WO2005001525A1 - 光学積層フィルム、偏光板および光学製品 - Google Patents

Description

明 細 書

光学積層フィルム、偏光板および光学製品

技術分野

[0001] 本発明は、光学積層フィルムに関し、さらに詳しくは、効率よく低光反射率を実現で きる低屈折率層を積層した、光学部材の反射防止保護フィルムや偏光板保護フィル ムなどとして有用な光学積層フィルムに関する。さらには、この光学積層フィルムを用 レ、た反射防止機能付偏光板、およびこの偏向板を備えた光学製品に関する。

背景技術

[0002] 液晶表示装置（以下、「LCD」と記す）用の偏光フィルムには、映り込み防止のため に、低屈折率層を設ける加工処理が施されることがある。特に、野外などに用いられ る LCDにおける偏光フィルムでは、高性能の反射防止機能の付与が求められている 。そこで、基材フィルムの表面に多層膜または単層膜の低屈折率層を形成することが 行われている。

[0003] 多層膜の低屈折率層としては、相対的に高屈折率を有する膜と相対的に低屈折率 を有する膜とをこの順に積層したもの（例えば、特許文献 1を参照）がある。

[0004] 膜を形成する方法について、ゾルゲル法、真空蒸着法、スパッタリング法、化学気 相析出法などが挙げられるが、いずれも高温や真空を伴う工程が含まれ、とりわけ基 材を高温にする工程が含まれる場合には、高温プロセスにおいて樹脂基材が変形' 変質が生じるおそれがあり、また膜の光学特性を変化させ、所望の反射防止膜を形 成することが困難であった。また、真空成膜プロセスでは真空装置内で樹脂からガス が放出されるために膜の形成に必要な高真空が得られなくなって、所望の特性の反 射防止膜を形成することが困難であった。

[0005] さらに、低屈折率層を 2以上の膜力 構成する場合には、膜のコーティング操作が 2 回以上必要なために工程が複雑となるうえに、製造コストが高い、膜厚制御が困難で ある、低光反射率を達成することが困難であるなどの問題がある。

[0006] 単層膜の低屈折率層としては、ガラス上にゾルゲル法で多成分の金属酸化物膜を 形成し、次いで多成分の金属酸化物膜を加熱処理により分相させ、その後、分相し た金属酸化物膜を弗化水素酸でエッチングして各相のエッチング速度の差を利用し て多孔質化したもの（例えば、非特許文献 1を参照）や、ガラス上にゾノレゲル法により 酸化マグネシウムと二酸化炭素との複合膜を形成させた後、高温でフッ素を含有す るガス中にさらして酸素をフッ素と置換したもの（例えば、非特許文献 2を参照）がある

[0007] 他に、特許文献 2には、アミノ基を有する有機珪素化合物を少なくとも含む 1種以上 の有機珪素化合物もしくはその加水分解物を含有する塗布液を樹脂基材の表面に 塗布し、前記塗布液を乾燥することにより樹脂基材の表面に第一次被膜を形成し、 前記第一次被膜の上に屈折率が 1. 40以下であり、表面が凹凸形状である二酸化 珪素膜を形成させたことを特徴とする低反射樹脂基材が記載されてレ、る。特許文献 2 によれば、低温プロセスで、密着性良く樹脂基材の全面に同時に形成することができ ると記載されている。

[0008] し力しながら、該公報に記載されている低反射樹脂基材を特に液晶表示装置に使 用すると、視認性 (例えば、輝度）が悪くなつたり、明暗表示のコントラストが悪くなつた りすること力 Sある。そこで更なる改善が求められている。

[0009] 特許文献 1 :特開平 4-357134号公報

特許文献 2：特開 2002-328202号公報

特許文献 1 : S. P. Mukherjeeら、 J. Non-Cry st. Solids, Vol. 48, pi 77 (198 2)

非特許文献 2 :J. H. Simmonsら、 J. Non-Cryst. Solids, Vol. 178, pl66 (199

4)

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0010] 従って、本発明の目的は、従来のものよりも、光反射率が低ぐグレアや映り込みが 少なぐ視認性に優れ、さらに液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラスト に優れる光学積層フィルムを提供することにある。

課題を解決するための手段

[0011] 力、くして本発明によれば、 (1) 透明樹脂を含んでなる基材フィルムの片面に、直接または他の層を介してハー ドコート層およびエア口ゲルからなる低屈折率層をこの順に積層してなり、ハードコー ト層の屈折率を n 、低屈折率層の屈折率を nとしたとき、以下の式 [1]、 [2]および [

H L

3]を満たす光学積層フィルム；

式 [1]： n≤1. 37

式 [2]： n ≥1. 53

H

式 [3] : n -0. 2 <nく fn + 0. 2

H し H

(2)ハードコート層の屈折率 nおよび低屈折率層の屈折率 n力 以下の式 [4]、

H L

[5]および式 [6]の関係を満たす前記（1)に記載の光学積層フィルム；

式 [4] : 1. 25≤n≤ 1. 35

L

式 [5]： n ≥ 1. 55

H

式 [6] : n + 0. 15

(3)波長 550nmにおける反射率が 0· 7%以下で、波長 430— 700nmにおける反射 率が 1. 5%以下である前記（1)または（2)に記載の光学積層フィルム；

(4)基材フィルムのダイラインの深さまたは高さが 0· 1 μ m以下である前記（1)一 (3) のレ、ずれかに記載の光学積層フィルム；

(5)透明樹脂が、脂環式構造を有する重合体樹脂、セルロース樹脂およびポリエス テル樹脂からなる群から選ばれる樹脂である前記（1)一（4)のいずれかに記載の光 学積層フィルム；

(6)透明樹脂が、脂環式構造を有する重合体樹脂である前記（1)一 (4)のいずれか に記載の光学積層フィルム；

(7)光学部材の反射防止保護フィルムである前記（1)一 (6)のレ、ずれかに記載の光 学積層フィルム；

(8)偏光板保護フィルムである前記（7)に記載の光学積層フィルム；

(9)前記（8)記載の偏光板保護フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側 の面に偏光膜を積層してなる反射防止機能付偏光板;および

(10)前記（9)記載の反射防止機能付偏光板を備える光学製品がそれぞれ提供され る。 発明の効果

[0012] 本発明によれば、光反射率が低ぐグレアや映り込みが少なぐ視認性に優れ、さら に液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラストに優れる光学積層フィルム を提供すること力 Sできる。

図面の簡単な説明

[0013] [図 1]本発明の光学積層フィルムの層構成断面図である。

[図 2]本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図である。

[図 3]本発明の反射防止機能付偏光板を液晶表示セルに貼り合せた層構成断面図 である。

[図 4]図 3に示す液晶表示セルの層構成断面図である。

発明を実施するための最良の形態

[0014] 本発明の光学積層フィルムの基材フィルムに使用する透明樹脂としては、 1mm厚 における全光線透過率が 80%以上のものが用いられる。樹脂の種類は、特に制限さ れず、例えば、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなど のポリオレフイン系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリエステル系重合体、ポリ スルホン系重合体、ポリエーテルスルホン系重合体、ポリスチレン系重合体、ポリビニ ルアルコール系重合体、ァシル変性セルロース系重合体、ポリ塩化ビュル系重合体 およびポリメタタリレート系重合体、などが挙げられる。これらの重合体は一種単独で 、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に 優れ、複屈折が小さい点で、ジァセチルセルロース、プロピオニルセルロース、トリア セチルセルロース、ブチリルセルロースなどのァシル変性セルロース樹脂；ポリエチレ ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリェ ステル樹脂、および脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましぐ透明性および軽量 性の観点から、トリァセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレートおよび脂環式構 造を有する重合体樹脂がより好ましい。寸法安定性および膜厚制御性の観点から、 ポリエチレンテレフタレートおよび脂環式構造を有する重合体樹脂が特に好ましい。

[0015] 脂環式構造を有する重合体樹脂は、主鎖および/または側鎖に脂環式構造を有 するものであり、中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含 有するものが好ましい。

[0016] 脂環式構造としては、飽和脂環炭化水素 (シクロアルカン)構造、不飽和脂環炭化 水素（シクロアルケン)構造などが挙げられる力 機械強度および耐熱性などの観点 から、シクロアルカン構造およびシクロアルケン構造が好ましレ、。中でも、シクロアノレ カン構造が最も好ましい。脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はな いが、通常 4一 30個、好ましくは 5— 20個、より好ましくは 5 15個の範囲であるとき に、機械強度、耐熱性およびフィルムの成形性が高度にバランスされ、好適である。 脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を含有してなる繰り返し単位の割合は、使 用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは 30重量％以上、さらに好ましくは 50重量％以上、特に好ましくは 70重量％以上、最も好ましくは 90重量％以上である 。脂環式構造を有する重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこのよ うに大きいと基材フィルムの透明性および耐熱性が高くなる。

