用することが好ましい。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における酸化防止剤(C)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、0.1~5重量部が好ましく、より好ましくは0.2~3重量部である。酸化防止剤(C)の含有量が0.1重量部未満であると、硬化物の耐熱性、耐光性が不十分となる場合がある。一方、酸化防止剤(C)の含有量が5重量部を超えると、硬化物が着色しやすく、光半導体装置の光度が低下しやすくなる場合がある。
[紫外線吸収剤(D)]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、紫外線吸収剤(D)を含んでいてもよい。紫外線吸収剤(D)としては、公知乃至慣用の紫外線吸収剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤(ベンゾフェノン系化合物)、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(ベンゾトリアゾール系化合物)、ベンゾエート系紫外線吸収剤(ベンゾエート系化合物)などが挙げられる。
 上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、2-ヒドロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’-テトラヒドロキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
 上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-t-ブチル-5’-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-t-アミル-5’-イソブチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-イソブチル-5’-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’-イソブチル-5’-プロピルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2’-ヒドロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-[2’-ヒドロキシ-5’-(1,1,3,3-テトラメチル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
 上記ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、例えば、2,4-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエート、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)-5-クロロベンゾエート、2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-t-ブチルフェニル)ベンゾエート、2,4-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。
 なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において紫外線吸収剤(D)は、1種を単独で使用することもできるし、2種以上を組み合わせて使用することもできる。また、紫外線吸収剤(D)としては、例えば、商品名「Viosorb130」(ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、共同薬品(株)製)などの市販品を使用することもできる。
 中でも、紫外線吸収剤(D)としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における紫外線吸収剤(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、0.1~5重量部が好ましく、より好ましくは0.2~3重量部である。紫外線吸収剤(D)の含有量が0.1重量部未満であると、硬化物の耐光性が不十分となる場合がある。一方、紫外線吸収剤(D)の含有量が5重量部を超えると、硬化物が着色しやすく、光半導体装置の光度が低下し易くなる場合がある。
[硬化剤(E)]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化剤(E)を含んでいてもよい。硬化剤(E)は、エポキシ基を有する化合物を硬化させる働きを有する化合物である。硬化剤(E)としては、エポキシ樹脂用硬化剤として公知乃至慣用の硬化剤を使用することができる。硬化剤(E)としては、中でも、25℃で液状の酸無水物が好ましく、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などが挙げられる。また、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などの常温(約25℃)で固体状の酸無水物についても、常温(約25℃)で液状の酸無水物に溶解させて液状の混合物とすることで、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化剤(E)として好ましく使用することができる。なお、硬化剤(E)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。上述のように、硬化剤(E)としては、硬化物の耐熱性、耐光性、耐クラック性の観点で、飽和単環炭化水素ジカルボン酸の無水物(環にアルキル基等の置換基が結合したものも含む)が好ましい。
