WO2008010494A1 - Résine de polyimide - Google Patents

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WO2008010494A1
WO2008010494A1 PCT/JP2007/064110 JP2007064110W WO2008010494A1 WO 2008010494 A1 WO2008010494 A1 WO 2008010494A1 JP 2007064110 W JP2007064110 W JP 2007064110W WO 2008010494 A1 WO2008010494 A1 WO 2008010494A1
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polyimide resin
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polyimide
metal
organic solvent
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Tsuyoshi Bito
Shuta Kihara
Jitsuo Oishi
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Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
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Definitions

  • the present invention relates to a polyimide resin that is soluble in organic solvents and exhibits thermoplasticity, low water absorption, and high heat resistance.
  • the metal-clad laminate is processed into a printed wiring board, a surface heating element, an electromagnetic wave shielding material, a flat cable, or the like.
  • Polyimide has excellent performance in heat resistance, mechanical properties, chemical resistance, and the like, and is therefore widely used in the aerospace field, the electronic material field, and the like. Many of them are aromatic polyimides. Many of the aromatic polyimides are insoluble in solvents and non-thermoplastic, and have difficulty in workability. Since the precursor polyamic acid is soluble in an organic solvent, the polyamic acid solution is made into a desired shape with a polyamic acid solution and then imidized, but imido is accompanied by desorption and evaporation of water. The temperature reached 180-400 ° C during hot imidization, which is much higher than the boiling point of water, and in the case of thick film-like molded products, it was powerful enough to cause defects related to surface properties.
  • organic solvent-soluble polyimide One method for solving the above problems is organic solvent-soluble polyimide.
  • the organic solvent-soluble polyimide can naturally be made into a polyimide solution, so that it can be processed by simply volatilizing the organic solvent after making it into the desired shape, and a product with good surface properties can be obtained. easy. In addition, its storage stability is also excellent.
  • Patent Document 1 A method of introducing a benzophenone skeleton (see Patent Document 1) and the like have been disclosed.
  • One of these methods is the introduction of an alicyclic structure.
  • isophorone diamine as a raw material has been attempted (Patent Documents 2 and 3).
  • isophorone The polyimide resin obtained from Aminka is difficult to obtain a high molecular weight product, and its physical properties are relatively hard and brittle due to its skeleton. The water absorption rate tends to be high.
  • Patent Document 4 a polyimide resin containing a 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid skeleton is disclosed (Patent Document 4,
  • Patent Document 6 includes a 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid skeleton, which is relatively easy to obtain a high molecular weight, easily obtains a flexible film, and has a sufficiently high solubility in an organic solvent.
  • a polyimide resin is disclosed.
  • Patent Document 7 discloses a process for producing a solvent-soluble polyimide in which an aliphatic tetracarboxylic dianhydride, an aliphatic tetracarboxylic acid or an derivative thereof and a diamine compound are polycondensed in a solvent. Yes.
  • the organic solvent-soluble polyimide there is an adhesive for a metal-clad laminate.
  • Some metal-clad laminates are manufactured by bonding an insulating substrate and a metal layer through an adhesive or an adhesive film.
  • a metal-clad laminate having a three-layer structure in which an insulating base material having an aromatic polyimide resin film force and a metal layer are bonded via an adhesive film has been proposed (see Patent Document 8).
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 7-166148
  • Patent Document 2 JP 2000-169579 A
  • Patent Document 3 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-319388
  • Patent Document 4 U.S. Pat.No. 3,639,343
  • Patent Document 5 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-155342
  • Patent Document 6 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-168800
  • Patent Document 7 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2005-15629
  • Patent Document 8 Japanese Patent Laid-Open No. 55-91895
  • Patent Document 9 Japanese Patent Laid-Open No. 2001-329246
  • the object of the present invention is to solve the problems of both wholly aromatic polyimide resins and alicyclic polyimide resins that have been conventionally used in adhesive layers, and is soluble in organic solvents, with low water absorption, thermoplasticity.
  • a production method thereof an adhesive containing the polyimide resin, a film, and a metal-clad laminate including an adhesive layer made of the polyimide resin. is there.
  • the present invention provides:
  • X is a divalent aliphatic group having 2 to 39 carbon atoms, a divalent alicyclic group having 3 to 39 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms. 39 is a divalent aromatic group or a divalent group that can also be combined.
  • the main chain of X has O—, —SO—, —CH—, — C (CH 2) —, — OSi (
  • X may be interposed X may have at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a hydroxyl group and a carbonyl group.
  • a tetracarboxylic acid component (Y) composed of at least one tetracarboxylic acid component (Y2) selected from the group consisting of tolic acid, pyromellitic dianhydride and a reactive derivative of pyromellitic acid, NH -X Diamine represented by -NH and its reactive derivative power
  • a metal-clad laminate comprising an insulating substrate, a metal layer, and an adhesive layer disposed between the insulating substrate and the metal layer, wherein the adhesive layer is a polyimide resin as described in (1) above
  • the present invention relates to a metal-clad laminate formed from a polyimide resin obtained by the production method described in (2) above.
  • the polyimide resin of the present invention is soluble in an organic solvent, has a low water absorption, thermoplasticity and heat resistance, and is excellent in adhesiveness.
  • the metal-clad laminate obtained using the polyimide resin of the present invention as an adhesive layer is excellent in adhesion and solder heat resistance.
  • polyimide A The polyimide resin of the present invention (hereinafter appropriately referred to as polyimide A) has the following formula (1):
  • X is a divalent aliphatic group having 2 to 39 carbon atoms, a divalent alicyclic group having 3 to 39 carbon atoms, and 6 to 6 carbon atoms. 39 is a divalent aromatic group or a divalent group that also has a combination force thereof.
  • the main chain of X includes —O—, —SO—, —CH—, —C (CH) —, —OSi (
  • X may be interposed X may have at least one functional group selected from the group consisting of a carboxyl group, a hydroxyl group and a carbonyl group.
  • the proportion of the group represented by [0019] is 50 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more (each including 100 mol%).
  • the proportion of the group represented by the formula (3) is 50 mol% or more in the total X, low water absorption can be achieved.
  • the repeating unit represented by the above formula (2) coexists with the repeating unit represented by the above formula (1) that brings about solubility in an organic solvent, the water absorption is further reduced.
  • the proportion of the repeating unit represented by the formula in the polyimide A (2) is Bayogu case 1 to 99 mol%, preferably 5 to 95 mol 0/0, more preferably 10 to 90 mole 0 / 0 , more preferably 10 to 50 mol%.
  • the proportion of the formula (2) is 5 mol% or more, the heat resistance is high and the water absorption can be lowered, and when it is 95 mol% or less, the organic solvent solubility is high.
  • the molecular form of polyimide A is either a block copolymer or a random copolymer.
  • the ratio of the repeating unit represented by formula (1) to the repeating unit represented by formula (2) (repeating unit represented by formula (1) Z represented by formula (2) repeating units), from the viewpoint of organic solvent-soluble, preferably 1,900 to 5 mol%, more preferably from 900 to: a L 1 mole 0/0, more preferably from 900 to 100 mol 0/0.
  • organic solvent soluble means that when a solute (polyimide) and an organic solvent are mixed and stirred, the temperature range is 0 ° C. to the boiling point of the organic solvent at normal pressure or 200 ° C. Somewhere in the low and low temperature range, the phase is visually judged, and the following formula:
  • solid content concentration represented by exceeds 5% by weight, preferably 7% by weight or more, more preferably 10% by weight or more.
  • the structure of the polyamic acid which is a precursor of polyimide A has the following formula (4):
  • X in the formulas (1), (2), (4) and (5) is a divalent aliphatic group having 2 to 39 carbon atoms, and a divalent fat having 3 to 39 carbon atoms. It is a cyclic group, a divalent aromatic group having 6 to 39 carbon atoms, or a divalent group composed of a combination of these, and its main chain has —O—, —SO —, —CH 1, C (
  • linking group may be interposed.
  • polyalkylene groups polyoxyalkylene groups, xylylene groups and their divalent aliphatic groups such as alkyl-substituted, halogen-substituted, carboxy-substituted and hydroxy-substituted groups; cyclohexane, dicyclo Divalent alicyclic groups derived from hexylmethane, dimethylcyclohexane, isophorone, norbornane and their alkyl, halogen, carboxy and hydroxy substituents; and benzene, naphthalene, Examples thereof include bivalent aromatic groups derived from biphenyl, diphenylmethane, diphenyl ether, diphenylsulfone, benzophenone, alkyl substitution products thereof, halogen substitution products, carboxy substitution products, hydroxy substitution products, and the like.
  • xylylene groups from the point of solubility in organic solvents, xylylene groups; divalent alicyclic groups from which isophorone and norbornane forces are also derived; and diphenyl ethers, diphenyl sulfones, and benzophenones.
  • divalent aromatic groups from the point of solubility in organic solvents, xylylene groups; divalent alicyclic groups from which isophorone and norbornane forces are also derived; and diphenyl ethers, diphenyl sulfones, and benzophenones.
  • divalent aromatic groups from the point of solubility in organic solvents.
  • Polyimid A and polyamic acid which is a precursor of polyimide A are composed of tetracarboxylic acid and at least one tetracarboxylic acid component (Y) whose reactive derivative power is also selected, diamine and its reactive derivative. It can be obtained by reacting at least one selected diamine component (Z).
  • the end-capping component (W) which is at least one selected from dicarboxylic acid anhydride and monoamine power may be reacted.
  • the tetracarboxylic acid component (Y), diamine component (Z), and end-capping component (W) may all contain isomers.
  • Examples of the tetracarboxylic acid component (Y) include at least one selected from tetracarboxylic acid, tetracarboxylic dianhydride, and reactive derivatives (esters, etc.) of tetracarboxylic acid.
  • the tetracarboxylic acid component (Y) is 1, 2, 4, 5 cyclohexane tetracarboxylic acid, 1, 2, 4, 5 cyclohexane tetracarboxylic dianhydride and 1, 2, 4, 5 cyclohexane tetra Reactive derivative power of carboxylic acid Group power at least one selected It consists of a tetracarboxylic acid component (Yl) and at least one tetracarboxylic acid component (Y2) selected from the group consisting of pyromellitic acid, pyromellitic dianhydride and a reactive derivative of pyromellitic acid. Is preferred.
  • Tetracarboxylic dianhydride for forming each repeating unit of the above formula (1) and the above formula (2) includes tetracarboxylic acid component (Y1) as 1, 2, 4, 5 cyclohexanetetra It is preferable to use pyromellitic dianhydride (PMDA) as carboxylic dianhydride (HPMDA) and tetracarboxylic acid component (Y2)! /.
  • PMDA pyromellitic dianhydride
  • HPMDA carboxylic dianhydride
  • Y2 tetracarboxylic acid component
  • the polyamic acid that is a precursor of polyimide A and polyimide A is within the range that does not impair the performance of polyimide A such as organic solvent solubility, low water absorption, thermoplasticity, heat resistance, and adhesiveness.
  • other tetracarboxylic acid components other than the tetracarboxylic acid component (Y) may be used.
  • a tetracarboxylic acid component include biphenyl 3, 4, 3 ', 4, tetracarboxylic dianhydride, biphenyl 2, 3, 3', 4'-tetracarboxylic dianhydride.
  • Benzophenone-3,4,3 ', 4'-tetracarboxylic dianhydride diphenylsulfone 1,3,4,3', 4'-tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8 naphthalenetracarboxylic acid Dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, 2, 2-diphenylpropane 3, 4, 3, 4, 4, tetracarboxylic dianhydride, 2, 2 diphenylpronone 2, 3, 2 ', 3 , -Tetracarboxylic dianhydride, aromatic tetracarboxylic dianhydride such as 4,4 (m-di-dioxy) diphthalic dianhydride, cyclopentane 1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, And cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride. It can be used the one or more thereof, but are
  • diamine component (Z) examples include diamine, diisocyanate, diaminodisilane, and the like, and diamine is also preferred because of its strength in synthesis.
  • the diamine component (Z1) is 2, 2 bis [4- (4 aminophenoxy) phenol. -Lu] propane (BAPP).
  • BAPP 2, 2 bis [4- (4 aminophenoxy) phenol. -Lu] propane
  • the amount of BAPP used is preferably 50% among all diamine components from the viewpoint of achieving low water absorption. It is at least mol%, more preferably at least 70 mol%, still more preferably at least 80 mol% (each including 100 mol%).
  • Diamine components other than BAPP can also be used as a raw material for polyamic acid, which is a precursor of polyimide A and polyimide A.
  • Aromatic diamines, aliphatic diamines, alicyclic diamines, other than amino groups in the molecule Any of a diamine having a functional group, a reactive derivative of the diamine, and a mixture thereof may be used.
