WO2009116657A1

WO2009116657A1 - シクロアルカンジカルボン酸モノエステルの製造方法

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Publication number: WO2009116657A1
Application number: PCT/JP2009/055564
Authority: WO
Inventors: 大川春樹; 赤坂哲郎; 落合鋼志郎
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2008-03-18
Filing date: 2009-03-16
Publication date: 2009-09-24
Also published as: JP2009256327A

Abstract

（Ａ）式（１）で示される化合物の２つのカルボキシル基のうちのいずれか一方を、Ｙで示される基で保護して、式（２）で示される化合物を得る工程と、（Ｂ）得られた式（２）で示される化合物のカルボキシル基を、Ｚで示される基で保護して、式（３）で示される化合物を得る工程と、（Ｃ）得られた式（３）で示される化合物のＹで示される基を脱保護して、式（４）で示される化合物を得る工程とを、含むことを特徴とするシクロアルカンジカルボン酸モノエステルの製造方法。（式中、Ｒ^１はメチル基を表わし、ｍは０～３の整数を表わし、ｐは０または１を表わす。Ｙは、−ＣＨ_２Ｐｈ等を表わし、Ｚはエトキシメチル基等を表わす。Ｐｈは置換されていてもよい芳香族炭化水素基等を表わす。）

Description

明細書シクロアルカンジカルボン酸モノエステルの製造方法技術分野

本発明は、シクロアルカンジカルボン酸モノエステルの製造方法に関する。背景技術

近年、フラットパネル表示装置に用いられる、偏光板、位相差板等の光学フィルムに適用され得る液晶材料として、シクロアルカンに由来する構造を含む化合物が注目されており、かかる化合物の合成中間体として、シクロアルカンジカルボン酸モノエステルが好ましく用いられている。

特開昭 62-289545号公報には、シクロアルカンジカルボン酸モノエステルの製造方法として、アルコールとシクロへキサンジカルボン酸クロリドとを反応させる方法、アルコールとシクロへキサンジカルボン酸とを、ジシクロへキシルカルボジイミド等の縮合剤の存在下に、反応させる方法が開示されている。発明の開示

本発明は、

< 1 > (A) 式（1) で示される化合物の 2つのカルボキシル基のうちのいずれか一方を、 Yで示される基で保護して、式（2) で示される化合物を得る工程と、

(B) 得られた式（2) で示される化合物のカルボキシル基を、 Zで示される基で保護して、式（3) で示される化合物を得る工程と、

(C) 得られた式（3) で示される化合物の Yで示される基を脱保護して、式（4) で示される化合物を得る工程とを含むことを特徴とするシクロアルカンジカルボン酸モノェステルの製造方法：

(式中、 R¹ はメチル基を表わし、 mは 0〜 3の整数を表わし、 pは 0または 1を表わす。 Yは、一CH₂ Ph、一 CHPh₂ 、一 CPh₃ 、 - S i H₂ Ph、一 S i HPh₂ まは一 S i P h ₃ を表わし、 Zは、炭素数 1〜 20のアルキル基、 — P h、一 S i R ⁵ R ⁶ R⁷ 、一 S i R⁸ R ⁹ Ph、 -S I R⁸ Ph₂ 、メトキシメチル基、ェトキシメチル基、メチルチオメチル基、 2—メトキシエトキシメチル基、エトキシェチル基、一 CH₂ — O — CH₂ — Ph、 t e r t—ブチル基、 t e r t—ブトキシメチル基、一 C H ₂ — C O— Ph、 2， 2, 2—トリクロ口ェチル基、テトラヒドロピラエル基、テトラヒドロチォビラニル基、テトラヒドロフラエル基またはテトラヒドロチオフラエル基を表わす。 P hは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィエル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わし、 R⁵ 、 R⁶ および R⁷ は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基または -CH₂ Ph基を表わし、 R⁸ および R⁹ は独立して、直鎖状または分岐鎖状の炭素数 1 〜 8のアルキル基または直鎖状または分岐鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基を表わす J ；

< 2 > pが 1である < 1 >に記載の製造方法；

< 3 > 式（1)、式（2)、式（3) および式（4) で示される化合物が、それぞれ式（1 - 1), 式（2— 1)、式（3— 1) および式（4一 1) で示される化合物である < 1 >に記載の製造方法：

(I'D (2-1) (3-1) (4-1)

(式中、 R¹ 、 m、 Yおよび Zは上記と同じ意味を表わす。）；

<4> Zが、 p—メトキシフエ二ル基、 p—ニトロフエニル基、トリメチルシリノレ基、イソプロピルジメチルシリル基、 t e r t—ブチルジメチルシリル基、 t e r t—ブチルジフエニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリイソプロビルシリル基、ジ一 t e r t —ブチルメチルシリル基、一 CH₂ -0-C₂ H₅ 、 -CH₂ — OCH₃ 、 -CH₂ — S CH₃ 、一 CH₂ — O— CH₂ -CH₂ -OCH₃ 、 -CH₂ 一 CH₂ _OC₂ H₅ 、 - CH₂ — O— CH₂ — Ph、一 C (CH₃ ) ₃ 、一 CH₂ — O— C (CH₃ ) ₃ 、テトラヒドロビラ二ル基、テトラヒドロチォビラ-ル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロチオフラニル基であるく 1 >〜< 3〉のいずれかに記載の製造方法； < 5 > Z力；、 t e r t—ブチルジメチルシリル基、 t e r t—ブチルジフエニルシリル基、トリイソプロビルシリル基、一 CH₂ -0-C₂ H₅ 、 -CH₂ -0-CH₂ — CH ₂ -OCH₃ 、 -CH₂ -CH₂ 一 O— C₂ H₅ 、 -CH₂ -0-CH₂ — Phまたはテトラヒドロビラ-ル基であるく 1 >〜< 3 >のいずれかに記載の製造方法；

< 6 > mが 0である < 1〉〜く 5〉のいずれかに記載の製造方法；

< 7 > 式（4) で示される化合物が、トランス一 1， 4ーシクロへキサンジカルボン酸モノエステルであるく 1〉〜< 6〉のいずれかに記載の製造方法；

< 8 > Yが— CH₂ P hである < 1 >〜< 7 >のいずれかに記載の製造方法；

< 9 > 工程（C) において副生する式（1) で示される化合物を回収する工程を含む < 1 >〜< 8 >のいずれかに記載の製造方法；

< 10 > 回収した式（1) で示される化合物を工程（A) に再利用する < 9〉に記載の製造方法；

< 1 1 > < 1 >〜< 1 0 >のいずれかに記載の製造方法により製造された式

(4) で示される化合物と、式（5)

P¹— ("J²— K¹— J¹)— (-B¹— A¹^ ~ X—— H (5)

I k

(式中、 Xは、一 O—、一 S—または一 N (R^{1 7} ) 一を表わし、 R^{1 7} は水素原子または炭素数 1〜4のアルキル基を表わす。 A¹ は独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい

2価の脂環式炭化水素基またはへテ口原子を含んでいてもよい 2価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基および芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜4のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよレ、炭素数 1〜4のアルコキシ基、シァノ基おょぴニトロ基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよレヽ。 B ¹ は独立して、一CR^{1 5} R^{1 6} —、一 CH₂ -C

H₂ 一、 — O—、一 S―、 -C ( = 0) _0—、 -O-C ( = 0) 一、 — O— C (=0) 一 0—、 -c (=S) — o—、 -o-c (= s) 一、 -o-c (= s) 一 o—、 — c (= O) -N (R ^{1 7} ) —、 — N (R ^{1 7} ) -C (=0) 一、 — OCH₂ ―、 — CH₂ O—、 - S CH₂ 一、 -CH₂ S―、一 C (= S) — O—、 -O-C (= S) ―、 _C (=0) 一 S―、 -S-C (=0) —、 - (C=S) — S—、 -S-C (=S) —、 -NH-C (= O) 一 O—、 -O-C ( = 0) _而一、 -NH-C ( = 0) _NH―、 — N (R ^{1 7} ) 一、一 S ( = 0) ―、 -O-S ( = 0) ₂ 一 O—、一N = N—または単結合を表わし、 R ^{1 5} および R^{1 6} は独立して、水素原子、フッ素原子または炭素数 1〜4のアルキル基を表わす。 J ¹ および J ² は独立して、炭素数 1〜1 2のアルキレン基を表わし、該アルキレン基は、炭素数 1〜5のアルキル基、炭素数 1〜5のアルコキシ基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい。 K' は独立して、一 O 一、 -c (=o) 一 o—、 -o-c (=o) —、一 C (=S) — O—、一 O— C (= S) 一、一 c (=o) 一 s—、一 s— c (=o) 一、一（C = S) _S—、一 S— C (= S) 一、 -NH-C ( = 0) 一、 -C ( = 0) — NH—、 -NH-C ( = 0) _0—、一 O— C ( = 0) 一 NH—、 -NH-C ( = 0) — NH―、 — O— C ( = 0) 一 O—、 — N (R

^{1 7} ) —、一 s (=o) ―、 -o-s (=o) ₂ —O—または単結合を表わす。 kおよび

1は独立して、 1〜3の整数を表わし、 P¹ は重合性基を表わす。）

で示される化合物とを反応させることを特徴とする式（6)

pは上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物の製造方法；

< 12 > < 11〉に記載の製造方法により製造された式（6) で示される化合物の Zで示される基を脱保護することを特徴とする式（7)

(式中、 R'、 X、 A B'、 J J K 1、 mおよび pは上記と同一の意味を表わす。）

で示される重合性化合物の製造方法；

< 13 > P ¹ がァクリロイルォキシ基またはメタクロィルォキシ基であるく 1

2 >に記載の重合性化合物の製造方法；

< 14 > ブレンステツド酸を用いて、 Zで示される基を脱保護するく 12>に記載の重合性化合物の製造方法；

く 15〉ギ酸、酢酸、プロピオン酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素、硝酸、硫酸、 p—トルエンスルホン酸、ピリジニゥム p -トルエンスルホン酸、トリフルォロ酢酸、トリクロ口酢酸およびメタンスルホン酸からなる群から選ばれる少なくとも 1つの酸の存在下で、 Zで示される基を脱保護する < 1 2 >に記載の重合性化合物の製造方法； < 16 > 式（3 a)

(式中、 R^a はメチル基を表わし、 qは 0〜 3の整数を表わす。 Y^aは、 -CH₂ Ph、一 CHPh₂ 、一 CPh₃ 、 - S i H₂ Ph、 - S i HP h ₂ または一 S i Ph₃ を表わし、 Z^aは、一 S i R^{5 a} R^{6 a} R^{7 a} 、 -CH₂ -0-C₂H₅ 、 -CH₂ -OCH₃ 、 -CH₂ - S CH₃ 、 -CH₂ -0-CH₂ 一 CH₂ — OCH₃ 、一 CH₂ — CH₂ — O 一 C₂ H₅ 、 -CH₂ -0-CH₂ — Ph、一 C (CH₃ ) ₃ 、 — CH₂ — O— C (CH a ) ₃ 、一CH₂ _CO— Ph、一 CH₂ — CC 1₃ 、テトラヒドロピラエル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラエル基またはテトラヒドロチオフラエル基を表わす。 Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わし、 R^{5 a} 、 R^{6 a} および R^{7 a} は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8 のアルコキシ基または— CH₂ Ph基を表わす。）

で示される化合物； '

< 1 7 > 式（4 b)

(式中、 R^b はメチル基を表わし、 qは 0〜3の整数を表わす。 Z^bは、一 S i R^{5 b} R ^{6 b} R^{7 b} 、 -CH₂ -0-C₂H₅ 、 -CH₂ -OCH₃ 、 -CH₂ - S CH₃ 、 — C H₂ 一 O— CH₂ -CH₂ -OCH3 、一 CH₂ -CH₂ — 0_C₂ H₅ 、一 CH₂ — O 一 CH₂ — Ph、 — C (CH₃ ) 3 、 -CH₂ -O-C (CH₃ ) ₃ 、一 CH₂ —CO— P h、 -CH₂ — CC 1₃ 、テトラヒドロビラ二ル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロチオフラエル基を表わす。 Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィエル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わし、 R^{5 b} 、 R^{6 b} および R^{7 b} は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜8のアルコキシ基または— CH ₂ Ph基を表わす。）

で示される化合物；を提供するものである。発明を実施するための最良の形態

まず、工程（A) について説明する。工程（A) は、式（1)

で示される化合物（以下、化合物（1) と略記する。）の 2つのカルボキシル基のうちのいずれか一方を、 Yで示される基で保護して、式（2)

で示される化合物（以下、化合物（2) と略記する。）を得る工程である。

化合物（1) の式中、 R¹ はメチル基を表わし、 mは 0〜 3の整数を表わし、 pは 0または 1を表わす。 mは 0であることが好ましく、 pは 1であることが好ましい。

Yは、一 CH₂ Ph、一 CHPh₂ 、一 CPh₃ 、 - S i H₂ Ph、一 S i HPh₂ または一 S i Ph₃ を表わし、一 CH₂ P hであることが好ましレ、。

Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィエル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わす。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ョゥ素原子等が挙げられる。

かかる芳香族炭化水素基および芳香族複素環基としては、下記に示す基が挙げられる。

Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基であることが好ましく、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよいフエニル基であることがより好ましく、無置換フエニル基が特に好ましい。化合物（1)は、下記式（1一 1)で示される化合物であることが好ましく、化合物（2) は、下記式（2—1) で示される化合物であることが好ましい。

(1-1) (2-1)

また、式（1— 1) で示される化合物の 2つのカルボキシル基が、トランス配置であることが好ましい。

2つのカルボキシル基がトランス配置である式（1一 1)で示される化合物を用いると、通常、カルボキシル基と一 COOYで示される基とがトランス配置である式（2—1) で示される化合物が得られる。化合物（1) の 2つのカルボキシル基のうちのいずれか一方を、 Yで示される基で保護して、化合物（2) を得る方法としては、化合物（1) と式（10) Y— W (10)

(式中、 γは上記と同一の意味を表わし、 wはハロゲン原子、メタンスルホニルォキシ基または ρ—トルエンスルホニルォキシ基を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（10) と略記する。）とを反応させる方法、化合物（1) と式（11)

Υ― ΟΗ (11)

(式中、 γは上記と同一の意味を表わす。)

