WO2009123157A1 - 接続部品用金属材料およびその製造方法 - Google Patents

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賢悟 水戸瀬
秀一 北河
吉章 荻原
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古河電気工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a metal material for connection parts and a method for manufacturing the same, and more particularly to a metal material for connection parts having sufficient gloss after reflow and a method for manufacturing the metal material.
  • a plating material in which a plating layer such as tin (Sn) or tin alloy is provided on a base material of a conductor such as copper (Cu) or a copper alloy (hereinafter referred to as a base material as appropriate) is excellent in the base material. It is known as a high-performance conductor material having electrical conductivity and strength, and excellent electrical connectivity, corrosion resistance, and solderability of the plated layer, and is widely used for various terminals and connectors.
  • the mating connector has become multipolar, so a great deal of force is required when inserting and removing the male terminal group and the female terminal group, especially in a narrow space such as in the engine room of an automobile. Since insertion / extraction work is difficult, reduction of the insertion / extraction force is strongly demanded.
  • the fretting phenomenon is that the soft Sn plating layer on the surface of the terminal wears and oxidizes due to fine sliding that occurs between the contact surfaces of the terminal due to vibration, temperature change, etc., and becomes a wear powder having a large specific resistance. When this phenomenon occurs between terminals, a connection failure occurs. This phenomenon is more likely to occur as the contact pressure between the terminals is lower.
  • a Cu—Sn alloy coating layer and a Sn coating layer are formed in this order on the surface of a base material made of a Cu sheet, and the material surface exposed area ratio of the Cu—Sn alloy coating layer is 3 to 75%, the average thickness is 0.1 to 3.0 ⁇ m, the Cu content is 20 to 70 at%, and the average thickness of the Sn or Sn alloy coating layer is 0.2 to 5.0 ⁇ m
  • a conductive material for connecting parts is described. It is also described that a Cu—Sn alloy coating layer is formed by performing a reflow process.
  • this conductive material is used for a multipolar connector in an automobile or the like, for example, the insertion force when fitting the male and female terminals is low, the assembly work can be performed efficiently, and it can be performed for a long time in a high temperature atmosphere. It is said that electrical reliability (low contact resistance) can be maintained even when held or in a corrosive environment.
  • the conductive material for connecting parts described above is made of a Cu plate, but when the base material is a square wire, the production of a Cu—Sn alloy plated wire by heat treatment such as reflow treatment is performed. Alternatively, when the Sn plated wire is manufactured, the surface properties after the heat treatment may be deteriorated. In addition, there is a phenomenon that whiskers that may cause a short-circuit accident occur despite the reflow treatment. These phenomena are considered to occur due to the fact that Sn on the square wire melts and flows during the reflow process, and the distribution of Sn becomes non-uniform. There is no description about the case of a wire rod, and a new approach is required to solve this problem.
  • this invention makes it a subject to provide the metal material for connection components with the favorable surface property after heat processing, and the favorable solderability in a post process, and its manufacturing method.
  • Another object of the present invention is to provide a metal material for connecting parts that has good surface properties after heat treatment and is less likely to generate whiskers, and a method for producing the same.
  • the following means are provided: (1) In the metal material for connecting parts in which a copper or copper alloy square wire is used as a base material and a copper tin alloy layer substantially composed of copper and tin is formed on the outermost surface thereof, the outermost surface copper
  • the tin alloy layer further includes at least one selected from the group consisting of zinc, indium, antimony, gallium, lead, bismuth, cadmium, magnesium, silver, gold, and aluminum in a mass ratio with respect to the tin content.
  • Metal material for connecting parts characterized by containing 0.01% or more and 1% or less, (2) An alloy mainly composed of tin on the outermost surface in a metal material for connecting parts, in which a copper or copper alloy square wire is used as a base material, and an alloy layer mainly composed of tin is formed on the outermost surface thereof.
  • the layer contains an element selected from at least one of the following two groups (A) and (B) in a total amount of 0.01% by mass or more and 2% by mass or less.
  • A containing at least one selected from the group consisting of gallium, indium, lead, bismuth, cadmium, magnesium, zinc, silver, and gold;
  • B at least one selected from the group consisting of aluminum and copper is contained in an amount of 0.01 to 0.5% by mass, (3)
  • a copper or copper alloy square wire is used as a base material, and at least selected from the group consisting of zinc, indium, antimony, gallium, lead, bismuth, cadmium, magnesium, silver, gold, copper, and aluminum on the base material.
  • the intermediate material After forming a tin alloy plating layer containing one kind in a total amount of 0.01% by mass or more and 1% by mass or less to obtain an intermediate material, the intermediate material is subjected to heat treatment, and copper and tin are contained on the outermost surface.
  • a method for producing a metal material for connecting parts characterized in that an alloy layer is formed, (5) The method for producing a metal material for connection parts according to (4), wherein the thickness of the tin alloy plating layer before the heat treatment is 0.3 to 0.8 ⁇ m, (6) Between the base material and the tin alloy plating layer, a layer made of nickel, cobalt, iron or an alloy thereof, a copper plating layer or a copper alloy plating layer is provided between the base material and the side close to the base material.
  • the tin plating or tin alloy has a thickness of the tin plating layer or tin alloy plating layer before the heat treatment of 0.3 to 0.8 ⁇ m and the thickness of the copper plating layer (Cu thickness)
  • a copper or copper alloy square wire is used as a base material, and a total amount of elements selected from at least one of the following two groups (A) and (B) is 0.01 mass on the base material.
  • the intermediate material is obtained by forming a tin alloy plating layer containing not less than 2% by mass and not more than 2% by mass, and then the intermediate material is subjected to heat treatment.
  • A containing at least one selected from the group consisting of gallium, indium, lead, bismuth, cadmium, magnesium, zinc, silver, and gold;
  • B at least one selected from the group consisting of aluminum and copper is contained in an amount of 0.01 to 0.5% by mass,
  • the method for producing a metal material for connection parts as set forth in (8), wherein the thickness of the tin alloy plating layer before the heat treatment is 0.8 to 1.2 ⁇ m, (10) Between the base material and the tin alloy plating layer, a layer made of nickel, cobalt, iron or an alloy thereof, a copper plating layer or a copper alloy plating layer is provided between the base material and the side close to the base material.
  • a method for producing a metal material for connecting parts as described in the item (8), wherein a material is obtained (11)
  • the tin plating layer or tin alloy plating layer has a thickness of 0.8 to 1.2 ⁇ m before the heat treatment, and the tin plating or tin alloy with respect to the thickness of the copper plating layer (Cu thickness)
  • the ratio (Sn thickness / Cu thickness) of the thickness of the plating layer (Sn thickness / Cu thickness) is 2 or more
  • (12) the method for producing a metal material for connecting parts according to item (10) The method for producing a metal material for connecting parts as set forth in any one of (4) to (11), wherein is a reflow treatment.