 また、本発明においては、硬化剤(E)として、商品名「リカシッド MH-700」、「リカシッド MH-700F」(以上、新日本理化(株)製);商品名「HN-5500」(日立化成工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。
 硬化剤(E)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、50~200重量部が好ましく、より好ましくは100~145重量部である。より具体的には、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる全てのエポキシ基を有する化合物におけるエポキシ基1当量当たり、0.5~1.5当量となる割合で使用することが好ましい。硬化剤(E)の含有量が50重量部未満であると、硬化が不十分となり、硬化物の強靱性が低下する傾向がある。一方、硬化剤(E)の含有量が200重量部を超えると、硬化物が着色して色相が悪化する場合がある。なお、硬化剤(E)として2種以上を使用する場合には、これらの硬化剤(E)の総量が上記範囲を満たすことが好ましい。
[硬化促進剤(F)]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤(F)を含んでいてもよい。硬化促進剤(F)は、エポキシ基を有する化合物が硬化剤(E)により硬化する際に、硬化速度を促進する機能を有する化合物である。硬化促進剤(F)としては、公知乃至慣用の硬化促進剤を使用することができ、例えば、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン-7(DBU)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩など);1,5-ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン-5(DBN)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p-トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩など);ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミンなどの3級アミン;2-エチル-4-メチルイミダゾール、1-シアノエチル-2-エチル-4-メチルイミダゾールなどのイミダゾール;リン酸エステル、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p-トリル)ボレートなどのホスホニウム化合物;オクチル酸亜鉛やオクチル酸スズなどの有機金属塩;金属キレートなどが挙げられる。硬化促進剤(F)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 また、本発明においては、硬化促進剤(F)として、商品名「U-CAT SA 506」、「U-CAT SA 102」、「U-CAT 5003」、「U-CAT 18X」、「12XD」(開発品)(以上、サンアプロ(株)製);商品名「TPP-K」、「TPP-MK」(以上、北興化学工業(株)製);商品名「PX-4ET」(日本化学工業(株)製)などの市販品を使用することもできる。
 硬化促進剤(F)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量部)に対して、0.01~5重量部が好ましく、より好ましくは0.03~3重量部、さらに好ましくは0.03~2重量部である。硬化促進剤(F)の含有量が0.01重量部未満であると、硬化促進効果が不十分となる場合がある。一方、硬化促進剤(F)の含有量が5重量部を超えると、硬化物が着色して色相が悪化する場合がある。
[硬化触媒(G)]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに(例えば、硬化剤(E)及び硬化促進剤(F)の代わりに)、硬化触媒(G)を含んでいてもよい。硬化触媒(G)は、エポキシ基を有する化合物の硬化反応を開始及び/又は促進する機能を有する化合物である。硬化触媒(G)としては、特に限定されないが、紫外線照射又は加熱処理を施すことによりカチオン種を発生して、重合を開始させるカチオン触媒(カチオン重合開始剤)が挙げられる。なお、硬化触媒(G)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
 紫外線照射によりカチオン種を発生するカチオン触媒としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルゼネート塩などが挙げられる。上記カチオン触媒としては、例えば、商品名「UVACURE1590」(ダイセル・サイテック(株)製);商品名「CD-1010」、「CD-1011」、「CD-1012」(以上、米国サートマー製);商品名「イルガキュア264」(BASF製);商品名「CIT-1682」(日本曹達(株)製)などの市販品を好ましく使用することもできる。
 加熱処理を施すことによりカチオン種を発生するカチオン触媒としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、アリールヨードニウム塩、アリールスルホニウム塩、アレン-イオン錯体などが挙げられ、商品名「PP-33」、「CP-66」、「CP-77」(以上(株)ADEKA製);商品名「FC-509」(スリーエム製);商品名「UVE1014」(G.E.製);商品名「サンエイド SI-60L」、「サンエイド SI-80L」、「サンエイド SI-100L」、「サンエイド SI-110L」、「サンエイド SI-150L」(以上、三新化学工業(株)製);商品名「CG-24-61」(BASF製)などの市販品を好ましく使用することができる。さらに、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とトリフェニルシラノール等のシラノールとの化合物、又は、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とビスフェノールS等のフェノール類との化合物であってもよい。
