WO2011037034A1 - 離型フィルムおよび発光ダイオードの製造方法 - Google Patents

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奥屋　珠生
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Definitions

  • the present invention relates to a release film and a method for producing a light emitting diode.
  • the light-emitting diodes are used for various lighting, sign boards, backlights for liquid crystal display panels, automobile tail lamps, and the like because of their low power and high brightness and long life.
  • a light emitting diode generates energy by joining an N-type semiconductor and a P-type semiconductor, and electrons and holes are combined at the interface to emit light.
  • Light-emitting diodes consume approximately half the power compared to fluorescent lamps, have a lifetime that is said to be semi-permanent in structure, and do not contain harmful substances such as mercury and generate less heat. It is attracting attention as an energy-saving and low-reliability light source.
  • the light emitting element of the light emitting diode is point light emission, and light is emitted in all directions. Therefore, in order to improve the front luminance by aligning the direction of light emitted from the light emitting element with the front direction of the light emitting diode, the light emitting diode often has a substantially hemispherical or bullet type lens portion. Further, the lens portion needs to have a function of imparting electrical insulation to the light emitting element and protecting the light emitting element from an external environment such as water and moisture. Therefore, the lens portion is formed by sealing with a transparent sealing resin with little light attenuation and excellent heat resistance. As the sealing resin, a thermosetting resin such as a silicone resin or an epoxy resin is used.
  • Examples of the method for manufacturing a light emitting diode include a method for forming a lens portion (resin-sealed portion) by a compression molding method or a transfer molding method. That is, the substrate on which the light emitting element is mounted is arranged so that the light emitting element is located at a predetermined position in the mold sealing resin molding portion (hereinafter referred to as “cavity”), and the sealing resin is placed in the cavity. And a method of forming a lens part by filling. The production method is excellent in productivity.
  • the lens part may be damaged or cracked if the light emitting diode is forcibly released. Yield may decrease.
  • Examples of a method for solving the above problem include the following methods (i) and (ii).
  • the release film is stretched and deformed so as to follow the cavity shape of the mold by vacuum suction, and the lens portion is formed in a state of being adsorbed on the cavity surface.
  • the method (i) has a problem that the transparency of the sealing resin is impaired due to the addition of the release agent, and the luminance of the light emitting diode is lowered.
  • the release film is three-dimensionally deformed in order to fit the release film along a cavity having a shape corresponding to a substantially hemispherical (substantially hemispherical, bullet-shaped) lens portion.
  • the release film may be greatly deformed, and pinholes may be generated in the release film, or the film may be partially broken.
  • the volatilized sealing resin component or the sealing resin itself adheres to the cavity surface of the mold.
  • the lens portion of the obtained light emitting diode is deformed due to the influence of the resin component or the like attached to the mold, resulting in a defective product, and the yield is reduced.
  • a process for cleaning the sealing resin or the like attached to the mold, and a process for removing and remounting the mold from the manufacturing apparatus are required, which increases the manufacturing cost.
  • An object of the present invention is to provide a release film for manufacturing a light emitting diode using a mold, which is less likely to cause pinholes and breakage and can be applied to mass production of a light emitting diode using a mold having a large number of cavities.
  • Another object of the present invention is to provide a method for stably producing a light emitting diode of good quality using the release film.
  • a release film which is disposed on a cavity surface of a mold for sealing a light emitting element of a light emitting diode with a sealing resin to form a substantially hemispherical lens portion, and has a thickness of 16 to 175 ⁇ m.
  • the release film according to [1], wherein the release film is a film made of a fluororesin.
  • the release film according to [2], wherein the fluororesin film is an ethylene-tetrafluoroethylene copolymer.
  • B A step of vacuum-sucking the release film toward the cavity surface side of the mold.
  • C The process of arrange
  • D A step of filling a cavity with a sealing resin and sealing the light emitting element with the sealing resin to obtain a light emitting diode.
  • the release film of the present invention is a release film for producing a light emitting diode using a mold, and pinholes and breakage are unlikely to occur. Therefore, it can be suitably used for mass production of light emitting diodes using a mold having a large number of cavities. Moreover, according to the manufacturing method of the present invention, a light emitting diode of good quality can be manufactured stably.
  • A substantially hemispherical type
  • B bullet type. It is sectional drawing which showed an example of the metal mold
  • the release film of the present invention (hereinafter referred to as “this release film”) is formed on a cavity surface of a mold that forms a substantially hemispherical lens portion by sealing a light emitting element of a light emitting diode with a sealing resin. It is a release film to arrange. That is, the mold release film is disposed so as to cover the cavity surface of a mold having a cavity having a shape corresponding to the shape of the lens portion of the light emitting diode when the lens portion is manufactured. It is a film which raises the releasability from the metal mold
  • the release film must have releasability, surface smoothness, heat resistance that can withstand the mold temperature of 110 to 140 ° C., and strength that can withstand the flow and pressure of the sealing resin. It is done.
  • the release film is preferably a film made of one or more resins selected from the group consisting of polyolefins and fluororesins from the viewpoints of releasability, heat resistance, strength, and elongation at high temperatures. Is more preferable.
  • the release film may be a film using both a fluororesin and a non-fluorine resin, or may be a film in which an inorganic additive, an organic additive, or the like is blended.
  • polymethylpentene is preferable from the viewpoint of releasability and mold followability.
  • Polyolefin may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
  • fluororesin include ethylene / tetrafluoroethylene copolymer (hereinafter referred to as “ETFE”), polytetrafluoroethylene, perfluoro (alkyl vinyl ether) / tetrafluoroethylene copolymer, and the like. Of these, ETFE is particularly preferred because of its high elongation at high temperatures.
  • a fluororesin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • TFE / E The content ratio (TFE / E) of repeating units based on tetrafluoroethylene (hereinafter referred to as “TFE”) and repeating units based on ethylene (hereinafter referred to as “E”) in ETFE is 80 / 20-40 / 60 is preferable, 70 / 30-45 / 55 is more preferable, and 65 / 35-50 / 50 is particularly preferable. If the content ratio of each repeating unit based on TFE / E is within the above range, ETFE is excellent in heat resistance and mechanical properties.
  • ETFE may contain other monomer-based repeating units in addition to E-based repeating units and TFE-based repeating units.
  • specific examples of the other monomers include the following monomers (a1) to (a5) containing fluorine.
  • Monomer (a1) a fluoroolefin having 3 or less carbon atoms.
  • ethylene Monomer (a3): fluorovinyl ethers.
  • Monomer (a5) a fluorine-containing monomer having an aliphatic ring structure.
  • Examples of the monomer (a1) include fluoroethylene such as trifluoroethylene, vinylidene fluoride, fluorine vinyl, and chlorotrifluoroethylene, hexafluoropropylene (hereinafter referred to as “HFP”), 2-hydropentafluoropropylene, and the like. .
  • fluoroethylene such as trifluoroethylene, vinylidene fluoride, fluorine vinyl, and chlorotrifluoroethylene
  • HFP hexafluoropropylene
  • 2-hydropentafluoropropylene 2-hydropentafluoropropylene
  • the monomer (a2) a monomer having n of 2 to 6 is preferable, and a monomer of 2 to 4 is more preferable.
  • Specific examples include CF 3 CF 2 CH ⁇ CH 2 , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CH ⁇ CH 2 ((perfluorobutyl) ethylene, hereinafter referred to as “PFBE”), CF 3 CF 2 CF 2 CF 2.
  • PFBE perfluorobutyl) ethylene
  • CF 2 CFOCF 2 CF (CF 3 ) O (CF 2 ) 2 CF 3
  • CF 2 CFO ( CF 2) 3 O (CF 2) 2 CF 3
  • CF 2 CFO (CF 2 CF (CF 3) O) 2 (CF 2) 2 CF 3
  • CF 2 CFOCF 2 CF (CF 3) O (CF 2 ) 2 CF 3
  • Examples of other monomers include the following monomers (b1) to (b4) that do not contain fluorine.