  • the “aromatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, and other components are part of the structure. It may contain a substituent.
  • “Aliphatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and the structure includes an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, and other substituents. May be. “Aliphatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an alicyclic group, and an aliphatic group, an alicyclic group, an aromatic group, and other substituents are part of the structure. It may be included.
  • BAPP is an aromatic diamine since the amino group is directly bonded to an aromatic ring (benzene ring), and m-xylylenediamine (MXDA) is an amino group directly bonded to an aliphatic group (methylene group). And so, it's an aliphatic diamine.
  • Examples of the aliphatic diamine include ethylenediamine, hexamethylenediamine, polyethyleneglycololebis (3-aminopropyl) etherole, polypropyleneglycololebis (3-aminopropyl) ether, 1,3bis (aminomethyl). ) Cyclohexane, 1,4 bis (aminomethyl) cyclohexane, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine (MXDA), and siloxane diamines.
  • MXDA m-xylylenediamine
  • alicyclic diamine examples include 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, isophorone diamine, norbornane diamine, and reactive derivatives thereof.
  • aromatic diamines include 1,4 phenylenediamine, 1,3 phenylenediamine, 4, 4, monobis (4 aminophenoxy) biphenyl, 2, 4 toluene diamine, 4, 4, 1 Diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,4 bis (4 aminophenoxy) benzene, 1,3 bis (4 aminophenoxy) benzene, 1,3 bis (3 Aminophenoxy) benzene, at, ⁇ , monobis (4 aminophenol) 1, 4 Diisopropylbenzene, ⁇ , ⁇ , monobis (3 aminophenol) 1 , 4-diisopropylbenzene, 4, 4, 1-diaminodiphenylsulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenol] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenol] sulfone, 2,6 di And
  • diamine having a functional group other than the amino group examples include 3,3′-dicarboxy 4,4, -diaminodiphenylmethane, 3,5-diaminobenzoic acid, 3,3, dihydroxy 4,4,1
  • the resulting polyimide A has various properties such as low water absorption, adhesion, and heat resistance as an adhesive layer for metal-clad laminates. It is preferable because the balance is more excellent.
  • the molecular terminal of the polyimide is an amino group, a carboxyl group, or a carboxylic anhydride group.
  • end-capping component (W) By reacting a compound having a dicarboxylic acid anhydride group or amino group at the molecular end (end-capping component (W)), the functional group at the molecular end is reduced as much as possible, or the molecular end is intentionally Functional groups such as amino groups and carboxyl groups, and other substituents can be introduced into these groups.
  • W end-capping component
  • the water absorption of the cured polyimide resin measured by the method described below is preferably 2.5% or less, more preferably 2.0% or less, and more preferably 2.0% or less, from the viewpoint of solder heat resistance of the resulting metal-clad laminate. Preferably it is 1.7% or less.
  • the minimum water absorption that can be achieved industrially is usually about 1%.
  • dicarboxylic acid anhydrides As the end-capping component (W) as a raw material of the polyamic acid that is a precursor of polyimide A and polyimide A, dicarboxylic acid anhydrides, monoamines, and the like are applicable.
  • dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride, naphthalene dicarboxylic acid anhydride, biphenyl dicarboxylic acid anhydride, 1, 2, 3, 6-tetrahydrophthalic anhydride, 1, 2 cyclohexane.
  • Dicarboxylic anhydride 5-norbornene-2,3 dicarboxylic anhydride (nadic acid anhydrous, NAn), methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, citraconic anhydride (CAn), maleic anhydride (MAn), Examples include 3-etulphthalic acid, 4-etulphthalic acid, and 4-fetalphthalic acid.
  • Monoamines include, for example, arylene, aminonaphthalene, aminobiphenyl, 3-ethylamine, 4-ethynylline and the like. One or more of these can be used simultaneously, but is not limited to these.
  • Polyamide acid which is a precursor of polyimide A and polyimide A, is a tetracarboxylic acid component composed of 1, 2, 4, 5 cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and pyromellitic dianhydride ( Y) and NH 2 -X-NH (wherein X is the same as above) and 2, 2 bis [4 (4 aminophen
  • Enoxy) phenol which is obtained through a step of reacting with at least one diamine component (Z) containing 50 mol% or more (including 100 mol%) of propane, and the diamine component (Z) l
  • the tetracarboxylic acid component (Y) is preferably from 0.66 to L5 monolayer, more preferably from 0.9 to 1.1 monoleole, more preferably from 0.97 to L03 monoreaction relative to mol. It is manufactured by letting Further, by setting the above molar ratio and further adding or not adding an appropriate amount of the end-capping component (W), polyimide A and polyamic acid can have a desired molecular weight and logarithmic viscosity. The logarithmic viscosity of 7?
  • a 0.5 gZdL N-methyl-2-pyrrolidone solution of polyimide A is preferably from 0.15 to 2 dLZg.
  • the obtained polyimide can obtain a sufficient peel strength when it is made into a metal-clad laminate, and when it is less than OdLZg, the solution (varnish) viscosity becomes appropriate and the coating and Easy handling.
  • the preferred logarithmic viscosity of the polyamic acid is not particularly limited, but is usually 0.1 to 1. OdLZg.
  • polyimide A having a logarithmic viscosity r? within the above range and a precursor of polyimide A can be produced.
  • the conditions can be adjusted by performing a preliminary reaction or the like. For example, the logarithmic viscosity r? When the molar ratio with the component (Z) and the reaction time are adjusted, the closer the molar ratio is to 1 and the longer the reaction time, the larger the logarithmic viscosity 7? The logarithmic viscosity r?
  • the polyamic acid which is the polyimide A and the precursor of polyimide A can be produced as an organic solvent solution containing this and an organic solvent.
  • the organic solvent is not particularly limited.
  • NMP N-methinole-2-pyrrolidone
  • DMAC N-dimethylacetamide
  • GBL y-buta-mouth rataton
  • the organic solvent is used in such an amount that the polyimide A concentration in the obtained organic solvent solution is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 40% by weight.
  • a poor solvent such as hexane, heptane, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, o dichlorobenzene is used in addition to the above organic solvent to the extent that the polymer does not precipitate. be able to.
  • polyimide A (1) a solution polymerization method, (2) a method of preparing a polyamic acid solution as a precursor and heating it to imidize, (3) preparing a polyamic acid solution as a precursor (4) Salts such as tetraester dianhydride half-ester salts Alternatively, it can be produced by a method of obtaining an imide oligomer and performing solid phase polymerization, (5) a method of reacting tetracarboxylic dianhydride and diisocyanate, or other conventionally known methods. You can use these methods together.
  • the reaction between the tetracarboxylic acid component (Y) and the diamine component (Z) is carried out in an organic solvent solution in the presence or absence of a conventionally known catalyst such as an acid, a tertiary amine, or an anhydride, with heating. May be.
  • Tertiary amines are preferred as the catalyst when a catalyst is used to produce polyimide A.
  • trimethylamine, triethylamine (TEA), tripropylamine, tributylamine, triethanol are preferred.
  • TAA triethylamine
  • TPA triethylamine
  • tributylamine triethanol
  • Examples include quinoline and isoquinoline, and at least one catalyst selected from these strengths is used.
  • Catalyst amount of medium is in that a possible short reaction times with a small amount, preferably is 0.1 to 100 mole 0/0 of the tetracarboxylic acid component (Y) tool 10 mol 0/0 is more preferable.
  • polyimide A can be produced by the following solution polymerization method (a) or (b) in which an organic solvent solution of polyimide resin is directly obtained, or polyimide A of (c). It is preferable to prepare a polyamic acid, which is a precursor of, and heat it to imidize.
  • the temperature is raised to 160-230 ° C, preferably 180-205 ° C, for 0.1-6 hours. This temperature depends on the boiling point of the organic solvent used. While collecting components to be removed from the reaction system, the temperature is kept substantially constant for 0.5 to 24 hours, preferably 1 to 12 hours, more preferably 1 to 6 hours.
  • the temperature is raised to 160-230 ° C, preferably 180-205 ° C, for 0.1-6 hours. This temperature depends on the boiling point of the organic solvent used. While collecting components to be removed from the reaction system, the temperature is kept constant for 0.5 to 24 hours, preferably 1 to 12 hours. If necessary, add more organic solvent and cool to an appropriate temperature.
  • Tetracarboxylic acid component (Y) as tetracarboxylic dianhydride, diamine component (Z) as diamine, end-capping agent (W) as necessary, organic solvent, and catalyst as necessary The resulting mixture is stirred at 10 to 600 rpm to make a homogeneous solution, the temperature is adjusted to 0 to 90 ° C, and the temperature is maintained for 1 to 72 hours to obtain an organic solvent solution of polyamic acid.
  • the organic solvent solution of the polyamic acid is formed into a desired shape, mainly a thin film, and is set to 120 to 400 ° C, preferably 180 to 400 ° C over 0.1 to 6 hours.
  • the temperature may be raised step by step to reach the target temperature. While collecting the components to be removed, the temperature is kept approximately constant for 0.1 to 24 hours, preferably 0.1 to 12 hours. Then cool down to a suitable temperature.
  • the polyimide solution obtained by the method (a) or (b) may be used as it is, and the polyimide A A poor solvent with low solubility or a polyimide A solution added to the poor solvent can be precipitated as a solid of polyimide A and further dissolved in another organic solvent to form a polyimide A solution.
  • the polyimide A obtained by the method (c) is added to a desired organic solvent as it is and dissolved to obtain a polyimide A solution.
  • a fluorine or polysiloxane surfactant may be added to the polyimide A or the organic solvent solution of the polyamic acid. This makes it easy to obtain an adhesive layer having good surface smoothness, a polyimide A film, and the polyamic acid film.
  • the present invention also provides an adhesive containing the polyimide A.
  • an organic solvent solution of polyimide A is preferably applied (cast) onto a smooth support such as a glass plate or a metal plate to which releasability has been imparted, and preferably 30 to 400 ° C.
  • the organic solvent can be evaporated and removed by heating. After evaporating the organic solvent at a temperature of 30 to 120 ° C. to form a self-supporting film, the film is peeled off from the support, the end of the film is fixed, and the boiling point of the organic solvent is 400 ° C. Dry with C to produce polyimide A film.
  • the pressure in the dry atmosphere may be any of reduced pressure, normal pressure, and increased pressure.
  • an organic solvent solution of polyamic acid which is a precursor of polyimide A
  • a smooth support such as a glass plate or a metal plate to which releasability is imparted, and preferably 3
  • It can also be produced by heating to 0 to 400 ° C. to remove the organic solvent by evaporation and imidization. After evaporating the organic solvent at a temperature of 30 to 120 ° C to form a self-supporting film, the film is peeled off from the support, the ends of the film are fixed, and dried at 180 to 400 ° C. It is preferable to produce a polyimide A film by imidization.
  • the pressure in the dry atmosphere may be any of reduced pressure, normal pressure, and increased pressure.
  • the thickness of the polyimide A film is preferably 1 to 200 m, more preferably 2 to 50 m when used for the adhesive layer of the metal-clad laminate.
  • the metal-clad laminate of the present invention includes an insulating base material, a metal layer, and an adhesive layer made of polyimide A disposed therebetween.
  • the metal-clad laminate is formed by applying an organic solvent solution of polyimide A to one or both of the insulating substrate and the metal layer, evaporating and removing the organic solvent at 30 to 400 ° C to form an adhesive layer, and then insulating.
  • the obtained polyimide A film is placed between an insulating substrate and a metal layer and thermocompression bonded.
  • a metal thin film is directly formed on one side of polyimide A film or polyimide A film, which also has a polyamic acid solution, by sputtering, vapor deposition, electroless plating, etc., and an insulating substrate is placed on the other side.
  • the insulating base material is also formed by a method of thermocompression bonding and a method in which an adhesive layer is formed on the surface of the insulating substrate, and a thin metal film is formed on the surface of the adhesive layer by a method such as sputtering, vapor deposition, or electroless plating.
  • a metal-clad laminate in which the metal layer is firmly adhered can be produced.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably from 1 to: LOO ⁇ m, more preferably from 2 to 50 ⁇ m, from the viewpoints of coating strength and adhesive strength.
  • the metal layer may be formed of a metal foil obtained by a method such as electrolysis or rolling, or on the surface of the polyimide A film or the surface of the adhesive layer formed on the insulating base as described above. You may form directly.
  • the thickness of the metal layer is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to: LOO / zm from the viewpoint of handleability and strength.
  • the material of the metal layer is preferably copper. Further, one surface (adhesion surface) or both surfaces of the metal foil may be subjected to a surface treatment so that the surface roughness Rz is 0.1 to 12 / ⁇ ⁇ .
