WO2006118348A1 - 潤滑剤組成物およびそれを塗布してなる物品、光ディスク用基板の成形スタンパ、光ディスク用基板の成形金型装置、光ディスク用基板の成形方法ならびに潤滑膜の形成方法 - Google Patents

Description

明 細 書 潤滑剤組成物およびそれを塗布してなる物品、 光ディスク用基板の成 形スタンパ、 光ディスク用基板の成形金型装置、 光ディスク用基板の成 形方法ならびに潤滑膜の形成方法 技術分野 この発明は、 潤滑剤組成物およびそれを塗布してなる物品、 光デイス ク用基板の成形スタンパ、 光ディスク用基板の成形金型装置、 光デイス ク用基板の成形方法ならびに潤滑膜の形成方法に関する。 背景技術 従来、 光ディスク用のディスク基板は、 例えば、 第 1 5図に示すよう な金型 1 0 1を備える成形装置にて成形される。 金型 1 0 1は、 例えば ステンレス鋼等の鉄系材料にてなる 2つの金型、 固定側金型 1 0 2およ び可動側金型 1 0 3を備え、 可動側金型 1 0 3は型開き可能であり、 固 定側金型 1 0 2の固定ミラ一 1 2 1には、 光ディスクのランド グルー ブまたはピット等の凹凸情報信号を転写するための凹凸形状を備えたス タンパ 1 2 2が設けられている。 また、 固定側金型 1 0 2内には、 ディ 'スク基板の材料である樹脂を注入するためのスプルブッシュ 1 2 3が形 成されている。

金型 1 0 1によるディスク基板の成形は、 例えば、 次のようにして行 われる。 固定ミラー 1 2 1にスタンパ 1 2 2を取り付けた後、 可動側金 型 1 0 3を固定側金型 1 0 2側に対して近接する方向に移動して金型 1 0 1を閉じる。 固定側金型 1 0 2と可動側金型 1 0 3との間に形成され る空隙部のキヤビティ 1 1 4ヘスプルブッシュ 1 2 3を介して樹脂を充 填し、 スタンパ 1 2 2に刻まれた凹凸形状を樹脂に転写する。 この凹凸 形状の転写後、 充填した樹脂を冷却し、 冷却後、 可動側金型 1 0 3の型 開きを行う。 この型開きの完了後、 ェジェクタ 1 3 0によってスプルブ ッシュ 1 2 3に存在する樹脂とキヤビティ 1 1 4によって成形され光デ イスク用ディスク基板となる成形体の突き上げを行い、 可動側金型 1 0 3から成形体を剥離させる。 このェジェクタ 1 3 0によるェジェクト動 作の終了後、 図示しない取出し機によりディスク基板を成形装置の外部 に移送する。

このような一連の成形工程の中で、 スプルプッシュ 1 2 3を介して溶 融樹脂がキヤビティ 1 1 4に充填される際、 スタンパ 1 2 2には、 樹脂 の粘性によりラジアル方向に働く引っ張り応力や、 加熱および冷却の繰 り返しにより温度による熱応力が作用する。 一方、 固定ミラ一 1 2 1に は、 樹脂の粘性による引張り応力および熱応力はほとんど作用しない。 したがって、 これらの応力により固定ミラ一 1 2 1とスタンパ 1 2 2と の間にはラジアル方向に摩擦力が発生し、 スタンパ 1 2 2と固定ミラー 1 2 1は、 互いの接触部分にて摩耗する。

この摩耗は、 凝着摩耗と呼ばれ、 固定ミラー 1 2 1の表面またはスタ ンパ 1 2 2の裏面を彫り起こす。 すなわち、 微視的にはスタンパ 1 2 2 および固定ミラ一 1 2 1の接触面は、 完全な平面ではなく、 互いの接触 面には凹凸が形成される。 この凹凸は、 ディスク基板の表面を凹凸にす るのみならず、 スタンパ 1 2 2と固定ミラ一 1 2 1の摩擦力を増大させ、 スタンパ 1 2 2の膨張収縮運動を妨げる。 このような状態で成形された ディスク基板は、 アドレスエラ一の原因となるアドレスピットの形状の 崩れやサーポエラーの原因となるランド Zグループの真円度の悪化を誘 発し、 それらが許容範囲を超えたディスク基板は不良品となり歩留りの 低下を招く。 ' そこで、 通常、 固定ミラ一 1 2 1にコ一ティングを施すことによって、 スタンパ 1 2 2と固定ミラ一 1 2 1との接触部分における摩擦力を低減 している。 このコーティングとしては、 ダイヤモンドと似た物性を有す る、 水素を含むアモルファスなカーボン膜の D L C (ダイヤモンド ' ラ イク ·力一ボン） コーティングが主流である。 DLCコーティングは、 窒化チタン （T i N) 等による従来のコーティングよりも、 凝着摩耗に よる摩擦力増大を抑えることができる。 例えば、 特開平 1 0— 64 1 2 7号公報の段落 〔0 045〕 には、 スタンパの金型との接触面に、 DL Cからなる硬質膜を形成することが記載されている。

ところで、 近年、 高密度な光ディスクが開発されている。 例えば、 3. 5インチ M〇 (Magnet Optical) ディスクでは、 磁気超解像 （MS R ： 'Magnetically induced Super Resolution) 技術とランド /クフレーブ併 用記録技術とを組み合わせて、 2. 3ギガパイ卜の記録容量を実現して いる。 また、 DVD (Digital Versatile Disc) では、 1 6倍速等の高 倍速の記録密度に亘つて記録再生が可能となっている。

これらのような高密度の光ディスク用のディスク基板を連続的に成形 する場合、 上述の凝着摩耗により、 スタンパによって転写される凹凸形 状が次第に悪化するため、 光ディスクの特性が所定のアドレスエラ一ま たはサ一ポエラーの許容範囲を超える前に、 スタンパの裏面を研磨する か、 スタンパそのものを交換する必要がある。 スタンパの研磨或いは交 換作業には、 時間がかかり生産性が著しく低下するため、 スタンパと金 型との間に生じる摩擦力を極力減らし、 スタンパの研磨或いは交換作業 を削減することが望まれる。

しかしながら、 上述のようにスタンパと金型との間に硬質膜を設けた だけでは、 スタンパと金型との間に生じる摩擦力の低減が不十分であつ た。 例えば上述の 3 . 5インチ M〇ディスクを成形する場合には、 2万 ショット、 すなわち 2万回の成形の近傍において光ディスクの特性がァ ドレスエラーの許容範囲を超えていた。

ワックス等の油脂や潤滑油を金型のスタンパと接する部分および/ま たはスタンパの金型と接する部分に塗布することによって、 スタンパと 金型との間に生じる摩擦力を低減することができる。

しかしながら、 ワックス等の油脂は、 熱に弱く、 長期に亘る高熱下で の安定性に欠け、 さらに加熱されることで含有する水分を放出し、 ス夕 ンパゃ金型に影響を与えてしまい、 成形体の品質の低下を招くという問 題点があった。 また、 ワックス等の油脂や潤滑油は、 金型の表面に均一 な厚みで塗布するのが困難であり、 再現性に欠けていた。 また、 ヮック ス等の油脂 潤滑油は、 粘性が強いことからゴミ等の異物が付着しやす く、 成形体の品質の低下を招くという問題点があった。

ところで、 スタンパと金型との間に生じる摩擦力を低減するための潤 滑剤には、 以下の特性が要求される。 すなわち、 （ 1 ) 外観上何も変化 なく、 乾燥状態にあること、 （2 ) 耐溶剤性を有すること、 （3 ) スタ ンパ裏面または信号ミラ一部を構成する材質に強固に吸着していること、 ( 4 ) 処理剤を塗布した後の表面粗度が変化しないこと、 （5 ) 耐熱性 を有すること、 （6 ) 高温度，高圧力の環境下で摩擦低減効果が持続す ることが要求される。 以下に、 これらの （ 1 ) 〜 （6 ) の特性について 詳しく説明する。

( 1 ) まず、 外観上何も変化なく、 乾燥状態にあることが要求される。 また、 スタンパ裏面全体がオイリーな湿潤状態にあると、 大気中のチリ やホコリが付着したり、 ハンドリング時に何らかの異物が付着したまま となるため好ましくない。 また、 湿潤状態にあるということはスタンパ 裏面上に液体上で存在することが考えられ、 成形の際に高圧力の影響で、 その処理剤が信号面へ回り込むことが予想され、 品質に悪影響を与える と考えられる。 更には成形機自体に付着してしまう恐れもあるために、 処理した表面は乾燥状態でなければならない必要がある。

( 2 ) また、 耐溶剤性を有することが要求される。 これは、 スタンパを 成形機金型に取り付ける際に、 スタンパ裏面および成形機金型信号ミラ —部を揮発性の有機溶剤で払拭クリーニングするからである。 これは一 般的に行われていることで、 異物挟み込みによるスタンパおよび光ディ スク基板の信号記録部分への形状転写防止目的および油汚れ除去目的で ある。 この時に用いられる揮発性溶剤は溶解性の高いアセトンやメチル ェチルケトン （M E K) 、 トルエンなどのケトン類、 エチルアルコール やイソプロピルアルコール （ I P A ) 等のアルコール類が一般的である。 中でもアセトン、 メチルェチルケトン （M E K ) が多く用いられている。 この溶解性の高い溶剤で払拭すると大抵の界面活性剤や潤滑剤、 樹脂剤 などは溶解され、 塗布または処理した表面から消失してしまう。 よって、 これらの溶剤に不溶解性の処理剤を選択しなければならない。

( 3 ) 更に、 スタンパ裏面または信号ミラ一部を構成する材質に強固に 吸着していることが要求される。 溶解性の問題もあるが、 表面に均一か つ化学吸着していることが要求される。 摩擦低減効果のあるシリコーン 樹脂やフッ素系樹脂を用いた場合、 これらの樹脂材料はスタンパ裏面や 信号ミラー部に物理吸着しかしないため、 払拭した時点で容易に拭き取 られてしまい、 均一な膜を保持できないばかりか、 相対するものへ処理 剤が転写してしまい、 効用の持続性がない。

( 4 ) 更にまた、 処理剤を塗布した後の表面粗度が変化しないことが要 求される。 表面粗度が劣化すれば、 高温度 ·高圧力の環境下で、 悪化し た粗度がスタンパや光ディスク基板の信号記録部分へ形状転写して悪影 響を及ぼす恐れがある。 かなりの摩擦低減効果が得られる P T F E (四 フッ化工チレン） やグラフアイト系 ·二硫化モリブデン系固体潤滑剤な どは表面粗度を悪化させることが多く、 実用化は難しい。 また、 固体潤 滑剤などは均一な膜の厚みをコントロールするのが難しいこともあり、 かなりの表面粗度が要求される光ディスク成形に用いることは難しい。 更にグラフアイ ト系ゃ二硫化モリブデン系は基本的に粉末状であるため に処理した表面から粉落ちが生じ、 品質上使用は不可能である。

( 5 ) また、 耐熱性を有することが要求される。 光ディスク基板を成形 する際に約 4 0 0 °C近い樹脂がスタンパに射出される。 この時、 スタン パ裏面と信号ミラ一部は瞬時に冷却されるが、 光ディスク基板の成形は 連続的に行われるために約 2 0 0 °C近い温度が高圧力下で継続的にかか る。 殆どの界面活性剤や樹脂などはこの環境温度では熱分解等により摩 擦低減効果が失われる。

( 6 ) 更に、 高温度 ·高圧力の環境下で摩擦低減効果が持続することが 要求される。 この特性を満たすことが、 スタンパと金型との間に生じる 摩擦力を低減するための潤滑剤には最も重要となる。 光ディスクの製造 に関わらず、 製造現場において設備稼働率はコス卜面で非常に重要であ る。 設備を停止すればメンテナンス等によって、 異物巻き込みなど人的 ミス要因も増加し、 結果的に光ディスクの歩留まり'にも影響してくる。 望ましいのは、 出来る限り連続で設備を停止することなく生産すること である。

しかしながら、 この発明の分野における当業者の知見をもってすれば 明らかなように、 上述の （ 1 ) 〜 （6 ) の特性を満たすような潤滑剤を 見出すことは極めて困難である。 そこで、 上述の （ 1 ) 〜 （6 ) の特性 を満たすような潤滑剤の実現が待望されていた。

更に言えば、 近年では、 D V Dなどの高密度光記録媒体の生産性向上 や、 B Dなどの次世代高密度光記録媒体の量産が強く望まれており、 こ うした状況下にあって、 上述の （ 1 ) 〜 （6 ) の特性を満たす潤滑剤の 実現が熱望されていた。