[0017] 脂環式構造を有する重合体樹脂としては、具体的には、（1)ノルボルネン系重合体 、（2)単環の環状ォレフィン系重合体、（3)環状共役ジェン系重合体、（4)ビニル脂 環式炭化水素重合体、およびこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも 、透明性および成形性の観点から、ノルボルネン系重合体がより好ましい。

[0018] ノルボルネン系重合体としては、具体的にはノルボルネン系モノマーの開環重合体 、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、 およびそれらの水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン 系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付カ卩共重合体などが挙げられる。こ れらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体水素 添加物が特に好ましい。

[0019] 上記の脂環式構造を有する重合体樹脂は、例えば特開 2002- 321302号公報な どに開示されてレ、る公知の重合体から選ばれる。

[0020] 基材フィルムに使用する透明樹脂のガラス転移温度は、好ましくは 80°C以上、より 好ましくは 100 250°Cの範囲である。ガラス転移温度がこのように高い透明樹脂か らなる基材フィルムは、高温下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久 性に優れる。 [0021] 基材フィルムに使用する透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロへキサン (重合体 樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いたゲル'パーミエーシヨン'クロマトグラフィ 一（以下、「GPC」と略す。）で測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量 平均分子量（Mw)で、通常 10， 000 100， 000、好まし <は 25, 000 80， 000、 より好ましくは 25, 000— 50， 000である。重量平均分子量力 Sこのような範囲にあると きに、フィルムの機械的強度および成形カ卩ェ性が高度にバランスされ好適である。

[0022] 透明樹脂の分子量分布 (重量平均分子量 (Mw)Z数平均分子量 (Mn) )は特に制 限されなレヽカ S、通常 1. 0 10. 0、好ましくは 1. 0-4. 0、より好ましくは 1. 2-3. 5 の範囲である。

[0023] 本発明の光学積層フィルムに使用する基材フィルムは、透明樹脂の他に配合剤を 含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、例えば、無機微粒子；酸化 防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤など の安定剤；滑剤、可塑剤などの樹脂改質剤；染料および顔料などの着色剤；帯電防 止剤などが挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは 2種以上を組み合せて 用いることができる。その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され る力 透明樹脂 100重量部に対して、通常 0— 5重量部、好ましくは 0— 3重量部であ る。

[0024] 基材フィルムの膜厚は、機械的強度などの観点から、好ましくは 30— 300 _β m、より 好ましくは 40— 200 μ mである。

[0025] また、基材フィルムの膜厚は均一であることが好ましぐ具体的には、基材フィルム 全幅にわたって膜厚変動が膜厚の 3%以内であることが好ましい。基材フィルムの膜 厚変動が膜厚の 3%以内であることにより、ハードコート層の密着性およびその上に 積層する低屈折率層の表面平滑性を向上させることができる。

[0026] 基材フィルムのダイラインの深さまたは高さは、 0. 1 a m以下であることが好ましぐ 0. 05 z m以下であることがさらに好ましレ、。基材フィルムのダイラインの深さまたは高 さを小さくすることにより、本発明の光学積層フィルムを偏光板保護フィルムとして使 用したとき、ダイラインが目立たず、視認性に優れる。

[0027] ダイラインは、非接触式の 3次元表面形状 ·粗さ測定機を用いて測定することができ る。

[0028] 基材フィルムの揮発性成分の含有量は、 0. 1重量％以下であることが好ましぐ 0.

05重量％以下であることがさらに好ましい。基材フィルムの揮発性成分の含有量がこ のように少ないと、基材フィルムの寸法安定性が向上し、ハードコート層を積層する際 の積層むらを小さくすることができる。カロえて、フィルム全面にわたって均質な低屈折 率層を形成させることができる。その結果、フィルム全面にわたってむらのない反射 防止効果が得られる。

[0029] 揮発性成分は、基材フィルムに微量含まれる分子量 200以下の物質であり、例え ば、残留単量体や溶媒などが挙げられる。揮発性成分の含有量は、透明樹脂に含ま れる分子量 200以下の物質の合計として、基材フィルムをガスクロマトグラフィーによ り分析することにより定量すること力 Sできる。

[0030] 基材フィルムの飽和吸水率は、好ましくは 0. 01重量％以下、より好ましくは 0. 007 重量％以下である。飽和吸水率が 0. 01重量％を超えると、ハードコート層と基材フィ ルムとの密着性、およびハードコート層と低屈折率層との密着性が低くなり、長期間 の使用において低屈折率層の剥離が生じやすくなる。

[0031] 基材フィルムの飽和吸水率は、 ASTM D530に従い、 23°Cで 1週間浸漬して増加 重量を測定することにより求めることができる。

[0032] 基材フィルムとして、片面または両面に表面改質処理を施したものを使用してもよ レ、。表面改質処理を行うことにより、ハードコート層との密着性を向上させることができ る。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。

[0033] エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理 、紫外線照射処理などが挙げられ、処理効率の点などから、コロナ放電処理、プラズ マ処理が好ましぐコロナ放電処理が特に好ましい。

[0034] 薬品処理の好ましレ、方法としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤 水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が採られる。浸漬した状態で 振盪すると浸漬効果は増大する。長時間処理すると表面が溶解したり、透明性が低 下したりするといつた問題があり、用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、処理時 間などを調整すればよい。 [0035] 基材フィルムを成形する方法としては、溶液キャスティング法または溶融押出成形 法が挙げられる。中でも、基材フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さムラを少なく できる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、ダイスを 用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点 で Tダイを用いる方法が好ましい。

[0036] Tダイを用いる溶融押出成形法を採用する場合、 Tダイを有する押出機における透 明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも 80— 180°C高い温度にす ることが好ましぐガラス転移温度よりも 100— 150°C高い温度にすることがより好まし レ、。押出機での溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあ り、逆に、溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。

[0037] 本発明に使用する基材フィルムのダイラインの深さまたは高さを 0. l x m以下にす るための手段としては、（1)ダイリップの先端部にクロム、ニッケル、チタンなどのメツキ が施されたダイスを用いる、（2)ダイリップの内面に PVD (Phisical Vapor Deposi tion)法などにより、 TiN、 TiAlN、 TiC、 CrN、 DLC (ダイァモンド状カーボン）など の被膜が形成されたダイスを用いる、（3)ダイリップの先端部にその他のセラミックス が溶射されたダイスを用いる、（4)ダイリップの先端部の表面を窒化処理したダイスを 用いる方法が挙げられる。

[0038] このようなダイスは、表面硬度が高ぐ樹脂との摩擦が小さいため、得られる基材フィ ノレムに、焼けゴミなどが混入することを防止することができると共に、ダイラインの深さ または高さを 0. 1 μ ΐη以下にすることができる。

[0039] さらに表面精度の良いダイスを用いることにより、厚みむらを小さくすることが可能で ある。表面の微視的凹凸に関する表面粗さは、「平均高さ Ra」によって表すことがで き、ダイス内面特にダイリップの先端部の平均高さ Raが好ましくは 0. 以下、より 好ましくは Raが 0. l z m以下である。

[0040] 平均高さ Raとは、 JIS B 0601-2001によって定義される「算術平均高さ Ra」と同 様のものであり、具体的には、測定曲線をカットオフ値 0. 8mmで位相補償型高域フ ィルターを通して粗さ曲線を求め、この粗さ曲線からその平均線の方向に一定の基 準長さを抜き取り、この抜き取り部分の平均線力 粗さ曲線までの偏差の絶対値を合 計し、平均することにより求められる。

[0041] 基材フィルムのダイラインの深さまたは高さを 0· 1 μ ΐη以下にするためのその他の 手段としては、ダイリップに付着しているもの（例えば、ャケゃごみ）を取り除く；ダイリ ップの離型性をあげる；ダイリップのぬれ性を全面にわたり均一にする；樹脂ペレット の溶存酸素量および Zまたは樹脂粉を少なくする;溶融押出し機内にポリマーフィル ターを設置する；などの方法が挙げられる。

[0042] また、基材フィルムの揮発性成分の含有量を少なくするための手段としては、（1)透 明樹脂自体として、揮発性成分量が少なレ、ものを用いる、 （2)溶融押出成形法により 基材フィルムを成形する、（3)フィルムを成形する前に用レ、る透明樹脂を予備乾燥す るなどの手段が挙げられる。予備乾燥は、例えば原料をペレットなどの形態にして、 熱風乾燥機などで行われる。乾燥温度は 100°C以上が好ましぐ乾燥時間は 2時間 以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発成分量を低減させるこ とができ、さらに、押し出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。