 硬化触媒(G)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.01~15重量部が好ましく、より好ましくは0.01~12重量部、さらに好ましくは0.05~10重量部、特に好ましくは0.05~8重量部である。硬化触媒(G)を上記範囲内で使用することにより、耐熱性、耐光性、透明性に優れた硬化物を得ることができる。
[添加剤]
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上記以外にも、本発明の効果を損なわない範囲内で各種添加剤を含んでいてもよい。上記添加剤として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの水酸基を有する化合物を含有させると、反応を緩やかに進行させることができる。その他にも、粘度や透明性を損なわない範囲内で、シリコーン系やフッ素系消泡剤、レベリング剤、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシランや3-メルカプトプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、界面活性剤、シリカ、アルミナなどの無機充填剤、難燃剤、着色剤、イオン吸着体、顔料、蛍光体(例えば、YAG系の蛍光体微粒子、シリケート系蛍光体微粒子などの無機蛍光体微粒子など)、離型剤などの慣用の添加剤を使用することができる。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を、必要に応じて加熱した状態で攪拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分(各成分は2以上の成分の混合物であってもよい)を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。上記攪拌・混合の方法は、特に限定されず、例えば、ディゾルバー、ホモジナイザーなどの各種ミキサー、ニーダー、ロール、ビーズミル、自公転式撹拌装置などの公知乃至慣用の攪拌・混合手段を使用できる。また、攪拌・混合後、真空下にて脱泡してもよい。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の25℃における粘度は、特に限定されないが、100~50000mPa・sが好ましく、より好ましくは200~30000mPa・s、さらに好ましくは300~20000mPa・sである。25℃における粘度が100mPa・s未満であると、注型や塗工する際の作業性が低下したり、硬化物に注型不良や塗工不良に由来する不具合が生じやすくなる傾向がある。一方、25℃における粘度が50000mPa・sを超えると、注型や塗工する際の作業性が低下したり、硬化物に注型不良や塗工不良に由来する不具合が生じやすくなる傾向がある。なお、硬化性エポキシ樹脂組成物の25℃における粘度は、例えば、デジタル粘度計(型番「DVU-EII型」、(株)トキメック製)を用いて、ローター:標準1°34′×R24、温度:25℃、回転数:0.5~10rpmの条件で測定することができる。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の波長450nmの光の光線透過率[厚み10mm換算]は、特に限定されないが、80%以上(例えば、80%以上、100%未満)が好ましく、より好ましくは82%以上である。全光線透過率が80%未満であると、硬化物の透明性が低くなる場合がある。なお、上記光線透過率は、例えば、分光光度計(例えば、商品名「UV-2400」、(株)島津製作所製))を使用して測定することができる。
<硬化物>
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物(「本発明の硬化物」と称する場合がある)を得ることができる。硬化の際の加熱温度(硬化温度)は、特に限定されないが、45~200℃が好ましく、より好ましくは100~190℃、さらに好ましくは100~180℃である。また、硬化の際に加熱する時間(硬化時間)は、特に限定されないが、30~600分が好ましく、より好ましくは45~540分、さらに好ましくは60~480分である。硬化温度と硬化時間が上記範囲の下限値より低い場合は硬化が不十分となり、逆に上記範囲の上限値より高い場合は樹脂成分の分解が起きる場合があるので、いずれも好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、例えば、硬化温度を高くした場合は硬化時間を短く、硬化温度を低くした場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。
 本発明の硬化物の波長450nmの光の光線透過率[厚み3mm換算]は、特に限定されないが、80%以上(例えば、80%以上、100%未満)が好ましく、より好ましくは82%以上である。全光線透過率が80%未満であると、硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体装置における光半導体素子の封止剤やダイアタッチペースト剤などとして使用した場合に、光半導体装置から発せられる光度が低くなる場合がある。なお、上記光線透過率は、例えば、分光光度計(例えば、商品名「UV-2400」、(株)島津製作所製)を使用して測定することができる。
<光半導体封止用樹脂組成物>
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に、光半導体装置における光半導体(光半導体素子)を封止するための樹脂組成物、即ち、光半導体封止用樹脂組成物(光半導体素子の封止剤)として好ましく使用できる。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体封止用樹脂組成物として用いることにより、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置が得られる。
