CN104345941B - 触控基板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

一种触控基板及其制造方法，该触控基板包括一基板、一形成在基板表面的不透明电极走线层及至少一形成在基板表面的不透明感应电极层，该不透明感应电极层具有多个奈米银粒，以及多个不透明感应区块由该等奈米银粒以网格状排列所构成，该不透明电极走线层为相邻连接不透明感应电极层;借由本发明的这种设计，可达到减少制程工序、低面阻值及增加走线空间的效果。

Description

触控基板及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种触控基板及其制造方法，尤其涉及一种兼具有达到减少或简化制程工序及低电阻值的效果，进而还能有效增加走线空间的效果的触控基板及其制造方法。

背景技术

触控面板己经广泛地应用于目前生活中，通过将触控面板整合于显示面板，人们可以通过触控操作其显示画面来控制电子装置执行对应的指令。目前触控面板的导电薄膜如是氧化铟锡(Indium tin oxide，简称的为ITO)薄膜或奈米银丝薄膜，且此导电薄膜(或称为透明电极层)形成于透明基板上，例如玻璃板或聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate，简称的为PET)板。其中所述奈米银丝薄膜由多个奈米金属线所构成的。

而一般已知的导电薄膜(如氧化铟锡薄膜或奈米银丝薄膜)形成在透明基板上的制造方法大致为：将于该透明基板的表面上的导电薄膜进行涂怖光阻后，接着对以涂布该基板的表面上的导电薄膜进行烘烤，侍烘烤完后则进行曝光及显影制程，使该基板的表面上形成有电极图案的透明电极层，其中如以奈米银丝薄膜为例，于该基板的表面的透明电极层是由多个奈米金属线所构成的;然后再依序对该基板的表面的透明电极层经清洗、蚀刻、清洗、烘烤等步骤后，接着对该基板的表面的透明电极层进行网版印刷，使该基板的表面周边形成有一走线层电性连接相邻透明电极层后，再次经烘烤而得一触控基板。

虽现有技术通过上述制程步骤可达到制造出所述触控面板的触控基板，但其却延伸出另一问题，就是必须经过上述多道繁杂步骤作业才能制造出所述触控基板。另者，奈米银丝薄膜的低面电阻值约在50ohm/□，而氧化铟锡薄膜(ITO Film)的低面电阻约在150ohms/□，且氧化铟锡薄膜面电阻较低的话，则导电性会较好，但会造成氧化铟锡薄膜的厚膜必须增大，以导致氧化铟锡薄膜的穿透度降低，故前述氧化铟锡薄膜的面阻值会影响到氧化铟锡薄膜厚度及穿透度，因此，使得面阻值越小成本会越高且技术门槛也越高，以致于面阻值居高不下。

此外，由于走线层系通过网版印刷方式形成的，使得于该基板表面上的走线空间会受到局限。

以上所述，现有技术具有下列缺点：

1.制造工序复杂繁多;

2.成本提高;

3.走线空间受限。

因此，要如何解决上述问题与缺点，即为本领域技术人员与从事此行业的相关厂商所急欲研宽改善的方向所在。

发明内容

因此，为解决上述现有技术的缺点，本发明的主要目的是，提供一种具有减少或简化制造工序及低面阻值的触控基板。

本发明的另一目的是提供一种具有达到增加走线空间的触控基板。

本发明的另一目的是提供一种具有减少或简化制造工序及低面阻值的触控基板的制造方法。

本发明的另一目的是提供一种具有达到增加走线空间的触控基板的制造方法。

为达上述目的，本发明提供一种触控基板，是应用于一触控装置上，且该触控基板包括：一基板，具有一第一表面及一相反该第一表面的第二表面;至少一不透明感应电极层，形成在该基板的第一表面上，且其具有多个奈米银粒及多个不透明感应区块，该等不透明感应区块由该等奈米银粒以网格状排列所构成;及一不透明电极走线层，形成在该基板的第一表面的周边上，且相邻连接对应该不透明感应电极层。

通过本发明此触控基板的结构设计，得有效达到简化制程工序及低面电阻的效果，进而还有效达到增加走线布设空间的效果。

该等不透明感应区块彼此相邻的间具有一不透明无感应区块，该等不透明无感应区块由多个奈米银粒以网格状排列所构成，且该等不透明无感应区块系与相邻的不透明感应区块未有电性连接。