  • the metal material for connecting parts according to the items (1) and (3) ⁇ provided that the item is subordinate to the item (1) ⁇ , and the items (4) to (7) and (12)
  • the manufacturing method of the metal material for connecting parts described in the item ⁇ however, which is directly or indirectly dependent on the item (4) ⁇ is also referred to as a first embodiment of the present invention.
  • the manufacturing method of the metal material for connecting parts described in the item ⁇ ), but limited to those directly or indirectly dependent on the item (8) ⁇ is also referred to as a second embodiment of the present invention.
  • the present invention is meant to include all of the first and second embodiments.
  • the outermost surface of the copper or copper alloy square wire material (including the square bar material) of the present invention is substantially composed of copper and tin, and is further composed of zinc, indium, antimony, gallium, lead, bismuth and cadmium.
  • tin On the outermost surface of the base material of the copper or copper alloy square wire material (including the square bar material) of the present invention, tin is the main component, and at least one of the following two groups (A) and (B):
  • the metal material for connecting parts containing a total amount of elements selected from one group of 0.01% by mass or more and 2% by mass or less does not depend on the irregularities on the surface of the base material, and has sufficient gloss after heat treatment, , A metal material that is less likely to generate whiskers.
  • A At least one selected from the group consisting of gallium, indium, lead, bismuth, cadmium, magnesium, zinc, silver, and gold is contained in an amount of 0.01% by mass to 1% by mass.
  • FIG. It is a partial expansion schematic sectional drawing of the metal material for connection components (square wire) of Example 1.
  • FIG. It is a partial expansion schematic sectional drawing of the metal material (square wire) for connection components of Example 2.
  • FIG. It is a partial expansion schematic sectional drawing of the metal material (square wire) for connection components of Example 3.
  • FIG. It is a partial expansion schematic sectional drawing of the metal material (square wire) for connection components of Example 4.
  • FIG. It is a partial expansion schematic sectional drawing of the metal material for connection components (square wire) of Example 5.
  • FIG. It is a partial expanded schematic sectional drawing of the metal material (square wire) for connection components of Example 6.
  • FIG. It is a partial expansion schematic sectional drawing of the metal material (square wire) for connection components of Example 7.
  • the metal material for connecting parts in one preferred embodiment of the present invention is a base material made of a square wire formed of copper or a copper alloy. Consists of tin, zinc (Zn), indium (In), antimony (Sb), gallium (Ga), lead (Pb), bismuth (Bi), cadmium (Cd), magnesium (Mg), silver (Ag) , At least one selected from the group consisting of gold (Au) and aluminum (Al) is contained in a total amount of 0.01% or more and 1% or less by mass ratio to the content of tin.
  • the metal material for connecting parts of another preferred embodiment of the present invention has a square wire formed of copper or a copper alloy as a base material, and tin as a main component on the outermost surface thereof. Furthermore, the elements selected from at least one of the following two groups (A) and (B) are contained in a total amount of 0.01% by mass or more and 2% by mass or less.
  • A) At least one selected from the group consisting of Ga, In, Pb, Bi, Cd, Mg, Zn, Ag, and Au is contained in an amount of 0.01% by mass to 1% by mass.
  • At least one selected from the group consisting of Al and Cu is contained in an amount of 0.01 to 0.5% by mass.
  • Copper or copper alloy is used as the base material of the metal material for connecting parts of the present invention, and has the conductivity, mechanical strength and heat resistance required for the connector, phosphor bronze, brass, white, beryllium copper Copper alloys such as Corson alloy are preferred.
  • a rectangular wire material (including a square bar material) is preferable.
  • the square wire may have a cross-sectional shape that may be any of a square, a rectangle, and a regular hexagon, and may be a deformed wire.
  • a square wire having a substantially square cross-sectional shape can be preferably used in the present invention.
  • the present invention it is preferable to perform Cu undercoating on the square wire material and to provide a Cu plating layer.
  • the thickness of the Cu plating layer is preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m. Furthermore, 0.05 to 1.0 ⁇ m is preferable.
  • nickel (Ni) base plating having a barrier property for preventing metal diffusion from the base material may be applied between the base material and the copper base.
  • Nickel base plating is Ni-P, Ni-Sn, Co-P, Ni-Co, Ni-Co-P, Ni-Cu, Ni-Cr, Ni-Zn, Ni-Fe Ni alloy plating may be used.
  • Ni and Ni alloys do not deteriorate even when the barrier function is in a high temperature environment.
  • cobalt (Co), iron (Fe), or alloys thereof exhibit the same effect, and thus are preferably used as an underlayer.
  • the thickness of the layer made of nickel, cobalt, iron, or an alloy thereof is less than 0.02 ⁇ m, the barrier function is not sufficiently exhibited, and when it exceeds 3.0 ⁇ m, the plating distortion increases and the layer is easily peeled off. Therefore, 0.02 to 3.0 ⁇ m is preferable.
  • the upper limit of the thickness of the layer made of nickel, cobalt, iron, or an alloy thereof is preferably 1.5 ⁇ m, more preferably 1.0 ⁇ m, considering the terminal workability.
  • tin alloy plating is applied to the surface layer of the material.
  • the tin alloy plating is selected from the group consisting of zinc, indium, antimony, gallium, lead, bismuth, cadmium, magnesium, silver, gold, copper, and aluminum. At least one kind is contained in a total amount of 0.01% by mass or more and 1% by mass or less. Further, in the metal material for connecting parts of the second embodiment, this tin alloy plating is performed in a total amount of elements selected from at least one of the following two groups (A) and (B): Contains from 01% by mass to 2% by mass.
  • At least one selected from the group consisting of Ga, In, Pb, Bi, Cd, Mg, Zn, Ag, and Au is contained in an amount of 0.01% by mass to 1% by mass.
  • At least one selected from the group consisting of Al and Cu is contained in an amount of 0.01 to 0.5% by mass.
  • the tin alloy plating thickness is preferably 0.3 ⁇ m or more, and if the tin alloy plating thickness is too thick, the tin alloy will eventually remain on the surface of the copper tin alloy layer, causing the fretting phenomenon. 0.8 ⁇ m is more preferable, and 0.3 to 0.6 ⁇ m is more preferable.
  • the thickness is preferably 0.3 ⁇ m or more. 8 to 1.2 ⁇ m is more preferable, and 0.8 to 1.0 ⁇ m is more preferable.
  • the tin alloy plating may be formed by electroless plating, but is preferably formed by electroplating.
  • a tin sulfate bath may be used for electroplating of the surface layer with a plating temperature of 30 ° C. or less and a current density of 5 A / dm 2 .
  • the conditions are not limited to this, and can be set as appropriate.
  • the thickness of the surface tin plating or tin alloy plating layer (Sn thickness) relative to the thickness of the base copper plating layer (Cu thickness) is preferably less than 2, and more preferably 1.0 to 2.0.