  • Monomer (b1) Olefin.
  • Monomer (b2) Vinyl ester.
  • Monomer (b3) Vinyl ether.
  • Examples of the monomer (b1) include propylene and isobutene.
  • Examples of the monomer (b2) include vinyl acetate.
  • Examples of the monomer (b3) include ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, and hydroxybutyl vinyl ether.
  • Examples of the monomer (b4) include maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, hymic anhydride (5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride) and the like. These other monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • ETFE ETFE
  • monomers in ETFE are preferably monomer (a2), HFP, PPVE, and vinyl acetate, more preferably HFP, PPVE, CF 3 CF 2 CH ⁇ CH 2 , and PFBE, and most preferably PFBE.
  • ETFE contains repeating units based on other monomers
  • the content of other monomers with respect to 100 mol% of all monomers is preferably 0.01 to 20 mol%, more preferably 0.10 to 15 mol%, and 0.20 ⁇ 10 mol% is particularly preferred. If the other monomer is within the above range, ETFE is excellent in heat resistance and mechanical properties.
  • ETFE contains a repeating unit based on PFBE
  • the content of PFBE with respect to 100 mol% of all monomers is preferably 0.10 to 15 mol%, more preferably 0.20 to 10 mol%, and particularly preferably 0.30 to 5 mol%. . If the content of PFBE is within the above range, ETFE is excellent in heat resistance and mechanical properties.
  • PFBE-containing ETFE a copolymer of E, TFE and PFBE (hereinafter referred to as “PFBE-containing ETFE”) is particularly preferable.
  • the melt flow rate (MFR) of ETFE used in the present invention is preferably 2 to 40 g / 10 minutes, more preferably 5 to 30 g / 10 minutes, and particularly preferably 10 to 20 g / 10 minutes.
  • MFR melt flow rate
  • the MFR is a value measured at 297 ° C. using a 5 kg load according to ASTM D3159.
  • the thickness of the release film is 16 to 175 ⁇ m, preferably 16 to 150 ⁇ m, more preferably 26 to 150 ⁇ m, and still more preferably 50 to 100 ⁇ m. If thickness is 16 micrometers or more, it can suppress that a pinhole and a fracture
  • the release film at 110 ° C. has a tensile elongation at break of 600 to 3000%, preferably 620 to 2000%, more preferably 640 to 1500%. If the tensile elongation at break is 600% or more, the mold release film can be easily deformed and the followability to the cavity shape of the mold is improved. Can be prevented from breaking. When the tensile elongation at break is 3000% or less, the thickness of the stretched portion in the present release film becomes extremely thin, and it is possible to suppress the occurrence of large thickness unevenness in the film covering the cavity surface of the mold. Therefore, it is possible to stably manufacture a light emitting diode having a lens portion having a good shape and exhibiting excellent optical characteristics.
  • the tensile elongation at break is measured by conducting a tensile test on a test film having a thickness of 50 ⁇ m under conditions of a temperature of 110 ° C. and a tensile speed of 50 mm / min by a method based on JIS K 7127.
  • the tensile elongation at break of the release film can be adjusted by adjusting the molecular weight and crystallinity of the resin. Specifically, the tensile elongation at break increases as the molecular weight of the resin increases. Further, the lower the crystallinity of the resin, the higher the tensile elongation at break.
  • the surface of the release film is preferably smooth.
  • this release film having a smooth surface, it is easy to form a high-quality lens portion, and it becomes easy to manufacture a light-emitting diode having excellent optical characteristics.
  • one surface of the film is used as a satin surface and the surface is used as the cavity side of the mold, vacuum suction to the cavity is facilitated.
  • the use of the film causes deformation of the lens portion and improves lens accuracy. May decrease.
  • the 10-point average roughness (Rz) of the surface of the release film is preferably 0.01 to 0.1 ⁇ m in the case of a mirror surface. In the case of a satin surface, 0.15-3.5 ⁇ m is preferable.
  • Rz is 0.15 ⁇ m or more, vacuum adsorption to the cavity of the release film is promoted. If Rz is 3.5 ⁇ m or less, it is easy to suppress the formation of irregularities on the lens surface of the light emitting diode.
  • the Rz is a value measured according to JIS B0601.
  • the release film can be produced by using a resin having the above composition by melt molding using an extruder having a T die having a predetermined lip width.
  • the release film described above is used when a light emitting diode having a substantially hemispherical lens portion is manufactured by a mold.
  • the substantially hemispherical lens portion in the present invention includes a substantially hemispherical lens portion and a bullet-shaped lens portion.
  • the bullet-shaped lens portion is a lens portion having a cylindrical resin sealing portion and a substantially hemispherical lens portion thereon.
  • FIG. 1A shows an example of a light-emitting diode having a substantially hemispherical lens portion.
  • FIG. 1B illustrates an example of a light-emitting diode having a shell-type lens portion.
  • a light emitting element 12a is mounted on a substrate 11a, and the light emitting element 12a is sealed with a sealing resin to form a substantially hemispherical lens portion 13a.
  • the lens portion 13a is formed by sealing the periphery of the light-emitting element 12a with a resin in which a phosphor is dispersed and sealing the periphery with a sealing resin.
  • the diameter d 1 of the lens portion 13a is preferably 0.1 ⁇ 30 mm, more preferably 0.5 ⁇ 20 mm.
  • a light emitting element 13b is installed in a cup 12b integrally formed with the lead frame 11b, and the light emitting element 13b and the other lead frame 11b are connected to an Au wire 14b. And the periphery thereof is sealed with a sealing resin to form a bullet-shaped lens portion 15b.
  • the lens portion is sealed by sealing resin around the light-emitting element 13b after filling the resin in which the phosphor is dispersed in the cup 12b. 15b is formed.
  • the diameter d 2 of the hemispherical portion of the lens portion 15b is preferably 0.2 ⁇ 5 mm, more preferably 0.5 ⁇ 3 mm.
  • the height d 3 of the cylindrical portion of the lens portion 15b is more preferably 0.2 ⁇ 8 mm is preferably 0.3 ⁇ 6 mm.
  • the present release film is deformed without causing pinholes or breakage along a cavity having a shape corresponding to the shape of the lens portion, Can adhere to the cavity surface. Therefore, it is possible to stably manufacture a light emitting diode of good quality.
  • the method for producing a light emitting diode of the present invention is characterized in that the present release film is used in a method for producing a light emitting diode by sealing a light emitting element with a sealing resin by a mold.
  • the manufacturing method of the light emitting diode of this invention can use a well-known manufacturing method except using this release film.
  • Examples of the method for forming the lens portion include a compression molding method and a transfer molding method.
  • a manufacturing apparatus molding
  • a known compression molding apparatus or transfer molding apparatus can be used as a manufacturing apparatus (mold).
  • the manufacturing conditions can also be the same as those in a known light emitting diode manufacturing method.
  • the method for producing a light emitting diode of the present invention includes the following steps (a) to (e).
  • the mold 3 to be used has an upper mold 31 and a lower mold 32 as shown in FIG.
  • a cavity 33 having a shape corresponding to the shape of the lens portion 13 a of the light emitting diode 1 A and a concave resin introduction portion 34 for guiding the sealing resin to the cavity 33 are formed.
  • a resin placement portion 35 for placing the sealing resin is formed on the lower die 32 side, and a plunger 36 for pushing the sealing resin to the upper die 31 is installed in the resin placement portion 35.
  • the cavity surface 33a of the upper mold 31 is preferably smooth from the viewpoint that a high-quality lens portion is easily formed and a light-emitting diode having excellent optical characteristics can be easily obtained. If the cavity surface 33a is satin, the release film can be vacuum-sucked to the cavity surface 33a more efficiently, but the lens portion 13a of the light-emitting diode 1A obtained may be deformed and the lens accuracy may deteriorate.
  • the release film 4 is preferably arranged so as to cover the entire cavity 33 and the resin introduction part 34.