该等不透明感应区块以一第一方向形成设在该基板的第一表面上。

该等不透明感应区块以一第二方向形成设在该基板的第一表面上。

该基板为一聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate，PET)。

该基板以可挠性材料所构成。

该每一奈米银粒的直径介于数奈米至数十奈米的间。

本发明另提供一种触控基板的制造方法，包括：提供一基板，该基板的一表面上形成有一感光性的奈米银粒薄膜;提供一具有网格与电极走线图案的光罩对该基板的表面上的奈米银粒薄膜进行一曝光制程，以将在该光罩上的网格与电极走线图案转移到该奈米银粒薄膜上;进行一显影制程，以于该基板的表面上形成有呈网格状的不透明感应电极层与不透明电极走线层;及对于该基板的表面上的不透明感应电极层进行高导电化及安定化处理作业。

该显影制程包含：利用一温水清洗该基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层后，并进行黑化处理，令该基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层更不明显，再次利用温水将该基板的表面残留的黑化液清洗掉。

对于该基板的表面上的不透明感应电极层进行高导电化及安定化处理作业的步骤后，更包含：对基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层进行检查作业;及将检查后的基板的表面与一保护膜相贴合，用于覆盖该基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层。

基板由可挠性材料所构成。

该奈米银粒薄膜由多个奈米银粒所构成，且该每一奈米银粒的直径介于数奈米至数十奈米的间。

所以借由本发明的方法设计，达到简化制程工序及低面电阻的效果，进而还有效达到增加走线布设空间的效果。

附图说明

图1A为本发明的第一较佳实施例的立体示意图;

图1B为本发明的图1A的局部放大示意图;

图1C为本发明的图1A的另一局部放大示意图;

图2为本发明的第一较佳实施例的另一立体示意图;

图3为本发明的第一较佳实施例的触控装置立体示意图;

图4为本发明的第一较佳实施例的触控装置剖面示意图;

图5为本发明的第二较佳实施例的流程示意图。

符号说明

触控装置…1

触控基板…10

基板…101

第一表面…1011

第二表面…1012

不透明感应电极层…11

奈米银粒…111

不透明感应区块…113

不透明无感应区块…115

不透明电极走线层…13

触控区…14

周边区…15

网格…16

小网格…161

光学胶17

线宽…d

第一方向…X

第二方向…Y

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明进一步详细描述：

本发明的上述目的及其结构与功能上的特性，将依据所附图式的较佳实施例予以说明。

本发明提供一种触控基板及其制造方法，请参阅图示1A为显示本发明的第一较佳实施例的立体示意图，并辅以参阅图1B、3、4所示;该触控基板10应用于一触控装置1(或称触控面板)上，于具体实施时，本发明的触控基板10可应用于各种叠层结构的触控装置1，如GFF(Glass-Film-Film)、G1F(Glass-Film)、GG(Glass-Glass)等，也就是将本发明此触控基板10取代触控装置1上形成有感应电极(如氧化铟锡薄膜或奈米银丝薄膜)的基板101(如聚对苯二甲酸乙二酯或玻璃)。

另者，前述触控基板10包括一基板101、至少一不透明(但可选择可透光或不可透光其中任一)感应电极层11及一不透明(但可选择可透光或不可透光其中任一)电极走线层13，该基板101以可挠性材料所构成，于该较佳实施例的基板101以聚对苯二甲酸(Polyethyleneterephthalate，PET)做说明，但并不局限于此;且该基板101具有一第一表面1011、一相对该第一表面1011的第二表面1012、一触控区14及一周边区15，该触控区14位于该第一表面1011的中央位置，该周边区15则位于该触控区14外侧。

再者，所述不透明感应电极层11形成在该基板101的第一表面1011上，且其具有多个奈米银粒111及多个不透明(但可选择可透光或不可透光其中任一)感应区块113，该等不透明感应区块113由该等奈米银粒111以网格状排列所构成，也就是一感光性的奈米银粒薄膜通过化学烧结方式形成在该基板101的第一表面1011上，然后依序经曝光、显影制程，使该等不透明感应区块113呈网格状成形在第一表面1011的触控区14上(如第1A或2图示中标号113的虚框部份);简言而的，就是不透明感应电极层11是形成设置在该基板101的第一表面1011上。

