JP2000204284A - 活性エネルギ―線硬化型組成物およびその被膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 活性エネルギー線の硬化性に優れた組成物 【解決手段】 下記成分 〔Ａ〕下記一般式（１）で表される光増感剤、 【化１】 （式中、Ｒ₁及びＲ₂はＣ₁〜Ｃ₈のアルキル基、Ｒ₃はそ
れぞれ同一もしくは異なって水素原子又はＣ₁〜Ｃ₄のア
ルキル基を示す） 〔Ｂ〕ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びホスホニウ
ム塩から選ばれる少なくとも１種の光カチオン重合開始
剤及び 〔Ｃ〕光カチオン重合性化合物を必須成分として含有す
る組成物であって、上記した[Ａ]、[Ｂ]及び[Ｃ]成分の
配合割合が、〔Ｃ〕１００重量部当り〔Ａ〕０．０１〜
５重量部及び〔Ｂ〕０．１〜２０重量部の範囲であるこ
とを特徴とする活性エネルギー線硬化型組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な活性エネル
ギー線硬化型組成物及びその被膜形成方法に関し、詳し
くは、光増感剤、光カチオン重合開始剤および光カチオ
ン重合性化合物よりなる活性エネルギー線硬化型組成物
を基材表面に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化
させる被膜形成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、紫外線や電子線等の活性エネルギ
ー線により硬化する活性エネルギー線硬化型組成物は、
例えば、塗料、インキ、接着剤等の用途に幅広く利用さ
れている。

【０００３】活性エネルギー線の照射によりエポキシ等
のカチオン重合を開始する化合物として、芳香族ジアゾ
ニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等で代表さ
れるオニウム塩類、フォスフォニウム塩および金属アト
ーン錯体などがある。

【０００４】活性エネルギー線硬化型組成物は秒単位で
硬化でき、加熱を必要としないので、熱硬化型塗料やラ
ッカータイプではなし得なかった高速硬化乾燥を可能と
し、これに適した用途に幅広く利用されている。また、
通常、加熱を必要としないため、省エネルギータイプの
被膜乾燥方法である。このためには、より少ないエネル
ギーで、速く、仕上りの良好な硬化被膜を得ることは極
めて大事なことである。このためには、活性エネルギー
線を有効に活用するための光増感剤の利用は極めて重要
なことである。今まで数多くの光増感剤が示されてお
り、例えば特開平３−２３７１０６、特開平１０−１５
０７、ＵＳＰ４，５７１，３７７、ＵＳＰ５，０８５，
９７２、イメージング用有機材料（ぶんしん出版、１９
９３年７月８日）Ｐ．３２−Ｐ．１４３、Ｐ．１７０な
どにあげられる。

【０００５】しかしながら、上記した公知の組成物では
高速での硬化性や架橋性が十分でなく、また顔料を含有
するエナメルタイプにおいては硬化性が不十分であると
いった問題点がある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、硬化性、表
面硬度、付着性、耐溶剤性に優れた被膜を形成する活性
エネルギー線硬化型組成物を開発することを目的として
なされたものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の問題
点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の光増
感剤を光カチオン重合組成物に配合してなる組成物が、
極めて反応性が良好で、硬度、付着性の良い被膜が形成
されることを見出し、本発明を完成するに至った。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明組成物で使用する光増感剤
[Ａ]は上記一般式（１）で表される化合物である。一般
式（１）で表されるＲ₁及びＲ₂のＣ₁〜Ｃ₈のアルキル基
としては、直鎖であっても分岐していても構わない。該
アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅ
ｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチ
ル等の基が挙げられる。また、Ｒ₃のＣ₁〜Ｃ₄のアルキ
ル基としては、直鎖であっても分岐していても構わな
い。該アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロ
ピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル等の基が挙げられる。

【０００９】光増感剤[Ａ]としては、例えば、９，１０
−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアン
トラセン、９，１０−ジプロポキシアントラセン、９，
１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジヘキサノ
キシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシ
アントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアン
トラセン、２−エチル−９，１０−ジプロポキシアント
ラセン、２−エチル−９，１０−ジブトキシアントラセ
ン、２−メチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、
２−メチル−９，１０−ジエトキシアントラセン、２−
メチル−９，１０−ジプロポキシアントラセン、２−メ
チル−９，１０−ジブトキシアントラセン、２−プロピ
ル−９，１０−ジメトキシアントラセン、２−プロピル
−９，１０−ジエトキシアントラセンなどがあげられ
る。

【００１０】本発明で使用する光カチオン重合開始剤と
しては、ヨードニウムカチオン、スルフォニウムカチオ
ン、ホスホニウムカチオンがアニオンと対イオンを形成
してなるオニウム塩が使用される。このものは１種もし
くは２種以上組み合わせて使用することができる。

【００１１】ヨードニウムカチオンとしては、例えば下
記一般式（２）

【００１２】

【化２】

【００１３】スルホニウムカチオンとしては、例えば下
記一般式（３）

【００１４】

【化３】

【００１５】ホスホニウムカチオンとしては、例えば下
記一般式（４）

【００１６】

【化４】

【００１７】が挙げられる。

【００１８】上記した一般式（２）〜（４）においてＲ
₄〜Ｒ₇は下記の意味を表す。

【００１９】Ｒ₄、Ｒ₆及びＲ₇は同じ一般式において同
一もしくは異なっていても構わない。

【００２０】Ｒ₄は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カ
ルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ア
ジド基で置換されていても良いＣ₁〜Ｃ₁₈の直鎖状、分
岐鎖状、環状アルキル基もしくは、下記Ｒ₇（フッ素、
塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、
シアノ基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良い
Ｃ₆〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリール基のいずれか）を
示す。

【００２１】該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキ
シル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基
で置換されていても良いＣ₁〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖
状、環状アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプ
ロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、４−デシ
ルシクロヘキシル基、フルオロメチル基、クロロメチル
基、ブロモメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロ
ロメチル基、トリブロモメチル基、ヒドロキシメチル
基、カルボキシメチル基、メルカプトメチル基、シアノ
メチル基、ニトロメチル基、アジドメチル基などがあげ
られる。

【００２２】Ｒ５は、ベンジル基、置換されたベンジル
基、フェナシル基、置換されたフェナシル基、置換され
たアリル基、アルコキシル基、置換されたアルコキシル
基、アリルアルコキシル基、アリールオキシ基、置換さ
れたアリールオキシ基から選ばれる基を示す。

【００２３】置換されたベンジル基とは、フッ素、塩
素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メ
チルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、Ｃ₁〜
Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₁₈
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₁₈
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から
選ばれる基で置換されたベンジル基があげられ、さら
に、ベンジル基中のベンゼン環が、不飽和炭化水素基に
よって、Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂の縮合多環芳香族環を形成していて
も良い構造があげられる。

