WO2012053818A2 - 도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법 - Google Patents

도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
WO2012053818A2
WO2012053818A2 PCT/KR2011/007782 KR2011007782W WO2012053818A2 WO 2012053818 A2 WO2012053818 A2 WO 2012053818A2 KR 2011007782 W KR2011007782 W KR 2011007782W WO 2012053818 A2 WO2012053818 A2 WO 2012053818A2
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light absorbing
pattern
touch panel
total reflectance
substrate
Prior art date
Application number
PCT/KR2011/007782
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
WO2012053818A3 (ko
Inventor
황지영
황인석
전상기
이승헌
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
Priority to CN201180050714.8A priority Critical patent/CN103168285B/zh
Priority to JP2013534817A priority patent/JP5984310B2/ja
Priority to EP11834618.8A priority patent/EP2631751A4/en
Priority to US13/880,296 priority patent/US9946377B2/en
Publication of WO2012053818A2 publication Critical patent/WO2012053818A2/ko
Publication of WO2012053818A3 publication Critical patent/WO2012053818A3/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0018—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means for preventing ghost images
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/02—Viewing or reading apparatus
    • G02B27/021—Reading apparatus
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/02—Viewing or reading apparatus
    • G02B27/022—Viewing apparatus
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/003—Light absorbing elements
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0445—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using two or more layers of sensing electrodes, e.g. using two layers of electrodes separated by a dielectric layer
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices

Definitions

  • the present invention relates to a touch panel and a method of manufacturing the same. Specifically, the present invention relates to a touch panel including a conductive pattern and a manufacturing method thereof. More specifically, the present invention relates to a touch panel and a method of manufacturing the same to improve the concealability of the conductive pattern in configuring the touch panel using a conductive pattern.
  • a capacitive touch panel uses an ITO-based conductive film, but such an ITO is difficult to apply to a large area due to its low recognition speed due to its own RC delay when applied to a large area touch panel.
  • ITO In the case of manufacturing a touch screen using the deposited film, it is difficult to handle due to cracks due to bending of the ITO film.
  • many companies are developing a technology for replacing the ITO conductive film using a metal pattern.
  • An object of the present invention is to improve the visibility of the conductive pattern and the reflection characteristics of external light in a touch panel including a conductive pattern provided in an effective screen portion, which is different from a touch panel using a conventional ITO-based conductive film.
  • a conductive layer provided on at least one surface of the substrate; And a light absorbing layer provided on at least one surface of the conductive layer.
  • the present invention A conductive pattern provided on at least one surface of the substrate; And a structure provided on at least one surface of the conductive pattern and including a light absorbing pattern provided on at least a portion of a region corresponding to the conductive pattern.
  • the present invention provides a display including the touch panel and the display module.
  • the present invention is a transparent substrate; A conductive layer provided on at least one surface of the transparent substrate and including at least one of a metal, a metal alloy, a metal oxide, a metal nitride, and a metal oxynitride; And a light absorbing layer provided on at least one surface of the conductive layer, wherein the light absorbing layer is provided between the conductive layer and the transparent substrate, and the total reflectance measured on the transparent substrate side is 15% or less.
  • the present invention is a transparent substrate; It is provided on at least one surface of the transparent substrate, at least one metal selected from the group of metals consisting of aluminum, silver, copper, molybdenum, neodymium, nickel, and the like, an alloy of two or more metals selected from the metal group, Selected from the group consisting of an oxide comprising at least one metal selected from the metal group, a nitride comprising at least one metal selected from the metal group, and an oxynitride comprising at least one metal selected from the metal group.
  • a conductive pattern comprising at least one of which is; And a structure including a light absorbing pattern provided on at least one surface of the conductive pattern and provided in at least a portion of a region corresponding to the conductive pattern.
  • the touch panel including the conductive pattern provided in the effective screen portion by introducing a light absorbing pattern on the side facing the user, it is possible to prevent reflection by the conductive pattern without affecting the conductivity of the conductive pattern By improving the absorbance, the concealability of the conductive pattern can be improved.
  • the contrast characteristics of the touch panel may be further improved by introducing the light absorbing pattern as described above.
  • FIG. 1 to 3 illustrate a laminated structure of a substrate, a conductive pattern, and a light absorbing pattern included in a touch panel according to the present invention.
  • FIG. 4 illustrates a path of light in a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 illustrates a relationship between a light absorbing pattern and a line width of a conductive pattern in a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 and 7 illustrate a laminated structure when the touch panel according to the present invention has two or more laminates.
  • FIG. 8 shows a laminate according to Experimental Example 1.
  • FIG. 9 shows a laminate for measuring reflectance according to Experimental Example 6.
  • FIG. 10 illustrates a laminate for measuring reflectance according to Experimental Example 7.
  • FIG. 15 is a diagram showing the results of solar diffraction reflection patterns of the structure of Experimental Example 5.
  • FIG. 15 is a diagram showing the results of solar diffraction reflection patterns of the structure of Experimental Example 5.
  • 16 to 18 is a view showing the chromaticity (colority) and the total reflectance of the light absorbing layer of the structure according to an embodiment of the present invention.
  • Structures according to the invention are substrates; A conductive layer provided on at least one surface of the substrate; And a light absorbing layer provided on at least one surface of the conductive layer.
  • the light absorbing layer refers to a layer having light absorbency, and may be expressed in terms of not only the light absorbing layer but also a blackening layer and a darkening layer.
  • the total reflectance measured in the direction opposite to the surface of the light absorbing layer in contact with the conductive layer may be 15% or less, 10% or less, 5% or less, 3% or less. have.
  • the total reflectance refers to a reflectance of light of 550 nm incident on the surface to be measured at 90 degrees after treating the surface opposite to the surface to be measured with a perfect black layer.
  • the light absorbing layer is provided between the conductive layer and the substrate, the total reflectance measured on the substrate side may be 15% or less, 10% or less, 5% or less, 3 It may be less than or equal to%.
  • the light absorbing layer is provided on the opposite surface of the conductive layer in contact with the substrate, the total reflectance measured on the light absorbing layer side may be 15% or less, 10% or less, 5% It may be less than or equal to 3%.
  • the total reflectance of the light incident at 90 degrees to the plane to be measured is shown in FIGS. 16 to 18.
  • the 20 degree gloss value of the structure according to the present invention may be 350 or less, and may be 300 or less.
  • the 60 degree gloss value of the structure according to the present invention may be 300 or less, it may be 250 or less.
  • the 20 degree gloss value of the structure of the present invention according to FIG. 16 was 76, and the 60 degree gloss value was 112.
  • the 20 degree gloss value of the structure of the present invention according to FIG. 17 was 237, and the 60 degree gloss value was 197.
  • the 20 degree gloss value of the structure of the present invention according to FIG. 18 was 10, and the 60 degree gloss value was 64.
  • the color range of the structure according to the present invention may have an L value of 1 to 40 based on the CIE color coordinates. More specifically, the color range of the structure may have an L value of 30 to 40, 25 to 30, 16 to 25, 5 to 16, 1 to 5 days based on the CIE color coordinates Can be.
  • the color range of the light absorbing layer of the structure of the present invention according to FIG. 16 was 25 to 30 based on the CIE color coordinates
  • the color range of the light absorbing layer of the structure of the present invention according to FIG. 18 was based on the CIE color coordinates.
  • L value was 5-12.
  • the structure according to the present invention means not only a structure in which the substrate, the conductive layer and the light absorbing layer are laminated as separate layers, but also a multilayer structure in which the conductive layer and the light absorbing layer are sequentially deposited through a deposition process such as sputtering. Structures according to the invention can also be expressed in terms such as laminate, multilayer structure.
  • the touch panel according to the present invention is a substrate; A conductive pattern provided on at least one surface of the substrate; And a structure including a light absorbing pattern provided on at least one surface of the conductive pattern and provided in at least a portion of a region corresponding to the conductive pattern.
  • the touch panel including the conductive pattern provided in the effective screen portion it has been found that the light reflection by the conductive pattern has a major influence on the visibility of the conductive pattern, to improve it. Specifically, in the touch panel based on the existing ITO, the problem due to the reflectance of the conductive pattern did not appear much due to the high transmittance of the ITO itself, but in the touch panel including the conductive pattern provided in the effective screen part, It was found that reflectance and absorbance were important.
  • the light absorbing pattern may be provided on both sides of the touch panel, if necessary, on both sides of the touch panel, thereby improving concealment due to high reflectance of the conductive pattern.
  • the light absorbing pattern since the light absorbing pattern has light absorbency, the reflectance by the conductive pattern may be lowered by reducing the amount of light incident on the conductive pattern itself and the light reflected from the conductive pattern.
  • the light absorbing pattern has a lower reflectance than the conductive pattern. As a result, since the reflectance of light can be lowered as compared with the case where the user directly looks at the conductive pattern, the visibility of the conductive pattern can be greatly reduced.
  • the light absorbing pattern may be provided on a surface of the both sides of the conductive pattern opposite to the surface on which the display module is mounted.
  • the light absorbing pattern may be provided on both surfaces of the conductive pattern.
  • the total reflectance of the front layer composed of the material constituting the light absorbing pattern and the material constituting the conductive pattern is preferably smaller, and may be 15% or less, 10% or less, 5% or less, 3 It may be less than or equal to%.
  • a material having a high total reflectance such as Ag, Au or Al may not be suitable for the light absorbing pattern in the present invention. Smaller total reflectance is preferred, but from the viewpoint of material selection, a material having a total reflectance of at least 0.1% in the front layer may be used.
  • the light absorbing pattern includes a first surface in contact with the conductive pattern and a second surface facing the first surface, the second surface of the light absorbing pattern of the structure
  • the total reflectance Rt of the structure may be calculated by Equation 1 below.
  • Total reflectance (Rt) reflectance of the touch tempered glass (reflectivity of the film if the surface is a film) + closure rate ⁇ reflectance of the absorbance pattern
  • the total reflectance Rt of the structure may be calculated by Equation 2 below.
  • Total reflectance (Rt) reflectance of the touch tempered glass (reflectance of the film if the surface is a film) + closure rate ⁇ reflectance of the light absorbing pattern ⁇ 2
  • the difference between the case with and without the light absorbing pattern depends on the reflectance of the light absorbing pattern, and from this point of view, the difference is 10 compared to the total reflectance R0 of the structure having the same structure except that the light absorbing pattern is absent. ⁇ 20% reduced, 20-30% reduced, 30-40% reduced, 40-50% reduced, 50-70% reduced. That is, when changing the reflectance range from 1 to 30% while changing the closing rate range from 1 to 10% in Equations 1 and 2, the reflectance reduction effect may be up to 70%, and the reflectance decrease of at least 10%. Can be effective.
  • the light absorbing pattern includes a first surface in contact with the conductive pattern and a second surface facing the first surface, the second surface of the light absorbing pattern of the structure
  • the total reflectance Rt of the structure may be 40% or less, 30% or less, 20% or less, or 10% or less, which is different from the total reflectance (R0) of the substrate. have.
  • the touch panel further comprises a substrate provided on one side of the structure, when the total reflectance of the substrate with the structure is measured with the total reflectance of the substrate on the substrate side
  • the difference may be 90% or less, 70% or less, 30% or less, or 10% or less.
  • the total reflectance means the total reflectance of the touch sensor itself including the light absorbing pattern.
  • the total reflectance is preferably a value measured based on the value of the wavelength of 550 nm of the reflected light reflected by the target layer or the laminate into which the light is incident when the incident light is 100%, which is the total reflectance of the wavelength of 550 nm.
  • the material constituting the light absorbing pattern on the substrate is deposited by a method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a thermal evaporation method, an electron beam (e-beam) deposition method, or the like. After the light absorption layer is formed, the reflectance (550 nm) of visible light incident from the air side can be measured.
  • the substrate may be a transparent substrate, but is not particularly limited.
  • glass, a plastic substrate, a plastic film, or the like may be used.
  • the 20-degree gloss value of the structure may be 350 or less and 300 or less.
  • the 60 degree gloss value of the structure according to the present invention may be 300 or less, it may be 250 or less.
  • the color range of the structure may have an L value of 1 to 40 based on the CIE color coordinates. More specifically, the color range of the structure may have an L value of 30 to 40, 25 to 30, 16 to 25, 5 to 16, 1 to 5 days based on the CIE color coordinates Can be.
  • the haze value of the structure may be 5% or less, 3% or less, or 1.5% or less.
  • the light absorbing pattern may be provided between the conductive pattern and the substrate, and the light absorbing pattern may be provided on the opposite side of the substrate side of the conductive pattern.
  • the light absorbing pattern may be provided between the conductive pattern and the substrate, and on the opposite surface of the substrate side of the conductive pattern.
  • the absorbance of the front layer made of the material constituting the light absorbing pattern is not particularly limited, but may be 5% or more, 15% or more, and 20% or more.
  • the light transmittance of the front layer which consists of the material which comprises the said light absorbing pattern is not specifically limited.
  • the light absorbing pattern is formed by patterning the light absorbing layer by a deposition method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a thermal evaporation method, an electron beam (e-beam) deposition method, and the like. Can be formed.
  • a deposition method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a thermal evaporation method, an electron beam (e-beam) deposition method, and the like.
  • a deposition method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a thermal evaporation method, an electron beam (e-beam) deposition method, and the like.
  • a deposition method such as a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, a thermal evaporation method, an electron beam (e-beam) deposition method, and the like.
  • the interface adhesive force of the said light absorption pattern and another layer is excellent.
  • the light absorbing pattern can be directly formed on the substrate or the conductive pattern without using the adhesive layer or the adhesive layer, and the desired thickness and pattern shape can be realized.
  • Touch panel is a substrate; A conductive pattern provided on at least one surface of the substrate; And a structure including a light absorbing pattern provided on at least one surface of the conductive pattern and provided in a region corresponding to the conductive pattern.
  • an insulating layer may be provided between the two laminates.
  • the two laminates may be arranged in opposite directions or in the same direction.
  • the conductive pattern and the light absorbing pattern may be provided on both surfaces of the substrate, respectively.
  • FIGS. 1 to 3 Examples of the laminate included in the touch panel according to the present invention are illustrated in FIGS. 1 to 3.
  • 1 to 3 illustrate a stacking order of a substrate, a conductive pattern, and a light absorbing pattern, and the conductive pattern and the light absorbing pattern actually have a pattern shape, not a front layer.
  • the light absorbing pattern is disposed between the substrate and the conductive pattern. This can greatly reduce the total reflectance due to the conductive pattern when the user looks at the touch panel from the substrate side.
  • FIG. 2 the case where the said light absorbing pattern is arrange
  • part of the light incident on the light absorbing pattern is reflected at the interface between the air layer and the light absorbing pattern, part of the light is absorbed by the absorbing pattern, part of the light is reflected at the interface between the light absorbing pattern and the substrate, and part of the light Can transmit the light absorbing pattern.
  • the light absorbing pattern may be patterned simultaneously with or separately from the conductive pattern, but a layer for forming each pattern is formed separately.
  • a layer for forming each pattern is formed separately.
  • a separate pattern layer forms a laminated structure, and at least a part of the light absorbing material is recessed or dispersed in the conductive pattern, or a single layer conductive layer is surface treated. This is different from the structure in which part of the surface side is physically or chemically modified.
  • the light absorbing pattern is provided directly on the substrate or directly on the conductive pattern without interposing the adhesive layer or the adhesive layer.
  • the adhesive layer or adhesive layer may affect durability or optical properties.
  • the laminate included in the touch panel according to the present invention has a completely different manufacturing method compared with the case of using an adhesive layer or an adhesive layer.
  • the interface characteristic of a base material or an electroconductive pattern, and a light absorption pattern is excellent.
  • the thickness of the light absorbing pattern is not particularly limited as long as it has the total reflectance described above.
  • the preferred thickness may vary depending on the material and the manufacturing process used, the scope of the present invention It is not limited by the numerical range.
  • the light absorbing pattern may be formed of a single layer, or may be formed of two or more layers.
  • the light absorbing pattern has an achromatic color, but the present invention is not limited thereto.
  • the achromatic color means a color that appears when light incident on a surface of an object is not selectively absorbed and is evenly reflected and absorbed for the wavelength of each component.
  • the material of the said light absorbing pattern Preferably, if it is a material which has the total reflectance mentioned above when forming a front layer, it can use without a restriction