此外，所述每一奈米银粒111的直径是介于数奈米至数十奈米的间，且前述不透明感应区块113内网格16的线宽d为1μm~10μm之间，于该较佳实施例以较佳为7μm做说明。并该等不透明感应区块113内网格16中的每一小网格161以呈菱形状做说明，但并不局限于此，也可选择为矩形或其他形状，借以改变穿透率，亦即通过小网格161形状来改变穿透率;所以于具体实施时，使用者可以事先根据所需面阻值及透光率的需求，调整设计所述不透明感应电极层13的网格16的线宽d粗细、改变网格16内小网格161的形状大小，借以达到低面阻值(约25ohms/□)及高透光率的效果。

续参阅图1A、1B、2所示，该等不透明感应区块113彼此相邻的间具有一不透明(但可选择可透光或不可透光其中任一)无感应区块115，该等不透明无感应区块115由多个奈米银粒以网格状排列所构成的，即该等不透明无感应区块115呈网格状形成在第一表面1011的触控区14上(如第1A或2图示中标号115的虚框部份)，且位于该等不透明感应区块113彼此之间，并该等不透明感应区块115与相邻的不透明感应区块113是未有电性连接，换言之，就是该等不透明无感应区块115未有电流通过，使其不会有感应电极的功效。而该等不透明无感应区块115用以避免不透明感应区块113容易被观察到，借以有效达到平衡视觉的效果。其中于该较佳实施例的该等不透明无感应区块115与相邻的不透明感应区块113的间呈断开7μm(如第1C图示)而达到未有电性连接做说明，但于具体实施时上述断开的距离不局限于7μm，使用者可以事先根据视觉感官及感应灵敏度做适当的调整，合先陈明。

另者多个不透明感应区块113于该较佳实施例是以一第一方向X(即X轴方向)形成设置在该基板101的第一表面1011上(如第1A图示中标号113的虚框部份)做说明，但于本发明实施时，亦可选择设计如图2所示的将多个不透明感应区块113以一第二方向Y(即Y轴方向)形成设置在该基板101的第一表面1011上(如第2图示中标号113的虚框部份)，或是如第3、4图示将触控装置1的两基板101分别以第一方向X与第二方向Y形成有不透明感应区块113，且两基板的间具有一光学胶17(如OCR)。

再者前述不透明电极走线层13系形成在该第一表面1011的周边上，且相邻连接对应该不透明感应电极层11，亦即该不透明电极走线层13形成在该第一表面1011的周边区15上，且连接对应于所述触控区14上的不透明感应电极层11。

所以通过本发明此触控基板10的设计，使得有效达到简化制程工序及低面电阻值的效果，进而还有效达到增加走线布设空间的效果者。

请参阅第5图，系显示本发明的第二较佳实施例的流程示意图，并辅以参阅第1A、1B图示;该较佳实施例系为前述第一较佳实施例的触控基板的制造方法，该方法包括下列步骤：

(S1)提供一基板，该基板的一表面上形成有一感光性的奈米银粒薄膜;

提供一基板101，该基板101的表面(即第一较佳实施例所述的第一表面1011)上形成有一感光性的奈米银粒薄膜。其中该基板101系以可挠性材料所构成，于该较佳实施例的基板101系以聚对苯二甲酸(Polyethyleneterephthalate，PET)做说明;并该奈米银粒薄膜系多个奈米银粒所构成的薄膜，且该每一奈米银粒的直径介于数奈米至数十奈米的间。

(S2)提供一具有网格与电极走线图案的光罩对该基板的表面上的奈米银粒薄膜进行一曝光制程，以将在该光罩上的网格与电极走线图案转移到该奈米银粒薄膜上;

提供一具有网格与电极走线图案的光罩，并将光罩覆盖在该基板101的表面(即第一表面1011)具有奈米银粒薄膜上进行曝光制程，待曝光制程完后，使该光罩上的网格与电极走线图案转移到该基板101的表面(即第一表面1011)具有奈米银粒薄膜上。

(S3)进行一显影制程，以在该基板的表面上形成有呈网格状的不透明感应电极层与不透明电极走线层;

进行显影制程，以将该基板101的表面(即第一表面1011)的奈米银粒薄膜上需要的网格图案、走线图案留下，不要的部份则显影掉后，利用一温水清洗该基板101的表面(即第一表面1011)上的不透明感应电极层11与不透明电极走线层13后并进行黑化处理令该基板101的表面(即第一表面1011)上的不透明感应电极层11与不透明电极走线层13更不明显，并再次利用温水将该基板101的表面(即第一表面1011)残留的黑化液清洗掉后，使得该基板101的第一表面1011上形成有呈网格状的不透明感应电极层11与电性连接该不透明感应电极层11的不透明电极走线层13;其中前述不透明感应电极层11内具有多个呈网格状的不透明感应区块113,该等不透明感应区块113系形成在第一表面1011的触控区14上，而不透明感应电极层11则是形成在该第一表面1011的周边区15上。