[0043] 本発明の光学積層フィルムを構成するハードコート層は、 JIS K5600— 5— 4で示 す鉛筆硬度試験 (試験板はガラス板）で「2H」以上の硬度を示す材料から形成される 。この硬度を有する材料であれば、特に制限されない。その具体例としては、有機系 シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアタリレート系などの有機 ハードコート材料；および、二酸化ケイ素などの無機系ハードコート材料;などが挙げ られる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアタリレー ト系および多官能アタリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。

[0044] 本発明においては、光反射率が低ぐかつ耐擦傷性に優れる光学積層フィルムを 得るためには、ハードコート層の屈折率 n 力 その上に積層する低屈折率層の屈折

H

率 nとの間に、下記関係式 [2]および [3]を満たすことが必要であり、下記関係式 [5

L

]および [6]を満たすことが好ましい。ハードコート層の屈折率 n が下記式 [2]を満た

H

さない場合は、その上に積層する低屈折率層の設計が難しくなり、低屈折率層がもろ くなつてしまう。

式 [2]： n ≥1. 53

H

式 [3] : n— 0. 2 <n く fn + 0. 2、 式 [5]： n ≥1. 55

H

式 [6] : n -0. 15 <n < ^n + 0. 15

H L H

[0045] ハードコート層には、所望により、ハードコート層の屈折率の調整、曲げ弾性率の向 上、体積収縮率の安定化、耐熱性、帯電防止性、防眩性などの向上を図る目的で、 例えば、シリカ、アルミナ、水和アルミナなどの各種フィラーを含有せしめてもよい。さ らに、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レべリング剤、消泡剤な どの各種添加剤を配合することもできる。

[0046] ハードコート層にフィラーを含有させる場合において、屈折率や帯電防止性を調整 する場合には、各種フィラーの中でもハードコート層の屈折率や帯電防止性を容易 に調整可能であるという点で、酸化チタン、酸化ジノレコニゥム、酸化亜鉛、酸化錫、酸 ィ匕セリウム、 5酸化アンチモン、錫をドープした酸化インジウム（ITO)、アンチモンをド ープした酸化錫（IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛 (AZO)、フッ素をドープ した酸化錫 (FTO)が好ましぐ透明性を維持できるという点から五酸化アンチモン、 I TO、 IZ〇、 ATO、 FT〇がさらに好ましい。これらのフィラー粒子の大きさは、一次粒 子径が lnm以上であり、かつ lOOnm以下、好ましくは 30nm以下である。

[0047] ハードコート層にフィラーを含有させる場合において、防眩性を付与する場合には 、平均粒径が 0. 5— 10 /i mのものが好ましぐ 1一 7 μ ΐηのものがより好ましい。防眩 性を付与するフイラ一の具体例としては、ポリメチルメタタリレート樹脂、フッ化ビニリデ ン樹脂およびその他のフッ素樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポ リスチレン樹脂、フエノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチ レン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの有機樹脂フィラー;または酸化 チタン、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化錫、酸 化ジルコニウム、 ΐτ〇、フッ化マグネシウム、酸化ケィ素などの無機フィラーが挙げら れる。

[0048] ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工 液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、加熱または紫外線照射により 、硬化させて形成する方法が挙げられる。

[0049] ハードコート層の厚さは、好ましくは 0. 5— 30 z m、より好ましくは 3— 15 z mである 。ハードコート層の厚さが薄すぎると、その上に形成する各層の硬度を維持できなく なり、逆に、厚すぎると光学積層フィルム全体の柔軟性が低下し、硬化に時間がかか り生産効率の低下を招くおそれがある。

[0050] 本発明の光学積層フィルムの低屈折率層はエア口ゲルから構成される。エア口ゲル としては、低屈折率層の屈折率 n力 下記式 [1]および [3]を満たすものであれば特

L

に制限されない。

式 [1] : n ≤1. 37

L

式 [3] : n -0. 2<n く fn + 0. 2

H L H

ここで、 n は、ハードコート層の屈折率である。

H

特に、下記関係式 [4]および [6]が満たされることが好ましい。

式 [4] : 1. 25≤n≤1. 35

L

式 [6] : n -0. 15 <n く fn +0. 15

H L H

[0051] 低屈折率層の構成は、少なくとも 1層からなればよぐ多層でもよい。低屈折率層が 多層からなる場合は、少なくともハードコート層に一番近い層の屈折率が nが上記各

L

式を満たせばよい。

[0052] エア口ゲルは、マトリックス中に微小な気泡が分散した透明性多孔質体である。気 泡の大きさは大部分が 200nm以下であり、気泡の含有量は、通常 10— 60体積％、 好ましくは 20— 40体積％である。

[0053] 微小な気泡が分散したエア口ゲルの具体例としては、シリカエア口ゲルおよび中空 粒子がマトリックス中に分散された多孔質体が挙げられる。

[0054] シリカエア口ゲルは、米国特許第 4,402,927号公報、米国特許第 4,432,956号公 報および米国特許第 4,610,863号公報などに開示されているように、アルコキシシラ ンの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状化合 物を、アルコールあるいは二酸化炭素などの溶媒 (分散媒）の存在下で、この溶媒の 臨界点以上の超臨界状態で乾燥することによって製造することができる。超臨界乾 燥は、例えばゲル状化合物を液化二酸ィ匕炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が含む溶 媒の全部または一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この 後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下 で乾燥することによって、行うことができる。また、シリカエア口ゲルは、米国特許第 5, 137,279号公報、米国特許 5, 124,364号公報などに開示されているように、ケィ酸 ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造してもよい。

[0055] ここで、特開平 5-279011号公報および特開平 7-138375号公報に開示している ように、上記のようにしてアルコキシシランの加水分解、重合反応によって得られたゲ ル状化合物を疎水化処理することによって、シリカエア口ゲルに疎水性を付与するこ とが好ましレ、。このように疎水性を付与した疎水性シリカエア口ゲルは、湿気や水など が浸入し難くなり、シリカエア口ゲルの屈折率や光透過性などの性能が劣化すること を防ぐことができる。

[0056] この疎水化処理の工程は、ゲル状化合物を超臨界乾燥する前、あるいは超臨界乾 燥中に行うことができる。疎水化処理は、ゲル状化合物の表面に存在するシラノール 基の水酸基を疎水化処理剤の官能基と反応させ、疎水化処理剤の疎水基と置換さ せることによって疎水化するために行うものである。疎水化処理を行う手法としては、 疎水化処理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲルを浸漬し、混合するなどし てゲル内に疎水化処理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱して、疎水化反応を行 わせる方法があげられる。

[0057] 疎水化処理に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノー ノレ、キシレン、トルエン、ベンゼン、 N, N-ジメチルホルムアミド、へキサメチルジシロ キサンなどを挙げることができる力 疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処 理前のゲルが含有する溶媒と置換可能なものであればよぐこれらに限定されるもの ではない。

[0058] また後の工程で超臨界乾燥が行われる場合、超臨界乾燥の容易な媒体、例えばメ タノ一ノレ、エタノール、イソプロパノール、液化二酸化炭素などと同一種類もしくはそ れと置換可能なものが好ましく用いられる。また、疎水化処理剤としては、例えば、へ キサメチノレジシラザン、へキサメチノレジシロキサン、トリメチノレメトキシシラン、ジメチノレ ジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ェチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシ シラン、ジメチルジェトキシシラン、メチルトリエトキシシランなどを挙げることができる。

[0059] シリカエア口ゲルの屈折率は、シリカエア口ゲルの原料配合比によって自由に変化 させること力 Sできる。

[0060] 低屈折率層がシリカァエロゲルである場合の、形成方法は特に制限されず、例え ば、ハードコート層の上に前記ゲル状化合物を公知の塗工方法により塗工して、前 記の超臨界乾燥を行って形成する方法が挙げられる。また、超臨界乾燥前または超 臨界乾燥中に疎水化処理を行ってもよい。超臨界乾燥は、例えば、前記ゲル状化合 物を液化二酸化炭素中に浸漬し、該ゲル状化合物を含む溶媒の全部または一部を この溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独 系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥を行うことによって 行うことができる。

[0061] 中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開 2001— 233611号 公報および特開 2003—149642号公報に開示されているような、微粒子の内部に空 隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂に分散させた多孔質体が挙げられる。

[0062] バインダー樹脂としては中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強 度などの条件に適合する樹脂などから選択して用いることができ、例えば従来力も用 レ、られているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビュル樹脂、ェポ キシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、プチラール樹脂、フエノール樹脂 、酢酸ビュル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、ェマルジヨン樹脂、水溶性 樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体 などの塗料用樹脂、またはアルコキシシランなどの加水分解性有機珪素化合物およ びその加水分解物などが挙げられる。