【００２４】これら置換されたベンジル基の具体例とし
ては、ｏ−フルオロベンジル基、ｍ−フルオロベンジル
基、ｐ−フルオロベンジル基、ｏ−クロロベンジル基、
ｍ−クロロベンジル基、ｐ−クロロベンジル基、ｏ−ブ
ロモベンジル基、ｍ−ブロモベンジル基、ｐ−ブロモベ
ンジル基、ｏ−シアノベンジル基、ｍ−シアノベンジル
基、ｐ−シアノベンジル基、ｏ−ニトロベンジル基、ｍ
−ニトロベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、２，４−
ジフルオロフェニルメチル基、２，６−ジクロロフェニ
ルメチル基、２，４，６−トリブロモフェニルメチル
基、ペンタフルオロフェニルメチル基、ｐ−（トリフル
オロメチル）ベンジル基、３，５−ビス（トリフルオロ
メチル）フェニルメチル基、ｏ−ヒドロキシベンジル
基、ｍ−ヒドロキシベンジル基、ｐ−ヒドロキシベンジ
ル基、ｏ−メルカプトベンジル基、ｍ−メルカプトベン
ジル基、ｐ−メルカプトベンジル基、ｏ−メチルスルフ
ィニルベンジル基、ｍ−メチルスルフィニルベンジル
基、ｐ−メチルスルフィニルベンジル基、ｏ−メチルス
ルホニルベンジル基、ｍ−メチルスルホニルベンジル
基、ｐ−メチルスルホニルベンジル基、ｏ−アセチルベ
ンジル基、ｍ−アセチルベンジル基、ｐ−アセチルベン
ジル基、ｏ−ベンゾイルベンジル基、ｍ−ベンゾイルベ
ンジル基、ｐ−ベンゾイルベンジル基、ｏ−メチルベン
ジル基、ｍ−メチルベンジル基、ｐ−メチルベンジル
基、ｐ−エチルベンジル基、ｐ−プロピルベンジル基、
ｐ−イソプロピルベンジル基、ｐ−ｔ−ブチルベンジル
基、ｐ−オクタデシルベンジル基、ｐ−シクロヘキシル
ベンジル基、ｏ−メトキシベンジル基、ｍ−メトキシベ
ンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−エトキシベン
ジル基、ｐ−プロポキシベンジル基、ｐ−イソプロポキ
シベンジル基、ｐ−ｔ−ブトキシベンジル基、ｐ−オク
タデシルベンジル基、ｐ−シクロヘキサンオキシベンジ
ル基、ｏ−メトキシカルボニルベンジル基、ｍ−メトキ
シカルボニルベンジル基、ｐ−メトキシカルボニルベン
ジル基、ｐ−エトキシカルボニルベンジル基、ｐ−プロ
ポキシカルボニルベンジル基、ｐ−イソプロポキシカル
ボニルベンジル基、ｐ−ｔ−ブトキシカルボニルベンジ
ル基、ｐ−オクタデシルオキシカルボニルベンジル基、
ｐ−シクロヘキサンオキシカルボニルベンジル基、１−
ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、９−アンス
リルメチル基、１−ピレニルメチル基、５−ナフタセニ
ルメチル基、６−ペンタセニルメチル基などがあげられ
る。

【００２５】置換されたフェナシル基とは、フッ素、塩
素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、水酸基、メルカプト基、メチルスルフィニル基、メ
チルスルホニル基、アセチル基、ベンゾイル基、Ｃ₁〜
Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₁₈
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₁₈
の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシカルボニル基から
選ばれる基で置換されたフェナシル基があげられ、さら
に、フェナシル基中のベンゼン環が不飽和炭化水素基に
よって、Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂の縮合多環芳香族環を形成していて
も良い構造があげられる。

【００２６】これら置換されたフェナシル基の具体例と
しては、ｏ−フルオロフェナシル基、ｍ−フルオロフェ
ナシル基、ｐ−フルオロフェナシル基、ｏ−クロロフェ
ナシル基、ｍ−クロロフェナシル基、ｐ−クロロフェナ
シル基、ｏ−ブロモフェナシル基、ｍ−ブロモフェナシ
ル基、ｐ−ブロモフェナシル基、ｏ−シアノフェナシル
基、ｍ−シアノフェナシル基、ｐ−シアノフェナシル
基、ｏ−ニトロフェナシル基、ｍ−ニトロフェナシル
基、ｐ−ニトロフェナシル基、２，４−ジフルオロフェ
ニルカルボニルメチル基、２，６−ジクロロフェニルカ
ルボニルメチル基、２，４，６−トリブロモフェニルカ
ルボニルメチル基、ペンタフルオロフェニルカルボニル
メチル基、ｐ−（トリフルオロメチル）フェナシル基、
３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルカルボニ
ルメチル基、ｏ−ヒドロキシフェナシル基、ｍ−ヒドロ
キシフェナシル基、ｐ−ヒドロキシフェナシル基、ｏ−
メルカプトフェナシル基、ｍ−メルカプトフェナシル
基、ｐ−メルカプトフェナシル基、ｏ−メチルスルフィ
ニルフェナシル基、ｍ−メチルスルフィニルフェナシル
基、ｐ−メチルスルフィニルフェナシル基、ｏ−メチル
スルホニルフェナシル基、ｍ−メチルスルホニルフェナ
シル基、ｐ−メチルスルホニルフェナシル基、ｏ−アセ
チルフェナシル基、ｍ−アセチルフェナシル基、ｐ−ア
セチルフェナシル基、ｏ−ベンゾイルフェナシル基、ｍ
−ベンゾイルフェナシル基、ｐ−ベンゾイルフェナシル
基、ｏ−メチルフェナシル基、ｍ−メチルフェナシル
基、ｐ−メチルフェナシル基、ｐ−エチルフェナシル
基、ｐ−プロピルフェナシル基、ｐ−イソプロピルフェ
ナシル基、ｐ−ｔ−ブチルフェナシル基、ｐ−オクタデ
シルフェナシル基、ｐ−シクロヘキシルフェナシル基、
ｏ−メトキシフェナシル基、ｍ−メトキシフェナシル
基、ｐ−メトキシフェナシル基、ｐ−エトキシフェナシ
ル基、ｐ−プロポキシフェナシル基、ｐ−イソプロポキ
シフェナシル基、ｐ−ｔ−ブトキシフェナシル基、ｐ−
オクタデシルオキシフェナシル基、ｐ−シクロヘキサン
オキシフェナシル基、ｏ−メトキシカルボニルフェナシ
ル基、ｍ−メトキシカルボニルフェナシル基、ｐ−メト
キシカルボニルフェナシル基、ｐ−エトキシカルボニル
フェナシル基、ｐ−プロポキシカルボニルフェナシル
基、ｐ−イソプロポキシカルボニルフェナシル基、ｐ−
ｔ−ブトキシカルボニルフェナシル基、ｐ−オクタデシ
ルオキシカルボニルフェナシル基、ｐ−シクロヘキサン
オキシカルボニルフェナシル基、１−ナフトイルメチル
基、２−ナフトイルメチル基、９−アンスロイルメチル
基、１−ピレニルカルボニルメチル基、５−ナフタセニ
ルカルボニルメチル基、６−ペンタセニルカルボニルメ
チル基などがあげられる。

【００２７】置換されたアリル基とは、フッ素、ニトロ
基、トリフルオロメチル基、シアノ基、アセチル基、ベ
ンゾイル基、Ｃ₁〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アル
キル基、Ｃ₂〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖状、環状アルコキ
シカルボニル基、フェニル基から選ばれる基で置換され
たアリル基があげられる。

【００２８】これら置換されたアリル基の具体例として
は、２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル基、
３，３−ジニトロ−２−プロペニル基、３，３−ビス
（トリフルオロメチル）−２−プロペニル基、３，３−
ジシアノ−２−プロペニル基、２−メチル−３，３−ジ
シアノ−２−プロペニル基、３−ヘキシル−３，３−ジ
シアノ−２−プロペニル基、２−オクタデシル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル基、２−イソプロピル−
３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−ｔ−ブチル
−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−シクロヘ
キシル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−ア
セチル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−ベ
ンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−
フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、３，
３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、
２−メチル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２
−プロペニル基、２−ヘキシル−３，３−ビス（メトキ
シカルボニル）−２−プロペニル基、２−オクタデシル
−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニ
ル基、２−イソプロピル−３，３−ビス（メトキシカル
ボニル）−２−プロペニル基、２−ｔ−ブチル−３，３
−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、２
−シクロヘキシル−３，３−ビス（メトキシカルボニ
ル）−２−プロペニル基、２−アセチル−３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、２−ベン
ゾイル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プ
ロペニル基、２−フェニル−３，３−ビス（メトキシカ
ルボニル）−２−プロペニル基、２−フェニル−３，３
−ビス（ヘキシルオキシカルボニル）−２−プロペニル
基、２−フェニル−３，３−ビス（オクタデシルオキシ
カルボニル）−２−プロペニル基、２−フェニル−３，
３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−２−プロペニル
基、２−フェニル−３，３−ビス（シクロヘキシルオキ
シカルボニル）−２−プロペニル基などがあげられる。

【００２９】アルコキシル基としては、Ｃ₁〜Ｃ₁₈の直
鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基があげられ、メト
キシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、オク
チルオキシ基、オクタデカンオキシ基、イソプロポキシ
基、ｔ−ブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロ
ヘキシルオキシ基などがあげられる。