<接着剤用樹脂組成物>
 また、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に、部材等を被着体に接着・固定するための樹脂組成物、即ち、接着剤用樹脂組成物(接着剤)としても好ましく使用できる。特に、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、光半導体装置において光半導体素子を電極(金属)に接着及び固定するためのダイアタッチペースト剤(ダイボンド剤)(例えば、図1に示す光半導体装置における接着材(ダイアタッチペースト材)105を構成するための接着剤)として好ましく使用できる。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物をダイアタッチペースト剤として用いることにより、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物により光半導体素子が電極(金属)に接着された光半導体装置が得られる。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(接着剤用樹脂組成物)は、ダイアタッチペースト剤以外にも、例えば、カメラ等のレンズを被着体に固定したり、レンズ同士を貼り合わせたりするためのレンズ用接着剤;光学フィルム(例えば、偏光子、偏光子保護フィルム、位相差フィルムなど)を被着体に固定したり、光学フィルム同士又は光学フィルムとその他のフィルムとを貼り合わせたりするための光学フィルム用接着剤などの、特に、優れた透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性を奏することが要求される各種用途に使用することができる。
<光半導体装置>
 本発明の光半導体装置は、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(光半導体封止用樹脂組成物)の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置、又は、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(接着剤用樹脂組成物)の硬化物により光半導体素子が電極(金属)に接着された光半導体装置である。本発明の光半導体装置は、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(接着剤用樹脂組成物)の硬化物により光半導体素子が電極(金属)に接着され、なおかつ、当該光半導体素子が本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(光半導体封止用樹脂組成物)の硬化物により封止された光半導体装置であってもよい。従って、本発明の光半導体装置は、光取り出し効率が高く、高温における通電特性、耐リフロー性、及び耐熱衝撃性に優れ、高い品質及び耐久性を有する。
 本発明の光半導体装置における光半導体素子の封止は、公知乃至慣用の方法により実施でき、特に限定されないが、例えば、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を所定の成形型内に注入し、所定の条件で加熱硬化して行うことができる。これにより、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置が得られる。硬化温度と硬化時間は、硬化物の調製時と同様の範囲で適宜設定することができる。一方、本発明の光半導体装置における電極(金属)への光半導体素子の接着は、公知乃至慣用の方法により実施でき、特に限定されないが、例えば、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体装置における電極(金属)の所定の位置に塗工(塗布)し、該硬化性エポキシ樹脂組成物上に光半導体素子を載置した後、所定の条件で加熱硬化することによって行うことができる。これにより、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が電極(金属)に接着された光半導体装置が得られる。なお、本発明の光半導体装置を得るにあたり、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を注入又は塗工する方法としては、公知乃至慣用の方法を利用することができ、特に限定されないが、例えば、ディスペンサー、プリンター、スピンコーター、バーコーターなどを用いた方法などが挙げられる。
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上述の光半導体素子の封止用途や接着剤用途に限定されず、例えば、電気絶縁材、積層板、コーティング、インク、塗料、シーラント、レジスト、複合材料、透明基材、透明シート、透明フィルム、光学素子、光学レンズ、光学部材、光造形、電子ペーパー、タッチパネル、太陽電池基板、光導波路、導光板、ホログラフィックメモリなどの各種用途に使用することができる。
 以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、表1~3における「-」は、当該成分の配合を行わなかったことを意味する。
 製造例1
(アクリル樹脂の製造)
 攪拌装置、温度計、窒素ガス導入管、及び還流冷却管を備えた300ml反応容器に、酢酸ブチル100重量部を仕込み、窒素ガス雰囲気中で95℃まで昇温し、MMA(メチルメタクリレート)40重量部、スチレン30重量部、GMA(グリシジルメタクリレート)30重量部、AIBN(2,2’-アゾビスイソブチロニトリル)1重量部、及びMEHQ0.2重量部を加えて、95℃で45分反応させた。その後、120℃で45分保温した後、冷却して、メタノールで再沈殿してろ取、その後乾燥し、アクリル樹脂(B1)を得た。
 製造例2~5
(アクリル樹脂の製造)