  • Rz is preferably 0.1 to 4 / zm, more preferably 0.1 to 2 / zm from the viewpoint of fine pitching and adhesion. More preferably, it is 0.4-2 / ⁇ ⁇ , and more preferably 1.0-2 / ⁇ ⁇ .
  • the surface of metal foil that has not been subjected to surface treatment for bonding is usually treated with an antifungal agent, etc., so wipe the surface with a cloth soaked in acetone or other organic solvents. It is preferable to use after this.
  • the insulating substrate of the present invention is not particularly limited as long as it can electrically insulate the metal layer.
  • Insulating base materials include flexible type and rigid type, both of which can be used.
  • the thickness of the insulating substrate is preferably 3 to 2000 / zm, which varies depending on the type.
  • a flexible type insulating base material polyimide resin (polyimide A ), Polybenzimidazole, polybenzoxazole, polyamide (including amide), polyetherimide, polyamideimide, polyester (including liquid crystalline polyester), polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherether Strength of films such as ketones In terms of insulation and heat resistance, polyimide resin (excluding Polyimide A) film is preferred.
  • the thickness is not particularly limited, but is preferably 3 to 150 / ⁇ ⁇ , more preferably 7.5 to 75 m.
  • Rigid type insulating base materials include insulating plates such as glass plates, ceramic plates, plastic plates, etc., metal plates with insulating coatings, thermoplastics such as liquid crystal polymers, phenol resins, epoxy resins, etc. And a molded product obtained by impregnating and kneading various thermosetting resins with reinforcing agents such as glass fiber cloth, plastic fiber cloth, and short glass fiber. Thickness is not particularly limited. 30 to 2000 m force.
  • thermocompression bonding a method using a multistage (vacuum) press, a continuous press method using a pressure roll or the like can be appropriately employed.
  • thermocompression bonding is preferably 200 to 400 ° C, more preferably 250 to 350 ° C, and the pressure of thermocompression bonding is preferably 0.01 to 20 MPa, more preferably 0.1 to LOMPa. . It is also preferable to perform thermocompression bonding in a reduced pressure atmosphere to remove organic solvents and bubbles.
  • the peel strength of the metal layer of the metal-clad laminate of the present invention is 0.5 NZmm or more, measured according to the method of measuring the peel strength of copper foil by 90 ° peel of JIS C6471 described later It is preferably 8NZmm or more.
  • the logarithmic viscosity has a value that approximates the intrinsic viscosity and can be easily obtained.
  • IPC-TM-650 Obtained according to the method described in 6. 2. 1.
  • a 10 mm x 50 mm specimen was cut from the metal-clad laminate and left in a constant temperature room at 50% humidity and 23 ° C for 24 hours. Then it floated in the solder bath for 20 seconds. The temperatures were 260 ° C and 280 ° C, and separate specimens were used. A was assigned when no abnormal appearance such as swelling or peeling occurred, and C was assigned when abnormal appearance occurred.
  • a polyimide resin film having a thickness of 25 ⁇ m (trade name; Kapton 100EN, manufactured by Toray DuPont) was used as an insulating base material, and the polyimide A solution obtained above was applied to one side. After heating at 0 ° C. for 0.5 hours, it was dried in a vacuum dryer at 200 ° C. for 5 hours to form an adhesive layer having a thickness of 4 IX m on the insulating substrate.
  • an electrolytic copper foil product name; 3EC—VLP, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.
  • Rz 3.8 ⁇ m and a thickness of 18 ⁇ m
  • An electrolytic copper foil was laminated on the adhesive layer formed on the edge base material through the roughened surface. This is sandwiched between stainless steel mirror plates, placed between the hot plates of a 330 ° C hot press machine, held at contact pressure (OMPa) for 3 minutes, and then thermocompression bonded at 330 ° C, 5 MPa, 5 minutes. did. Next, it was placed between the hot plates of a room temperature press and cooled under conditions of 5 MPa and 2 minutes to obtain a metal-clad laminate.
  • OMPa contact pressure
  • the peel strength of the metal layer of the obtained metal-clad laminate was 0.85 N / mm, and the solder heat resistance was A.
  • a polyimide resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide resin solution was used.
  • the logarithmic viscosity of this polyimide resin was 0.96 dLZg, glass The transition temperature was 277 ° C and the water absorption rate was 1.2%.
  • BAPP22.29g (0.055429mol), m-xylylenediamine (MXDA, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) 3.17g (5 glass round bottom flask similar to that used in Example 1) 0.032327 mol;), NMP50.OOg was stirred at lOOrpm in a nitrogen atmosphere to obtain a solution.
  • MXDA m-xylylenediamine
  • a polyimide A film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide A solution was used.
  • the logarithmic viscosity of this polyimide A was 0.92 dLZg, the glass transition temperature was 239 ° C., and the water absorption was 1.7%.
  • a metal-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide A solution was used.
  • the peel strength of the metal layer of the resulting metal-clad laminate is 0.93 NZmm, and the solder heat resistance is A was.
  • the mixture was stirred at about 130 ° C for about 30 minutes to obtain a uniform solution, and then cooled to 100 ° C in about 10 minutes to obtain a polyimide resin solution having a solid content concentration of 20% by weight.
  • the polyimide resin solution was visually observed, it was a homogeneous solution, and the solubility of the polyimide resin as a solute in the organic solvent was good.
  • a polyimide resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide resin solution was used.
  • the logarithmic viscosity of this polyimide resin film was The degree was 0.449 LZg, the glass transition temperature was 281 ° C, and the water absorption was 6.5%.
  • a metal-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide resin solution was used.
  • the peel strength of the metal layer of the obtained metal-clad laminate was 0.668 NZmm, and the solder heat resistance was C.