【００３０】置換されたアルコキシル基とは、フッ素、
塩素、臭素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル
基、水酸基から選ばれる基で置換されたＣ₁〜Ｃ₁₈の直
鎖状、分岐鎖状、環状アルコキシル基があげられ、フル
オロメトキシ基、２−クロロエトキシ基、３−ブロモプ
ロポキシ基、４−シアノブトキシ基、８−ニトロオクチ
ルオキシ基、１８−トリフルオロメチルオクタデカンオ
キシ基、２−ヒドロキシイソプロポキシ基、トリクロロ
メトキシ基などがあげられる。

【００３１】アリールオキシ基とは、Ｃ₆〜Ｃ₁₈の単
環、縮合多環アリールオキシ基であり、フェノキシ基、
１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、９−ア
ンスリルオキシ基、９−フェナントリルオキシ基、１−
ピレニルオキシ基、５−ナフタセニルオキシ基、１−イ
ンデニルオキシ基、２−アズレニルオキシ基、１−アセ
ナフチルオキシ基、９−フルオレニルオキシ基、ｏ−ト
リルオキシ基、ｍ−トリルオキシ基、ｐ−トリルオキシ
基、２，３−キシリルオキシ基、３，５−キシリルオキ
シ基、メシチルオキシ基、ｐ−クメニルオキシ基、ｐ−
デシルフェノキシ基、ｐ−シクロヘキシルフェノキシ
基、４−フェニルフェノキシ基などがあげられる。

【００３２】置換されたアリールオキシ基とは、フッ
素、塩素、臭素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト
基、シアノ基、ニトロ基、アジド基から選ばれる基で置
換されたＣ₆〜Ｃ₁₈の単環、縮合多環アリールオキシ基
であり、ｏ−フルオロフェノキシ基、ｍ−クロロフェノ
キシ基、ｐ−ブロモフェノキシ基、ｐ−ヒドロキシフェ
ノキシ基、ｍ−カルボキシフェノキシ基、ｏ−メルカプ
トフェノキシ基、ｐ−シアノフェノキシ基、ｍ−ニトロ
フェノキシ基、ｍ−アジドフェノキシ基、２−クロロ−
１−ナフチルオキシ基、１０−シアノ−９−アンスリル
オキシ基、１１−ニトロ−５−ナフタセニルオキシ基な
どがあげられる。

【００３３】これらＲ₅５において、好ましいものとし
ては、フッ素、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチ
ル基、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖状、分岐鎖状アシル基、Ｃ₂〜
Ｃ₅の直鎖状、分岐鎖状アルコキシカルボニル基、ベン
ゾイル基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル
基、ｐ−トシル基といった電子吸引性基で置換されたベ
ンジル基、フェナシル基、アリル基があげられる。その
ような具体例としては、ｏ−シアノベンジル基、ｐ−シ
アノベンジル基、ｏ−ニトロベンジル基、ｐ−ニトロベ
ンジル基、ペンタフルオロフェニルメチル基、３，５−
ビス（トリフルオロメチル）フェニルメチル基、ｏ−ア
セチルベンジル基、ｐ−アセチルベンジル基、ｏ−メト
キシカルボニルベンジル基、ｐ−メトキシカルボニルベ
ンジル基、ｏ−ｔ−ブトキシカルボニルベンジル基、ｐ
−ｔ−ブトキシカルボニルベンジル基、ｏ−ベンゾイル
ベンジル基、ｐ−ベンゾイルベンジル基、ｏ−メチルス
ルフィニルベンジル基、ｐ−メチルスルフィニルベンジ
ル基、ｏ−メチルスルホニルベンジル基、ｐ−メチルス
ルホニルベンジル基、ｏ−（ｐ−トシル）ベンジル基、
ｏ−シアノフェナシル基、ｐ−シアノフェナシル基、ｏ
−ニトロフェナシル基、ｐ−ニトロフェナシル基、ペン
タフルオロベンゾイルメチル基、３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）ベンゾイルメチル基、ｏ−アセチルフェ
ナシル基、ｐ−アセチルフェナシル基、ｏ−メトキシカ
ルボニルフェナシル基、ｐ−メトキシカルボニルフェナ
シル基、ｏ−ｔ−ブトキシカルボニルフェナシル基、ｐ
−ｔ−ブトキシカルボニルフェナシル基、ｏ−ベンゾイ
ルフェナシル基、ｐ−ベンゾイルフェナシル基、ｏ−メ
チルスルフィニルフェナシル基、ｐ−メチルスルフィニ
ルフェナシル基、ｏ−メチルスルホニルフェナシル基、
ｐ−メチルスルホニルフェナシル基、ｏ−（ｐ−トシ
ル）フェナシル基、ｐ−（ｐ−トシル）フェナシル基、
３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、１−メチル−
３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、２−フェニル−
３，３−ジシアノ−２−プロペニル基、３，３−ビス
（メトキシカルボニル）−２−プロペニル基、２−フェ
ニル−３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロ
ペニル基、シアノメトキシ基、アセチルメトキシ基、ベ
ンゾイルメトキシ基、ｐ−シアノフェノキシ基、ペンタ
フルオロフェニルメトキシ基があげられる。

【００３４】Ｒ₆は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カ
ルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ア
ジド基で置換されていても良いＣ₁〜Ｃ₁₈の直鎖状、分
岐鎖状、環状アルキル基もしくは、フッ素、塩素、臭
素、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ
基、ニトロ基、アジド基で置換されていても良いＣ₁〜
Ｃ₁₈の直鎖状アルコキシ基、分岐鎖状アルコキシ基、環
状アルコキシ基のいずれかを示す。

【００３５】該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキ
シル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基
で置換されていても良いＣ₁〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖
状、環状アルキル基はＲ₄に記載と同様の意味を表す。

【００３６】該フッ素、塩素、臭素、水酸基、カルボキ
シル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、アジド基
で置換されていても良いＣ₁〜Ｃ₁₈の直鎖状、分岐鎖
状、環状アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、オ
クタデカンオキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ
基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ
基、トリフルオロメトキシ基、クロロメトキシ基、ブロ
モメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメ
トキシ基、トリブロモメトキシ基、ヒドロキシメトキシ
基、カルボキシメトキシ基、メルカプトメトキシ基、シ
アノメトキシ基、ニトロメトキシ基、アジドメトキシ
基、などがあげられる。

【００３７】Ｒ₇は、フッ素、塩素、臭素、水酸基、カ
ルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、ア
ジド基で置換されていても良いＣ₆〜Ｃ₁₈の単環、縮合
多環アリール基を示す。具体的には、フェニル基、１−
ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−
フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル
基、１−インデニル基、２−アズレニル基、１−アセナ
フチル基、９−フルオレニル基、ｏ−トリル基、ｍ−ト
リル基、ｐ−トリル基、２，３−キシリル基、２，５−
キシリル基、メシチル基、ｐ−クメニル基、ｐ−ドデシ
ルフェニル基、ｐ−シクロヘキシルフェニル基、４−ビ
フェニル基、ｏ−フルオロフェニル基、ｍ−クロロフェ
ニル基、ｐ−ブロモフェニル基、ｐ−ヒドロキシフェニ
ル基、ｍ−カルボキシフェニル基、ｏ−メルカプトフェ
ニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｍ−ニトロフェニル
基、ｍ−アジドフェニル基などがあげられる。

【００３８】また、Ｚは、酸素もしくは硫黄原子を示
す。

【００３９】スルフォニウムカチオンの例としては、例
えば下記のものが挙げられる。

【００４０】ベンジルスルホニウムカチオン：ジメチル
（ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオロベ
ンジル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロベンジ
ル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモベンジル）ス
ルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノベンジル）スルホニ
ウム、ジメチル（ｍ−ニトロベンジル）スルホニウム、
ジメチル（２，４，６−トリブロモフェニルメチル）ス
ルホニウム、ジメチル（ペンタフルオロフェニルメチ
ル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−（トリフルオロメチ
ル）ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキ
シベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メルカプト
ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルフ
ィニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチル
スルホニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−ア
セチルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾ
イルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルベ
ンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロピルベ
ンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−オクタデシルベ
ンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキシル
ベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メトキシベン
ジル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニ
ルベンジル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロポ
キシカルボニルベンジル）スルホニウム、ジメチル（２
−ナフチルメチル）スルホニウム、ジメチル（９−アン
スリルメチル）スルホニウム、ジエチル（ベンジル）ス
ルホニウム、メチルエチル（ベンジル）スルホニウム、
メチルフェニル（ベンジル）スルホニウム、ジフェニル
（ベンジル）スルホニウム、ジイソプロピル（ベンジ
ル）スルホニウムなど。