[0063] これらの中でも微粒子の分散性、多孔質体の強度からアクリル樹脂、エポキシ樹脂

、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、アルコキシシランなどの加水分解性有機珪素化合物、 およびその加水分解物が好ましレ、。

[0064] 本発明において、低屈折率層として中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質 体を用いる場合には、低屈折率層の反射特性や防汚性を向上させることから、上記 樹脂にフッ素樹脂を混合してもよい。

[0065] フッ素樹脂は結晶による光の散乱が実質的にない非晶性の含フッ素重合体であれ ば何ら限定されなレ、が、中でもテトラフルォロエチレン Zビニリデンフルオライド Zへ キサフルォロプロピレン = 37— 48重量％/l 5— 35重量％/26— 44重量％の 3元 共重合体などの非晶性のフルォロォレフイン系共重合体、および含フッ素脂肪族環 構造を有する重合体が機械的特性に優れるため好ましい。

[0066] 前記アルコキシシランなどの加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物 は、下記（a)—（c)からなる群から選ばれる 1種以上の化合物から形成されたもので あって、分子中に、 - (O-Si) _〇- (式中、 mは自然数を表す。）結合を有するもので m

ある。

(a)式 (i)： SiXで表される化合物（以下、化合物 (i)という）。

4

(b)前記化合物 G)の少なくとも 1種の部分加水分解生成物（以下、化合物（π)とレ、う）

(c)前記化合物 G)の少なくとも 1種の完全加水分解生成物（以下、化合物（in)とレ、う

) o

[0067] 前記（a)の化合物（i)において、 Xは、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；置 換基を有してレ、てもよレ、一価の炭化水素基；酸素原子；酢酸根、硝酸根などの有機 酸根；ァセチルァセトナートなどの β -ジケトナート基;硝酸根、硫酸根などの無機酸 根；メトキシ基、エトキシ基、 η-プロポキシ基、 η-ブトキシ基などのアルコキシ基；また は水酸基を表す。

[0068] これらの中でも、化合物（i)としては、式 (i) _l : R SiY 〔式中、 Rは置換基を有して a 4-a

いてもよい一価の炭化水素基を表し、 aは 0— 2の整数を表し、 aが 2のとき、 Rは同一 であっても相異なっていてもよい。 Yは加水分解性基を表し、 Yは同一であっても相 異なっていてもよい。〕で表されるケィ素化合物（以下、化合物（i) _lという）が好まし レ、。

[0069] 置換基を有してレ、てもよレ、一価の炭化水素基としては、メチル基、ェチル基、プロピ ル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、ォクチル基などのアルキル 基；シクロペンチル基、シクロへキシル基などのシクロアルキル基；フエ二ル基、 4 -メチ ルフヱニル基、 1-ナフチル基、 2-ナフチル基などの置換基を有していてもよいァリー ル基；ビュル基、ァリル基などのアルケニル基；ベンジル基、フヱネチル基、 3-フエ二 ルプロピル基などのァラルキル基；クロロメチル基、 γ -クロロプロピル基などのハロア ノレキノレ基、 3, 3, 3_卜リフノレ才ロプロヒ。ノレ基、メチノレー 3, 3, 3—卜リフノレ才ロプロヒ。ノレ基 、ヘプタデカフルォロデシル基、トリフルォロプロピル基、トリデカフルォロォクチル基 などのパーフルォロアルキル基； γ -メタクリロキシプロピル基などのアルケニルカル ボニルォキシアルキル基； γ -グリシドキシプロピル基、 3, 4-エポキシシクロへキシル ェチル基などのエポキシ基を有するアルキル基； γ -メルカプトプロピル基などのメル カプト基を有するアルキル基； 3 -ァミノプロピル基などのアミノ基を有するアルキル基； などを例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性、低反射 特性から、炭素数 1一 4のアルキル基、パーフルォロアルキル基、フヱニル基が好ま しい。

[0070] 前記式 (i)一 1において Υは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望に より酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、 -(o-si) m -o_結合を生じせしめる 基をいう。

[0071] 加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアル コキシ基；ァセトキシ基、プロピオニルォキシ基などのァシルォキシ基；ォキシム基（- 0-N = C-R' "））、ェノキシ基（-0-〇（ ）=〇 "） "）、ァミノ基、アミノキシ基（ -0-N (R' ) R")、ァミド基(-N (R' ) -C ( =〇）-R")などが挙げられる。これらの基に おいて、 R'、 R"、 R"'は、それぞれ独立して水素原子または一価の炭化水素基を表 す。これらの中でも、 Yとしては、入手容易性などからアルコキシ基が好ましい。

[0072] 化合物（i) _lとしては、式 (i) _l中、 aが 0— 2の整数であるケィ素化合物が好ましい。

その具体例としては、アルコキシシラン類、ァセトキシシラン類、ォキシムシラン類、ェ ノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類などが挙げられる。 これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。

[0073] 式 (i) _l中、 aが 0であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエ トキシシランなどを例示でき、 aが 1であるオノレガノトリアルコキシシランとしては、メチ ルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フエ二 ノレ卜リメトキシシラン、フエ二ノレ卜リエ卜キシシラン、 3， 3， 3—卜リフノレ才ロプロピノレ卜リメト キシシランなどを例示できる。また、 aが 2であるジオルガノジアルコキシシランとしては 、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジェトキシシラン、ジフエ二ルジメトキシシラン、ジ フエ二ルジェトキシシラン、メチルフエ二ルジメトキシシランなどを例示できる。

[0074] 化合物（i)_lの分子量は特に制限されないが、 40— 300であるのが好ましぐ 100 一 200であるのがより好ましい。

[0075] 化合物（i)の少なくとも 1種の部分加水分解生成物である化合物（ii)、および化合物（ i)の少なくとも 1種の完全加水分解生成物である化合物（iii)は、化合物（i)の 1種また はそれ以上を、全部または部分的に加水分解、縮合させることによって得ることがで きる。

[0076] 化合物（ii)および化合物 (iii)は、例えば、 Si (Or) (rは 1価の炭化水素基を表す。 )

4

で表される金属テトラアルコキシドを、モル比 [H 0

2 ]7[〇で]が1. 0以上、例えば 1. 0 一 5. 0、好ましくは 1. 0-3. 0となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる 。加水分解は、 5 100°Cの温度で、 2 100時間、全容を撹拌することにより行うこ とができる。

[0077] 化合物 (i)を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒 としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物および/あるい は加水分解物が 2次元架橋構造になりやすぐその縮合化合物が多孔質化しやすい 点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。

[0078] 用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロ口酢酸、クェン酸、 安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、ダルタール酸、グリコーノレ酸、マ レイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シユウ酸などの有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲ ン化シランなどの無機酸；酸性コロイダルシリ力、酸化チタニアゾルなどの酸性ゾル状 フィラー；を挙げることができる。これらの酸触媒は 1種単独で、あるいは 2種以上を組 み合わせて使用することができる。

[0079] また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金 属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、ァミン類の水溶 液などの塩基触媒を用いてもょレ、。

[0080] 化合物 (π)および化合物 (m)の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均 分子量が 200 5000の範囲である。

[0081] 中空微粒子は無機化合物の微粒子であれば、特に制限されないが、外殻の内部に 空洞が形成された無機中空微粒子が好ましぐシリカ系中空微粒子の使用が特に好 ましい。

[0082] 無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、 SiO、 A1

2

〇、 B〇、 Ti〇、 Zr〇、 Sn〇、 Ce〇、 P〇、 Sb〇、 Mo〇、 Zn〇、 WOなど

2 3 2 3 2 2 2 2 3 2 5 2 3 3 2 3 の 1種または 2種以上を挙げることができる。 2種以上の無機酸化物として、 Ti〇 -A1

2 2

〇、 TiO -ZrO、 In〇 - Sn〇、 Sb〇 - Sn〇を例示することができる。これらは 1種

3 2 2 2 3 2 2 3 2

単独で、あるいは 2種以上を組み合わせて用いることができる。

[0083] 無機中空微粒子としては、（A)無機酸化物単一層、 （B)種類の異なる無機酸化物か らなる複合酸化物の単一層、および（C)上記 (A)と（B)との二重層を包含するものを 用いることができる。