  • sealing resin X a transparent resin is usually used to seal the light emitting element of the light emitting diode.
  • a milky white transparent resin containing an additive or the like may be used for the purpose of light diffusion.
  • the sealing resin X include silicone resins (trade names “LPS-3412A”, “LPS-3412B” (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)), epoxy resins (SEJ-01R manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.
  • a thermosetting resin is preferred.
  • the cavity 33 is filled with the sealing resin X, so that the release film 4 is further pushed into the cavity surface 33a side by the resin pressure, and is stretched and deformed. By doing so, it closely adheres to the cavity surface 33a. Therefore, a substantially hemispherical lens portion 13 a corresponding to the shape of the cavity 33 is formed.
  • the heating temperature of the mold 3, that is, the heating temperature of the sealing resin X is preferably 100 to 185 ° C., more preferably 110 to 140 ° C. If heating temperature is 100 degreeC or more, productivity of a light emitting diode will improve. If heating temperature is 185 degrees C or less, it will be easy to suppress degradation of sealing resin X. FIG. Moreover, when the shape change of the lens part 13a resulting from the thermal expansion coefficient of the sealing resin X and the protection of the light emitting diode are particularly required, it is preferable to heat at the lowest possible temperature within the above range.
  • the resin pressure at the time of filling with the sealing resin X is preferably 2 to 30 MPa, more preferably 3 to 10 MPa. If the pressure is 2 MPa or more, it is easy to suppress the occurrence of defects such as insufficient filling of the sealing resin X. If the pressure is 30 MPa or less, it is easy to obtain a light emitting diode of good quality.
  • the resin pressure of the sealing resin X can be adjusted by the plunger 36.
  • the mold release film 4 is disposed between the formed lens portion 13a and the cavity surface 33a in the mold 3 after the lens portion 13a is formed. 3 can be easily released.
  • the order of the step (a) and the step (b) and the step (c) is not particularly limited.
  • the release film 4 is arranged on the cavity 33 of the mold 3 (step (a)).
  • the release film 4 may be vacuum-sucked (step (b)) toward the cavity surface 33 a of the mold 3.
  • the method for producing a light emitting diode of the present invention can be applied to the production of a light emitting diode having a cannonball type lens portion in the same manner as the light emitting diode having a substantially hemispherical lens portion.
  • the steps (a) to (e) may be carried out using a mold having a cavity corresponding to the bullet-shaped lens portion and capable of installing the light emitting element at a predetermined position.
  • the compression molding method is a method generally used for manufacturing a light emitting diode, as described in JP-A-2008-114428 and the like.
  • a lower mold 51 having a plurality of cavities 55 (eight in FIG. 8) corresponding to the shape of the lens portion of the light emitting diode, an intermediate mold 52, an upper mold 53, and an intermediate mold 52
  • a method of using a compression mold 50 having an O-ring 54 that is positioned between the upper mold 53 and blocks outside air is also preferable to manufacture the light emitting diode of this invention by the compression molding method using this release film.
  • the compression molding method is a method generally used for manufacturing a light emitting diode, as described in JP-A-2008-114428 and the like.
  • a lower mold 51 having a plurality of cavities 55 (eight in FIG. 8) corresponding to the shape of the lens portion of the light emitting diode
  • an intermediate mold 52 having an upper mold 53, and an intermediate mold 52
  • a high-quality light-emitting diode having a substantially hemispherical lens portion can be stably manufactured with a high yield by using this release film.
  • the release film can be easily stretched and deformed without causing pinholes and breakage, it can be applied to a mold having a complicated shape having a large number of cavities. Therefore, a large number of light emitting diodes can be manufactured at a low cost at a time.
  • the manufacturing method of the light emitting diode of this invention is not limited to the said method.
  • a mold having a vacuum suction hole in the cavity may be used.
  • the present release film can be vacuum-adsorbed to the cavity surface more efficiently than the method using the mold 3.
  • the suction hole trace is transferred to the lens portion of the light emitting diode through the release film, the lens accuracy is likely to deteriorate.
  • the effect of this release film is demonstrated.
  • a lens portion is formed using a mold
  • pinholes or breakage may occur in the film even if a release film that seems to have sufficient tensile fracture elongation is used.
  • the ratio (elongation) at which the release film is stretched is about 160% in calculation. From this point of view, it is considered that, if a release film having a tensile elongation at break of 200% is used, a light emitting diode can be produced without causing pinholes or breakage in the film.
  • the release film is in close contact with the cavity surface in order from the edge of the cavity of the mold toward the bottom of the cavity. At this time, the release film that is in close contact with the mold is not easily slipped because it is vacuum-sucked, and the portion of the release film that is in close contact with the cavity surface is hardly stretched any further.
  • Example 1 Manufacture of release film
  • the ETFE was melt extruded at 320 ° C. with an extruder having a lip adjusted to a thickness of 50 ⁇ m to obtain a release film (ETFE film) having a thickness of 50 ⁇ m.
  • the tensile elongation at break at 110 ° C. of the release film was 680%.
  • the light emitting element As the light emitting element, a white light emitting element (operating voltage: 3.5 V, current consumption: 10 mA) was used. Moreover, the metal mold
  • the shape of the cavity 33 is a shape corresponding to a substantially hemispherical lens portion having a diameter of 0.7 mm.
  • the release film was disposed so as to cover the cavity 33 of the mold 3.
  • a substrate on which the white light emitting element is mounted is arranged on the lower mold 32 so that the light emitting element is located at a position corresponding to the center (bottom) of the cavity 33.
  • the release film was vacuum-adsorbed on the upper mold 31 by vacuum suction, and the cavity 33 was filled with a transparent silicone resin (an equal mixture of LPS-3412A and LPS-3412B (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)).
  • the mold 3 was heated to cure the resin to form a substantially hemispherical lens portion.
  • the heating temperature of the mold was 110 ° C., and the pressure was 5 MPa.
  • the curing time was 5 minutes. Thereafter, the light emitting diode was taken out from the mold.
  • Example 2 A release film (ETFE film) having a thickness of 100 ⁇ m was obtained in the same manner as in Example 1 except that the lip was adjusted to have a thickness of 100 ⁇ m. In addition, a light emitting diode was produced in the same manner as in Example 1 using the release film.
  • a release film (ETFE film) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the lip was adjusted to have the thickness shown in Table 1.
  • a light emitting diode was produced in the same manner as in Example 1 using the release film.
  • a release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the load was 5 kg and the measurement temperature was 297 ° C.): 11.5 g / 10 min), and the lip was adjusted to the thickness shown in Table 1.
  • the tensile elongation at break at 110 ° C. of the release film was 550%.
  • a light emitting diode was produced in the same manner as in Example 1.
  • Table 1 shows breakage of the release film, presence / absence of pinholes, evaluation of followability to the mold, and evaluation of the shape of the lens portion in Examples and Comparative Examples.
  • Comparative Example 2 using a release film having a large thickness which was the same as that of the Examples, although there was no pinhole or breakage in the release film, the mold of the release film A low-quality light-emitting diode having a poor lens shape and a poor lens shape was obtained.
  • Comparative Examples 3 to 5 using a release film having a tensile elongation at break of 550% and a thickness of 25 to 100 ⁇ m pinholes and breakage occurred in the release film, and the followability of the release film to the mold was inferior. Further, a low-quality light emitting diode having a poor lens shape was obtained.
  • the release film of the present invention is useful as a release film disposed in a mold cavity for forming a lens for sealing a light emitting element of a light emitting diode. It should be noted that the entire contents of the specification, claims, drawings and abstract of Japanese Patent Application No. 2009-218920 filed on September 24, 2009 are cited here as disclosure of the specification of the present invention. Incorporated.