【００４１】フェナシルスルホニウムカチオン：ジメチ
ル（フェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオ
ロフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロフ
ェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフェナ
シル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェナシ
ル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェナシル）
スルホニウム、ジメチル（２，４，６−トリブロモフェ
ニルメチル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−（トリフル
オロメチル）フェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ
−ヒドロキシフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ
−メルカプトフェナシル）スルホニウム、ジメチル（ｐ
−メチルフルフィニルフェナシル）スルホニウム、ジメ
チル（ｐ−メチルスルホニルフェナシル）スルホニウ
ム、ジメチル（ｏ−アセチルフェナシル）スルホニウ
ム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェナシル）スルホニウ
ム、ジメチル（ｐ−メチルフェナシル）スルホニウム、
ジメチル（ｐ−イソプロピルフェナシル）スルホニウ
ム、ジメチル（ｐ−オクタデシルフェナシル）スルホニ
ウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキシルフェナシル）スル
ホニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェナシル）スルホ
ニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルフェナシ
ル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロポキシカル
ボニルフェナシル）スルホニウム、ジメチル（２−ナフ
トイルメチル）スルホニウム、ジメチル（９−アンスロ
イルメチル）スルホニウム、ジエチル（フェナシル）ス
ルホニウム、メチルエチル（フェナシル）スルホニウ
ム、メチルフェニル（フェナシル）スルホニウム、ジフ
ェニル（フェナシル）スルホニウム、ジイソプロピル
（フェナシル）スルホニウム、テトラメチレン（フェナ
シル）スルホニウム、ペンタメチレン（フェナシル）ス
ルホニウム、ヘキサメチレン（フェナシル）スルホニウ
ム、エチレンジオキシ（フェナシル）スルホニウム、ジ
エチレンジオキシ（フェナシル）スルホニウム、エチレ
ンジチオ（フェナシル）スルホニウムなど。

【００４２】アリルスルホニウムカチオン：ジメチル
（アリル）スルホニウム、ジメチル（２，３，３−トリ
フルオロ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル
（３，３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、
ジメチル（２−メチル−３，３−ジシアノ−２−プロペ
ニル）スルホニウム、ジメチル（２−アセチル−３，３
−ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル
（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）スルホニウム、ジメチル（２−フェニル−３，３−
ジシアノ−２−プロペニル）スルホニウム、ジメチル
（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プロペニ
ル）スルホニウムなど。

【００４３】アルコキシスルホニウムカチオン：ジメチ
ル（メトキシ）スルホニウム、ジメチル（エトキシ）ス
ルホニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホニウム、ジ
メチル（ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（オクチル
オキシ）スルホニウム、ジメチル（オクタデカンオキ
シ）スルホニウム、ジメチル（イソプロポキシ）スルホ
ニウム、ジメチル（ｔ−ブトキシ）スルホニウム、ジメ
チル（スクロペンチルオキシ）スルホニウム、ジメチル
（シクロヘキシルオキシ）スルホニウム、ジメチル（フ
ルオロメトキシ）スルホニウム、ジメチル（２−クロロ
エトキシ）スルホニウム、ジメチル（３−ブロモプロポ
キシ）スルホニウム、ジメチル（４−シアノブトキシ）
スルホニウム、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）
スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオ
クタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ヒド
ロキシイソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（トリ
ス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムなど。

【００４４】アリールオキシスルホニウムカチオン：ジ
メチル（フェノキシ）スルホニウム、ジメチル（１−ナ
フチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ナフチル
オキシ）スルホニウム、ジメチル（９−アンスリルオキ
シ）スルホニウム、ジメチル（９−フェナントリルオキ
シ）スルホニウム、ジメチル（ｐ−トリルオキシ）スル
ホニウム、ジメチル（２，３−キシリルオキシ）スルホ
ニウム、ジメチル（ｏ−フルオロフェノキシ）スルホニ
ウム、ジメチル（ｍ−クロロフェノキシ）スルホニウ
ム、ジメチル（ｐ−ブロモフェノキシ）スルホニウム、
ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェノキシ）スルホニウム、
ジメチル（ｍ−カルボキシルフェノキシ）スルホニウ
ム、ジメチル（ｏ−メルカプトフェノキシ）スルホニウ
ム、ジメチル（ｐ−シアノフェノキシ）スルホニウム、
ジメチル（ｍ−ニトロフェノキシ）スルホニウム、ジメ
チル（ｍ−アジドフェノキシ）スルホニウム、ジメチル
（２−クロロ−１−ナフチルオキシスルホニウム、ジメ
チル（１１−ニトロ−５−ナフタセニル）スルホニウム
など。

【００４５】（スルホキソニウムカチオン） ベンジルスルホキソニウムカチオン：ジメチル（ベンジ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ブロモベンジ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−シアノベンジ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−ニトロベンジ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ペンタフルオロフェ
ニルメチル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロ
キシベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−アセ
チルベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−ベン
ゾイルベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−イ
ソプロピルベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ
−メトキシベンジル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ
−メトキシカルボニルベンジル）スルホキソニウム、ジ
メチル（２−ナフチルメチル）スルホキソニウム、ジメ
チル（９−アンスリルメチル）スルホキソニウム、ジエ
チル（ベンジル）スルホキソニウム、メチルエチル（ベ
ンジル）スルホキソニウム、メチルフェニル（ベンジ
ル）スルホキソニウム、ジフェニル（ベンジル）スルホ
キソニウム、ジイソプロピル（ベンジル）スルホキソニ
ウムなど。

【００４６】フェナシルスルホキソニウムカチオン：ジ
メチル（フェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ
−ブロモフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ
−シアノフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ
−ニトロフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル
（２，４，６−トリブロモフェニルメチル）スルホキソ
ニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェナシル）スルホ
キソニウム、ジメチル（ｐ−メルカプトフェナシル）ス
ルホキソニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェナシ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メチルフェナシ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェナ
シル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカル
ボニルフェナシル）スルホキソニウム、ジメチル（２−
ナフチルメチル）スルホキソニウム、ジメチル（９−ア
ンスリルメチル）スルホキソニウム、ジエチル（フェナ
シル）スルホキソニウム、メチルエチル（フェナシル）
スルホキソニウム、メチルフェニル（フェナシル）スル
ホキソニウム、ジフェニル（フェナシル）スルホキソニ
ウム、ジイソプロピル（フェナシル）スルホキソニウ
ム、テトラメチレン（フェナシル）スルホキソニウムな
ど。

【００４７】アリルスルホキソニウムカチオン：ジメチ
ル（アリル）スルホキソニウム、ジメチル（３，３−ジ
シアノ−２−プロペニル）スルホキソニウム、ジメチル
（２−ベンゾイル−３，３−ジシアノ−２−プロペニ
ル）スルホキソニウム、ジメチル（２−フェニル−３，
３−ジシアノ−２−プロペニル）スルホキソニウム、ジ
メチル（３，３−ビス（メトキシカルボニル）−２−プ
ロペニル）スルホキソニウムなど。

【００４８】アルコキシスルホキソニウムカチオン：ジ
メチル（エトキシ）スルホキソニウム、ジメチル（プロ
ポキシ）スルホキソニウム、ジメチル（オクチルオキ
シ）スルホキソニウム、ジメチル（イソプロポキシ）ス
ルホキソニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）ス
ルホキソニウム、ジメチル（２−クロロエトキシ）スル
ホキソニウムなど。