[0084] 中空微粒子の外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよぐあるいは細孔が閉 塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内 側の第 1無機酸化物被覆層および外側の第 2無機酸化物被覆層からなる複数の無 機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第 2無機酸化物被覆層を設けることに より、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封し た無機中空微粒子を得ることができる。特に第 2無機酸化物被覆層の形成に含フッ 素有機珪素化合物を用いる場合は、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、 得られる粒子はより低屈折率となるとともに、有機溶媒への分散性もよぐさらに低屈 折率層の防汚性付与にも効果があり好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物の 具体例としては、 3, 3, 3-トリフルォロプロピルトリメトキシシラン、メチル -3, 3, 3-トリ

、ヘプタデカフルォロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルォロデシルトリメトキシシ ラン、トリフルォロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルォロォクチルトリメトキシシラ ンなどをあげることができる。

[0085] 外殻の厚みは 1一 50nm、特に 5— 20nmの範囲であるのが好ましレ、。外殻の厚み 力 lnm未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持できない場合があ る。逆に、外殻の厚みが 50nmを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さぐその 結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。さらに、 外殻の厚みは、無機中空微粒子の平均粒子径の 1/50— 1/5の範囲にあることが 好ましい。

[0086] 上述のように第 1無機酸化物被覆層および第 2無機酸化物被覆層を外殻として設 ける場合、これらの層の厚みの合計力 上記 1一 50nmの範囲となるようにすればよく 、特に、緻密化された外殻には、第 2無機酸化物被覆層の厚みは 20— 40nmの範囲 が好適である。

[0087] また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒および Zまたは乾 燥時に浸入する気体が存在してもよレ、し、後述する空洞を形成するための前駆体物 質が空洞に残存してレ、てもよレ、。

[0088] 前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除 去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物から なる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに 残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。

[0089] なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。この ときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い 無機中空微粒子が得られ、この無機中空微粒子を配合して得られる透明被膜は低 屈折率で反射防止性能に優れる。

[0090] 無機中空微粒子の平均粒径は特に制限されないが、 5— 2,000nmの範囲が好ま しぐ 20— lOOnm力 Sより好ましい。 5nmよりも小さいと、中空によって低屈折率になる 効果が小さぐ逆に、 2，000nmよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射に よる寄与が大きくなつてしまう。ここで、平均粒径は、透過型電子顕微鏡観察による数 平均粒子径である。

[0091] 上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開 2001-233611号公報 に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載され た方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子 を用レ、ることもできる。

[0092] 無機微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、 10 3 0重量％であるのが好ましい。無機微粒子の配合量がこの範囲であるときに、低屈折 率性と耐擦傷性を兼ね備えた光学積層フィルムを得ることができる。

[0093] 前記無機微粒子は、分散液の形で用いることもできる。分散液に用いる有機溶媒 の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノーノレ、エタノール、イソプロ パノール（IPA)、 n -ブタノール、イソブタノールなどの低級脂肪族アルコール類；ェ チレングリコーノレ、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコーノレ モノェチルエーテルなどのエチレングリコール誘導体；ジエチレングリコール、ジェチ レングリコールモノブチルエーテルなどのジエチレングリコール誘導体；ジアセトンァ ルコール；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素； n-へキサン、 n -ヘプタンなどの 脂肪族炭化水素；酢酸ェチル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトン、メチルェチ ノレケトン、メチルイソプチルケトンなどのケトン類;などが挙げられる。これらの有機溶 媒は 1種単独で、あるいは 2種以上を組み合わせて使用することができる。

[0094] 低屈折率層が中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体である場合、その形 成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に少なくとも微粒子の内部に 空隙をもつ中空微粒子をバインダー樹脂を含有してなる塗布液を公知の塗工方法 により塗工し、必要に応じ乾燥 ·加熱処理を施す方法が挙げられる。必要に応じて行 われる加熱の温度は、通常 50— 200°C、好ましくは 80— 150°Cである。

[0095] 本発明において、低屈折率層の厚さは、 10— 1000nm、好ましくは 30— 500nm である。また、前述のように、低屈折率層は、少なくとも 1層から構成されればよぐ多 層でもよい。

[0096] 本発明の光学積層フィルムは、前述のように、ハードコート層の屈折率 n と低屈折

H

率層の屈折率 nLとが、式 [l]n ≤1. 37、式 [2]n ≥1. 53、および式 [3] n— 0.

L H H

2く n く fn +0. 2を満足しなければならず、式 [4] 1 · 25≤n≤1. 35、式 [5]n

L H L H

≥1. 55、および式 [6] ΓΠ -0. 15く η く fn +0. 15、を満足することが好ましい

H L H

。これらの式が満たされることにより、光学積層フィルムの光反射率を低くすることがで き、視認性、耐擦傷性及び強度に優れた光学製品が得られる。

[0097] 本発明の光学積層フィルムは、波長 550nmにおける反射率が 0. 7%以下でかつ 波長 430nm 700nmにおける反射率が 1. 5%以下であることが好ましぐ波長 55 Onmにおける反射率が 0. 6%以下でかつ波長 430nm 700nmにおける反射率が 1. 4%以下であることがさらに好ましい。

[0098] 本発明の光学積層フィルムの層構成の一例を図 1に示す。図 1に示す光学積層フ イルム 50は、図中下側から、基材フィルム層 11、ハードコート層 21、低屈折率層 31、 および防汚層 41からなつている。

[0099] 本発明の光学積層フィルムにおいては、基材フィルム 11とハードコート層 21との間 にその他の層を介在させることができる。その他の層としては、プライマー層（図示を 省略）が挙げられる。

[0100] プライマー層は、基材フィルムとハードコート層との接着性の付与および向上を目 的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、ポリエステルウレタン系 樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシァネート系樹脂、ポリオレフイン系樹脂 、主鎖に炭化水素骨格および/またはポリブタジエン骨格を有する樹脂、ポリアミド 樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩ィ匕ビニル-酢酸ビニル共重合体、塩 化ゴム、環化ゴムまたはこれらの重合体に極性基を導入した変性物が挙げられる。

[0101] なかでも、主鎖に炭化水素骨格および/またはポリブタジエン骨格を有する樹脂の 変性物および環化ゴムの変性物が好ましい。

[0102] 主鎖に炭化水素骨格および/またはポリブタジエン骨格を有する樹脂としては、ポ リブタジエン骨格もしくはその少なくとも一部を水素添加した骨格を有する樹脂、具体 的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン 'ブタジエン'スチレ ンブロック共重合体（SBS共重合体）およびその水素添加物（SEBS共重合体)など が挙げられる。中でも、スチレン.ブタジエン.スチレンブロック共重合体の水素添加 物の変性物が好ましい。

[0103] 導入する極性基としては、カルボン酸またはその誘導体が好ましぐ具体的には、 アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸などの不飽和カルボン酸；塩化マレ ィル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸などの不飽和カルボン酸のハロゲ ン化物、アミド、イミド、無水物、エステルなどの誘導体;などによる変性物が挙げられ 、密着性に優れることから、不飽和カルボン酸または不飽和カルボン酸無水物による 変性物が好ましぐアクリル酸、メタクリノレ酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好まし く、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましレ、。これらの不飽和カルボン酸などの 2 種以上を混合して用い、変性してもよい。

[0104] プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液 を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。

[0105] プライマー層の厚みは特に制限されなレ、が、通常 0. 3-5 μ m、好ましくは 0. 5-2 μ mであ 。

[0106] 本発明の光学積層フィルムにおいては、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を 高めるために、低屈折率層の上に防汚層（図 1中の参照数字 41)をさらに有してもよ レ、。

[0107] 防汚層を構成する材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての 要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく 使用できる。具体的な例としてはパーフルォロアルキルシラン化合物、パーフルォロ ポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防 汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリングなどの物 理的気相成長法、 CVDなどの化学的気相成長法、湿式コーティング法などを用いる こと力 Sできる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常 20nm以下が好ましぐ 1-1 Onmであるのがより好ましレ、。

[0108] 本発明の光学積層フィルムは、光学特性に優れ、光反射率が低いことから、光学部 材の反射防止性保護フィルムとして好適である。

[0109] 反射防止性保護フィルムは、一般に液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、 EL素子、陰極管表示装置などの画像表示装置ゃタツチパネルなどの光学装置にお いて、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するために用いら れている。これらの反射防止性保護フィルムは、通常各光学装置における視認側最 上層に形成されている光学部材の反射防止性保護フィルムとして設けられることが多 レ、。

[0110] 本発明の光学積層フィルムは、前記光学部材として、特に液晶表示装置における 偏光板の保護フィルムに適用することが好ましい。

[0111] 本発明の反射防止機能付き偏光板は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルム の反射防止層が設けられていない側の一面に、偏光板が積層されてなることを特徴 とする。