  • HPMDA14. 979g (0.0.06682 mol;) and DMAC12.72g were added all at once, and then heated with a mantle heater, and the reaction system temperature was raised to 180 ° C over about 20 minutes. The temperature inside the reaction system was maintained at 180 ° C. for 6 hours while collecting the components to be distilled off.
  • the mixture was stirred at about 130 ° C for about 30 minutes to obtain a uniform solution, and air-cooled to 100 ° C in about 10 minutes to obtain a polyimide resin solution having a solid content concentration of 20% by weight.
  • the polyimide resin solution was visually observed, it was a homogeneous solution, and the solubility of the polyimide resin as a solute in the organic solvent was good.
  • a polyimide resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide resin solution was used.
  • the logarithmic viscosity of this polyimide resin was 1. OOdL / g, The water absorption was 1.6%.
  • a metal-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide resin solution was used.
  • the peel strength of the metal layer of the obtained metal-clad laminate was 0.62 NZmm, and the solder heat resistance was A.
  • HPMDA 12.92g (0. 05762mol), PMDA 3.14g (0. 01441mol), N MP13. 89g was collected in a lump and heated with a mantle heater to raise the temperature inside the reaction system. After about 10 minutes, when the temperature reached 150 ° C., a yellowish white solid precipitated in the reaction system. Although the temperature in the reaction system was raised to 200 ° C, the precipitate was not lost and was maintained as it was for 2 hours. A homogeneous polyimide resin solution could not be obtained.
  • BAPP 10.93 g (0.002662 mol), 4,4, -diaminodiphenyl ether (ODA, manufactured by Wakayama Seika Kogyo Co., Ltd.) 12. 44 g (0.06211 mol), NMP50.00 g, and TEAO.41 g as a catalyst were stirred at lOOrpm in a nitrogen atmosphere to obtain a solution.
  • HPMDA17.90g (0.07985mol), PMDA1.94g (0.00887mol) and NMP14.80g were collected in a batch and heated with a mantle heater. Was raised to 180 ° C. The temperature inside the reaction system was maintained at 180 ° C for 5 hours while collecting the components to be distilled off.
  • a polyimide resin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide resin solution was used.
  • the logarithmic viscosity of this polyimide resin was 1 05dLZg, water absorption was 3.5%.
  • a metal-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the obtained polyimide resin solution was used.
  • the peel strength of the metal layer of the obtained metal-clad laminate was 0.28 NZmm, and the solder heat resistance was C.
  • the polyimide resin of the present invention is soluble in an organic solvent and exhibits thermoplasticity, low water absorption, high heat resistance and excellent adhesiveness, a polyimide resin film, an adhesive and a metal-clad laminate using the adhesive
  • the metal-clad laminate is preferably used for printed wiring boards, surface heating elements, electromagnetic shielding materials, flat cables, and the like.

Description

ポリイミド樹脂
技術分野
[0001] 本発明は有機溶剤可溶性で熱可塑性、低吸水性、高耐熱性を示すポリイミド榭脂
、該ポリイミド榭脂を含むフィルム、該ポリイミド榭脂からなる接着剤及び該接着剤を 用いた金属張積層体に関する。該金属張積層体は、プリント配線板、面発熱体、電 磁波シールド材料、フラットケーブルなどに加工される。
背景技術
[0002] ポリイミドは耐熱性、機械物性、耐薬品性などに優れた性能を有しており、それ故、 航空宇宙分野、電子材料分野などに広く使用されている。その多くは芳香族ポリイミ ドである。芳香族ポリイミドの多くは溶剤に不溶で非熱可塑性であり、加工性に難点 があった。前駆体であるポリアミド酸は有機溶剤可溶性であるので、ポリアミド酸溶液 で所望の形状にし、その後イミド化させる方法を採っているが、イミドィ匕は水の脱離、 蒸発を伴う。その温度は熱イミドィ匕時には 180〜400°Cにも達し、それは水の沸点を 遥かに上回るものであり、厚い膜状の成形品の場合では膨れなど、表面性に関する 不具合が起りやす力つた。それ故温度設定などの成形時の条件選択が難 、面が あった。このイミド化工程を省略したポリアミド酸の製品は、ポリイミド特有の熱などに 対する耐久性を発揮する事はできない。また、ポリアミド酸溶液は水の存在によって 容易に加水分解するのでその保存方法に難点があった。
[0003] 上記問題を解決する一つの方法として、有機溶剤可溶性ポリイミドがある。有機溶 剤可溶性のポリイミドは、当然の事ながらポリイミド溶液とすることができ、従って所望 の形状にした後、有機溶剤を揮発させるのみで加工が可能であり、表面性の良好な 製品を得られ易い。また、その保存安定性にも優れている。
この有機溶剤可溶性ポリイミドについて多くの研究がなされており、主に重合成分 の工夫による。ベンゾフエノン骨格を導入する方法 (特許文献 1参照)などが開示され ているが、この方法の一つに、脂環構造の導入が挙げられる。例えば、原料としてィ ソフォロンジァミンの使用が試みられている(特許文献 2、 3)。しかし、イソフォロンジ アミンカも得られたポリイミド榭脂は、高分子量品を得難ぐまた、その骨格から物性 は比較的硬ぐもろいものである。吸水率も高い傾向がある。一方、 1, 2, 4, 5—シク 口へキサンテトラカルボン酸骨格を含むポリイミド榭脂が開示されている (特許文献 4、
5、 6、 7参照)。しかし、特許文献 4、 5記載のポリイミド榭脂のように 1, 2, 4, 5—シク 口へキサンテトラカルボン酸骨格を有してはいるが有機溶剤に対する溶解性が高いと は言えないものもある。特許文献 6は、 1, 2, 4, 5—シクロへキサンテトラカルボン酸 骨格を含み、高分子量化が比較的容易で、フレキシブルなフィルムが得られ易い上 に、有機溶剤に対する溶解度も充分に大きいポリイミド榭脂を開示している。また、特 許文献 7には脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂肪族テトラカルボン酸又はその誘 導体とジァミンィ匕合物とを溶媒中で重縮合する溶媒可溶性ポリイミドの製造方法が開 示されている。
しかし、上記ポリイミド榭脂は、その多くが吸水率が高いものであり、また薄い層での 用途では吸湿寸法安定性に劣る等の問題を有していた。
このように、ポリイミドの特徴である耐熱性、機械物性などの性能を維持したまま有 機溶剤可溶性を付与するには、重合成分であるテトラカルボン酸成分、ジァミン成分 の種類や割合に更なる工夫が必要である。
[0004] 有機溶剤可溶性ポリイミドの適用例として金属張積層体用の接着剤がある。金属張 積層体には、絶縁基材と金属層とを接着剤あるいは接着性フィルムを介して接着す ることによって製造されるものがある。例えば、芳香族系ポリイミド榭脂フィルム力もな る絶縁基材と金属層とを接着性フィルムを介して接着した 3層構造の金属張積層体 が提案されて ヽる (特許文献 8参照)。
[0005] 金属張積層体において、絶縁基材と金属層の間に配された接着層の残留揮発成 分が多いと、 250°C以上の高温度に達するはんだ工程の際に接着層の白化、膨れ、 発泡等を生じ、絶縁基材と金属層の密着性を著しく損なうと 、う問題を有して 、た (特 許文献 9参照)。この接着層の残留揮発成分とは、接着層又は接着性フィルムを形成 する際のイミド化、有機溶剤除去工程において除去されなカゝつた水分と有機溶剤、 製造環境から吸収された水分、エッチング工程の水溶液浸漬時に吸収される水分等 が挙げられる。この中で特に問題視されるのは水分である。上記問題を解決するため には、ポリイミドの水分含有率の指標となる吸水率を低くすることが望まれている。
[0006] 特許文献 1 :特開平 7— 166148号公報
特許文献 2 :特開 2000— 169579号公報
特許文献 3:特開 2000— 319388号公報
特許文献 4:米国特許第 3, 639, 343号明細書
特許文献 5 :特開 2003— 155342号公報
特許文献 6:特開 2003— 168800号公報
特許文献 7:特開 2005 - 15629号公報
特許文献 8:特開昭 55— 91895号公報
特許文献 9:特開 2001— 329246号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] 本発明の目的は、従来、接着層に用いられてきた全芳香族ポリイミド榭脂および脂 環式ポリイミド榭脂双方の問題点を解決し、有機溶剤可溶性で、低吸水率、熱可塑 性、高耐熱性、更には接着性に優れるポリイミド榭脂、その製造方法、該ポリイミド榭 脂を含む接着剤、フィルム及び該ポリイミド榭脂からなる接着層を含む金属張積層体 を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0008] すなわち本発明は、
(1)下記式(1) :
[化 1]
Figure imgf000005_0001
で表される繰り返し単位と下記式(2):
[0009] [化 2]
Figure imgf000006_0001
[0010] (式(1)又は(2)中、 Xは炭素数が 2〜39の 2価の脂肪族基、炭素数が 3〜39の 2価 の脂環族基、炭素数が 6〜39の 2価の芳香族基又はこれらの組み合わせ力もなる 2 価の基であり、 Xの主鎖には、 O—、—SO―、 -CH―、— C (CH ) ―、— OSi (
2 2 3 2
CH ) ―、—C H O—及び— S 力 なる群力 選ばれた少なくとも 1種の結合基が
3 2 2 4
介在していてもよぐ Xはカルボキシル基、水酸基及びカルボニル基カゝらなる群から 選ばれた少なくとも 1種の官能基を有して 、てもよ 、)
で表される繰り返し単位とを含み、全 X中の下記式(3):
[0011] [化 3]
Figure imgf000006_0002
で表わされる基の割合が 50モル%以上(100モル%を含む)であるポリイミド榭脂、 [0012] (2) 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン酸、 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラ カルボン酸二無水物及び 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン酸の反応性誘 導体力もなる群力も選ばれた少なくとも 1種のテトラカルボン酸成分 (Y1)と、ピロメリッ ト酸、ピロメリット酸二無水物及びピロメリット酸の反応性誘導体からなる群から選ばれ た少なくとも 1種のテトラカルボン酸成分 (Y2)とからなるテトラカルボン酸成分 (Y)と、 NH -X-NHで表されるジァミンおよびその反応性誘導体力 なる群力 選ばれ