  • a light absorbing material provided with an antireflection function may be used.
  • the light absorbing pattern may be an oxide film, a nitride film, an oxide-nitride film, a carbide film, or a metal film formed by deposition conditions set by a person skilled in the art using Ni, Mo, Ti, Cr, Al, Cu, or the like, and these It can be a combination of.
  • the inventors have found that in the case of using Mo, Al or Cu, the case of nitride has a more suitable optical characteristic for the light absorbing pattern mentioned in the present invention than in the case of oxide.
  • the light absorbing pattern may include Ni and Mo at the same time.
  • the light absorbing pattern may include 50 to 98 atomic% of Ni and 2 to 50 atomic% of Mo, and may further include 0.01 to 10 atomic% of other metals such as Fe, Ta, Ti, and the like.
  • the light absorbing pattern may further include 0.01 to 30 atom% of nitrogen or 4 atom% or less of oxygen and carbon.
  • the light absorbing pattern is selected from among SiO, SiO 2 , MgF 2 and SiNx (x is an integer of 1 or more) and Fe, Co, Ti, V, Al, Cu, Au, and Ag.
  • the metal may be selected, and may further include an alloy of two or more metals selected from Fe, Co, Ti, V, Al, Cu, Au, and Ag.
  • the dielectric material is distributed such that it gradually decreases away from the direction in which external light is incident, and the metal and alloy components are distributed in the opposite direction. At this time, the content of the dielectric material is 20 to 50% by weight, the content of the metal is preferably 50 to 80% by weight.
  • the light absorbing pattern further includes an alloy
  • the light absorbing pattern preferably includes 10 to 30 wt% of a dielectric material, 50 to 80 wt% of a metal, and 5 to 40 wt% of an alloy.
  • the light absorbing pattern may be formed of a thin film including at least one of an alloy of nickel and vanadium, an oxide of nickel and vanadium, nitride, and oxynitride.
  • vanadium is preferably contained at 26 to 52 atomic%, and the atomic ratio of vanadium to nickel is preferably 26/74 to 52/48.
  • the light absorbing pattern may include a transition layer having two or more elements, and one elemental composition ratio increases by up to about 20% per 100 angstroms according to the direction in which external light is incident.
  • one element may be a metal element such as chromium, tungsten, tantalum, titanium, iron, nickel or molybdenum, and elements other than the metal element may be oxygen, nitrogen, or carbon.
  • the light absorbing pattern may include a first chromium oxide layer, a metal layer, a second chromium oxide layer, and a chromium mirror, wherein tungsten, vanadium, iron, chromium, molybdenum and It may include a metal selected from niobium.
  • the metal layer has a thickness of 10 to 30 nm
  • the first chromium oxide layer has a thickness of 35 to 41 nm
  • the second chromium oxide layer has a thickness of 37 to 42 nm.
  • the light absorbing pattern a laminated structure of an alumina (Al 2 O 3 ) layer, a chromium oxide (Cr 2 O 3 ) layer, and a chromium (Cr) layer may be used.
  • the alumina layer has an improvement in reflection characteristics and light diffusion prevention characteristics
  • the chromium oxide layer may improve contrast characteristics by reducing mirror reflectance.
  • the light absorbing pattern a laminated structure made of aluminum nitride (AlNx) and Al may be used.
  • AlNx aluminum nitride
  • AlNx aluminum nitride
  • the aluminum nitride (AlNx) layer may improve the contrast characteristics by reducing the reflectance of the entire layer.
  • the light absorbing pattern is provided between the substrate and the conductive pattern.
  • the light absorbing pattern is closest to the user. It is more preferable to arrange on the surface.
  • the light absorbing pattern is provided in a region corresponding to the conductive pattern.
  • the region corresponding to the conductive pattern means having a pattern having the same shape as the conductive pattern.
  • the pattern scale of the light absorbing pattern does not need to be exactly the same as the conductive pattern, and the case where the line width of the light absorbing pattern is narrower or wider than the line width of the conductive pattern is also included in the scope of the present invention.
  • the light absorbing pattern may have an area of 50% to 150% of the area provided with the conductive pattern.
  • the light absorbing pattern preferably has a pattern form having a line width equal to or larger than that of the conductive pattern.
  • the glossiness of the conductive pattern itself may be greater because the light absorbing pattern may give a greater effect of masking the conductive pattern when the user looks at it.
  • the line width of the light absorbing pattern is the same as the line width of the conductive pattern, the effect desired in the present invention can be achieved. It is preferable that the line width of the light absorbing pattern has a width larger than that of the conductive pattern by a value according to Equation 3 below.
  • Tcon is the thickness of the conductive pattern
  • ⁇ 3 is an angle formed by light from a normal to the surface of the substrate when light incident from a user's perspective of the touch panel passes through the edges of the conductive pattern and the light absorbing pattern.
  • Equation 3 is Snell's law based on the user's view of the touch panel and the angle of the substrate ( ⁇ 1 ) by the refractive index of the substrate and the medium of the region where the light absorbing pattern and the conductive pattern are disposed, for example, the refractive index of the adhesive of the touch panel. Along the angle.
  • the light absorbing pattern has a line width relative to the conductive pattern. In this case, it is preferable to be as large as about 2.24 ⁇ m (200 nm ⁇ tan (80) ⁇ 2). However, as described above, even when the light absorbing pattern has the same line width as the conductive pattern, the object desired in the present invention is achieved. can do. In order to form the structures of the light absorbing layer and the conductive layer described above, it can be applied by varying the etching conditions or deposition thickness according to those skilled in the art.
  • the material of the substrate may be appropriately selected according to the field to which the laminate according to the present invention is to be applied, and preferred examples thereof include glass or inorganic material substrates, plastic substrates or films, but are not limited thereto. no.
  • the material of the said electroconductive pattern is not specifically limited, It is preferable that it is a metal.
  • the material of the conductive pattern is preferably a material having excellent conductivity and easy etching. However, in general, a material having excellent conductivity has a disadvantage of high reflectance.
  • the conductive pattern can be formed using a material having high reflectance by using the light absorbing pattern. In the present invention, even when a material having a total reflectance of 70% to 80% or more is used, the reflectance can be lowered through the light absorbing pattern, the visibility of the conductive pattern can be lowered, and contrast characteristics can be maintained or improved.
  • the material of the conductive pattern As a specific example of the material of the conductive pattern, a single film or a multilayer film containing gold, silver, aluminum, copper, neodymium, molybdenum, nickel or an alloy thereof is preferable.
  • the thickness of the said conductive pattern is not specifically limited here, It is preferable that it is 0.01-10 micrometers from a viewpoint of the conductivity of a conductive pattern, and the economics of a formation process.
  • the resistivity measured by measuring a laminate made of a light absorbing layer material and a conductive layer material as one material is preferably between 1 ⁇ 10 6 ohm.cm and 30 ⁇ 10 6 ohm.cm. , 7 ⁇ 10 6 ohms.cm or less is more preferred.
  • the method of forming the conductive pattern is not particularly limited, and the conductive pattern may be formed by a direct printing method, or a method of patterning the conductive layer after forming the conductive layer may be used.
  • an ink or paste of a conductive material may be used, and the paste may further include a binder resin, a solvent, a glass frit, or the like, in addition to the conductive material.
  • a material having an etching resist property may be used.
  • the conductive layer may be formed by a method such as deposition, sputtering, wet coating, evaporation, electrolytic plating or electroless plating, lamination of metal foil, or the like.
  • a method of forming the conductive layer a method of applying conductivity by firing and / or drying after coating an organometallic, nanometal or a composite solution thereof on a substrate may be used.
  • Organic silver may be used as the organometal, and nano silver particles may be used as the nanometal.
  • Patterning of the conductive layer may use a method using an etching resist pattern.
  • the etch resist pattern can be formed using a printing method, a photolithography method, a photography method, a mask method, or laser transfer, for example, thermal transfer imaging, and the like. desirable.
  • the conductive pattern may be etched using the etching resist pattern, and the etching resist pattern may be removed.
  • the conductive pattern has a line width of 10 ⁇ m or less, preferably 0.1 to 10 ⁇ m, more preferably 0.2 to 8 ⁇ m, even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the thickness of the said conductive pattern is 10 micrometers or less, Preferably it is 2 micrometers or less, More preferably, it is 10-300 nm.
  • the opening ratio of the said conductive pattern is 85%-99.5%.
  • the conductive pattern may be a regular pattern or an irregular pattern.
  • a pattern form in the art such as a mesh pattern may be used.
  • the irregular pattern is not particularly limited, but may be in the form of a boundary line of figures constituting the Voronoi diagram.
  • the diffraction pattern of the reflected light due to the directional light may be removed by the irregular pattern, and the influence of light scattering may be minimized by the absorbance pattern. Therefore, the problem in visibility can be minimized.
  • the pitch of the conductive pattern is preferably 600 ⁇ m or less, and more preferably 270 ⁇ m or less, but it can be adjusted according to the transmittance and conductivity desired by those skilled in the art.
  • the structure including the substrate, the conductive pattern and the light absorbing pattern has a sheet resistance of 1 to 250 ohms / square. It is advantageous for the operation of the touch panel to be in such a range.
  • the light absorbing pattern and the conductive pattern may have a forward taper angle at the side, but the light absorbing pattern or the conductive pattern positioned on the opposite side of the substrate side of the conductive pattern may have an inverse taper angle. .
  • the touch panel according to the present invention may further include an additional structure in addition to the structure including the substrate, the conductive pattern, and the light absorbing pattern described above.
  • the two structures may be arranged in the same direction, or as shown in FIG. 7, the two structures may be arranged in the opposite directions.
  • 6 and 7 illustrate a case in which two structures having the same structure are included, the structure included in the touch panel of the present invention does not have to be the same structure, and only one of the structures closest to the user is preferable. It may be merely to include the substrate, the conductive pattern and the light absorbing pattern described above, and the additionally included structure may not include the light absorbing pattern.
  • the layer laminated structure in two or more structures may mutually differ. When two or more structures are included, an insulating layer may be provided between them. At this time, the insulating layer may be further provided with the function of the adhesive layer.
  • conductive patterns and light absorbing patterns may be provided on both surfaces of the substrate.
  • the total reflectance of the touch panel including the conductive pattern and the light absorbing pattern according to the present invention may be 10% or less, 7% or less, 5% or less, or 2% or less.
  • the total reflectance of the touch panel refers to the total reflectance of the light incident from the side provided with the light absorbing pattern, and excludes the reflectance at the interface between the substrate and the air layer.
  • the total reflectance of the entire structure is further adjusted by adjusting the reflectance at the interface between the conductive pattern and the light absorbing pattern, the thickness of the conductive pattern, and the shape of the pattern, as well as the reflectance control by the selection of the material constituting the light absorbing pattern. Can be.
  • the touch panel according to the present invention may further include an electrode part or a pad part in addition to the effective screen part having the conductive pattern formed on the structure.
  • the effective screen portion and the electrode portion / pad portion may be composed of the same conductor.
  • the touch panel according to the present invention may further include one or more films such as a protective film, a polarizing film, an antireflection film, an antiglare film, an anti-fingerprint film, a low reflection film, and the like.
  • films such as a protective film, a polarizing film, an antireflection film, an antiglare film, an anti-fingerprint film, a low reflection film, and the like.
  • the present invention provides a method of manufacturing a touch panel.
  • the present invention comprises the steps of forming a conductive pattern on a substrate; And forming a light absorbing pattern before, after, or before and after forming the conductive pattern.
  • forming a conductive layer for forming a conductive pattern on the substrate Depositing a light absorbing layer for forming a light absorbing pattern before, after, or after forming the conductive layer; And patterning each of the conductive layer and the light absorbing layer, respectively, or simultaneously.
  • the above-described materials and forming methods of the respective layers may be used.
  • the structure according to the present invention is a transparent substrate; A conductive layer provided on at least one surface of the transparent substrate and including at least one of a metal, a metal alloy, a metal oxide, a metal nitride, and a metal oxynitride; And a light absorbing layer provided on at least one surface of the conductive layer, wherein the light absorbing layer is provided between the conductive layer and the transparent substrate, and the total reflectance measured on the transparent substrate side is 15% or less.
  • the touch panel according to the present invention is a transparent substrate; It is provided on at least one surface of the transparent substrate, and at least one metal selected from the group of metals consisting of aluminum, silver, copper, molybdenum, neodymium and nickel, an alloy of two or more metals selected from the metal group, the metal Selected from the group consisting of an oxide comprising at least one metal selected from the group, a nitride comprising at least one metal selected from said metal group, and an oxynitride comprising at least one metal selected from said metal group.
  • a conductive pattern comprising at least one; And a structure including a light absorbing pattern provided on at least one surface of the conductive pattern and provided in at least a portion of a region corresponding to the conductive pattern.
  • the present invention provides a display including the touch panel and the display module.
  • the conductive layer was formed on it. Subsequently, a total blackening treatment was performed on the upper surface of the conductive layer to measure the total reflectance, and the total reflectance (Specular reflection / 550 nm) was measured by injecting visible light from the substrate. At this time, the reflectance was 6.1%.
  • the laminate according to Experimental Example 1 is shown in FIG. 8.
  • the conductive layer was formed using Al on it. Subsequently, a total blackening treatment was performed on the upper surface of the conductive layer to measure the total reflectance, and the total reflectance (Specular reflection / 550 nm) was measured by injecting visible light from the substrate. At this time, the reflectance was 2.1%.
  • the conductive layer was formed using Cu on it. Subsequently, a total blackening treatment was performed on the upper surface of the conductive layer to measure the total reflectance, and the total reflectance (Specular reflection / 550 nm) was measured by injecting visible light from the substrate. At this time, the reflectance was 6%.
  • the conductive layer was formed using Cu on it. Subsequently, a total blackening treatment was performed on the upper surface of the conductive layer to measure the total reflectance, and the total reflectance (Specular reflection / 550 nm) was measured by injecting visible light from the substrate. At this time, the reflectance was 3.1%.
  • the total reflectance of the substrate alone as used in Experimental Example 1 was measured.
  • the total reflectance of the substrate alone was subjected to the entire blackening treatment on one surface of the substrate, and the total reflectance (Specular reflection / 550 nm) was measured by injecting visible light onto the opposite surface.
  • the total reflectance of the substrate alone was 4.5%.
  • a reflectance measuring method according to Experimental Example 7 is illustrated in FIG. 10.
  • FIG. 11 shows total reflectances of the structures prepared in Experimental Example 1, Experimental Example 5, and Experimental Example 7.
  • FIG. 11 shows total reflectances of the structures prepared in Experimental Example 1, Experimental Example 5, and Experimental Example 7.
  • the conductive pattern in the touch panel including the conductive pattern provided in the effective screen portion, by introducing a light absorbing pattern on the side viewed by the user, the conductive pattern is not affected by the conductive pattern without affecting the conductivity of the conductive pattern.
  • the concealability of the conductive pattern can be improved.
  • the contrast characteristics of the touch panel may be further improved by introducing the light absorbing pattern as described above.
  • the microscopic reflection light measurement results of the structure of Experimental Example 1 are shown in FIG. 12, and the solar diffraction reflection pattern was observed and shown in FIG. 13.
  • the microscopic reflection light measurement results of the structure of Experimental Example 5 are shown in Figure 14, and the solar diffraction reflection pattern was observed in Figure 15 below.
  • the touch panel including the light absorbing pattern as shown in the present invention can be seen that the line is dark due to the light absorbing pattern when measured in the reflective mode through a microscope, and the reflection image of the point light source It can be seen that the intensity of the diffracted light is further weakened.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Manufacture Of Switches (AREA)