[0112] 本発明で使用できる偏光膜は、偏光子としての機能を有するものであれば、特に限 定はされなレ、。例えば、ポリビニルアルコール（PVA)系やポリェン系の偏光膜が挙 げられる。

[0113] 本発明においては、用いる偏光膜として、偏光度が 99. 9%以上のものが好ましぐ

99. 95%以上であることがさらに好ましい。偏光度は、 2枚の偏光膜を偏光軸が平行 になるように重ね合わせた場合の透過率 (H )と、直交に重ね合わせた場合の透過

0

率 ）それぞれを、 JIS Z8701の 2度視野（C光源）により、分光光度計を用いて

90

測定し、以下の式から偏光度を求める。なお、前記 H及び H は、視感度補正した Y

0 90

値である。

[0114] 偏光度(％) = [ 01 _1^ ) / (H +H ) ] ^1/2 X 100

0 90 0 90

偏光膜の製造方法は特に限定されない。 PVA系の偏光膜を製造する方法として は、 PVA系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、 PVA系 フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、 PVA系フィルムへの ヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、 PVA系フィルムを二色性染料で 染色した後に一軸に延伸する方法、 PVA系フィルムを一軸に延伸した後に二色性 染料で吸着する方法、 PVA系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同 時に行う方法が挙げられる。また、ポリェン系の偏光膜を製造する方法としては、 PV A系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱 ·脱水する方法、ポリ塩 化ビュル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱'脱水する方法 などの公知の方法が挙げられる。

[0115] 本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルムの 反射防止層が設けられていない側の一面に、偏光膜を積層することにより製造するこ とができる。

[0116] 基材フィルムと偏光膜との積層は、接着剤や粘着剤などの適宜な接着手段を用い て貼り合わせることができる。接着剤または粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリ コーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系などが挙げられる 。これらの中でも、耐熱性や透明性などの観点から、アクリル系のものが好ましい。 [0117] 本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図を図 2に示す。図 2に示す反射 防止機能付偏光板 81は、本発明の光学積層フィルム 50の基材フィルム 11の低屈折 率層 31が設けられていない面側に、接着剤または粘着剤からなる層 61を介して、偏 光膜 71が積層された構造を有している。

[0118] 本発明の反射防止機能付偏光板においては、偏光膜の基材フィルムが積層されて いない方の面に、接着剤または粘着剤からなる層 61を介して、別の保護フィルム（図 示を省略）が積層されていてもよい。保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料 力 なるものが好ましい。光学異方性が低い材料としては、特に制限されず、例えば トリァセチルセルロースなどのセルロースエステルや脂環式構造を有する重合体樹 脂などが挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性などに優れる点から脂環 式構造を有する重合体樹脂が好ましレ、。脂環式構造を有する重合体樹脂としては、 本発明の基材フィルムの部分で記載したものと同様のものが挙げられる。接着剤また は粘着剤としては、偏光板保護フィルムと偏光膜との積層に用いる接着剤または粘 着剤と同様のものが挙げられる。本発明の反射防止機能付偏光板の厚みは、特に 制限されないが、通常 60 /i m— 2mmの範囲である。

[0119] 本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする 。反射防止機能付偏光板を備える光学製品の好ましい具体例としては、液晶表示装 置、タツチパネルなどが挙げられる。

[0120] 本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、本発明の反射 防止機能付偏光板を備える液晶表示素子の層構成例を図 3に示す。図 3に示す液 晶表示素子 98は、下から順に、偏光板 91、位相差板 92、液晶セル 93、および本発 明の反射防止機能付偏光板 81からなる。反射防止機能付偏光板 81は、液晶セル 9 3上に、接着剤または粘着剤（図示を省略)を介して、偏光板面と貼り合わせて形成さ れている。液晶セル 93は、例えば図 4に示すように、透明電極 94を備えた電極基板 95の 2枚をそれぞれ透明電極 94が対向する状態で所定の間隔をあけて配置すると ともに、その間隙に液晶 96を封入することにより作製される。液晶 96封入部の両端 縁部はシール 97で封止されてレ、る。

[0121] 液晶表示装置の形成に際しては、例えば、輝度向上フィルム、プリズムアレイシート 、レンズアレイシート、導光板、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位 置に 1層または 2層以上配置することができる。

液晶 96の液晶モードは特に限定されなレ、。液晶モードとしては、例えば、 TN (Twi sted Nematic)型、 STN (Super Twisted Nematic)型、 HAN (Hybrid Alig nment Nematic)型、 MVA (Multiple Vertical Alignment)型、 IPS (In Pla ne Switching)型、〇CB (Optical Compensated Bend)型、などが挙げられる

[0122] また、図 3に示す液晶表示装置 98は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に喑表 示であるノーマリーホワイトモードでも、また、印加電圧が低い時に喑表示、高い時に 明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。

[0123] 本発明の光学製品は、広帯域にわたって低光反射率を達成できる反射防止機能 付偏光板を備える。従って、特に液晶表示装置に用いた場合に、視認性に優れ (グ レアや映り込みがない）、さらに明暗表示のコントラストに優れる。

実施例

[0124] 本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例 のみに限定されるものではない。なお、部は特に断りのない限り重量基準である。

[0125] 本実施例における物性の評価は、以下の方法によって行った。

(1)基材フィルムの膜厚 (基準膜厚、膜厚変動値）

フィルムを長さ方向に 100mm毎に切り出し、その切り出したフィルムについて、接 触式ウェブ厚さ計（明産社製、 RC-101)を用いて、フィルムの幅方向に 0. 48mm毎 に測定し、その測定値の算術平均値を基準膜厚 T ( z m)とする。膜厚変動は、前記 測定した膜厚の内最大値を T ( μ m)、最小値を T ( μ m)として以下の式から

MAX MIN

算出する。

膜厚変動（％) = (Τ -Τ ) /TX 100

MAX MIN

[0126] (2)基材フィルムの揮発性成分の含有量 (重量％ )

基材フィルム 200mgを、表面に吸着していた水分や有機物を完全に除去した内径 4mmのガラスチューブの試料容器に入れる。次に、その容器を温度 100°Cで 60分 間加熱し、容器力 出てきた気体を連続的に捕集する。そして、捕集した気体を熱脱 着ガスクロマトグラフィー質量分析計 (TDS-GC-MS)で分析し、その中で分子量 20 0以下の成分の合計量を残留揮発性成分として測定する。

[0127] (3)基材フィルムの飽和吸水率（重量％)

ASTM D530に従レ、、 23°Cで 1週間浸漬して増加重量を測定することにより求め る。

[0128] (4)基材フィルムのダイラインの深さまたは高さ（ μ m)

非接触 3次元表面形状 ·粗さ測定機 (ザィゴ社製)を用いて、横 5. 6mm X縦 4. 4m mの視野で、縦を 480分害 ij、横を 640分害 Uして 640 X 480升目で観察する。

[0129] (5)ハードコート層および低屈折率層の屈折率

高速分光エリプソメーター (J. A. Woollam社製、 M-2000U)を用いて、測定波長 245— lOOOnm、入射角 55° 、 60° および 65° で測定し、その測定値を元に算出 した値を屈折率とする。

[0130] (6)偏光膜の偏光度

2枚の偏光膜を偏光軸が平行になるように重ね合わせた場合の透過率 (H )と、直

0 交に重ね合わせた場合の透過率 (H )それぞれを、 JIS Z8701の 2度視野 (C光源

90

)により、分光光度計を用いて測定し、以下の式から偏光度を求める。なお、前記 H

0 及び H は、視感度補正した Y値である。

90

偏光度（％) = [ -11 ) / (H + H ) ] ^1/2 X 100

0 90 0 90

[0131] (7)光反射率（％)

光学積層フィルムの任意の 3箇所について、分光光度計（日本分光社製：「紫外可 視近赤外分光光度計 V-570」）を用い、入射角 5° で反射スペクトルを測定し、波 長 430— 700nmにおける光反射率を求め、波長 550nmにおける光反射率と、波長 430— 700nmにおける光反射率の最大値を波長 430 700nmにおける光反射率 とする。

[0132] (8)視認性

得られた偏光板を適当な大きさ（10インチ四方）に切り出し、低屈折率層を形成さ せたほうの面を上面にして、図 3に示す液晶表示素子に偏光板（図 3の上側偏光板 2 1)として組み込んで液晶表示素子を作製する。次いで、市販のライトボックス（商品 名：ライトビユア- 7000PR〇、ノ、クバ写真産業社製）の上に、液晶表示素子をのせて 簡易液晶パネルを作製し、液晶表示素子の表示を黒にして、正面よりパネルを目視 にて観察し、以下の 3段階で評価を行う。