【００４９】アリールオキシスルホキソニウムカチオ
ン：ジメチル（フェノキシ）スルホキソニウム、ジメチ
ル（２−ナフチルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル
（９−アンスリルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル
（ｐ−トリルオキシ）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ
−クロロフェノキシ）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ
−カルボキシフェノキシ）スルホキソニウム、ジメチル
（ｐ−シアノフェノキシ）スルホキソニウムなど。

【００５０】トリアリールスルホニウムカチオン：トリ
フェニルスルホニウム、トリス（ｐ−トリル）スルホニ
ウム、トリス（フェニル）スルホニウム、トリス（２，
６−ジメチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−シ
アノフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−クロロフェ
ニル）スルホニウムなど。

【００５１】トリアリールスルホキソニウムカチオン：
トリフェニルスルホキソニウム、トリス（ｐ−トリル）
スルホキソニウム、トリス（フェニル）スルホキソニウ
ム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホキソニ
ウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホキソニウ
ム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホキソニウムな
ど。

【００５２】ホスホニウムカチオンの例としては、例え
ば下記のものが挙げられる。

【００５３】ベンジルホスホニウムカチオン：トリメチ
ルベンジルホスホニウム、トリエチルベンジルホスホニ
ウム、トリフェニルベンジルホスホニウム、トリフェニ
ル（ｐ−フルオロベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｏ−クロロベンジル）ホスホニウム、トリフェニル
（ｍ−ブロモベンジル）ホスホニウム、トリフェニル
（ｐ−シアノベンジル）ホスホニウム、トリフェニル
（ｍ−ニトロベンジル）ホスホニウム、トリフェニル
（ｏ−ヒドロキシベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｏ−アセチルベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｍ−ベンゾイルベンジル）ホスホニウム、トリフェ
ニル（ｐ−メチルベンジル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（ｐ−イソプロポキシベンジル）ホスホニウム、トリ
フェニル（ｏ−メトキシカルボニルベンジル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（１−ナフチルメチル）ホスホニウ
ム、トリフェニル（９−アンスリルメチル）ホスホニウ
ムなど。

【００５４】フェナシルホスホニウムカチオンの例：ト
リメチルフェナシルホスホニウム、トリエチルフェナシ
ルホスホニウム、トリフェニルフェナシルホスホニウ
ム、トリフェニル（ｐ−フルオロフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｏ−クロロフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｍ−ブロモフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｐ−シアノフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｍ−ニトロフェナシル）ホスホニ
ウム、トリフェニル（ｏ−ヒドロキシフェナシル）ホス
ホニウム、トリフェニル（ｏ−アセチルフェナシル）ホ
スホニウム、トリフェニル（ｍ−ベンゾイルフェナシ
ル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−メチルフェナシ
ル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−イソプロポキシ
フェナシル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−メトキ
シカルボニルフェナシル）ホスホニウム、トリフェニル
（１−ナフチロイルメチル）ホスホニウム、トリフェニ
ル（９−アンスロイルメチル）ホスホニウムなど。

【００５５】アリルホスホニウムカチオン：トリフェニ
ルアリルホスホニウム、トリフェニル（３，３−ジシア
ノ−２−プロペニル）ホスホニウム、トリフェニル（２
−ヘキシル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）ホス
ホニウム、トリフェニル（２−アセチル−３，３−ジシ
アノ−２−プロペニル）ホスホニウム、トリフェニル
（２−フェニル−３，３−ジシアノ−２−プロペニル）
ホスホニウムなど。

【００５６】アルコキシホスホニウムカチオン：トリフ
ェニルメトキシホスホニウム、トリフェニルブトキシホ
スホニウム、トリフェニルオクタデシルオキシホスホニ
ウム、トリフェニルイソプロポキシホスホニウム、トリ
フェニル（２−クロロエトキシ）ホスホニウム、トリフ
ェニル（４−シアノブトキシ）ホスホニウムなど。

【００５７】アリールオキシホスホニウムカチオン：ト
リフェニルフェノキシホスホニウム、トリフェニル（１
−ナフチルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（２−
ナフチルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（９−ア
ンスリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−ト
リルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（２，３−キ
シリルオキシ）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−ヒド
ロキシフェノキシ）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−
カルボキシフェノキシ）ホスホニウムなど。

【００５８】ヨードニウムカチオンの例としては、例え
ば下記のものが挙げられる。

【００５９】フリルもしくはチエニルヨードニウムカチ
オン：ジフリルヨードニウム、ジチエニルヨードニウ
ム、ビス（４，５−ジメチル−２−フリル）ヨードニウ
ム、ビス（５−クロロ−２−チエニル）ヨードニウム、
ビス（５−シアノ−２−フリル）ヨードニウム、ビス
（５−ニトロ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５
−アセチル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−カ
ルボキシ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−メ
トキシカルボニル−２−フリル）ヨードニウム、ビス
（５−フェニル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５
−（ｐ−メトキシフェニル）−２−チエニル）ヨードニ
ウム、ビス（５−ビニル−２−フリル）ヨードニウム、
ビス（５−エチニル−２−チエニル）ヨードニウム、ビ
ス（５−シクロヘキシル−２−フリル）ヨードニウム、
ビス（５−ヒドロキシ−２−チエニル）ヨードニウム、
ビス（５−フェノキシ−２−フリル）ヨードニウム、ビ
ス（５−メルカプト−２−チエニル）ヨードニウム、ビ
ス（５−ブチルチオ−２−チエニル）ヨードニウム、ビ
ス（５−フェニルチオ−２−チエニル）ヨードニウムな
ど。

【００６０】ジアリールヨードニウムカチオン：ジフェ
ニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、
ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ
−オクタデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オ
クチルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オク
タデシルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オ
クタデシルオキシフェニル）ヨードニウムなど。

【００６１】これらのカチオンの対イオンとなるアニオ
ンとしては、Ｘ−については、フッ素アニオン、塩素ア
ニオン、臭素アニオン、ヨウ素アニオンなどの例えばハ
ロゲンアニオン、酢酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニ
オン、硫酸アニオン、硫酸水素アニオン、メタン硫酸ア
ニオン、トリフルオロメタン硫酸アニオン、パークロレ
ートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキ
サフルオロホスフェートアニオン、ヘキサクロロアンチ
モネートアニオン、ヘキサフルオロアンチモネートアニ
オンなどがあげられる。

【００６２】本発明で使用する光カチオン重合性化合物
は、光カチオン重合開始剤[Ｂ]、光増感剤[Ａ]のもとで
光を照射して架橋または重合反応によって高分子量化す
る化合物である。具体的には、例えば、エポキシ化合
物、スチレン類、ビニル化合物、ビニルエーテル類、ス
ピロオルソエステル類、ビシクロオルソエステル類、ス
ピロオルソカーボナート類、環状エーテル類、ラクトン
類、オキサゾリン類、アジリジン類、シクロシロキサン
類、ケタール類、環状酸無水物類、ラクタム類、アルコ
キシシラン化合物類およびアリールジアルデヒド類など
があげられる。

【００６３】エポキシ化合物としては、従来、公知の芳
香族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、脂肪族エ
ポキシ化合物などがあげられる。

【００６４】芳香族エポキシ化合物の例としては、フェ
ニルグリシジルエーテルなどの単官能エポキシ化合物
や、少なくとも１個の芳香族環を有する多価フェノール
またはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジ
ルエーテルであって、例えばビスフェノールＡ、テトラ
ブロモビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェ
ノールＳ等のビスフェノール化合物またはビスフェノー
ル化合物のアルキレンオキサイド（例えば、エチレンオ
キサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド
等）付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造
されるグリシジルエーテル類、ノボラック型エポキシ樹
脂類（例えば、フェノール・ノボラック型エポキシ樹
脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フ
ェノール・ノボラック型エポキシ樹脂等）、トリスフェ
ノールメタントリグリシジルエーテルなどがあげられ
る。

【００６５】脂環式エポキシ化合物としては、４−ビニ
ルシクロヘキセンモノエポキサイド、ノルボルネンモノ
エポキサイド、リモネンモノエポキサイド、３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、ビス−（３，４−エポキシ
シクロヘキシルメチル）アジペート、２−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポ
キシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサン、ビス
（２，３−エポキシシクロペンチル）エーテル、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−
３，４−エポキシ）シクロヘキサノン−メタ−ジオキサ
ン、２，２−ビス〔４−（２，３−エポキシプロポキ
シ）シクロヘキシル〕ヘキサフルオロプロパン、ＢＨＰ
Ｅ−３１５０（ダイセル化学工業（株）製、脂環式エポ
キシ樹脂（軟化点７１℃）などがあげられる。