 使用する単量体の種類及び量を表1に示すように変更したこと以外は製造例1と同様にして、アクリル樹脂(B2)~(B5)を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
 製造例6
(硬化剤組成物の製造)
 表2に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「リカシッド MH-700」(硬化剤、新日本理化(株)製)、商品名「U-CAT 18X」(硬化促進剤、サンアプロ(株)製)、及びエチレングリコール(添加剤、和光純薬工業(株)製)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して硬化剤組成物(「K剤」と称する場合がある)を得た。
 実施例1
 まず、表2に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「セロキサイド2021P」(脂環式エポキシ化合物、(株)ダイセル製)、及び製造例1で得られたアクリル樹脂(B1)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、脂環式エポキシ化合物とアクリル樹脂の混合物を作製した。
 次に、表2に示す配合割合(単位:重量部)となるように、上記で得た混合物と、製造例6で得られた硬化剤組成物とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
 さらに、上記で得た硬化性エポキシ樹脂組成物を図1に示す光半導体のリードフレーム(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に注型した後、120℃のオーブン(樹脂硬化オーブン)で5時間加熱することで、上記硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を得た。なお、図1において、100はリフレクター(光反射用樹脂組成物)、101は金属配線(電極)、102は光半導体素子、103はボンディングワイヤ、104は硬化物(封止材)、105は接着材(ダイアタッチペースト材)を示す。
 実施例2~8、比較例1~5
 硬化性エポキシ樹脂組成物の組成を表2に示す組成に変更したこと以外は実施例1と同様にして、硬化性エポキシ樹脂組成物を調製した。なお、酸化防止剤及び/又は紫外線吸収剤を使用する場合、これらの成分については、脂環式エポキシ化合物及びアクリル樹脂の混合物(又は脂環式エポキシ化合物)と混合する際に、表2に示す配合割合(単位:重量部)となるように、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して作製した。なお、酸化防止剤を使用する場合は、80℃で1時間攪拌して酸化防止剤を溶解して行い、酸化防止剤及び紫外線吸収剤を使用する場合は、80℃で1時間攪拌して酸化防止剤を溶解し、更に50℃で1時間攪拌して紫外線吸収剤を溶解して行った。次に、上記で得た混合物と、製造例6で得られた硬化剤組成物とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
 また、実施例1と同様にして光半導体装置を作製した。
 実施例9
 まず、表3に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「セロキサイド2021P」(脂環式エポキシ化合物、(株)ダイセル製)、及び製造例1で得られたアクリル樹脂(B1)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、脂環式エポキシ化合物とアクリル樹脂の混合物を作製した。
 次に、表3に示す配合割合(単位:重量部)となるように、上記で得た混合物と、商品名「サンエイド SI-100L」(硬化触媒、三新化学工業(株)製)とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
 さらに、上記で得た硬化性エポキシ樹脂組成物を図1に示す光半導体のリードフレーム(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に注型した後、120℃のオーブン(樹脂硬化オーブン)で5時間加熱することで、上記硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を得た。
 実施例10~16、比較例6~10
 硬化性エポキシ樹脂組成物の組成を表3に示す組成に変更したこと以外は実施例9と同様にして、硬化性エポキシ樹脂組成物を調製した。なお、酸化防止剤及び/又は紫外線吸収剤を使用する場合、これらの成分については、脂環式エポキシ化合物及びアクリル樹脂の混合物(又は脂環式エポキシ化合物)と硬化触媒とを混合する際に、表3に示す配合割合(単位:重量部)となるように、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して作製した。なお、酸化防止剤を使用する場合は、80℃で1時間攪拌して酸化防止剤を溶解して行い、酸化防止剤及び紫外線吸収剤を使用する場合は、80℃で1時間攪拌して酸化防止剤を溶解し、更に50℃で1時間攪拌して紫外線吸収剤を溶解して行った。次に、上記で得た混合物と、商品名「サンエイド SI-100L」(硬化触媒、三新化学工業(株)製)とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR-250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
 また、実施例9と同様にして光半導体装置を作製した。
 <評価>
 実施例及び比較例で得られた硬化性エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置について、下記の評価試験を実施した。
 [初期の光線透過率]