したがって、 この発明の目的は、 外観上何も変化なく、 乾燥状態にあ り、 耐溶剤性を有し、 スタンパ裏面または信号ミラ一部などを構成する 材質に強固に吸着し、 処理剤を塗布した後の表面粗度が変化せず、 耐熱 性を有し、 高温度 ·高圧力の環境下で摩擦低減効果が持続する潤滑剤組 成物、 それを塗布してなる物品、 光ディスク用基板の成形スタンパ、 お よび光ディスク用基板の成形金型装置、 並びにそれを用いた光ディスク 用基板の成形方法ならびに潤滑膜の形成方法を提供することにある。 また、 この発明の目的は、 耐熱性に優れ、 金型とスタンパとの間の摩 擦力を低減する良好で再現性のよい潤滑膜を設けることができ、 それに よって、 光ディスクの品質および生産性を向上すると共に製造コストを 抑えることができる潤滑剤組成物、 それを塗布してなる物品、 光デイス ク用基板の成形スタンパ、 および光ディスク用基板の成形金型装置、 並 びに'それを用いた光ディスク用基板の成形方法ならびに潤滑膜の形成方 法を提供することにある。 発明の開示 本発明者は、 従来技術が有する上述の課題を解決すべく、 鋭意検討を 行った。 以下にその概要を説明する。

本発明者らが実験により鋭意検討を重ねたところ、 従来、 潤滑剤とし て用いられているものでは、 上述の （ 1 ) 〜 （6 ) の特性を満たすよう なものは見出すことが全ぐできなかった。 そこでは、 本発明者らは、 さ らに鋭意検討を重ねたところ、 光記録媒体とは全く異なる分野において、 以下の材料を見出すに至った。

すなわち、 パブルジェット方式のインクジエツトプリンタ用インク組 成物に添加剤として用いられる燐酸エステルを見出すに至った。 本発明 者の知見によれば、 この燐酸エステルは、 インク組成物に添加すると、 以下のような作用効果を奏するものと考えられる。 インクジェットプリ ン夕では、 液滴を形成するヒー夕自体が主にタンタル金属で構成され、 高温がそのタンタル材質の金属ヒータにかかるために、 コゲーションと 呼ばれる問題が発生する。 いわゆる金属表面にインク組成物が焦げとし て付着する現象で、 このコゲ一シヨンが温度を遮り、 液滴形成ができな くなる原因になる。 インク組成物としてインクに燐酸エステルを添加す ることで、 ヒータがインクを介して燐酸エステルにより表面処理される。 この際、 燐酸エステルは、 ヒー夕表面に化学吸着していると考えられる。 これによつて、 燐酸エステルが有する耐熱性の効果がヒータ表面におい て発現し、 コゲーシヨン防止効果が得られる。

そこで、 本発明者らが、 この添加剤としての燐酸エステルについて、 実験により更に鋭意検討を重ねた結果、 燐酸エステルを従来のように添 加剤として用いるのではなく、 燐酸エステルそれ自体を潤滑剤として用 いることで、 上述の （1 ) 〜 （6 ) の特性を満たすことができることを 見出すに至った。 より具体的には、 溶剤により希釈した燐酸エステルを 信号ミラ一面ゃスタンパ裏面に塗布などすることで、 上述の （ 1 ) 〜 ( 6 ) の特性を満たすことができることを見出すに至った。

更に、 燐酸エステルについて、 本発明者らが鋭意検討を重ねた結果、 分子構造をパ一フルォロ化したフッ素変性タイプを用いれば、 燐酸エス テルよりも高い摩擦低減効果と耐溶剤性を確保することができることを 見出すに至った。

この発明は以上の検討に基づいて案出されたものである。 上述の課題を解決するために、 第 1の発明は、 燐酸エステル類を含有 する、 極圧環境耐久性を有する潤滑剤組成物である。

第 2の発明は、 燐酸エステル類を含有する、 極圧環境耐久性を有する 潤滑剤組成物が被覆されてなる物品である。

第 3の発明は、. 金型が有するミラ一面と接触する裏面に、 燐酸エステ ル類を含有する潤滑膜を有する光ディスク用基板の成形スタンパである。 第 3の発明では、 潤滑膜形成剤が燐酸エステル類を含有することによ り、 スタンパに形成された潤滑膜が耐熱性に優れたものとなる。

第 4の発明は、 スタンパが取り付けられるミラー面を有する金型と、 ミラー面に設けられた燐酸エステル類を含有する潤滑膜と

を有する光ディスク用基板の成形金型装置である。

第 4の発明では、 潤滑膜形成剤が燐酸エステルを含有することにより、 ミラ一面に形成された潤滑膜が耐熱性に優れたものとなる。

第 5の発明は、 燐酸エステル類を含有する潤滑膜形成剤を基材に塗布 する塗布ステップと、

塗布ステップにより基材に塗布された潤滑膜形成剤を、 潤滑膜形成剤 が不溶解性を有する溶剤によって拭き取る拭き取りステップと

を有する潤滑膜の形成方法である。

第 5の発明では、 基材に潤滑膜形成剤を塗布することによって、 潤滑 膜形成剤が基材に化学吸着すると推測される。 潤滑膜形成剤が燐酸エス テル類を含有することにより、 耐熱性に優れた潤滑膜を基材に形成でき る。

第 6の発明は、 金型のスタンパとの接触部および Zまたは上記スタン パの上記金型との接触部に、 燐酸エステル類を含有する潤滑膜を形成す る成膜ステップと、

上記金型に上記スタンパを取り付ける取り付けステツプと、 上記取り付けステップによって上記スタンパが取り付けられた上記金 型に材料を充填してディスク基板を成形する成形ステップと

を有する光ディスク用基板の成形方法である。

第 6の発明では、 金型のスタンパとの接触部およびノまたはスタンパ の金型との接触部に潤滑膜形成剤を塗布することによって、 金型のスタ ンパとの接触部および/またはスタンパの金型との接触部に潤滑膜形成 剤が化学吸着すると推測される。 潤滑膜形成剤が燐酸エステル類を含有 することによって、 耐熱性に優れた潤滑膜が金型のスタンパとの接触部 およびノまたはスタンパの金型との接触部に形成される。

第 6の発明では、 燐酸エステル類は、 燐酸モノエステル、 燐酸ジエス テルおょぴ燐酸トリエステルのうち少なくとも 1つを含有することが好 ましい。

第 6の発明では、 塗布ステップ前に、 金型のスタンパとの接触部およ び Zまたはスタンパの金型との接触部に硬質膜を形成することが好まし い。

第 6の発明では、 取り付けステップ前に、 塗布ステップによって塗布 された潤滑膜形成剤の厚みを均一にすることが好ましい。 さらには、 潤 滑膜形成剤が不溶解性を有する溶剤により、 塗布ステップによって塗布 された潤滑庳形成剤の表面を拭き取ることによって、 潤滑膜の厚みを均 一化することが好ましい。 これによつて、 潤滑膜の厚みが薄く均一に且 つ再現性よく形成され、 さらに潤滑膜形成剤の塗布むら、 塗布面に付着 したゴミ等の異物が取り除かれる。

この発明によれば、 金型とスタンパとの間の摩擦力を大幅に低減する ことができ、 良好な凹凸が形成された光ディスク用の基板を製造できる。 これによつて、 光ディスクの品質および生産性を向上できる。 また、 ス タンパの裏面の摩耗が減るため、 スタンパの寿命が向上し、 製造コスト を抑えることができる 図面の簡単な説明 第 1図は、 この発明の第 1の実施形態による成形金型装置の一構成例 を示す断面図、 第 2図は、 この発明の第 1の実施形態による成形金型装 置の "^構成例を示す拡大断面図、 第 3図は、 固定ミラーの表面近傍部を 示す拡大断面図、 第 4図は、 境界潤滑膜の吸着状態を示す一例の図、 第 5図は、 この発明の第 1の実施形態による成形金型装置の一構成例を示 す拡大断面図、 第 6図は、 第 5図に示した固定ミラー 2 1の表面近傍 A の拡大図、 第 7図は、 摩擦試験機による摩擦係数の算出を説明するため の図、 第 8図は、 境界潤滑膜がないときのピット形状を示す図、 第 9図 は、 境界潤滑膜がないときのピット形状の信号を示す図、 第 1 0図は、 境界潤滑膜が有るときのピット形状を示す図、 第 1 1図は、 境界潤滑膜 が有るときのピット形状の信号を示す図、 第 1 2図は、 境界潤滑膜がな いときのトラッキングエラー信号を示す図、 第 1 3図は、 境界潤滑膜が 有るときのトラッキングエラー信号を示す図、 第 1 4図は、 連続して成 形したときのトラッキングエラ一を示す図、 第 1 5図は、 従来の光ディ スク基板成形用の金型の一構成例を示す断面図である。 発明を実施するための最良の形態 以下では、 この発明を潤滑剤組成物に適用した例について説明する。 なお、 以下の実施形態の全図においては、 同一または対応する部分には 同一の符号を付す。

( 1 ) 第 1の実施形態 (成形金型装置の構成） ' 第 1図は、 この発明の第 1の実施形態による成形金型装置 1 1の一構 成例を示す断面図である。 第 2図は、 この発明の第 1の実施形態による 成形金型装置 1 1の一構成例を示す拡大断面図である。

第 1図に示すように、 この成形金型装置 1 1は、 固定側金型 1 2と、 可動側金型 1 3とを備え、 これらの固定側金型 1 2と、 可動側金型 1 3 とを突き合わせることにより成形空間であるキヤビティ 1 4が形成され る。 この成形金型装置 1 1では、 溶融したディスク基板材料をキヤビテ ィ 1 4に充填してディスク基板 1 0を成形する。

固定側金型 1 2は、 可動側金型 1 3と対向する側の面に固定ミラー 2 1を備え、 キヤビティ 1 4を形成する側の面にスタンパ 2 2が取り付け られる。 このスタンパ 2 2は、 中央部に開口を有する円環状であり、 こ のスタンパ 2 2の一主面 2 2 aには、 ランド ダル一ブまたはピット等 に対応した凹凸が形成されている。 スタンパ 2 2は、 一主面 2 2 a側が 可動側金型 1 3と対向するようにして固定側金型 1 2の固定ミラ一 2 1 に装着される。 固定ミラ一 2 1のミラ一面上には、 硬質膜 2、 境界潤滑 膜 1が順次積層されている。 境界潤滑膜 1および硬質膜 2については、 後述する。

固定側金型 1 2の略中心部には、 スプルブッシュ 2 3が設けられてい る。 このスプルブッシュ 2 3の中心には樹脂射出孔 2 4が設けられてい る。 この樹脂射出孔 2 4は、 材料供給装置 （図示せず） と連結されてい る。 樹脂射出孔 2 4を介して材料供給装置からキヤビティ 1 4内に溶融 したディスク基板材料が供給される。

また、 スプルブッシュ 2 3と固定ミラー 2 1との間には、 スタンパガ イド 2 5が設けられている。 このスタンパガイド 2 5は、 スタンパ 2 2 を固定ミラー 2 1に対して装着するとき、 スタンパ 2 2の内周部をガイ ドするためのものである。

一方、 可動側金型 1 3は、 固定側金型 1 2に対して対向して配置され るとともに、 先端にポールべァリング 1 6が設けられたガイドポール 1 5により固定側金型 1 2に対して近接離間自在とされている。 可動側金 型 1 3は、 固定側金型 1 2と対向する側の面に可動ミラ一 3 1を備える。 可動側金型 1 3は、 その略中心部に、 キヤビティ 1 4内で固化されたデ イスク基板 1 0の中心部を切断するゲートカツトパンチ 3 2と、 このゲ —トカットパンチ 3 2により切断された中心部を押し出す押出ピン 3 3 と、 ディスク基板 1 0を可動側金型 1 3より離型させる可動側ェジェク 夕 3 4とを備える。

このゲートカツトパンチ 3 2は、 スプルブッシュ 2 3からキヤビティ 1 4内に供給されて固化されたディスク基板材料のうちランナ一部等を 切断するものであり、 光ディスクのセンターホールと略同一寸法の外径 を有している。 このゲートカットパンチ 3 2は、 図示しないガイド手段 や駆動手段によりキヤビティ 1 4内に突き出す方向に移動可能とされて いる。

ゲ一トカツトパンチ 3 2とスプルブッシュ 2 3とのセンタリングは、 上述したポールベアリング 1 6を備えたガイドポール 1 5により行われ る。

押出ピン 3 3は、 棒状の形状を有し、 ゲートカツ卜パンチ 3 2の中心 部に配置される。 この押出ピン 3 3は、 図示しないガイド手段や駆動手 段によりキヤビティ 1 4内に突き出す方向に移動可能とされ、 上述した ゲ一卜カツ卜パンチ 3 2により切断された部分を除去する。 したがって、 キヤビティ 1 4内に充填されたディスク基板材料が固化した後、 この押 出ピン 3 3を押し出すことにより、 ランナー部とスプルとを、 すなわち、 ランナー部とスプルブッシュ 2 3の供給部に溜まったディスク基板材料 とを除去することができる。