  • the thickness of the surface tin plating or tin alloy plating layer (Sn thickness) with respect to the thickness of the base copper plating layer (Cu thickness) is preferably 2 or more, more preferably 2.0 to 3.0.
  • the metal material for connecting parts of the present invention is heat-treated in the longitudinal direction of a rectangular wire material in which a tin alloy plating layer is formed on the outermost layer by the above plating.
  • heat processing will not be limited if it is a method which can heat the said square wire rod uniformly like reflow processing.
  • the treatment by reflow is preferable because the heat treatment time of the square wire can be shortened.
  • the metal material for connecting parts of the present invention can be processed into a variety of electrical and electronic connectors, for example, a fitting connector for automobiles and a contact, by a conventional method.
  • the outermost copper-tin alloy layer further comprises zinc, indium, antimony, gallium, lead, bismuth, cadmium, magnesium, silver, gold, and aluminum. Since at least one selected from the group is contained in a total amount of 0.01% or more and 1% or less by mass ratio with respect to the content of tin, the surface property after heat treatment is good, and the solderability in the subsequent process is good A good metal material for connecting parts can be obtained.
  • the outermost alloy layer containing copper and tin is selected from at least one of the following two groups (A) and (B). Since the elements are contained in a total amount of 0.01% by mass or more and 2% by mass or less, a metal material for connecting parts that has good surface properties after heat treatment and hardly generates whiskers can be obtained.
  • A At least one selected from the group consisting of Ga, In, Pb, Bi, Cd, Mg, Zn, Ag, and Au is contained in an amount of 0.01% by mass to 1% by mass.
  • At least one selected from the group consisting of Al and Cu is contained in an amount of 0.01 to 0.5% by mass.
  • Base material A square wire of a Corson alloy (Furukawa Electric Co., Ltd., EFTEC-97: the same applies below) whose cross-sectional shape is perpendicular to the longitudinal direction of the square wire and is 0.64 mm on a side. .
  • the expression “width” may be used for one side of a square line.
  • Plating Copper plating was performed using a sulfuric acid bath, nickel plating was performed using a sulfamic acid bath, and tin alloy plating was performed using a sulfuric acid bath. Here, the plating was performed by electroplating. A liquid containing a proper amount of tin alloy plating and elements added thereto: Zn ion, In ion, Cu ion, and Al ion was prepared. Measurement of concentration of additive element in tin plating: Plating was performed on stainless steel, and only the plating film was dissolved in acid, and analyzed by an ICP emission analyzer. Heat treatment: Reflow treatment was performed by heating on a hot plate.
  • Example 1 A tin alloy plating with a thickness of 0.5 ⁇ m was applied to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. In FIG. 1, a part near the midpoint of one side of the square wire is enlarged (the same applies to the following drawings). In FIG. 1, 1 indicates a base material, and 2 indicates a copper-tin alloy layer.
  • Comparative Example 1 A tin alloy plating with a thickness of 0.5 ⁇ m was applied to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm. The amount of additive element in the tin alloy plating did not fall within the range of Example 1. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG.
  • Example 2 After a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m was applied to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a tin alloy plating with a thickness of 0.5 ⁇ m was performed. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 500 ° C. for 5 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic cross-sectional view of FIG. In FIG. 2, 1 indicates a base material, and 2 indicates a copper-tin alloy layer. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 2 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Comparative Example 2 After a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m was applied to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a tin alloy plating with a thickness of 0.5 ⁇ m was performed. Note that the amount of additive element in the tin alloy plating did not fall within the range of Example 2. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 2 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Example 3 After applying a nickel plating with a thickness of 0.4 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m was applied, and then a tin alloy plating with a thickness of 0.5 ⁇ m was performed. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 500 ° C. for 5 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. In FIG. 3, 1 is a base material, 2 is a copper tin alloy layer, and 3 is a nickel layer. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 2 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Comparative Example 3 After applying a nickel plating with a thickness of 0.4 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m was applied, and then a tin alloy plating with a thickness of 0.5 ⁇ m was performed. Note that the amount of additive element in the tin alloy plating did not fall within the range of Example 3. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 2 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Test example 1 Evaluation tests were conducted on the contact resistance, solder wettability, and surface gloss of the square wires of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. These results are shown in Tables 1-1 and 1-2 for Example 1 and Comparative Example 1, in Tables 2-1 and 2-2 for Example 2 and Comparative Example 2, and in Example 3 and Comparative Example 3. Are shown in Tables 3-1 and 3-2.
  • Contact resistance The contact resistance was measured by the 4-terminal method, and the contact was measured by applying a 1N load using an Ag probe. A value of 2 m ⁇ or less was good, a value of 5 m ⁇ or less was acceptable, and a value exceeding that was unacceptable.
  • solder wettability Solder wettability was measured by the meniscograph method.
  • the apparatus used was a Solder Checker SAT-5100 manufactured by Reska Co., Ltd. After applying a flux composed of 25% rosin and the remainder isopropyl alcohol on the surface of the square wire, immersed in a lead-free solder bath of Sn-3.0Ag-0.5Cu maintained at 260 ° C and held for 3 seconds Raised. The judgment criteria are good when 95% or more of the immersion area is wet, pass ⁇ when 90% or more of the immersion area is wet, and fail X when the immersion area is wet. (Surface gloss) The surface gloss was visually inspected. A sample having a uniform gloss without unevenness was rated as ⁇ , a sample having a slight dullness but having a sufficient gloss without any unevenness was evaluated as ⁇ , a sample having insufficient gloss, or a sample having unevenness as x.
  • Example 1 As shown in Tables 1-1 to 1-2, No. 1 in Example 1 was obtained. 101-107 and no. Nos. 103I to 107I all satisfy the standards for contact resistance, solderability, and surface gloss, and are suitable as metal materials for connecting parts such as connectors. In contrast, No. 1 of Comparative Example 1 was used. 111-116 and no. In 113I to 115I, at least one of contact resistance, solderability, and surface gloss was unacceptable.
  • Example 2 As shown in Tables 2-1 and 2-2, No. 2 in Example 2 was obtained. 201-207 and no. Nos. 203I to 207I all satisfy the standards for contact resistance, solderability, and surface gloss, and are suitable as metal materials for connection parts such as connectors. On the other hand, the comparative example 2 No. 211-216 and no. In 213I to 215I, at least one of contact resistance, solderability, and surface gloss was unacceptable.
  • Example 3 As shown in Tables 3-1 and 3-2, the No. of Example 3 was changed. 301-307 and no. For 303I to 307I, all of the contact resistance, solderability, and surface gloss met the standards, and were suitable as metal materials for connecting parts such as connectors. On the other hand, the comparative example 3 No. 311 to 316 and No.3. In 313I to 315I, at least one of contact resistance, solderability, and surface gloss was unacceptable.
  • Example 4 A tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m was applied to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. In FIG. 4, a part near the midpoint of one side of the square wire is enlarged (the same applies to the following drawings).