【００６６】脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６
−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、エチレング
リコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールモ
ノグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエ
ーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオ
ペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチ
ルグリコールモノグリシジルエーテル、グリセロールジ
グリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパンモノグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテル、ジグリセ
ロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグ
ルシジルエーテル、アリルグルシジルエーテル、２−エ
チルヘキシルグルシジルエーテルなどがあげられる。

【００６７】スチレン類としては、スチレン、α−メチ
ルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルス
チレンなどがあげられる。ビニル化合物としては、Ｎ−
ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリドンなどがあげ
られる。

【００６８】ビニルエーテル類としては、例えばｎ−
（またはｉｓｏ−、ｔ−）ブチルビニルエーテル、シク
ロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエ
ーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、エ
チレングルコールジビニルエーテル、エチレングリコー
ルモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニ
ルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテ
ル、プロピレングルコールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコ
ールジビニルグリコール、ネオペンチルグリコールモノ
ビニルグリコール、グリセロールジビニルエーテル、グ
リセロールトリビニルエーテル、トリメチロールプロパ
ンモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニ
ルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテ
ル、ジグリセロールトリビニルエーテル、ソルビトール
テトラビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジ
ビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ド
デシルビニルエーテル、２，２−ビス（４−シクロヘキ
サノール）プロパンジビニルエーテル、２，２−ビス
（４−シクロヘキサノール）トリフルオロプロパンジビ
ニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル類、アリル
ビニルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル類、エ
チニルビニルエーテル、１−メチル−２−プロペニルビ
ニルエーテルなどのアルキニルビニルエーテル類、４−
ビニルエーテルスチレン、ハイドロキノンジビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メトキシフェニル
ビニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、
テトラブロモビスフェノールＡジビニルエーテル、ビス
フェノールＦジビニルエーテル、フェノキシエチレンビ
ニルエーテル、ｐ−ブロモフェノキシエチレンビニルエ
ーテルなどのアリールビニルエーテル類、１，４−ベン
ゼンジメタノールジビニルエーテル、Ｎ−ｍ−クロロフ
ェニルジエタノールアミンジビニルエーテル、ｍ−フェ
ニレンビス（エチレングリコール）ジビニルエーテルな
どのアラルキルジビニルエーテル類、ウレタンポリビニ
ルエーテル（例えば、ＡＬＬＩＥＤ−ＳＩＧＮＡＬ社
製、ＶＥＣｔｏｍｅｒ２０１０）などをあげることがで
きる。

【００６９】スピロオルソエステル類としては、１，
４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、２−メチ
ル−１，４，６−トリオキサスピロ（４，４）ノナン、
１，４，６−トリオキサスピロ（４，５）デカンなど
が、ビシクロオルソエステル類としては、１−フェニル
−４−エチル−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，
２，２）オクタン、１−エチル−４−ヒドロキシメチル
−２，６，７−トリオキサビシクロ（２，２，２）オク
タンなどが、スピロオルソカーボネート類としては、
１，５，７，１１−テトラオキサスピロ（５，５）ウン
デカン、３，９−ジベンジル−１，５，７，１１−テト
ラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどのような環状
エーテル類があげられる。

【００７０】環状エーテル類としては、オキセタン、フ
ェニルオキセタンなどのオキセタン類、テトラヒドロフ
ラン、２−メチルテトラヒドロフランなどのテトラヒド
ロフラン類、テトラヒドロビラン、３−プロピルテトラ
ヒドロビランなどのテトラヒドロビラン類およびトリメ
チレンオキサイド、ｓ−トリオキサンなどがあげられ
る。ラクトン類としては、β−プロピオラクトン、γ−
ブチルラクトン、δ−カプロラクトン、δ−バレロラク
トンなどがあげられる。オキサゾリン類としては、オキ
サゾリン、２−フェニルオキサゾリン、２−デシルオキ
サゾリンなどがあげられる。

【００７１】アジリジン類としては、アジリジン、Ｎ−
エチルアジリジンなどがあげられる。シクロシロキサン
類としては、ヘキサメチルトリシロキサン、オクタメチ
ルシクロテトラシロキサン、トリフェニルトリメチルシ
クロトリシロキサンなどがあげられる。ケタール類とし
ては、１，３−ジオキソラン、１，３−ジオキサン、
２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン、２−フェニル
−１，３−ジオキサン、２，２−ジオクチル−１，３−
ジオキソランなどがあげられる。環状酸無水物類として
は、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水コハク酸など
が、ラクタム類としては、β−プロピオラクタム、γ−
ブチロラクタム、δ−カプロラクタムなどがあげられ
る。またアリールジアルデヒド類としては１，２−ベン
ゼンジカルボキシアルデヒド、１，２−ナフタレンジア
ルデヒドなどがあげられる。

【００７２】これらのものは単独でもまた２種類以上混
合しても一向にかまわないものである。

【００７３】これらの光カチオン重合性化合物１００重
量部に対して光増感剤[Ａ]は０．０１〜１０重量部の範
囲で用いるのが望ましく、好ましくは０．１〜５重量部
の範囲が望ましい。光増感剤が０．０１重量部未満にな
ると硬化性が低下し、一方１０重量部を超えると値段が
高くなったり耐水性等の塗膜性能が低下したりするので
好ましくない。

【００７４】光カチオン重合剤[Ｂ]はこれらの光カチオ
ン重合性化合物１００重量部当り、０．０１〜２０重量
部の範囲で用いるのが望ましく、好ましくは０．１〜１
０重量部の範囲が望ましい。光カチオン重合開始剤が
０．０１重量部未満になると硬化性が低下し、一方２０
重量部を超えると値段が高くなったり耐水性等の塗膜性
能が低下したりするので好ましくない。

【００７５】本発明の硬化性組成物には、必要に応じて
紫外線吸収剤を配合することができる。該紫外線吸収剤
とは、４００ｎｍ以下の紫外線を吸収する物質である。
このものとしては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベ
ンゾフェノン系が特に好ましい。具体的には、チヌビン
１４４、チヌビン２９２、チヌビン３２７、チヌビン７
７０、チヌビン９００（チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ社製品）、サイアソーブＵＶ５３１（American Cya
namid Corp.社製品）などがあげられる。また、その他
セリウム塩系、二酸化チタン系のものも使用できる。

【００７６】本発明の硬化性組成物は必要に応じて、上
記以外の樹脂、充填剤、着色剤、顔料、顔料分散剤、流
動調整剤、レベリング剤、消泡剤、光安定剤、酸化防止
剤、ゲル粒子、微粒子粉などを配合しても一向に差し支
えない。

【００７７】本発明の硬化性組成物は、金属、缶、プラ
スチック、紙、木質材、無機質材、ＰＥＴなどのフィル
ムおよびこれらの組合せなどの基材に適用することがで
きる。

【００７８】本発明の塗膜形成方法は、上記した基材の
表面に、上記活性エネルギー線硬化型組成物を塗布量が
硬化膜厚で１〜１００μｍになるように塗布し、次いで
活性エネルギー線を照射して硬化させることができる。

【００７９】本発明でいう活性エネルギー線とは、例え
ば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀
灯、白熱電球、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メ
タルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガ
リウムランプ、エキシマー、レーザー、電子線、γ線な
どが使用できる。

【００８０】

【実施例】実施例を掲げて更に詳細に述べる。

【００８１】実施例１ ９，１０−ジエトキシアントラセン１部、ビス（４−タ
ーシャリーブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオ
ロフォフフェート（ＢＢＩ−１０２、みどり化学社製
品）１部、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−
３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ユ
ニオンカーバイド社製品、ＵＶＲ−６１１０）１００部
を添加混合し、活性エネルギー線硬化組成物（Ｉ）を得
た。