可動側ェジェクタ 34は、 ゲートカツトパンチ 32の外径と略同寸法 の内径を有する筒状を呈して構成され、 ゲ一卜カットパンチ 3 2を囲む ように配設されている。 この可動側ェジェクタ 34は、 図示しないガイ ド手段や駆動手段によりキヤビティ 1 4内に突き出す方向に移動可能と される。 したがって、 キヤビティ 14内にディスク基板材料が充填され、 上述したようにディ.スク基板 1 0のセンタ一ホールが形成された後、 こ の可動側ェジェクタ 34がディスク基板 1 0の内周側を押圧して可動側 金型 1 3からディスク基板 1 0を離型させる。

(境界潤滑膜）

ここで、 上述の境界潤滑膜 1について詳細に説明する。 第 3図は、 第 2図に示した固定ミラー 2 1の表面近傍部 Aの拡大図である。 境界潤滑 膜 1の表面は、 スタンパ 2 2の裏面と同じ平面形状を有しており、 固定 ミラ一 2 1のミラ一面の少なくともスタンパ 2 2と接する部分に均一な 厚みで形成されている。 固定ミラ一 2 1のミラ一面の少なくともスタン パ 2 2と接する部分には、 DL C (ダイヤモンド · ライク ·カーボン） コーティングにより硬質膜 2が形成されており、 その硬質膜 2の表面に 境界潤滑膜 1が設けられている。

この第 1の実施形態では、 表面の摩擦係数が低減されることから、 硬 質膜 2の材質として D L Cを使用しているが、 窒化チタン （T i N) 、 窒化クロム （C r N) 、 炭窒化チタン （T i CN) 、 窒化チタンアルミ (T i A I N) 、 夕イクロン （T i C r N) 等の他の高硬度な材料を用 いることもできる。 また、 硬質膜 2を形成せず、 固定ミラー 2 1のミラ 一面に直接境界潤滑膜 1を設けてもよい。

第 4図は、 境界潤滑膜 1の吸着状態を説明するための図である。 境界 潤滑膜 1は、 硬質膜 2が形成された固定ミラー 2 1のミラ一面に化学的 に吸着していると推測される。 硬質膜 2が形成された固定ミラ一 2 1の ミラー面に境界潤滑膜剤が塗布され、 吸着サイト 3が境界潤滑膜剤によ つて埋まると、 それ以上は境界潤滑膜剤が吸着しないと考えられる。 こ れにより、 吸着していない境界潤滑膜剤を取り除くことによって、 境界 潤滑膜 1を、 例えば 1 0 nm〜5 0 nm程度と推測される。 また、 境界 潤滑膜 1は、 硬質膜 2が形成された固定ミラー 2 1のミラ一面上に形成 しても、 固定ミラー 2 1のミラ一面の表面粗さが悪化しないように構成 されている。

境界潤滑膜 1は、 燐酸エステル類を含有する境界潤滑膜剤によって構 成されている。 燐酸エステル類は、 例えば、 燐酸モノエステル、 燐酸ジ エステルおよび燐酸トリエステルの混合物である。 燐酸エステル類は、 耐熱性が優れており、 主として難燃剤など耐熱性が必要とされるものへ の添加に使用されている。 より具体的には、 燐酸エステル類は、 インク ジエツトプリン夕で使用される印刷ィンキ等の分散剤として使用されて いる。

例えば、 境界潤滑膜 1は、 以下の化学式 （ 1) および化学式 （2) と、 化学式 （3) とにそれぞれ示す、 燐酸モノエステルおよび燐酸ジエステ ルと、 微量な燐酸トリエステルとを含有する境界潤滑膜剤によって構成 されている。 化学式中における nは、 酸化エチレン （EO) の平均付加 モル数であり、 Rは、 アルキル基またはアルキルァリル基であり、 R ' は、 H、 N aまたは K等の金属塩または R (CH₂CH₂0) _n基である。 アルキル基 Rは、 R = C_mH_{2m+ 1}である。 式中の mは炭素数である。 例えば、 m= 6〜 1 8、 n = 0〜 1 0から選定される。

n：酸化エチレンの平均付加モル数

R：アルキル基またはアルキルァリル基

R'： Hまたは Na, K等の金属塩 または R(CH₂CH₂0)n基

n:酸化エチレンの平均付加モル数 R:アルキル基またはアルキルァリル基

n：酸化エチレンの平均付加モル数 R：アルキル基またはアルキルァリル基 なお、 境界潤滑膜剤は、 上述した化学式 （1 ) 、 化学式 （2 ) および 化学式 （3 ) にそれぞれ示す、 燐酸モノエステル、 燐酸ジエステルおよ ぴ燐酸トリエステルのうち、 少なくとも 1つを含有するものであっても よい。 これら境界潤滑膜剤によって境界潤滑膜 1を構成することにより、 耐熱性に優れ、 長期間に亘つて成分の安定性を保持することが ？きると 共に、 水分の含有が防止され、 加熱による水分の放出がほとんどない境 界潤滑膜 1を形成することができる。

(境界潤滑膜の形成方法）

次に、 境界潤滑膜 1の形成方法の一例について説明する。 まず、 溶剤 によって境界潤滑膜剤を適度な濃度に希釈して調合する。 溶剤としては、 境界潤滑膜剤を溶解可能なものであれば特に限定されるものではなく、 例えば、 トルエン、 ベンゼン、 メチルェチルケトン （M E K ) 等の有機 溶剤を用いることができる。 次に、 調合された境界潤滑膜剤をウェス等 の塗布具によつて固定ミラ一 2 1に塗布 （コーティング） する。 次に、 境界潤滑膜剤が不溶解性を有する溶剤によって塗布された境界潤滑膜剤 を拭き取る。 例えば、 この拭き取りは、 境界潤滑膜剤が不溶解性を有す る溶剤をウェス、 ベンコット等の綿材質や化学繊維に染み込ませ、 塗布 された境界潤滑膜剤を払拭することによってなされる。 この溶剤は、 固 定ミラ一 2 1および Zまたはスタンパ 2 2の洗浄に広く使用されている ものが好ましく、 例えばアセトン、 エタノール、 またはこれらの混合剤 である。

この拭き取りによって、 塗布面のゴミ等の異物を効率良く取り除くこ とができると共に、 塗布むらとなっている境界潤滑膜剤を取り除くこと ができ、 非常に薄く異物のない良好な境界潤滑膜 1を固定ミラー 2 1上 に形成できる。 すなわち、 従来、 油脂や潤滑油を固定ミラー 2 1の表面 に塗布する場合、 固定ミラ一 2 1の表面に均一な厚みで塗布することが 困難であり、 再現性に欠けていたが、 この拭き取りによって均一な厚み で再現性よく境界潤滑膜剤を固定ミラ一 2 1に塗布することができる。 また、 従来、 油脂や潤滑油は、 粘性が強く、 固定ミラー 2 1の表面に塗 布すると、 ゴミ等の異物が付着しやすくなつていたが、 境界潤滑膜剤は、 粘性が低いため、 ゴミ等の異物が付着しにくく、 さらに、 この拭き取り によって、 コーティング面に付着したゴミ等の異物を取り除くことがで きる。

(ディスク基板の成形方法）

次に、 成形金型装置 1 1によるディスク基板 1 0の成形方法の一例に ついて説明する。 まず、 可動側金型 1 3を固定側金型 1 2に対して近接 する方向に移動し、 固定側金型 1 2と可動側金型 1 3とを突き合わせて キヤビティ 1 4を形成する。 次に、 キヤビティ 1 4内に溶融したデイス ク基板材料を充填する。 このディスク基板材料としては、 例えば、 ポリ カーボネート等の合成樹脂材料を用いることができる。 このディスク基 板材料は、 材料供給装置内で加熱され溶融状態とされ、 樹脂射出孔 2 4 を供給路としてキヤビティ 1 4内に供給される。

次に、 キヤビティ 1 4内に充填されたディスク基板材料を冷却して固 化させるとともに、 当該ディスク基板材料に対して型締めを行う。 なお、 ディスク基板材料に対して型締めを行う際には、 可動側金型 1 3を固定 側金型 1 2に対してさらに近接する方向に移動させる。 これにより、 キ ャビティ 1 4内に充填されたディスク基板材料は加圧されることとなり、 スタンパ 2 2の一主面 2 2 aに設けられた凹凸が確実に転写される。 次に、 ディスク基板材料が十分に冷却されて固化した後、 ゲートカツ トパンチ 3 2を固定側金型 1 2に対して近接する方向、 すなわち、 キヤ ビティ 1 4内に突き出す方向に移動させる。 ゲートカットパンチ 3 2を キヤビティ 1 4内に突き出す方向に移動させることによって、 固化した ディスク基板材料のうちランナー部およびスプル部を切断することがで きる。 これにより、 キヤビティ 1 4の内部に充填されたディスク基板材 料が固化された後、 中央部に開口が形成されることとなる。

次に、 可動側金型 1 3を固定側金型 1 2から離間する方向に移動させ る。 これにより、 固化したディスク基板 1 0は、 固定側金型 1 2に取り 付けられたスタンパ 2 2から離間することとなり、 一主面を外側に露出 することとなる。

次に、 押出ピン 3 3をキヤビティ 1 4内に突き出す方向に移動させる ことにより、 上述のゲ一トカツトパンチ 3 2により切断された部分を除 去する。 次に、 可動側ェジェクタ 3 4をキヤビティ 1 4内に突き出す方 向に移動させることにより、 ディスク基板 1 0の内周部を押圧して可動 側金型 1 3からディスク基板 1 0を離型させる。 以上の工程により、 デ イスク基板 1 0が成形される。

キヤビティ 1 4内に射出されたときのディスク基板材料の温度は、 約 3 6 0 °C〜 3 9 0 °Cである。 燐酸エステル類は、 このような高温であつ ても潤滑性を有するため、 スタンパ 2 2の膨張伸縮運動時に生じる摩擦 力が境界潤滑膜 1によって低減され、 スタンパ 2 2および固定ミラー 2 1の変形を防止できる。 - また、 ディスク基板 1 0の成形時において、 キヤビティ 1 4内に充填 されるディスク基板材料の粘性による引っ張り応力や、 繰り返し作用す る加熱および冷却の温度による熱応力により、 スタンパ 2 2はラジアル 方向へ伸縮する。 このとき、 固定ミラ一 2 1に設けられた境界潤滑膜 1 がラジアル方向へのスタンパ 2 2の伸縮時の摩擦力を低減して、 スタン パ 2 2および固定ミラー 2 1の変形を防止できる。

スタンパ 2 2および固定ミラ一 2 1の変形が防止されるため、 スタン パ 2 2の凹凸形状が良好に転写されたディスク基板 1 0が成形できる。 このようにして成形されたディスク基板 1 0は、 M Oディスク、 D V D 等の光ディスク用のディスク基板として使用される。

( 2 ) 第 2の実施形態

(成形金型装置の構成)，

第 5図は、 この発明の第 2の実施形態による成形金型装置の一構成例 を示す拡大断面図である。 第 6図は、 第 5図に示した固定ミラ一 2 1の 表面近傍 Aの拡大図である。 第 5図および第 6図.に示すように、 固定ミ ラー 2 1のミラ一面には境界潤滑膜 5 1が設けられ、 スタンパ 2 2の信 号面とは反対側の裏面には境界潤滑膜 5 2が設けられている。 この第 2 の実施形態による成形金型装置の構成は、 境界潤滑膜 5 1、 5 2以外の ことは上述の第 1の実施形態と同様であるので、 以下では境界潤滑膜 5 1、 5 2について説明する。

境界潤滑膜 5 1、 5 2は、 1または 2種以上の燐酸エステル類を含有 する。 燐酸エステル類としては、 例えば、 燐酸モノエステル、 燐酸ジェ ステル、 燐酸トリエステルを用いることができ、 分子構造をパ一フルォ 口化したフッ素変性燐酸エステルを用いることが好ましい。 フッ素変性 燐酸エステルは、 燐酸モノエステル、 燐酸ジエステルおよび燐酸トリェ ステルに比べてスタンパライフを大幅に延長することができるからであ る。 なお、 この明細書中おいてライフとは、 本来のスタンパ寿命ではな く、 1回の成形稼動でマシンを停止することなく連続で稼動し続ける光 ディスク成形枚数、 すなわちショット数のことを示す。