  • 11 is a base material
  • 12 is a tin alloy plating layer
  • 13 is a copper tin alloy layer.
  • Comparative Example 4 A tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m was applied to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm. The amount of additive element in the tin alloy plating did not fall within the range of Example 4. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG.
  • Example 5 After applying a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m was performed. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 500 ° C. for 5 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. In FIG. 5, 11 is a base material, 12 is a tin alloy plating layer, and 13 is a copper tin alloy layer. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 13 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Comparative Example 5 After applying a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m was performed. The amount of additive element in the tin alloy plating did not fall within the range of Example 5. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 13 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Example 6 After applying a nickel plating with a thickness of 0.4 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m was performed. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. In FIG. 6, 11 is a base material, 12 is a tin alloy plating layer, and 14 is a nickel layer.
  • Comparative Example 6 After applying a nickel plating with a thickness of 0.4 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m was performed. The amount of additive element in the tin alloy plating did not fall within the range of Example 6. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG.
  • Example 7 After applying a nickel plating with a thickness of 0.4 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m was applied, followed by a tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 500 ° C. for 5 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. In FIG. 7, 11 is a base material, 12 is a tin alloy plating layer, 13 is a copper tin alloy layer, and 14 is a nickel layer. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 13 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Comparative Example 7 After applying a nickel plating with a thickness of 0.4 ⁇ m to a square wire of a Corson alloy having a width of 0.64 mm, a copper plating with a thickness of 0.3 ⁇ m was applied, followed by a tin alloy plating with a thickness of 0.9 ⁇ m. The amount of additive element in the tin alloy plating did not fall within the scope of the examples. Thereafter, the material was subjected to a reflow treatment at 350 ° C. for 10 seconds to obtain a rectangular wire shown in the partially enlarged schematic sectional view of FIG. The copper plating layer was all converted to the copper tin alloy layer 13 by reacting with the outermost tin alloy plating by the reflow treatment.
  • Test example 2 Evaluation tests were conducted on the surface gloss, whisker property, and contact resistance of the square wires of Examples 4 to 7 and Comparative Examples 4 to 7. These results are shown in Tables 4-1 to 4-4 for Example 4 and Comparative Example 4, in Tables 5-1 to 5-4 for Example 5 and Comparative Example 5, and in Example 6 and Comparative Example 6. Are shown in Tables 6-1 to 6-4, and Example 7 and Comparative Example 7 are shown in Tables 7-1 to 7-4.
  • the surface gloss was visually inspected. A sample having a uniform gloss without unevenness was rated as ⁇ , a sample having a slight dullness but having a sufficient gloss without any unevenness was evaluated as ⁇ , a sample having insufficient gloss, or a sample having unevenness as x.
  • no. 401-406, no. 403I-406I, No. 401AZ to 402AZ, No. 405AZ-406AZ, and No. 405AZ. 405AI to 406AI all satisfy the standards in terms of surface gloss, whisker properties, and contact resistance, and are suitable as metal materials for connection parts such as connectors.
  • the comparative example 4 No. 411-417, no. 413I-416I, No. 411AZ-412AZ, no. 415AZ-416AZ, and In 415AI to 416AI at least one of surface gloss, whisker property, and contact resistance was unacceptable.
  • No. 501-506, no. 503I to 506I, No. 501AZ-502AZ, No. 505AZ-506AZ and No. 505AI to 506AI all satisfy the standards in terms of surface gloss, whisker properties, and contact resistance, and are suitable as metal materials for connecting parts such as connectors.
  • no. 601 to 606, no. 603I-606I, No. 601AZ to 602AZ, No. 605AZ-606AZ, and No. 605AI to 606AI all satisfy the standards for surface gloss, whisker property, and contact resistance, and are suitable as metal materials for connection parts such as connectors.