Abstract

본 발명은 기재; 상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴의 적어도 일 면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역 중 적어도 일부에 구비된 흡광성 패턴을 포함하는 구조체를 포함하는 터치패널과 그 제조방법에 관한 것이다.

Description

도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법
본 출원은 2010년 10월 19일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2010-0102109호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 터치패널 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 구체적으로는, 본 발명은 도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 도전성 패턴을 이용하여 터치패널을 구성하는 데 있어서 도전성 패턴의 은폐성이 향상된 터치패널 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 정전용량식 터치패널은 ITO 기반의 도전성 막을 사용하고 있으나, 이러한 ITO는 대면적 터치패널에 적용시 자체적인 RC 지연에 의하여 인식속도가 낮은 문제점으로 인하여 대면적에 적용하기 어렵다는 점과 함께 이를 증착한 필름(Film)을 이용하여 터치스크린 제작하는 경우 ITO 막의 벤딩(bending)에 의한 크랙(crack) 등으로 인하여 취급이 쉽지 않다는 단점을 지니고 있다. 이러한 부분 중 특히 RC 지연에 의한 대형화의 문제점을 극복하기 위하여 추가적인 보상 칩(chip)을 도입하는 시도가 이루어지고 있으나, 이는 가격이 상승되는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 극복하기 위하여, 많은 업체에서 금속 패턴을 이용하여 ITO 도전성 막을 대체하기 위한 기술을 개발 중이다. 그러나, 이러한 기술은 일반적인 단일 금속을 이용하는 경우 금속 자체의 높은 반사율로 인하여 시인성 측면에 있어서 패턴이 사람의 눈에 잘 인지되는 문제점과 함께 외부 광에 대하여 높은 반사율 및 헤이즈(Haze) 값 등으로 인하여 눈부심 등이 일어날 수 있다는 단점을 가지고 있다.
본 발명은 종래의 ITO 기반의 도전성 막을 사용한 터치패널과 차별화되는, 유효화면부에 구비된 도전성 패턴을 포함하는 터치패널에서 도전성 패턴의 시인성 및 외부광에 대한 반사 특성을 개선하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 기재; 상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 도전층; 및 상기 도전층의 적어도 일 면에 구비된 흡광층을 포함하는 구조체를 제공한다.
또한, 본 발명은 기재; 상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴의 적어도 일 면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역 중 적어도 일부에 구비된 흡광성 패턴을 포함하는 구조체를 포함하는 터치패널을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 터치패널 및 디스플레이 모듈을 포함하는 디스플레이를 제공한다.
또한, 본 발명은 투명 기재; 상기 투명 기재의 적어도 일 면에 구비되고, 금속, 금속 합금, 금속 산화물, 금속 질화물, 및 금속 산질화물 중 적어도 하나를 포함하는 도전층; 및 상기 도전층의 적어도 일 면에 구비된 흡광층을 포함하고, 상기 흡광층이 상기 도전층과 투명 기재 사이에 구비되며, 상기 투명 기재측에서 측정한 전반사율이 15% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체를 제공한다.
또한, 본 발명은 투명 기재; 상기 투명 기재의 적어도 일 면에 구비되고, 알루미늄, 은, 구리, 몰리브덴, 네오디윰 및 니켈 등으로 이루어진 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속, 상기 금속 군으로부터 선택되는 2종 이상의 금속의 합금, 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 질화물, 및 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산질화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴의 적어도 일면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역 중 적어도 일부에 구비된 흡광성 패턴을 포함하는 구조체를 포함하는 터치패널을 제공한다.
본 발명에서는 유효화면부에 구비된 도전성 패턴을 포함하는 터치패널에 있어서, 사용자가 바라보는 측에 흡광성 패턴을 도입함으로써, 도전성 패턴의 전도도에 영향을 미치지 않으면서도 도전성 패턴에 의한 반사를 방지하고, 흡광도를 향상함으로써 도전성 패턴의 은폐성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기와 같은 흡광성 패턴의 도입에 의하여 터치패널의 콘트라스트 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
도 1 내지 도 3은 본 발명에 따른 터치패널에 포함되는 기재, 도전성 패턴 및 흡광성 패턴의 적층 구조를 예시한 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시상태에 따른 터치패널에서의 광의 경로를 예시한 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시상태에 따른 터치패널에 있어서 흡광성 패턴과 도전성 패턴의 선폭의 관계를 예시한 것이다.
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 터치패널이 2 이상의 적층체를 갖는 경우의 적층 구조를 예시한 것이다.
도 8은 실험예 1에 따른 적층체를 도시한 것이다.
도 9는 실험예 6에 따라 반사율을 측정하기 위한 적층체를 도시한 것이다.
도 10은 실험예 7에 따라 반사율을 측정하기 위한 적층체를 도시한 것이다.
도 11은 실험예 1, 실험예 5 및 실험예 7에서 측정된 반사율을 나타낸 그래프이다.
도 12는 실험예 1의 구조체의 현미경 반사광 측정 결과를 나타낸 도이다.
도 13은 실험예 1의 구조체의 태양광 회절 반사 패턴 결과를 나타낸 도이다.
도 14는 실험예 5의 구조체의 현미경 반사광 측정 결과를 나타낸 도이다.
도 15는 실험예 5의 구조체의 태양광 회절 반사 패턴 결과를 나타낸 도이다.
도 16 내지 도 18은 본 발명의 일구체예에 따른 구조체의 흡광층의 색도(colority) 및 전반사율을 나타낸 도이다.
본 발명에 따른 구조체는 기재; 상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 도전층; 및 상기 도전층의 적어도 일 면에 구비된 흡광층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 상기 흡광층은 흡광성을 가지는 층을 의미하는 것으로서, 흡광층 뿐만 아니라 흑화층, 암색화층 등의 용어로 표현될 수도 있다.
본 발명에 따른 구조체에 있어서, 상기 흡광층의 상기 도전층과 접하는 면의 반대면 방향에서 측정한 전반사율이 15% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있으며, 5% 이하일 수 있고, 3% 이하일 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 전반사율은 측정하고자 하는 면의 반대면을 검은층(perfect black)으로 처리한 후, 측정하고자 하는 면에 90도로 입사한 550nm의 빛의 반사율을 의미한다.
본 발명에 따른 구조체에 있어서, 상기 흡광층이 상기 도전층과 기재 사이에 구비되고, 상기 기재측에서 측정한 전반사율이 15% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있으며, 5% 이하일 수 있고, 3% 이하일 수 있다.
본 발명에 따른 구조체에 있어서, 상기 도전층이 기재와 접하는 면의 반대면에 상기 흡광층이 구비되고, 상기 흡광층측에서 측정한 전반사율이 15% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있으며, 5% 이하일 수 있고, 3% 이하일 수 있다.
본 발명에 따른 구조체에 있어서, 상기 흡광층의 측정하고자 하는 면에 90도로 입사한 빛의 전반사율을 측정하여 하기 도 16 내지 18에 나타내었다.
하기 도 16 및 도 18에 나타낸 것과 같이, 550nm의 빛에 대한 전반사율이 15% 이하, 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 5% 이하, 더더욱 바람직하게는 3% 이하인 경우에, 흡광층의 역할을 충분하게 수행할 수 있음을 알 수 있다.
본 발명에 따른 구조체의 20도 글로스(gloss) 값이 350 이하일 수 있고, 300 이하일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 구조체의 60도 글로스(gloss) 값이 300 이하일 수 있고, 250 이하일 수 있다.
하기 도 16에 따른 본 발명의 구조체의 20도 글로스(gloss) 값은 76 이었고, 60도 글로스(gloss) 값은 112 이었다. 또한, 하기 도 17에 따른 본 발명의 구조체의 20도 글로스(gloss) 값은 237 이었고, 60도 글로스(gloss) 값은 197 이었다. 또한, 하기 도 18에 따른 본 발명의 구조체의 20도 글로스(gloss) 값은 10 이었고, 60도 글로스(gloss) 값은 64 이었다.
본 발명에 따른 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 1 ~ 40일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 30 ~ 40일 수 있고, 25 ~ 30일 수 있으며, 16 ~ 25일 수 있고, 5 ~ 16일 수 있고, 1 ~ 5일 수 있다.
하기 도 16에 따른 본 발명의 구조체의 흡광층의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 25 ~ 30 이었고, 하기 도 18에 따른 본 발명의 구조체의 흡광층의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 5 ~ 12 이었다.
본 발명에 따른 구조체는 상기 기재, 도전층 및 흡광층이 각각 별개의 층으로서 적층되는 구조뿐만 아니라, 상기 도전층 및 흡광층이 스퍼터링 등과 같은 증착공정을 통하여 순차적으로 증착된 다층 구조를 의미한다. 본 발명에 따른 구조체는 적층체, 다층구조체 등의 용어로도 표현될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 터치패널은 기재; 상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴의 적어도 일 면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역 중 적어도 일부에 구비된 흡광성 패턴을 포함하는 구조체를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에서는, 유효화면부에 구비된 도전성 패턴을 포함하는 터치패널에 있어서, 상기 도전성 패턴의 시인성에 상기 도전성 패턴에 의한 광반사가 주요한 영향을 미친다는 사실을 밝혀내었으며, 이를 개선하고자 하였다. 구체적으로, 기존 ITO를 기반으로 한 터치패널에서는 ITO 자체의 높은 투과도로 인하여 도전성 패턴의 반사율에 의한 문제가 그리 크게 나타나지 않았으나, 유효화면부 내에 구비된 도전성 패턴을 포함하는 터치패널에서는 상기 도전성 패턴의 반사율 및 흡광성이 중요하다는 것을 밝혀내었다.
이에, 본 발명에서는 터치패널에서 도전성 패턴의 반사율을 낮추어 은폐성을 향상시키기 위하여, 흡광성 패턴을 도입한 것을 특징으로 한다. 본 발명에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 터치패널에서 사용자가 바라보는 측, 필요한 경우 양측에 구비됨으로써 상기 도전성 패턴의 높은 반사율에 따른 은폐성을 향상시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 흡광성 패턴은 흡광성을 가지기 때문에 도전성 패턴 자체로 입사되는 빛과 도전성 패턴으로부터 반사되는 빛의 양을 감소시킴으로써 도전성 패턴에 의한 반사율을 낮출 수 있다. 또한, 상기 흡광성 패턴은 도전성 패턴에 비하여 낮은 반사율을 가지는 것이 바람직하다. 이에 의하여, 사용자가 직접 도전성 패턴을 바라보는 경우에 비하여 빛의 반사율을 낮출 수 있으므로, 도전성 패턴의 시인성을 크게 낮출 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 양면 중 디스플레이 모듈이 장착되는 면에 대향하는 면에 구비될 수 있다. 또한, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 양면에 구비될 수 있다.
상기 흡광성 패턴을 구성하는 재료와 도전성 패턴을 구성하는 재료로 이루어진 전면(全面) 층의 전반사율은 작을수록 바람직하며, 15% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있으며, 5% 이하일 수 있고, 3% 이하일 수 있다. Ag, Au 또는 Al과 같이 높은 전반사율을 지니는 물질은 본 발명에서의 흡광성 패턴에 적합하지 않은 물질이라 할 수 있다. 이러한 전반사율은 작을수록 바람직하지만, 물질 선택의 관점에서 전면 층에서의 전반사율이 0.1% 이상인 재료를 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 하기 수학식 1로 계산될 수 있다.
[수학식 1]
전반사율(Rt) = 터치 강화유리의 반사율(표면이 필름인 경우에는 필름의 반사율) + 폐쇄율 × 흡광성 패턴의 반사율
또한, 상기 터치패널의 구성이 구조체 2종이 라미네이션된 경우에는 구조체의 전반사율(Rt)는 하기 수학식 2로 계산될 수 있다.
[수학식 2]
전반사율(Rt) = 터치 강화유리의 반사율(표면이 필름인 경우에는 필름의 반사율) + 폐쇄율 × 흡광성 패턴의 반사율 × 2
따라서, 흡광성 패턴이 있는 경우와 없는 경우의 차이는 흡광성 패턴의 반사율에 의하여 의존하게 되고 이러한 관점에서 상기 흡광성 패턴이 없는 것을 제외하고 동일한 구성을 갖는 구조체의 전반사율(R0)에 비하여 10 ~ 20% 감소된 것일 수 있고, 20 ~ 30% 감소된 것일 수 있으며, 30 ~ 40% 감소된 것일 수 있고, 40 ~ 50% 감소된 것일 수 있으며, 50 ~ 70% 감소된 것일 수 있다. 즉, 상기 수학식 1 및 2에서 폐쇄율 범위를 1 ~ 10% 범위로 변화시키면서 반사율 범위를 1 ~ 30%까지 변화시키는 경우 최대 70%의 반사율 감소 효과를 나타낼 수 있고, 최소 10%의 반사율 감소 효과를 나타낼 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 기재의 전반사율(R0)과의 차이가 40% 이하일 수 있고, 30% 이하일 수 있으며, 20% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 터치패널은 상기 구조체의 일측에 구비된 기판을 더 포함하고, 상기 구조체가 구비된 기판의 전반사율을 상기 기판 측에서 측정하였을 때 상기 기판의 전반사율과의 차이가 90% 이하일 수 있고, 70% 이하일 수 있으며, 30% 이하일 수 있고, 10% 이하일 수 있다.