〇：グレァ (視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによっておきる不快感ゃ 見にくさのことで、光源から直接または間接に受けるギラギラしたまぶしさなどのことを いう）や映りこみがまったくない。

△：グレアや映りこみが少し見られる。

X：グレアや映りこみが画面全面で見られる。

[0133] なお、図 3に示す液晶表示素子 98は、液晶セル 93の片面に反射防止機能付偏光 板 81、他面に位相差板 92を介して下側偏光板 91を積層することにより構成される。 液晶セノレ 93は、図 4に示すように、透明電極 94を備えた電極基板 95の透明電極 94 面に配向膜を形成した後、その透明電極 94を備えた電極基板 95を 2枚それぞれの 透明電極 94が対向する状態で所定の間隔をあけて配置すると共に、その間隙に液 晶 96を封入することにより作製される。 97はシールである。この液晶表示素子 98は、 プラスチックの額縁に固定することによって保持される。

[0134] 反射防止機能付偏光板 81は、厘2に示すように、偏光膜 71に接着剤または粘着 剤からなる層 61を介して、偏光膜の上側に光学積層フィルム 50が積層されている。

[0135] (9)コントラスト

前記（8)で作成した液晶表示パネルを暗室に設置し、喑表示の時と明表示の時の 正面から 5° の位置における輝度を色彩輝度計（トプコン社製、色彩輝度計 BM-7) を用いて測定する。そして、明表示の輝度と暗表示の輝度の比（=明表示の輝度/ 喑表示の輝度）を計算し、これをコントラストとする。コントラストが大きいほど、視認性 に優れる。

[0136] 製造例 1 基材フィルム 1 Aの製造

ノルボルネン系重合体（製品名「ZEON〇R 1420R」、 日本ゼオン社製；ガラス転 移温度 136°C、飽和吸水率 0. 01重量％未満）のペレットを、空気を流通させた熱風 乾燥機を用いて 110°Cで、 4時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状 のポリマーフィルター (濾過精度 30 μ m)を設置したダイリップ内面に表面粗さ Ra = 0 . 05 μ mのクロムメツキを施したリップ幅 650mmのコートハンガータイプの Tダイを有 する短軸押出機を用いて、 260°Cで溶融押出して 600mm幅の基材フィルム 1Aを得 た。得られた基材フィルム 1Aの揮発性成分の含有量は 0. 01重量％以下、飽和吸 水率は 0. 01重量％以下であった。また、この基材フィルム 1Aの基準膜厚は 40 x m 、膜厚変動は 2. 3%、ダイラインの深さは 0. 01 x mであった。

[0137] 製造例 2 ハードコート層形成用組成物 1の調製

5酸化アンチモンの変性アルコールゾル（固形分濃度 30%、触媒化成社製） 100 重量部に、紫外線硬化型ウレタンアタリレート（日本合成化学者製、商品名「紫光 UV 7000B」） 10重量部、光重合開始剤（チバガイキー社製、商品名「ィルガキュア一 18 4」）0. 4重量部を混合し、紫外線硬化型のハードコート層形成用組成物 1を得た。

[0138] 製造例 3 シリコンアルコキシド溶液 1の調製

テトラメトキシシランのオリゴマー（コルコート社製「メチルシリケート 51」）と、メタノー ルを質量比 47 : 75で混合して A液を調製し、また水、アンモニア水（アンモニア 28重 量％)、メタノールを重量比で 60 : 1. 2 : 97. 2で混合して B液を調製した。

そして、 A液と B液を 16： 17の重量比で混合してシリコンアルコキシド溶液 1を得た。

[0139] 製造例 4 シリコンアルコキシド溶液 2の調製

A液を調製する際、テトラメトキシシランのオリゴマーとメタノールを質量比 47 : 78で 混合する他は、製造例 3と同様にしてシリコンアルコキシド溶液 2を得た。

[0140] 製造例 5 シリコンアルコキシド溶液 3の調製

A液を調製する際、テトラメトキシシランのオリゴマー（コルコート社製「メチルシリケ ート 51」）メタノールを質量比 47： 79で混合する他は、製造例 3と同様にしてシリコン アルコキシド溶液 3を得た。

[0141] 製造例 6 低屈折率層形成用組成物の調製

テトラエトキシシラン 300gとエタノール 455gを混合し、これに 1. 0質量％クェン酸 水溶液 295gを添加した後に、室温にて 1時間攪拌することでテトラエトキシシランカロ 水分解物 Aを調製した。

そして、テトラエトキシシラン加水分解物 Aを 1020部、末端反応性ジメチルシリコー ンオイノレ（日本ュユカ一社製 L-9000)を 0. 42部、プロピレングリコールモノメチルェ 一テルを 2700部およびイソプロピルアルコール 6300部を混合して低屈折率層形成 用組成物を得た。

[0142] 製造例 7 偏光膜の調製

厚さ 45 z mの PVAフイノレム（重合度 2400、ケン化度 99. 9%)を純粋中で膨潤さ せてから、ヨウ素 1重量 5とヨウ化カリウム 3重量％の混合水溶液に浸漬し、前記 PVA フィルムを染色した。次いで、このフィルムを 4. 5重量％ホウ酸水溶液に浸漬し、長 手方向に 5. 3倍延伸し、続いて 5重量％ホウ砂水溶液に浸漬し、長手方向における 総延伸倍率が 5. 5倍となるように延伸した。延伸後、フィルム表面の水分を取り除き、 50°Cで乾燥して偏光膜を調製した。この偏光膜の厚さは 18 x m、偏光度は 99. 95 %であった。

[0143] 実施例 1

製造例 1で得られた基材フィルム 1Aの両面に、高周波発振機（コロナジェネレータ 一 HV05-2、 Tamtec社製）を用いて、出力電圧 100%、出力 250Wで、直径 1 · 2m mのワイヤー電極で、電極長 240mm、ワーク電極間 1. 5mmの条件で 3秒間コロナ 放電処理を行い、表面張力が 0. 072N/mになるように表面改質して基材フィルム 1 Bを得た。

[0144] 基材フィルム 1Bの片面に、製造例 2で調製したハードコート層形成用組成物 1を硬 化後のハードコート層の膜厚が 5 μ mになるように、ダイコーターを用いて連続的に 塗布した。次いで、 80°Cで 5分間乾燥させた後、紫外線照射 (積算光量 300mj/c m²)を行い、ハードコート層形成用組成物を硬化させ、ハードコート層積層フィルム 1 Cを得た。硬化後のハードコート層の膜厚は 5 μ ΐη、表面粗さは 0. 2 /i m、屈折率は 1. 62であった。

[0145] 製造例 3で得られたシリコンアルコキシド溶液 1を、混合開始後 1分を経過した時点 で、前記高屈折率積層フィルム 1C (縦 15cm X横 15cm)の上に滴下し、スピンコー ターの回転室にこの積層フィルム 1 Cを入れ、積層フィルム 1 Cを回転させて積層フィ ルム 1Cの表面にシリコンアルコキシド溶液をスピンコーティングした。ここで、スピンコ 一ターの回転室には予めメタノールを入れてメタノール雰囲気になるようにしてあり、 またガラス板の回転は 700rpmの回転数で 10秒間行った。このようにシリコンアルコ キシド溶液をスピンコーティングした後、 1分 15秒間放置してシリコンアルコキシドが ゲルイ匕した薄膜を得た。

[0146] 次に、このゲル状の薄膜を、 5分間、水と 28%アンモニア水とメタノールを質量比で 162 : 4 : 640で混合した組成の養生溶液中に浸漬し、室温で 1昼夜養生した。さらに このように養生したゲル状の薄膜をへキサメチルジシラザンの 10%イソプロパノール 溶液中に浸漬し、疎水化処理を行った。

[0147] 次に、このように疎水化処理をした薄膜状のゲル状化合物をイソプロパノール中へ 浸漬することで洗浄した後、高圧容器中に入れ、高圧容器内を液化炭酸ガスで満た し、 80°C、 16MPa、 2時間の条件で超臨界乾燥をすることによって、積層フィルム 1 Cの表面に膜厚 lOOnmのシリカエア口ゲル薄膜 (以下、「低屈折率層」と記す。）が形 成された積層フィルム 1Dを得た。この積層フィルムの低屈折率層の屈折率を測定し たところ、 1. 33であった。

[0148] 次いで、この積層フィルム 1Dの低屈折率層が形成された方の面に、防汚層として フッ素系表面防汚コーティング剤（ダイキン工業社製、「ォプツール DSX」 )をパーフ ルォ口へキサンで 0. 1重量％に希釈して、ディップコート法により塗布した。塗布後、 60°Cで 1分間加熱乾燥して厚さ 5nmの防汚層を形成させて、光学積層フィルム 1E ( 偏光板保護フィルム)を得た。