で示される化合物（以下、化合物（1 1) と略記する。）とを反応させる方法等が挙げられる。

Wにおけるハロゲン原子しては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 wは、ハロゲン原子であることが好ましく、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であることがより好ましく、塩素原子または臭素原子であることが特に好ましい。化合物（10)としては、塩化ベンジル、臭化ベンジル、ヨウ化ベンジル、ジフエ二ルメチルクロライド、ジフエニルメチルブロマイド、トリチルクロライド、トリチルブ口マイド、フエ二ノレクロロシラン、フエニノレブ口モシラン、ジフエ二 > ^クロロシラン、ジフエ二ルブロモシラン、トリフエユルクロロシラン、トリフエ二ルブロモシラン等が挙げられる。化合物（10) は、通常市販されているものが用いられる。

化合物（10) の使用量は、化合物（1) 1モルに対して、通常 0. 5〜1. 2モル、好ましくは 0. 75〜1. 1モル、より好ましくは 0. 75〜1. 05モルである。化合物（1) と化合物（10) との反応は、通常、溶媒の存在下に実施される。溶媒としては、非プロトン性極性溶媒であることが好ましく、アセトン等のケトン溶媒、テトラヒドロフラン、ジォキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等のェ一テル溶媒、 Ν, Ν—ジメチルホルムアミド、 Ν, Ν—ジメチルァセトアミド、 Ν—メチルピロリドン等のアミド溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒等が挙げられ、エーテル溶媒、アミド溶媒およびスルホキシド溶媒が好ましく、了ミド溶媒がより好ましい。具体的には、ジォキサン、 Ν， Ν—ジメチルホルムアミド、 Ν, Ν—ジメチルァセトアミド、 Ν—メチルピロリドンおよびジメチルスルホキシドが好ましく、 Ν， Ν—ジメチルホルムアミド、 Ν, Ν—ジメチルァセトアミドおよび Ν—メチルピロリドンがより好ましい。これらの溶媒は、二種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（1) と化合物（10) の合計 1重量部に対して、通常 1〜15重量部、好ましくは 3〜12重量部、より好ましくは 3〜 8重量部である。

化合物（1) と化合物（10) との反応は、塩基の存在下で実施することが好ましい。塩基としては、トリェチルァミン、ジイソプロピルェチルァミン、ピリジン、 N—メチルモルホリン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、水酸化力リウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、フッ化セシゥム等の無機塩基が挙げられ、無機塩基が好ましく、アルカリ金属炭酸塩がより好ましい。また、無機塩基を用いた場合、 1 8—クラウン一 6等のクラウンエーテル、テトラブチルアンモニゥムブロミド等の第四級アンモニゥム塩等の相間移動触媒を併用してもよい。塩基の使用量は、化合物（1 ) 1モルに対して、通常 1〜 3モルである。

Wが塩素原子または臭素原子である化合物（1 0 ) を用いる場合、ヨウ化ナトリウム、ョゥ化カリゥムまたはョゥ化セシウムを併用してもよレ、。

化合物（1 ) と化合物（1 0 ) との反応の反応温度は、通常 4 0〜1 5 0 °Cであり、 8 0〜1 5 が好ましく、 8 0〜1 2 0 °Cがより好ましい。反応時間は、通常 1〜7 2時間であり、好ましくは 1〜 4 8時間であり、より好ましくは 1〜 3 2時間である。化合物（1 1 )としては、ベンジルアルコール、ジフエニルメタノール、トリフエニルメタノール、フエニルヒドロキシシラン、ジフエニルヒドロキシシラン、トリフエニノレヒド口キシシラン等が挙げられる。

化合物（1 1 ) は、通常市販されているものが用いられる。

化合物（1 ) と化合物（1 1 ) との反応は、酸触媒の存在下で行うことが好ましい。酸触媒としては、 p—トルエンスルホン酸、 p—トルエンスルホン酸水和物、ピリジニゥム p -トルエンスルホン酸、トリフルォロ酢酸等の有機酸、塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。酸触媒の使用量は、化合物（1 ) 1モルに対して、通常 0 . 1〜 3◦モル％であり、好ましくは 1〜 3 0モル⁰ /₀であり、より好ましくは 5〜 3 0モル⁰ /。である。

化合物（1 1 ) の使用量は、化合物（1 ) 1モルに対して、通常 0 . 5〜1 . 5モル、好ましくは 0 . 7 5〜1 . 2モル、より好ましくは 0 . 9〜1 . 2モルである。

化合物（1 ) と化合物（1 1 ) との反応は、通常、溶媒の存在下に実施される。溶媒は制限されないが、アルコール溶媒以外の水溶性溶媒と疎水性溶媒との混合溶媒が好ましい。アルコール溶媒以外の水溶性溶媒としては、アセトン等の水溶性ケトン溶媒、テトラヒド口フラン、ジォキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等の水溶性エーテル溶媒、 N, N—ジメチルホルムアミド、 N， N—ジメチルァセトアミド、 N—メチルピロリドン等の水溶性ァミド溶媒、ジメチルスルホキシド等の水溶性スルホキシド溶媒等が挙げられる。疎水性溶媒としては、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、メチルイソブチルケトン等の疎水性ケトン溶媒等が挙げられる。

溶媒として、アルコール溶媒以外の水溶性溶媒と疎水性溶媒との混合溶媒を用いる場合、アルコール溶媒以外の水溶性溶媒と疎水性溶媒との重量比（アルコール溶媒以外の水溶性溶媒 Z疎水性溶媒) は、通常 1ノ 99〜 90/10、好ましくは 1/99〜 70 30、より好ましくは 20/80〜 55 50である。

溶媒の使用量は、化合物（1) と化合物（11) の合計 1重量部に対して、通常 1~1 5重量部、好ましくは 2~12重量部、より好ましくは 3〜8重量部である。

化合物（1) と化合物（1 1) との反応の反応温度は、通常 40〜160°Cであり、好ましくは 60〜150°Cであり、より好ましくは 80〜150°Cである。反応時間は、通常 1分〜 72時間である、好ましくは 1〜 48時間であり、より好ましくは 8〜 48時間である。

化合物（1) と化合物（11) との反応においては、反応の進行に伴って、水が副生する。そのため、副生する水を、ディ一ン 'スターク装置、真空ポンプ等を用いて、反応系外へ除去することが好ましい。

かくして、目的とする化合物（2) を含む反応混合物が得られ、得られた反応混合物をそのまま後述する工程（B) に用いてもよい。また、反応混合物から、化合物（2) を取り出し、工程（B) に用いてもよい。例えば、反応混合物と水とを混合し、濾過することにより、化合物（2) を含む粗結晶を取り出すことができる。また、反応混合物とクロ口ホルムと飽和炭化水素溶媒とを混合し、化合物（1) を含む不溶分を濾過により除去し、得られた濾液を濃縮することにより、化合物（2)を含む粗結晶を取り出すこともできる。取り出した化合物（2) を含む粗結晶を、工程（B) に用いてもよいが、該粗結晶には、副生物である式（8)

(式中、 R'、 Y、 mおよび ρは上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（8) と略記する。）が含まれている場合があり、該粗結晶を、例えば、メタノール等のアルコール溶媒を用いた抽出や再結晶等により精製して、化合物（8) を除去した後、工程（Β) に用いてもよい。また、反応混合物をクロ口ホルムに溶解させて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物（1) や化合物（8) を除去し、化合物（2) の結晶を得、工程（Β) に用いてもよい。化合物（2) としては、 1—カルボキシー 4—ベンジルォキシカルボニルシクロへキサン、 1—カルボキシ一 4ージフエニルメトキシカルボニルシクロへキサン、 1—カルボキシー 4—トリチノレオキシカノレボニシクロへキサン、 1—力ノレボキシ一4一フエニノレシリノレォキシ力ノレボニ^/シク口へキサン、 1—カノレボキシ一 4ージフエ二レシリノレオキシカノレボ二/レシク口へキサン、 1—力レボキシ一 4—トリフエニノレシリノレオキシカノレボニ^^シク口へキサン、 1—力ノレボキシ一 3—ペンジノレオキシカノレポ- レシクロへキサン、 1—力ノレボキシ一3—ジフエニルメトキシカルボニルシクロへキサン、 1—カルボキシ一 3—トリチノレオキシカノレボニノレシク口へキサン、 1一力ノレボキシ一 3—フエニルシリルォキシ力ノレボニ^レシク口へキサン、 1—力 >^レボキシ一 3—ジフエ二/レシリノレオキシカ Λ·^ボニシク口へキサン、 1—カルボキシ一 3—トリフエエルシリノレオキシカルボ二ルシク口へキサン、 1一力ノレボキシ一 2—ベンジノレォキシカノレボニノレシク口ペンタン、 1—力レボキシ一 2— ジフエニルメトキシカルボニルシクロペンタン、 1—カルボキシ一 2—トリチルォキシカノレボニノレシク口ペンタン、 1—カルボキシー 2—フエニノレシリルォキシカルボニルシク口ペンタン、 1—カルボキシ一 2—ジフエニルシリルォキシカルボニルシクロペンタン、 1 —カルボキシ一 2— トリフエニルシリルォキシカルボ二ルシク口ペンタン等が挙げられる。続いて、工程（Β) について説明する。工程（Β) は、前記工程（Α) で得られた化合物（2) のカルボキシル基を Ζで示される基で保護して、式（3)

YOOC (3)

で示される化合物（以下、化合物（3) と略記する。）を得る工程である。

化合物（2) のカルボキシル基を Zで示される基で保護して、化合物（3) を得る方法としては、化合物（2) と式（12)

Z— OH (12)

(式中、 Zは、炭素数：！〜 20のアルキル基、一 Ph、 _S i R⁵ R⁶ R⁷ 、一 S i R⁸ R ⁹ P h、 -S i R⁸ Ph₂ 、メトキシメチル基、ェトキシメチル基、メチルチオメチル基、 2—メトキシエトキシメチル基、エトキシェチル基、一CH₂ — O— CH₂ _P h、 t e r t—ブチル基、 t e r t—ブトキシメチノレ基、 _CH₂ — CO—P h、 2, 2, 2— トリクロロェチル基、テトラヒドロビラ-ル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロチオフラニル基を表わし、 Phは上記と同一の意味を表わす。 R⁵ 、 R⁶ および R⁷ は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1 〜 8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基または— CH₂ Ph基を表わし、 R⁸ および R⁹ は独立して、直鎖状または分岐鎖状の炭素数 1〜8のァルキル基または直鎖状または分岐鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基を表わす。）で示される化合物（以下、化合物（1 2) と略記する。）とを反応させる方法、塩基の存在下で、化合物（2) と式（1 3)

Z― W， (13)

(式中、 zは上記と同一の意味を表わし、 w'はハロゲン原子、メタンスルホ-ルォキシ基または P—トルエンスルホニルォキシ基を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（1 3) と略記する。）とを反応させる方法、化合物（2) とジヒドロピラン、ジヒドロチォピラン、ジヒドロフランまたはジヒドロチォフランとを反応させる方法等が挙げられる。

炭素数 1〜20のアルキル基としては、メチル基、ェチル基、イソプロピル基、 t e r t—ブチル基、へキシル基等が挙げられる。

直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜8のアルキル基としては、メチル基、ェチル基、ィソプロピル基、 t e r t一ブチル基、へキシル基等が挙げられ、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜8のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。

Zは、 p—メトキシフエ二ル基、 p—ニトロフエニル基、トリメチルシリル基、イソプ口ピルジメチルシリル基、 t e r t—ブチルジメチルシリル基、 t e r t—ブチルジフエニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリイソプロビルシリル基、ジ— t e r t—ブチルメチルシリル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、メチルチオメチル基、 2—メトキシェトキシメチル基、ェトキシェチル基、一 CH₂ — O— CH₂ — Ph、 t e r t - ブチル基、 t e r t—ブトキシメチル基、テトラヒドロビラ-ル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラエル基またはテトラヒドロチオフラニル基であることが好ましレヽ。

Zは、 t e r t—ブチルジメチルシリル基、 t e r t—ブチルジフエニルシリル基、トリイソプロビルシリル基、エトキシメチル基、 2—メトキシェトキシメチル基、エトキシェチル基、一 CH₂ — O— CH₂ —Phまたはテトラヒドロビラニル基であることがより好ましい。

Yで示される基と Zで示される基とが、脱離条件が異なる基であることが好ましい。例えば、一 COOZが酸性条件で安定であるときは、 Yで示される基が酸性条件で容易に脱離する基であることが好ましく、一 COOZが水素還元条件下で安定であるときは、 Yで示される基が水素により容易に脱離する基であることが好ましい。

化合物（2) と化合物（12) との反応は、通常、有機溶媒中で実施され、縮合剤を用いることが好ましい。

縮合剤としては、 1—シクロへキシル一3— (2—モルホリノエチル）カルポジイミドメト一 p—トノレエンスルホネート、ジシクロへキシノレカルボジイミド、 1—ェチノレ一 3— (3—ジメチルァミノプロピル）カルポジイミド、 1—ェチル一3— （3—ジメチルアミノプロピル）カルボジィミド塩酸塩（水溶性カルボジィミド： WS Cとして市販）、ビス (2, 6—ジイソプロピルフエニル）カルボジィミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド等のカルポジイミド、 2—メチルー 6—ニトロ安息香酸無水物、 2, 2 ' —カルボニルビス一 1 H—イミダゾール、 1， 1 ' 一ォキサリルジイミダゾ一ル、ジフエニルホスホリノレアジド、 1— (4—ニトロベンゼンスルホニル） - 1 H- 1 , 2, 4—トリァゾ —ル、 1 H—ベンゾトリアゾール一 1ーィルォキシトリピロリジノホスホニゥムへキサフルォロホスフェート、 1 H—べンゾトリアゾール一 1—ィルォキシトリス（ジメチルァミノ）ホスホニゥムへキサフルォロホスフェート、 N， N, Ν', Ν' —テトラメチノレ一 Ο— (Ν—スクシンィミジル）ゥロニゥムテトラフルォロボレート、 Ν— (1, 2, 2, 2—テトラクロ口エトキシカルボニルォキシ）スクシンイミド、 Ν—カルボべンゾキシスクシンイミド、 Ο— (6—クロ口べンゾトリアゾール一 1—ィル）一 Ν， Ν, Ν', N' —テトラメチルゥロニゥムテトラフルォロボレート、 Ο— (6—クロ口べンゾトリァゾール一 1一ィル）一 Ν， Ν, Ν', N' —テトラメチルゥ口-ゥムへキサフルォロホスフエ一ト、 2—ブロモ一 1一ェチルピリジニゥムテトラフルォロボレ一ト、 2—クロロ一 1, 3丁ジメチルイミダゾリニゥムクロリド、 2—クロ口一 1, 3—ジメチルイミダゾリニゥムへキサフルォロホスフェート、 2—クロ口一 1—メチルピリジニゥムョ一ダイド、 2—クロ口一 1—メチルピリジニゥム ρ—トルエンスルホネート、 2—フルォ口一 1—メチルピリジニゥム ρ—トルエンスルホネート、トリクロロ醉酸ペンタクロロフェニルエステル等が挙げられる。