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Abstract

　ピンホールおよび破断が発生しにくく、多数のキャビティを有する金型を用いた発光ダイオードの大量生産にも適用できる、金型による発光ダイオード製造用の離型フィルム、および該離型フィルムを用いた発光ダイオードの製造方法の提供を目的とする。　発光ダイオードの発光素子を樹脂で封止して、略半球形状のレンズ部を形成する金型のキャビティ面に配置する離型フィルムであって、厚さが１６～１７５μｍであり、ＪＩＳ　Ｋ　７１２７に準拠して測定した１１０℃における引張破断伸度が６００～３０００％である離型フィルム。また、該離型フィルムを用いた発光ダイオードの製造方法。

Description

離型フィルムおよび発光ダイオードの製造方法
　本発明は、離型フィルムおよび発光ダイオードの製造方法に関する。
　発光ダイオードは、低電力で高輝度が得られ、かつ長寿命であることから、各種照明、サインボード、液晶表示パネルのバックライト、自動車のテールランプ等に用いられている。発光ダイオードは、Ｎ型半導体とＰ型半導体とを接合させ、該界面で電子と正孔とが結合することでエネルギーを発生し、光を発する。発光ダイオードは、蛍光灯に比べ消費電力は約２分の１であり、寿命は構造上半永久的といわれており、しかも水銀等の有害物質を含まず、熱の発生が少ないことから、環境負荷の少ない省エネルギー型、高信頼性の光源として注目を集めている。
　発光ダイオードの発光素子は点発光であり、光が全方向に放射される。そこで、発光素子から放射される光の方向を発光ダイオードの正面方向に揃え、正面輝度を向上させる目的から、発光ダイオードでは多くの場合、略半球型または砲弾型のレンズ部が形成される。またレンズ部には、発光素子に電気絶縁性を付与し、また水、湿気等の外部環境から発光素子を保護する機能が必要である。そのため、レンズ部は、光の減衰が少なく、かつ耐熱性に優れた透明な封止樹脂で封止することにより形成される。封止樹脂としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂等が用いられる。
　発光ダイオードの製造方法としては、例えば、圧縮成形法またはトランスファー成形法によりレンズ部（樹脂封止部）を形成する製造方法が挙げられる。つまり、発光素子が実装された基板を、発光素子が金型の封止樹脂成形部（以下、「キャビティ」という。）内の所定の場所に位置するように配置し、キャビティ内に封止樹脂を充填してレンズ部を形成する方法が挙げられる。該製造方法は生産性に優れている。しかし、前記成形法による発光ダイオードの製造では、金型を使用することから、レンズ部が金型から離型しにくい場合、発光ダイオードを無理に離型すると、レンズ部が傷ついたり、割れたりして歩留まりが低下することがある。
　上記問題を解決する方法としては、下記（ｉ）および（ii）の方法が挙げられる。
　（ｉ）発光素子の封止工程において、封止樹脂に内部離型剤を添加する方法（例えば、特許文献１）。
　（ii）金型のキャビティ面を離型フィルムで覆った状態でキャビティ内に封止樹脂を充填してレンズ部を形成し、離型フィルムからレンズ部を離型する方法（例えば、特許文献２）。該方法では、離型フィルムを、真空吸引により金型のキャビティ形状に追従するように引き延ばして変形させ、キャビティ面に吸着させた状態でレンズ部を形成する。
特許第２５２３５１２号公報 特開２００８－１１４４２８公報
　方法（ｉ）は、離型剤の添加により、封止樹脂の透明性が損なわれ、発光ダイオードの輝度が低下する問題がある。方法（ii）は、離型剤によって封止樹脂の透明性が損なわれることがないので、発光ダイオードの輝度低下の問題はない。しかし、方法（ii）には、下記の問題がある。
　方法（ii）では、離型フィルムを略半球形状（略半球型、砲弾型）のレンズ部に対応する形状のキャビティに沿わせるため、離型フィルムが三次元的に変形される。そのため、形成するレンズ部の形状、すなわちキャビティの形状によっては、離型フィルムが大きく変形され、該離型フィルムにピンホールが発生したり、フィルムが部分的に破断したりすることがある。離型フィルムにピンホールや破断が生じると、その部分の金型のキャビティ面に、揮発した封止樹脂成分や封止樹脂そのものが付着する。この場合、金型に付着した樹脂成分等の影響で、得られる発光ダイオードのレンズ部に変形が生じて不良品となるため、歩留まりが低下する。さらに、該問題を解消するには、金型に付着した封止樹脂等の洗浄工程、製造装置からの金型の取り外しおよび再装着工程が必要になるため、製造コストが上昇する。
　また、近年では、低コストで一度に大量の発光ダイオードを製造するために、多くのキャビティが狭いピッチで形成された金型を用いた一括成型が増加している。このような複雑な形状の金型では、離型フィルムにピンホールや破断が生じるおそれが高まる。
　本発明は、ピンホールおよび破断が発生しにくく、多数のキャビティを有する金型を用いた発光ダイオードの大量生産にも適用できる、金型による発光ダイオード製造用の離型フィルムの提供を目的とする。
　また、本発明は、前記離型フィルムを用いて、良好な品質の発光ダイオードを安定して製造する方法の提供を目的とする。
　本発明は、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。
［１］発光ダイオードの発光素子を封止樹脂で封止して、略半球形状のレンズ部を形成する金型のキャビティ面に配置する離型フィルムであって、厚さが１６～１７５μｍであり、ＪＩＳ　Ｋ　７１２７に準拠して測定した１１０℃における引張破断伸度が６００～３０００％である離型フィルム。
［２］前記離型フィルムが、フッ素樹脂からなるフィルムである前記［１］に記載の離型フィルム。
［３］前記フッ素樹脂フィルムが、エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体である前記［２］に記載の離型フィルム。
［４］前記エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体が、エチレンとテトラフルオロエチレンと（ペルフルオロブチル）エチレンとの共重合体である前記［３］に記載の離型フィルム。
［５］前記略半球形状のレンズ部が砲弾型のレンズ部であり、該レンズ部の半球部分の直径が０．２～５ｍｍである前記［１］～［４］のいずれかに記載の離型フィルム。
［６］金型により、発光素子を封止樹脂で封止して発光ダイオードを製造する方法であって、下記工程（ａ）～（ｅ）を有する、発光ダイオードの製造方法。
　（ａ）前記［１］～［５］のいずれかに記載の離型フィルムを、金型のキャビティを覆うように配置する工程。
　（ｂ）前記離型フィルムを金型のキャビティ面側に真空吸引する工程。
　（ｃ）発光素子をキャビティ内の所定の位置に配置する工程。
　（ｄ）キャビティ内に封止樹脂を充填し、該封止樹脂により前記発光素子を封止して発光ダイオードを得る工程。
　（ｅ）金型内から発光ダイオードを取り出す工程。
　本発明の離型フィルムは、金型による発光ダイオード製造用の離型フィルムであり、ピンホールおよび破断が発生しにくい。そのため、多数のキャビティを有する金型を用いた発光ダイオードの大量生産にも好適に使用できる。
　また、本発明の製造方法によれば、良好な品質の発光ダイオードを安定して製造できる。
本発明における発光ダイオードの一例を示した概略正面図。（Ａ）略半球型、（Ｂ）砲弾型。 本発明における金型の一例を示した断面図である。 本発明の発光ダイオードの製造方法の一工程を示した断面図である。 本発明の発光ダイオードの製造方法の一工程を示した断面図である。 本発明の発光ダイオードの製造方法の一工程を示した断面図である。 本発明の発光ダイオードの製造方法の一工程を示した断面図である。 本発明の発光ダイオードの製造方法の一工程を示した断面図である。 本発明の発光ダイオードの製造方法の一工程を示した断面図である。