[0149] 得られた光学積層フィルム 1Eの低屈折率層などを形成させていない方の面に、ァ クリル系接着剤（住友スリーェム社製、「DP-8005クリア」）を介して、製造例 7で得ら れた偏光膜を貼り合わせて反射防止機能付偏光板 1Fを得た。この偏光板を用いて 光学性能の評価を行った。評価結果を表 1に示す。

[0150] 実施例 2

基材フィルム 1Aの代わりに、厚さ 40 μ mのトリアセチルセルロース（TAC)フイノレム (コニ力社製、商品名「KC4UX2M」、 Tg = 120°C、飽和吸水率 =4.5重量％、揮発 性成分の含有量 =6.0重量％、以下「基材フィルム 2A」と記す。）を用いた他は、実 施例 1と同様な操作を行い、光学積層フィルム 2E (偏光板保護フィルム）および反射 機能付偏光板 2Fを得た。このときのハードコート層の屈折率は 1. 62、低屈折率層 の屈折率は 1. 33であった。この偏光板を用いて光学性能の評価を行った。評価結 果を表 1に示す。

[0151] 実施例 3

基材フィルムとして、基材フィルム 1Aの代わりに、厚さ 50 μ ΐηのポリエチレンテレフ タレートフィルム（東洋紡社製、商品名「コスモシャイン Α4300」、以下「基材フィノレ ム 3Α」と記す。）を用いたほかは、実施例 1と同様な操作を行レ、、光学積層フィルム 3 Εおよび反射機能付偏光板 3Fを得た。このときのハードコート層の屈折率は 1. 62、 低屈折率層の屈折率は 1. 33であった。この偏光板を用いて光学性能の評価を行つ た。評価結果を表 1に示す。

[0152] 実施例 4

基材フィルム 1Aの代わりに、トリァセチルセルロースフィルムを用いた偏光板（ポラ テクノ社製、商品名「スーパーハイコントラスト偏光板 SKN_18243T」、偏光度 99 . 993%)を用いた他は、実施例 1と同様にして、ハードコート層および低屈折率層を 形成させて、光学積層フィルム 4Eを得た。この光学積層フィルム 4Eは偏光膜が積層 されているので、このフィルムをそのまま反射機機能付偏光板として用いて光学性能 の評価を行った。評価結果を表 1に示す。

[0153] 以下に比較例を記載して、本発明との違いを説明する。

比較例 1

低屈折率層を形成する際に、シリコンアルコキシド溶液 1の代わりに、製造例 4で得 られたシリコンアルコキシド溶液 2を使用した他は、実施例 1と同様な操作を行い、偏 光板保護フィルム 5Eおよび反射防止機能付偏光板 5Fを得た。このときのハードコー ト層の屈折率は 1. 62、低屈折率層の屈折率は 1. 39であった。この偏光板を用いて 光学性能の評価を行った。評価結果を表 1に示す。

[0154] 比較例 2

低屈折率層を形成する際に、シリコンアルコキシド溶液 1の代わりに、製造例 5で得 られたシリコンアルコキシド溶液 3を使用した他は、実施例 1と同様な操作を行レ、、光 学積層フィルム 6E (偏光板保護フィルム)および反射防止機能付偏光板 6Fを得た。 このときのハードコート層の屈折率は 1. 62、低屈折率層の屈折率は 1. 40であった 。この偏光板を用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表 1に示す。 [0155] 比較例 3

ハードコート層形成用組成物として、ハードコート層形成用組成物 ₂ (紫外線硬化型 高屈折率剤；大日本インキ社製、ダイキュアクリア SD-715)を用レ、、さらに低屈折率 層として製造例 6で得た低屈折率層形成用組成物を用いた他は、実施例 1と同様な 操作を行い、光学積層フィルム 7Eおよび反射防止機能付偏光板 7Fを得た。このとき のハードコート層の屈折率は 1. 52、低屈折率層の屈折率は 1. 45であった。この偏 光板を用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表 1に示す。

[0156] [表 1]

実施例 1 実施例 2 実施例 3 実施例 4 •比較例 1 比較例 2 比較例 3 基材フィルム 1A 2A 3A 4A 1A 1A 1A ダイラインの深さ又は高さ 0.01 0.01以下 0.01以下 0.01以下 0.01 0.01 0.01 光学積層フィルム 1E 2E 3E 4E 5E 8E フ E ハードコート層形成用組成物 1 1 1 1 1 1 2 ハードコート層の屈折率

H 1.62 1.62 1.62 1.62 1.62 1.62 1.52 低屈折率層の屈折率

1.33 1,33 1.33 1.33 1.39 1.40 1.45 ト] 反射率 波長 550 0.54 0.55 0.56 0.55 1.35 1.52 2.8 [%] 波長 430 700nm 1.1 1,4 1.3 1.4 2.0 2.2 3.2

視認性 O o O o X X X コン卜ラス卜 300 280 280 300 150 100

⁷⁰

[0157] 表 1の結果から以下のことがわかる。本発明によれば、透明樹脂を含んでなる基材 フィルムの上に、ハードコート層および少なくとも 1層の膜からなる低屈折率層を、こ の順に積層してなる光学積層フィルムであって、該ハードコート層の屈折率を n 、低

H

屈折率層の屈折率を _nとしたとき、次の式 [1]、式 [2]および式 [3]

L

式 [1] : n ≤1. 37

L 、

式 [2] : n ≥1. 53

H

式 [3] : -0. 2く nく +0. 2

H L H

を満たす光学積層フィルム（実施例 1一 3)は、波長 550nmにおける光反射率および 波長 430— 700nmにおける光反射率が小さぐ視認性および明暗表示のコントラス トに優れる。

[0158] 一方、式 [1]、 [2]および式 [3]を満たさない光学積層フィルム（比較例 1一 3)は、 波長 550nmにおける光反射率および波長 430 700nmにおける光反射率が大き ぐ視認性に劣るだけでなぐ明暗表示のコントラストが悪い。

産業上の利用可能性

[0159] 本発明の光学積層フィルムは、光学特性に優れ、光反射率が低いことから、光学部 材の反射防止性保護フィルムとして好適である。

[0160] この光学積層フィルムを備えた反射防止機能付偏光板は、広帯域にわたって低光 反射率を達成でき、液晶表示装置、タツチパネル、エレクト口ルミネッセンス表示装置 などの光学製品に利用される。これらの光学製品は、光反射率が低ぐグレアや映り 込みが少なぐ視認性に優れる。特に、液晶表示装置は、さらに、明暗表示でのコン トラストに優れる。

Claims

請求の範囲

[1] 透明樹脂を含んでなる基材フィルムの片面に、直接または他の層を介してハードコ ート層およびエア口ゲルからなる低屈折率層をこの順に積層してなり、ハードコート層 の屈折率を n、低屈折率層の屈折率を nとしたとき、以下の式 [1]、 [2]および [3]を

H

満たす光学積層フィルム。

式 [1]： n≤1. 37

L

式 [2]： n ≥1. 53

H

式 [3] : n -0. 2 <nく fn + 0. 2

H H

[2] ハードコート層の屈折率 nおよび低屈折率層の屈折率 n 、以下の式 [4]

H L 、 [5]お よび式 [6]の関係を満たす請求項に 1記載の光学積層フィルム。

式 [4] : 1. 25≤n≤1. 35

式 [5]： n ≥1. 55

H

式 [6] : n -0. 15 <nく fn + 0. 15

H L H

[3] 波長 550nmにおける反射率が 0. 7%以下で、波長 430— 700nmにおける反射率 が 1. 5%以下である請求項 1または 2に記載の光学積層フィルム。

[4] 基材フィルムのダイラインの深さまたは高さが 0. 1 μ m以下である請求項 1一 3のい ずれかに記載の光学積層フィルム。

[5] 透明樹脂が、脂環式構造を有する重合体樹脂、セルロース樹脂およびポリエステル 樹脂からなる群から選ばれる樹脂である請求項 1一 4のいずれかに記載の光学積層 フィルム。

[6] 透明樹脂が、脂環式構造を有する重合体樹脂である請求項 1一 4のいずれかに記載 の光学積層フィルム。

[7] 光学部材の反射防止保護フィルムである請求項 1一 6のいずれかに記載の光学積層 フィルム。

[8] 偏光板保護フィルムである請求項 7記載の光学積層フィルム。

[9] 請求項 8に記載の偏光板保護フィルムの低屈折率層が設けられてレ、る面の反対側 の面に偏光膜を積層してなる反射防止機能付偏光板。

[10] 請求項 9記載の反射防止機能付偏光板を備える光学製品。