여기서, 상기 전반사율은 흡광성 패턴을 포함하는 터치센서 자체의 전반사율을 의미한다.
본 명세서에 있어서, 전반사율은 입사광을 100%로 하였을 때 광이 입사한 대상층 또는 적층체에 의하여 반사된 반사광 중 파장 550nm의 값을 기준으로 측정한 값이 바람직하며, 이는 550nm의 파장의 전반사율이 통상적으로 전체적인 전반사율과 크게 다르지 않기 때문이다. 예컨대, 기재 상에 상기 흡광성 패턴을 구성하는 재료를 증착법, 예컨대 스퍼터링 방법, CVD(chemical vapor deposition)법, 열증착(thermal evaporation)법, 전자빔(e-beam) 증착법 등의 방법을 이용하여 전면 흡광층을 형성한 후, 공기측으로부터 입사된 가시광선의 반사율(550nm)을 측정할 수 있다. 이 때, 상기 기재의 후면, 즉 상기 흡광층이 형성되지 않은 면에 전면 흑화처리를 실시함으로써, 기재 후면에서의 반사를 제거할 수 있다. 상기 기재로는 투명 기판을 사용할 수 있으나, 특별히 한정되지 않으며, 예컨대 유리, 플라스틱 기판, 플라스틱 필름 등을 사용할 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 구조체의 20도 글로스(gloss) 값이 350 이하일 수 있고, 300 이하일 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 구조체의 60도 글로스(gloss) 값이 300 이하일 수 있고, 250 이하일 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 1 ~ 40일 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 30 ~ 40일 수 있고, 25 ~ 30일 수 있으며, 16 ~ 25일 수 있고, 5 ~ 16일 수 있고, 1 ~ 5일 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 구조체의 헤이즈 값은 5% 이하일 수 있고, 3% 이하일 수 있으며, 1.5% 이하일 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 기재 사이에 구비될 수 있고, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 기재측의 반대면에 구비될 수 있다. 또한, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 기재 사이, 및 상기 도전성 패턴의 기재측의 반대면에 모두 구비될 수 있다.
상기 흡광성 패턴을 구성하는 재료로 이루어진 전면 층의 흡광도는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 5% 이상일 수 있고, 15% 이상일 수 있으며, 20% 이상일 수 있다.
또한, 상기 흡광성 패턴을 구성하는 재료로 이루어진 전면 층의 광 투과율은 특별히 한정되는 것은 아니다.
상기 흡광성 패턴은 증착법, 예컨대 스퍼터링 방법, CVD(chemical vapor deposition)법, 열증착(thermal evaporation)법, 전자빔(e-beam) 증착법 등의 방법을 이용하여 흡광층을 형성한 후 이를 패턴화함으로써 형성할 수 있다. 특히, 스퍼터링 방법을 이용하는 경우에는 흡광성 패턴의 플렉서블(flexible) 특성이 우수하다. 상기 열증착(thermal evaporation)법 및 전자빔(e-beam) 증착법은 단순히 입자들이 쌓이지만, 스퍼터링 방법은 충돌에 의하여 입자들이 핵을 형성하고, 핵이 성장하여 휘어도 기계적 물성이 우수한 특징이 있다. 또한, 상기 스퍼터링 방법을 이용하는 경우에는 상기 흡광성 패턴과 다른 층과의 계면 접착력이 우수하다. 상기와 같이 증착법을 이용함으로써, 점착층 또는 접착층의 이용 없이 기재 또는 도전성 패턴에 직접 흡광성 패턴을 형성할 수 있으며, 원하는 두께 및 패턴 형상을 구현할 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널은 기재; 상기 기재의 적어도 일 면 상에 구비된 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴의 적어도 일면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역에 구비된 흡광성 패턴을 포함하는 구조체를 추가로 포함할 수 있다.
여기서, 상기 2개의 적층체 사이에는 절연층이 구비될 수 있다. 또한, 상기 2개의 적층체는 서로 반대 방향 또는 같은 방향으로 배치될 수 있다. 상기 기재의 양면에 각각 상기 도전성 패턴 및 흡광성 패턴이 구비될 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널에 포함되는 적층체의 예를 도 1 내지 도 3에 예시하였다. 도 1 내지 도 3은 기재, 도전성 패턴 및 흡광성 패턴의 적층 순서를 예시하기 위한 것이며, 상기 도전성 패턴 및 상기 흡광성 패턴은 실제로는 전면 층이 아니라 패턴 형태를 갖는다.
도 1에 따르면, 상기 흡광성 패턴이 상기 기재와 상기 도전성 패턴 사이에 배치된 경우를 예시한 것이다. 이는 사용자가 기재측에서 터치패널을 바라보는 경우 도전성 패턴에 의한 전반사율을 크게 감소시킬 수 있다. 도 2에 따르면, 상기 흡광성 패턴이 상기 도전성 패턴의 기재측의 반대면에 배치된 경우를 예시한 것이다. 이는 사용자가 기재측의 반대면에서 터치패널을 바라보는 경우 도전성 패턴에 의한 전반사율을 크게 감소시킬 수 있다. 도 3에 따르면, 상기 흡광성 패턴이 상기 기재와 상기 도전성 패턴 사이와, 상기 도전성 패턴의 기재측의 반대면에 모두 배치된 경우를 예시한 것이다. 이는 사용자가 터치패널을 기재측에서 바라보는 경우와 그 반대측에서 바라보는 경우 모두 도전성 패턴에 의한 전반사율을 크게 감소시킬 수 있다.
도 4에 흡광성 패턴에 입사한 빛의 경로를 예시하였다. 흡광성 패턴으로 입사한 빛의 일부는 공기층과 흡광성 패턴의 계면에서 반사하고, 빛의 일부는 흡광성 패턴으로 흡수되며, 빛의 일부는 흡광성 패턴과 기재의 계면에서 반사하고, 빛의 일부는 흡광성 패턴을 투과할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 동시에 또는 별도로 패턴화될 수는 있으나, 각각의 패턴을 형성하기 위한 층은 별도로 형성된다. 이와 같이 패턴을 형성함으로써, 흡광층 패턴 자체의 효과를 최적화 및 최대화하면서, 정전용량식 터치패널에 요구되는 미세한 도전성 패턴을 구현할 수 있다. 정전용량식 터치패널에 있어서, 미세한 도전성 패턴을 구현하지 못하는 경우, 저항 등 터치패널에 요구되는 물성을 달성할 수 없다.
본 발명에 있어서, 상기 흡광성 패턴과 상기 도전성 패턴은 별도의 패턴층이 적층 구조를 이루는 점에서, 흡광물질의 적어도 일부가 도전성 패턴 내에 함몰 또는 분산되어 있는 구조나 단일층의 도전층이 표면처리에 의하여 표면측 일부가 물리적 또는 화학적 변형이 이루어진 구조와는 차별된다.
또한, 본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 접착층 또는 점착층을 개재하지 않고, 직접 상기 기재 상에 또는 직접 상기 도전성 패턴 상에 구비된다. 접착층 또는 점착층은 내구성이나 광학 물성에 영향을 미칠 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 터치패널에 포함되는 적층체는 접착층 또는 점착층을 이용하는 경우와 비교할 때 제조방법이 전혀 상이하다. 더욱이, 접착층이나 점착층을 이용하는 경우에 비하여, 본 발명에서는 기재 또는 도전성 패턴과 흡광성 패턴의 계면 특성이 우수하다.
본 발명에 있어서, 상기 흡광성 패턴의 두께는, 전술한 전반사율을 갖는다면, 특별히 한정되지 않는다. 다만, 제조공정 중 도전성 패턴과의 식각(etching) 특성을 고려하는 경우 10nm 내지 400nm 사이에서 선택하는 것이 바람직하지만, 사용하는 재료 및 제조공정에 따라 바람직한 두께는 상이할 수 있으며, 본 발명의 범위가 상기 수치범위에 의하여 한정되는 것은 아니다.
상기 흡광성 패턴은 단일층으로 이루어질 수도 있고, 2층 이상의 복수층으로 이루어질 수도 있다.
상기 흡광성 패턴은 무채색(無彩色) 계열의 색상을 띠는 것이 바람직하나 특별이 이에 한정되지는 않는다. 이 때, 무채색 계열의 색상이라 함은 물체의 표면에 입사(入射)하는 빛이 선택 흡수되지 않고, 각 성분의 파장(波長)에 대해 골고루 반사 흡수될 때에 나타나는 색을 의미한다.
상기 흡광성 패턴의 재료로서, 바람직하게는 전면 층을 형성했을 때 전술한 전반사율을 갖는 재료라면 특별히 제한되지 않고 사용할 수 있다. 예컨대, 컬러필터에 있어서 블랙매트릭스 재료로 사용되는 것들을 이용할 수 있다. 또한, 상기 흡광성 패턴의 재료로는 반사방지기능이 부여된 흡광성 재료를 사용할 수도 있다.
예컨대, 상기 흡광성 패턴은 Ni, Mo, Ti, Cr, Al, Cu 등을 이용하여 당업자가 설정한 증착 조건 등에 의하여 형성한 산화물막, 질화물막, 산화물-질화물막, 탄화물막 또는 금속막 및 이들의 조합일 수 있다. 본 발명자들은 Mo, Al 또는 Cu를 사용하는 경우에 있어서 산화물의 경우에 비하여 질화물의 경우가 본 발명에서 언급한 흡광성 패턴에 더욱 적합한 광학적 특성을 지님을 확인하였다.
구체적인 예로서, 상기 흡광성 패턴은 Ni 및 Mo를 동시에 포함할 수 있다. 상기 흡광성 패턴은 Ni 50 ~ 98 원자% 및 Mo 2 ~ 50 원자%를 포함할 수 있으며, 그외 금속, 예컨대 Fe, Ta, Ti 등의 원자를 0.01 ~ 10 원자%를 더 포함할 수 있다. 여기서, 상기 흡광성 패턴은, 필요한 경우, 질소 0.01 ~ 30 원자% 또는 산소 및 탄소 4 원자% 이하를 더 포함할 수도 있다.
또 하나의 구체적인 예로서, 상기 흡광성 패턴은 SiO, SiO2, MgF2 및 SiNx(x는 1 이상의 정수)에서 선택되는 유전성 물질 및 Fe, Co, Ti, V, Al, Cu, Au 및 Ag 중에서 선택되는 금속을 포함할 수 있으며, Fe, Co, Ti, V, Al, Cu, Au 및 Ag 중에서 선택되는 2원 이상의 금속의 합금을 더 포함할 수 있다. 상기 유전성 물질은 외부광이 입사되는 방향으로부터 멀어질수록 점차적으로 감소되도록 분포되어 있고, 상기 금속 및 합금 성분은 그 반대로 분포되어 있는 것이 바람직하다. 이 때, 상기 유전성 물질의 함량은 20 ~ 50 중량%, 상기 금속의 함량은 50 ~ 80 중량%인 것이 바람직하다. 상기 흡광성 패턴이 합금을 더 포함하는 경우, 상기 흡광성 패턴은 유전성 물질 10 ~ 30 중량%, 금속 50 ~ 80 중량% 및 합금 5 ~ 40 중량%를 포함하는 것이 바람직하다.
또 하나의 구체적인 예로서, 상기 흡광성 패턴은 니켈과 바나듐의 합금, 니켈과 바나듐의 산화물, 질화물 또는 산질화물 중 어느 하나 이상을 포함하는 박막으로 이루어질 수 있다. 이 때, 바나듐은 26 ~ 52 원자%로 함유되는 것이 바람직하며, 니켈에 대한 바나듐의 원자비는 26/74 ~ 52/48인 것이 바람직하다.
또 하나의 구체적인 예로서, 상기 흡광성 패턴은 2 이상의 원소를 갖고, 하나의 원소 조성비율이 외광이 입사하는 방향에 따라 100 옴스트롬당 최대 약 20%씩 증가하는 천이층을 포함할 수 있다. 이 때, 하나의 원소는 크롬, 텅스텐, 탄탈, 티탄, 철, 니켈 또는 몰리브덴과 같은 금속 원소일 수 있으며, 금속 원소 이외의 원소는 산소, 질소 또는 탄소일 수 있다.
또 하나의 구체적인 예로서, 상기 흡광성 패턴은 제1 산화크롬층, 금속층, 제2 산화크롬층 및 크롬 미러를 포함할 수 있으며, 이 때 크롬을 대신하여 텅스텐, 바나듐, 철, 크롬, 몰리브덴 및 니오븀 중에서 선택된 금속을 포함할 수 있다. 상기 금속층은 10 ~ 30nm의 두께, 상기 제1 산화크롬층은 35 ~ 41nm의 두께, 상기 제2 산화크롬층은 37 ~ 42nm의 두께를 갖는 것이 바람직하다.
또 하나의 구체적인 예로서, 상기 흡광성 패턴으로는 알루미나(Al2O3)층, 크롬산화물(Cr2O3)층 및 크롬(Cr)층의 적층 구조를 사용할 수 있다. 여기서, 상기 알루미나층은 반사 특성의 개선 및 광확산 방지특성을 갖고, 상기 크롬산화물층은 경면 반사율을 감소시켜 콘트라스트 특성을 향상시킬 수 있다.
또 하나의 구체적인 예로서, 상기 흡광성 패턴으로는 알루미늄 나이트라이드(AlNx) 및 Al으로 이루어진 적층 구조를 사용할 수 있다. 여기서, 상기 알루미늄 나이트라이드(AlNx)층은 전체 층의 반사율을 감소시켜 콘트라스트 특성을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 기재와 도전성 패턴 사이에 구비되는 것이 바람직하나, 터치패널의 구성에 있어서 사용자가 바라보는 면이 기재면이 아닌 다른 면을 통하여 바라보게 될 경우 사용자와 최인접한 면에 배치되는 것이 더욱 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역에 구비된다. 여기서 도전성 패턴에 대응되는 영역이라 함은 상기 도전성 패턴과 동일한 형상의 패턴을 가지는 것을 의미한다. 다만, 흡광성 패턴의 패턴 규모가 상기 도전성 패턴과 완전히 동일한 필요는 없으며, 흡광성 패턴의 선폭이 도전성 패턴의 선폭에 비하여 좁거나 넓은 경우도 본 발명의 범위에 포함된다. 예컨대, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴이 구비된 면적의 50% 내지 150%의 면적을 가지는 것이 바람직하다.
상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 선폭과 동일하거나 큰 선폭을 갖는 패턴 형태를 가지는 것이 바람직하다.
상기 흡광성 패턴이 상기 도전성 패턴의 선폭보다 더 큰 선폭을 갖는 패턴 형상을 갖는 경우, 사용자가 바라볼 때 흡광성 패턴이 도전성 패턴을 가려주는 효과를 더 크게 부여할 수 있으므로, 도전성 패턴 자체의 광택이나 반사에 의한 효과를 효율적으로 차단할 수 있다는 장점이 있다. 그러나, 상기 흡광성 패턴의 선폭이 상기 도전성 패턴의 선폭과 동일하여도 본 발명에 목적하는 효과를 달성할 수 있다. 상기 흡광성 패턴의 선폭은 도전성 패턴의 선폭보다 하기 수학식 3에 따른 값만큼 더 큰 폭을 지니는 것이 바람직하다.
[수학식 3]
Tcon × tangent Θ 3 × 2
상기 수학식 3에 있어서,
Tcon는 도전성 패턴의 두께이고,
Θ 3 는 터치패널의 사용자의 시각이 위치한 곳으로부터 입사한 광이 상기 도전성 패턴 및 상기 흡광성 패턴의 모서리를 통과할 때, 광이 기재 표면에 대한 법선과 이루는 각이다.
예컨대, 도 1과 같은 적층 구조에 있어서, 상기 수학식 3에 의한 계산식은 도 5에 도시하였다. Θ 3 는 터치패널의 사용자의 시각과 기재가 이루는 각(Θ 1 )이 기재의 굴절율 및 상기 흡광성 패턴과 도전성 패턴이 배치된 영역의 매질, 예컨대 터치패널의 점착제의 굴절율에 의하여 스넬의 법칙에 따라 변화된 각이다.