2 2
た少なくとも 1種であるジァミン成分中、 2, 2 ビス〔4一(4 アミノフエノキシ)フエ- ル〕プロパン及びその反応性誘導体力 なる群力 選ばれた少なくとも 1種 (Z1)の割 合が 50モル%以上(100モル%を含む)であるジァミン成分 (Z)を反応させる工程を 含む、前記式(1)で表される繰り返し単位と前記式(2)で表される繰り返し単位を含 むポリイミド榭脂の製造方法、
[0013] (3)前記(1)記載のポリイミド榭脂からなるポリイミド榭脂フィルム、
(4)前記(1)記載のポリイミド榭脂を含む接着剤。
(5)前記(1)記載のポリイミド榭脂の有機溶剤溶液、又は前記(2)記載の製造方法に より得られるポリイミド榭脂の有機溶剤溶液を、支持体上にキャストし、有機溶剤を蒸 発除去する工程を含む前記(3)記載のポリイミド榭脂フィルムの製造方法、及び
(6)絶縁基材、金属層、及び該絶縁基材と金属層との間に配置された接着層を含む 金属張積層体であって、該接着層が前記(1)記載のポリイミド榭脂又は前記(2)記 載の製造方法により得られたポリイミド榭脂から形成される金属張積層体、 に関する。
発明の効果
[0014] 本発明のポリイミド榭脂は、有機溶剤可溶性で低吸水率、熱可塑性、及び耐熱性 が良好で、更には接着性に優れる。本発明のポリイミド榭脂を接着層として得られた 金属張積層体は密着性、はんだ耐熱性に優れる。
発明を実施するための最良の形態
[0015] 以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のポリイミド榭脂(以下、適宜、ポリイミド Aと記す)は、下記式(1): [化 4]
Figure imgf000007_0001
で表される繰り返し単位と下記式(2):
[0016] [化 5]
Figure imgf000008_0001
[0017] (式(1)又は(2)中、 Xは炭素数が 2〜39の 2価の脂肪族基、炭素数が 3〜39の 2価 の脂環族基、炭素数が 6〜39の 2価の芳香族基又はこれらの組み合わせ力もなる 2 価の基であり、 Xの主鎖には、— O—、—SO―、 -CH―、— C (CH ) ―、— OSi (
2 2 3 2
CH ) ―、—C H O—及び— S—力 なる群力 選ばれた少なくとも 1種の結合基が
3 2 2 4
介在していてもよぐ Xはカルボキシル基、水酸基及びカルボニル基カゝらなる群から 選ばれた少なくとも 1種の官能基を有して 、てもよ 、)
で表される繰り返し単位とを含み、全 X中の下記式(3):
[0018] [化 6]
Figure imgf000008_0002
[0019] で表わされる基の割合が 50モル%以上であり、より好ましくは 70モル%以上、更に 好ましくは 80モル%以上(それぞれ 100モル%を含む)である。前記式(3)で表わさ れる基の割合が全 X中の 50モル%以上であると低吸水性を達成可能である。ポリイミ ド A分子中に、有機溶剤可溶性をもたらす前記式 (1)で表される繰り返し単位に、前 記式(2)で表される繰り返し単位を共存させると、更に低吸水率となる。
[0020] ポリイミド A中の前記式(2)で表される繰り返し単位の割合は、 1〜99モル%であれ ばよぐ好ましくは 5〜95モル0 /0、より好ましくは 10〜90モル0 /0、更に好ましくは 10〜 50モル%である。前記式(2)の割合が 5モル%以上であると耐熱性が高く吸水率を 低くでき、 95モル%以下であれば有機溶剤可溶性が高くなる。
前記式(3)で表わされる基の割合が全 X中の 50モル%未満であると、吸水率が高 くなり、そのポリイミド榭脂を接着層とした金属張積層板のはんだ耐熱性が低下するこ とがある。ポリイミド Aの分子形態としてはブロックコポリマーある 、はランダムコポリマ 一のどちらでもよい。
ポリイミド Aにお 、て、式(1)で表される繰り返し単位の式(2)で表される繰り返し単 位に対する割合 (式(1)で表わされる繰り返し単位 Z式(2)で表される繰り返し単位) は、有機溶剤可溶性の点から、好ましくは 1900〜5モル%であり、より好ましくは 900 〜: L 1モル0 /0であり、更に好ましくは 900〜100モル0 /0である。
[0021] 本発明にお 、て「有機溶剤可溶性」とは、溶質 (ポリイミド)と有機溶剤を混合、撹拌 した際、温度範囲として 0°Cから常圧での有機溶剤の沸点又は 200°Cの低 、方まで の温度範囲のどこかで、目視による判定で均相であり、下記式:
(溶質重量) Z [ (有機溶剤重量) + (溶質重量) ] X 100
で表される値(固形分濃度)が 5重量%を超えることを指し、好ましくは 7重量%以上、 より好ましくは 10重量%以上であることを指す。
[0022] ポリイミド Aの前駆体である該ポリアミド酸の構造は、下記式 (4):
[化 7]
Figure imgf000009_0001
で表される繰り返し単位と下記式(5):
[0023] [化 8]
Figure imgf000009_0002
で表される繰り返し単位力 なる。 Xは前記式(1)、 (2)と同様である [0024] 前記式(1)、(2)、(4)及び (5)中の Xは、炭素数が 2〜39の 2価の脂肪族基、炭素 数が 3〜39の 2価の脂環族基、炭素数が 6〜39の 2価の芳香族基又はこれらの組み 合わせからなる 2価の基であり、その主鎖には、—O—、—SO —、 -CH 一、 C (
2 2
CH ) —、― OSi(CH ) ―、—C H O—及び— S 力 なる群から選ばれた少なく
3 2 3 2 2 4
とも 1種の結合基が介在していてもよいものである。その具体例としては、ポリアルキ レン基、ポリオキシアルキレン基、キシリレン基及びそれらのアルキル置換体、ハロゲ ン置換体、カルボキシ置換体およびヒドロキシ置換体などの 2価の脂肪族基;シクロ へキサン、ジシクロへキシルメタン、ジメチルシクロへキサン、イソフォロン、ノルボルナ ン及びそれらのアルキル置換体、ハロゲン置換体、カルボキシ置換体およびヒドロキ シ置換体等から誘導される 2価の脂環族基;及び、ベンゼン、ナフタレン、ビフヱニル 、ジフエニルメタン、ジフエニルエーテル、ジフエニルスルホン、ベンゾフエノン及びそ れらのアルキル置換体、ハロゲン置換体、カルボキシ置換体およびヒドロキシ置換体 等から誘導される 2価の芳香族基が挙げられる。これらの基のうち、本発明において は、有機溶剤可溶性の点から、キシリレン基;イソフォロン、ノルボルナン力も誘導され る 2価の脂環族基;及び、ジフエ-ルエーテル、ジフエ-ルスルホン、ベンゾフエノン から誘導される 2価の芳香族基が好ましく挙げられる。
[0025] ポリイミ A、及びポリイミド Aの前駆体であるポリアミド酸は、テトラカルボン酸および その反応性誘導体力も選ばれる少なくとも 1種のテトラカルボン酸成分 (Y)と、ジアミ ン及びその反応性誘導体から選ばれる少なくとも 1種のジァミン成分 (Z)とを反応さ せることにより得られる。場合によってはジカルボン酸無水物及びモノアミン力 選ば れる少なくとも一種である末端封止成分 (W)を反応させても良い。なお、テトラカルボ ン酸成分 (Y)およびジァミン成分 (Z)、末端封止成分 (W)は ヽずれも異性体を含ん でいても良い。
[0026] テトラカルボン酸成分 (Y)としては、テトラカルボン酸、テトラカルボン酸二無水物、 及びテトラカルボン酸の反応性誘導体 (エステル類等)カゝら選ばれる少なくとも一種が 挙げられる。テトラカルボン酸成分 (Y)は 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン 酸、 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物及び 1, 2, 4, 5 シクロ へキサンテトラカルボン酸の反応性誘導体力 なる群力 選ばれた少なくとも 1種の テトラカルボン酸成分 (Yl)と、ピロメリット酸、ピロメリット酸二無水物及びピロメリット 酸の反応性誘導体からなる群から選ばれた少なくとも 1種のテトラカルボン酸成分 (Y 2)とからなることが好ましい。また、反応性の点から、上記テトラカルボン酸二無水物 が好まし!/、。前記式(1)及び前記式(2)の各々の繰り返し単位を形成するためのテト ラカルボン酸二無水物としては、テトラカルボン酸成分 (Y1)として 1, 2, 4, 5 シク 口へキサンテトラカルボン酸二無水物(HPMDA)、およびテトラカルボン酸成分 (Y2 )としてピロメリット酸二無水物(PMDA)を用いることが好まし!/、。
[0027] 本発明にお ヽては、ポリイミド Aの有機溶剤可溶性、低吸水率、熱可塑性、耐熱性 、接着性といった性能を損ねない範囲で、ポリイミド A及びポリイミド Aの前駆体である ポリアミド酸の原料として、上記テトラカルボン酸成分 (Y)以外のその他のテトラカル ボン酸成分を使用してもよい。このようなテトラカルボン酸成分としては、例えば、ビフ ェ-ルー 3, 4, 3' , 4,ーテトラカルボン酸二無水物、ビフエ-ルー 2, 3,3',4'—テトラ カルボン酸二無水物、ベンゾフエノンー3,4,3',4'—テトラカルボン酸二無水物、ジフ ェニルスルホン一 3, 4, 3', 4'ーテトラカルボン酸二無水物、 1,4,5,8 ナフタレンテ トラカルボン酸二無水物、ォキシジフタル酸二無水物、 2, 2—ジフエ-ルプロパン 3, 4, 3,, 4,—テトラカルボン酸二無水物、 2, 2 ジフエ-ルプロノ ン— 2, 3, 2' , 3 ,ーテトラカルボン酸二無水物、 4, 4一(m フエ-レンジォキシ)ジフタル酸二無水 物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物、シクロペンタン 1,2,3,4—テトラカルボ ン酸ニ無水物、シクロブタン 1,2,3,4—テトラカルボン酸二無水物などの脂環族テ トラカルボン酸二無水物が挙げられ、その 1種以上を同時に用いることができ、これら に限定されない。
[0028] ポリイミド A及びポリイミド Aの前駆体であるポリアミド酸の原料としての、 NH—X—
2
NHで表されるジァミンおよびその反応性誘導体力 なる群力 選ばれた少なくとも
2
1種であるジァミン成分 (Z)としては、ジァミン、ジイソシァネート、ジアミノジシランなど が挙げられるが、その合成のしゃすさなどの点力もジァミンが好ましい。前記式(1)、 (2)、(4)又は(5)の繰り返し単位を形成するために好まし!/、ジァミン成分 (Z1)として は、 2, 2 ビス〔4— (4 アミノフエノキシ)フエ-ル〕プロパン(BAPP)が挙げられる。 BAPPの使用量は、低吸水性を達成する観点から、全ジァミン成分中、好ましくは 50 モル%以上であり、より好ましくは 70モル%以上、更に好ましくは 80モル%以上(そ れぞれ 100モル%を含む)である。
[0029] ポリイミド A及びポリイミド Aの前駆体であるポリアミド酸の原料として BAPP以外のジ ァミン成分も使用可能であり、芳香族ジァミン、脂肪族ジァミン、脂環族ジァミン、分 子中にアミノ基以外の官能基を有するジァミン、前記ジァミンの反応性誘導体、およ びこれらの混合物のいずれでも良い。なお、本発明において"芳香族ジァミン"とは、 ァミノ基が芳香族環に直接結合しているジァミンを表し、その構造の一部に脂肪族基 、脂環族基、芳香族基、その他の置換基を含んでいても良い。 "脂肪族ジァミン"とは 、ァミノ基が脂肪族基に直接結合しているジァミンを表し、その構造の一部に脂肪族 基、脂環族基、芳香族基、その他の置換基を含んでいても良い。 "脂環族ジァミン"と は、ァミノ基が脂環族基に直接結合しているジァミンを表し、その構造の一部に脂肪 族基、脂環族基、芳香族基、その他の置換基を含んでいても良い。例えば、 BAPP は、ァミノ基が芳香族環 (ベンゼン環)に直接結合しているので芳香族ジァミンであり 、 m キシリレンジァミン (MXDA)はァミノ基が脂肪族基 (メチレン基)に直接結合し て!、るので脂肪族ジァミンである。
[0030] 脂肪族ジァミンとしては、例えば、エチレンジァミン、へキサメチレンジァミン、ポリエ チレングリコーノレビス(3—ァミノプロピル)エーテノレ、ポリプロピレングリコーノレビス (3 -ァミノプロピル)エーテル、 1 , 3 ビス(アミノメチル)シクロへキサン、 1 , 4 ビス(ァ ミノメチル)シクロへキサン、 p キシリレンジァミン、 m—キシリレンジァミン(MXDA) 、シロキサンジァミン類等が挙げられる。
脂環族ジァミンとしては、例えば、 4, 4 'ージアミノジシクロへキシルメタン、イソフォ ロンジァミン、ノルボルナンジァミンおよびそれらの反応性誘導体などが挙げられる。
[0031] 芳香族ジァミンとしては、例えば、 1 , 4 フエ-レンジァミン、 1 , 3 フエ-レンジアミ ン、 4, 4,一ビス(4 アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 2, 4 トルエンジァミン、 4, 4,一 ジアミノジフエ二ルエーテル、 3, 4 'ージアミノジフエニルエーテル、 4, 4 'ージアミノジ フエ-ルメタン、 1 , 4 ビス(4 アミノフエノキシ)ベンゼン、 1 , 3 ビス(4 ァミノフエ ノキシ)ベンゼン、 1 , 3 ビス(3 アミノフエノキシ)ベンゼン、 at , α,一ビス(4 アミ ノフエ-ル) 1 , 4 ジイソプロピルベンゼン、 α , α,一ビス(3 ァミノフエ-ル) 1 , 4—ジイソプロピルベンゼン、 4, 4,一ジアミノジフエ-ルスルホン、ビス〔4— (4—ァ ミノフエノキシ)フエ-ル〕スルホン、ビス〔4— (3—アミノフエノキシ)フエ-ル〕スルホン、 2, 6 ジァミノナフタレン、 1, 5 ジァミノナフタレンおよびそれらの反応性誘導体等 が挙げられる。
[0032] 前記アミノ基以外の官能基を有するジァミンとしては、例えば、 3, 3'ージカルボキ シ 4, 4,ージアミノジフエ-ルメタン、 3, 5—ジァミノ安息香酸、 3, 3,ージヒドロキシ 4, 4,一ジアミノビフエ-ル、 2, 4 ジァミノフエノール、 4, 4'—ジァミノべンゾフエ ノン、 3, 3'—ジァミノべンゾフエノンおよびそれらの反応性誘導体等が挙げられる。