燐酸エステルは、 例えば、 化学式 1に示す燐酸モノエステル、 および、 化学式 2に示す燐酸ジエステルを主成分とする燐酸エステル類であり、 更に、 化学式 3に示す微量の燐酸トリエステルを含むようにしてもよい。 また、 フッ素変性燐酸エステルとしては、 例えば化学式 4に示すものを 用いることが好ましい。 一般的な燐酸エステルは p Hが酸性であるが、 分子中に燐酸基を持っており、 多くの塩基性化合物や金属類等により適 当な p Hに中和して用いることも可能である。 燐酸エステル類は、 耐熱 性が優れており、 主として難燃剤等耐熱性が必要とされるものへの添加 に使用されている。 より具体的には、 燐酸エステル類は、 インクジエツ トプリン夕で使用される印刷ィンキ等の分散剤として使用されている。

n:酸化エチレンの平均付加モル数

R：アルキル基またはアルキルァリル基

R' :Hまたは Na, K等の金属塩

または R(CH2CH₂0)n基

n：酸化エチレンの平均付加モル数

R：アルキル基またはアルキルァリル基

n：酸化エチレンの平均付加モル数

：アルキル基またはアルキルァリル基

(CF₂CF₂CF₂0) _n - CFつ CF₂CH₂0] _m— PO (OH)

(スタンパの作製方法）

以下に、 マスタースタンパの作製方法 （マス夕リング工程） の一例を 説明する。 まず、 例えば専用の研磨装置を使用して、 スタンパ作製時の 基盤となる円形状のガラス原盤を酸化セリゥム等の微粒子研磨剤により スクラブ処理して平坦面を得た後、 研磨剤が残存しないよう丁寧に洗浄 する。 次に、 研磨 ·洗浄したガラス原盤面にフォトレジスト層を形成す る。 このフォトレジスト層は、 光ディスクのグループまたはピット転写 用の信号パターンを形成する下地となるものである。

次に、 フォトレジスト層にレ一ザ一ビームを照射して、 光ディスクの 信号パターンニング転写用となるスタンパの原盤パタ一ンを露光し、 現 像処理を行う。 これにより、 原盤パターンが得られる。 次に、 得られた 原盤パターン上に無電解メツキにて金属下地層を形成した後に電解メッ キにて所望のスタンパ構成厚みまで一気に電铸膜を形成する。

次に、 メツキによる信号パターンニング （原盤パターン） を複製した メツキ金属膜をガラス原盤から剥離して、 フォトレジスト層を専用の溶 剤で溶解 .洗浄し、 完全に乾燥させる。 これにより、 スタンパとしての 原盤が得られる。

次に、 得られたスタンパの信号パターンニングされた面に保護シート を貼付して保護した後、 裏面を研磨して平坦精度を向上させる。 ここで、 裏面を研磨する際に所望の表面精度を得るために、 種々の研磨方式を選 択できる。 前述したようにスタンパ裏面を研磨する方法として、 研磨剤 分散液等を用いながら研磨するフリーアブレ一ション法ゃ研磨テープま たは研磨パッド （研磨ディスクと称する場合もある） を用いる方法等、 様々な研磨方法を用いることができるが、 スタンパ裏面の研磨方式に制 限はない。 最後に、 所定のスタンパ径に打ち抜く （トリミング） 。 以上 により、 目的とするスタンパが得られる。

(境界潤滑膜剤の調製）

境界潤滑膜剤として燐酸エステルを用いる場合には、 例えば以下に示 すように調製する。 燐酸エステルを、 トルエン、 ベンゼン、 メチルェチ ルケトン （M E K) 等の有機溶剤を溶媒として適当濃度に希釈して調合 する。 カリウム 'ナトリウム等の金属塩タイプ等は純水を溶媒としても 良い。 より具体的には例えば、 トルエンを溶媒として使用し、 燐酸エス テルを 5 w t %の濃度に調合する。 境界潤滑膜剤の濃度については特に 制限されるものではないが、 好ましくは 0 . l w t %〜 1 0 w t %、 よ り好ましくは 2 w t %〜 5 w t %の範囲内である。 0 . 1 セ％以上に すると、 境界潤滑膜としての効果を得ることができ、 1 0 セ％以下に すると、 境界潤滑膜を均一に形成して表面における干渉縞模様の発生を 抑制し、 かつ燐酸エステルの固形分の析出を抑制できるからである。 ま た、 2 w t %以上にすると、 境界潤滑膜としての効果をより高めること ができ、 5 w t %以下にすると、 境界潤滑膜の均一性をより高めて表面 における干渉縞模様の発生を更に抑制し、 かつ燐酸エステルの固形分の 析出を更に抑制できるからである。

次に、 調合した燐酸エステルを例えばスクリユー管または大きめのガ ラス管やポリビンに入れて軽く何回か振った後に、 例えばロールミル上 で 1 0分から 1時間位回転させる。 時間は特に限定されず、 目視で境界 潤滑膜剤が希釈溶剤中に溶けたことが確認されれば良い。 以上により、 目的とする境界潤滑膜剤が得られる。 また、 必要に応じて、 得られた境 界潤滑膜剤をメンブランフィル夕一等でフィルタリングしても良い。 な お、 フィルタ一サイズは特に制限されるものではない。 このように、 境 界潤滑膜剤の調製は容易にすぐに調製可能であり、 製造現場で適時必要 量作製できる。

境界潤滑膜剤としてフッ素変性燐酸エステルを用いる場合には、 例え ば以下に示すように調製する。 なお、 摩擦低減効果の観点からすると、 境界潤滑膜剤としてはフッ素変性燐酸エステルを用いることが好ましい。 フッ素変性燐酸エステルを、 上述の燐酸エステル同様に溶剤で適当濃 度に希釈して調合する。 希釈に用いる溶剤は、 溶解性の点から、 フッ素 系の溶剤を使用する。 例えば、 パーフルォ口へキサンやポリオキシパー フルォロ nアルキレン、 ハイド口フルォロェ一テル等が挙げられる。 よ り具体的には例えば、 ハイドロフルォロェ一テルを溶媒として使用し、 フッ素変性燐酸エステルを 0. 5 w t %の濃度に調合する。 境界潤滑膜 剤の濃度については特に制限しないが、 0. 0 1 w t %〜 1 0w t %の 範囲内であることが好ましく、 0. 3w t %〜2. 0w t %の範囲内で あることがより J子ましい。 0. 0 1 w t %以上にすると、 境界潤滑膜と しての効果を得ることができ、 1 0 セ％以下にすると、 境界潤滑膜を 均一に形成して表面における干渉縞模様の発生を抑制し、 かつ燐酸エス テルの固形分の析出を抑制できるからである。 また、 0. 3w t %以上 にすると、 境界潤滑膜としての効果をより高めることができ、 2 . 0 w t %以下にすると、 境界潤滑膜の均一性をより高めて表面における干渉 縞模様の発生を更に抑制し、 かつ燐酸エステルの固形分の析出を更に抑 制できるからである。 また、 フッ素変性燐酸エステルの分子量について 特に制限はないが、 実使用範囲として好ましくは 2 0 0 0〜 5 0 0 0の 範囲内である。

次に、 調合したフッ素変性燐酸エステルを例えばスクリュー管または 大きめのガラス管やポリビ¾に入れて軽く何回か振った後に、 例えば口 ールミル上で 1 0分から 1時間位回転させる。 時間は特に限定されず、 目視で境界潤滑膜剤が希釈溶剤中に溶けたことが確認されれば良い。 以 上により、 目的とする境界潤滑膜剤が得られる。 また、 必要に応じて、 得られた境界潤滑膜剤をメンブランフィル夕一等でフィルタリングして も良い。 なお、 フィルタ一サイズは特に制限されるものではない。 この ように、 境界潤滑膜剤の調製は容易にすぐに調製可能であり、 製造現場 で適時必要量作製できる。

(スタンパ裏面処理の方法）

以下、 スタンパ裏面の処理方法の一例について説明する。 まず、 ス夕 ンパの信号面側に保護シートを貼り付けるか、 または樹脂等をスピンコ 一ティングして、 スタンパの信号面に保護膜を形成する。 次に、 スタン パ裏面に対して所定の研磨処理をした後、 例えば、 アセトン、 トルエン またはエチルアルコール等の有機溶剤により、 脱脂 '清掃する。 次に、 例えばスピンコ一ティング法により、 上述の適当濃度に希釈した境界潤 滑膜剤を適量滴下してスタンパ裏面の全面に渡って均一に塗布する。 なお、 スタンパ裏面にコーティングする方法はスピンコーティングに 限られるものではなく、 それ以外の簡単な方法としては、 例えば、 ゥェ スゃ市販のベンコット等に境界潤滑膜剤を適量染み込ませて直接スタン パ裏面に塗布する方法が挙げられる。 但し、 コーティングの際に、 境界 潤滑膜剤が表側の信号面側に回り込まないように十分注意が必要なこと と、 使用するウェス類やべンコット等が清浄であることが重要である。 表面処理における重要ボイントは、 汚れのない清浄な面に行うことは言 うまでもない。 また、 コーティング方法としては、 境界潤滑膜剤の回り 込み防止策を適切にすれば、 境界潤滑膜剤にスタンパを直接浸す方法、 すなわちディッビング方法を使用することも可能である。

次に、 上述のようにして境界潤滑膜剤をスタンパ裏面にコ一ティング した後、 例えば、 常温乾燥またはすーブン等で加熱乾燥して、 完全に溶 剤を揮発させる。 これにより、 境界潤滑膜剤がスタンパ裏面へ固着し境 界潤滑膜が形成される。 なお、 オーブン等で加熱乾燥する場合には、 そ の加熱温度は希釈溶剤の沸点付近であることが好ましい。 また、 乾燥時 間は特に限定されるものではないが、 常温では約 3 0分以上であること が好ましく、 加熱乾燥では約 1 0分以上 3 0分以下の範囲内であること が好ましい。

次に、 コ一ティングの際に付いたゴミゃ塗りムラを、 境界潤滑膜剤成 分が不溶解性の揮発性溶剤を用いて拭き取る。 拭き取る際の溶剤は、 燐 酸エステルの種類によって選択して、 境界潤滑膜剤成分が溶解しないも のをいることが好ましい。 溶解性のある溶剤を用いると、 スタンパ裏面 に形成された表面潤滑膜を払拭し、 消滅させることになるため、 期待さ れる表面処理効果である摩擦低減効果が得られなくなってしまうからで ある。 また、 不溶解性の溶剤によりスタンパ裏面を払拭することで、 表 面潤滑膜をスム一ジング化 （平滑化） できるという利点も得ることがで きる。

(ミラー面処理の方法）

以下に、 成形機金型信号ミラー面の処理方法の一例について説明する。 まず、 信号ミラーの表面を例えば有機溶剤により脱脂 ·清浄する。 より 具体的には例えば、 ウェスや市販のベンコット等に溶剤を染み込ませて、 ミラー表面を丁寧に払拭する。 使用する有機溶剤としては、 例えばァセ 卜ンゃトルエン、 メチルェチルケトン等のケトン類ゃエチルアルコール、 イソプロピルアルコ一ル （ I P A ) 等のアルコール類を用いることがで きる。 なお、 溶剤の種類は特に限定されるものではなく、 信号ミラ一表 面の汚れを落とし、 脱脂 ·清浄ができるものであれば用いることができ る。

次に、 溶剤が信号ミラー表面から完全に揮発したことを確認した後に、 例えば、 市販のベンコット等のきれいな綿や布 （ウェス類） に境界潤滑 膜剤を適量染み込ませて、 信号ミラー面に均一に塗布する。

次に、 境界潤滑膜剤を信号ミラー面に塗布した後、 例えば、 常温 （室 温） 乾燥して完全に溶剤を揮発させる。 これにより、 境界潤滑膜剤が信 号ミラ一表面へ固着し境界潤滑膜ができる。 乾燥時間は特に限定される ものではないが、 好ましくは常温で約 3 0分以上である。

次に、 コーティングの際に付いたゴミゃ塗りムラを、 境界潤滑膜剤成 分が不溶解性の揮発性溶剤を用いて拭き取る。 拭き取る際の溶剤は、 燐 酸エステルの種類によって選択して、 境界潤滑膜剤成分が溶解しないも のをいることが好ましい。 溶解性のある溶剤を用いると、 スタンパ裏面 に形成された表面潤滑膜を払拭し、 消滅させることになるため、 期待さ れる表面処理効果である摩擦低減効果が得られなくなってしまうからで ある。 また、 不溶解性の溶剤によりスタンパ裏面を払拭することで、 表 面潤滑膜をスムージング化 （平滑化） できるという利点も得ることがで きる。

なお、 上述の表面処理の方法は、 信号ミラ一部を金型より取り外した 状態、 および信号ミラー部を成形機に取り付けた状態のいずれでも行う ことができる。 取り外して表面処理する場合には、 例えばオーブン等で 加熱乾燥して溶剤を揮発させるようにしてもよい。 この加熱乾燥の温度 は、 上述のスタンパ裏面の表面処理と同様に、 希釈溶剤の沸点付近であ ることが好ましく、 乾燥時間は、 1 0分以上 3 0分以内の範囲内である ことが好ましい。 この表面処理方法は、 非常に簡単に行えるので、 光デ イスクの製造現場において時間と手間を取らずに行うことができる。 す なわち、 表面処理に要する時間を短縮することができるので、 光デイス クの生産性を向上することができる。