＜離型フィルム＞
　本発明の離型フィルム（以下、「本離型フィルム」という。）は、発光ダイオードの発光素子を封止樹脂で封止して、略半球形状のレンズ部を形成する金型のキャビティ面に配置する離型フィルムである。すなわち、本離型フィルムは、レンズ部の製造時に、発光ダイオードのレンズ部の形状に対応する形状のキャビティを有する金型の、キャビティ面を覆うように配置され、形成したレンズ部とキャビティ面の間に位置されることで、得られた発光ダイオードの金型からの離型性を高めるフィルムである。
　本離型フィルムには、離型性、表面平滑性、成形時の金型の温度である１１０℃～１４０℃程度に耐え得る耐熱性、封止樹脂の流動や加圧力に耐え得る強度が求められる。
　本離型フィルムとしては、離型性、耐熱性、強度、高温での伸びの点から、ポリオレフィンおよびフッ素樹脂からなる群から選ばれる１種以上の樹脂からなるフィルムが好ましく、フッ素樹脂からなるフィルムがより好ましい。本離型フィルムは、フッ素樹脂と非フッ素樹脂を併用したフィルムであってもよく、無機添加剤、有機添加剤等が配合されたフィルムであってもよい。
　ポリオレフィンとしては、離型性および金型追随性の点から、ポリメチルペンテンが好ましい。ポリオレフィンは、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　フッ素樹脂としては、エチレン／テトラフルオロエチレン共重合体（以下、「ＥＴＦＥ」という。）、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）／テトラフルオロエチレン共重合体等が挙げられる。なかでも、高温での伸びが大きい点から、ＥＴＦＥが特に好ましい。フッ素樹脂は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　ＥＴＦＥにおけるテトラフルオロエチレン（以下、「ＴＦＥ」という。）に基づく繰返し単位とエチレン（以下、「Ｅ」という。）に基づく繰返し単位との含有比率（ＴＦＥ／Ｅ）は、モル比で、８０／２０～４０／６０が好ましく、７０／３０～４５／５５がより好ましく、６５／３５～５０／５０が特に好ましい。ＴＦＥ／Ｅに基づく各繰返し単位の含有比率が前記範囲内であれば、ＥＴＦＥは耐熱性と機械物性に優れる。
　ＥＴＦＥは、Ｅに基づく繰返し単位およびＴＦＥに基づく繰返し単位以外に、その他のモノマーに基づく繰返し単位を含んでもよい。その他のモノマーの具体例としては、フッ素を含む下記モノマー（ａ１）～（ａ５）が挙げられる。
　モノマー（ａ１）：炭素数３以下のフルオロオレフィン類。
　モノマー（ａ２）：Ｘ（ＣＦ２）ｎＣＹ＝ＣＨ２（Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に水素原子またはフッ素原子であり、ｎは２～８の整数を示す。）で表されるポリフルオロアルキルエチレン。
　モノマー（ａ３）：フルオロビニルエーテル類。
　モノマー（ａ４）：官能基含有フルオロビニルエーテル類。
　モノマー（ａ５）：脂肪族環構造を有する含フッ素モノマー。
　モノマー（ａ１）としては、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ素ビニル、クロロトリフルオロエチレン等のフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン（以下、「ＨＦＰ」という。）、２－ヒドロペンタフルオロプロピレン等が挙げられる。
　モノマー（ａ２）としては、ｎが２～６のモノマーが好ましく、２～４のモノマーがより好ましい。具体例としては、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ２、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ２（（ペルフルオロブチル）エチレン、以下、「ＰＦＢＥ」という。）、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ＝ＣＨ２、ＣＦ２ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ＝ＣＨ２、ＣＦ２ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ＝ＣＨ２等が挙げられる。
　モノマー（ａ３）としては、ペルフルオロ（メチルビニルエーテル）、ペルフルオロ（エチルビニルエーテル）、ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）（以下、「ＰＰＶＥ」という。）、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３Ｏ（ＣＦ２）２ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）２（ＣＦ２）２ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ＝ＣＦ２、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）２ＣＦ＝ＣＦ２等が挙げられる。
　モノマー（ａ４）としては、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）３ＣＯ２ＣＨ３、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３ＣＯ２ＣＨ３、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）２ＳＯ２Ｆ等が挙げられる。
　モノマー（ａ５）としては、ペルフルオロ（２，２－ジメチル－１，３－ジオキソール）、２，２，４－トリフルオロ－５－トリフルオロメトキシ－１，３－ジオキソール、ペルフルオロ（２－メチレン－４－メチル－１，３－ジオキソラン）等が挙げられる。
　また、その他のモノマーとしては、フッ素を含まない下記モノマー（ｂ１）～（ｂ４）が挙げられる。
　モノマー（ｂ１）：オレフィン。
　モノマー（ｂ２）：ビニルエステル。
　モノマー（ｂ３）：ビニルエーテル。
　モノマー（ｂ４）：酸無水物。
　モノマー（ｂ１）としては、プロピレン、イソブテン等が挙げられる。
　モノマー（ｂ２）としては、酢酸ビニル等が挙げられる。
　モノマー（ｂ３）としては、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等が挙げられる。
　モノマー（ｂ４）としては、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水ハイミック酸（５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸無水物）等が挙げられる。
　これら、その他のモノマーは、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　ＥＴＦＥにおけるその他のモノマーとしては、モノマー（ａ２）、ＨＦＰ、ＰＰＶＥ、酢酸ビニルが好ましく、ＨＦＰ、ＰＰＶＥ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨ＝ＣＨ２、ＰＦＢＥがより好ましく、ＰＦＢＥが最も好ましい。
　ＥＴＦＥが、その他のモノマーに基づく繰返し単位を含有する場合、全モノマー１００ｍｏｌ％に対するその他のモノマーの含有量は、０．０１～２０ｍｏｌ％が好ましく、０．１０～１５ｍｏｌ％がより好ましく、０．２０～１０ｍｏｌ％が特に好ましい。その他のモノマーが前記範囲内であれば、ＥＴＦＥは耐熱性と機械物性に優れる。
　ＥＴＦＥがＰＦＢＥに基づく繰返し単位を含有する場合、全モノマー１００ｍｏｌ％に対するＰＦＢＥの含有量は、０．１０～１５ｍｏｌ％が好ましく、０．２０～１０ｍｏｌ％より好ましく、０．３０～５ｍｏｌ％が特に好ましい。ＰＦＢＥの含有量が前記範囲内であれば、ＥＴＦＥは耐熱性と機械物性に優れる。