[0033] ΒΑΡΡ以外のジァミン成分として、前記ジァミン中、 MXDA、 1, 3 フエ-レンジァ ミン、 4, 4'—ビス(4—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 4, 4'—ジアミノジフエ-ルメタン 、 1, 3 ビス(3 アミノフエノキシ)ベンゼン、ビス〔4— (4 アミノフエノキシ)フエ-ル〕 スノレホン、 3, 3'—ジカノレボキシ 4, 4'ージアミノジフエニルメタン、 3, 5—ジァミノ 安息香酸、 3, 3,ージヒドロキシ—4, 4'ージアミノビフエ-ル、 4, 4'ージァミノべンゾ フエノンを選択すると、得られるポリイミド Aは金属張積層板の接着層として低吸水性 、接着性、耐熱性など、諸特性のバランスがより優れたものとなり好ましい。
[0034] ポリイミドの分子末端は、アミノ基、カルボキシル基、又はカルボン酸無水物基であ る。これらの分子末端にジカルボン酸無水物基やアミノ基を有する化合物 (末端封止 成分 (W) )を反応させることにより、分子末端の官能基を可能な限り減らすこと、又は 、意図的に分子末端にアミノ基、カルボキシル基などの官能基やこれ以外の置換基 を導入することができる。ポリイミド榭脂の吸水率を低下させるために、該ポリイミドの 分子末端に極性の小さ 、置換基を導入することは有効である。後述する方法で測定 した硬化後のポリイミド榭脂の吸水率は、得られる金属張積層板のはんだ耐熱性の 点から、 2. 5%以下が好ましぐより好ましくは 2. 0%以下、更に好ましくは 1. 7%以 下である。工業的に達成できる吸水率の最小値は通常約 1%である。
[0035] ポリイミド A及びポリイミド Aの前駆体であるポリアミド酸の原料としての末端封止成分 ( W)としては、ジカルボン酸無水物、モノアミンなどが適用可能である。ジカルボン酸 無水物としては、例えば、無水フタル酸、ナフタレンジカルボン酸無水物、ビフヱ-ル ジカルボン酸無水物、 1, 2, 3, 6—テトラヒドロ無水フタル酸、 1, 2 シクロへキサン ジカルボン酸無水物、 5 ノルボルネンー 2, 3 ジカルボン酸無水物(ナジック酸無 水物、 NAn)、メチルー 5 ノルボルネン 2, 3 ジカルボン酸無水物、シトラコン酸 無水物(CAn)、無水マレイン酸(MAn)、 3—ェチュルフタル酸、 4ーェチュルフタ ル酸、 4 フエ-ルェチュルフタル酸等が挙げられる。
モノアミンとしては、例えば、ァ-リン、ァミノナフタレン、アミノビフエ-ル、 3—ェチ- ルァ-リン、 4 ェチニルァ-リン等が挙げられる。これらは 1種以上を同時に用いる 事ができ、これらに限定されない。
[0036] ポリイミド A及びポリイミド Aの前駆体であるポリアミド酸は、 1, 2, 4, 5 シクロへキ サンテトラカルボン酸二無水物とピロメリット酸二無水物とからなるテトラカルボン酸成 分 (Y)と、 NH -X-NH (Xは前記と同様)で表され、 2, 2 ビス〔4 (4 アミノフ
2 2
エノキシ)フエ-ル〕プロパンを 50モル%以上(100モル%を含む)含有する少なくとも 1種のジァミン成分 (Z)とを反応させる工程を経て得られるものであり、前記ジァミン 成分 (Z) lモルに対して前記テトラカルボン酸成分 (Y)を、好ましくは 0. 66〜: L 5モ ノレ、より好ましくは 0. 9〜1. 1モノレ、さらに好ましくは 0. 97〜: L 03モノレ反応させるこ とにより製造される。また、上記モル比とし、さらに末端封止成分 (W)を適量添加又 は無添加とすることで、ポリイミド A及びポリアミド酸を所望の分子量、対数粘度とする ことができる。ポリイミド Aの 0. 5gZdLの N—メチル 2 ピロリドン溶液を用いて 30 °Cで測定した対数粘度 7?は、好ましくは 0. 15〜2dLZgである。 0. 15以上であると 、得られるポリイミドは金属張積層体とした場合に充分な剥離強度を得ることができ、 2. OdLZg以下であるとその溶液 (ワニス)粘度は適切なものとなり塗布及び取り扱 ヽ が容易になる。好ましい対数粘度 7?の範囲は 0. 3〜1. 5dL/gである。該ポリアミド 酸の好ましい対数粘度 7?としては特に制限はないが、通常、 0. 1〜1. OdLZgであ る。
[0037] 例えば、テトラカルボン酸成分とジァミン成分の使用割合、末端封止剤の使用の有 無と使用量、反応温度と時間、触媒量等の少なくとも一つの条件を調整することによ り、前記範囲内の対数粘度 r?を有するポリイミド A及びポリイミド Aの前駆体であるポリ アミド酸を製造することができる。前記条件の調整は、予備反応などを行うことにより 行うことができる。例えば、対数粘度 r?を前記テトラカルボン酸成分 (Y)と前記ジアミ ン成分 (Z)とのモル比及び反応時間によって調整する場合、前記モル比が 1に近い 程、また、反応時間が長い程、対数粘度 7?が前記範囲内で大きくなる。前記モル比 が 0. 66〜: L 5の範囲内で 1から遠く離れる程、また、反応時間が短い程、対数粘度 r?は前記範囲内で小さくなる。末端封止剤 (W)の量が増える事は、前記モル比が 1 力 遠く離れる事と同等の効果となる。反応時間、その他の反応条件などと、これに 対応した対数粘度との関係を予め求めておき、この関係に基づいて反応の終了時点 を決定することにより、所定対数粘度 r?のポリイミド Aを製造することができる。
[0038] 上記ポリイミド A及びポリイミド Aの前駆体であるポリアミド酸は、これと有機溶剤を含 む有機溶剤溶液として製造することができる。
有機溶剤としては特に限定されないが、例えば、 N—メチル 2—ピロリドン、 N, N ージメチルァセトアミド、 N, N ジェチルァセトアミド、 N, N ジメチルホルムアミド、 N, N ジェチルホルムアミド、 N—メチルカプロラタタム、へキサメチルホスホルアミド 、テトラメチレンスルホン、ジメチルスルホキシド、 m—クレゾ一ル、フエノール、 p クロ ルフエノール、 2 クロルー4ーヒドロキシトルエン、ジグライム、トリグライム、テトラグラ ィム、ジォキサン、 γ ブチロラタトン、ジォキソラン、シクロへキサノン、シクロペンタノ ン、ジクロロメタン、クロロホノレム、 1, 2—ジクロ口エタン、 1, 1, 2—トリクロ口エタン、ジ ブロモメタン、トリブロモメタン、 1, 2—ジブロモェタン、 1, 1, 2—トリブ口モェタンなど が使用可能であり、 2種以上を併用しても良い。しかし、ポリイミド Αと有機溶剤力もな るポリイミドワニスの'性會を考慮すると、 N—メチノレー 2—ピロリドン(NMP)、 N, N- ジメチルァセトアミド (DMAC)、 y—ブチ口ラタトン(GBL)を単独又は併用するのが 好ましい。有機溶剤は、得られる有機溶剤溶液中のポリイミド A濃度が、好ましくは 1 〜50重量%、より好ましくは 5〜40重量%になるような量用いる。また、溶液重合によ る製造の場合、上記有機溶剤と併せてへキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシ レン、クロルベンゼン、 o ジクロロベンゼン等の貧溶媒を、重合体が析出しない程度 に使用することができる。
[0039] ポリイミド Aは、(1)溶液重合法、(2)前駆体であるポリアミド酸溶液を調製し、これを 加熱してイミド化する方法、(3)前駆体であるポリアミド酸溶液を調整し、脱水剤と反 応させる化学イミドィ匕法、(4)テトラカルボン酸二無水物のハーフエステル塩などの塩 又はイミドオリゴマーを得、固相重合を行なう方法、(5)テトラカルボン酸二無水物と ジイソシァネートを反応させる方法、その他従来公知の方法で製造することができる。 それぞれの方法を併用しても良 ヽ。テトラカルボン酸成分 (Y)とジァミン成分 (Z)との 反応は、有機溶剤溶液中、酸、三級アミン類、無水物などの従来公知の触媒の存在 下又は不存在下、加熱下で行ってもよい。
[0040] ポリイミド Aを製造するために触媒を用いる場合の触媒としては、三級アミン類が好 ましぐ具体的にはトリメチルァミン、トリェチルァミン (TEA)、トリプロピルァミン、トリブ チルァミン、トリエタノールァミン、 N, N—ジメチルエタノールァミン、 N, N—ジェチ ルエタノールァミン、トリエチレンジァミン、 N—メチルピロリジン、 N—ェチルピロリジ ン、 N—メチルビペリジン、 N—ェチルビペリジン、イミダゾール、ピリジン、キノリン、ィ ソキノリンなどが挙げられ、これら力 選ばれる少なくとも一種の触媒が用いられる。触 媒の使用量は、少量でなるべく短い反応時間となる点で、テトラカルボン酸成分 (Y) の 0. 1〜100モル0 /0が好ましぐ 1〜10モル0 /0がより好ましい。
[0041] これらの方法の中で、ポリイミド Aの製造方法としては、ポリイミド榭脂の有機溶剤溶 液が直接得られる下記 (a)又は (b)の溶液重合法か、(c)のポリイミド Aの前駆体であ るポリアミド酸を調製し、これを加熱してイミドィ匕する方法が好ま U、。
[0042] (a)法
(al— 1)ジァミン成分 (Z)、有機溶剤、および必要に応じて触媒を含む混合物を 1 0〜600rpmで攪拌して均一溶液とし、これを温度 30〜90°Cに保ち、テトラカルボン 酸成分 (Y)および必要に応じて触媒を添加する。
(al— 2)テトラカルボン酸成分 (Y)、有機溶剤、および必要に応じて触媒を含む混 合物を 10〜600rpmで攪拌して均一溶液とし、これを温度 30〜90°Cに保ち、ジアミ ン成分 (Z)および必要に応じて触媒を添加する。
(a2) (al— l)又は(al— 2)の方法の後に、 0. 1〜6時間力けて 160〜230°C、好 ましくは 180〜205°Cまで昇温する。この温度は使用する有機溶剤の沸点によって 左右される。反応系外に除去される成分を捕集しつつ、温度を 0. 5〜24時間、好ま しくは 1〜 12時間、更に好ましくは 1〜6時間ほぼ一定に保つ。
(a3)必要に応じて 10〜205°Cまで冷却した後、末端封止成分 (W)と必要ならば 有機溶剤及び Z又は触媒を添加し、 150〜205°C、好ましくは 160〜200°Cまで昇 温する。反応系外に除去される成分を捕集しつつ、温度を 0. 5〜24時間、好ましく は 1〜6時間ほぼ一定に保つ。その後必要ならば有機溶剤を更に添加し、適温まで 冷却する。
[0043] (b)法
(bl— 1)ジァミン成分 (Z)、有機溶剤、および必要に応じて触媒を含む混合物を 1 0〜600rpmで攪拌して均一溶液とし、これを温度 30〜90°Cに保ち、テトラカルボン 酸成分 (Y)、必要に応じて末端封止成分 (W)、および必要に応じて触媒を添加する 。又は、
(bl— 2) テトラカルボン酸成分 (Y)、必要に応じて末端封止成分 (W)、有機溶剤 、および必要に応じて触媒を含む混合物を 10〜600rpmで攪拌して均一溶液とし、 これを温度 30〜90°Cに保ち、ジァミン成分 (Z)および必要に応じて触媒を添加する
(b2) (bl— 1)又は(bl— 2)の方法の後に、 0. 1〜6時間力けて 160〜230°C、好 ましくは 180〜205°Cまで昇温する。この温度は使用する有機溶剤の沸点によって 左右される。反応系外に除去される成分を捕集しつつ、温度を 0. 5〜24時間、好ま しくは 1〜12時間ほぼ一定に保つ。その後必要ならば有機溶剤を更に添加し、適温 まで冷却する。
[0044] (c)法
(cl)テトラカルボン酸成分 (Y)としてテトラカルボン酸二無水物、ジァミン成分 (Z) としてジァミン、必要に応じて末端封止剤 (W)、該有機溶剤、および必要に応じて触 媒を含む混合物を 10〜600rpmで攪拌して均一溶液とし、温度を 0〜90°C調整し、 その温度を 1〜72時間保つことで、ポリアミド酸の有機溶剤溶液が得られる
(c2)前記ポリアミド酸の有機溶剤溶液を所望の形状、主として薄膜状にし、 0. 1〜 6時間かけて、 120〜400°C、好ましくは 180〜400°Cとする。段階的に昇温し、目標 温度に到達させても構わない。除去される成分を捕集しつつ、温度を 0. 1〜24時間 、好ましくは 0. 1〜12時間ほぼ一定に保つ。その後適温まで冷却する。
[0045] (a)又は (b)法で得られたポリイミドの溶液は、そのまま用いても良!、し、ポリイミド A の溶解度が低い貧溶媒を添加又はポリイミド A溶液を貧溶媒に添加することでー且 ポリイミド Aの固体として析出させ、さらに別の有機溶剤に溶解させる工程を経てポリ イミド A溶液としても良 ヽ。 (c)法で得たポリイミド Aはこのまま所望の有機溶剤に添カロ して溶解させることでポリイミド A溶液が得られる。
[0046] ポリイミド A又は該ポリアミド酸の有機溶剤溶液には、フッ素系、ポリシロキサン系な どの界面活性剤を添加しても良い。これによつて、表面平滑性の良好な接着層、ポリ イミド Aフィルム、該ポリアミド酸フィルムを得やすくなる。
本発明は、前記ポリイミド Aを含む接着剤をも提供する。
[0047] ポリイミド Aフィルムは、ポリイミド Aの有機溶剤溶液を、好ましくは離型性を付与した ガラス板、金属板などの平滑な支持体上に塗布 (キャスト)し、好ましくは 30〜400°C に加熱して有機溶剤を蒸発除去することにより製造できる。 30〜120°Cの温度で有 機溶剤を蒸発させて自己支持性のフィルムとした後、該フィルムを支持体より剥離し、 該フィルムの端部を固定し、該有機溶剤の沸点〜 400°Cで乾燥してポリイミド Aフィル ムを製造することができる。乾燥雰囲気の圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでもよ い。
[0048] また、ポリイミド Aの前駆体であるポリアミド酸の有機溶剤溶液を、好ましくは離型性 を付与したガラス板、金属板などの平滑な支持体上に塗布 (キャスト)し、好ましくは 3 0〜400°Cに加熱して有機溶剤を蒸発除去とイミド化を行なう事によっても製造できる 。 30〜120°Cの温度で有機溶剤を蒸発させて自己支持性のフィルムとした後、該フ イルムを支持体より剥離し、該フィルムの端部を固定し、 180〜400°Cで乾燥、イミド 化してポリイミド Aフィルムを製造することが好ましい。乾燥雰囲気の圧力は、減圧、 常圧、加圧のいずれでもよい。
ポリイミド Aフィルムの厚さは、金属張積層体の接着層に用いる場合は、 1〜200 mが好ましぐ 2〜50 m力より好ましい。
[0049] 本発明の金属張積層体は、絶縁基材、金属層及びこれらの間に配置されたポリイミ ド Aからなる接着層を含む。