【００８２】この組成物をブリキ板の上に塗装し、分光
照射を行なった。分光照射器は日本分光工業社製、ＣＲ
Ｍ−ＦＡを使用し、２００nm〜７００nmの光を照射して
この組成物の硬化範囲を調べた。この結果、分光感度は
２０５nm〜４５０nmまで得られた。

【００８３】９，１０−ジエトキシアントラセンを添加
していないものは、２３０nm〜３１０nmの分光感度であ
った。

【００８４】この組成物をガラス板に塗装し、メタルハ
ライドランプで２００mJ/cm²照射した。得られた塗膜の
ゲル分率は８７％で、鉛筆硬度は３−４Ｈで良好であっ
た。

【００８５】比較例１ 実施例１において９，１０−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例１と同様にして比較例１の
組成物を得た。このものは、２３０nm〜３１０nmの分光
感度であった。得られた塗膜のゲル分率７８％、鉛筆硬
度は２〜４Ｈで劣っていた。

【００８６】実施例２ エポキシ含有アクリル共重合体（スチレン／メチルメタ
クリレート／グリシジルメタクリレート／ヒドロキシエ
チルメタクリレート＝１５／１９／５０／１６、数平均
分子量４，０００、分子量１，０００当り３．５２のエ
ポキシ含有）２０部、ビス−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）アジペート（ユニオンカーバイド社製品、Ｕ
ＶＲ−６１２８）２０部、３，４−エポキシシクロヘキ
シルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキ
シレート（ダイセル化学工業社製品セロキサイト２０２
１Ｐ）４０部、リモネンジオキサイド２０部、光増感剤
として２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン
０．７部、光カチオン重合開始剤としてＵＶＩ−６９９
０（ユニオンカーバイド社製品、トリアリールスルフォ
ニウムヘキサフルオロフォスフェイト塩）５部、二酸化
チタン４０部を添加混合して白エナメル塗料（II）を得
た。

【００８７】この塗料をアルミニウム板にバーコーター
で厚さ１０μmとなるように塗装して分光照射を行なっ
た。分光感度は２３０nm〜４９５nmまで得られた。

【００８８】この白塗料組成物をテンフリースチール
（ＴＦＳ）の上にポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）フィルムをラミネートした基材の上に、厚さ８μm
となるようにロールコーターで塗装し、メタルハライド
ランプにより２５０mJ/cm²照射を行ない、塗膜の硬化を
行なった。

【００８９】得られた塗膜の鉛筆硬度は２Ｈで、ゲル分
率は８５％で良好であった。

【００９０】比較例２ 実施例２において２−エチル−９，１０−ジメトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例２と同様にし
て比較例２の組成物を得た。このものは、２３０nm〜３
７０nmの分光感度であった。得られた塗膜のゲル分率４
２％、鉛筆硬度は６Ｂ以下で劣っていた。

【００９１】実施例３ 光増感剤９，１０−ジエトキシアントラセン１．５部、
Ｐ，Ｐ′−ビス（（トリフェニルフォスホニノ）メチ
ル）ベンゾフェノンヘキサフルオロアンチモネート３
部、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−
エポキシシクロヘキサンカルボキシレート６０部、TONE
Polyol 0301（ユニオンカーバイド社製品、ε−カプロ
ラクトントリオール、ＯＨ価１００）１０部、アクリル
共重合体（スチレン／メチルメタクリレート／ｎ−ブチ
ルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタクリレート
／３／メタクリロキシメチル−３−エチルオキセタン＝
２０／１０／１５／１５／４０、数平均分子量４，２０
０、分子量１，０００当りオキセタン環２．３個含有）
１０部、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン１０部、二酸化チタン２０部を添
加、混合分散して白エナメル塗料を得た。

【００９２】この白エナメル塗料をアルミニウム板に厚
さ６μmとなるように塗装し、２００nm〜７００nmの波
長の光を分光照射して硬化性を調べた。

【００９３】この結果、２１０nm〜４７０nmまでの範囲
で塗膜は硬化した。

【００９４】この白エナメル塗料をポリカーボネート板
に厚さ２０μmとなるように塗装し、メタルハライドラ
ンプにより４００mJ/cm²照射した。得られた塗膜の鉛筆
硬度は４Ｈであった。

【００９５】比較例３ 実施例３において９，１０−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例３と同様にして比較例３の
組成物を得た。このものは、２１０nm〜３６０nmの分光
感度であった。得られた塗膜のゲル分率５５％、鉛筆硬
度は３Ｂで劣っていた。

【００９６】実施例４ ９，１０−ブトキシアントラセン１．５部、３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート８０部、ジエチレングリコー
ルジビニルエーテル２０部、ＰＩ−２８５５（日本曹達
社製、スルホニウム塩系光カチオン重合開始剤）５部、
二酸化チタンを５０部、添加混合分散して白エナメル塗
料（III)を得た。

【００９７】この白エナメル塗料（III)をブリキ板に塗
装して２００nm〜７００nmの波長の光を分光照射した。

【００９８】２１０nm〜５１０nmの光の波長の範囲で塗
膜の硬化が起こった。

【００９９】ガラス板にこの白エナメル塗料（III)をロ
ールコーターで厚さ１５μmとなるように塗装し、ガリ
ウムランプで３００mJ/cm²照射して塗膜を硬化させた。
鉛筆硬度は４Ｈで、ゲル分率は９０％であった。

【０１００】比較例４ 実施例４において９，１０−ブトキシアントラセンを添
加していない以外は実施例４と同様にして比較例４の組
成物を得た。このものは、２３０nm〜３４０nmの分光感
度であった。得られた塗膜のゲル分率３０％、鉛筆硬度
は６Ｂ以下で劣っていた。

【０１０１】実施例５ ２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン２部、
アクリル共重合体（グリシジルメタクリレート／３−メ
タクリロキシメチル−３−エチルオキセタン／スチレン
／ｎ−ブチルメタクリレート＝３０／３０／２７／１
３、数平均分子量４，０００、ガラス転移温度６８℃）
２０部、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
２０部、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリエトキシシラン２０部、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート３０部、キシリレンジオキセタン１０部、
ＤＡＩＣＡＴ−１１（ダイセル化学工業社製、スルホニ
ウム塩系光カチオン重合開始剤）４部を添加混合溶解
し、活性エネルギー線硬化組成物（Ｖ）を得た。

【０１０２】この塗料組成物（Ｖ）をアルミニウム板に
塗装し、２００nm〜７００nmの光を分光照射して塗膜を
硬化させた。

【０１０３】この塗料は２００nm〜５３０nmの範囲で塗
膜の硬化が起こった。

【０１０４】この塗料（Ｖ）をアルミニウム板に厚さ１
０μmとなるように塗装し、メタルハライドランプで、
１２０mJ/cm²照射した。得られた塗膜の鉛筆硬度は４Ｈ
であった。

【０１０５】比較例５ 実施例５において２−エチル−９，１０−ジエトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例５と同様にし
て比較例５の組成物を得た。このものは、２１０nm〜４
００nmの分光感度であった。得られた塗膜のゲル分率７
２％、鉛筆硬度はＨで劣っていた。

【０１０６】実施例６ ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート５０部、キシリレ
ンジオキセタン２０部、アクリル共重合体（３−メタク
リロオキシメチル−３−エチルオキセタン／３−アクリ
ロキシメチル−３−エチルオキセタン／３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチルメタクリレート／スチレン／メ
チルメタクリレート＝１０／２０／３０／２０／２０、
数平均分子量４，０００、Ｔｇ：７０℃）１５部、リモ
ネンジオキサイド１５部、光増感剤２−メチル−９，１
０−ジエトキシアントラセン１部、光カチオン重合開始
剤ＤＡＩＣＡＴ−１１（ダイセル化学工業社製、スルホ
ニウム系光カチオン重合開始剤）５部、二酸化チタン５
０部、紫外線吸収剤チヌビン２部を添加混合して白エナ
メル塗料（VI）を得た。

【０１０７】この白エナメル塗料（VI）をブリキ板に塗
装し、２００nm〜７００nmまで分光照射を行なった。３
５０nm〜５５０nmまでの波長で塗膜の硬化が得られた。

【０１０８】この白エナメル塗料（VI）をＡＢＳ樹脂に
厚さ２５μmとなるように塗装し、白熱電球で２分照射
した。得られた塗膜の鉛筆硬度は３Ｈ、ゲル分率９８％
であった。

【０１０９】比較例６ 実施例６において２−メチル−９，１０−ジエトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例６と同様にし
て比較例６の組成物を得た。このものは、３６０nm〜４
００nmの分光感度であった。この塗膜をタングステンラ
ンプで１０分間照射したが硬化せず劣っていた。

【０１１０】実施例７ ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポ
キシシクロヘキサンカルボキシレート８５部、キシリレ
ンジオキセタン１０部、TONE Polyol 0301 ５部、９，
１０−ジエトキシアントラセン２部、二酸化チタン３０
部、フタロシアニンブル０．５部を混合分散してうす青
色塗料を得た。

【０１１１】この塗料１００部に、ＵＶＲ−６１１０
（ユニオンカーバイド社製、光カチオン重合開始剤）２
部を混合分散して塗料（VII）を得た。

【０１１２】この塗料（VII）をブリキ板に塗り、２０
０nm〜７００nmまで分光照射を行なった。２５０nm〜５
３０nmまでの光の波長で塗膜の硬化が認められた。

【０１１３】この塗料をコート紙に厚さ１０μmとなる
ように塗布し、メタルハライドランプで３００mJ/cm²照
射した。得られた塗膜は外観、付着性とも良好であっ
た。

【０１１４】比較例７ 実施例７において９，１０−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例７と同様にして比較例７の
組成物を得た。このものは、３６０nm〜４００nmの分光
感度であった。得られた塗膜は下部の硬化が不十分であ
った。

【０１１５】実施例８ ２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン２部、
ＣＩ−２８５５（日本曹達社製、スルホニウム系光カチ
オン重合開始剤）５部、セロキサイト２０２１Ｐ（ダイ
セル化学工業社製、脂環式エポキシ化合物）１００部、
二酸化チタン５０部、紫外線吸収剤イアソーウムＵＶ−
５３１（American Cyanamid Corp.）２部を添加混合し
てディスパー分散して白エナメル塗料（VIII）を得た。

【０１１６】この白エナメル塗料（VIII）をプライマー
塗装したアルミニウム板に塗装し、２００nm〜７００nm
までの光の分光照射を行なった。３００nm〜５００nmま
での分光感度が得られた。

【０１１７】ポリカーボネート板に厚さ１５μmになる
ようにこの白エナメル塗料を塗装し、ガリウムメタルハ
ライドランプにより、４００mJ/cm²照射して塗料を硬化
させた。得られた塗膜は良好な仕上りで、付着性も良好
であった。

【０１１８】比較例８ 実施例８において９，１０−ジエトキシアントラセンを
添加していない以外は実施例８と同様にして比較例８の
組成物を得た。このものは、２５０nm〜３００nmまでし
か分光感度は得られなかった。また、実施例８と同様に
して光照射したが被膜は硬化しなかった。

【０１１９】実施例９ アクリル共重合体（スチレン／メチルメタクリレート／
ｎ−ブチルメタクリレート／２−エチルヘキシルメタク
リレート／３／メタクリロキシメチル−３−エチルオキ
セタン＝２０／１０／１５／１５／４０、数平均分子量
４，２００、分子量１，０００当りオキセタン環２．３
個含有）１０部、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオ
キセタン２０部、上記セロキサイト２０２１Ｐを７０
部、２−メチル−９，１０−ジエトキシアントラセン３
部、二酸化チタン３０部を混合分散して白エナメルを得
た。次いで得られた白エナメル１００部に上記ＤＡＣＡ
Ｔ−１１を５部を添加して白エナメル塗料（ＩＸ）を得
た。

【０１２０】基材にウレタンプライマー塗装、乾燥させ
た後、塗膜表面をサンデングした後、白エナメル塗料
（ＩＸ）を膜厚４０μｍになるように塗装し、タングス
テンランプで４分間照射した。 得られた塗膜は鉛筆硬
度３Ｈで仕上がり外観は良好であった。

【０１２１】比較例９ 実施例９において２−メチル−９，１０−ジエトキシア
ントラセンを添加していない以外は実施例９と同様にし
て比較例９の組成物を得た。実施例９と同様にして光照
射したが被膜は硬化しなかった。

【０１２２】実施例１０ アクリル共重合体（グリシジルメタクリレート／３−メ
タクリロキシメチル−３−エチルオキセタン／スチレン
／ｎ−ブチルメタクリレート＝３０／３０／２７／１
３、数平均分子量４，０００、ガラス転移温度６８℃）
１５部、３−エチル−３−（グリシジルオキシメチル）
オキセタン１５部、上記セロキサイト２０２１Ｐを６０
部、リモネンジオキサイド１０部、９，１０−ジエトキ
シアントラセン３部、炭酸カルシウム１０部、二酸化チ
タン１０部を混合分散して白エナメルを得た。次いで得
られた白エナメル１００部に上記ＤＡＣＡＴ−１１を３
部を添加して白エナメル塗料（Ｘ）を得た。

【０１２３】基材にメラミン硬化型アクリル樹脂プライ
マーを塗装、乾燥させた後、塗膜表面をサンデングした
後、白エナメル塗料（Ｘ）を膜厚６０μｍになるように
塗装し、タングステンランプで３分間照射した。 得ら
れた塗膜は鉛筆硬度３Ｈで仕上がり外観は良好であっ
た。

【０１２４】比較例１０ 実施例１０において９，１０−ジエトキシアントラセン
を添加していない以外は実施例１０と同様にして比較例
１０の組成物を得た。実施例１０と同様にして光照射し
たが被膜は硬化しなかった。

【０１２５】

【発明の効果】本発明組成物は特に光カチオン重合組成
物に特定の光増感剤を配合してなる組成物であることか
ら、顔料を含有するエナメルタイプにおいても光硬化性
に優れるといった顕著な効果を発揮するものである。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記成分 〔Ａ〕下記一般式（１）で表される光増感剤、 【化１】 （式中、Ｒ₁及びＲ₂はＣ₁〜Ｃ₈のアルキル基、Ｒ₃はそ
   れぞれ同一もしくは異なって水素原子又はＣ₁〜Ｃ₄のア
   ルキル基を示す） 〔Ｂ〕ヨードニウム塩、スルホニウム塩及びホスホニウ
   ム塩から選ばれる少なくとも１種の光カチオン重合開始
   剤及び 〔Ｃ〕光カチオン重合性化合物を必須成分として含有す
   る組成物であって、上記した[Ａ]、[Ｂ]及び[Ｃ]成分の
   配合割合が、〔Ｃ〕１００重量部当り〔Ａ〕０．０１〜
   ５重量部及び〔Ｂ〕０．１〜２０重量部の範囲であるこ
   とを特徴とする活性エネルギー線硬化型組成物。
2. 【請求項２】 上記硬化型組成物において、光増感剤
   [Ａ]が９，１０−ジメトキシアントラセンであることを
   特徴とする請求項１に記載の硬化型組成物。
3. 【請求項３】 上記硬化型組成物において、光増感剤
   [Ａ]が９，１０−ジエトキシアントラセンであることを
   特徴とする請求項１に記載の硬化型組成物。
4. 【請求項４】 上記硬化型組成物において、光増感剤
   [Ａ]が２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン
   であることを特徴とする請求項１に記載の硬化型組成
   物。
5. 【請求項５】 上記硬化型組成物において、光増感剤
   [Ａ]が２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン
   であることを特徴とする請求項１に記載の硬化型組成
   物。
6. 【請求項６】 上記硬化型組成物において、紫外線吸収
   剤[Ｄ]を配合してなることを特徴とする請求項１乃至５
   のいずれか１項に記載の硬化型組成物。
7. 【請求項７】 基材表面に、上記請求項１乃至６のいず
   れか１項に記載の活性エネルギー線硬化型組成物を塗布
   量が硬化膜厚で１〜１００ミクロンになるように塗布
   し、次いで活性エネルギー線を照射して硬化させること
   を特徴とする被膜形成方法。