　離型フィルムを構成する樹脂としては、ＥＴＦＥのなかでも、ＥとＴＦＥとＰＦＢＥとの共重合体（以下、「ＰＦＢＥ含有ＥＴＦＥ」という。）が特に好ましい。
　本発明で使用されるＥＴＦＥの溶融流量（ＭＦＲ）は、２～４０ｇ／１０分が好ましく、５～３０ｇ／１０分がより好ましく、１０～２０ｇ／１０分が特に好ましい。ＥＴＦＥのＭＦＲが前記範囲内であれば、ＥＴＦＥの成形性が向上し、本離型フィルムの機械特性が向上する。
　前記ＭＦＲは、ＡＳＴＭ　Ｄ３１５９に従って５ｋｇ負荷を用い、２９７℃で測定される値である。
　本離型フィルムの厚さは、１６～１７５μｍであり、１６～１５０μｍが好ましく、２６～１５０μｍがより好ましく、５０～１００μｍがさらに好ましい。厚さが１６μｍ以上であれば、フィルムにピンホールおよび破断が生じることを抑制できる。厚さが１７５μｍ以下であれば、本離型フィルムが容易に変形でき、金型のキャビティ形状への追従性が向上するため、本離型フィルムがしっかりとキャビティ面に密着でき、良好な品質の発光ダイオードを安定して製造できる。
　また、本離型フィルムの厚さは、金型のキャビティが大きいほど、前記範囲内において薄いことが好ましい。また、多数のキャビティを有する複雑な金型であるほど、前記範囲内において薄いことが好ましい。
　本離型フィルムの１１０℃における引張破断伸度は、６００～３０００％であり、６２０～２０００％が好ましく、６４０～１５００％がより好ましい。引張破断伸度が６００％以上であれば、本離型フィルムが容易に変形でき、金型のキャビティ形状への追従性が向上するため、本離型フィルムにピンホールが発生したり、部分的に破断したりすることを抑制できる。引張破断伸度が３０００％以下であれば、本離型フィルムにおける伸びた部分の厚みが極端に薄くなり、金型のキャビティ面を覆うフィルムに大きな厚みムラが生じることを抑制できる。そのため、良好な形状のレンズ部を有し、優れた光学特性を示す発光ダイオードを安定して製造できる。
　引張破断伸度は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２７に準拠した方法で、厚さ５０μｍの試験フィルムについて、温度１１０℃、引張速度５０ｍｍ／分の条件での引張試験を行うことにより測定される。
　本離型フィルムの引張破断伸度は、樹脂の分子量および結晶化度を調整することにより調整できる。具体的には、樹脂の分子量が高いほど引張破断伸度が高くなる。また、樹脂の結晶化度が低いほど、引張破断伸度が高くなる。
　本離型フィルムの表面は、平滑であることが好ましい。表面が平滑な本離型フィルムを用いることにより、高品質なレンズ部が形成されやすく、光学特性に優れた発光ダイオードの製造が容易になる。
　フィルムの一方の表面を梨地とし、該表面を金型のキャビティ側にして使用すれば、キャビティへの真空吸着が容易になるが、該フィルムの使用はレンズ部に変形を生じさせてレンズ精度を低下させるおそれがある。
　具体的には、本離型フィルムの表面の１０点平均粗さ（Ｒｚ）は、鏡面の場合、０．０１～０．１μｍが好ましい。
　梨地表面の場合には、０．１５～３．５μｍが好ましい。前記Ｒｚが０．１５μｍ以上であれば、本離型フィルムのキャビティへの真空吸着が促進される。また、前記Ｒｚが３．５μｍ以下であれば、発光ダイオードのレンズ表面に凹凸が形成されることを抑制しやすい。
　前記Ｒｚは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１に準拠して測定される値である。
　本離型フィルムは、前記組成の樹脂を用いて、所定のリップ幅を有するＴダイを具備する押出機による溶融成形等により製造できる。
　以上説明した本離型フィルムは、金型により、略半球形状のレンズ部を有する発光ダイオードを製造する際に用いる。本発明における略半球形状のレンズ部とは、略半球型のレンズ部、および砲弾型のレンズ部を含む。砲弾型のレンズ部とは、円柱形状の樹脂封止部分と、その上の略半球形状のレンズ部分とからなる形状のレンズ部である。
　図１（Ａ）に、略半球型のレンズ部を有する発光ダイオードの一例を示す。また、図１（Ｂ）に、砲弾型のレンズ部を有する発光ダイオードの一例を示す。
　発光ダイオード１Ａは、図１（Ａ）に示すように、基板１１ａ上に発光素子１２ａが実装され、発光素子１２ａが封止樹脂で封止されて略半球型のレンズ部１３ａが形成されている。発光ダイオード１Ａを白色発光ダイオードとする場合には、蛍光体を分散させた樹脂で発光素子１２ａを封入した状態で、その周りを封止樹脂で封止してレンズ部１３ａを形成する。
　レンズ部１３ａの直径ｄ１は、０．１～３０ｍｍが好ましく、０．５～２０ｍｍがより好ましい。
　発光ダイオード１Ｂは、図１（Ｂ）に示すように、リードフレーム１１ｂと一体化形成したカップ１２ｂ内に発光素子１３ｂが設置され、該発光素子１３ｂともう一方のリードフレーム１１ｂとがＡｕワイヤー１４ｂで連結されており、その周りが封止樹脂で封止されて砲弾型のレンズ部１５ｂが形成されている。発光ダイオード１Ｂを白色発光ダイオードとする場合には、カップ１２ｂ内に蛍光体を分散させた樹脂を充填して発光素子１３ｂを封入した状態で、その周りを封止樹脂で封止してレンズ部１５ｂを形成する。
　レンズ部１５ｂの半球部分の直径ｄ２は、０．２～５ｍｍが好ましく、０．５～３ｍｍがより好ましい。レンズ部１５ｂの円柱部分の高さｄ３は、０．２～８ｍｍが好ましく０．３～６ｍｍがより好ましい。
　本離型フィルムは、前述した略半球型または砲弾型のレンズ部を有する発光ダイオードの製造において、該レンズ部の形状に対応する形状のキャビティに沿ってピンホールや破断を生じることなく変形し、キャビティ面に密着できる。そのため、良好な品質の発光ダイオードを安定して製造できる。
＜発光ダイオードの製造方法＞
　本発明の発光ダイオードの製造方法は、金型により、発光素子を封止樹脂で封止して発光ダイオードを製造する方法において、本離型フィルムを用いることを特徴とする。本発明の発光ダイオードの製造方法は、本離型フィルムを使用する以外は、公知の製造方法が使用できる。
　レンズ部の形成方法としては、圧縮成形法またはトランスファー成形法が挙げられる。製造装置（金型）としては、公知の圧縮成形装置またはトランスファー成形装置が使用できる。製造条件も、公知の発光ダイオードの製造方法における条件と同じ条件が使用できる。
　本発明の発光ダイオードの製造方法は、下記工程（ａ）～（ｅ）を有する。
　（ａ）本離型フィルムを、金型のキャビティを覆うように配置する工程。
　（ｂ）前記本離型フィルムを金型のキャビティ面側に真空吸引する工程。
　（ｃ）発光素子をキャビティ内の所定の位置に配置する工程。
　（ｄ）キャビティ内に封止樹脂を充填し、該封止樹脂により前記発光素子を封止して発光ダイオードを得る工程。
　（ｅ）金型内から発光ダイオードを取り出す工程。
　以下、本発明の発光ダイオードの製造方法の一実施形態例として、前記発光ダイオード１Ａをトランスファー成形法により製造する場合について詳細に説明する。
　用いる金型３は、図２に示すように、上型３１と下型３２を有する。
　上型３１側には、発光ダイオード１Ａのレンズ部１３ａの形状に対応する形状のキャビティ３３と、キャビティ３３に封止樹脂を導く凹状の樹脂導入部３４が形成されている。
　下型３２側には、図２に示すように、封止樹脂を配置する樹脂配置部３５が形成されており、樹脂配置部３５内に封止樹脂を上型３１へと押し出すプランジャ３６が設置されている。
　上型３１のキャビティ面３３ａは、高品質なレンズ部が形成されやすく、光学特性に優れた発光ダイオードが得られやすい点から、平滑であることが好ましい。
　キャビティ面３３ａを梨地とすれば、本離型フィルムをより効率的にキャビティ面３３ａに真空吸着できるが、得られる発光ダイオード１Ａのレンズ部１３ａに変形が生じてレンズ精度が悪化するおそれがある。
　工程（ａ）：
　図３に示すように、金型３の上型３１のキャビティ３３を覆うように本離型フィルム４を配置する。本離型フィルム４は、キャビティ３３、樹脂導入部３４の全体を覆うように配置することが好ましい。