金属張積層体は、ポリイミド Aの有機溶剤溶液を絶縁基材及び金属層の一方又は 双方に塗布し、有機溶剤を 30〜400°Cで蒸発除去して接着層を形成した後、絶縁 基材と金属層を接着層を介して重ね合わせ、次いで熱圧着する方法、ポリイミド Aの 前駆体であるポリアミド酸の有機溶剤溶液を絶縁基材及び金属層の一方又は双方 に塗布し、 30〜120°Cで有機溶剤を一部蒸発除去した後、 180〜400°Cでイミドィ匕 して接着層を形成した後、絶縁基材と金属層を接着層を介して重ね合わせ、次いで 熱圧着する方法、又は、ポリイミド A溶液あるいはポリアミド酸溶液力 得られたポリイ ミド Aフィルムを絶縁基材と金属層との間に配置し、熱圧着する方法により製造するこ とができる。また、ポリイミド A溶液あるいはポリアミド酸溶液力も得られたポリイミド Aフ イルムの片面にスパッタリング、蒸着、無電解めつき等の方法で金属薄膜を直接形成 し、他方の面に絶縁基材を戴置し熱圧着する方法、及び、絶縁基材表面に接着層を 形成し、該接着層の表面に、スパッタリング、蒸着、無電解めつき等の方法で金属薄 膜を形成する方法によっても絶縁基材と金属層が強固に接着した金属張積層体を 製造することができる。接着層の厚さは、塗工のしゃすさ及び接着力の点から、好ま しくは 1〜: LOO μ m、より好ましくは 2〜50 μ mである。
[0050] 金属層は、電解、圧延等の方法により得られた金属箔により形成してもよいし、上記 したようにポリイミド Aフィルムの表面又は絶縁基材上に形成された接着層の表面に 直接形成してもよい。金属層の厚さは、特に制限がないが、取扱性、強度の点から、 1〜: LOO /z mの範囲が好ましい。金属層の材料は銅が好ましい。また、金属箔の片面 (接着面)又は両面を表面粗さ Rzが 0. 1〜12 /ζ πιになるように表面処理を施してもよ い。一般的にロープ口ファイルと呼ばれる銅箔などの金属箔の場合、 Rzは、ファイン ピッチ化、接着力の点から、好ましくは 0. l〜4 /z m、より好ましくは 0. l〜2 /z m、より 好ましくは 0. 4〜2 /ζ πι、さらに好ましくは 1. 0〜2 /ζ πιである。なお、接着用の表面 処理を施していない金属箔は、通常、表面が防鲭剤などで処理されていることが多 いので、アセトンその他の有機溶剤をしみ込ませた布などで表面を拭くなどした後に 用いることが好ましい。
[0051] 本発明の絶縁基材は、金属層を電気的に絶縁することができるものであれば特に 限定はない。また、絶縁基材にはフレキシブルタイプのものとリジッドタイプのものが あり、いずれも使用できる。絶縁基材の厚さは前記タイプにより異なる力 3〜2000 /z mが好ましい。フレキシブルタイプの絶縁基材としては、ポリイミド榭脂(ポリイミド A を除く)、ポリべンズイミダゾール、ポリべンズォキサゾール、ポリアミド (ァラミドを含む) 、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリエステル (液晶性ポリエステルを含む)、ポリ スルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトンな どのフィルムが挙げられる力 絶縁性、耐熱性の点で、好ましくはポリイミド榭脂(ポリ イミド Aを除く)フィルムであり、具体的には、商品名"カプトン EN"、 "カプトン V"、 "力 プトン H" (東レ ·デュポン (株)製)、商品名 "アビカル ΝΡΓ,、 "アビカル AH" ( (株)力 ネカ製)、商品名"ユーピレックス S" (宇部興産 (株)製)などが挙げられる。厚さは 特に制限されないが、 3〜150 /ζ πιが好ましぐ 7. 5〜75 mがより好ましい。
[0052] リジッドタイプの絶縁基材としては、ガラス板、セラミック板、プラスチック板等の絶縁 材板ゃ金属板に絶縁皮膜を形成したもの、液晶ポリマー、フエノール榭脂、エポキシ 榭脂等の熱可塑性や熱硬化性の各種榭脂を、ガラス繊維布、プラスチック繊維布や ガラス短繊維等の補強剤に含浸、混練させた成形体が挙げられる。厚さは特に制限 されない力 30〜2000 m力 子ましい。
[0053] 熱圧着の方法としては、通常、多段 (真空)プレス機による方法、加圧ロールなどを 使用した連続プレス法など適宜採用できる。
熱圧着の温度は、好ましくは 200〜400°C、より好ましくは 250〜350°Cであり、熱 圧着の圧力は、好ましくは 0. 01〜20MPa、より好ましくは 0. 1〜: LOMPaである。ま た、有機溶剤及び気泡を除くために減圧雰囲気で熱圧着することも好ま ヽ。
後述の JIS C6471の 90° 剥離による銅はくの剥離強度測定法に準じて測定した 本発明の金属張積層体の金属層の剥離強度は、 0. 5NZmm以上であれば実用に 供しうる力 0. 8NZmm以上であることが好ましい。
実施例
[0054] 以下、実施例により本発明を具体的に説明する。但し、本発明はこれらの実施例に より何ら制限されるものではない。
物性の測定方法を以下に示す。
[0055] (1) IRスペクトル
日本電子 (株)製 JIR— WINSPEC50を用いて測定した。
[0056] (2)対数粘度 7? 0. 5g/dLのポリイミドの N—メチル—2—ピロリドン溶液を調製した。 30°C恒温水 槽中、キャノンフェンスケ粘度計によってこの溶液の標線間の液面落下時間を計測し 、下式により求めた。
r? (dL/O. 5g) =ln (溶液落下時間 ZN—メチルー 2—ピロリドン落下時間) ZO
. 5
対数粘度はその値が固有粘度に近似しており、簡便に求められる。
[0057] (3)ガラス転移温度
DSC法により求めた。(株)島津製作所製 DSC— 50を用い、 40〜350°C、昇温 速度 10°CZminで測定して得られた中間点ガラス転移温度 Tmgをガラス転移温度 とした。
[0058] (4)ポリイミドの吸水率
IPC-TM-650 2. 6. 2. 1の方法に従って求めた。
50. 8mm X 50. 8mmのポリイミドフィルムを 120°Cで 1時間乾燥した後、重量 (W
0
)を測定した。このフィルムを 23°Cの蒸留水に 24時間浸漬し、表面の水分を拭き取つ た後速やかに重量 (W )
1 を測定した。
吸水率(%) = [ (w -w ) ÷w ] x 100
1 o o
[0059] (5)金属層の剥離強度
JIS C6471の 90° 剥離による銅はくの剥離強度測定法 (剥離強度測定用回転ド ラム型支持金具を用いた方法 A)に従って求めた。
[0060] (6)はんだ耐熱性
JIS C6471を参考〖こ、以下の試験を行なった。
金属張積層体から 10mm X 50mmの試験片を切り取り、湿度 50%、 23°Cの恒温室 中に 24時間放置した。次いで、はんだ浴に 20秒間浮かべた。温度は 260°C及び 28 0°Cで、それぞれ別々の試験片を使用した。膨れ、剥がれ等の外観異常が発生しな い場合を A、外観異常が発生した場合を Cとした。
[0061] (7)有機溶剤可溶性
前述の方法で目視による判定及び固形分濃度を測定し、固形分濃度が 5重量%を 超えるポリイミド Aの有機溶剤溶液を、前述の方法で目視による判定で、均相である ものを「良好」とし、析出物やゲルなどの明らかに溶液とは異なる成分が沈殿又は浮 遊するなどして、均相ではないものを「 X」とした。
[0062] 実施例 1
ステンレス製半月型攪拌翼、窒素導入管、冷却管を取り付けたディーンスターク、 温度計、ガラス製エンドキャップを備えた 300mLの 5ッ口ガラス製丸底フラスコ中で、 2, 2 ビス〔4一(4 アミノフエノキシ)フエ-ル〕プロパン(BAPP、和歌山精化工業( 株)製) 27. 46g (0. 06689モル)、 N—メチル—2 ピロリドン(NMP、三菱ィ匕学 (株 )製)50. OOg、及び触媒としてトリェチルァミン (TEA、関東化学 (株)製) 0. 34gを、 窒素雰囲気下、 lOOrpmで攪拌して溶液を得た。
これに 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物(HPMDA、三菱ガス 化学 (株)製) 13. 49g (0. 06020モル)、ピロメリット酸二無水物(PMDA、三菱ガス 化学 (株)製) 1. 46g (0. 00669モル)、 NMP13. 62gをそれぞれ一括でカ卩えた後、 マントルヒーターで加熱し、約 20分かけて反応系内温度を 200°Cまで上げた。留去 される成分を捕集しながら、反応系内温度を 200°Cに 5時間維持した。
N, N—ジメチルァセトアミド(DMAC) 96. 38gを添加後、 130°C付近で約 30分攪 拌して均一な溶液とし、 10分程度で 100°Cまで空冷し固形分濃度 20重量%のポリイ ミド A溶液を得た。この時にポリイミド A溶液を目視で観察したところ、均相な溶液であ り、溶質であるポリイミド Aの有機溶剤可溶性は良好であった。
[0063] 得られたポリイミド A溶液を離型剤が極少量散布された平滑なガラス板上にコータ 一で塗布した後、 100°Cのホットプレート上で 1時間加温して自己支持性フィルムを 形成した。ガラス板力も剥離したフィルムをステンレス製型枠にクリップで数箇所固定 した後、 200°Cの真空乾燥機中で 5時間放置して有機溶剤をほぼ完全に(1重量% 未満)除去し、ポリイミド Aフィルムを得た。このポリイミド Aフィルムの IR ^ベクトルを測 定したところ、 V (C = 0) 1776、 1706 (cm にイミド環の特性吸収が認められた。こ のポリイミド Aの対数粘度は 1. 09dLZg、ガラス転移温度は 266°C、吸水率は 1. 4 %であった。
[0064] 厚さ 25 μ mのポリイミド榭脂フィルム(商品名;カプトン 100EN、東レ 'デュポン社製 )を絶縁基材とし、片面に上記で得たポリイミド A溶液を塗布し、ホットプレート上で 10 0°C、 0. 5時間加熱後、真空乾燥機中で 200°C、 5時間乾燥し、絶縁基材上に厚さ 4 IX mの接着層を形成した。金属層として Rz = 3. 8 μ mの接着用表面粗化処理してな る厚さ 18 μ mの電解銅箔(品名; 3EC— VLP、三井金属鉱業 (株)製)を使用し、絶 縁基材上に形成した接着層上に粗化面を介して電解銅箔を重ねた。これをステンレ ス鏡面板で挟み、温度 330°Cの熱プレス機の熱盤間に入れて接触圧 (OMPa)にて 3 分間保持した後、 330°C、 5MPa、 5分間の条件で加熱圧着した。次いで、常温のプ レス機の熱盤間に入れて、 5MPa、 2分の条件で冷却し金属張積層体を得た。
得られた金属張積層体の金属層の剥離強度は 0. 85N/mm,はんだ耐熱性は A であった。
[0065] 実施例 2
実施例 1で使用したものと同様の 5ッロガラス製丸底フラスコ中で、 BAPP27. 51g (0. 06702モル)、 NMP50. OOg、及び触媒として TEAO. 34gを、窒素雰囲気下、 lOOrpmで攪拌して溶液を得た。
これに HPMDA10. 52g (0. 04691^/^) , PMDA4. 39g (0. 02011モル)、 N MP13. 62gをそれぞれ一括でカ卩えた後、マントルヒーターで加熱し、約 20分かけて 200°Cまで反応系内温度を上げた。留去される成分を捕集しながら、反応系内温度 を 200°Cに 5時間維持した。
DMAC96. 38gを添加後、温度 130°C付近で約 30分攪拌して均一溶液とし、 10 0°Cまで 10分程度で空冷し固形分濃度 20重量%のポリイミド A溶液を得た。この時 にポリイミド A溶液を目視で観察したところ、均相な溶液であり、溶質であるポリイミド A の有機溶剤可溶性は良好であった。
[0066] 得られたポリイミド榭脂溶液を用いた以外は実施例 1と同様にしてポリイミド榭脂フィル ムを得た。このポリイミド榭脂フィルムの IR ^ベクトルを測定したところ、 V (C = 0) 17 76、 1706 (cm にイミド環の特性吸収が認められた。このポリイミド榭脂の対数粘度 は 0. 96dLZg、ガラス転移温度は 277°C、吸水率は 1. 2%であった。
[0067] 厚さ 25 μ mのポリイミド榭脂フィルム(商品名;カプトン 100EN、東レ 'デュポン社製 )を絶縁基材とし、片面に上記で得たポリイミド A溶液を塗布し、ホットプレート上で 10 0°C、 0. 5時間加熱後、真空乾燥機中で 200°C、 5時間乾燥し、絶縁基材上に厚さ 4 μ mの接着層を形成した。金属層として Rz = 1. 5 μ mの接着用表面粗化処理してな る厚さ 9 mの電解銅箔(品名; F2—WS、古河サーキットフオイル (株)製)を使用し 、絶縁基材上に形成した接着層上に粗化面を介して電解銅箔を重ねた。これをステ ンレス鏡面板で挟み、温度 330°Cの熱プレス機の熱盤間に入れて接触圧 (OMPa) にて 3分間保持した後、 330°C、 5MPa、 5分間の条件で加熱圧着した。次いで、常 温のプレス機の熱盤間に入れて、 5MPa、 2分の条件で冷却し金属張積層体を得た 得られた金属張積層体の金属層の剥離強度は 0. 81NZmm、はんだ耐熱性は A であった。
[0068] 実施例 3
実施例 1で使用したものと同様の 5ッロガラス製丸底フラスコ中で、 BAPP22. 29g (0. 05429モル)、 m—キシリレンジァミン(MXDA、三菱ガス化学 (株)製) 3. 17g ( 0. 02327モル;)、 NMP50. OOgを、窒素雰囲気下、 lOOrpmで攪拌して溶液を得 た。
これに HPMDA15. 65g (0. 06980モル)、 PMDA1. 69g (0. 00776モル)、 N MP14. 19gをそれぞれ一括でカ卩えた後、マントルヒーターで加熱し、約 20分かけて 200°Cまで反応系内温度を上げた。留去される成分を捕集しながら、反応系内温度 を 200°Cに 6時間維持した。
DMAC95. 81gを添加後、温度 130°C付近で約 30分攪拌して均一溶液とし、 10 0°Cまで 10分程度で空冷し固形分濃度 20重量%のポリイミド A溶液を得た。この時 にポリイミド A溶液を目視で観察したところ、均相な溶液であり、溶質であるポリイミド A の有機溶剤可溶性は良好であった。