上述したように、 この第 2の実施形態では、 光ディスク用スタンパの 信号面と反対側になる裏面に所定の研磨処理をし、 その裏面に化学的表 面処理することによって境界潤滑膜を形成した後、 さらに、 成形機側の 信号ミラー面に化学的表面処理することによって境界潤滑膜を形成する ので、 成形機とその信号ミラ"面に装着されたスタンパの裏面との摩擦 を第 1の実施形態よりも低減することができる。 したがって、 第 1の実 施形態よりも、 設備の停止時間をより短縮して、 連続して光ディスクを 生産する期間をより延長することができる。

以下、 実施例により本発明を具体的に説明するが、 本発明はこれらの 実施例にのみ限定されるものではない。

以下の実施例では、 射出成形の際における樹脂温度、 型温度および型 締め力を以下のように制御した。

樹脂温度： 3 8 0 °C ± 1 0 °C

型温度： 1 2 5 °C ± 3 °C

型締め力 ： 3 5 1：〜 4 0 t

また、 以下の実施例では、 境界潤滑膜剤として、 上述した化学式 ( 1 ) および化学式 （2 ) と、 化学式 （3 ) とにそれぞれ示す、 燐酸モ ノエステルおよび燐酸ジエステルと、 微量な燐酸トリエステルとを含有 する混合物 （東邦化学工業株式会社製） を使用した。 化学式 （1 ) にお ける R 'は、 Hのタイプとし、 化学式 （ 1 ) 、 化学式 （2 ) 、 化学式 ( 3 ) のそれぞれの炭素数 m= 1 8とし、 E Oの平均モル数 n = 2とし た。

本発明の実施例で用いた境界潤滑膜を構成する燐酸エステルは、 トル ェン、 ベンゼン、 メチルェチルケトン （M E K) 等の溶剤に対して溶解 性を有している。 すなわち、 この境界潤滑膜剤を使用した場合、 これら 溶解性の溶剤によって希釈できる。

本発明の実施例で用いた境界潤滑膜を構成する燐酸エステルは、 キシ レン、 ソルベントナフサ、 ケロシン、 エタノール、 D F M (ジメチルホ ルムアミ ド） 、 ブチルセルソルブ、 エチレングリコ一ルモノメチルエー テル、 ジエチレングリコールジメチルェ一テル、 酢酸ェチル、 アセトン、 水等の溶剤に対しては、 不溶解性を有している。 すなわち、 この境界潤 滑膜剤を使用した場合、 コ一ティング後にこれら不溶解性の溶剤により ゴミ等の異物ゃコ一ティングむらを拭き取ることによって、 極めて薄く 且つ均一な厚みで良好な境界潤滑膜 1を形成できる。

<実施例 1 >

まず、 トルエンを用いてこの境界潤滑膜剤を 5 w t %の濃度に調合し た。 そして、 このようにして調合された境界潤滑膜剤を、 硬質膜 2が形 成された固定ミラー 2 1のミラー面に、 ウェスによって直接コーティン グした。 なお、 硬質膜 2としては、 D L Cを用い、 固定ミラー 2 1とし ては、 ステンレスコンセプトに基づいて製造された高合金のキヤビ、 コ ァ材である E L M A Xを用いた。 次に、 コーティング後にアセトンを用 いてゴミ等の異物ゃコ一ティングむらを拭き取った。 以上の工程により、 固定ミラ一 2 1のミラー面上に極めて薄く且つ均一な厚みで良好な境界 潤滑膜 1が形成された。 次に、 非接触式の表面検査機を用いて、 ミラー面の中心線平均粗さ

( R a ) を測定した。 この測定の結果、 境界潤滑膜 1を形成する前のミ ラ一面の中心線平均粗さ （R a ) が 0 . 5 2 〔n m〕 であったのに対し て、 境界潤滑膜 1が形成された後のミラ一面の中心線平均粗さ （R a ) は、 0 . 5 3 〔n m〕 であった。 このことから、 ミラー面の中心線平均 粗さは、 境界潤滑膜 1の形成前と形成後とでほとんど変わらないことが 分かった。

<実施例 2 >

境界潤滑膜 1を形成する前と形成した後とで固定ミラ一 2 1とスタン パ 2 2との間に発生する摩擦力を比較するために、 固定ミラー 2 1のサ ンプルに境界潤滑膜 1を形成し、 形成前と形成後の摩擦係数をそれぞれ 摩擦試験機によつて測定した。

なお、 上述の実施例 1における固定ミラ一 2 1と同じとなるように、 サンプルの材質は、 固定ミラー 2 1と同じステンレスコンセプトに基づ いて製造された高合金のキヤピ、 コア材である E L M A Xとし、 ミラー 面上に D L C材質による硬質膜 2が形成されたものを使用した。 また、 境界潤滑膜 1は、 上述の実施例 1と同じとなるように、 硬質膜 2が形成 されたサンプルのミラ一面上に形成した。

第 7図を参照して、 摩擦試験機による摩擦係数の算出方法について説 明する。 摩擦試験機は、 載置部 3 5と検出部 3 7とを有している。 載置 部 3 5は、 直径が 5 0 mmのミラー面を有するサンプル 4が載置される 載置面を有するステージ 3 6と、 ステージ 3 6に載置されたサンプル 4 が載置面と並行してラジアル方向に移動するようにステージ 3 6を変位 させる図示しない駆動部とを有している。

検出部 3 7は、 ヘッド 3 8と負荷ステージ 3 9とを有しており、 ステ

—ジ 3 6に対して近接離間自在とされている。 へッド 3 8は、 摩擦力を 測定する際に、 ステージ 3 6上のサンプル 4と接触させてサンプル 4と の間に摩擦力を発生させる部分である。 サンプル 4とスタンパ 2 2との 摩擦係数を算出するため、 ヘッド 3 8の材質は、 スタンパ 2 2の材質と して広く用いられているニッケルを使用した。

負荷ステージ 3 9は、 ヘッド 3 8をステージ 3 6上のサンプル 4に加 圧するためのものである。 負荷ステージ 3 9によってへッド 38に加え る荷重は、 任意に変更可能とされている。

センサー 40， 4 1は、 ステージ 3 6の変位方向における検出部 3 7 の圧力を測定することによって、 ステージ 3 6上のサンプル 4とへッド 3 8との間に生じる摩擦力を測定する。 センサー 40は、 図中において ステージ 3 6が右方向に変位したときの検出部 3 7にかかる圧力 F1を 検出し、 センサ一 4 1は、 図中においてステージ 36が左方向に変位し たときの検出部 3 7にかかる圧力 F2を検出する。

摩擦係数 は、 図示しない駆動部によって、 ステージ 3 6上のサンプ ル 4がラジアル方向に 1秒間に 1往復するようにステージ 3 6を変位さ せて圧力 F 1および圧力 F 2を測定し、 測定された圧力 F 1および圧力 F 2 と、 負荷ステージの荷重によりサンプル 4にかかるへッド 38の荷重 w とから、 以下の式 （ 1) によって算出した。 なお、 サンプル 4にかかる ヘッドの荷重 wは、 6 5 〔g〕 とした。

n= ( (F 1+ F2) / 2 ) /w · · · ( 1)

境界潤滑膜 1を設けていない状態では、 圧力 F1が 1 7. 6 gであり、 圧力 F2が 1 4. 4 gであった。 すなわち、 境界潤滑膜 1が設けられて いない状態での摩擦係数^は、 約 0. 246であった。

境界潤滑膜 1を設けた状態では、 圧力 F1が 14. 4 gであり、 圧力 F2が 1 1. 6 gであった。 すなわち、 境界潤滑膜 1が設けられている 状態での摩擦係数 は、 0. 2であった。 この結果から、 境界潤滑膜 1を固定ミラ一 2 1のスタンパ 2 2と接す る部分に設けることにより、 固定ミラー 2 1とスタンパ 2 2との間の摩 擦係数を大幅に低減できることが分かった。

次に、 3. 5インチ MOディスクの規格に準拠する光ディスク基板を 成形金型装置により連続して成形し、 成形された光ディスク基板から 3. 5インチ MOディスクを実際に製造し、 製造した 3. 5インチ MOディ スクが少なくとも 1倍密から 20倍密の記録密度に亘つて記録再生が可 能であるか否かを評価した。

<実施例 3>

実施例 1と同様にして、 成形金型装置 1 1の固定ミラ一 2 1のミラー 面上に境界潤滑膜 1を形成した。 そして、 この成形金型装置 1 1を用い て、 光ディスク基板を連続して成形した。 その後、 成形された光デイス ク基板上に、 3. 5インチ MOディスクの規格に準拠した記録膜および 保護膜を形成して、 目的とする光ディスクを得た。

ぐ比較例 1>

境界潤滑膜 1の形成を省略する以外のことは実施例 3と全て同様にし て光ディスク基板を連続して成形した。 その後、 成形された光ディスク 基板上に、 3. 5インチ MOディスクの規格に準拠した記録膜および保 護膜を形成して、 目的とする光ディスクを得た。

第 8図および第 9図は、 境界潤滑膜 1を設けていない成形金型装置で の 2万ショッ ト後のアドレスピッ卜の凹凸形状を示す。 また、 第 1 0図 および第 1 1図は、 境界潤滑膜 1を設けた成形金型装置での 4万ショッ ト後のァドレスピットの凹凸形状を示す。

.第 8図および第 1 0図は、 原子間力顕微鏡 （AFM： Atomic Force M icroscope) によるアドレスピットの形状を示す図である。 また、 第 9 図および第 1 1図における縦軸は、 アドレスピットの深さ 〔nm〕 を示 し、 横軸は基板ラジアル方向のスキャンエリア 〔^m〕 を示す。 すなわ ち、 第 9図および第 1 1図は、 それぞれ、 第 8図の線 Aおよび第 1 0図 の線 B上の凹凸に比例した電圧と周波数とによって表面の凹凸形状を連 続的に表している。 第 8図中の矢印 a， a '、 矢印 b, b 'および矢印 c , c 'は、 第 9図中の点 a , a '、 点 b， b 'および点 c , c 'に対 応している。 また、 第 1 0図中の矢印 d， d '、 矢印 e， e 'および矢 印 ， f 'は、 第 1 1図中の点 d, d '、 点 e， e 'および点 f , f ' に対応している。

第 8図および第 9図に示すように、 境界潤滑膜 1を設けていない成形 金型装置では、 2万ショット後のディスクにおいて、 ピットの端面の形 状が崩れ、 アドレスエラ一が発生した。 第 1 0図および第 1 1図に示す ように、 境界潤滑膜 1を設けた成形金型装置では、 4万ショット後のデ イスクであってもピッ卜の端面の形状が崩れることがなく、 アドレスェ ラーが生じなかった。 すなわち、 生産性を 2倍以上向上できることが分 かった。

次に、 追記型 DVD 4. 7ギガバイト規格に準拠する光ディスク基板 を成形金型装置 1 1により成形し、 成形された光ディスク基板から DV D— Rを実際に製造し、 製造した DVD— Rが 1倍速から 8倍速の記録 速度に亘つて記録再生が可能であるか否かを評価した。

<実施例 4>

実施例 1と同様にして、 成形金型装置 1 1の固定ミラー 2 1のミラ一 面上に境界潤滑膜 1を形成した。 そして、 この成形金型装置 1 1を用い て、 光ディスク基板を連続して成形した。 その後、 成形された光デイス ク基板上に、 追記型 DVD 4. 7ギガバイト規格に準拠した記録膜を形 成した後、 接着層を介して光ディスク基板を貼り合わせて、 目的とする 光ディスクを得た。 ぐ比較例 2 >

境界潤滑膜 1の形成を省略する以外のことは実施例 4と全て同様にし て光ディスク基板を連続して成形した。 その後、 成形された光ディスク 基板上に、 追記型 D V D 4 . 7ギガバイト規格に準拠した記録膜を形成 した後、 接着層を介して光ディスク基板を貼り合わせて、 目的とする光 ディスクを得た。

第 1 2図は、 固定ミラ一 2 1に境界潤滑膜 1が設けられていない成形 金型装置により成形されたディスクのトラッキングエラ一信号を示し、 第 1 3図は、 固定ミラ一 2 1に境界潤滑膜 1が設けられた成形金型装置 により成形されたディスクのトラッキングエラ一信号を示す。 第 1 2図 および第 1 3図中における縦軸は電圧 〔V〕 であり、 横軸はディスクの 信号領域の最外周である R 5 8 mmの位置における周内 （0 ° 〜 3 6 0 ° ) を示している。