 実施例及び比較例で得られた硬化性エポキシ樹脂組成物を型に充填し、120℃のオーブン(樹脂硬化オーブン)で5時間加熱することで、厚みが3mmの硬化物を得た。得られた硬化物の波長450nmの光の光線透過率(厚み方向)を、分光光度計(商品名「UV-2400」、(株)島津製作所製)を用いて測定した(「初期の光線透過率」とする)。結果を表2、3の「初期の光線透過率」の欄に示す。
 [通電試験]
 実施例及び比較例で得られた光半導体装置の全光束を全光束測定機を用いて測定し、これを「0時間の全光束」とした。さらに、85℃の恒温槽内で100時間、光半導体装置に20mAの電流を流した後の全光束を測定し、これを「100時間後の全光束」とした。そして、次式から光度保持率を算出した。結果を表2、3の「光度保持率[%]」の欄に示す。
 {光度保持率(%)}
   ={100時間後の全光束(lm)}/{0時間の全光束(lm)}×100
 [はんだ耐熱性試験]
 実施例及び比較例で得られた光半導体装置(各硬化性エポキシ樹脂組成物につき2個ずつ用いた)を、30℃、70%RHの条件下で192時間静置して吸湿処理した。次いで、上記光半導体装置をリフロー炉に入れ、下記加熱条件にて加熱処理した。その後、上記光半導体装置を室温環境下に取り出して放冷した後、再度リフロー炉に入れて同条件で加熱処理した。即ち、当該はんだ耐熱性試験においては、光半導体装置に対して下記加熱条件による熱履歴を二度与えた。
〔加熱条件(光半導体装置の表面温度基準)〕
(1)予備加熱:150~190℃で60~120秒
(2)予備加熱後の本加熱:217℃以上で60~150秒、最高温度260℃
 但し、予備加熱から本加熱に移行する際の昇温速度は最大で3℃/秒に制御した。
 図2には、リフロー炉による加熱の際の光半導体装置の表面温度プロファイル(二度の加熱処理のうち一方の加熱処理における温度プロファイル)の一例を示す。
 その後、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX-900」、(株)キーエンス製)を使用して光半導体装置を観察し、硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生したか否かを評価した。光半導体装置2個のうち、硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数を表2、3の「はんだ耐熱性試験[個数]」の欄に示した。
 [熱衝撃試験]
 実施例及び比較例で得られた光半導体装置(各硬化性エポキシ樹脂組成物につき2個ずつ用いた)に対し、-40℃の雰囲気下に30分曝露し、続いて、120℃の雰囲気下に30分曝露することを1サイクルとした熱衝撃を、熱衝撃試験機を用いて200サイクル分与えた。その後、光半導体装置における硬化物に生じたクラックの長さを、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX-900」、(株)キーエンス製)を使用して観察し、光半導体装置2個のうち硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数を計測した。結果を表2、3の「熱衝撃試験[個数]」の欄に示す。
 [総合判定1]
 各試験の結果、下記(1-1)~(1-4)をいずれも満たすものを○(良好)と判定した。一方、下記(1-1)~(1-4)のいずれかを満たさない場合には×(不良)と判定した。
(1-1)初期の光線透過率が80%以上
(1-2)通電試験:光度保持率が80%以上
(1-3)はんだ耐熱性試験:硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数が0個
(1-4)熱衝撃試験:硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数が0個
 結果を表2、3の「総合判定1」の欄に示す。なお、当該総合判定1は、硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体封止用樹脂組成物(光半導体素子の封止剤)として使用する場合の適否を判定するものである。
 [120℃エージング後の光線透過率]
 上記で初期の光線透過率を測定した硬化物(厚み:3mm)をオーブンに入れ、120℃で200時間エージングした。その後、エージング後の硬化物について、波長450nmの光の光線透過率(厚み方向)を、分光光度計(商品名「UV-2400」、(株)島津製作所製)を用いて測定した(「エージング後の光線透過率」とする)。結果を表2、3の「120℃エージング後の光線透過率[%]」の欄に示す。
 [ダイシェア試験]
 AgメッキしたCu基板上に、接着面積が1.25mm×1.25mmになるように硬化性エポキシ樹脂組成物を塗布し、1.25mm角のSiチップを載せた。次に、これを150℃で2時間加熱し、硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させて、テストサンプルを作製した。上記テストサンプルについて、ダイシェアテスター(商品名「DAGE 4000」、(株)アークテック製)を用いて、300μm/秒の速度で、25℃でのダイシェア強度を評価した。結果を表2、3の「ダイシェア試験」の欄に示す。
 [総合判定2]
 各試験の結果、下記(2-1)~(2-3)をいずれも満たすものを○(良好)と判定した。一方、下記(2-1)~(2-3)のいずれかを満たさない場合には×(不良)と判定した。
(2-1)初期の光線透過率が80%以上
(2-2)120℃エージング後の光線透過率が80%以上
(2-3)ダイシェア試験:ダイシェア強度が20Nを超える値
 結果を表2、3の「総合判定2」の欄に示す。なお、当該総合判定2は、硬化性エポキシ樹脂組成物を接着剤用樹脂組成物(接着剤、特に、ダイアタッチペースト剤)として使用する場合の適否を判定するものである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
 なお、本実施例で使用した成分は、以下の通りである。
(アクリル樹脂の単量体)
 ST:スチレン
 GMA:グリシジルメタクリレート
 MMA:メチルメタクリレート
 BMA:ブチルメタクリレート
 BA:ブチルアクリレート