  • No. Nos. 701 to 706. 703I-706I, No. 701AZ to 702AZ, no. 705AZ-706AZ, and 705AI to 706AI all satisfy the standards in terms of surface gloss, whisker properties, and contact resistance, and are suitable as metal materials for connection parts such as connectors.

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Abstract

 銅または銅合金の角線材を母材とし、その最表面に実質的に銅およびスズで構成される銅スズ合金層が形成されている接続部品用金属材料において、前記最表面の銅スズ合金層は、さらに亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を、総量で前記スズの含有量に対する質量比で0.01%以上1%以下含有する接続部品用金属材料。

Description

接続部品用金属材料およびその製造方法
 本発明は、接続部品用金属材料およびその製造方法に関し、詳しくは、リフロー後の光沢を十分に有する接続部品用金属材料およびその製造方法に関する。
 銅(Cu)、銅合金などの導電体の母材(以下、適宜、母材と記す。)上にスズ(Sn)、スズ合金などのめっき層を設けためっき材料は、母材の優れた導電性と強度、およびめっき層の優れた電気接続性と耐食性とはんだ付け性を備えた高性能導体材料として知られており、各種の端子やコネクタなどに広く用いられている。
 ところで近年、電子制御化が進む中で嵌合型コネクタが多極化したため、オス端子群とメス端子群を挿抜する際に多大な力が必要になり、特に、自動車のエンジンルーム内などの狭い空間では挿抜作業が困難なため前記挿抜力の低減が強く求められている。
 前記挿抜力を低減する方法として、コネクタ端子表面のSnめっき層を薄くして端子間の接触圧力を弱める方法があるが、この方法はSnめっき層が軟質のため端子の接触面間にフレッティング現象が起きて端子間に導通不良が起きることがある。
 前記フレッティング現象とは、振動や温度変化などが原因で端子の接触面間に起きる微摺動により、端子表面の軟質のSnめっき層が摩耗し酸化して、比抵抗の大きい摩耗粉になる現象で、この現象が端子間に発生すると接続不良が起きる。そして、この現象は端子間の接触圧力が低いほど起き易い。
 特許文献1には、Cu板条からなる母材の表面に、Cu-Sn合金被覆層とSn被覆層がこの順に形成されており、Cu-Sn合金被覆層の材料表面露出面積率が3~75%、平均の厚さが0.1~3.0μm、かつCu含有量が20~70at%であり、前記Sn又はSn合金被覆層の平均の厚さが0.2~5.0μmである接続部品用導電材料が記載されている。また、リフロー処理を行うことにより、Cu-Sn合金被覆層が形成されることも記載されている。
 そして、この導電材料は、例えば自動車等において多極コネクタに使用した場合、オス、メス端子の嵌合時の挿入力が低く、組立作業を効率よく行うことができ、また高温雰囲気下で長時間保持されても、あるいは腐食環境下においても電気的信頼性(低接触抵抗)を維持できるとされている。
特開2006-77307号公報
 しかしながら、上記の接続部品用導電材料は、母材がCu板条からなるものであるが、母材が角線材である場合には、リフロー処理等の加熱処理によるCu-Sn合金めっき線の製造、あるいはSnめっき線の製造の際に、加熱処理後の表面性状が悪化することがある。また、リフロー処理を施したにもかかわらず、短絡事故の原因ともなり得るウィスカが発生するという現象もみられている。これらの現象は、リフロー処理中に角線材上のSnが溶融して流れ、Snの分布が不均一になることなどが原因で発生すると考えられるが、前記特許文献1には、母材が角線材である場合について一切記載がなく、この課題を解決するためには新たなアプローチが必要である。
 そこで、本発明は、加熱処理後の表面性状が良好で、かつ後工程におけるはんだ付け性が良好な接続部品用金属材料およびその製造方法を提供することを課題とする。
 また、本発明の別の課題は、加熱処理後の表面性状が良好で、ウィスカが発生しにくい接続部品用金属材料およびその製造方法を提供することである。
 本発明によれば、以下の手段が提供される:
(1)銅または銅合金の角線材を母材とし、その最表面に実質的に銅およびスズで構成される銅スズ合金層が形成されている接続部品用金属材料において、前記最表面の銅スズ合金層は、さらに亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を、総量で前記スズの含有量に対する質量比で0.01%以上1%以下含有することを特徴とする接続部品用金属材料、
(2)銅または銅合金の角線材を母材とし、その最表面にスズを主成分とする合金層が形成されている接続部品用金属材料において、前記最表面のスズを主成分とする合金層は、以下の(A)および(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有することを特徴とする接続部品用金属材料:
(A)ガリウム、インジウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、亜鉛、銀、および金からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する、
(B)アルミニウムおよび銅からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する、
(3)前記母材上に、ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層が形成されていることを特徴とする(1)または(2)項記載の接続部品用金属材料、
(4)銅または銅合金の角線材を母材とし、この母材上に亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、銅、およびアルミニウムの群から選ばれる少なくとも1種を、総量で0.01質量%以上1質量%以下含有するスズ合金めっき層を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料に加熱処理を行い、最表面に銅およびスズを含有する合金層を形成することを特徴とする接続部品用金属材料の製造方法、
(5)前記加熱処理前の前記スズ合金めっき層の厚さが0.3~0.8μmであることを特徴とする(4)項記載の接続部品用金属材料の製造方法、
(6)前記母材と、前記スズ合金めっき層との間に、前記母材に近い側から、ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層、銅めっき層または銅合金めっき層を設けて中間材料を得ることを特徴とする(4)項記載の接続部品用金属材料の製造方法、
(7)前記加熱処理前の前記スズめっき層またはスズ合金めっき層の厚さが0.3~0.8μmであり、かつ前記銅めっき層の厚さ(Cu厚)に対する前記スズめっきまたはスズ合金めっき層の厚さ(Sn厚)の比(Sn厚/Cu厚)が2未満であることを特徴とする(6)項記載の接続部品用金属材料の製造方法、
(8)銅または銅合金の角線材を母材とし、この母材上に以下の(A)および(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有するスズ合金めっき層を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料に加熱処理を行うことを特徴とする接続部品用金属材料の製造方法:
(A)ガリウム、インジウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、亜鉛、銀、および金からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する、
(B)アルミニウムおよび銅からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する、
(9)前記加熱処理前の前記スズ合金めっき層の厚さが0.8~1.2μmであることを特徴とする(8)項記載の接続部品用金属材料の製造方法、
(10)前記母材と、前記スズ合金めっき層との間に、前記母材に近い側から、ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層、銅めっき層または銅合金めっき層を設けて中間材料を得ることを特徴とする(8)項記載の接続部品用金属材料の製造方法、
(11)前記加熱処理前の前記スズめっき層またはスズ合金めっき層の厚さが0.8~1.2μmであり、かつ前記銅めっき層の厚さ(Cu厚)に対する前記スズめっきまたはスズ合金めっき層の厚さ(Sn厚)の比(Sn厚/Cu厚)が2以上であることを特徴とする(10)項記載の接続部品用金属材料の製造方法、および
(12)前記加熱処理がリフロー処理であることを特徴とする、(4)~(11)のいずれか1項に記載の接続部品用金属材料の製造方法。
 以下、前記(1)項、(3)項{但し、前記(1)項に従属するものに限る}に記載の接続部品用金属材料、及び前記(4)~(7)項、(12)項{但し前記(4)項に直接又は間接に従属するものに限る}に記載の接続部品用金属材料の製造方法を併せて、本発明の第1の実施態様という。
 また、前記(2)項、(3)項{但し、前記(2)項に従属するものに限る}項に記載の接続部品用金属材料、及び前記(8)~(11)項、(12)項{但し、前記(8)項に直接又は間接に従属するものに限る}に記載の接続部品用金属材料の製造方法を併せて、本発明の第2の実施態様という。
 ここで、特に断らない限り、本発明とは、前記第1及び第2の実施態様の全てを包含する意味である。
 本発明の、銅または銅合金の角線材(角棒材を含む)の母材の最表面に、実質的に銅およびスズで構成され、さらに亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、アルミニウムの群から選ばれる少なくとも1種を、総量で前記スズの含有量に対する質量比で0.01%以上1%以下含有する接続部品用金属材料は、母材表面の凹凸に依存せず、加熱処理後の光沢を十分に有し、また、はんだ濡れ促進のための、予備はんだ性、後めっき性が極めて高い金属材料とすることができる。