第 1 2図および第 1 3図に示すように、 固定ミラー 2 1に境界潤滑膜 1が設けられていない成形金型装置により成形されたディスクよりも、 固定ミラー 2 1に境界潤滑膜 1が設けられている成形金型装置により成 形されたディスクの方がトラッキングエラー信号の振幅が平均的に小さ くなつている。 これによつて、 固定ミラ一 2 1に境界潤滑膜 1を形成す ると、 トラッキングエラ一が約 1 0 %低減され、 製品の品質および歩留 まりが向上することが分かった。

第 1 4図は、 連続してディスクを成形した際のトラッキングエラ一を 示す。 第 1 4図中における縦軸は電圧 〔V〕 を示し、 横軸はディスクの サンプルナンバーを示している。 トラッキングエラーを示す電圧値は、 各ディスクにおけるトラッキングエラーの平均値である。 すなわち、 電 圧値が小さい程、 トラッキングが良好であることを示している。 第 1 4 図中の境界線 Aは、 境界潤滑膜 1を形成したタイミングを示す。 すなわ ち、 境界線 Aよりも左側は、 境界潤滑膜 1を形成前であり、 線 Aよりも 右側は、 境界潤滑膜 1を形成後である。

境界潤滑膜 1の形成前におけるトラッキングエラー信号の振幅の平均 値は、 0. 84 ± 0. 1 3であったのに対して、 境界潤滑膜 1の形成後 におけるトラッキングエラ一信号の振幅の平均値は、 0. 7 7 ± 0. 0 8と小さくなり、 連続した成形においてもトラッキングエラーが改善さ れることが分かった。

以上のことから、 この発明の第 1の実施形態によれば、 スタンパ 2 2 との接触部に境界潤滑膜 1が形成された固定ミラ一 2 1を用いて光ディ スク基板を成形することによって、 良好な光ディスクを低コストで効率 良く製造できる。 特に、 高密度 3. 5インチ MOディスクでは、 ピット のひきずりによるァドレスエラーの改善に絶大な効果があり、 生産性を 2倍以上向上することができる。

ぐ実施例 5 >

はじめに、 DVD— R ( 1 6 X) の規格に準拠したマス夕一スタンパ を以下のようにして作製した。 まず、 専用の研磨装置を使用して、 ス夕 ンパ作製時の基板となる円形状のガラス原盤の表面を微粒子研磨剤によ りスクラブ処理した後、 研磨剤が残存しないよう丁寧に洗浄した。 これ により、 平坦面を有するガラス原盤が得られた。

次に、 研磨 ·洗浄したガラス原盤表面に、 フォトレジスト層を形成し、 このフォトレジス卜層にレーザ一ビームを照射して光ディスクの信号パ ターンニング転写用となるスタンパの原盤パターンを露光し、 現像処理 を行った。 これにより、 原盤パターンが得られた。 なお、 信号表面パ夕 —ンは、 スパイラル状のプリグループでトラックピッチ幅は 0. 7 4 mでグル一ブ深さは 0. 1 4 im〜 0. 1 6 mとした。

次に、 得られた原盤パターン上に無電解メツキにて金属下地層を形成 した後に、 電解メツキにて所望のスタンパ構成厚みまで一気に電铸膜を 形成した。 なお、 電铸膜は 0 . 3 mmの厚さとした。

次に、 メツキによる信号パターンニング （原盤パターン） を複製した メツキ金属膜をガラス原盤から剥離して、 フォトレジスト層を専用の溶 剤で溶解 ·洗浄し、 完全に乾燥させた。 この状態でスタンパとしての原 盤が得られた。

次に、 得られたスタンパの信号パターンニングされた面に保護シ一ト を貼付して保護した後、 裏面を研磨して平坦精度を向上させた。

なお、 スタンパの裏面研磨には、 一律乾式の研磨機で研磨ディスクを 使用した。

最後に、 所定のスタンパ径 （直径 1 3 8 mm) に打ち抜いて （トリミ ング） 、 目的とするスタンパを得た。

次に、 境界潤滑膜剤を以下のようにして作製した。 燐酸エステル （東 邦化学工業株式会社製） と、 希釈剤としてのトルエンとをスクリュー管 に入れて混ぜ合わせて軽く何回か振った後、 口一ルミル上で 1 0分程度 回転させて、 境界潤滑膜剤を作製した。

以下に、 境界潤滑膜剤の組成を示す。

境界潤滑膜剤：燐酸エステル （ 1 0 0 % S o l i d ) 粉末 5重量部 希釈溶剤： トルエン 9 5重量部

次に、 上述のようにして作製したスタンパの裏面をアセトンにより脱 脂 ·清掃し、 汚れのない清浄な面を得た。 次に、 上述のようにして作製 した境界潤滑膜剤を,ウェスに適量染み込ませて、 スタンパ裏面に直接塗 布し、 常温で 3 0分乾燥して溶剤であるトルエンを完全に揮発させた。 これにより、 境界潤滑膜剤がスタンパ裏面に固着し、 境界潤滑膜が形成 された。 次に、 アセトンにより境界潤滑膜の表面に付いたゴミゃ塗りム ラを拭き取った。 なお、 アセトンは、 境界潤滑膜剤に対して不溶解性の 揮発性溶剤である。 以上により、 目的とする境界潤滑膜が裏面に設けら れたスタンパが得られた。

次に、 上述のようにして得られたスタンパの裏面について、 外観、 粗 度劣化、 滑り角度、 耐溶剤性および接触角を評価した。

次に、 上述のスタンパと同様にして、 射出成形機金型の信号ミラー表 面にも境界潤滑膜を形成した。 次に、 境界潤滑膜が設けられたスタンパ を金型に装着して、 光ディスク基板の射出成形を繰り返し、 スタンパラ ィフを評価した。

<実施例 6 >

まず、 上述の実施例 5とすべて同様にしてスタンパを作製した。 次に、 境界潤滑膜剤を以下のようにして作製した。 フッ素変性燐酸エステル

(ダイキン化成品販売株式会社） と、 希釈剤としてのハイド口フルォロ エーテル （住友 3 M社製） とをスクリュー管に入れて混ぜ合わせて軽く 何回か振った後、 ロールミル上で 1 0分程度回転させて、 境界潤滑膜剤 を作製した。

以下に、 境界潤滑膜剤の組成を示す。

境界潤滑膜剤： フッ素変性燐酸エステル （ 1 0 0 % S o l i d ) 0 . 9 3重量部

希釈溶剤：ハイド口フルォロエーテル 9 9 . 0 7重量部

次に、 上述のようにして作製された境界潤滑膜剤を用いる以外のこと は、 上述の実施例 5と同様にしてスタンパの裏面に境界潤滑膜を形成し た。 次に、 上述のようにして得られたスタンパの裏面について、 外観、 粗度劣化、 滑り角度、 耐溶剤性および接触角を評価した。

次に、 上述のスタンパと同様にして、 射出成形機金型の信号ミラ一表 面にも境界潤滑膜を形成した。 次に、 境界潤滑膜が設けられたスタンパ を金型に装着して、 光ディスク基板の射出成形を繰り返し、 スタンパラ ィフを評価した。

<実施例 7 >

まず、 上述の実施例 6とすべて同様にして、 信号面と反対側となる裏 面に境界潤滑膜が設けられたスタンパを作製した。 次に、 上述のように して得られたスタンパの裏面について、 外観、 粗度劣化、 滑り角度、 耐 溶剤性および接触角を評価した。 次に、 境界潤滑膜が設けられたスタン パを、 信号ミラ一面に境界潤滑膜が設けられていない金型に装着して、 光ディスク基板の射出成形を繰り返し、 スタンパライフを評価した。 <実施例 8 >

まず、 上述の実施例 5とすべて同様にしてスタンパを作製した。 次に、 上述の実施例 6と同様にして信号ミラ一面に境界潤滑膜を形成した。 次 に、 上述のようにして得られた信号ミラー面について、 外観、 粗度劣化、 耐溶剤性および接触角を評価した。 次に、 境界潤滑膜が設けられていな ぃスタンパを、 信号ミラ一面に境界潤滑膜が設けられた金型に装着して、 光ディスク基板の射出成形を繰り返し、 スタンパライフを評価した。 <実施例 9 >

マス夕一スタンパを B D— R規格に準拠したものとする以外のことは 実施例 6とすべて同様にして、 裏面に境界潤滑膜が設けられたスタンパ を作製した。 次に、 上述のようにして得られたスタンパの裏面について、 外観、 粗度劣化、 滑り角度、 耐溶剤性および接触角を評価した。 次に、 実施例 6とすべて同様にして、 信号ミラ一面に境界潤滑膜を形成した。 次に、 境界潤滑膜が設けられたスタンパを金型に装着して、 光ディスク 基板の射出成形を繰り返し、 スタンパライフを評価した。

<比較例 3 >

まず、 上述の実施例 5とすべて同様にして D V D— R規格に準拠した スタンパを作製した後、 境界潤滑膜を形成しない状態で、 すなわち、 通 常使用する状態でスタンパ裏面について、 外観、 粗度劣化、 滑り角度、 耐溶剤性および接触角を評価した。 次に、 裏面に境界潤滑膜が設けられ ていないスタンパを、 信号ミラー面に境界潤滑膜が設けられていない金 型に装着して、 光ディスク基板の射出成形を繰り返し、 スタンパライフ を評価した。

<比較例 4 >

まず、 上述の実施例 9とすべて同様にして B D— R規格に準拠したス タンパを作製した後、 境界潤滑膜を形成しない状態で、 すなわち、 通常 使用する状態でスタンパ裏面について、 外観、 粗度劣化、 滑り角度、 耐 溶剤性および接触角を評価した。 次に、 裏面に境界潤滑膜が設けられて いないスタンパを、 信号ミラ一面に境界潤滑膜が設けられていない金型 に装着して、 光ディスク基板の射出成形を繰り返し、 スタンパライフを 評価した。

<比較例 5 >

まず、 上述の実施例 5とすべて同様にしてスタンパを作製した。 次に、 常温乾燥タイプのフッ素系樹脂 （株式会社フロロテクノロジ一社製、 商 品名 ： フロロサ一フ F G— 5 0 3 0 G ) によりスタンパ裏面を処理した。 次に、 上述のようにして得られたスタンパの裏面について、 外観、 粗度 劣化、 滑り角度、 耐溶剤性および接触角を評価した。 その結果、 耐溶剤 性が悪く、 アセトンを染み込ませたベンコッ卜やウェス類で擦ると、 表 面処理したフッ素系樹脂が除去されてしまい、 更に、 外観上も干渉縞模 様が発生してしまうため、 フッ素樹脂は射出成形に用いるには困難であ ることが分かった。 このため、 この比較例 5では、 射出成形の繰り返し によるスタンパライフの評価を行わなかった。

<比較例 6 >

まず、 上述の実施例 5とすべて同様にしてスタンパを作製した。 次に、 そのスタンパの裏面を常温硬化型の固体潤滑剤である P T F E (四フッ 化工チレン） を用いて表面処理を行った。 次に、 上述のようにして得ら れたスタンパの裏面について、 外観、 粗度劣化、 滑り角度、 耐溶剤性お よび接触角を評価した。 その結果、 表面粗度の悪化が大きく、 この表面 の粗さが光ディスク基板の信号面に転写されてしまうことが明らかであ つた。 このため.、 この比較例 6では、 射出成形の繰り返しによるスタン パライフの評価を行わなかった。

以下に、 上述の実施例 5〜 9および比較例 3〜 6における外観、 粗度 劣化、 滑り角度、 耐溶剤性および接触角の評価内容について説明する。

(外観評価）

表面処理した面を軽く数回、 ベンコットゃウェス類で擦った後に目視 でその面を観察して変化があるか否かを評価した。 変化が認められない 場合を 「〇」 、 やや変化が認められるが許容範囲内である場合を 「△」 、 変化が認められ外観に問題がある場合を 「▲」 、 明らかに変化しており、 D V D— Rおよび B D— Rの規格を満たすディスク基板を良好に生産不 可能 （以下、 商品適用外と称する） である場合を 「X」 とした。 ここで、

「〇」 および 「△」 レベルの外観であれば、 D V D— Rおよび B D— R の規格を満たすディスク基板を良好に生産できる。

(表面粗度の評価）

市販 2次元表面粗度計を用いて表面粗度を測定し、 表面処理前後で表 面性パラメ一夕 （R a · R m a x · R z ) に変化がないか、 または表面 粗度が劣化する方向にないかを評価した。 表面性パラメ一夕に変化がな い、 または表面粗度が劣化する方向にない場合を 「〇」 、 やや粗度変化 が認められるが許容範囲内である場合を 「△」 、 粗度変化が認められる 場合を 「▲」 、 明らかに粗度変化しており、 商品適用外である場合を

「X」 とした。 ここで、 「〇」 および 「△」 レベルの表面粗度であれば、 D V D— Rおよび B D— Rの規格を満たすディスク基板を良好に生産で さる。