　工程（ｂ）：
　金型３におけるキャビティ３３の外部に形成した溝を通じて真空吸引し、本離型フィルム４と、キャビティ３３および樹脂導入部３４の間の空間を減圧し、図４に示すように、本離型フィルム４を引き延ばして変形させて、金型３の上型３１に真空吸着させる。
　高温環境下での離型フィルム４の強度、厚さ、またキャビティ３３の形状により、必ずしも離型フィルム４はキャビティ３３に密着するとは限らない。図４に示すように、本実施形態の工程（ｂ）の真空吸着の段階では、本離型フィルム４は、キャビティ面３３ａに完全には密着していない。
　工程（ｃ）：
　図５に示すように、発光素子１２ａを実装した基板１１ａを、基板設置部３７に設置して金型３を閉じ、発光素子１２ａをキャビティ３３内の所定の位置に配置する。また、樹脂配置部３５のプランジャ３６上には、封止樹脂Ｘを配置しておく。
　封止樹脂Ｘとしては、発光ダイオードの発光素子を封止するのに通常、透明樹脂が使用される。また、光拡散性を目的に添加剤等を含有した乳白色の透明樹脂を用いることもある。
　封止樹脂Ｘとしては、シリコーン樹脂（商品名「ＬＰＳ－３４１２Ａ」、「ＬＰＳ－３４１２Ｂ」（以上、信越化学社製）等。）、エポキシ樹脂（日本化薬社製のＳＥＪ－０１Ｒ）等の熱硬化性樹脂が好ましい。
　工程（ｄ）：
　図６に示すように、下型３２のプランジャ３６を押し上げ、樹脂導入部３４を通じてキャビティ３３内に封止樹脂Ｘを充填する。次いで、金型３を加熱し、封止樹脂Ｘを硬化させ、発光素子１２ａを封止するレンズ部１３ａを形成する。
　本実施形態では、工程（ｄ）において、キャビティ３３内に封止樹脂Ｘが充填されることにより、樹脂圧力により本離型フィルム４がさらにキャビティ面３３ａ側に押し込まれ、引き延ばされて変形することによりキャビティ面３３ａに密着する。そのため、キャビティ３３の形状に対応する略半球型のレンズ部１３ａが形成される。
　金型３の加熱温度、すなわち封止樹脂Ｘの加熱温度は、１００～１８５℃が好ましく、１１０～１４０℃がより好ましい。加熱温度が１００℃以上であれば、発光ダイオードの生産性が向上する。加熱温度が１８５℃以下であれば、封止樹脂Ｘの劣化を抑制しやすい。また、封止樹脂Ｘの熱膨張率に起因するレンズ部１３ａの形状変化、また発光ダイオードの保護が特に求められる場合には、前記範囲内においてできるだけ低い温度で加熱することが好ましい。
　封止樹脂Ｘの充填時の樹脂圧は、２～３０ＭＰａが好ましく、３～１０ＭＰａがより好ましい。圧力が２ＭＰａ以上であれば、封止樹脂Ｘの充填不足等の欠点が生じることを抑制しやすい。圧力が３０ＭＰａ以下であれば、良好な品質の発光ダイオードが得られやすい。封止樹脂Ｘの樹脂圧は、プランジャ３６により調整できる。
　工程（ｅ）：
　図７に示すように、樹脂導入部３４内で封止樹脂Ｘが硬化した硬化物１４ａが付着した状態の発光ダイオード１Ａを金型３から取り出し、硬化物１４ａを切除する。
　本実施形態の製造方法では、レンズ部１３ａ形成後の金型３内で、形成したレンズ部１３ａとキャビティ面３３ａの間に本離型フィルム４が配置されているため、発光ダイオード１Ａを金型３から容易に離型できる。
　本実施形態では、工程（ａ）および工程（ｂ）と、工程（ｃ）の順序は特に限定されない。例えば、基板１１ａおよび発光素子１２ａをキャビティ内の所定の位置に配置（工程（ｃ））した後に、本離型フィルム４を、金型３のキャビティ３３上に配置（工程（ａ））して、該本離型フィルム４を金型３のキャビティ面３３ａ側に真空吸引（工程（ｂ））してもよい。
　本発明の発光ダイオードの製造方法は、前述の略半球型のレンズ部を有する発光ダイオードの製造と同様にして、砲弾型のレンズ部を有する発光ダイオードの製造にも適用できる。この場合、砲弾型のレンズ部に対応するキャビティを有し、発光素子を所定の位置に設置できる金型を用い、前記工程（ａ）～（ｅ）を実施すればよい。
　また、本発明の発光ダイオードは、本離型フィルムを用いて圧縮成形法により製造することも好ましい。圧縮成形法は、特開２００８－１１４４２８号公報等に記載されているように、発光ダイオードの製造に一般的に用いられている方法である。
　例えば、図８に示すように、発光ダイオードのレンズ部の形状に対応する形状の複数のキャビティ５５（図８では８つ）を有する下型５１と、中型５２と、上型５３と、中型５２と上型５３の間に位置して外気を遮断するＯリング５４とを有する圧縮成形用金型５０を用いる方法が挙げられる。
　工程（ａ）：
　下型５１の各キャビティ５５上に、下型５１と中型５２により挟み込んで固定するようにして、本離型フィルム６を配置する。
　工程（ｂ）：
　下型５１の各キャビティ５５に本離型フィルム６を真空吸着させる。
　工程（ｃ）、（ｄ）：
　下型５１のキャビティ５５上に、シリコーン樹脂やエポキシ樹脂等の透光性を有する液状の封止樹脂Ｘを供給する。その後、各キャビティ５５に対応する位置に複数の発光素子７２（発光ダイオードチップ等。）が装着された基板７１（リードフレーム等。）を上型５３に配置し、圧縮成形用金型５０を閉じ、圧縮成形により所要数個の発光素子を一括して封止して発光ダイオードを製造する。
　工程（ｅ）：
　圧縮成形用金型４０から発光ダイオードを取り出す。
　以上説明した本発明の製造方法によれば、本離型フィルムを用いることで、略半球形状のレンズ部を有する高品質な発光ダイオードを高歩留まりで安定して製造できる。また、本離型フィルムは、ピンホールおよび破断を生じずに容易に引き延ばして変形できるため、多数のキャビティを有する複雑な形状の金型にも適用できる。そのため、発光ダイオードを低コストで一度に大量に製造することもできる。
　なお、本発明の発光ダイオードの製造方法は、前記方法には限定されない。例えば、キャビティ内に真空吸引孔を設置した金型を用いてもよい。該金型を用いれば、前記金型３を用いる方法に比べて効率的に本離型フィルムをキャビティ面に真空吸着できる。しかし、発光ダイオードのレンズ部に、離型フィルムを介して吸着孔跡が転写されるため、レンズ精度が悪化しやすい。
　以下、本離型フィルムの作用効果について説明する。
　従来、金型を用いてレンズ部を形成する場合には、充分な引張破断伸度を有すると思われる離型フィルムを用いても、該フィルムにピンホールや破断が発生することがあった。例えば、略半球型のレンズ部を形成する金型において、キャビティの底を含む断面（半円）の円周の長さｘと、キャビティの直径ｙとの比（ｘ：ｙ）は、π／２：１（＝πｒ：２ｒ）である。そうすると、離型フィルムが最も大きく引き伸ばされる、キャビティの底（中心）を通る線上の部分でも、離型フィルムが引き延ばされる割合（伸度）は計算上１６０％程度である。このことから、計算上は、引張破断伸度が２００％の離型フィルムを用いれば、該フィルムにピンホールや破断を生じさせずに発光ダイオードを製造できると考えられる。
　しかし、本発明者がこの点について詳細に検討したところ、略半球形状の発光ダイオードの製造においては、引張破断伸度が６００％以上でなければ、離型フィルムにピンホールや破断が生じることを抑制できないことが判明した。該理由は、以下のように考えられる。
　レンズ部の形成の際、離型フィルムは、金型のキャビティの縁側からキャビティの底に向かって順にキャビティ面に密着していく。このとき、金型に密着した離型フィルムは真空吸着されるために滑りにくくなり、離型フィルムにおけるキャビティ面に密着した部分はそれ以上ほとんど引き延ばされないと考えられる。つまり、キャビティ内の離型フィルムは、キャビティの底に向かうほど大きく引き伸ばされて変形すると考えられる。そのため、計算上では充分と考えられる引張破断伸度よりも、遥かに高い引張破断伸度を有している離型フィルムを用いなければ、フィルムにピンホールや破断が生じてしまうものと思われる。実際に、離型フィルムのピンホールや破断はキャビティの底付近で多く起きており、該事実はこの考えを裏付けるものと考えられる。