(S4)对于该基板的表面上的不透明感应电极层进行高导电化及安定化处理作业;

对于该基板101的第一表面1011上的不透明感应电极层11进行高导电化处理作业，借以使该第一表面1011上的不透明感应电极层11增加导电效果，然后利用温水将表面(即第一表面1011)残留的高导电处理液洗掉，接着再进行安定化处理作业，使该第一表面1011上的不透明感应电极层11的导电性达到稳定效果;然后，再次以温水清洗表面(即第一表面1011)残留的安定化溶剂。

(S5)对基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层进行检查作业;

对基板101的表面(即第一表面1011)的不透明感应电极层11与不透明电极走线层13进行检查作业，如电测与外观检查是否有断线、短路，或是外观不良的情况。

(S6)将检查后的基板的表面与一保护膜相贴合，用以覆盖该基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层。

将检查后的基板101的第一表面1011与保护膜(图中未示)相贴合一起，用以覆盖于基板101的第一表面1011上的不透明感应电极层11与不透明电极走线层13，借以达到保护的效果。

所以通过本发明此方法的设计，使得有效直接将不透明感应电极层11与不透明电极走线层13同时形成在该基板101的表面上，借以有效达到减少(或简化)制造工序的效果，进而还有效达到低面电阻值及增加走线布设空间的效果。

以上所述，本发明相较于现有技术具有下列的优点：

1.具有达到减少(或简化)制造工序及低面电阻值的效果;

2.具有增加走线布设空间的效果。

故，以上所述，仅为本发明的较佳具体实施例，本发明的特征并不局限于此，任何熟悉该项技艺者在本发明领域内，可轻易思及的变化或修饰，皆应涵盖在本发明的申请专利范围内。

Claims (10)

1.一种触控基板，包括：

一基板，具有一第一表面及一相反该第一表面的第二表面；

至少一不透明感应电极层，形成在该基板的第一表面上，且其具有多个奈米银粒及多个不透明感应区块，该等不透明感应区块由该等奈米银粒以网格状排列所构成；及

一不透明电极走线层，形成在该基板的第一表面的周边上，且相邻连接对应该不透明感应电极层其中该等不透明感应区块彼此相邻之间具有一不透明无感应区块，该等不透明无感应区块由多个奈米银粒以网格状排列所构成，且该等不透明无感应区块与相邻的不透明感应区块未有电性连接。

2.如权利要求1所述的触控基板，其中该等不透明感应区块以一第一方向形成设在该基板的第一表面上。

3.如权利要求1所述的触控基板，其中该等不透明感应区块以一第二方向形成设在该基板的第一表面上。

4.如权利要求1所述的触控基板，其中该基板为一聚对苯二甲酸乙二酯。

5.如权利要求1所述的触控基板，其中该基板以可挠性材料所构成。

6.如权利要求1所述的触控基板，其中该每一奈米银粒的直径介于数奈米至数十奈米的间。

7.一种触控基板的制造方法，包括：

提供一基板，该基板的一表面上形成有一感光性的奈米银粒薄膜；

提供一具有网格与电极走线图案的光罩对该基板的表面上的奈米银粒薄膜进行一曝光制程，以将在该光罩上的网格与电极走线图案转移到该奈米银粒薄膜上；

进行一显影制程，以在该基板的表面上形成有呈网格状的不透明感应电极层与不透明电极走线层；及

对于该基板的表面上的不透明感应电极层进行高导电化及安定化处理作业；利用一温水清洗该基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层后，并进行黑化处理，令该基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层更不明显，再次利用温水将该基板的表面残留的黑化液清洗掉。

8.如权利要求7所述的触控基板的制造方法，其中对于该基板的表面上的不透明感应电极层进行高导电化及安定化处理作业的步骤后，更包含：对基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层进行检查作业；及将检查后的基板的表面与一保护膜相贴合，用以覆盖该基板的表面上的不透明感应电极层与不透明电极走线层。

9.如权利要求7所述的触控基板的制造方法，其中基板是以可挠性材料所构成。

10.如权利要求7所述的触控基板的制造方法，其中该奈米银粒薄膜是由多个奈米银粒所构成，且该每一奈米银粒的直径介于数奈米至数十奈米的间。