 本発明の、銅または銅合金の角線材(角棒材を含む)の母材の最表面に、スズを主成分とし、さらに以下の(A)および(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有する接続部品用金属材料は、母材表面の凹凸に依存せず、加熱処理後の光沢を十分に有し、また、ウィスカが発生しにくい金属材料とすることができる。
(A)ガリウム、インジウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、亜鉛、銀、および金からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する。
(B)アルミニウムおよび銅から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する。
 本発明の上記及び他の特徴及び利点は、適宜添付の図面を参照して、下記の記載からより明らかになるであろう。
実施例1の接続部品用金属材料(角線材)の部分拡大概略断面図である。 実施例2の接続部品用金属材料(角線材)の部分拡大概略断面図である。 実施例3の接続部品用金属材料(角線材)の部分拡大概略断面図である。 実施例4の接続部品用金属材料(角線材)の部分拡大概略断面図である。 実施例5の接続部品用金属材料(角線材)の部分拡大概略断面図である。 実施例6の接続部品用金属材料(角線材)の部分拡大概略断面図である。 実施例7の接続部品用金属材料(角線材)の部分拡大概略断面図である。
符号の説明
  1 母材
  2 銅スズ合金層
  3 ニッケル層
 11 母材
 12 スズ合金層
 13 銅スズ合金層
 14 ニッケル層
 本発明の好ましい一つの実施態様(前記「第1の実施態様」)の接続部品用金属材料は、銅または銅合金により形成された角線材を母材とし、その最表面に実質的に銅およびスズで構成され、さらに亜鉛(Zn)、インジウム(In)、アンチモン(Sb)、ガリウム(Ga)、鉛(Pb)、ビスマス(Bi)、カドミウム(Cd)、マグネシウム(Mg)、銀(Ag)、金(Au)、およびアルミニウム(Al)からなる群から選ばれる少なくとも1種を、総量で前記スズの含有量に対する質量比で0.01%以上1%以下含有するものである。
 本発明の別の好ましい実施態様(前記「第2の実施態様」)の接続部品用金属材料は、銅または銅合金により形成された角線材を母材とし、その最表面にスズを主成分とし、さらに以下の(A)および(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有するものである。
 (A)Ga、In、Pb、Bi、Cd、Mg、Zn、Ag、およびAuからなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する。
 (B)AlおよびCuからなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する。
 本発明の接続部品用金属材料の母材としては、銅または銅合金が用いられ、コネクタに要求される導電性、機械的強度および耐熱性を有する銅、リン青銅、黄銅、洋白、ベリリウム銅、コルソン合金などの銅合金が好ましい。
 母材の形状としては、角線材(角棒材を含む)が好ましい。角線材では、その断面形状は、正方形、長方形、正六角形のいずれでも良く、異形線であっても良い。断面形状が略正方形の角線材は、本発明に好ましく用いることができる。
 本発明では、角線材料上にCu下地めっきを行い、Cuめっき層を設けることが好ましいが、後述する加熱処理によって最表層のスズ合金めっきの下層に銅スズ合金の層が形成できるような構成であれば下地なしでもよい。Cuめっき層を設けることにより、Cu、Snを含む合金層の形成を容易にすることができる。Cuめっき層の厚みは0.01~3.0μmが好ましい。さらには0.05~1.0μmが好ましい。
 また、耐熱性を向上させるために、母材からの金属拡散を防止するバリア性を持つニッケル(Ni)下地めっきを母材と銅下地の間に施してもよい。ニッケル下地めっきは、Ni-P系、Ni-Sn系、Co-P系、Ni-Co系、Ni-Co-P系、Ni-Cu系、Ni-Cr系、Ni-Zn系、Ni-Fe系などのNi合金めっきでもよい。NiおよびNi合金はバリア機能が高温環境下にあっても衰えない。また、ニッケルのほか、コバルト(Co)や鉄(Fe)、またはこれらの合金でも同様の効果を発揮するため、下地層として好適に使用される。
 ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層の厚みは、0.02μm未満ではそのバリア機能が十分に発揮されなくなり、3.0μmを超えるとめっき歪みが大きくなって母材から剥離し易くなる。従って0.02~3.0μmが好ましい。ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層の厚みの上限は端子加工性を考慮すると1.5μm、さらには1.0μmが好ましい。
 本発明においては、材料の表層にスズ合金めっきが施される。第1の実施態様の接続部品用金属材料においては、このスズ合金めっきは、亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、銅、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を、総量で0.01質量%以上1質量%以下含有する。また、第2の実施態様の接続部品用金属材料においては、このスズ合金めっきは、以下の(A)および(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有する。
 (A)Ga、In、Pb、Bi、Cd、Mg、Zn、Ag、およびAuからなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する。
 (B)AlおよびCuからなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する。
 また、第1の実施態様の接続部品用金属材料においては、スズ合金めっき厚が薄すぎると、最終的に最表層に形成される銅スズ合金層の耐環境性などが発現しにくいため、厚さは0.3μm以上が好ましく、また、スズ合金めっき厚が厚すぎると、最終的に銅スズ合金層の表面にスズ合金が残ってフレッティング現象の発生原因となるため、0.3~0.8μmがより好ましく、0.3~0.6μmがさらに好ましい。
 また、第2の実施態様の接続部品用金属材料においては、スズ合金めっき厚が薄すぎるとスズの耐熱性、耐環境性が発現しにくいため、厚さは0.3μm以上が好ましく、0.8~1.2μmがより好ましく、0.8~1.0μmがさらに好ましい。
 本発明において、スズ合金めっきは、無電解めっきで行って形成しても良いが、電気めっきで形成するのが望ましい。
 表層の電気スズ合金めっきは、例えば硫酸スズ浴を用い、めっき温度30℃以下、電流密度5A/dmで行えばよい。ただし、条件はこの限りではなく適宜設定可能である。
 第1の実施態様の接続部品用金属材料においては、下地銅めっきを施した場合、下地銅めっき層の厚さ(Cu厚)に対する表層スズめっきまたはスズ合金めっき層の厚さ(Sn厚)の比(Sn厚/Cu厚)が2未満であることが好ましく、1.0~2.0であることがさらに好ましい。
 第2の実施態様の接続部品用金属材料においては、下地銅めっきを施した場合、下地銅めっき層の厚さ(Cu厚)に対する表層スズめっきまたはスズ合金めっき層の厚さ(Sn厚)の比(Sn厚/Cu厚)が2以上であることが好ましく、2.0~3.0であることがさらに好ましい。
 本発明の接続部品用金属材料は、上記のめっきで最外層にスズ合金めっき層が形成された角線材の長手方向に加熱処理を行う。なお、加熱処理は、リフロー処理等のように、前記角線材を均一に加熱できる方法であれば、限定されるものでない。リフローによる処理を施すと、角線材の加熱処理時間を短縮することができるため好ましい。
 本発明の接続部品用金属材料は常法により、例えば自動車用の嵌合型コネクタ、接触子をはじめ、各種電気電子用コネクタ等に加工することができる。
 そして、第1の実施態様の接続部品用金属材料においては、最表面の銅スズ合金層は、さらに亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を、総量で前記スズの含有量に対する質量比で0.01%以上1%以下含有するため、加熱処理後の表面性状が良好で、かつ後工程におけるはんだ付け性が良好な接続部品用金属材料とすることができる。
 また、第2の実施態様の接続部品用金属材料においては、最表面の銅およびスズを含有する合金層は、以下の(A)(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有するため、加熱処理後の表面性状が良好で、かつウィスカが発生しにくい接続部品用金属材料とすることができる。
 (A)Ga、In、Pb、Bi、Cd、Mg、Zn、Ag、およびAuからなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する。
 (B)AlおよびCuからなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する。
 以下に、本発明を実施例に基づいてさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
 なお、以下の実施例(本発明例)および比較例において、条件は以下のとおりとした。
 母材:角線の線長手方向を垂線とする断面の形状が1辺0.64mmの正方形であるコルソン合金(古河電気工業(株)製、EFTEC-97:以下同様)の角線を用いた。以下、角線の1辺について「幅」の表記を用いることがある。また、表面粗さは、Ra=2.0μm(表中でRa=大と表記)、Ra=0.05μm(表中でRa=小と表記)の2種類を用いた。
 めっき:銅めっきは硫酸浴、ニッケルめっきはスルファミン酸浴、スズ合金めっきは硫酸浴を用いて行った。ここでは、めっきを電気めっきにより行った。
 スズ合金めっきとこれに添加する元素:Znイオン、Inイオン、Cuイオン、Alイオンを適量配合した液を作成した。
 スズめっき中の添加元素の濃度計測:ステンレス上にめっきを施し、酸中にめっき皮膜のみを溶解させ、ICP発光分析装置により分析して求めた。
 加熱処理:ホットプレート上で加熱することによりリフロー処理した。
 実施例1
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.5μmのスズ合金めっきを行った。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図1の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。図1においては、角線材の1辺の中点付近の一部を拡大している(以下の各図において同様)。図1中の1は母材、2は銅スズ合金層を示す。
 比較例1
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.5μmのスズ合金めっきを行った。なお、スズ合金めっき中の添加元素の量は、実施例1の範囲に該当しないものとした。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図1の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。
 実施例2
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.3μmの銅めっきを施した後、厚さ0.5μmのスズ合金めっきを行った。その後、当該材料に対して、500℃で5秒間のリフロー処理を施し、図2の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。図2中の1は母材、2は銅スズ合金層を示す。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層2に転化していた。
 比較例2
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.3μmの銅めっきを施した後、厚さ0.5μmのスズ合金めっきを行った。なお、スズ合金めっき中の添加元素の量は、実施例2の範囲に該当しないものとした。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図2の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層2に転化していた。
 実施例3
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.4μmのニッケルめっきを施した後、厚さ0.3μmの銅めっきを施し、その後厚さ0.5μmのスズ合金めっきを行った。その後、当該材料に対して、500℃で5秒間のリフロー処理を施し、図3の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。図3中の1は母材、2は銅スズ合金層、3はニッケル層を示す。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層2に転化していた。
 比較例3
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.4μmのニッケルめっきを施した後、厚さ0.3μmの銅めっきを施し、その後厚さ0.5μmのスズ合金めっきを行った。なお、スズ合金めっき中の添加元素の量は、実施例3の範囲に該当しないものとした。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図3の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層2に転化していた。
 試験例1
 上記実施例1~3、比較例1~3の角線材の接触抵抗、はんだ濡れ性、表面光沢について、評価試験を行った。これらの結果を、実施例1および比較例1については表1-1~1-2に、実施例2および比較例2については表2-1~2-2に、実施例3および比較例3については表3-1~3-2にそれぞれ示す。
(接触抵抗)
 接触抵抗は、4端子法によって測定し、接触子にはAgプローブを用い1Nの荷重をかけて測定した。
 2mΩ以内を良好◎、5mΩ以内が合格○、それ以上を不合格×とした。
(はんだ濡れ性)
 はんだ濡れ性は、メニスコグラフ法によって測定を行った。
 装置はレスカ(株)製ソルダーチェッカーSAT-5100を用いた。
 角線表面に、25%のロジンと残部イソプロピルアルコールから構成されるフラックスを塗布した後、260℃に保持したSn-3.0Ag-0.5Cuの鉛フリーはんだ浴に浸漬して3秒保持後、引き上げた。
 判定基準は、浸漬面積の95%以上が濡れている場合に良好◎、浸漬面積の90%以上濡れている場合に合格○、それ以下を不合格×とした。
(表面光沢)
 表面光沢を目視により検査した。むらなく均一な光沢を有するものを◎、若干の鈍りはあるもののむらはなく製品として十分な光沢を有するものを○、光沢不十分であるもの、またはむらが出ているものを×とした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表1-1~1-2に示されるように、実施例1のNo.101~107およびNo.103I~107Iでは、いずれも接触抵抗、はんだ付け性、表面光沢の全てで基準を満たし、コネクタ等の接続部品用金属材料として好適なものであった。これに対して、比較例1のNo.111~116およびNo.113I~115Iでは接触抵抗、はんだ付け性、表面光沢の少なくとも1つが不合格であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 表2-1~2-2に示されるように、実施例2のNo.201~207およびNo.203I~207Iでは、いずれも接触抵抗、はんだ付け性、表面光沢の全てで基準を満たし、コネクタ等の接続部品用金属材料として好適なものであった。これに対して、比較例2のNo.211~216およびNo.213I~215Iでは接触抵抗、はんだ付け性、表面光沢の少なくとも1つが不合格であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 表3-1~3-2に示されるように、実施例3のNo.301~307およびNo.303I~307Iでは、いずれも接触抵抗、はんだ付け性、表面光沢の全てで基準を満たし、コネクタ等の接続部品用金属材料として好適なものであった。これに対して、比較例3のNo.311~316およびNo.313I~315Iでは接触抵抗、はんだ付け性、表面光沢の少なくとも1つが不合格であった。
 実施例4
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。
 その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図4の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。図4においては、角線材の1辺の中点付近の一部を拡大している(以下の各図において同様)。図4中の11は母材、12はスズ合金めっき層、13は銅スズ合金層を示す。
 比較例4
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。
 なお、スズ合金めっき中の添加元素の量は、実施例4の範囲に該当しないものとした。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図4の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。
 実施例5
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.3μmの銅めっきを施した後、厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。その後、当該材料に対して、500℃で5秒間のリフロー処理を施し、図5の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。図5中の11は母材、12はスズ合金めっき層、13は銅スズ合金層を示す。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層13に転化していた。
 比較例5
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.3μmの銅めっきを施した後、厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。なお、スズ合金めっき中の添加元素の量は、実施例5の範囲に該当しないものとした。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図5の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層13に転化していた。
 実施例6
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.4μmのニッケルめっきを施した後、厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図6の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。図6中の11は母材、12はスズ合金めっき層、14はニッケル層を示す。
 比較例6
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.4μmのニッケルめっきを施した後、厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。なお、スズ合金めっき中の添加元素の量は、実施例6の範囲に該当しないものとした。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図6の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。
 実施例7
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.4μmのニッケルめっきを施した後、厚さ0.3μmの銅めっきを施し、その後厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。その後、当該材料に対して、500℃で5秒間のリフロー処理を施し、図7の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。図7中の11は母材、12はスズ合金めっき層、13は銅スズ合金層、14はニッケル層を示す。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層13に転化していた。
 比較例7
 幅0.64mmのコルソン合金の角線に、厚さ0.4μmのニッケルめっきを施した後、厚さ0.3μmの銅めっきを施し、その後厚さ0.9μmのスズ合金めっきを行った。なお、スズ合金めっき中の添加元素の量は、実施例の範囲に該当しないものとした。その後、当該材料に対して、350℃で10秒間のリフロー処理を施し、図7の部分拡大概略断面図に示す角線材を得た。なお、銅めっき層は、リフロー処理によりすべて最表層のスズ合金めっきと反応し、銅スズ合金層13に転化していた。
 試験例2
 上記実施例4~7、比較例4~7の角線材の表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗について、評価試験を行った。これらの結果を、実施例4および比較例4については表4-1~4-4に、実施例5および比較例5については表5-1~5-4に、実施例6および比較例6については表6-1~6-4に、実施例7および比較例7については表7-1~7-4にそれぞれ示す。
(表面光沢)
 表面光沢を目視により検査した。むらなく均一な光沢を有するものを◎、若干の鈍りはあるもののむらはなく製品として十分な光沢を有するものを○、光沢不十分であるもの、またはむらが出ているものを×とした。
(ウィスカ性)
 圧子により外部応力を付与した状態で3ヶ月放置し、ウィスカ発生の有無を調べた。ウィスカが発生しなかったもの、または発生したウィスカ長が50μm以下のものを○、50μmを超えるウィスカが発生したものを×とした。
(接触抵抗)
 全サンプル共通:120℃120時間大気中に暴露した後、接触抵抗を計測した。4端子法によって測定し、接触子にはAgプローブを用い1Nの荷重をかけて測定した。
 2mΩ以内を良好◎、5mΩ以内が合格○、それ以上を不合格×とした。
 実施例6、比較例6、実施例7、比較例7:測定方法は120℃120時間の加熱後と同様とし、160℃で120時間大気中に暴露した後の接触抵抗についても計測した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
 表4-1~4-4に示されるように、実施例4のNo.401~406、No.403I~406I、No.401AZ~402AZ、No.405AZ~406AZ、およびNo.405AI~406AIでは、いずれも表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の全てで基準を満たし、コネクタ等の接続部品用金属材料として好適なものであった。これに対し、比較例4のNo.411~417、No.413I~416I、No.411AZ~412AZ、No.415AZ~416AZ、およびNo.415AI~416AIでは表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の少なくとも1つが不合格であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
 表5-1~5-4に示されるように、実施例5のNo.501~506、No.503I~506I、No.501AZ~502AZ、No.505AZ~506AZ、およびNo.505AI~506AIでは、いずれも表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の全てで基準を満たし、コネクタ等の接続部品用金属材料として好適なものであった。これに対し、比較例5のNo.511~517、No.513I~516I、No.511AZ~512AZ、No.515AZ~516AZ、およびNo.515AI~516AIでは表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の少なくとも1つが不合格であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
 表6-1~6-4に示されるように、実施例6のNo.601~606、No.603I~606I、No.601AZ~602AZ、No.605AZ~606AZ、およびNo.605AI~606AIでは、いずれも表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の全てで基準を満たし、コネクタ等の接続部品用金属材料として好適なものであった。これに対し、比較例6のNo.611~617、No.613I~616I、No.611AZ~612AZ、No.615AZ~616AZ、およびNo.615AI~616AIでは表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の少なくとも1つが不合格であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
 表7-1~7-4に示されるように、実施例7のNo.701~706、No.703I~706I、No.701AZ~702AZ、No.705AZ~706AZ、およびNo.705AI~706AIでは、いずれも表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の全てで基準を満たし、コネクタ等の接続部品用金属材料として好適なものであった。これに対し、比較例7のNo.711~717、No.713I~716I、No.711AZ~712AZ、No.715AZ~716AZ、およびNo.715AI~716AIでは表面光沢、ウィスカ性、接触抵抗の少なくとも1つが不合格であった。
 本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
 本願は、2008年3月31日に日本国で特許出願された特願2008-092053、及び2008年3月31日に日本国で特許出願された特願2008-092054に基づく優先権を主張するものであり、これらはいずれもここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。

Claims (12)

  1.  銅または銅合金の角線材を母材とし、その最表面に実質的に銅およびスズで構成される銅スズ合金層が形成されている接続部品用金属材料において、
     前記最表面の銅スズ合金層は、さらに亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を、総量で前記スズの含有量に対する質量比で0.01%以上1%以下含有することを特徴とする接続部品用金属材料。
  2.  銅または銅合金の角線材を母材とし、その最表面にスズを主成分とする合金層が形成されている接続部品用金属材料において、
     前記最表面のスズを主成分とする合金層は、以下の(A)および(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有することを特徴とする接続部品用金属材料:
    (A)ガリウム、インジウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、亜鉛、銀、および金からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する、
    (B)アルミニウムおよび銅からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する。
  3.  前記母材上に、ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層が形成されていることを特徴とする請求項1または2記載の接続部品用金属材料。
  4.  銅または銅合金の角線材を母材とし、この母材上に亜鉛、インジウム、アンチモン、ガリウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、銀、金、銅、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも1種を、総量で0.01質量%以上1質量%以下含有するスズ合金めっき層を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料に加熱処理を行い、最表面に銅およびスズを含有する合金層を形成することを特徴とする接続部品用金属材料の製造方法。
  5.  前記加熱処理前の前記スズ合金めっき層の厚さが0.3~0.8μmであることを特徴とする請求項4記載の接続部品用金属材料の製造方法。
  6.  前記母材と、前記スズ合金めっき層との間に、前記母材に近い側から、ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層、銅めっき層または銅合金めっき層を設けて中間材料を得ることを特徴とする、請求項4記載の接続部品用金属材料の製造方法。
  7.  前記加熱処理前の前記スズ合金めっき層の厚さが0.3~0.8μmであり、かつ前記銅めっき層の厚さ(Cu厚)に対する前記スズめっきまたはスズ合金めっき層の厚さ(Sn厚)の比(Sn厚/Cu厚)が2未満であることを特徴とする請求項6記載の接続部品用金属材料の製造方法。
  8.  銅または銅合金の角線材を母材とし、この母材上に以下の(A)および(B)の2つの群のうち少なくとも1つの群から選ばれる元素を総量で0.01質量%以上2質量%以下含有するスズ合金めっき層を形成して中間材料を得たのち、前記中間材料に加熱処理を行うことを特徴とする接続部品用金属材料の製造方法:
    (A)ガリウム、インジウム、鉛、ビスマス、カドミウム、マグネシウム、亜鉛、銀、および金からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01質量%以上1質量%以下含有する、
    (B)アルミニウムおよび銅からなる群から選ばれる少なくとも1種を、1種あたり0.01~0.5質量%含有する。
  9.  前記加熱処理前の前記スズ合金めっき層の厚さが0.8~1.2μmであることを特徴とする請求項8記載の接続部品用金属材料の製造方法。
  10.  前記母材と、前記スズ合金めっき層との間に、前記母材に近い側から、ニッケル、コバルト、鉄またはこれらの合金による層、銅めっき層または銅合金めっき層を設けて中間材料を得ることを特徴とする、請求項8記載の接続部品用金属材料の製造方法。
  11.  前記加熱処理前の前記スズ合金めっき層の厚さが0.8~1.2μmであり、かつ前記銅めっき層の厚さ(Cu厚)に対する前記スズめっきまたはスズ合金めっき層の厚さ(Sn厚)の比(Sn厚/Cu厚)が2以上であることを特徴とする請求項10記載の接続部品用金属材料の製造方法。
  12.  前記加熱処理がリフロー処理であることを特徴とする、請求項4~請求項11のいずれか1項に記載の接続部品用金属材料の製造方法。
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