縮合剤の使用量は、化合物（2) 1モルに対して、通常 0. 9〜 2モルである。

有機溶媒としては、アセトン、メチルェチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒、ペンタン、へキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ァセトニトリル等の二トリル溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン等のエーテル溶媒、乳酸ェチル等のエステル溶媒、クロ口ホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。有機溶媒の使用量は、化合物（2) と化合物（1 2) の合計 1重量部に対して、通常 1~15重量部、好ましくは 1~8重量部、より好ましくは 1~5重量部である。

化合物（12) としては、 p—メトキシフエノール、 p—ニトロフエノール、トリメチノレヒドロキシシラン、イソプロピルジメチルヒドロキシシラン、 t e r t—ブチルジメチノレヒドロキシシラン、 t e r t—ブチルジフエニルヒドロキシシラン、トリベンジルヒド口キシシラン、トリイソプロピルヒドロキシシラン、ジ一 t e r t—ブチルメチルヒドロキシシラン、メトキシメタノール、エトキシメタノール、メチルチオメタノール、 2—メトキシェトキシメタノール、エトキシエタノール、 HO— CH₂ -0-CH₂ — Ph、 t e r t—ブタノール、 t e r t一ブトキシメタノール等が挙げられる。かかる化合物（1 2) は通常市販されているものが用いられる。

化合物（12) の使用量は、化合物（2) 1モルに対して、通常 0. 95〜4モル、好ましくは 0. 97〜2モル、より好ましくは 0. 99〜1. 5モルである。

化合物（2) と化合物（12) との反応の反応温度は、通常一 20〜120°C、好ましくは 0〜 80 °C、より好ましくは 15〜 45 °Cである。反応時間は、通常 1分〜 72時間、好ましくは 1〜 48時間、より好ましくは 1〜 24時間である。化合物（2) と化合物（13) との反応は、塩基の存在下に実施され、塩基としては、トリェチルァミン、ジイソプロピルェチルァミン、ピリジン、 N—メチルモルホ'リン、ジメチルアミノビリジン、ジメチルァニリン等の有機塩基、水酸化ナトリウム、水酸化カリゥム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、フッ化セシウム等の無機塩基が挙げられ、有機塩基が好ましく、トリェチルァミン、ジイソプロピルェチルァミン、ピリジン、 N—メチルモルホリン、ジメチルアミノビリジンがより好ましレ、。また、無機塩基を用いた場合には、 18—クラウン一 6 等のクラウンエーテル、テトラプチルアンモニゥムブロミド等の第四級アンモニゥム塩等の相間移動触媒を併用してもよい。塩基の使用量は、化合物（2) 1モルに対して、通常：!〜 3モルである。

化合物（13) において、 W' は、ハロゲン原子、メタンスルホニルォキシ基または p -トルエンスルホニルォキシ基を表わす。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 W' はハロゲン原子であることが好ましく、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子であることがより好ましく、塩素原子または臭素原子であることが特に好ましい。

化合物（13) としては、 p—メトキシフエ二ルクロリド、 p—ニトロフエ二ノレクロリド、トリメチルクロロシラン、イソプロピルジメチルクロロシラン、 t e r t—ブチルジメチノレクロロシラン、 t e r t—ブチルジフエユルクロロシラン、トリベンジルクロロシラン、トリイソプロピルクロロシラン、ジー t e r t—ブチルメチルクロロシラン、メトキシメチルクロリド、エトキシメチルクロリド、メチルチオメチルクロリド、 2—メトキシェトキシメチルクロリド、ェトキシェチルク口リド、 C 1 -CH₂ -0-CH₂ — P h、 t e r t—ブチルクロリド、 t e r t—ブトキシメチルクロリド、 p—メトキシフエ二ルブロミド、 p—ニトロフヱニルブロミド、トリメチルブロモシラン、イソプロピルジメチノレブロモシラン、 t e r t—ブチノレジメチノレブ口モシラン、 t e r t—ブチ ^^ίレジフエ二ノレブロモシラン、トリベンジルブロモシラン、トリイソプロピルブロモシラン、ジ一 t e r t—ブチルメチルブロモシラン、メトキシメチルブロミド、エトキシメチルブロミド、メチルチオメチルブロミド、 2—メトキシェトキシメチルブロミド、ェトキシェチルブロミド、 B r— CH₂ —O— CH₂ — P h、 t e r t—ブチルブロミド、 t e r t—ブトキシメチルプロミド等が挙げられる。かかる化合物（13) は通常市販されているものが用いられる。

化合物（2) と化合物（1 3) との反応は、通常有機溶媒中で実施され、有機溶媒としては制限されないが、具体的には、アセトン、メチルェチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒、ペンタン、へキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ァセトニトリル等の-トリル溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン等のェ一テル溶媒、乳酸ェチル等のエステル溶媒、クロ口ホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。有機溶媒の使用量は、化合物（2) と化合物（1 3) の合計 1重量部に対して、通常 1~1 5重量部、好ましくは 1~10重量部、より好ましくは 2〜6重量部である。

化合物（13) の使用量は、化合物（2) 1モルに対して、通常 0. 95〜4モル、好ましくは 0. 97〜2モル、より好ましくは 0. 98〜1. 5モルである。

化合物（2) と化合物（1 3) との反応の反応温度は、通常一 20〜140°C、好ましくは 0〜100°C、より好ましくは 1 5〜45°Cである。反応時間は、通常 1分〜 72時間、好ましくは 1〜 48時間、より好ましくは 1〜 24時間である。

Wが塩素原子または臭素原子である化合物（1 3)を用いる場合、ヨウ化ナトリゥム、ョゥ化カリゥムまたはョゥ化セシウムを併用してもよレ、。化合物（2 ) とジヒドロピラン、ジヒドロチォピラン、ジヒドロフランまたはジヒドロチォフランとの反応は、通常有機溶媒中で実施される。

有機溶媒は制限されないが、具体的には、アセトン、メチルェチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒、ペンタン、へキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ァセトニトリル等の二トリル溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン等のエーテル溶媒、乳酸ェチル等のエステル溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。有機溶媒の使用量は、化合物（2 ) とジヒドロピラン、ジヒドロチォピラン、ジヒドロフランまたはジヒドロチォフランとの合計 1重量部に対して、通常 1〜1 2重量部、好ましくは 1〜8重量部、より好ましくは 2〜6重量部である。

化合物（2 ) とジヒドロピラン、ジヒドロチォピラン、ジヒドロフランまたはジヒドロチォフランとの反応は、酸触媒の存在下で行うことが好ましい。

酸触媒としては、 p—トルエンスルホン酸、ピリジニゥム p—トルエンスルホン酸、トリフルォロ酢酸等の有機酸、塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。酸触媒の使用量は、化合物（2 ) 1モルに対して、通常 0 . 0 3〜0 . 2モルである。

ジヒドロピラン、ジヒドロチォピラン、ジヒドロフランまたはジヒドロチォフランの使用量は、化合物（2 ) 1モルに対して、通常 1〜4モル、好ましくは 1 . 2〜4モル、より好ましくは 1 . 4〜 3モルである。

反応温度は、通常 4 0〜 1 6 0 °C、好ましくは 6 0〜 1 5 0 °C、より好ましくは 8 0〜 1 5 0 °Cである。反応時間は、通常 1分〜 7 2時間、好ましくは 1〜4 8時間、より好ましくは 8〜4 8時間である。力べして得られた化合物（3 ) を含む反応混合物をそのまま後述する工程（C) に用いてもよいし、化合物（3 ) を取り出し、工程（C) に用いてもよい。例えば、反応混合物を、必要に応じて濾過して、不溶分を除去した後、濃縮することにより、化合物（3 ) を取り出すことができる。化合物（3 ) としては、 l— p—メトキシフエノキシカルボニル一4—ベンジルォキシカノレボニレシク口へキサン、 1— ρ —二ト口フエノキシカノレボニノレ一 4 一べンジノレォキシカルボエルシクロへキサン、 1 _トリメチルシリルォキシカルボニル一4—ベンジルォキシカボニ Λ·^シクロへキサン、 1—ィソプロピジメチ»レシリノレオキシカ Λ ^ボニ^/一 4一ベンジノレオキシ力/レポニノレシク口へキサン、 1— t e r t—ブチルジメチゾレシリノレオキシ力ノレボニル一 4—ベンジルォキシカルボエルシクロへキサン、 l— t e r t—ブチルジフェニルシリルォキシカルボ二ルー 4—ベンジルォキシカルボニルシクロへキサン、 1—トリベンジルシリルォキシカルボニル— 4—ベンジルォキシカルボ-ルシクロへキサン、 1 — トリィソプロビルシリルォキシカルボ二ルー 4—ベンジルォキシカルボ二ルシク口へキサン、 1—ジ一 t e r t —ブチルメチルシリルォキシカルボニル一 4—ベンジルォキシカルボニルシクロへキサン、 1—メトキシメトキシカルボ二ルー 4一べンジルォキシカルボエルシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボニル一 4—ベンジルォキシカルボ二ルシクロへキサン、 1—メチルチオメトキシカルボ二ノレ一 4 一べンジノレォキシカノレボニノレシクロへキサン、 1— ( 2—メトキシエトキシメトキシカルボニル）一 4—ベンジルォキシカルボ二ルシク口へキサン、 1 ーェトキシェトキシカルボ二ルー 4 _ベンジルォキシカルボニルシクロへキサン、 1—ベンジルォキシメトキシカルボニル一 4一べンジルォキシカノレボニノレシク口へキサン、 1— t e r t一ブトキシ力/レポニノレー 4—ペンジノレオキシカルボニルシクロへキサン、 l _ t e r t—ブトキシメトキシカルボニル _ 4—ベンジルォキシカルボニルシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボニル一 4—ジフエニルメトキシカルボニルシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボ二ルー 4—ジフエ二ルメ卜キカルボエルシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボ二ルー 4—トリチルォキシカノレボニルシクロへキサン、 1一エトキシメトキシカルボ二ルー' 4—フエニルシリルォキシカルボエルシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボ二ルー 4—ジフエニルシリルォキシカルボエルシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボニル一 4— トリフエニルシリルォキシカルボニルシクロへキサン、 1一（2—テトラヒドロビラニル）ォキシカルボニルー 4—ベンジルォキシカルボ二ルシク口へキサン等が挙げられる。式（3 ) で示される化合物としては、下記式（3— 1 ) で示される化合物であることが好ましい。

(3-1) かかる化合物（3) のうち、式（3 a)

(式中、 R^a はメチル基を表わし、 qは 0〜 3の整数を表わす。 Y^aは、 -CH₂ Ph、一 CHPh₂ 、 -C P h a - S i H₂ Ph、 -S i HP h ₂ または一 S i P h ₃ を表わし、 Z^aは、一 S i R^{5 a} R^{6 a} R^{7 a} 、一 CH₂ — O— C₂H₅ 、一 CH₂ — OCH₃ 、 -CH₂ - S CH₃ 、 -CH₂ -0-CH₂ — CH₂ — OCH₃ 、 — CH₂ — CH₂ — O 一 C₂ H₅ 、 -CH₂ 一 O— CH₂ — Ph、 — C (CH₃ ) ₃ 、一 CH₂ — O— C (CH 3 ) ₃ 、一 CH₂ — CO— Ph、一 CH₂ — CC 1₃ 、テトラヒドロピラエル基、テトラヒドロチォピラエル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロチオフラエル基を表わす。 Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、一 SO_CH₃ 、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わし、 R^{5 3} 、 R^{6 a} および R^{7 a} は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基または一 CH₂ Ph基を表わす。）

で示される化合物は新規な化合物であり、後述する重合性化合物の合成中間体として用いることができる。続いて、工程（C) について説明する。工程（C) は、前記工程（B) で得られた化合物（3) の Yで示される基を脱保護して、式（4)

(式中、 R Z、 mおよび pは上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（4) と略記する。）を得る工程である。

Yで示される基を脱保護する方法としては、ブレンステッド酸を用いる方法、塩基を用いる方法、フッ素イオンを用いる方法、接触水素還元による脱保護方法、電解法、ルイス酸を用いる方法、熱による脱保護方法、酸化による脱保護方法等通常の脱保護方法が挙げられる。操作が簡便であるという点で、ブレンステッド酸を用いる方法、塩基を用いる方法、フッ素イオンを用いる方法、接触水素還元による脱保護方法が好ましく、 Zで示される基が脱保護しにくく、副反応が起こりにくい点で、接触水素還元による脱保護方法がより好ましい。かかる脱保護方法は、例えば、「 P r o t e c t i v e G r o u p s i n O r g a n i c S y n t h e s i s— TH I RD ED I T I ON」（G r e e n e Wu t s著、 WI LEY— I NTERSC I ENCEtt) に記載されている方法に準じて行うことができる。ブレンステツド酸を用いる方法におけるブレンステツド酸としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸等の無機ブレンステッド酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、 p_ トルエンスルホン酸、ピリジニゥム p—トルエンスルホン酸、トリフルォロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸等の有機ブレンステッド酸が挙げられ、塩酸、ギ酸、トリフノレォロ酢酸、 p— トルエンスルホン酸、ピリジニゥム p— トルエンスルホン酸が好ましく、 p—トルエンスルホン酸またはピリジニゥム p—トルエンスルホン酸がより好ましい。ブレンステッド酸の使用量は、化合物（3) 1モルに対して、通常 1〜 3モルである。塩基を用いる方法における塩基は制限されないが、ピリジン、ジェチルァミン、ピペリジン等の有機塩基が好ましい。なかでも、ジェチルァミンまたはピぺリジンがより好ましレ、。塩基の使用量は、化合物（3) 1モルに対して、通常 0. 1〜 2モルである。フッ素イオンを用いる方法は、通常、化合物（3) を溶媒に溶解させた後、氷温〜室温で、フッ素イオンを生じる化合物を加えることにより実施される。

フッ素イオンを生じる化合物としては、テトラプチルアンモニゥムフルオリド、フッ化カリウム、フッ化水素酸トリエチルァミン塩等が挙げられ、テトラプチルアンモニゥムフルオリドまたはフッ化水素酸トリェチルァミン塩が好ましい。