[0069] 得られたポリイミド A溶液を用いた以外は実施例 1と同様にしてポリイミド Aフィルムを 得た。このポリイミド Aフィルムの IR ^ベクトルを測定したところ、 V (C = 0) 1773、 17 05 (cm—1)にイミド環の特性吸収が認められた。このポリイミド Aの対数粘度は 0. 92d LZg、ガラス転移温度は 239°C、吸水率は 1. 7%であった。
得られたポリイミド A溶液を用いた以外は実施例 1と同様にして金属張積層体を得た 。得られた金属張積層体の金属層の剥離強度は 0. 93NZmm、はんだ耐熱性は A だった。
[0070] 比較例 1
実施例 1で使用したものと同様の 5ッロガラス製丸底フラスコ中で、 BAPP27. 71g (0. 06750モル)、 NMP50. 00g、及び触媒として TEAO. 34gを、窒素雰囲気下、 lOOrpmで攪拌して溶液を得た。
これに PMDA14. 72g (0. 06750モル;)、 NMP13. 65gをそれぞれ一括で加え た後、マントルヒーターで加熱し、反応系内温度を上げた。約 10分後に 170°Cとなつ たところで反応系内に固体が析出し、反応溶液は高粘度となった。反応系内温度を 200°Cまで上げたが析出物はなくならず、高粘度で攪拌不能となり、均相なポリイミド 榭脂溶液を得る事ができなカゝつた。
[0071] 比較例 2
実施例 1で使用したものと同様の 5ッロガラス製丸底フラスコ中で、 HPMDA22. 5 Og (0. 1004モル)、 NMP31. 42g、 DMAC20. 36g、及び触媒として TEAO. 51g を、窒素雰囲気下、 lOOrpmで攪拌して溶液を得た。
200mLビーカー中で、 80°C程度に加温した 4, 4'ージアミノジシクロへキシルメタ ン(DCHM、新曰本理ィ匕(株)製) 21. 12g (0. 1004モノレ)を NMP40. OOgに溶解 させ、 200mLの滴下ロートに NMP10. OOgと共に移した。 5ッロガラス製丸底フラス コのガラス製エンドキャップを取り外し、該 200mL滴下ロートを取り付け、約 2時間か けて滴下した。滴下終了後、 10分かけて内温を 90°Cとし、 90°Cを 5時間維持した。こ の後、マントルヒーターで加熱し、約 20分かけて反応系内温度を 180°Cまで上げた。 留去される成分を捕集しながら、反応系内温度を 180°Cに 2時間維持した。
DMAC58. 23gを添加後、 130°C付近で約 30分攪拌して均一な溶液とし、 10分 程度で 100°Cまで空冷し固形分濃度 20重量%のポリイミド榭脂溶液を得た。この時 にポリイミド榭脂溶液を目視で観察したところ、均相な溶液であり、溶質であるポリイミ ド榭脂の有機溶剤可溶性は良好であった。
[0072] 得られたポリイミド榭脂溶液を用いた以外は実施例 1と同様にしてポリイミド榭脂フィ ルムを得た。このポリイミド榭脂フィルムの IR ^ベクトルを測定したところ、 V (C = 0) 1 768、 1689 (cm にイミド環の特性吸収が認められた。このポリイミド榭脂の対数粘 度は 0. 49LZg、ガラス転移温度は 281°C、吸水率は 6. 5%であった。 得られたポリイミド榭脂溶液を用いた以外は実施例 1と同様にして金属張積層体を 得た。得られた金属張積層体の金属層の剥離強度は 0. 68NZmm、はんだ耐熱性 は Cだった。
[0073] 比較例 3
実施例 1で使用したものと同様の 5ッロガラス製丸底フラスコ中で、 BAPP27. 43g (0. 06682モル)、 γ—ブチ口ラタトン(GBL、三菱ガス化学 (株)製) 50. 89g、およ び TEAO. 34gを、窒素雰囲気下、 lOOrpmで攪拌して溶液を得た。
これに HPMDA14. 979g (0. 06682モル;)、 DMAC12. 72gをそれぞれ一括で 加えた後、マントルヒーターで加熱し、約 20分かけて反応系内温度を 180°Cまで上 げた。留去される成分を捕集しながら、反応系内温度を 180°Cに 6時間維持した。
DMAC96. 39gを添加後、 130°C付近で約 30分攪拌して均一な溶液とし、 100°C まで 10分程度で空冷し固形分濃度 20重量%のポリイミド榭脂溶液を得た。この時に ポリイミド榭脂溶液を目視で観察したところ、均相な溶液であり、溶質であるポリイミド 榭脂の有機溶剤可溶性は良好であった。
[0074] 得られたポリイミド榭脂溶液を用いた以外は実施例 1と同様にしてポリイミド榭脂フィ ルムを得た。このポリイミド榭脂フィルムの IR ^ベクトルを測定したところ、 V (C = 0) 1 774、 1706 (cm にイミド環の特性吸収が認められた。このポリイミド榭脂の対数粘 度は 1. OOdL/g,吸水率は 1. 6%であった。
得られたポリイミド榭脂溶液を用いた以外は実施例 1と同様にして金属張積層体を得 た。得られた金属張積層体の金属層の剥離強度は 0. 62NZmm、はんだ耐熱性は Aだった。
[0075] 比較例 4
実施例 1で使用したものと同様の 5ッロガラス製丸底フラスコ中で、 4, 4' ビス (4 —アミノフエノキシ)ビフエ-ル(BAPB、和歌山精化工業 (株)製) 26. 54g (0. 0720 3モル)、 NMP50. 00g、及び触媒として TEAO. 34gを、窒素雰囲気下、 lOOrpm で攪拌して溶液を得た。
これに HPMDA12. 92g (0. 05762モル)、 PMDA3. 14g (0. 01441モル)、 N MP13. 89gをそれぞれ一括でカ卩えた後、マントルヒーターで加熱し、反応系内温度 を上げた。約 10分後に 150°Cとなったところで反応系内に黄白色固体が析出した。 反応系内温度を 200°Cまで上げたが析出物はなくならず、そのまま 2時間維持したが 、均相にならな力つたので冷却した。均相なポリイミド榭脂溶液を得る事ができなかつ た。
[0076] 比較例 5
実施例 1で使用したものと同様の 5ッロガラス製丸底フラスコ中で、 BAPP10. 93g (0. 02662モル)、 4, 4,ージアミノジフエ-ルエーテル(ODA、和歌山精化工業 (株 )製)12. 44g (0. 06211モル)、 NMP50. 00g、及び触媒として TEAO. 41gを、窒 素雰囲気下、 lOOrpmで攪拌して溶液を得た。
これに HPMDA17. 90g (0. 07985モル)、 PMDA1. 94g (0. 00887モル)、 N MP14. 80gをそれぞれ一括でカ卩えた後、マントルヒーターで加熱し、約 20分かけて 反応系内温度を 180°Cまで上げた。留去される成分を捕集しながら、反応系内温度 を 180°Cに 5時間維持した。
DMAC95. 20gを添加後、 130°C付近で約 30分攪拌して均一な溶液とし、 100°C まで 10分程度で空冷し固形分濃度 20重量%のポリイミド榭脂溶液を得た。この時に ポリイミド榭脂溶液を目視で観察したところ、均相な溶液であり、溶質であるポリイミド 榭脂の有機溶剤可溶性は良好であった。
[0077] 得られたポリイミド榭脂溶液を用いた以外は実施例 1と同様にしてポリイミド榭脂フィ ルムを得た。このポリイミド榭脂フィルムの IR ^ベクトルを測定したところ、 V (C = 0) 1 776、 1707 (cm"1)にイミド環の特性吸収が認められた。このポリイミド榭脂の対数粘 度は 1. 05dLZg、吸水率は 3. 5%であった。
得られたポリイミド榭脂溶液を用いた以外は実施例 1と同様にして金属張積層体を得 た。得られた金属張積層体の金属層の剥離強度は 0. 28NZmm、はんだ耐熱性は Cだった。
[0078] [表 1] 第 1表
Figure imgf000028_0001
産業上の利用可能性
本発明のポリイミド樹脂は、有機溶剤可溶性で熱可塑性、低吸水性、高耐熱性及 び優れた接着性を示すことから、ポリイミド榭脂フィルム、接着剤及び該接着剤を用 いた金属張積層体に好適に用いられ、該金属張積層体は、プリント配線板、面発熱 体、電磁波シールド材料、フラットケーブルなどにカ卩ェされる。

Claims

請求の範囲 下記式(1)
(式(1)又は(2)中、 Xは炭素数が 2〜39の 2価の脂肪族基、炭素数が 3〜39の 2価 の脂環族基、炭素数が 6〜39の 2価の芳香族基又はこれらの組み合わせ力もなる 2 価の基であり、 Xの主鎖には、— O—、—SO―、 -CH―、— C (CH ) ―、— OSi (
2 2 3 2
CH ) ―、—C H O—及び— S—力 なる群力 選ばれた少なくとも 1種の結合基が
3 2 2 4
介在していてもよぐ Xはカルボキシル基、水酸基及びカルボニル基カゝらなる群から 選ばれた少なくとも 1種の官能基を有して 、てもよ 、)
で表される繰り返し単位とを含み、全 X中の下記式(3):
[化 3]
Figure imgf000029_0002
で表わされる基の割合が 50モル%以上(100モル%を含む)であるポリイミド榭脂。
[2] 吸水率が 2. 5%以下である請求項 1記載のポリイミド榭脂。
[3] 請求項 1又は 2記載のポリイミド榭脂と有機溶剤を含むポリイミド榭脂溶液。
[4] 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン酸、 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラ力 ルボン酸二無水物及び 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン酸の反応性誘導 体力もなる群力も選ばれた少なくとも 1種のテトラカルボン酸成分 (Y1)と、ピロメリット 酸、ピロメリット酸二無水物及びピロメリット酸の反応性誘導体からなる群から選ばれ た少なくとも 1種のテトラカルボン酸成分 (Y2)とからなるテトラカルボン酸成分 (Y)と、 NH -X-NHで表されるジァミンおよびその反応性誘導体力 なる群力 選ばれ
2 2
た少なくとも 1種であるジァミン成分中、 2, 2 ビス〔4一(4 アミノフエノキシ)フエ- ル〕プロパン及びその反応性誘導体力 なる群力 選ばれた少なくとも 1種 (Z1)の割 合が 50モル%以上(100モル%を含む)であるジァミン成分 (Z)を反応させる工程を 含む、下記式(1) :
[化 4]
Figure imgf000030_0001
で表される繰り返し単位と下記式(2):
[化 5]
Figure imgf000030_0002
(式(1)、(2)又は NH— X— NH中、 Xは炭素数が 2〜39の 2価の脂肪族基、炭素
2 2
数が 3〜39の 2価の脂環族基、炭素数が 6〜39の 2価の芳香族基又はこれらの組み 合わせからなる 2価の基であり、 Xの主鎖には、 O—、—SO―、 -CH―、— C (C
2 2
H ) ―、 -OSi(CH ) ―、― C H O—及び— S—力 なる群から選ばれた少なくと
3 2 3 2 2 4
も 1種の結合基が介在していてもよぐ Xはカルボキシル基、水酸基及びカルボ-ル 基力 なる群力も選ばれた少なくとも 1種の官能基を有していてもよい)
で表される繰り返し単位を含むポリイミド榭脂の製造方法。
[5] テトラカルボン酸成分 (Y)とジァミン成分 (Z)の反応を有機溶剤溶液中、触媒の存 在下又は不存在下、加熱下で行ってポリイミド榭脂溶液を得る請求項 4記載のポリイ ミド榭脂の製造方法。
[6] 触媒が第 3級ァミンである請求項 5記載のポリイミド榭脂の製造方法。
[7] 加熱を温度 180〜205°Cで 1〜12時間行う請求項 5記載のポリイミド榭脂の製造方 法。
[8] 1, 2, 4, 5 シクロへキサンテトラカルボン酸二無水物とピロメリット酸二無水物とか らなるテトラカルボン酸成分 (Y)と、請求項 4記載の NH -X-NH (Xは前記と同様
2 2
)で表され、 2, 2 ビス〔4一(4 アミノフエノキシ)フエ-ル〕プロパンを 50モル0 /0以 上(100モル%を含む)含有する少なくとも 1種のジァミン成分 (Z)とを反応させるェ 程を経て得られるポリアミド酸。
[9] 請求項 8記載のポリアミド酸と有機溶剤を含むポリアミド酸溶液。
[10] 請求項 8記載のポリアミド酸を 180〜400°Cでイミドィ匕して得られる請求項 1又は 2 記載のポリイミド榭脂。
[11] 請求項 1記載のポリイミド榭脂からなるポリイミド榭脂フィルム。
[12] 請求項 3記載のポリイミド榭脂溶液、又は請求項 4記載の製造方法により得られるポ リイミド榭脂の有機溶剤溶液を、支持体上にキャストし、有機溶剤を蒸発除去するェ 程を含む請求項 11記載のポリイミド榭脂フィルムの製造方法。
[13] 請求項 8記載のポリアミド酸力 なるポリアミド酸フィルム。
[14] 請求項 1記載のポリイミド榭脂を含む接着剤。
[15] 請求項 9記載のポリアミド酸溶液を支持体上にキャストし、有機溶剤を蒸発除去する 工程を含むポリアミド酸フィルムの製造方法。
[16] 請求項 15記載の製造方法により得られたポリアミド酸フィルムを支持体より剥離し、 該フィルムの端部を固定し、 180〜400°Cの温度とする工程を経るポリイミド榭脂フィ ルムの製造方法。
[17] 絶縁基材、金属層、及び該絶縁基材と金属層との間に配置された接着層を含む金 属張積層体であって、該接着層が請求項 1記載のポリイミド榭脂又は請求項 4記載の 製造方法により得られたポリイミド榭脂から形成される金属張積層体。
[18] 接着層を、請求項 3記載のポリイミド榭脂溶液又は請求項 5記載の製造方法により 得られたポリイミド榭脂溶液を絶縁基材及び金属層の一方又は双方に塗布し、次!、 で、有機溶剤を蒸発除去して形成する請求項 17記載の金属張積層体。
[19] 接着層を、請求項 11記載のポリイミド榭脂フィルム、又は請求項 12あるいは 16記 載の製造方法により得られたポリイミド榭脂フィルムにより形成する請求項 17記載の 金属張積層体。
[20] 接着層を、請求項 9記載のポリアミド酸溶液を絶縁基材及び金属層の一方又は双 方に塗布し、 30〜120°Cの温度として有機溶剤を一部蒸発除去後、 180〜400°C でイミド化して形成する請求項 17記載の金属張積層体。
[21] 金属層の、接着層に対向する面の表面粗さ Rzが 0. 1〜4 /ζ πιである請求項 17記 載の金属張積層体。
[22] JIS C6471の 90° 剥離による銅はくの剥離強度測定法により測定した金属層の 剥離強度が 0. 5NZmm以上である請求項 17記載の金属張積層体。
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