(滑り角度の評価）

平らな台上に表面処理後のスタンパをその裏面側を上にして静置し、 その上に荷重 2 0 0 gの分銅を置いてスタンパの一方を上方向へ徐々に 傾けていき、 分銅が動き出した角度を滑り角度とした。 定義上は静止摩 擦評価の代替として行い、 数値が小さい方が低摩擦であることを示す。 今回の評価ではスタンパ裏面のみを測定した。 信号ミラー面の測定はこ の実施例で用いた材質が本来、 この試験方法ではかなり低いことから別 の評価方法で効果を確認することにした。 数値が小さいほど摩擦低減効 果が有り望ましいと言える。

(耐溶剤性の評価）

耐溶剤性評価は表面処理した面を軽く数回、 ァセトンを染み込ませた ベンコットゃウェス類で擦った後に、 目視でその面を観察して変化があ るかないかを評価した。 変化が認めら—れない場合を 「〇」 、 やや変化が 認められるが許容範囲内である場合を 「△」 、 変化が認められる場合を 丁▲」 、 明らかに変化しており、 商品適用外である場合を 「X」 とした。 ここで、 「〇」 および 「△」 レベルの耐溶剤性であれば、 D V D— Rの 規格を満たすディスク基板を良好に生産できる。

この耐溶剤性の評価は、 成形工程で日常的に行われる作業を想定した 評価方法である。 スタンパを金型に設置する前に、 信号ミラ一面の汚れ によるスタンパへの悪影響や異物挟みによるスタンパ信号面への異物形 状転写を防止するためにァセトンで信号ミラー面、 およびスタンパ裏面 を予め払拭クリ一ニングする。 このクリーニングによって表面処理した 境界潤滑膜剤が溶解して表面から消失してしまい、 効果を失う恐れがあ る。 次に述べるが、 耐溶剤性を比較するには、 アセトンで払拭前後の接触 角を測定するのが最も適切であるが、 製造現場でスピーディ一に判断す るには外観上払拭した後の表面を観察するとわかる場合が多い。 表面に 干渉縞模様が発生したり、 ァセトンで拭いた後に玉状にァセトンが点在 するか、 完全にアセトンで覆われるか、 すなわち溶剤の濡れ性変化で見 極めることがある程度可能である。 この耐溶剤性の評価ではその濡れ性 変化を目視で判断ずること-にある。 望ましい状態はその用いる境界潤滑 膜剤の構造にもよるが、 この発明では特にフッ素変性燐酸エステルの場 合、 溶剤を弾いて玉状に点在することが良い。

(接触角の評価）

表面処理後に境界潤滑膜剤がその表面に確実に処理されているかを判 断する簡易的な方法として接触角を測定する方法が一般的である。 その 表面に処理された化学物質 （境界潤滑膜剤） の分子構造によって、 表面 の性質が親水性になっているか、 親油性になつているかを純水またはへ キサデカン等の液滴を表面に滴下して角度を測定する。 この実施例では、 協和界面科学 （株） 社の F A C E固体表面エナジー解析装置 （C A— X E型） を使用して純水およびへキサデカンの液滴量 3 . 1 1の接触角 を測定した。 但し、 この評価は良し悪しを判断するものではなく、 ス夕 ンパ裏面もしくは信号ミラ一表面にきちんと境界潤滑膜剤が結合されて いるかを判断するものである。 処理前後で数値が変化していれば表面処 理はされているとみなす。

(ライフ実績評価）

このライフ実績評価は、 この発明における実質的効果を示すものであ る。 実際の光ディスク製造ラインにおける実績であり、 ライフ数値 （シ ヨット数） が大きければ大きいほど良く、 効果が絶大であることを示す。 なお、 この明細書中おいてライフとは、 本来のスタンパ寿命ではなく、 1回の成形稼動でマシンを停止することなく連続で稼動し続ける光ディ スク成形枚数 （ショット数） のことを示す。

先にも述べたが、 スタンパ裏面と信号ミラ一部の素材が異なることか ら、 熱膨張係数やそれぞれの素材の剛性率の違いから接触する境界で変 形を伴う摩擦摩耗現象が発生する。 この時、 信号ミラ一部より硬度の低 ぃスタンパ裏面は摩擦による凝着摩耗が起こり、 その凝着物または欠落 物が研磨剤と同様の作用をする影響でスタンパ裏面および信号ミラー部 表面への損傷を招き、 成形ディスクの精度が悪化する原因になる。 その 為、 一旦設備を停止してス夕シパの裏面を軽く研磨して再使用すること が一般的に行われている。 このメンテナンス作業が設備稼働率の低下お よびコストアップを招く一因であり、 この発明の克服すべき重要な課題 である。

スタンパライフまたは成形設備を停止する判断として、 光ディスクの トラッキングエラ一を測定して規格値を超えた時点でスタンパライフ ( 1回の成形設備連続稼働可能） とする。 光ディスクのトラッキングェ ラーはソ二一独自の社内標準評価機であるサ一ボエラーテスターを使用 して測定した。 初期値が通常 3 5 0〜4 0 O m Vに対して規格値 4 5 0 m Vを超えた時点でスタンパライフとして成形および成形機を停止する。 見方は勿論、 数値 （ショット数） が大きい方が好ましいことは説明する までもない。

表 1に、 実施例 5〜 9および比較例 3〜 6の評価結果を示す。

n

PTFE :四フッ化工チレン

表 1の評価結果から以下のことが分かる。

実施例 5〜 9におけるライフ実績評価の結果と、 比較例 3におけるラ ィフ実績評価の結果とを比較すると、 スタンパ裏面および信号ミラー面 の少なくとも一方に表面潤滑膜を設けた場合には、 スタンパ裏面および 信号ミラー面のいずれにも表面潤滑膜を設けなかった場合に比べて、 ス タンパライフ （ショット数） を大幅に延長できることが分かる。

また、 実施例 6におけるライフ実績評価の結果と、 実施例 7、 8にお けるライフ実績評価の結果とを比較すると、 スタンパ裏面および信号ミ ラー面の両方に表面潤滑膜を設けた場合には、 スタンパ裏面および信号 ミラ一面のいずれか一方に表面潤滑膜を設けた場合に比べてスタンパラ ィフ （ショット数） をほぼ 2倍に延長できることが分かる。 すなわち、 スタンパライフ （ショット数） を延長する観点からすると、 スタンパ裏 面および信号ミラ一面の両方に表面潤滑膜を設けることが好ましいこと が分かる。

さらに、 実施例 5におけるライフ実績評価の結果と、 実施例 6におけ るライフ実績評価の結果とを比較すると、 フッ素変性燐酸エステルから なる表面潤滑膜は、 燐酸エステルからなる表面潤滑膜に比べて、 摩擦を 低減でき、 かつスタンパライフを延長できることが分かる。 また、 ス夕 ンパのライフを延長するにはスタンパ裏面と成形機金型のスタンパを保 持する信号ミラーとの摩擦を低減することが重要、 かつ効果的であるこ とがわかる。 光ディスクの射出成形工程において、 トラッキングエラー 等の光ディスク要求特性を満たし、 かつ設備稼働率を下げない、 いわゆ るスタンパライフの長い光ディスク製造用スタンパを得るには、 この発 明の記載する方法を用いることで課題を克服できる。

摩擦低減効果を検証するために行った表 1の滑り角度評価は、 全てス タンパ裏面の摩擦を判断する指針となるものだが、 何らかの化学的表面 処理を行うことで摩擦を下げる効果が得られることが窺える。

ここでは、 便宜上、 実施例 1〜 9と比較例 1〜 6について記載したが、 本発明者らは、 他の様々な境界潤滑膜剤をこの発明に至るまで鋭意検討 を行ってきた。 その検討によれば、 他の境界潤滑膜剤では、 アセトン等 の有機溶剤で処理後の表面を払拭すると、 干渉縞のような模様が発生し、 外観評価において問題が生じたり、 溶剤で境界潤滑膜剤が払拭 ·消失し てしまい効果が全く得られないものが殆どであった。 単に摩擦を下げる だけであれば、 シリコーン系の界面活性剤や樹脂等も効果はあるが、 ァ セトンやトルエン等のケトン類またはエチルアルコールや I P A (イソ プロピルアルコール） 等のアルコール類等の溶剤に可溶で成形機金型の クリ一ニング時に境界潤滑膜剤が消失してしまう結果で好ましくない。 他の界面活性剤や樹脂等を検討した際に重要な点として、 処理後表面 の状態が油を塗布したような湿った状態にある境界潤滑膜剤を使用する と、 チリや粉塵を吸着したままになり、 異物形状転写の問題を生じるこ とや、 高温度 ·高圧力下で成形するときに、 その境界潤滑膜剤が信号面 へ回り込むことが懸念されるために使用不可となる場合が多い。

一方、 摩擦を低減することでは、 界面活性剤や樹脂類の他に大きな効 果が得られる固体潤滑剤を比較例 5で実施している。 但し、 表 1からも 容易に推察できるが、 処理後の表面性が悪化する。 粗度がスタンパの実 使用範囲を超えてしまう粗度レベルで信号面側への粗度転写が懸念され る。 さらに処理した表面から微量ではあるが粉落ちのような汚れが確認 され実用化は困難である。

以上の結果より、 境界潤滑膜を設けることで、 スタンパの裏面および 成形機金型の信号ミラー面の表面性状を損なうことなく、 摩擦を低減し、 かつスタンパライフを延長できる。

この発明をより高度なレベルに達成するには、 スタンパ裏面と信号ミ ラー部との摩擦を低減するために、 表面処理を行う境界潤滑膜剤に潤滑 性を有する界面活性剤で主たる骨格に燐酸基を持ち、 化学式 1に示す構 造を有する燐酸エステル類を用いるのが良く、 その中でも特に化学式 4 に示す構造のフッ素変性燐酸エステルを用いることが最も望ましい。 そ れは優れた摩擦低減効果が得られ、 よりスタンパライフを延長させるこ とが可能だからである。

また、 この発明の利点として、 この境界潤滑膜剤は繰り返し使用が可 能であり、 効果が薄れてきた場合にスタンパ裏面および信号ミラー面の クリ一ニングを行った後、 再度同様の表面処理を行なうことで効果を持 続できる利点がある。

さらに、 課題解決の直接的要因とは無関係であるが、 表面処理後のス 夕ンパおよび信号ミラー面を目視観察しても無色透明かつ無臭であり、 外観上では何らかの処理がされているか解らないためにス夕ンパ外販時 のメリットにもなりえる利点がある。

この発明は、 上述したこの発明の実施形態に限定されるものでは無く、 この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。 例えば、 上述の実施形態および実施例において挙げた数値はあくまで. も例に過ぎず、 必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。

また、 上述の実施形態および実施例では、 DVD— Rや BD— Rなど にこの発明を適用した例について説明したが、 この発明はこれ以外の追 記型光記録媒体にも適用可能であり、 更に、 再生専用型ゃ書換可能型な どの光記録媒体に対しても適用可能である。 より具体的には、 CD—D A (Compact Disc - Digital Audio) 、 CD-ROM (Compact Disc - Rea d Only Memory) 、 CD-R (Compact Disc-Recordable) 、 CD- RW (Compact Disc-ReWri table) 、 DVD-R (Digital Versatile Disc- Recordable) 、 DVD + R (Digital Versatile Disc+Recordable) 、 DVD - RW (Digital Versatile Disc- ReWri table) 、 DVD - RA M (Digital Versatile Disc-Random Access Memory) 、 および DVD - ROM (Digital Versatile Disc-Read Only Memory) など種々の規 格の光記録媒体に対して適用可能である。 また、 HD— DVD (Heigh Definition Digital Versatile Disc) 、 BD— ROM (Blu-ray Disc- Read Only Memory) 、 BD— R (Blu-ray Disc-Recordable) 、 および BD— RE (Blu-ray Disc- REwritable) などの次世代の高密度光記 録媒体に対してもこの発明は適用可能である。 さらに、 今後開発が見込 まれる光記録媒体に対してもこの発明は適用可能である。

また、 記録速度も上述の実施形態および実施例に限定されるものでは なく、 種々の記録速度の光記録媒体に適用可能である。 更に、 記録層も 1層に限定されるものではなく、 2層以上の光記録媒体にも適用可能で ある。

また、 上述した第 1の実施形態では、 境界潤滑膜 1を固定ミラー 2 1 の表面に設けたが、 これに限定されるものではなく、 ニッケル等からな るスタンパ 2 2の裏面に境界潤滑膜 1を設けてもよいし、 固定ミラー 2 1とスタンパ 22の両方に境界潤滑膜 1を設けてもよい。 また、 スタン パ 2 2の裏面に硬質膜 2を設けてもよい。

また、 3. 5インチ MOディスク、 DVD— Rに限らず、 スタンパに よって凹凸形状が転写された基板を用いる他の記録媒体用基板の成形に ついても適用することができる。 また、 記録媒体用基板に限らず、 ス夕 ンパの凹凸形状を転写して形成される他の成形体の製造についても適用 することができる。