(重合開始剤)
 AIBN:アゾビスイソブチロニトリル
(重合禁止剤)
 MEHQ:パラメトキシフェノール
(エポキシ樹脂)
 CEL2021P(セロキサイド2021P):3,4-エポキシシクロヘキシルメチル(3,4-エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、(株)ダイセル製
 YD-128:ビスフェノールA型エポキシ樹脂、新日鐵化学(株)製
(酸化防止剤)
 AO-60(アデカスタブ AO-60):フェノール系酸化防止剤、(株)ADEKA製
 HP-10(アデカスタブ HP-10):リン系酸化防止剤、(株)ADEKA製
(紫外線吸収剤)
 Viosorb130:ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、共同薬品(株)製
(硬化剤組成物)
 MH-700(リカシッド MH-700):4-メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30、新日本理化(株)製
 U-CAT 18X:硬化促進剤、サンアプロ(株)製
 エチレングリコール:和光純薬工業(株)製
(硬化触媒)
 サンエイド SI-100L:硬化触媒、三新化学工業(株)製
 試験機器
 ・樹脂硬化オーブン
  エスペック(株)製 GPHH-201
 ・恒温槽
  エスペック(株)製 小型高温チャンバー ST-120B1
 ・全光束測定機
  オプトロニックラボラトリーズ社製 マルチ分光放射測定システム OL771
 ・熱衝撃試験機
  エスペック(株)製 小型冷熱衝撃装置 TSE-11-A
 ・リフロー炉
  日本アントム(株)製、UNI-5016F
産業状の利用可能性
 本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は上記構成を有するため、該樹脂組成物を硬化させることにより、透明性、耐熱性、耐熱衝撃性、及び接着性に優れた硬化物を形成することができる。このため、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体素子の封止剤として用いることにより、光半導体装置の高温における通電特性、耐リフロー性、及び耐熱衝撃性を向上させることができる。また、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体装置におけるダイアタッチペースト剤として用いることにより、光半導体装置の光取り出し効率、耐熱衝撃性、及び耐熱性を向上させることができる。従って、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を用いることにより、耐久性及び品質の高い光半導体装置を得ることができる。
 100:リフレクター(光反射用樹脂組成物)
 101:金属配線(電極)
 102:光半導体素子
 103:ボンディングワイヤ
 104:硬化物(封止材)
 105:接着材(ダイアタッチペースト材)

Claims (11)

  1.  脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)とを含む組成物であって、
     アクリル樹脂(B)が、アクリル系単量体及びスチレン系単量体を必須の単量体成分として含有し、なおかつ側鎖にエポキシ基を有する重合体であることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物。
  2.  脂環式エポキシ化合物(A)とアクリル樹脂(B)の合計量(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が65~95重量%、アクリル樹脂(B)の含有量が5~35重量%である請求項1に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
  3.  脂環式エポキシ化合物(A)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である請求項1又は2に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
  4.  脂環式エポキシ化合物(A)が、下記式(I-1)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    で表される化合物である請求項1~3のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
  5.  さらに、酸化防止剤(C)及び紫外線吸収剤(D)からなる群より選択された少なくとも1種を含む請求項1~4のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
  6.  さらに、硬化剤(E)及び硬化促進剤(F)、又は、硬化触媒(G)を含む請求項1~5のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
  7.  請求項1~6のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより得られる硬化物。
  8.  光半導体封止用樹脂組成物である請求項1~6のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
  9.  請求項8に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置。
  10.  接着剤用樹脂組成物である請求項1~6のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
  11.  請求項10に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が電極に接着された光半導体装置。
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