한 예로, 바라보는 사람이 Θ 3 의 값이 약 80도의 각을 이루도록 상기 적층체를 바라본다고 가정하고, 도전성 패턴의 두께가 약 200nm이라 가정하면, 흡광성 패턴이 도전성 패턴 대비 선폭이 측면을 기준으로 할 때 약 2.24㎛(200nm × tan(80) × 2) 만큼 큰 것이 바람직하다 그러나, 앞서 기술한 바와 같이 흡광성 패턴이 도전성 패턴과 동일한 선폭을 갖는 경우에도 본 발명에서 목적으로 하는 효과를 달성할 수 있다. 앞서 기술한 흡광층과 도전층의 구조를 형성하기 위하여 당 업자에 따라 에칭조건 혹은 증착 두께등을 달리함으로써 이를 적용할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 기재의 재료는 본 발명에 따른 적층체를 적용하고자 하는 분야에 따라 적절하게 선택될 수 있으며, 바람직한 예로는 유리 또는 무기 재료 기판, 플라스틱 기판 또는 필름 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 도전성 패턴의 재료는 특별히 한정되지 않지만, 금속인 것이 바람직하다. 상기 도전성 패턴의 재료는 전도도가 우수하고, 식각(etching)이 용이한 재료일수록 바람직하다. 다만, 일반적으로 전도도가 우수한 재료는 반사율이 높은 단점이 있다. 그러나, 본 발명에서는 상기 흡광성 패턴을 사용함으로써 반사율이 높은 재료를 이용하여 도전성 패턴을 형성할 수 있다. 본 발명에서는 전반사율이 70% ~ 80% 이상인 재료를 이용하는 경우에도, 상기 흡광성 패턴을 통하여 반사율을 낮추고, 도전성 패턴의 시인성을 낮추며, 콘트라스트 특성을 유지 또는 향상시킬 수 있다.
상기 도전성 패턴의 재료의 구체적인 예로는 금, 은, 알루미늄, 구리, 네오디윰, 몰리브덴, 니켈 또는 이들의 합금을 포함하는 단일막 또는 다층막이 바람직하다. 여기서, 상기 도전성 패턴의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 0.01 ~ 10㎛인 것이 도전성 패턴의 전도도 및 형성 공정의 경제성 측면에서 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따라 흡광층 재료와 도전층 재료로 이루어진 적층재를 하나의 재료로 보고 측정한 비저항 값은 1 × 106 옴.cm 내지 30 × 106 옴.cm 사이인 것이 바람직하며, 7 × 106 옴.cm 이하인 것이 더욱 바람직하다.
상기 도전성 패턴의 형성방법으로는 특별히 한정되지 않으며, 도전성 패턴을 직접 인쇄방법에 의하여 형성할 수도 있고, 도전층을 형성한 후 이를 패턴화하는 방법을 이용할 수 있다.
상기 도전성 패턴을 인쇄방법에 의하여 형성하는 경우, 도전성 재료의 잉크 혹은 페이스트를 이용할 수 있으며, 상기 페이스트는 도전성 재료 이외에, 바인더 수지, 용매 또는 글래스 프릿 등을 더 포함할 수도 있다.
도전층을 형성한 후 이를 패턴화하는 경우 에칭 레지스트(Etching resist) 특성을 갖는 재료를 이용할 수 있다.
상기 도전층은 증착, 스퍼터링, 습식 코팅, 증발, 전해 도금 또는 무전해 도금, 금속박의 라미네이션 등의 방법에 의하여 형성할 수 있다. 상기 도전층의 형성 방법으로서 유기금속, 나노금속 또는 이들의 복합체 용액을 기판상에 코팅한 후, 소성 및/또는 건조에 의하여 전도도를 부여하는 방법을 이용할 수도 있다. 상기 유기금속으로는 유기은을 사용할 수 있으며, 상기 나노금속으로는 나노 은 입자 등을 사용할 수 있다.
상기 도전층의 패턴화는 에칭 레지스트 패턴을 이용한 방법을 이용할 수 있다. 에칭 레지스트 패턴은 인쇄법, 포토리소그래피법, 포토그래피법, 마스크를 이용한 방법 또는 레이져 전사, 예컨대, 열 전사 이미징(thermal transfer imaging) 등을 이용하여 형성할 수 있으며, 인쇄법 또는 포토리소그래피법이 더욱 바람직하다. 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 도전성 패턴을 에칭하고, 상기 에칭 레지스트 패턴은 제거할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 도전성 패턴은 선폭이 10㎛ 이하, 바람직하게는 0.1 내지 10㎛, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 8㎛, 더더욱 바람직하게는 5㎛ 이하인 것이 좋다. 상기 도전성 패턴의 두께는 10㎛ 이하, 바람직하게는 2㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 10 ~ 300nm인 것이 좋다.
상기 도전성 패턴의 개구율은 85% 내지 99.5%인 것이 바람직하다.
상기 도전성 패턴은 규칙적 패턴일 수도 있고, 불규칙적인 패턴일 수도 있다.
규칙적인 패턴으로는 메쉬 패턴 등 당 기술분야의 패턴 형태가 사용될 수 있다. 불규칙 패턴으로는 특별히 한정되지 않으나, 보로노이 다이어그램을 이루는 도형들의 경계선 형태일 수도 있다. 본 발명에서 불규칙 패턴과 흡광성 패턴을 함께 사용하는 경우, 불규칙 패턴에 의하여 지향성이 있는 조명에 의한 반사광의 회절 패턴을 제거할 수도 있고, 흡광성 패턴에 의하여 빛의 산란에 의한 영향을 최소화할 수 있어 시인성에 있어서의 문제점을 최소화 할 수 있다.
상기 도전성 패턴의 피치는 600㎛ 이하인 것이 바람직하고, 270㎛ 이하가 더욱 바람직하나, 이는 당업자가 원하는 투과도 및 전도도에 따라 조정할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 기재, 상기 도전성 패턴 및 상기 흡광성 패턴을 포함하는 구조체는 면저항이 1 내지 250 오옴/스퀘어인 것이 바람직하다. 이와 같은 범위 내인 것이 터치패널의 작동에 유리하다.
본 발명에 있어서, 상기 흡광성 패턴과 상기 도전성 패턴은 그 측면이 순 테이퍼각을 가질 수 있으나, 도전성 패턴의 기재측 반대면 상에 위치하는 흡광성 패턴 또는 도전성 패턴은 역테이퍼각을 가질 수도 있다.
본 발명에 따른 터치패널은 전술한 기재, 도전성 패턴 및 흡광성 패턴을 포함하는 구조체 이외에 추가의 구조체를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 도 6과 같이 2개의 구조체가 서로 같은 방향으로 배치될 수도 있으며, 도 7과 같이 2개의 구조체가 서로 반대 방향으로 배치될 수도 있다. 도 6 및 도 7은 동일한 구조의 구조체를 2개 포함한 경우를 예시하였으나, 본 발명의 터치패널에 포함되는 구조체는 동일한 구조일 필요는 없으며, 어느 하나, 바람직하게는 사용자에 가장 가까운 측의 구조체만 전술한 기재, 도전성 패턴 및 흡광성 패턴을 포함하는 것이기만 해도 좋으며, 추가로 포함되는 구조체는 흡광성 패턴을 포함하지 않아도 좋다. 또한, 2개 이상의 구조체 내의 층 적층 구조가 서로 상이해도 좋다. 2개 이상의 구조체가 포함되는 경우 이들 사이에는 절연층이 구비될 수 있다. 이 때, 절연층은 점착층의 기능이 추가로 부여될 수도 있다.
또한, 본 발명에 따른 터치패널에 있어서, 상기 기재의 양면에 각각 도전성 패턴 및 흡광성 패턴이 구비될 수 있다.
본 발명에 따른 도전성 패턴 및 흡광성 패턴을 포함하는 구조체로 구성된 터치패널의 전반사율은 10% 이하일 수 있고, 7% 이하일 수 있으며, 5% 이하일 수 있고, 2% 이하일 수 있다.
여기서 터치패널의 전반사율은 흡광성 패턴이 구비된 측으로부터 입사한 광의 전반사율을 의미하며, 기재와 공기층의 계면에서의 반사율은 제외한 값이다. 흡광성 패턴을 구성하는 재료의 선택에 의한 반사율 조절뿐만 아니라, 도전성 패턴과 흡광성 패턴의 계면에서의 반사율, 도전성 패턴의 두께, 패턴의 형태 등의 조절을 통하여 구조체 전체의 전반사율이 추가로 조절될 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널은 상기 구조체 상에 상기 도전성 패턴이 형성된 유효화면부 이외에 전극부 또는 패드부를 추가로 포함할 수 있으며. 이 때 유효화면부와 전극부 / 패드부는 동일한 전도체로 구성될 수 있다.
본 발명에 따른 터치패널은 보호필름, 편광필름, 반사방지필름, 눈부심방지필름, 내지문성필름, 저반사필름 등의 필름을 1종 이상 추가로 포함할 수 있다.
또한, 본 발명은 터치패널의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 하나의 실시상태에 따르면, 본 발명은 기재 상에 도전성 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 도전성 패턴 형성 전, 후 또는 전과 후 모두 흡광성 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 터치패널의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 또 하나의 실시상태에 따르면, 기재 상에 도전성 패턴 형성용 도전층을 형성하는 단계; 상기 도전층 형성 전, 후 또는 전과 후 모두 흡광성 패턴 형성용 흡광층을 증착하는 단계; 및 상기 도전층 및 상기 흡광층을 각각 또는 동시에 패터닝하는 단계를 포함하는 정전용량식 터치패널의 제조방법을 제공한다.
상기 제조방법에서는 전술한 각 층의 재료 및 형성방법이 사용될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 구조체는 투명 기재; 상기 투명 기재의 적어도 일 면에 구비되고, 금속, 금속 합금, 금속 산화물, 금속 질화물, 및 금속 산질화물 중 적어도 하나를 포함하는 도전층; 및 상기 도전층의 적어도 일 면에 구비된 흡광층을 포함하고, 상기 흡광층이 상기 도전층과 투명 기재 사이에 구비되며, 상기 투명 기재측에서 측정한 전반사율이 15% 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 터치패널은 투명 기재; 상기 투명 기재의 적어도 일 면에 구비되고, 알루미늄, 은, 구리, 몰리브덴, 네오디윰 및 니켈로 이루어진 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속, 상기 금속 군으로부터 선택되는 2종 이상의 금속의 합금, 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 질화물, 및 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산질화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 도전성 패턴; 및 상기 도전성 패턴의 적어도 일면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역 중 적어도 일부에 구비된 흡광성 패턴을 포함하는 구조체를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 터치패널 및 디스플레이 모듈을 포함하는 디스플레이를 제공한다.
이하 실시예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며, 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
<실험예 1>
기재상에 Mo계 산질화물을 이용하여 형성한 흡광층을 형성한 후, 그 위에 Cu를 이용하여 도전층을 형성하였다. 이어서, 전반사율 측정을 위하여 상기 도전층의 상면에 전면 흑화처리를 실시하고, 상기 기재로부터 가시광선을 입사시켜 전반사율(Specular reflection / 550nm)을 측정하였다. 이 때, 반사율은 6.1%이었다. 실험예 1에 따른 적층체를 도 8에 도시하였다.
<실험예 2>
기재상에 Al계 산질화물을 이용하여 형성한 흡광층을 형성한 후, 그 위에 Al을 이용하여 도전층을 형성하였다. 이어서, 전반사율 측정을 위하여 상기 도전층의 상면에 전면 흑화처리를 실시하고, 상기 기재로부터 가시광선을 입사시켜 전반사율(Specular reflection / 550nm)을 측정하였다. 이 때, 반사율은 2.1%이었다.
<실험예 3>
기재상에 Cu계 산질화물을 이용하여 형성한 흡광층을 형성한 후, 그 위에 Cu를 이용하여 도전층을 형성하였다. 이어서, 전반사율 측정을 위하여 상기 도전층의 상면에 전면 흑화처리를 실시하고, 상기 기재로부터 가시광선을 입사시켜 전반사율(Specular reflection / 550nm)을 측정하였다. 이 때, 반사율은 6%이었다.
<실험예 4>
기재상에 Al계 산질화물을 이용하여 형성한 흡광층을 형성한 후, 그 위에 Cu를 이용하여 도전층을 형성하였다. 이어서, 전반사율 측정을 위하여 상기 도전층의 상면에 전면 흑화처리를 실시하고, 상기 기재로부터 가시광선을 입사시켜 전반사율(Specular reflection / 550nm)을 측정하였다. 이 때, 반사율은 3.1%이었다.
<실험예 5>
흡광층을 형성하지 않은 것을 제외하고는 상기 실험예 1과 동일하게 실시하였다. 이 때, 기재의 후면에 전면 흑화처리를 실시하고, 상기 도전층 측으로 가시광선을 입사시켜 전반사율(Specular reflection/ 550nm)를 측정하였다. 이 때, 반사율은 49.9% 이었다.
<실험예 6>
상기 실험예 1과 같이 제조된 구조체에 있어서, 사용자가 흡광층 측이 아닌, 도전층 측을 바라보는 경우의 전반사율을 측정하였다. 이를 위하여, 기재의 후면에 전면 흑화처리를 실시하고, 상기 도전층 측으로 가시광선을 입사시켜 전반사율(Specular reflection / 550nm)를 측정하였다. 이 때, 전반사율은 49.9% 이었다. 실험예 6에 따른 전반사율 측정방법을 도 9에 도시하였다.
<실험예 7>
상기 실험예 1에서 사용된 것과 같은 기재 단독의 전반사율을 측정하였다. 상기 기재 단독의 전반사율은 기재의 일면에 전면 흑화처리를 실시하고, 그 반대면으로 가시광선을 입사시켜 전반사율(Specular reflection / 550nm)을 측정하였다. 기재 단독의 전반사율은 4.5% 이었다. 실험예 7에 따른 반사율 측정방법을 도 10에 도시하였다.
실험예 1, 실험예 5 및 실험예 7에서 제조된 구조체의 전반사율을 도 11에 도시하였다.
상기와 같이, 본 발명에서는 유효화면부에 구비된 도전성 패턴을 포함하는 터치패널에 있어서, 사용자가 바라보는 측에 흡광성 패턴을 도입함으로써, 도전성 패턴의 전도도에 영향을 미치지 않으면서도 도전성 패턴에 의한 반사를 방지하고, 흡광도를 향상함으로써 도전성 패턴의 은폐성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기와 같은 흡광성 패턴의 도입에 의하여 터치패널의 콘트라스트 특성을 더욱 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 실험예 1의 구조체의 현미경 반사광 측정 결과를 하기 도 12에 나타내었고, 태양광 회절 반사 패턴을 관찰하여 하기 도 13에 나타내었다. 또한, 상기 실험예 5의 구조체의 현미경 반사광 측정 결과를 하기 도14에 나타내었고, 태양광 회절 반사 패턴을 관찰하여 하기 도 15에 나타내었다.
또한, 상기 실험예 2의 구조체의 흡광층의 색도(colority) 및 전반사율을 하기 도 18에 나타내었고, 상기 실험예 3의 구조체의 흡광층의 색도(colority) 및 전반사율을 하기 도 16에 나타내었다. 또한, 상기 실험예 4의 구조체의 흡광층의 색도(colority) 및 전반사율은 하기 도 18과 유사하게 나타났다.
하기 도 12 내지 18의 결과와 같이, 본 발명과 같이 흡광성 패턴을 포함하는 터치패널은 현미경을 통하여 반사모드로 측정시 흡광성 패턴에 의하여 선이 어둡게 보임을 확인할 수 있으며, 점광원의 반사이미지에서는 회절광의 강도가 더욱 약화되어 나타남을 확인할 수 있다.