　以下、実施例および比較例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載によっては限定されない。
［引張破断伸度］
　離型フィルムの引張破断伸度（単位：％）は、ＪＩＳ　Ｋ　７１２７に準拠して測定した。厚さ５０μｍの離型フィルムを、試験片タイプ５ダンベルで打ち抜き、試験フィルムを作成した。該試験フィルムについて、温度１１０℃、引張速度５０ｍｍ／分の条件で引張試験を行い、引張破断伸度を測定した。
［破れ、ピンホールの有無］
　発光ダイオードを製造した後、離型フィルムの破れ、ピンホールの発生状況を目視にて調べた。
［離型フィルムの金型への追従性］
　発光ダイオードを製造した後、離型フィルムの金型への追従性を目視にて下記基準で評価した。
　○（良好）：キャビティ面とフィルム面の隙間が無かった。
　×（不良）：キャビティ面とフィルム面の隙間あった。
［レンズ部の形状評価］
　得られた発光ダイオードのレンズ部の形状の評価は、目視により下記基準で行った。
　○（良好）：局所的な凹凸が無かった。
　×（不良）：離型フィルムの破れに基づく局所的な凹凸があった。
［実施例１］
（離型フィルムの製造）
　フッ素樹脂として、ポリマー組成が、ＴＦＥに基づく繰返し単位／Ｅに基づく繰返し単位／ＰＦＢＥに基づく繰返し単位＝５６．３／４０．７／３．０（モル比）であるＥＴＦＥ（ＭＦＲ（ＡＳＴＭ　Ｄ３１５９準拠、荷重５ｋｇ、測定温度２９７℃）：１５ｇ／１０分）を用いた。厚さが５０μｍになるようにリップを調整した押出機により、前記ＥＴＦＥを３２０℃で溶融押出しし、厚さ５０μｍの離型フィルム（ＥＴＦＥフィルム）を得た。
　該離型フィルムの１１０℃における引張破断伸度は６８０％であった。
（発光ダイオードの製造）
　発光素子としては、白色発光素子（動作電圧：３．５Ｖ、消費電流：１０ｍＡ）を用いた。また、金型は、図２に例示した金型３を用いた。キャビティ３３の形状は、直径０．７ｍｍの略半球型のレンズ部に対応する形状とした。
　該金型３のキャビティ３３を覆うように前記離型フィルムを配置した。キャビティ３３の中心（底）に対応する位置に発光素子が位置するように、下型３２に前記白色発光素子を実装した基板を配置した。真空吸引により前記離型フィルムを上型３１に真空吸着させ、キャビティ３３内に透明シリコーン樹脂（ＬＰＳ－３４１２ＡおよびＬＰＳ－３４１２Ｂ（以上、信越化学社製）の等量混合物）を充填した。金型３を加熱して該樹脂を硬化させ、略半球型のレンズ部を形成した。金型の加熱温度は１１０℃、圧力は５ＭＰａとした。また、硬化時間は５分とした。その後、金型から発光ダイオードを取り出した。
［実施例２］
　厚さが１００μｍになるようにリップを調整した以外は、実施例１と同様にして厚さ１００μｍの離型フィルム（ＥＴＦＥフィルム）を得た。また、該離型フィルムを用いて、実施例１と同様にして発光ダイオードを製造した。
［比較例１および２］
　表１に示す厚さになるようにリップを調整した以外は、実施例１と同様にして離型フィルム（ＥＴＦＥフィルム）を得た。また、該離型フィルムを用いて、実施例１と同様にして発光ダイオードを製造した。
［比較例３～６］
　フッ素樹脂として、ポリマー組成が、ＴＦＥに基づく繰返し単位／Ｅに基づく繰返し単位／ＰＦＢＥに基づく繰返し単位＝５２．３／４６．４／１．３（モル比）あるＥＴＦＥ（ＭＦＲ（ＡＳＴＭ　Ｄ３１５９準拠、荷重５ｋｇ、測定温度２９７℃）：１１．５ｇ／１０分）を用い、表１に示す厚さになるようにリップを調整した以外は、実施例１と同様にして離型フィルムを得た。
　該離型フィルムの１１０℃における引張破断伸度は５５０％であった。
　該離型フィルムを用いて、実施例１と同様にして発光ダイオードを製造した。
　実施例および比較例における離型フィルムの破れ、ピンホールの有無、金型への追従性の評価、およびレンズ部の形状評価を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、実施例１および２では、離型フィルムにピンホールや破断が生じず、また離型フィルムの金型への追従性も良好であった。また、良好な形状のレンズ部を有する高品質な発光ダイオードが製造できた。
　一方、実施例と同等の引張破断伸度であるが、厚さの薄い離型フィルムを用いた比較例１では、離型フィルムにピンホールや破断が生じ、離型フィルムの金型への追従性が劣っていた。また、レンズ部の形状が不良な品質の低い発光ダイオードが得られた。
　また、実施例と同等の引張破断伸度であるが、厚さの厚い離型フィルムを用いた比較例２では、離型フィルムにピンホールや破断は生じなかったものの、離型フィルムの金型への追従性が劣っており、レンズ部の形状が不良な品質の低い発光ダイオードが得られた。
　また、引張破断伸度が５５０％で厚さ２５～１００μｍの離型フィルムを用いた比較例３～５では、離型フィルムにピンホール、破断が生じ、離型フィルムの金型への追従性が劣っていた。また、レンズ部の形状が不良な品質の低い発光ダイオードが得られた。
　また、引張破断伸度が５５０％で厚さ２００μｍの離型フィルムを用いた比較例６では、離型フィルムにピンホールや破断は生じなかったものの、離型フィルムの金型への追従性が劣っており、レンズ部の形状が不良な品質の低い発光ダイオードが得られた。
　本発明の離型フィルムは、発光ダイオードの発光素子を封止するレンズを形成するための金型のキャビティ内に配置される離型フィルムとして有用である。

　なお、２００９年９月２４日に出願された日本特許出願２００９－２１８９２０号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
　１Ａ、１Ｂ　発光ダイオード　１１ａ　基板　１２ａ　発光素子　１３ａ　レンズ部　１１ｂ　リードフレーム　１２ｂ　カップ　１３ｂ　発光素子　１４ｂ　Ａｕワイヤー　１５ｂ　レンズ部　３　金型　３１　上型　３２　下型　３３　キャビティ　３３ａ　キャビティ面　４　本離型フィルム　５０　圧縮成形用金型　５１　下型　５２　中型　５３　上型　５４　Ｏリング　５５　キャビティ　６　本離型フィルム　７１　基板　７２　発光素子

Claims (6)

  1. 　発光ダイオードの発光素子を封止樹脂で封止して、略半球形状のレンズ部を形成する金型のキャビティ面に配置する離型フィルムであって、
    　厚さが１６～１７５μｍであり、
    　ＪＩＳ　Ｋ　７１２７に準拠して測定した１１０℃における引張破断伸度が６００～３０００％である離型フィルム。
  2. 　前記離型フィルムが、フッ素樹脂からなるフィルムである請求項１に記載の離型フィルム。
  3. 　前記フッ素樹脂フィルムが、エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体である請求項２に記載の離型フィルム。
  4. 　前記エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体が、エチレンとテトラフルオロエチレンと（ペルフルオロブチル）エチレンとの共重合体である請求項３に記載の離型フィルム。
  5. 　前記略半球形状のレンズ部が砲弾型のレンズ部であり、該レンズ部の半球部分の直径が０．２～５ｍｍである請求項１～４のいずれかに記載の離型フィルム。
  6. 　金型により、発光素子を封止樹脂で封止して発光ダイオードを製造する方法であって、下記工程（ａ）～（ｅ）を有する、発光ダイオードの製造方法。
    　（ａ）請求項１～５のいずれかに記載の離型フィルムを、金型のキャビティを覆うように配置する工程。
    　（ｂ）前記離型フィルムを金型のキャビティ面側に真空吸引する工程。
    　（ｃ）発光素子をキャビティ内の所定の位置に配置する工程。
    　（ｄ）キャビティ内に封止樹脂を充填し、該封止樹脂により前記発光素子を封止して発光ダイオードを得る工程。
    　（ｅ）金型内から発光ダイオードを取り出す工程。
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