また、 上述の実施形態および実施例において、 スタンパの材料は特に 限定されるものではなく、 例えば、 ニッケル金属以外にも、 例えば、 金 属ゃセラミックを用いることも可能である。 この場合にも、 上述の第 1 および第 2の実施形態と同様の効果を得ることができる。

また、 上述の実施形態および実施例において、 信号ミラー部の材料は 特に限定されるものではなく、 例えば、 D L Cと呼称されるダイヤモン ドライク力一ボンを信号ミラー部に設けるようにしてもよい。 この場合 にも、 上述の第 1および第 2の実施形態と同様の効果を得ることができ る。

上述の実施形態および実施例では、 フッ素変性燐酸エステルを成形金 型装置の信号ミラー面ゃスタンパ裏面の境界潤滑膜に適用した場合を例 として説明したが、 フッ素変性燐酸エステルはこの例に限定されるもの ではなく、 摩擦低減効果により潤滑性を付与する潤滑剤組成物に広く適 用可能である。 また、 フッ素変性燐酸エステルは、 摩擦低減効果により 潤滑性を付与する潤滑剤組成物に限定されるものではなく、 撥水性によ り防水機能を付与する防水剤組成物、 撥油性により防汚機能を付与する 防汚剤組成物、 撥水撥油性により防鲭機能を付与する防鲭剤組成物、 耐 溶剤性を付与する耐溶剤組成物など種々の用途に用いることも可能であ る。 以下に、 これらの用途について説明する。

( 1 ) 摩擦低減効果による潤滑性付与

燐酸エステル自体が極圧添加剤として知られている。 耐熱性の利点を 活かして、 高温度の環境下で摩擦低減が要求されるものに活用される。 光ディスク成形機の信号ミラー面の他に、 成形機自体の摺動部や駆動部 に使用可能である。 特にオイルやグリスといった液状飛散などが問題と なる部分の乾性摺動部分または乾性駆動部分の摩擦低減に有効である。 光ディスク成形機内の具体例としては、 ゲートカットパンチ、 製品ェジ ェクタ一スリーブや製品ェジェクタ一ピン、 外周リングあるいはこれら の部品パーツに使用しているポールベアリングなどが挙げられる。 更に は金型芯出し用のガイドポストのベアリングゃ固定金型および可動金型 のとび込み部、 成形機タイパ一、 読み取りミラ一面にも適用できる。 光 ディスク製造用成形機を一例に挙げて説明したが、 その他の射出成形機 にも有効である。 また成形部材全般的にも同様の効果は見込まれる。 そ れらはプレス成形用金型、 注型成形用金型、 射出成形用金型、 トランス ファー成形用金型、 真空成形用金型、 吹き込み成形用金型、 押し出し成 形用ダイ、 インフレーション成形用口金繊維紡糸用口金、 カレンダー加 ェ用ロールなどである。 一方、 高速摺動部分の摩擦低減の観点から、 高 速で摺動する際に摩擦熱が生じることが予想されるが、 ここでも極圧添 加剤的効果が活かされる。 具体的には、 磁気テープが挙げられる。 高速 で回転するビデオへッドに接触して記録 ·再生される磁気テープには潤 滑剤が内添されている。 この磁気テープ用潤滑剤としても優れた効果を 発揮する。 特に近年主流となっている蒸着テープには、 フッ素変性燐酸 エステルの構造上、 金属に化学吸着する特性が活かされ、 内添系で使用 しても良いが、 蒸着膜を付けた後のその表面上にトップコートすること でコバルトメインの蒸着膜表面に非常に均一かつ薄膜でフッ素変性燐酸 エステルが吸着膜として存在するために優れた摩擦低減効果が得られる。 ( 2 ) 撥水性による防水機能付与

後述する実施例および比較例の評価項目に示される水またはへキサデ カンの接触角数値に見られるように、 フッ素変性燐酸エステルで処理し た表面はかなりの撥水撥油性を示す。 この特質 ·特性があらゆる方面に おいて効果を発揮する。 その撥水効果は防水機能となり、 ガラスや鏡な どの表面にコーティングすれば曇り止めとなり、 カメラやメガネなどの レンズ、 お風呂場、 洗面台など湿度の高い環境にある鏡、 更に発展すれ ば、 自動車のフロントやリアのガラスにコ一ティングすることで雨天時 のクリアな視界を得られ安全性を高められる。 対象となる材質が金属や セラミック、 ガラス類であれば、 防水機能を要求するほとんどのものが 適用可能である。 撥水性が要求される製品例としてィンクジエツトプリ ン夕一のへッドが挙げられる。 ィンクジエツトプリンターに用いられる インクは水系であり、 その微小な液滴を極めて小さいノズル孔より吐出 させなければならない。 この時、 ノズル部分を構成している材質は金属 である。 この液滴が吐出されるノズル部分は一般的に疎水性が望まれる。 すなわち、 水を弾く性質でないと好ましくない。 ノズル部分の水に対す る濡れ性が良いと液滴が吐出する前にノズル部分にインクが拡がり、 液 滴形成ができずに吐出不良となる。 結果的に印刷物へ液滴が飛ばないた めに印刷不良となる。 良好な吐出を行うにはノズル部分の水切り具合が 良好でなければならず、 撥水性が望まれる。 よって、 ノズル部分をこの フッ素変性燐酸エステルで処理することでノズル部分の金属表面に極薄 膜の疎水性薄膜を形成し、 水切りを良好にできるので、 インク液滴の吐 出性能を格段に向上できる。 この効果は吐出方式、 ピエゾ方式やバブル ジェット方式等に関係なく適用可能である。 また、 ノズル部分に処理す る方法もあるが、 インク自体に内添してインク組成物としても有効であ る。 特にバブルジェット方式においてはインクに内添することで、 バブ ルジェット方式の吐出方法に関わるメリットが得られる。 それは、 タン タル金属が主流で使用されているが、 液滴を形成するヒーター自体が金 属で高度の温度がそのタンタル材質の金属ヒーターにかかるためにコゲ —シヨンと呼ばれる問題が発生する。 いわゆる金属表面にインク組成物 のコゲが付着する現象で、 このコゲが温度を遮り、 液滴形成ができなく なる原因になる。 ィンク組成物としてィンクにこのフッ素変性燐酸エス テルを添加することでヒータ一にィンクを介して表面処理されるので、 耐熱性の特質を活かし、 かつ化学吸着膜を形成することでコゲーション 防止効果が得られる。 対象物質がプラスチックの場合はその反応形態か ら効果が薄らぐ可能性があるが全く効果が見られない訳ではない。 その 際は先ずプラスチック表面に親水性処理を施したあとにコーティングす れば同様の効果を得られる。

( 3 ) 撥油性による防汚機能付与

前記同様にフッ素変性燐酸エステルで処理した表面はかなりの撥水性 と共に撥油性も示し、 この特質 ·特性が防汚機能においても効果を発揮 する。 具体例としては指紋付着抑制効果として光ディスクの読み取り面 または記録面上のハードコ一ト層にコ一ティングするだけで非常にふき 取り易く、 表面に伸びて更に悪化させるようなことがない。 同じように 防水機能のところでも述べたが、 カメラやメガネなどのレンズ、 あるい は腕時計のガラス面など視覚的にクリァな性質が求められるものにおい てオイリーな汚れは容易にふき取れるようになる。 更に、 金属ゃガラ ス ·セラミック材質で作られている数々の装飾品において、 キッチンな ど油がミスト状に飛散する環境やタバコを室内で喫煙する環境等では油 やタバコのャ二で汚れることは勿論だが、 長期間放置しておくとチリや ホコリが表面にこびりつき、 清掃しても落ちずに変色してしまうことも ある。 このような問題にも防汚機能として非常に有効である。

( 4 ) 撥水撥油性による防鑌機能付与

先にも述べたが、 燐酸エステルの構造上、 金属表面に燐酸基を介して 極薄膜の化学吸着膜を作成することから鑌に対する防錡機能も有する。 処理した表面は無色透明であり、 外観を損なうこともない。 金属材質で 作製されている装飾品で防鯖が特に必要なものにコーティングすること で長期的に外観を損なうことなく、 防鑌機能を付与できる。 装飾品に限 らず、 例えば、 ねじ、 ポルト ·ナットや釘一本に関しても金属一般に鲭 が問題となるものへの応用が可能である。

( 5 ) 耐溶剤性付与

フッ素変性燐酸エステルはフッ素系の溶剤に可溶だが、 一般的に使用 されているアセトンやトルエン、 メチルェチルケトン （M E K) 、 など のケトン類有機溶剤や I P Aやェチルまたはメチルアルコールなどのァ ルコール類などの溶剤には溶解しない。 クリーンルームなどの清浄環境 が望まれる場所ではチリやホコリ類のダスト · コンタミを溶剤で払拭す るケースが多い。 また、 高圧下で成形される成形機なども異物を挟むと、 その形状が圧力でそのまま転写されるために予め、 揮発性の有機溶剤で 払拭クリーニングするケースが日常的に行われている。 この場合、 多く の界面活性剤等で処理された表面を溶剤で払拭すると、 表面処理剤が溶 剤によって消失してしまう問題が発生する。 このような場合でもフッ素 変性燐酸エステルで処理された表面はフッ素系の溶剤以外、 弾く性質の 為に有効利用できる。

Claims

1 . 燐酸エステル類を含有する、 極圧環境耐久性を有する潤滑剤組成物

2 . 上記燐酸エステル類は、 フッ素変性燐酸エステルである請求の範囲 1記載の極圧環境耐久性を有する潤滑剤組成物。

3 . 上記燐酸エステル類は請、 燐酸モノエステル、 燐酸ジエステルおよび 燐酸トリエステルのうち少なくとも 1つを含有する、 請求の範囲 1記載 の極圧環境耐久性を有する潤滑剤組成物。

4 . 燐酸エステル類を含有する、 極圧環境耐久性を有する潤滑剤組成物 が被覆されてなる物品。 匪

5 . 上記燐酸エステル類は、 フッ素変性燐酸エステルである請求の範囲 4記載の物品。

6 . 上記燐酸エステル類は、 燐酸モノエステル、 燐酸ジエステルおよび 燐酸トリエステルのうち少なくとも 1つを含有する、 請求の範囲 4記載 の物品。

7 . 金型が有するミラー面と接触する裏面に、 燐酸エステル類を含有す る潤滑膜を有する光ディスク用基板の成形スタンパ。

8 . 上記燐酸エステル類は、 フッ素変性燐酸エステルである請求の範囲 7記載の成形スタンパ。

9 . 上記燐酸エステル類は、 燐酸モノエステル、 燐酸ジエステルおよび 燐酸トリエステルのうち少なくとも 1つを含有する、 請求の範囲 7記載 の成形スタンパ。

1 0 . スタンパが取り付けられるミラ一面を有する金型と、

上記ミラ一面に設けられた、 燐酸エステル類を含有する潤滑膜と を有する光ディスク用基板の成形金型装置。

1 1 . 上記燐酸エステル類は、 フッ素変性燐酸エステルである請求の範 囲 1 0記載の成形金型装置。

1 2 . 上記燐酸エステル類は、 燐酸モノエステル、 燐酸ジエステルおよ び燐酸トリエステルのうち少なくとも 1つを含有する、 請求の範囲 1 0 記載の成形金型装置。

1 3 . 金型のスタンパとの接触部および または上記スタンパの上記金 型との接触部に、 燐酸エステル類を含有する潤滑膜を形成する成膜ステ ップと、

上記金型に上記スタンパを取り付ける取り付けステップと、 上記取り付けステップによって上記スタンパが取り付けられた上記金 型に材料を充填してディスク基板を成形する成形ステップと

を有する光ディスク用基板の成形方法。

1 4 . 上記成膜ステップ前に、 上記金型の上記スタンパとの接触部およ び/または上記スタンパの上記金型との接触部に硬質膜を形成するステ ップをさらに有する請求項 1 3記載の光ディスク用基板の成形方法。

1 5 . 上記取り付けステップ前に、 上記成膜ステップによって形成され た上記潤滑膜形成剤の厚みを均一にする均一化のステップをさらに有す る請求項 1 3記載の光ディスク用基板の成形方法。

1 6 . 上記均一化のステップでは、 上記燐酸エステルが不溶解性を有す る溶剤により、 上記成膜ステップによって形成された上記潤滑膜の表面 を拭き取ることによって、 上記潤滑膜の厚みを均一化する請求項 1 5記 載の光ディスク用基板の成形方法。

1 7 . 燐酸エステル類を含有する潤滑膜を基材上に形成する成膜ステツ プと、

上記成膜ステップにより上記基材に形成された上記潤滑膜を、 上記燐 酸エステルが不溶解性を有する溶剤によって拭き取る拭き取りステップ を有する潤滑膜の形成方法。