Claims (71)

  1. 기재;
    상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 도전층; 및
    상기 도전층의 적어도 일 면에 구비된 흡광층
    을 포함하는 구조체.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층의 상기 도전층과 접하는 면의 반대면 방향에서 측정한 전반사율이 15% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층의 상기 도전층과 접하는 면의 반대면 방향에서 측정한 전반사율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층의 상기 도전층과 접하는 면의 반대면 방향에서 측정한 전반사율이 5% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층의 상기 도전층과 접하는 면의 반대면 방향에서 측정한 전반사율이 3% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층이 상기 도전층과 기재 사이에 구비되고, 상기 기재측에서 측정한 전반사율이 15% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층이 상기 도전층과 기재 사이에 구비되고, 상기 기재측에서 측정한 전반사율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층이 상기 도전층과 기재 사이에 구비되고, 상기 기재측에서 측정한 전반사율이 5% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층이 상기 도전층과 기재 사이에 구비되고, 상기 기재측에서 측정한 전반사율이 3% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 도전층이 기재와 접하는 면의 반대면에 상기 흡광층이 구비되고, 상기 흡광층 측에서 측정한 전반사율이 15% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  11. 청구항 1에 있어서, 상기 도전층이 기재와 접하는 면의 반대면에 상기 흡광층이 구비되고, 상기 흡광층 측에서 측정한 전반사율이 10% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  12. 청구항 1에 있어서, 상기 도전층이 기재와 접하는 면의 반대면에 상기 흡광층이 구비되고, 상기 흡광층 측에서 측정한 전반사율이 5% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  13. 청구항 1에 있어서, 상기 도전층이 기재와 접하는 면의 반대면에 상기 흡광층이 구비되고, 상기 흡광층 측에서 측정한 전반사율이 3% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  14. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 20도 글로스(gloss) 값이 350 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  15. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 20도 글로스(gloss) 값이 300 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  16. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 60도 글로스(gloss) 값이 300 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  17. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 60도 글로스(gloss) 값이 250 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  18. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 30 ~ 40인 것을 특징으로 하는 구조체.
  19. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 25 ~ 30인 것을 특징으로 하는 구조체.
  20. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 16 ~ 25인 것을 특징으로 하는 구조체.
  21. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 5 ~ 16인 것을 특징으로 하는 구조체.
  22. 청구항 1에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 1 ~ 5인 것을 특징으로 하는 구조체.
  23. 청구항 1에 있어서, 상기 흡광층은 유전성 물질, 금속, 금속의 합금, 금속의 산화물, 금속의 질화물, 금속의 산질화물 및 금속의 탄화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 구조체.
  24. 청구항 23에 있어서, 상기 금속은 Ni, Mo, Ti, Cr, Al, Cu, Fe, Co, Ti, V, Au 및 Ag로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 구조체.
  25. 기재;
    상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 도전성 패턴; 및
    상기 도전성 패턴의 적어도 일 면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역 중 적어도 일부에 구비된 흡광성 패턴
    을 포함하는 구조체를 포함하는 터치패널.
  26. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 양면 중 디스플레이 모듈이 장착되는 면에 대향하는 면에 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  27. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 양면에 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  28. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 흡광성 패턴이 없는 것을 제외하고 동일한 구성을 갖는 구조체의 전반사율(R0)에 비하여 10 ~ 20% 감소된 것을 특징으로 하는 터치패널.
  29. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 흡광성 패턴이 없는 것을 제외하고 동일한 구성을 갖는 구조체의 전반사율(R0)에 비하여 20 ~ 30% 감소된 것을 특징으로 하는 터치패널.
  30. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 흡광성 패턴이 없는 것을 제외하고 동일한 구성을 갖는 구조체의 전반사율(R0)에 비하여 30 ~ 40% 감소된 것을 특징으로 하는 터치패널.
  31. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 흡광성 패턴이 없는 것을 제외하고 동일한 구성을 갖는 구조체의 전반사율(R0)에 비하여 40 ~ 50% 감소된 것을 특징으로 하는 터치패널.
  32. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 흡광성 패턴이 없는 것을 제외하고 동일한 구성을 갖는 구조체의 전반사율(R0)에 비하여 50 ~ 70% 감소된 것을 특징으로 하는 터치패널.
  33. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 기재의 전반사율(R0)과의 차이가 40% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  34. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 기재의 전반사율(R0)과의 차이가 30% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  35. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 기재의 전반사율(R0)과의 차이가 20% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  36. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 접하는 제1면 및 상기 제1면에 대향하는 제2면을 포함하고, 상기 흡광성 패턴의 제2면 측에서 상기 구조체의 전반사율을 측정하였을 때, 상기 구조체의 전반사율(Rt)은 상기 기재의 전반사율(R0)과의 차이가 10% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  37. 청구항 25에 있어서, 상기 터치패널은 상기 구조체의 일측에 구비된 기판을 더 포함하고, 상기 구조체가 구비된 기판의 전반사율을 상기 기판 측에서 측정하였을 때 상기 기판의 전반사율과의 차이가 90% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  38. 청구항 25에 있어서, 상기 터치패널은 상기 구조체의 일측에 구비된 기판을 더 포함하고, 상기 구조체가 구비된 기판의 전반사율을 상기 기판 측에서 측정하였을 때 상기 기판의 전반사율과의 차이가 70% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  39. 청구항 25에 있어서, 상기 터치패널은 상기 구조체의 일측에 구비된 기판을 더 포함하고, 상기 구조체가 구비된 기판의 전반사율을 상기 기판 측에서 측정하였을 때 상기 기판의 전반사율과의 차이가 30% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  40. 청구항 25에 있어서, 상기 터치패널은 상기 구조체의 일측에 구비된 기판을 더 포함하고, 상기 구조체가 구비된 기판의 전반사율을 상기 기판 측에서 측정하였을 때 상기 기판의 전반사율과의 차이가 10% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  41. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 20도 글로스(gloss) 값이 350 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  42. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 20도 글로스(gloss) 값이 300 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  43. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 60도 글로스(gloss) 값이 300 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  44. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 60도 글로스(gloss) 값이 250 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  45. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 30 ~ 40인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  46. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 25 ~ 30인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  47. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 16 ~ 25인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  48. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 5 ~ 16인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  49. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 색상범위는 CIE 색좌표를 기준으로 L 값이 1 ~ 5인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  50. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 헤이즈 값은 5% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  51. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 헤이즈 값은 3% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  52. 청구항 25에 있어서, 상기 구조체의 헤이즈 값은 1.5% 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  53. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 기재 사이에 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  54. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 기재측의 반대면에 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  55. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴과 기재 사이, 및 상기 도전성 패턴의 기재측의 반대면에 모두 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  56. 청구항 25에 있어서, 기재, 상기 기재의 적어도 일 면 상에 구비된 도전성 패턴, 및 상기 도전성 패턴의 적어도 일면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역에 구비된 흡광성 패턴을 포함하는 적층체를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  57. 청구항 56에 있어서, 상기 2개의 적층체 사이에 절연층이 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  58. 청구항 56에 있어서, 상기 2개의 적층체는 서로 반대 방향 또는 같은 방향으로 배치되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  59. 청구항 25에 있어서, 상기 기재의 양면에 각각 상기 도전성 패턴 및 흡광성 패턴이 구비되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  60. 청구항 25에 있어서, 상기 도전성 패턴은 불규칙 패턴 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  61. 청구항 60에 있어서, 상기 도전성 패턴은 보로노이 다이어그램을 이루는 도형들의 경계선 형태인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  62. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 상기 도전성 패턴의 선폭과 동일하거나 큰 선폭을 갖는 패턴 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  63. 청구항 25에 있어서, 상기 도전성 패턴의 선폭은 10㎛ 이하, 두께는 2㎛ 이하 및 피치는 600㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  64. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 증착법에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  65. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴 및 상기 도전성 패턴은 증착법에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  66. 청구항 25에 있어서, 상기 적층체의 도전성 패턴 중 전기적으로 연결된 도전성 패턴의 면저항이 0.5 내지 200 오옴/스퀘어인 것을 특징으로 하는 터치패널.
  67. 청구항 25에 있어서, 상기 흡광성 패턴은 유전성 물질, 금속, 금속의 합금, 금속의 산화물, 금속의 질화물, 금속의 산질화물 및 금속의 탄화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  68. 청구항 67에 있어서, 상기 금속은 Ni, Mo, Ti, Cr, Al, Cu, Fe, Co, Ti, V, Au 및 Ag로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
  69. 청구항 25에 따른 터치패널 및 디스플레이 모듈을 포함하는 디스플레이.
  70. 투명 기재;
    상기 투명 기재의 적어도 일 면에 구비되고, 금속, 금속 합금, 금속 산화물, 금속 질화물 및 금속 산질화물 중 적어도 하나를 포함하는 도전층; 및
    상기 도전층의 적어도 일 면에 구비된 흡광층을 포함하고,
    상기 흡광층이 상기 도전층과 투명 기재 사이에 구비되며,
    상기 투명 기재측에서 측정한 전반사율이 15% 이하인 것을 특징으로 하는 구조체.
  71. 투명 기재;
    상기 투명 기재의 적어도 일 면에 구비되고, 알루미늄, 은, 구리, 네오디윰 및 니켈로 이루어진 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속, 상기 금속 군으로부터 선택되는 2종 이상의 금속의 합금, 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산화물, 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 질화물, 및 상기 금속 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는 산질화물로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 포함하는 도전성 패턴; 및
    상기 도전성 패턴의 적어도 일면에 구비되고, 상기 도전성 패턴에 대응되는 영역 중 적어도 일부에 구비된 흡광성 패턴
    을 포함하는 구조체를 포함하는 터치패널.
PCT/KR2011/007782 2010-10-19 2011-10-19 도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법 WO2012053818A2 (ko)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201180050714.8A CN103168285B (zh) 2010-10-19 2011-10-19 包括导电图形的触摸面板及其制备方法
JP2013534817A JP5984310B2 (ja) 2010-10-19 2011-10-19 導電性パターンを含む構造体、タッチパネル及びディスプレイ
EP11834618.8A EP2631751A4 (en) 2010-10-19 2011-10-19 TOUCH SCREEN COMPRISING AN ELECTROCONDUCTIVE PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
US13/880,296 US9946377B2 (en) 2010-10-19 2011-10-19 Structured body with conducting and light absorption layers

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20100102109 2010-10-19
KR10-2010-0102109 2010-10-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
WO2012053818A2 true WO2012053818A2 (ko) 2012-04-26
WO2012053818A3 WO2012053818A3 (ko) 2012-07-26

Family

ID=45975726

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2011/007782 WO2012053818A2 (ko) 2010-10-19 2011-10-19 도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9946377B2 (ko)
EP (1) EP2631751A4 (ko)
JP (2) JP5984310B2 (ko)
KR (2) KR101380102B1 (ko)
CN (1) CN103168285B (ko)
TW (1) TWI432115B (ko)
WO (1) WO2012053818A2 (ko)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130121336A (ko) * 2012-04-27 2013-11-06 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
JP2014106701A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Kyocera Corp 電子機器及び組立方法
CN104584143A (zh) * 2012-08-31 2015-04-29 Lg化学株式会社 导电结构和制造该导电结构的方法
JP2015515707A (ja) * 2013-03-30 2015-05-28 深▲ゼン▼欧菲光科技股▲フン▼有限公司 導電性フィルム及びその製造方法ならびに該導電性フィルムを含むタッチスクリーン
JP2015515705A (ja) * 2013-03-30 2015-05-28 深▲ゼン▼欧菲光科技股▲フン▼有限公司 タッチスクリーン
JP2015518616A (ja) * 2013-03-30 2015-07-02 深▲ゼン▼欧菲光科技股▲フン▼有限公司 導電性フィルム及びその製造方法ならびに該導電性フィルムを含むタッチスクリーン
US20150212244A1 (en) * 2012-08-31 2015-07-30 Lg Chem, Ltd. Metal structure and method for manufacturing same
WO2016024760A1 (ko) * 2014-08-14 2016-02-18 엘지이노텍 주식회사 터치윈도우
JP2016533562A (ja) * 2013-10-04 2016-10-27 プランゼー エスエー タッチセンサ装置
JP2016537740A (ja) * 2013-09-05 2016-12-01 アップル インコーポレイテッド 電子装置のための不透明なカラー積層体
JP2017126387A (ja) * 2017-04-26 2017-07-20 大日本印刷株式会社 タッチパネル基板、及び表示装置

Families Citing this family (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8449818B2 (en) 2010-06-30 2013-05-28 H. C. Starck, Inc. Molybdenum containing targets
US8449817B2 (en) * 2010-06-30 2013-05-28 H.C. Stark, Inc. Molybdenum-containing targets comprising three metal elements
KR101224282B1 (ko) * 2011-03-04 2013-01-21 주식회사 엘지화학 전도성 구조체 및 이의 제조방법
US9766652B2 (en) 2012-08-31 2017-09-19 Lg Chem, Ltd. Conductive structure and method for manufacturing same
KR101976637B1 (ko) * 2012-10-11 2019-05-10 엘지이노텍 주식회사 터치 패널 및 이의 제조방법
TW201447393A (zh) * 2013-06-06 2014-12-16 Wintek Corp 基板結構以及包含其的觸控面板
CN105359069B (zh) * 2013-07-03 2019-12-10 阿莫善斯有限公司 用于触屏板的触摸感应器、其制造方法及由其构成的触屏板
CN104345932B (zh) * 2013-07-29 2017-07-14 和鑫光电股份有限公司 触控面板
CN104345941B (zh) * 2013-07-31 2018-05-18 林志忠 触控基板及其制造方法
JP6394064B2 (ja) * 2013-08-13 2018-09-26 大同特殊鋼株式会社 Ｃｕ合金ターゲット用材料、Ｃｕ合金ターゲット、Ｃｕ合金膜及びタッチパネル
TWI653349B (zh) * 2013-08-13 2019-03-11 日商大同特殊鋼股份有限公司 Ｃｕ合金靶用材料、Ｃｕ合金靶、Ｃｕ合金膜及觸控面板
US9727178B2 (en) 2013-09-05 2017-08-08 Apple Inc. Opaque white coating with non-conductive mirror
KR101598084B1 (ko) * 2013-09-27 2016-02-26 주식회사 엘지화학 도전성 패턴 형성용 조성물, 이를 사용한 도전성 패턴 형성 방법과, 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체
JP6153028B2 (ja) * 2013-10-17 2017-06-28 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 タッチパネル、およびタッチパネルの製造方法
CN104571673A (zh) * 2013-10-18 2015-04-29 胜华科技股份有限公司 触控面板
EP2908227B1 (en) 2013-10-30 2020-03-25 LG Chem, Ltd. Conductive film, manufacturing method thereof, and display device including same
TWI567237B (zh) * 2013-11-12 2017-01-21 神戶製鋼所股份有限公司 電極及其製造方法
KR101633846B1 (ko) 2013-11-25 2016-06-27 주식회사 엘지화학 도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체
TWI509484B (zh) * 2013-12-13 2015-11-21 J Touch Corp 觸控面板裝置與其電極結構
KR101416438B1 (ko) * 2013-12-17 2014-07-10 와이엠티 주식회사 메탈 메쉬, 이를 이용한 터치 스크린 센서 및 이의 제조방법
JP6274559B2 (ja) * 2013-12-26 2018-02-07 大日本印刷株式会社 フィルムセンサ、タッチ位置検出機能付き表示装置、およびフィルムセンサを作製するための積層体
CN104750291A (zh) * 2013-12-27 2015-07-01 群创光电股份有限公司 显示面板
JP6225720B2 (ja) * 2014-01-24 2017-11-08 住友金属鉱山株式会社 積層透明導電性基板、積層透明導電性基板の製造方法
CN106062618B (zh) * 2014-02-28 2019-04-16 凸版印刷株式会社 液晶显示装置
WO2015129057A1 (ja) * 2014-02-28 2015-09-03 凸版印刷株式会社 液晶表示装置
JP6230476B2 (ja) 2014-04-25 2017-11-15 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料のパターン形成方法
TWI595507B (zh) 2014-06-18 2017-08-11 Geomatec Co Ltd Laminates, methods of making the same, and electronic machines
JP6159688B2 (ja) 2014-06-25 2017-07-05 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
EP3168719B1 (en) 2014-07-10 2019-03-20 Toppan Printing Co., Ltd. Black electrode substrate, production method for black electrode substrate, and display device
EP2977202A1 (fr) * 2014-07-25 2016-01-27 AGC Glass Europe Vitrage chauffant
WO2016012325A1 (fr) * 2014-07-25 2016-01-28 Agc Glass Europe Panneau de verre décoratif
JP6157424B2 (ja) * 2014-07-30 2017-07-05 株式会社コベルコ科研 電極およびその製造方法
KR102142844B1 (ko) 2014-09-05 2020-08-10 도판 인사츠 가부시키가이샤 액정 표시 장치 및 표시 장치용 기판
CN106687896A (zh) 2014-09-12 2017-05-17 保力马科技(日本)株式会社 传感片及传感面板
CN106662950A (zh) * 2014-09-24 2017-05-10 株式会社Lg化学 导电结构及其制造方法
JP6384267B2 (ja) * 2014-10-24 2018-09-05 大同特殊鋼株式会社 積層体
WO2016067943A1 (ja) * 2014-10-29 2016-05-06 住友金属鉱山株式会社 積層体フィルムと電極基板フィルムおよびこれ等の製造方法
US10527938B2 (en) 2014-11-05 2020-01-07 Nissha Co., Ltd. Method for producing electrical wiring member and electrical wiring member
JP6041922B2 (ja) * 2015-03-27 2016-12-14 日本写真印刷株式会社 電気装置の製造方法、および電気装置
CN104375704B (zh) * 2014-11-13 2017-12-19 蓝思科技（长沙）有限公司 Uv菲林感应器、其制备方法及触控屏
JP6441046B2 (ja) * 2014-11-26 2018-12-19 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
JP6541030B2 (ja) * 2014-11-27 2019-07-10 大日本印刷株式会社 透視性電極、タッチパネル、およびタッチ位置検出機能付き表示装置
WO2016088488A1 (ja) * 2014-12-05 2016-06-09 凸版印刷株式会社 表示装置基板、表示装置基板の製造方法、及び、これを用いた表示装置
JP6595762B2 (ja) * 2014-12-19 2019-10-23 住友金属鉱山株式会社 導電性基板、および導電性基板の製造方法
CN107197627A (zh) 2015-02-10 2017-09-22 株式会社Lg化学 导电结构体及其制造方法
PT3264233T (pt) 2015-02-25 2019-05-24 Toppan Printing Co Ltd Corpo laminado condutivo para painel tátil e método para fabrico de corpo laminado condutivo para painel tátil
KR101849449B1 (ko) * 2015-02-26 2018-04-17 주식회사 엘지화학 전도성 구조체 및 이의 제조방법
JP6404153B2 (ja) 2015-03-19 2018-10-10 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
KR101940757B1 (ko) * 2015-03-25 2019-01-22 주식회사 엘지화학 전도성 구조체 및 이의 제조방법
WO2016152581A1 (ja) * 2015-03-25 2016-09-29 株式会社アルバック 透明導電性基板及び透明積層構造体
KR20160115588A (ko) * 2015-03-27 2016-10-06 주식회사 엘지화학 디스플레이 장치 및 이의 제조방법
US11926558B2 (en) 2015-03-27 2024-03-12 Lg Chem Ltd. Conductive structure, manufacturing method therefor, and electrode comprising conductive structure
KR102350296B1 (ko) * 2015-04-16 2022-01-17 삼성디스플레이 주식회사 유기발광표시장치 및 그 제조방법
WO2017086216A1 (ja) 2015-11-17 2017-05-26 三菱製紙株式会社 光透過性導電材料
JP6692631B2 (ja) * 2015-11-30 2020-05-13 株式会社ジャパンディスプレイ センサ付き表示装置及びセンサ装置
KR102127545B1 (ko) * 2015-12-07 2020-06-29 주식회사 엘지화학 전도성 구조체, 이의 제조방법 및 전도성 구조체를 포함하는 전극
JP6626759B2 (ja) * 2016-03-29 2019-12-25 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、タッチパネルおよび電子デバイス
JP2017226111A (ja) * 2016-06-21 2017-12-28 大日本印刷株式会社 積層体、透視性電極、タッチパネル、およびタッチ位置検出機能付き表示装置
CN109563625B (zh) * 2016-08-08 2021-06-22 Dic株式会社 层叠体、金属网和触控面板
DE102017102569A1 (de) 2017-02-09 2018-08-09 Materion Advanced Materials Germany Gmbh Schichtsystem mit einer Schwärzungsschicht, sowie Verfahren und Sputtertarget zur Herstellung derselben
WO2018168325A1 (ja) * 2017-03-17 2018-09-20 東レ株式会社 配線電極付き基板の製造方法および配線電極付き基板
KR102395098B1 (ko) * 2017-06-30 2022-05-06 삼성디스플레이 주식회사 표시장치 및 그 제조 방법
KR102201575B1 (ko) * 2017-12-15 2021-01-12 주식회사 엘지화학 장식 부재
CN108089771A (zh) * 2018-02-13 2018-05-29 京东方科技集团股份有限公司 触控基板、显示面板、显示装置
CN109554700B (zh) * 2019-01-31 2021-02-26 广东天承科技股份有限公司 一种光亮铜膜或铜合金膜减反射工艺
JP2021075746A (ja) * 2019-11-07 2021-05-20 三菱マテリアル株式会社 スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、スパッタリングターゲットの製造方法
CN114967958A (zh) * 2021-02-24 2022-08-30 京东方科技集团股份有限公司 触控面板及其制备方法、显示触控装置