フッ素イオンを生じる化合物の使用量は、フッ素イオン濃度換算で、化合物（3) 1モルに対して、通常 0, 1〜 2モルである。ブレンステッド酸、塩基またはフッ素イオンを用いる脱保護は、通常、溶媒中で実施される。溶媒は制限されないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレンダリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フエノール等のアルコール溶媒；アセトン、メチルェチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソプチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、へキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジォキサン等のエーテル溶媒；乳酸ェチル等のエステル溶媒；クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒；等が挙げられる。水溶性の溶媒であり、脱保護反応が効率的に進行するという点で、水、メタノール、エタノール、エチレングリコ一ル、イソプロピルアルコール、プロピレングリコ一ル、メチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブ、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタンおよびジォキサンが好ましく、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジォキサン、テトラヒドロフランおよびジメトキシェタンがより好ましい。これら溶媒は、単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。

溶媒の使用量は、化合物（3 ) 1重量部に対して、通常 1〜 1 2重量部、好ましくは 1

〜 1 0重量部、より好ましくは 2〜8重量部である。

脱保護は、通常 4 0〜： 1 6 0 °C、好ましくは 6 0〜： 1 5 0 °C、より好ましくは 8 0〜 1 5 0 °Cで実施される。

脱保護反応の反応時間は、通常 1分〜 7 2時間、好ましくは 1〜 4 8時間、より好ましくは 8〜4 8時間である。

接触水素還元による脱保護は、化合物（3 ) を溶媒に溶解させた後、窒素雰囲気中で触媒を加えて、水素源を導入することにより行うことが好ましい。

触媒としては、アダムス触媒（白金）、ロジウム一炭素、パラジウム一炭素等が挙げられ、パラジウム一炭素が好ましい。触媒の使用量は、化合物（3 ) 1重量部に対して、通常 0 . 0 1〜1重量部、好ましくは 0 . 0 1重量部〜 0 . 1重量部である。

水素源としては、水素、シクロへキサジェン、ギ酸アンモニゥム、ギ酸が挙げられ、水素、シクロへキサジェンまたはギ酸アンモニゥムが好ましく、水素またはギ酸アンモニゥムがより好ましい。

水素分圧は制限されないが、通常 1〜 1 0気圧であり、好ましくは 1〜2気圧であり、より好ましくは：！〜 1 . 2気圧である。

接触水素還元による脱保護に用いられる溶媒は制限されないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセ口ソルブ、ブチノレセロソノレブ、プロピレンダリコールモノメチルエーテノレ、フエノール等のアルコール溶媒；アセトン、メチルェチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；トルェン、キシレン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジォキサン等のエーテル溶媒；乳酸ェチル等のエステル溶媒が挙げられる。水溶性の溶媒であり、脱保護反応が効率的に進行するという点で、メタノール、ェタノ一ル、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチノレセロソルブ、ブチルセ口ソルブ、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジォキサンが好ましい。反応速度が速いという点で、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジォキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタンがより好ましい。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。溶媒の使用量は、化合物（3 ) 1重量部に対して、通常 1〜 1 2重量部、好ましくは 1〜 1 0重量部、より好ましくは 2 〜 8重量部である。

さらに、触媒として酢酸、塩酸、トリフルォロ酢酸、ギ酸等の酸を併用してもよい。かかる酸の使用量は、化合物（3 ) 1モルに対して、通常 1モル以下であり、好ましくは 0 . 3モル以下であり、より好ましくは 0 . 0 5モル以下である。

接触水素還元の温度は、通常 0〜 6 0 °C、好ましくは 0〜 5 0 °C、より好ましくは 1 5 〜5 0 °Cである。接触水素還元時間は、通常 1分〜 7 2時間、好ましくは 1〜4 8時間、より好ましくは 8〜4 8時間である。

かくして、化合物（4 ) を含む反応混合物が得られ、例えば、必要に応じて不溶分を濾過により除去した後、濃縮することにより、化合物（4 ) を取り出すことができる。工程（B ) において、化合物（8 ) を含む化合物（2 ) の粗結晶を用いた場合には、本工程（C) において、化合物（8 ) の脱保護も同時に進行し、化合物（1 ) と化合物（4 ) の混合物が得られる。得られた混合物を、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、メタノール等のアルコール溶媒を用いた再結晶等により精製することにより、化合物（1 ) を回収し、化合物（4 ) を取り出すことができる。回収した化合物（1 ) は、前記工程（A) に再利用することができる。化合物（4 ) としては、 1— p—メトキシフエノキシカルボニル一4—カルボキシシク口へキサン、 1— p—二トロフエノキシカノレボニノレー 4—カノレボキシシクロへキサン、 1 一トリメチルシリルォキシカルボ二ルー 4 _カルボキシシクロへキサン、 1—ィソプロピノレジメチルシリルォキシカルボニル一 4—カルボキシシクロへキサン、 1— t e r t—ブチノレジメチノレシリノレオキシカノレボニノレ一 4一力ノレボキシシクロへキサン、 1— t e r t - ブチルジフエニルシリルォキシカルボニル一4 _カルボキシシクロへキサン、 1—トリべンジルシリルォキシカルボニル— 4一カルボキシシク口へキサン、 1—トリイソプロピルシリルォキシカルボニル一 4—カルボキシシクロへキサン、 1—ジー t e r t—ブチルメチルシリルォキシカルボ二ルー 4一カルボキシシクロへキサン、 1—メトキシメトキシカノレボニル一 4 _カルボキシシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボニル一 4—力ノレボキシシクロへキサン、 1ーメチゾレチオメトキシカノレボニノレ一 4—カノレボキシシクロへキサン、 1— (2—メトキシェトキシメトキシカルボニル）一 4—カルボキシシクロへキサン、 1—エトキシエトキシカルボ二ノレ一 4—カルボキシシクロへキサン、 1 _ベンジルォキシメトキシカルボ二ルー 4—カルボキシシクロへキサン、 1— t e r t—ブトキシカルボニル _ 4一カルボキシシクロへキサン、 1— t e r t—ブトキシメトキシカルボニル一 4—カルボキシシクロへキサン、 1—エトキシメトキシカルボニル一4 _カルボキシシク口へキサン等が挙げられる。式（4) で示される化合物が、下記式（4— 1) で示される化合物であることが好ましレ、。

かかる化合物（4) のうち、式（4 b)

(式中、 R^b はメチル基を表わし、 qは 0〜 3の整数を表わす。 Z^bは、一 S i R^{5 b} R 6^b R^{7 b} 、一 CH₂ — O— C₂H₅ 、 -CH₂ -OCH₃ 、一 CH₂ — SCH₃ 、一 C H₂ -0-CH₂ -CH₂ -OCH3 、 -CH₂ -CH₂ 一 O— C₂ H₅ 、一 CH₂ — O -CH₂ —Ph、 — C (CH₃ ) 3 、 -CH₂ -O-C (CH₃ ) ₃ 、 _CH₂ —CO— P h、 -CH₂ _CC 1₃ 、テトラヒドロビラニル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラニル基まだはテトラヒドロチオフラニル基を表わす。 Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、一 SO— CH 、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、一 SO— CH₃ 、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わし、 R^{5 b} 、 R^{6 b} および R^{7 b} は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜8のアルコキシ基または一 CH₂ Ph基を表わす。）

で示される化合物は新規な化合物であり、後述するように、重合性化合物の合成中間体として有用である。得られた化合物（4) と式（5) P¹— (~J²— K¹— J¹)— B¹— A¹-) ~ X—— H (5)

(式中、 Xは、一 O—、一 S—または _N (R^{1 7} ) —を表わし、 R^{1 7} は水素原子または炭素数 1〜4のアルキル基を表わす。 A' は独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい 2価の脂環式炭化水素基またはへテ口原子を含んでいてもよい 2価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基および芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜 4のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜 4のアルコキシ基、シァノ基およびニトロ基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよレヽ。 B ¹ は独立して、一 CR^{1 5} R' ⁶ _、 -CH₂ — C H₂ ―、 — O—、一 S—、一 C ( = 0) — 0_、 -O-C ( = 0) ―、 -O-C ( = 0)

_o—、一 c (=s) — o—、 -o-c (= s) 一、 -o-c (= S) 一 O—、一 C (=

O) -N (R ^{1 7} ) —、 —N (R ^{1 7} ) -C ( = 0) ―、 -OCH₂ 一、 -CH₂ O—、 — SCH₂ —、 -CH₂ S—、 -C (=S) _0_、 -O-C (= S) 一、一 C (=0) 一 S―、 -S-C ( = 0) ―、 - (C = S) — S―、 — S— C (= S) ―、 -NH-C (= O) — O—、 -O-C (=0) —題—、 -NH-C ( = 0) ―題一、 — N (R^{1 7} ) ―、一 S ( = 0) ―、 -O-S ( = 0) ₂ —O—、一N = N—または単結合を表わし、 R ^{1 5} および R^{1 6} は独立して、水素原子、フッ素原子または炭素数 1〜4のアルキル基を表わす。 J ¹ および J ² は独立して、炭素数 1〜12のアルキレン基を表わし、該アルキレン基は、炭素数 1〜5のアルキル基、炭素数 1〜5のアルコキシ基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい。 K¹ は独立して、一 O 一、一 c (=o) 一 o—、 -o-c (=o) 一、一 C (= S) 一 o—、 -o-c (= S) 一、一 c (=o) 一 s—、 -s-c (=o) ―、一（c = s) — s—、 -s-c (= s)

―、 -NH-C ( = 0) ―、 -C ( = 0) — NH―、 -NH-C ( = 0) — O—、 — O— C ( = 0) — NH—、 -NH-C ( = 0) — NH―、 — O— C ( = 0) — O—、 — N (R ^{1 7} ) —、一 s (=o) 一、 -o-s (=◦) ₂ —O—または単結合を表わす。 kおよび 1は独立して、 1〜3の整数を表わし、 P ¹ は重合性基を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（5) と略記する。）とを反応させることにより、式（6)

(式中、 R ¹ X、 Z、 A B J J K P '、 k、 1、 mおよび pは上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物（以下、化合物（6) と略記する。）を製造することができる。かかる化合物（6) は、後述するように、液晶材料として有用な重合性化合物に導くことができる。

R ^{1 5} 、 R ^{1 6} および R^{1 7} における炭素数 1〜4のアルキル基としては、メチル基、ェチル基、イソプロピル基、 t e r t―ブチル基等が挙げられる。

Xは、一O—であることが好ましい。

へテ口原子を含んでレ、てもよい 2価の脂環式炭化水素基の環を構成する原子数は、 5個または 6個が好ましく、ヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子および窒素原子が好ましい。ヘテロ原子の数は、 2個以下であることが好ましい。かかる脂環式炭化水素基の具体例としては、式（g _ l) 〜式（g— 1 0) で示される基が挙げられる。

かかる脂環式炭化水素基は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜4のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜4のアルコキシ基、シァノ基および-トロ基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜4のアルキル基としては、メチル基、ェチル基、イソプロピル基、 t e r t—ブチル基等の無置換の炭素数 1〜4のアルキル基およびトリフルォロメチル基等のフッ素原子で置換された炭素数 1〜4のアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜4のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基等の無置換の炭素数 1 ~ 4のアルコキシ基およびトリフルォロメトキシ基等のフッ素原子で置換された炭素数 1〜4のアルコキシ基が挙げられる。

なかでも、式（g— 1 ) で示される基が好ましく、 1， 4—シクロへキシレン基がより好ましく、トランス一 1 , 4—シクロへキシレン基が特に好ましい。

ヘテロ原子を含んでいてもよい 2価の芳香族炭化水素基としては、 1〜3個のベンゼン環を有する基が好ましく、具体的には、式（a— 1 ) 〜式（a _ 8 ) で表される炭素数 6 〜2 0の 2価の芳香族炭化水素基が挙げられる。

かかる芳香族炭化水素基も、前記ハロゲン原子、前記ハロゲン原子で置換されていてもよレ、炭素数 1〜 4のアルキル基、前記ハ口ゲン原子で置換されていてもょレ、炭素数 1〜 4 のアルコキシ基、シァノ基および二トロ基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよレ、。

ヘテロ原子を含んでもよい 2価の芳香族炭化水素基としては、式（a— 1 ) で示される基が好ましく、 1, 4一フエ二レン基がより好ましい。

A¹ は、ヘテロ原子を含んでいてもよい 2価の芳香族炭化水素基であることが好ましく、式（a— 1) で示される基がより好ましく、 1， 4—フエ二レン基であることが特に好ましい。

B ¹ は、 — CH₂ -CH₂ 一、 — C ( = 0) _0—、 -O-C ( = 0) ―、 — C (=0) 一 NH―、 -NH-C ( = 0) ―、一 O— CH₂ ―、一 CH₂ —O—または単結合であることが好ましく、一 C ( = 0) ― O—または一 O— C ( = o) —がより好ましい。

J ¹ および J ² における炭素数 1〜12のアルキレン基としては、メチレン基、ェチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、へキシレン基、ォクチレン基、デセン基等が挙げられる。かかるアルキレン基は、メチル基、ェチル基、プロピル基等の炭素数 1〜5のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数 1〜5のアルコキシ基およびフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい。 J ¹ および J ² は独立して、炭素数 1〜8のアルキレン基であることが好ましい。

K¹ は、一 O—、一 C ( = 0) ― O—、 -O-C ( = 0) —または単結合であることが好ましい。

kは 1また 2であることが好ましく、 1であることがより好ましい。 1は 1また 2であることが好ましく、 1であることがより好ましい。

重合性基とは、化合物（6) の重合反応に関与し得る基を含む基であり、化合物（6) の重合反応に関与し得る基としては、ビニル基、 p—スチルベン基、ァクリロイル基、了クリロイルォキシ基、メタクロィル基、メタクロィルォキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、力ルバモイル基、炭素数 1〜4のアルキルアミノ基、アミノ基、ホルミル基、 ― N = C = 0、一 N = C = S、下記式

で示される基等が挙げられる。かかる重合性基としては、上記した基、上記した基と B ¹ で示される基または K ¹ で示される基とが結合した基が挙げられる。なかでも、光重合に適するという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易で、製造も容易であるという点で、ァクリロイルォキシ基またはメタクロィルォキシ基がより好ましい。化合物（5) としては、下記式（5— 1— a) 〜（5— 36— e) で示される化合物が Il=u (a-n-S) II=« (a-U-S)

II=" (a-OI-S) ll=u (3-6-S

Ol=u (P-OI-S) Ol=u (ρ-6-S

ム =11 (D-OI-S) (oi-s) ム =u (3-6-S: (6-S) S=u (q-OI-S) HO- /)-OO0— ^"o— o- S=u (q-6-S -OOO— ^"0— o c=» (B-OI-S) £•=11 (B-6-S

(3-8-S)

l l=u (P-8-S) (8-S) l l=« (P-ム -s) (LS)

8=^u (3-8-S) 8=u HO- -^uiH"0-0- 9=u (q-8-s) »ο-ά ^u¾^uo— o- 9=u (q- .-s)

|7=U (B-8-S)

(3-9-S) =u (3-S-S)

l l=u (P-9-S) U=u (p-s-s)

(9-S)

8=^u (3-9-S) 8=u (3-S-S) (s-s) 9=u (q-9-s) HO- -^U2H^U0-0- 9=u (q-s-s) HO- -^u¾^uo-o-

(Β-9-S) =u (B-S-S) =u (3-C-S)

ri=u (a-l-S)

*

LZ

1"9SSS0/600Zdf/X3d .S99TI/600Z OAV

化合物（4) と化合物（5) との反応は、縮合剤の存在下に実施することが好ましい。縮合剤としては、前記化合物（2) と化合物（12) との反応において用いられる縮合剤と同様のものが挙げられ、 1ーシクロへキシル _ 3— （2—モルホリノエチル）カルボジイミドメト一 p—トルエンスルホネート、ジシクロへキシルカルボジイミド、 1—ェチル一3— (3—ジメチルァミノプロピル）カルボジイミド、 1一ェチル一3— (3—ジメチルァミノプロピル）カルポジイミド塩酸塩、ビス（2, 6—ジイソプロピルフエニル）カルポジイミド、 2， 2' —カルボニルビス一 1H— ^ Tミダゾール、 1， 1' ーォキサリルジイミダゾ一ル、ジフエニルホスホリルアジド、 1 H—ベンゾトリァゾ一ル一 1—ィルォキシトリピロリジノホスホニゥムへキサフルォロホスフェート、 1H—ベンゾトリアゾール一 1一ィルォキシトリス（ジメチノレアミノ）ホスホニゥムへキサフルォロホスフエート、 N， N, Ν', N' —テトラメチル一 Ο— (Ν—スクシンィミジル）ゥロニゥムテトラフルォロボレ一ト、 Ν— (1， 2, 2, 2—テトラクロ口エトキシカルボ二ルォキシ）スクシンィミド、 Ο— (6—クロ口べンゾトリアゾール一 1—ィル）一 Ν, Ν, Ν', N' —テトラメチゥロニゥムへキサフノレオ口ホスフェート、 2—クロ口一 1， 3—ジメチルイミダゾリニゥムクロリド、 2—クロ口 _ 1， 3—ジメチルイミダゾリニゥムへキサフルォロホスフェート、 2—クロ口 _ 1—メチルピリジニゥムョーダイドおよび 2_クロロー 1一メチルピリジ-ゥム ρ—トルエンスルホネートが好ましく、ジシクロへキシルカルポジイミド、 1—ェチル一3— (3—ジメチルァミノプロピル）カルボジィミド、 1—ェチル一 3— ( 3—ジメチルァミノプロピル）カルボジィミド塩酸塩、ビス（ 2、 6—ジイソプロピルフエニル）カルボジイミド、 2， 2 ' —カルボニルビス _ 1 Η—イミダゾ一ル、 1 Η—ベンゾトリアゾ一ル一 1—ィルォキシトリピロリジノホスホニゥムへキサフルォロホスフェート、 1 Η—ベンゾトリアゾ一ル一 1—ィルォキシトリス（ジメチルァミノ）ホスホニゥムへキサフルォロホスフェート、 Ν， Ν, Ν', N' —テトラメチル一 Ο— (Ν—スクシンイミジノレ）ゥロニゥムテトラフノレオロボレ一ト、 Ο— (6— クロ口べンゾトリアゾール一 1一ィル）一 Ν， Ν, Ν', N' ーテトラメチルゥロニゥムへキサフルォロホスフェート、 2—クロ口 _1， 3—ジメチルイミダゾリニゥムクロリドおよび 2—クロ口一 1—メチルピリジニゥムョ一ダイドがより好ましく、ジシクロへキシルカルボジイミド、 1—ェチル一3— （3—ジメチルァミノプロピル）カルボジイミド、 1—ェチルー 3— ( 3—ジメチルァミノプロピル）カルボジィミド塩酸塩、ビス（ 2、 6—ジイソプロピルフエニル）カルボジイミド、 2， 2 ' —カルボニルビス一 1 Η—イミダゾールおよび 2—クロロー 1一メチルピリジニゥムョーダイドが特に好ましい。縮合剤の使用量は、化合物（4) 1モルに対して、通常 1〜 3モルである。

N—ヒドロキシスクシンイミド、ベンゾトリアゾール、 p—ニトロフエノール等を併用してもよく、その使用量は、縮合剤 1モルに対して、通常 0. 03〜1. 2モルである。また、 N, N—ジメチルァミノピリジン、 N, N—ジメチルァニリン、ジメチルアンモニゥムペンタフルォロベンゼンスルホネート等を触媒として加えてもよい。 N, N—ジメチルアミノビリジンまたは N， N—ジメチルァニリンが好ましく、 N, N—ジメチルァミノピリジンがより好ましい。触媒の使用量は、化合物（4) 1モルに対して、通常 0. 01〜0. 5モルである。

化合物（4) と化合物（5) との反応は、通常溶媒中で実施される。溶媒としては、ァセトン、メチルェチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルアミノレケトン、メチルイソプチルケトン等のケトン溶媒、ペンタン、へキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒、ァセトニトリル等の二トリル溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン等のエーテル溶媒、乳酸ェチル等のエステル溶媒、クロロホノレム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素溶媒等が挙げられる。これら溶媒は、単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよレ、。溶媒の量は、化合物（4) と化合物（5) の合計 1重量部に対して、通常 1

〜 14重量部、好ましくは 1〜9重量部、より好ましくは 1〜5重量部である。

化合物（5) の使用量は、化合物（4) 1モルに対して、通常 0. 8〜1. 5モル、好ましくは 0. 9〜1. 2モル、より好ましくは 0. 98〜1. 1モルである。

反応温度は、通常— 20〜： 120°C、好ましくは 0〜80°C、より好ましくは 15〜4

5°Cである。反応時間は、通常 1分〜 72時間、好ましくは 1〜48時間、より好ましくは:！〜 24時間である。

反応終了後、例えば、必要に応じて反応混合物から不溶分を濾過等により除去した後、濃縮することにより、化合物（6) を取り出すことができる。

化合物（6) としては、下記式（6— 1一 a) 〜 (6— 20— e) で示される化合物が挙げられる。 ΪΤ= =u (a-9-9)

01= =u (P-9-9)

(9-9)

=u (3-9-9)

s= :11 (q-9-9) ^sH¾O^zHO^zOO- -OOO- -OOO— ^UJH^uO— O-

=u (B-9-9)

"=u (a-S-9)

0I=« (P-S-9)

(S-9) ム =u (3-S-9)

S=u (q-g-9) ^gH¾O^JH0¾0- -OOO- -000— ^UZH^U0— O- £=« (B-S-9)

(aす- 9)

"=u (P-fr-9)

(p-9)

8=u (o-p-9)

9=« (q-fr-9) ^sH¾O^zHO¾0- -000- -^uzH^u0-O- =Π (Bす- 9)

(ς-ε-9) ^sH¾O^zH〇^zOつ- - 030- - ^uzH^u0-0- =U (e-e-9)

(3-T-9)

(P-I-9)

8=n (3-1-9) (1-9)

9=n (q-i-9) ^SH¾0^JHO¾0- π (B-1-9)

Z2

l79SSS0/600Zdf/X3d .S99TI/600Z OAV

t P=» (a-81-9)

r=l P=^ (P-81-9) (81-9)

S=i Z=u (3-81-9)

^= Z=u (q-8l-9) ^SH¾0²HO¾0- -000一 ^IZH'0— 000— ^UJH"0— o- Z=l z=u (B-8I-9) fr=« (a- -9)

r=» p=" (p-ん i-9) ι-9)

r=« (q- i-9)

^SH¾0^ZHO^Z00- -000—— ^,ZH'0— OOO— ^UZH^U0— O-

I ϊ=α (3-9Ϊ-9)

ΟΪ=π (Ρ-9Ϊ-9)

(91-9)

ム =u (3-91-9)

s=n (q-91-9) ^sH¾O^zHO^zOO- -OQO- -OOO— ^UZH^U0— O-

£=n (B-9I-9)

OI=n (P-ST-9)

(ST-9)

ム =n (a-si-9)

S=n (q-si-9) ^sH¾O^zHO¾0- -000- -OOO— ^UZH^U3— O-

€=n (B-SI-9)

OI=n (P-fI-9)

ム =u (3す i-9)

S=« (q~H-9) ^sH¾O^JH0¾0- -ooo→ Vooo— ^UZH^U0— o- £=o (B廿 9)

Π=π (a-n-9:

ΟΪ=π (Ρ-Π-9:

(ει-9)

S=n (q-CI-9] ⁹H¾0^JHO¾0- -000- -OOO— ^UZH^U0— O-

l79SSS0/600Zdf/X3d .S99TI/600Z OAV (6-19-a) n=2 t=2

-0— C_nH_2n—— 0—— C_tH_a—— COO- - OCO- -C0₂CH₂OC

(6-19-b) n=2 t=4

(6-19-c) n=2 t=5

(6-19)

(6-19-d) n=4 t=2

(6-19-e) n=4 t=4

(6-20-a) n=2 t=2

-O— C_nH_2n—— O—— C,H,_t—— COO- -OCO- -C0₂CH₂OC₂H₅ (6-20-b) n=2 t=4

(6-20-c) n=2 t=5

(6-20) (6-20-d) n=4 t=2

(6-20-e) n=4 t=4 化合物（6 ) の Zで示される基を脱保護することにより式 ( 7 )

(式中、 R ¹ X、 A ¹ , B J \ J ²、 K P k、 1 、 mおよび pは上記と同一の意味を表わす。）

で示される重合性化合物（以下、重合性化合物（7 ) と略記する。）を製造することがでさる。

Zで示される基を脱保護する方法としては、前記工程（C ) で記載した脱保護方法が挙げられ、ブレンステツド酸を用いる方法が好ましい。

ブレンステツド酸を用いる方法について、以下説明する。ブレンステツド酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、硫酸、 p—トルェンスルホン酸、ピリジニゥム p—トルエンスルホン酸、トリフルォロ酢酸、トリクロ口酢酸およびメタンスルホン酸から'なる群から選ばれる少なくとも 1種が好ましい。

ブレンステッド酸の使用量は、化合物（6 ) 1モルに対して、通常 1 〜 3モルである。脱保護は、通常、溶媒中で実施される。溶媒は制限されないが、具体的には、水；メタノ一 Λ^、エタノー;レ、エチレングリコ一ノレ、イソプロピ；^レア;レコーノレ、プロピレングリコ —ル、メチルセ口ソノレブ、ブチルセ口ソルブ、プロピレングリコーノレモノメチルエーテル、フエノール等のアルコール溶媒；アセトン、メチルェチルケトン、シクロペンタノン、シクロへキサノン、メチルアミルケドン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、へキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロ口ベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジォキサン等のェ一テル溶媒；乳酸ェチル等のエステル溶媒；クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒；等が挙げられる。水溶性の溶媒であり、脱保護反応が効率的に進行するという点で、水、メタノ—ノレ、ェタノ一ノレ、エチレングリコーノレ、イソプロピノレアノレコーノレ、プロピレングリコール、メチルセ口ソルブ、ブチルセ口ソルブ、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタンおよびジォキサンが好ましく、テトラヒドロフラン、ジメトキシェタン、ジォキサン、テトラヒドロフランおよびジメトキシェタンがより好ましい。これら溶媒は、単独で用いてもよいし、二種以上を混合して用いてもよい。

溶媒の使用量は、化合物（6 ) 1重量部に対して、通常 1〜 1 2重量部、好ましくは 1 〜 1 0重量部、より好ましくは 2〜 8重量部である。

脱保護は、通常 4 0〜1 6 0 °C、好ましくは 6 0〜： I 5 0 °C、より好ましくは 8 0〜1

5 0 °Cで実施される。

脱保護反応終了後、例えば、反応混合物を濃縮することにより、重合性化合物（7 ) を取り出すことができる。取り出した重合性化合物（7 ) は、再結晶等の通常の精製手段によりさらに精製してもよレ、。かくして得られる重合性化合物（7 ) としては、下記に示す化合物が挙げられる。

(7-1-e) n=12

(7-2-e) n=12

() ίや L- 0 H0 () πpや i=π-

sou () 9qZNA=--

sss/o6<

(7-35-c) n=2 t=5

(7-35)

(7-35-d) n=4 t=2

(7-35-e) n=4 t=4

(7-36) (7-36-d) n=4 t=2

(7-36-e) n=4 t=4 実施例

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。下記実施例中の「％」および「部」は、特記ない限り、重量％および重量部である。実施例 1

(1) トランス一 1, 4ーシクロへキサンジカルボン酸 200 gおよび N, N—ジメチルァセトアミド 600mLを混合した。得られた混合物を、窒素雰囲気下で、攪拌しながら 80°Cに調整した後、炭酸カリウム 96. 32 gを加え、さらに、臭化べンジル 188. 73 gを加えた。得られた混合物を 80°Cで 4時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、氷 1500 gに注いだ。析出した結晶を濾過により取り出し、水/メタノール溶液（体積比 =1/1) で洗浄し、さらに水で洗浄した。結晶を減圧乾燥した後、クロ口ホルムに溶解させた。得られた溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィ —により精製し（溶離液：ヘプタン Zクロ口ホルム溶液（体積比 =3ノ 1)、次いでヘプタン Zクロ口ホルム溶液（体積比 =1/1)、最後にクロ口ホルム）、式（2— a) で示される化合物 138 gを得た。収率： 46% (トランス一 1, 4—シクロへキサンジカルボン酸基準)。

( 1 ') トランス一 1, 4—シクロへキサンジカルボン酸 200 gおよび N， N—ジメチルァセトアミド 100 OmLを混合した。得られた混合物を、窒素雰囲気下で、攪拌しながら 80°Cに調整した後、炭酸カリウム 96. 32 gを加え、さらに、塩化べンジル 1 3 9. 68 gおよびヨウ化カリウム 1. 5 gを加えた。得られた混合物を 120°Cで 6時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、氷 1 500 gに注いだ。析出した結晶を濾過により取り出し、水ノメタノール溶液（体積比 = 1/1) で洗浄し、さらに水で洗浄した。結晶を減圧乾燥した後、クロ口ホルムに溶解した。得られた溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し（溶離液：ヘプタンノクロロホルム溶液（体積比 =3/1)、次いでヘプタンクロ口ホルム溶液（体積 = lZl)、最後にクロ口ホルム）、式（2— a) で示される化合物 1 30 gを得た。収率： 44% (トランス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸基準)。

式（2— a) で示される化合物の' H— NMR (CDC 1₃) ： δ ( p p m) 1. 43〜 1. 56 (m, 4H)、 2. 02〜2. 10 (m, 4H)、 2. 25〜2. 35 (b r , m， 2H)、 5. 1 1 (s， 2H)、 7. 30〜7. 37 (m， 5 H)

(2) 式 (2-a) で示される化合物 60 g、 p -トルエンスルホン酸一水和物 0. 44 gおよびクロ口ホルム 20 OmLを混合した。得られた溶液を氷冷した後、窒素雰囲気下で、得られた溶液にジヒドロピラン 38. 48 gを 1時間かけて滴下した。得られた混合物を、窒素雰囲気下、室温で 2時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液に、トルエン 60 OmLを加え、不溶分を濾過により除去した。得られた濾液を水 100 OmLで洗浄した後、無水硫酸ナトリゥムで乾燥した。硫酸ナトリゥムを濾過により除去した後、濾液を濃縮した。得られた粗生成物を減圧乾燥し、式（3— a) で示される化合物 70 gを得た。収率： 9 1% (式（2— a) で示される化合物基準)。

式（3— a) で示される化合物の' H— NMR (CDC 1₃) ： δ ( p p m) 1. 43 〜1. 56 (m, 4H) 、 1. 63〜： 1. 67 (m, 3 H) 、 1. 68〜： 1. 87 (m， 3H) 、 2. 05〜2. 10 (m, 4 H) 、 2. 29〜2. 35 (b r , m, 2 H) 、 3 . 58〜3. 62 ( t t , 1H) 、 3. 9 1〜 3. 99 (d t , 1H) 、 5. 1 1 (s， 2H) 、 5. 27〜 5. 29 (t, 1H) 、 7. 30〜 7. 37 (m， 5 H)

(3) 式（3— a) で示される化合物 70 gおよびテトラヒドロフラン 25 OmLを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液に、 10%パラジウム一炭素（50%含水） 3 gを加えた。得られた混合物を、室温、常圧、水素雰囲気下で、 6時間攪拌して反応させた。反応終了後、窒素雰囲気下で反応混合物を濾過し、触媒を除去した。得られた濾液を濃縮した。得られた濃縮残渣を、水 Zメタノール溶液（体積比 = 1/1) で洗浄し、さらに水で洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、式（4一 a) で示される化合物 2 1 gを得た。収率： 36% (式（2— a) で示される化合物基準)。

式（4— a) で示される化合物の¹ H— NMR (CDC 1₃)： δ (p pm) 1. 43〜

I . 56 (m, 4H)、 1. 63〜； I. 67 (m， 3H)、 1. 68〜： L. 87 (m, 3H)、 2. 02〜2. 10 (m, 4H)、 2. 25〜2. 35 (b r， m, 2H)、 3. 59〜3. 62 (m, 1H)、 3. 90〜3. 99 (d t , 1H)、 5. 25〜5. 28 ( t , 1H)、

I I. 30 (b r， 1 H)

(2) 式（2— a) で示される化合物 60 gおよびクロ口ホルム 20 OmLを混合した。得られた溶液を氷冷した後、窒素雰囲気下で、得られた溶液にエトキシクロロメタン 43. 25 gおよびトリェチルァミン 69. 44 gを滴下した。得られた溶液を、窒素雰囲気下、室温で 4時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液に、トルエン 60 OmLを加え、析出したトリェチルァミン塩酸塩を濾過により除去した。得られた濾液を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過により除去し、濾液を濃縮した。得られた粗生成物を減圧乾燥して、式（3— b) で示される化合物 74 gを得た。収率： 95% (式（2— a) で示される化合物基準)。

式（3— b) で示される化合物の ' H— NMR (CDC 1 J： δ (p pm) 1. 18〜 3H)ゝ 1. 37〜： I. 56 (m, 4H)、 2. 06〜2. 09 (m, 4H)、 33 (b r， m, 2H)、 3. 65〜3. 71 (q, 2H)、 5. 10 (s, 7 ( s , 2H)、 7. 29〜7. 35 (m， 5 H) (3) 式（3— b) で示される化合物 64 gおよびテトラヒドロフラン 25 OmLを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液に、 10%パラジウム一炭素（50%含水） 3. 2 gを加えた。室温、常圧、水素雰囲気下で、得られた混合物を 6時間攪拌して反応させた。反応終了後、反応混合物を濾過し、触媒を除去した。得られた濾液を濃縮した。濃縮残渣を水メタノール溶液（体積比 = 1 1) で洗浄し、さらに水で洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、式（4_b) で示される化合物 45 gを得た。収率： 84% (式（2— a) で示される化合物基準)。

式（4— b) で示される化合物の¹ H— NMR (CDC I ₃) 5 (p p m) 1. 20〜 1. 26 ( t , 3Η)、 1. 40〜： L. 56 (d t , 4H)、 2. 08〜2. 1 1 (b r， d, 4H)、 3. 64〜 3. 72 (q, 2H)、 5. 29 (s, 2 H) 実施例 3

(1) トランス一 1, 4—シクロへキサンジカルボン酸 200 gおよび N, N—ジメチルァセトアミド 100 OmLを混合した。得られた混合物を、窒素雰囲気下、攪拌しながら 80°Cに調整した後、炭酸カリウム 96. 32 gを加え、さらに、塩化べンジル 1 39. 68 gを加えた。得られた混合物を 1 20°Cで 6時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、氷 1 500 gに注いだ。析出した結晶を濾過により取り出し、水/メタノール溶液（体積比 =3Z2) で洗浄し、さらに水で洗浄した。結晶を減圧乾燥し、式（2_a) で示される化合物と式（8— a) で示される化合物とを含む粉末 25 1 gを得た。

(2) 上記（1) で得た粉末 251 gおよびクロ口ホルム 60 OmLを混合した。得られた溶液を氷冷した後、窒素雰囲気下で、得られた溶液にエトキシクロロメタン 93. 53 gおよびトリェチルァミン 146. 83 gを滴下した。得られた混合溶液を、窒素雰囲気下、室温で 3時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液に、トルエン 60 OmLを加え、析出したトリェチルァミン塩酸塩を濾過により除去した。得られた濾液を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過により除去し、濾液を濃縮した。得られた粗生成物を減圧乾燥し、式（3— b) で示される化合物と式（8— a) で示される化合物とを含む混合物 242 gを得た。

(3)上記（2)で得た混合物 242 gおよびテトラヒドロフラン 25 OmLを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液に、 10%パラジウム一炭素（50%含水） 10. O gを加えた。室温、常圧、水素雰囲気下で、得られた混合物を 6時間攪拌して反応させた。得られた反応混合物を濾過し、触媒を除去した。得られた濾液を濃縮した。濃縮残渣をクロ口ホルムと混合し、得られた混合物をシリカゲルを用いて濾過した。シリカゲル上の不溶物を、クロ口ホルムで抽出し、得られたクロ口ホルム溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にへブタンを加えて結晶化させた。得られた結晶を濾過により取り出し、減圧乾燥し、式（4 一 b) で示される化合物 106 gを得た。収率： 39% (トランス一 1， 4ーシクロへキサンジカルボン酸基準)。実施例 4

(1) トランス一 1, 4—シクロへキサンジカルボン酸 250 gおよび N, N—ジメチルァセトアミド 400 mLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を攪拌しながら 8 0°Cに調整した。混合物に、 p—トルエンスルホン酸一水和物 55. 24 gを加え、さらに、塩化べンジル 1 39. 68 gを加え、さらに、トルエン 80 OmLを徐々に加えた。得られた溶液に、ベンジルアルコール 157. O gを加え、ディ一ン ' スターク管を用いて生成する水を系外へ除去しながら、 1 30°Cで 24時間攪拌して反応させた。反応溶液を高速液体クロマトグラフィーにより分析したところ、式（2_a) で示される化合物と式（8— a) で示される化合物とが 2 ： 1の割合で生成していることがわかった。反応溶液を室温まで冷却した後、減圧濃縮した。得られた濃縮液を氷 1 500 gに注いだ。析出した結晶を濾過により取り出し、水で洗浄した後、減圧乾燥し、白色粉末を得た。得られた白色粉末とメタノール 100 OmLとを混合し、得られた混合物を 1時間攪拌した。混合物から、白色の不溶分を除去した後、氷 1500 gに注ぎ結晶化させた。得られた結晶を濾過し、式（2— a) で示される化合物と式（8— a) で示される化合物とを 4 ： 1の割合で含む白色粉末 240 gを得た。

(2) 上記（1) で得た白色粉末 240 gおよびトルエン 60 OmLを混合した。得られた溶液を氷冷した後、窒素雰囲気下で、得られた溶液にエトキシクロロメタン 1 29. 5 5 gおよびトリェチルァミン 277. 33 gを滴下した。得られた溶液を、窒素雰囲気下、室温で 3時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液に、トルエン 100 OmLを加え、析出したトリェチルァミン塩酸塩を濾過により除去した。濾液を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。硫酸ナトリウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮した。得られた粗生成物を減圧乾燥し、式（3— b) で示される化合物と式（8— a) で示される化合物とを含む混合物 285 gを得た。

(3) 上記（ 2 ) で得た混合物 285 gおよびテトラヒドロフラン 1250mLを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液に 10%パラジウム一炭素（50%含水） 28. 5 g を加えた。室温、常圧、水素雰囲気下で、得られた混合物を 18時間攪拌して反応させた。反応終了後、得られた反応混合物を濾過し、触媒を除去した。濾液を濃縮し、濃縮残渣をクロ口ホルムと混合した。得られた混合物をシリカゲルを用いて濾過した。シリカゲル上の不溶物をクロ口ホルムで抽出し、得られたクロ口ホルム溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣にヘプタンを加えて結晶化させた。結晶を濾過し、減圧乾燥して、式（4一 b) で示される化合物 124 gを得た。収率： 37% (トランス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸基準)。実施例 5

(1) シス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸 50 gおよび N, N—ジメチルァセトアミド 20 OmLを混合した。得られた混合物を、窒素雰囲気下で、攪拌しながら 80°C に調整した後、得られた混合液に炭酸カリウム 24. 08 gを加え、さらに、塩化べンジノレ 34. 92 g、ヨウ化カリウム 2. 5 gおよびテトラプチルアンモニゥムブロミド 2 g を加えた。得られた混合物を 110°Cで 2時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を室温まで冷却した後、氷 1500 gに注いだ。析出した結晶を濾過により取り出し、水 κ メタノール溶液（体積比 = 1/1) で洗浄し、さらに水で洗浄した。結晶を減圧乾燥した後、クロ口ホルムに溶解させた。得られた溶液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し（溶離液：ヘプタン/クロ口ホルム溶液（体積比 =3/1)、次いでヘプタンクロロホルム溶液（体積比 = 1/1)、最後にクロ口ホルム）、式（2— c) で示される化合物 30 gを得た。収率： 40% (式（1一 c) で示される化合物基準)。

式（2— c) で示される化合物の¹ H— NMR (CDC 1₃) ： δ (p pm) 1. 69〜

1. 75 (m, 4H)、 1. 88〜： 1. 99 (m, 4H)、 2. 5 1 (b r， m， 2H)ゝ 5. 1 1 (s, 2H)ゝ 7. 30〜7. 33 (m， 5 H)

(2) 式（2— c) で示される化合物 29. 25 gおよびクロ口ホルム 100 m Lを混合した。得られた溶液を氷冷した後、窒素雰囲気下で、得られた溶液にエトキシクロ口メタン 1 5. 8 1 gおよびトリェチルァミン 24. 82 gを滴下した。得られた混合物を、窒素雰囲気下、室温で 4時間攪拌して反応させた。反応混合物にトルエン 30 OmLを加え、析出したトリェチルァミン塩酸塩を濾過により除去した。得られた濾液を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリゥムで乾燥した。硫酸ナトリゥムを濾過により除去し、得られた濾液を濃縮した。得られた粗生成物を減圧乾燥して、式（3— c)で示される化合物 33 gを得た。収率： 97% (式（2— c) で示される化合物基準)。

式（3— c) で示される化合物の¹ H— NMR (CDC 1₃) ： δ (p pm) 1. 20〜 1. 23 (t， 3H)、 1. 68〜： 1. 77 (m, 4H)、 1. 90〜： I. 98 (m， 4H)、 2. 50〜2. 53 (b r， m， 2H)、 3. 64〜3. 72 (q, 2H)、 5. 1 2 (s， 2H)、 5. 30 (s, 2H)、 7. 30〜7. 33 (m, 5 H)

(3) 式（3— c) で示される化合物 33 gおよびテトラヒドロフラン 25 OmLを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液に 10%パラジウム一炭素（50%含水） 3. 2 g を加えた。室温、常圧、水素雰囲気下で、得られた混合物を 8時間攪拌して反応させた。得られた反応混合物を濾過し、触媒を除去し、得られた濾液を濃縮した。濃縮残渣を水メタノール溶液（体積比 = 1 1) で洗浄し、さらに水で洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、式（4— c) で示される化合物 1 9. 8 gを得た。収率： 77% (式（2— c) で示される化合物基準)。

式（4— c) で示される化合物の¹ H— NMR (CDC 1₃) ： δ ( p p m) 1. 20〜 1. 23 ( t , 3H)、 1. 69〜： 1. 77 (m, 4H)、 1. 92〜： I . 98 (m, 4H)、 2. 5 1〜2. 53 (b r , m, 2H)、 3. 64〜3. 7 1 (q, 2H)、 5. 30 (s， 2H)、 1 1. 80 (b r , 1 H) 実施例 6

(1) 特開 2004— 262884号公報）に記載されている方法に従レ、、ヒドロキノンとジヒドロピランとを反応させ、式（A— I) で示される化合物を得た。

(2) 式（A— I) で示される化合物 100. 1 g、炭酸カリゥム 97. l g、 6—クロ口へキサノール 64 gおよびジメチルァセトアミドを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を、 90°Cで、その後 100°Cで撹拌した。得られた混合物を室温まで冷却した後、水およびメチルイソブチルケトンを加えた。有機層を分離し、水酸化ナトリゥム水溶液および水で洗浄した。有機層を濾過した後、減圧濃縮した。得られた残渣にメタノールを加え、生成した沈殿物を濾過により取り出した。沈殿物を減圧乾燥し、式（A— I I) で示される化合物 126 gを得た。収率： 91% (6—クロ口へキサノール基準)。

(3) 式（A— I I ) で示される化合物 126 g、 3, 5—ジ一 t e r t—ブチル— 4一ヒドロキシトルエン 1. 40 g、 N, N—ジメチルァニリン 1 16. 7 g、 1， 3—ジメチル一 2—^ Γミダゾリジノン 1. 00 gおよびクロ口ホルムを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を氷冷し、ァクリロイルクロリド 58. 1 gを滴下した。さらに水を加え、得られた混合物を攪拌した。有機層を分離し、塩酸、飽和炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄した。有機層を乾燥した後、 3, 5—ジ一 t e r t—ブチル一4—ヒドロキシトルェン l gを加え、減圧濃縮して、式（A— I I I) で示される化合物を得た。 (4) 式（A— I I I) で示される化合物に、テトラヒドロフラン 20 OmLを加えた。得られた溶液を濃縮した後、テトラヒドロフラン 20 OmLを加えた。得られた溶液に、塩酸および濃塩酸を加えて、窒素雰囲気下、 60°Cで攪拌した。得られた反応溶液を飽和食塩水 50 OmLで洗浄した後、有機層を乾燥し、減圧濃縮した。濃縮残渣に、へキサンを加えて、氷冷下攪拌した。析出した粉末を濾過した後、減圧乾燥し、式（A— I V) で示される化合物 90 gを得た。収率： 79% (式（A— I I) で示される化合物基準)。

(5)式（A— I V) で示される化合物 56. 8 g、ジメチルァミノピリジン 2. 65 g、式（4— b) で示される化合物 50 gおよびクロ口ホルム 30 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を氷冷した後、得られた混合物に、ジシクロへキシルカルボジィミド 48. 79 gをクロ口ホルム 5 OmLに溶解させて得られた溶液を滴下した。滴下終了後、得られた混合物を室温で 4時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液に、クロ口ホルム 20 OmLおよびヘプタン 20 OmLを加え、沈殿物を濾過により除去した。濾液を 2 N塩酸で洗浄した後、不溶分を濾過により除去した。濾液を無水硫酸ナトリゥムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過により除去した後、濃縮し、得られた残渣を減圧乾燥し、式（5— a) で示される化合物 100 gを得た。

(6) 式（5— a) で示される化合物 100 g、水 3. 64 g、 p—トルエンスルホン酸一水和物 3. 84 gおよびテトラヒドロフラン 20 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を 50°Cで 3時間攪拌して反応させた。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、濃縮した。得られた残渣に、ヘプタン 20 OmLを加えた。析出した沈殿物を濾過により取り出し、水で洗浄した後、減圧乾燥した。得られた粉末をクロ口ホルムと混合し、シリカゲルを用いて濾過した。濾液をクロ口ホルム 40 OmLと混合した後、濃縮した。残渣をトルエンに溶解し、得られた溶液を減圧濃縮した。濃縮残渣に、ヘプタンを加えて結晶化させた。得られた粉末を濾過し、減圧乾燥して、式（6— a) で示される化合物 64. l gを得た。収率： 76% (式（A— I V) で示される化合物基準）。高速液体クロマトグラフィー分析の結果、純度は 92%であり、不純物は検出されなかった。実施例 7

(Β-Π)

(1) 式（A— I) で示される化合物 16. 9 g、ジメチルァミノピリジン 0. 85 g、コハク酸 2—ァクリロイルォキシェチル 15 g、 3， 5—ジ一 t e r t—ブチル一 4—ヒドロキシトルエン 8 Omgおよびクロ口ホルム 10 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた溶液を水冷した後、ジシク口へキシルカルボジィミド 19. 68 gをクロロホルム 2 OmLに溶解させて得られた溶液を滴下した。滴下終了後、得られた混合物を攪拌した。得られた S応混合物に、クロ口ホルム 20 OmLおよびヘプタン 20 OmLを加え、沈殿物を濾過した。濾液を 2 N塩酸で洗浄した後、不溶分を濾過により除去した。濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過により除去した後、濾液を濃縮した。得られた残渣を減圧乾燥し、式（B— I) で示される化合物 21 gを得た。

(2) 式（B— I) で示される化合物 2 l g、水 1. 16 g、 p -トルエンスルホン酸一水和物 1. 02 g、 3， 5—ジ一 t e r t—ブチノレ一 4ーヒドロキシトルエン 100m g およびテトラヒドロフラン 20 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を 3 0°Cで攪拌した。反応混合物を室温まで冷却した後、トルエン 20 OmLを加えた。得られた混合物を水で洗浄した後、ヘプタン 20 OmLを加えた。不溶分を濾過により除去した後、得られた濾液を減圧濃縮した。濃縮残渣にクロ口ホルムを加え、得られた混合物をシリカゲルを用いて濾過した。濾液減圧濃縮し、得られた残渣を減圧乾燥し、式（B— I I )で示される化合物 16 gを得た。収率： 75% (式（A— I )で示される化合物基準)。

(3) 式（B— I I ) で示される化合物 10. 05 g、ジメチルァミノピリジン 0. 40 g、式（4— b) で示される化合物 7. 5 g、 3， 5—ジ一 t e r t—ブチル一 4—ヒドロキシトルエン 2 Omgおよびクロ口ホルム 30 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を氷冷した後、ジシクロへキシルカルポジイミド 7. 39 gをクロ口ホルム 2 OmLに溶解させて得られた溶液を滴下した。滴下終了後、得られた混合物を室温で 3時間攪拌して反応させた。反応混合物にクロ口ホルム 20 OmLおよびヘプタン 20 OmL を加え、沈殿物を濾過した。濾液を塩酸で洗浄した後、不溶分を濾過により除去した。濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。硫酸ナトリウムを濾過により除去し、濾液を濃縮した。得られた残渣を減圧乾燥し、式（ 5 _ b ) で示される化合物 14. 2 gを得た。

(4) 式（5— b) で示される化合物 14. 2 g、水 0. 59 g、 p—トルエンスルホン酸一水和物 0. 62 g、 3, 5—ジ _ t e r t—ブチル一 4—ヒドロキシトルエン 4 Om gおよびテトラヒドロフラン 8 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を 5 0°Cで 3時間攪拌して反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、濃縮し、テトラヒドロフランを除去した。残渣にヘプタン 20 OmLを加えた。析出した沈殿物を濾過により取り出し、水で洗浄し、減圧乾燥した。得られた粉末をクロ口ホルムと混合し、得られた混合物をシリカゲルを用いて濾過した。濾液をクロ口ホルム 40 OmLに溶解し、得られた溶液を濃縮した。濃縮残渣にトルエンを加えた後、減圧濃縮した。残渣に、ヘプタン 50 OmLを加えて結晶化させた。得られた粉末を濾過により取り出し、減圧乾燥し、式 (6-b) で示される化合物 10. 1 gを得た。収率： 6 7% (式（B_ I I) で示される化合物基準)。高速液体クロマトグラフィー分析の結果、不純物は検出されなかった。実施例 8

₍5-c>

(1) 実施例 7 (1) において、コハク酸 2—ァクリロイルォキシェチルに代えて、 6— (2—ァクリロイルォキシエトキシ）へキサン酸を用いる以外は、実施例 7 (1) と同様に実施するこどにより、式（C_ I) で示される化合物が得られる。

(2) 実施例 7 (2) において、式（B— I) で示される化合物に代えて、式（C— I) で示される化合物を用いる以外は、実施例 7 (2) と同様に実施することにより、式（C - I I) で示される化合物が得られる。

(3) 実施例 7 (3) において、式（B— I I) で示される化合物に代えて、式（C— I I) で示される化合物を用いる以外は、実施例 7 (3) と同様に実施することにより、式

(5-c) で示される化合物が得られる。

(4) 実施例 7 (4) において、式（5— b) で示される化合物に代えて、式（5— c) で示される化合物を用いる以外は、実施例 7 (4) と同様に実施することにより、式（6 一 c) で示される化合物が得られる。実施例 9 (D-l)

HOOC'

00」

(4-b) (E-l)

η .O— 'H⁰ η飞-

(E-l) (F-l)

八 ' >ΟΗΓ

(F-l) 八》' .OH⁰飞- ^^ 'ひ

o ヽ ~ ^f o .ひ■

(5-d) (6-d)

(1) トランス一 4—ヒドロキシシクロへキサンカルボン酸 125 g、炭酸力リウム 14 3. 8 g、臭化べンジル 140. 87 gぉょびN， N—ジメチルァセトアミド 700 m L を混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を 80°Cで攪拌した。得られた反応混合物を室温まで冷却した後、水 1000 gおよびメチルイソブチルケトンヘプタン 500 g

(重量比 =3 2) に注いだ。得られた混合物を攪拌した後、有機層と水層に分離した。有機層を水で洗浄した後、無水硫酸ナトリゥムで乾燥した。硫酸ナトリゥムを濾過により除去し、得られた濾液を濃縮した。残渣にヘプタンを加えて結晶化させた。結晶を濾過により取り出し、減圧乾燥し、式（D— I)で示される化合物 150 gを得た。収率： 75%

(トランス一 4—ヒドロキシシクロへキサンカルボン酸基準）。

(2) 式（D— I ) で示される化合物 30. 5 g、ジメチルァミノピリジン 1. 59 g、式（4— b) で示される化合物 30 gおよびクロ口ホルム 20 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を氷冷した後、ジシク口へキシルカルボジィミド 29. 57 gを 1時間かけて滴下した。滴下終了後、得られた混合物を攪拌した。得られた反応混合物にクロ口ホルム 20 OmLおよびヘプタン 20 OmLを加え、沈殿物を濾過した。濾液を水で 3回洗浄した後、無水硫酸ナトリゥムで乾燥した。硫酸ナトリゥムを濾過により除去し、濾液を濃縮した。残渣にメタノールを加えて攪拌し、得られた粉末を濾過により取り出した。粉末にメタノールを加えて攪拌した後、濾過した。粉末を減圧乾燥し、式（E— I) で示される化合物 42 gを得た。収率： 90% (式（4一 b) で示される化合物基準)。 (3) 式（E— I ) で示される化合物 23 gおよびテトラヒドロフラン 1 5 OmLを混合した。窒素雰囲気下で、得られた混合物に 10%パラジウム一炭素（50%含水） 1. 2 gを加えた。室温、常圧、水素雰囲気下で、得られた混合物を攪拌し、反応させた。反応混合物を濾過し、触媒を除去した。濾液を濃縮し、得られた残渣をトルエンと混合した。得られた混合物を濾過して、不溶分を除去した。得られた濾液を濃縮した。得られた残渣を水メタノール溶液（体積比 = 1/1) で洗浄し、さらに水で洗浄した。得られた結晶を減圧乾燥し、式（F— I) で示される化合物 1 7. 8 gを得た。収率： 97% (式（E 一 I) で示される化合物基準)。

(4) 式（F— I ) で示される化合物 16 g、ジメチルァミノピリジン 0. 55 g、 4- ヒドロキシブチルァクリレート 6. 47 gおよびクロ口ホルム 10 OmLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を水冷し、 1一ェチル _3_ (3—ジメチルァミノプロピル）カルポジイミド塩酸塩 10. 19 gをクロ口ホルム 5 OmLに溶解させて得られた溶液を滴下した。滴下終了後、得られた混合物を室温で 2時間攪拌して反応させた。得られた反応混合物にトルエン 20 OmLを加え、沈殿物を濾過した。濾液を減圧濃縮してクロロホルムを除去し、トルエン溶液を得た。得られたトルエン溶液を 1 N塩酸で 3回洗浄した後、無水硫酸ナ卜リゥムで乾燥した。濾過後、濾液を濃縮し、得られた濃縮残渣を減圧乾燥し、式（5— d) で示される化合物 18. 5 gを得た。

(5) 式（5_d) で示される化合物 18. 5 §、水0. 97 g、 p—トルエンスルホン酸一水和物 0. 85 gおよびテトラヒドロフラン 1 0ひ mLを混合した。窒素雰囲気下、得られた混合物を 50°Cで 3時間攪拌して反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、濃縮した。得られた残渣にヘプタン 20 OmLを加え、析出した沈殿物を濾過により取り出した。沈殿物を水で洗浄した後、減圧乾燥し、式（6— d) で示される化合物 15. 4 gを得た。収率： 81% (式（F— I) で示される化合物基準)。比較例 1 HOOC' •COOH CIOC" ■COCI

トランス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸 24. 68 gおよびトルエンを混合した。得られた溶液に、二塩化ォキサリル 74. 91 8ぉょび?^1， N—ジメチルホルムアミド 0. 5mLを加えた。得られた溶液を、窒素雰囲気下で攪拌し、反応させた。得られた反応混合物を減圧濃縮して、トルエンおよび未反応の二塩化ォキサリルを除去した。得られた溶液とクロ口ホルムとを混合し、トランス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸ジクロリドを含む溶液を得た。

式（A— I V) で示される化合物 1 2 gおよびクロ口ホルムを混合した。得られた溶液と、ピリジン 1 2. 6 gとを、氷冷下、トランス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸ジクロリドを含む溶液に滴下した。得られた混合物を窒素雰囲気下で攪拌した。沈殿物を濾過により除去し、得られた濾液を減圧濃縮した。濃縮液を水メタノール溶液（体積比 = 1/1) に滴下した。生成した沈殿物を粉砕した後、濾過した。沈殿物を純水で洗浄した。沈殿物を濾過し、減圧乾燥した。得られた粉末を粉砕した後、 n—ヘプタンを加えた。得られた混合物を攪拌した後、沈殿物を取り出した。沈殿物をトルエンと混合し、不溶分を濾過により除去した。濾液を減圧濃縮し、得られた濃縮液に n—ヘプタンを加えた。沈殿物を濾過により取り出し、減圧乾燥し、式（6— a) で示される化合物を含む粉末 7. 8 gを得た。収率： 40% (式（A— I V) で示される化合物基準）。純度は 70%であつた。 '

高速液体クロマ卜グラフィーおよび質量スぺクトル分析の結果、得られた粉末には、式 (6-a) で示される化合物に加えて、下記式（I I I) 〜式（X) で示される不純物が含まれることが分かった。

比較例 2

トランス一 1， 4—シク口へキサンジカルボン酸 2 4 . 6 8 g、二塩化ォキサリル 7 4 . 9 1 gおよび N, N—ジメチルホルムアミド 0 . 5 m Lを混合した。窒素雰囲気下で、得られた溶液を攪拌し反応させた。得られた反応混合物を減圧濃縮し、トルエンおよび未反応のニ塩化ォキサリルを除去した。得られた溶液とクロ口ホルムとを混合し、トランス一 1 , 4ーシク口へキサンジカルボン酸ジク口リドを含む溶液を得た。

式（A— I V) で示される化合物 1 2 gおよびクロ口ホルムを混合した。得られた溶液と、ピリジン 1 2 . 6 gとを、氷冷下、トランス一 1 , 4—シクロへキサンジカルボン酸ジクロリドを含む溶液に滴下した。得られた溶液を、窒素雰囲気下で攪拌した。沈殿物を濾過により除去し、濾液を減圧濃縮した。濃縮液を水に滴下し、生成した沈殿物を粉砕した後、濾過した。沈殿物を水と混合し、濾過した。沈殿物を減圧乾燥した。得られた粉末を粉砕した後、水メタノール溶液（体積比 = 1 1 ) に加えた。沈殿物を粉砕した後、濾過した。沈殿物に n—ヘプタンを加え、得られた混合液を攪拌して不溶分を濾過により取り出した。不溶分をトルエンと混合し、不溶分を濾過により除去した。濾液を減圧濃縮し、得られた濃縮液に n—ヘプタンを加えた。沈殿物を濾過により取り出し、減圧乾燥して、式（6_ a) で示される化合物 2. l gを得た。収率： 1 2% (式（A— I V) で示される化合物基準)。純度は 85%であった。参考例 1

トランス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸 10 g、 p— トルエンスルホン酸一水和物 0. 1 1 gおよびテトラヒドロフランを混合した。得られた溶液を攪拌しながら、ジヒドロピラン 7. 30 gを滴下した。得られた混合物を攪拌し、反応させた。得られた反応溶液を減圧濃縮し、濃縮残渣にトルエンを加えた。不溶分を濾過により除去し、得られた濾液を減圧濃縮し、式（4— a) で示される化合物を含む粗生成物 6. 0 gを得た。収率： 40% (ジヒドロピラン基準）。核磁気共鳴スぺクトル分析の結果、該生成物には、式（4— a) で示される化合物と式（I) で示される化合物が含まれており、その比率は 1 ： 1 2であることが分かった。式（4_a) で示される化合物は分解するために分離できなかった。参考例 2

トランス一 1， 4—シクロへキサンジカノレボン酸 10 g、 p—トノレエンスルホン酸一水和物 0. 1 1 gおよびテトラヒドロフランを混合した。得られた溶液を攪拌しながら、ジヒドロピラン 4. 87 gを室温で滴下した。得られた混合物を攪拌し、反応させた。得られた反応溶液を減圧濃縮し、濃縮残渣にトルエンを加えた。不溶分を濾過により除去し、得られた濾液を減圧濃縮し、式（4一 a) で示される化合物を含む粗生成物 1. 1 5 gを得た。収率： 8% (ジヒドロピラン基準)。核磁気共鳴スぺクトル分析の結果、該粗生成物には、式（4一 a) で示される化合物と式（I) で示される化合物が含まれており、その比率は 1 ： 1であることが分かった。式（4— a) で示される化合物は分解するために分離できなかった。参考例 3 HOOO'^^COOH HOOC" <^ — ^ 0飞 ■+ ₀~°^,..<^^— ^° ₀

(4-b) (II) トランス一 1, 4ーシクロへキサンジカルボン酸 10 gおよびクロ口ホルム 10 OmL を混合した。得られた混合物を攪拌しながら、クロロメチルェチルエーテル 5. 47 gおよびトリェチルァミン 11. 71 gを、氷冷下で滴下した。得られた混合物を攪拌し、反応させた。得られた反応溶液を減圧濃縮し、濃縮残渣にトルエンを加えた。不溶分を濾過により除去し、得られた濾液を減圧濃縮し、式（4一 b) で示される化合物を含む粗生成物 12 gを得た。収率： 90% (トランス一 1 , 4—シク口へキサンジカルボン酸基準)。核磁気共鳴スぺクトル分析の結果、該粗生成物には、式（4— b) で示される化合物と式 (I I) で示される化合物が含まれており、その比率は 1 ： 7であることが分かった。産業上の利用可能性

本発明によれば、シクロアルカンジカルボン酸モノエステルを収率よく得ることができる。

Claims

請求の範囲

1. (A) 式（1) で示される化合物の 2つのカルボキシル基のうちのいずれか一方を、 Yで示される基で保護して、式（2) で示される化合物を得る工程と、

(C) 得られた式（3) で示される化合物の Yで示される基を脱保護して、式（4) で示される化合物を得る工程とを含むことを特徴とするシクロアルカンジカルボン酸モノエステルの製造方法。

(1) (2) (3) (4)

(式中、 R¹ はメチル基を表わし、 mは 0〜 3の整数を表わし、 pは 0または 1を表わす。 Yは、一CH₂ Ph、一 CHPh₂ 、一 CPh₃ 、一 S i H₂ Ph、一 S i HPh₂ または— S i P h 3 を表わし、 Zは、炭素数 1〜 20のアルキル基、 — P h、 ― S i R ⁵ R ⁶ R⁷ 、 - S i R⁸ R ⁹ Ph、 - S i R⁸ Ph₂ 、メトキシメチル基、ェトキシメチル基、メチルチオメチル基、 2—メトキシエトキシメチル基、エトキシェチル基、 _CH₂ — O — CH₂ — Ph、 t e r t—ブチル基、 t e r t—ブトキシメチル基、一 CH₂ —CO— P h、 2, 2, 2—トリクロロェチル基、テトラヒドロビラニル基、テトラヒドロチォビラニル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロチオフラニル基を表わす。 Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わし、 R⁵ 、 R⁶ および R⁷ は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基または一 CH₂ Ph基を表わし、 R⁸ および R⁹ は独立して、直鎖状または分岐鎖状の炭素数 1 〜 8のアルキル基または直鎖状または分岐鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基を表わす。）

2. pが 1である請求項 1に記載の製造方法。

3. 式（1)、式（2)、式（3) および式（4) で示される化合物が、それぞれ式（1一 1)、式（2_ 1)、式（3— 1) および式（4— 1) で示される化合物である請求項 1に記載の製造方法。

(1-1) (2-1) (3-1) (4-1)

(式中、 R' m、 Yおよび Zは上記と同じ意味を表わす。）

4. Z力 p—メトキシフエニル基、 p—ニトロフエニル基、トリメチノレシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、 t e r tーブチルジメチルシリル基、 t e r t ーブチルジフエニルシリル基、トリベンジルシリル基、トリイソプロビルシリル基、ジ一 t e r tーブチルメチルシリル基、一 CH₂ -0-C₂ H₅ 、 — CH₂ — OCH₃ 、 _C

SCH₃ 、 -CH₂ 一 O— CH₂ -CH₂ — OCH₃ 、 -CH₂ 一 CH: OC

H₅ 、 -CH₂ -0-CH₂ — Ph、 — C (CH₃ ) ₃ 、 -CH₂ —O— C (CH₃ ) ₃ 、テトラヒドロビラ二ル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロチオフラニル基である請求項 1に記載の製造方法。

5. Z力 t e r t—ブチルジメチルシリル基、 t e r t—ブチルジフエ二ルシリル基、トリイソプロビルシリル基、一 CH CH₂ -O-CH

2 —し H ₂ OCH₃ 、 -CH. CH O— C₂ H CH. O-CH. 一 P h またはテトラヒドロビラ二ル基である請求項 1に記載の製造方法。

6. mが 0である請求項 1に記載の製造方法。

7. 式（4) で示される化合物が、トランス一 1， 4—シクロへキサンジカルボン酸モノエステルである請求項 1に記載の製造方法。

8. Yが— CH₂ Phである請求項 1に記載の製造方法。

9. 工程（C) において副生する式（1) で示される化合物を回収する工程を含む請求項 1に記載の製造方法。

10. 回収した式（1) で示される化合物を工程（A) に再利用する請求項 9 に記載の製造方法。

1 1. 請求項 1〜10のいずれかに記載の製造方法により製造された式（4) で示される化合物と、式（5)

(式中、 Xは、 _0—、一 S—または一 N (R^{1 7} ) —を表わし、 R^{1 7} は水素原子または炭素数 1〜4のアルキル基を表わす。 A¹ は独立して、ヘテロ原子を含んでいてもよい 2価の脂環式炭化水素基またはへテロ原子を含んでいてもよい 2価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基および芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜4のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数 1〜 4のアルコキシ基、シァノ基およびニトロ基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよレヽ。 B ¹ は独立して、一 CR^{1 5} R^{1 6} —、一 CH₂ — C H₂ ―、 _0_、一 S—、 — C ( = 0) — O—、 -o-c ( = 0) —、一 O— C ( = o) 一 0_、一 C (= S) —O -、 -O-C (=S) —、 -O-C (= S) ー0-、一 C (= O) — N (R ^{1 7} ) —、 — N (R^{1 7} ) -C ( = 0) 一、 -OCH₂ 一、 — CH₂ 0_、 -S CH₂ 一、 -CH₂ S—、 ― C (=S) — O—、 -O-C (=S) ―、 — C (=0) 一 S—、一 S— C ( = 0) ―、 - (C = S) — S—、 -S-C (= S) ―、 -NH-C (= O) — O—、 -O-C ( = 0) — NH―、 -NH-C ( = 0) —題—、一 N (R^{1 7} ) ―、一 S ( = 0) —、 -O-S ( = 0) ₂ — O—、一 N = N—または単結合を表わし、 R ' ⁵ および R^{1 6} は独立して、水素原子、フッ素原子または炭素数 1〜4のアルキル基を表わす。 J ¹ および J ² は独立して、炭素数 1〜1 2のアルキレン基を表わし、該アルキレン基は、炭素数 1〜5のアルキル基、炭素数 1〜5のアルコキシ基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい。 K¹ は独立して、一 O 一、 -c (=o) 一 o—、 -o-c (=o) —、 -c (=s) 一 o—、 -o-c (=s) 一、 -c (=o) — s—、 -s-c (=o) —、 - (C = S) — S—、 -S-C (= S) 一、 -NH-C ( = 0) ―、 ― C ( = 0) ― NH—、 -NH-C ( = 0) ― O—、 ― 0_ C ( = 0) ―題―、 -NH-C ( = 0) ― NH―、 -O-C ( = 0) ― O—、一 N (R ^{1 7} ) ―、一 s (=o) ―、 -o-s (=o) ₂—O—または単結合を表わす。 kおよび 1は独立して、 1〜3の整数を表わし、 P ¹ は重合性基を表わす。）

で示される化合物とを反応させることを特徴とする式（6)

(式中、 R'、 X、 Z、 A B J \ J ²、 K'、 P k、 1、 mおよび pは上記と同一の意味を表わす。）

で示される化合物の製造方法。

12. 請求項 1 1に記載の製造方法により製造された式（6) で示される化合物の Zで示される基を脱保護することを特徴とする式（7)

(式中、 R'、 X、 A B \ J \ J ²、 K\ Ρ'、 k、し mおよび ρは上記と同一の意味を表わす。）

で示される重合性化合物の製造方法。

13. Ρ ¹ がァクリロイルォキシ基またはメタクロィルォキシ基である請求項 12記載の重合性化合物の製造方法。

14. ブレンステツド酸を用いて、 Ζで示される基を脱保護する請求項 1 2に記載の重合性化合物の製造方法。

15. ギ酸、酢酸、プロピオン酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素、硝酸、硫酸、 ρ_トルエンスルホン酸、ピリジニゥム ρ—トルエンスルホン酸、トリフルォロ酢酸、トリクロロ酢酸およびメタンスルホン酸からなる群から選ばれる少なくとも 1つの酸の存在下で、 Ζで示される基を脱保護する請求項 12に記載の重合性化合物の製造方法。

16. 式（3 a)

(式中、 R^a はメチル基を表わし、 qは 0〜 3の整数を表わす。 Y^aは、一 CH₂ Ph、 — CHPh₂ 、一 CPh₃ 、 - S i H₂ Ph、 - S i HP h ₂ または一 S i Ph₃ を表わし、 Z^aiま、一 S i R^{5 a} R^{6 a} R^{7 a} 、一 CH₂ — O— C₂H₅ 、 -CH₂ _OCH₃ 、一 CH₂ — SCH₃ 、 -CH₂ -0-CH₂ — CH₂ -OCH₃ 、一 CH₂ — CH₂ — O — C₂ H₅ 、 -CH₂ -0-CH₂ — Ph、 — C (CH₃ ) ₃ 、 — CH₂ —O— C (CH ₃ ) 3 、 -CH₂ — CO— Ph、 -CH₂ -CC 1₃ 、テトラヒドロピラエル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラニル基またはテトラヒドロチオフラエル基を表わす。 Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィエル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素環基を表わし、 R^{5 3} 、 R^{6 a} および R^{7 a} は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8 のアルコキシ基または一 CH₂ Ph基を表わす。）

で示される化合物。

1 7. 式（4 b)

(式中、 R^b はメチル基を表わし、 qは 0〜3の整数を表わす。 Z^bは、 - S i R^{5 b} R ^{6 b} R^{7 b} 、 -CH₂ -0-C₂H₅ 、 -CH₂ -OCH₃ 、 -CH₂ 一 SCH₃ 、 — C H₂ -0-CH₂ -CH₂ -OCH3 、 -CH₂ -CH₂ — O— C₂ H₅ 、 — CH₂ — O -CH₂ — Ph、 — C (CH₃ ) 3 、 -CH₂ -O-C (CH₃ ) ₃ 、 _CH₂ —CO— Ph、 -CH₂ 一 CC 1₃ 、テトラヒドロビラ-ル基、テトラヒドロチォピラニル基、テトラヒドロフラ -ル基またはテトラヒドロチオフラニル基を表わす。 Phは、メチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィニル基、ァジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族炭化水素基またはメチル基、ニトロ基、メトキシ基、チオメチル基、ハロゲン原子、シァノ基、メチルスルフィエル基、アジド基およびトリフルォロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも一つで置換されていてもよい芳香族複素澴基を表わし、 R^{5 b} 、 R^{6 b} および R^{7 b} は独立して、水素原子、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルキル基、直鎖状または分枝鎖状の炭素数 1〜 8のアルコキシ基または一 CH ₂ Ph基を表わす。）

で示される化合物。