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5521765A (en) * 1994-07-07 1996-05-28 The Boc Group, Inc. Electrically-conductive, contrast-selectable, contrast-improving filter
US5728456A (en) * 1996-02-01 1998-03-17 Optical Coating Laboratory, Inc. Methods and apparatus for providing an absorbing, broad band, low brightness, antireflection coating
JPH10180950A (ja) * 1996-12-25 1998-07-07 Lintec Corp 防眩性ハードコートフィルム及びその製造方法
US5852513A (en) * 1997-05-14 1998-12-22 Optical Coating Laboratory, Inc. Television filter
KR100768175B1 (ko) * 2001-02-07 2007-10-17 삼성에스디아이 주식회사 광학적 전기적 특성을 지닌 기능성 박막
JP4575384B2 (ja) * 2004-08-20 2010-11-04 帝人株式会社 透明導電性積層体および透明タッチパネル
US7291386B2 (en) * 2004-08-26 2007-11-06 3M Innovative Properties Company Antiglare coating and articles
US7196281B2 (en) * 2004-11-12 2007-03-27 Eastman Kodak Company Resistive touch screen having conductive mesh
JP4837297B2 (ja) 2005-03-09 2011-12-14 富士フイルム株式会社 遮光画像付き基板及び遮光画像の形成方法、転写材料、カラーフィルター、並びに表示装置
US7622185B2 (en) * 2005-04-15 2009-11-24 Nitto Denko Corporation Protective cover sheet comprising a UV-absorbing layer for a polarizer plate and method of making the same
US8603611B2 (en) * 2005-05-26 2013-12-10 Gunze Limited Transparent planar body and transparent touch switch
JP4610416B2 (ja) 2005-06-10 2011-01-12 日本写真印刷株式会社 静電容量型タッチパネル
CN100466247C (zh) * 2005-10-27 2009-03-04 联华电子股份有限公司 内连线结构及其制作方法
ES2411711T3 (es) * 2006-03-03 2013-07-08 Shenzhen Commonpraise Solar Co., Ltd Capas con absorción selectiva de la luz y procedimiento de fabricación
WO2007102238A1 (ja) * 2006-03-08 2007-09-13 Sharp Kabushiki Kaisha 表示装置
TWI412079B (zh) * 2006-07-28 2013-10-11 Semiconductor Energy Lab 製造顯示裝置的方法
JP2008047777A (ja) 2006-08-18 2008-02-28 Dainippon Printing Co Ltd 電磁波遮蔽フィルタ、複合フィルタ、及びディスプレイ
EP2120136A4 (en) * 2007-03-01 2013-01-23 Sharp Kk DISPLAY SUBSTRATE, DISPLAY SHIELD, DISPLAY ARRANGEMENT AND METHOD FOR PRODUCING A DISPLAY SUBSTRATE
KR100992922B1 (ko) 2007-08-29 2010-11-09 삼성코닝정밀소재 주식회사 디스플레이 장치용 필터 및 이를 구비하는 디스플레이 장치
US20090058250A1 (en) * 2007-08-29 2009-03-05 Samsung Corning Precision Glass Co., Ltd. Filter for display apparatus
US20090122017A1 (en) * 2007-11-09 2009-05-14 Motorola, Inc. Mobile electronic device having capacitive sensor with reduced visibility isolation areas and corresponding method
CN201107767Y (zh) 2007-11-27 2008-08-27 胜华科技股份有限公司 电容式触控面板接合区域的结构
TWI393924B (zh) * 2008-06-25 2013-04-21 Au Optronics Corp 觸控式顯示面板、彩色濾光片及其製作方法
JP5788129B2 (ja) * 2008-07-18 2015-09-30 日東電工株式会社 透明導電性フィルム及びタッチパネル
KR101182519B1 (ko) * 2008-07-24 2012-09-12 주식회사 엘지화학 눈부심 방지 코팅 조성물 및 이를 이용하여 제조된 눈부심방지 필름
JP2010086684A (ja) 2008-09-30 2010-04-15 Kuramoto Seisakusho Co Ltd 透明導電配線膜付き光学薄膜
JP2010147235A (ja) 2008-12-18 2010-07-01 Dainippon Printing Co Ltd 電磁波遮蔽シート、及び電磁波遮蔽シートの製造方法
US8921726B2 (en) 2009-02-06 2014-12-30 Lg Chem, Ltd. Touch screen and manufacturing method thereof
WO2010090487A2 (ko) * 2009-02-06 2010-08-12 주식회사 엘지화학 터치스크린 및 이의 제조 방법
KR100954898B1 (ko) * 2009-08-24 2010-04-27 남동식 터치패널센서
KR20110061422A (ko) * 2009-12-01 2011-06-09 엘지이노텍 주식회사 정전용량 터치 패널

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
None
See also references of EP2631751A4

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101916306B1 (ko) * 2012-04-27 2018-11-09 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
KR20130121336A (ko) * 2012-04-27 2013-11-06 엘지이노텍 주식회사 터치 패널
TWI549814B (zh) * 2012-08-31 2016-09-21 Ｌｇ化學股份有限公司 金屬結構體及其製造方法
CN104584143A (zh) * 2012-08-31 2015-04-29 Lg化学株式会社 导电结构和制造该导电结构的方法
US9903989B2 (en) 2012-08-31 2018-02-27 Lg Chem, Ltd. Metal structure for decorative bezel and method for manufacturing same
US20150212244A1 (en) * 2012-08-31 2015-07-30 Lg Chem, Ltd. Metal structure and method for manufacturing same
JP2015533682A (ja) * 2012-08-31 2015-11-26 エルジー・ケム・リミテッド 伝導性構造体およびその製造方法
JP2015533678A (ja) * 2012-08-31 2015-11-26 エルジー・ケム・リミテッド 金属構造体およびこの製造方法｛ｍｅｔａｌｓｔｒｕｃｔｕｒｅｂｏｄｙａｎｄｍｅｔｈｏｄｆｏｒｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇｔｈｅｓａｍｅ｝
US9462682B2 (en) 2012-08-31 2016-10-04 Lg Chem, Ltd. Conductive structure and method for manufacturing same
EP2891554A4 (en) * 2012-08-31 2016-03-16 Lg Chemical Ltd METALLIC STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
EP2892056A4 (en) * 2012-08-31 2016-04-06 Lg Chemical Ltd CONDUCTIVE STRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
JP2014106701A (ja) * 2012-11-27 2014-06-09 Kyocera Corp 電子機器及び組立方法
JP2015518616A (ja) * 2013-03-30 2015-07-02 深▲ゼン▼欧菲光科技股▲フン▼有限公司 導電性フィルム及びその製造方法ならびに該導電性フィルムを含むタッチスクリーン
JP2015515705A (ja) * 2013-03-30 2015-05-28 深▲ゼン▼欧菲光科技股▲フン▼有限公司 タッチスクリーン
JP2015515707A (ja) * 2013-03-30 2015-05-28 深▲ゼン▼欧菲光科技股▲フン▼有限公司 導電性フィルム及びその製造方法ならびに該導電性フィルムを含むタッチスクリーン
JP2016537740A (ja) * 2013-09-05 2016-12-01 アップル インコーポレイテッド 電子装置のための不透明なカラー積層体
US9790126B2 (en) 2013-09-05 2017-10-17 Apple Inc. Opaque color stack for electronic device
US10781134B2 (en) 2013-09-05 2020-09-22 Apple Inc. Opaque color stack for electronic device
JP2016533562A (ja) * 2013-10-04 2016-10-27 プランゼー エスエー タッチセンサ装置
WO2016024760A1 (ko) * 2014-08-14 2016-02-18 엘지이노텍 주식회사 터치윈도우
US10372279B2 (en) 2014-08-14 2019-08-06 Lg Innotek Co., Ltd. Touch window
JP2017126387A (ja) * 2017-04-26 2017-07-20 大日本印刷株式会社 タッチパネル基板、及び表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP5984310B2 (ja) 2016-09-06
TWI432115B (zh) 2014-03-21
JP2013540331A (ja) 2013-10-31
US9946377B2 (en) 2018-04-17
WO2012053818A3 (ko) 2012-07-26
KR20120040679A (ko) 2012-04-27
JP2015167025A (ja) 2015-09-24
JP6021030B2 (ja) 2016-11-02
CN103168285A (zh) 2013-06-19
KR101380102B1 (ko) 2014-04-02
KR101314411B1 (ko) 2013-10-04
KR20120040680A (ko) 2012-04-27
CN103168285B (zh) 2016-05-11
EP2631751A2 (en) 2013-08-28
EP2631751A4 (en) 2016-05-18
TW201233272A (en) 2012-08-01
US20130215067A1 (en) 2013-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012053818A2 (ko) 도전성 패턴을 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법
US9258889B2 (en) Conductive structure, touch panel, and method for manufacturing same
WO2015076572A1 (ko) 전도성 구조체 및 이의 제조방법
WO2014035207A1 (ko) 전도성 구조체 및 이의 제조방법
WO2012121519A2 (ko) 전도성 구조체 및 이의 제조방법
JP6183628B2 (ja) ディスプレイ基板のベゼルおよびこの製造方法
WO2017026812A1 (ko) 전도성 구조체 및 이의 제조방법
WO2013157858A2 (ko) 전도성 구조체 및 이의 제조방법
US20090022886A1 (en) Method for making an interactive information device and product produced thereby
WO2016159602A1 (ko) 전도성 구조체, 이의 제조방법 및 전도성 구조체를 포함하는 전극
WO2014084697A1 (ko) 터치스크린 및 이의 제조방법
WO2014157841A1 (ko) 투명 전극 패턴 적층체 및 이를 구비한 터치 스크린 패널
WO2014189204A1 (ko) 투명 전극 패턴 적층체 및 이를 구비한 터치 스크린 패널
WO2017111540A1 (ko) 터치스크린 센서
WO2019004723A1 (ko) 장식 부재 및 이의 제조방법
KR101504840B1 (ko) 전도성 기판 및 이의 제조방법
CN111883284A (zh) 一种双面导电膜、镀膜方法及触控屏
WO2022107939A1 (ko) 내구성이 강화된 투명필름
CN214152473U (zh) 一种双面导电膜及触控屏
WO2016153317A1 (ko) 전도성 구조체 및 이의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201180050714.8

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 11834618

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A2

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013534817

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 13880296

Country of ref document: US

Ref document number: 2011834618

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE