JP2007286554A - 反射防止膜、反射防止基材、及び当該反射防止基材が設けられた光電変換装置 - Google Patents
反射防止膜、反射防止基材、及び当該反射防止基材が設けられた光電変換装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007286554A JP2007286554A JP2006116807A JP2006116807A JP2007286554A JP 2007286554 A JP2007286554 A JP 2007286554A JP 2006116807 A JP2006116807 A JP 2006116807A JP 2006116807 A JP2006116807 A JP 2006116807A JP 2007286554 A JP2007286554 A JP 2007286554A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antireflection
- fine particles
- substrate
- base material
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/52—PV systems with concentrators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】透明基材上に二酸化ケイ素微粒子を配列し、バインダー材料で薄膜化することにより得られる反射防止膜において、重合体の単量体繰り返し数が2〜10の金属アルコキシドオリゴマーをバインダー材料として使用する。
【選択図】なし
Description
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
(式中、Mは金属、Ra 及びRb はアルキル基、nは2〜10の整数である)
にて示されるオリゴマーであることを特徴としている。
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
(式中、Mは金属、Ra 及びRb はアルキル基、nは2〜10の整数である)
にて示される金属アルコキシドのオリゴマーによって、上記透光性基材の表面に固着していることを特徴としている。
上記金属アルコキシドが、一般式(1)
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
(式中、Mは金属、Ra 及びRb はアルキル基、nは2〜10の整数である)
にて示されるオリゴマーであることを特徴としている。
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
(式中、Mは金属、Ra 及びRb はアルキル基、nは2〜10の整数である)
にて示される金属アルコキシドのオリゴマーによって、透光性基材の表面に固着していることを特徴としている。
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
(式中、Mは金属、Ra 及びRb はアルキル基、nは2〜10の整数である)
にて示される金属アルコキシドのオリゴマーであるバインダー材料によって、透光性基材の表面に配列・固着させて形成した反射防止膜を備えている。
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
で示される金属アルコキシドのオリゴマーである。
AFM(東陽テクニカ製 原子間力顕微鏡 Nano−Rシステム)により表面観察を行い、二次元解析ソフトにより被覆率を算出した。
分光光度計(島津製作所社製 SolidSpec−3700)を用いて、反射防止膜に対し法線方向から光を入射し、反射角8°の直接反射光を積分球により測定した。なお、ガラス板裏面からの反射光を排除するため、ガラス板の裏面には黒色スプレー塗布を行った。
JIS K7204に記載の摩耗輪による摩耗試験方法に準じて評価した。具体的には、CS10Fの回転ホイールを9.8Nで反射防止膜に押し付け、72rpm(60Hz)で反射防止膜を回転させて、膜が完全に剥がれるまでの回転数を測定した。
水:24.38g、i−プロパノール:58.71g、35%塩酸:1.14g、テトラエトキシシランのオリゴマー(n=4〜6):11.90g、および平均粒径90nmのシリカ微粒子分散液(水溶媒 固形分40%):24.38gを順次添加して、4時間、室温で攪拌混合した。その後、希釈溶媒として、i−プロパノール:529.50gを添加し、よく攪拌して塗布液aを作製した。この塗布液を、厚さ4mm、100mm×100mmの白板ガラスに、引き上げ速度0.1m/分にてディップコーティング法により塗布操作を行った。その後、80℃の熱風乾燥処理を30分間施した後、200℃で5分間の焼成処理を行い、反射防止基材(1)を得た。
実施例1と同様の塗布液aを作製し、引き上げ速度0.05m/分にてディップコーティング法により塗布操作を行った。その後、実施例1と同様の熱風乾燥処理、焼成処理を行い反射防止基材(2)を得た。
実施例1と同様の塗布液aを作製し、引き上げ速度3.0m/分にてディップコーティング法により塗布操作を行った。その後、実施例1と同様の熱風乾燥処理、焼成処理を行い反射防止基材(3)を得た。
テトラエトキシシランのオリゴマーを同量のテトラエトキシシラン(単量体)に変更した以外は、上記塗布液aと同様にして塗布液bを作製した。この塗布液bを用いて実施例1と同様の塗布操作、熱風乾燥処理、焼成処理を行い比較反射防止基材(1)を得た。
比較例1と同様の塗布液bを用いて実施例1と同様の塗布操作、熱風乾燥処理を行った後、450℃で5分間の焼成処理を行い比較反射防止基材(2)を得た。
以上の方法によって得られた反射防止基材(1)〜(3)、及び比較反射防止基材(1)・(2)の微粒子の被覆率、および塗布膜の反射率、耐摩耗性を測定した結果を表1に示す。
実施例3では引き上げ速度3.0m/分としたため、塗布液の製膜量が増加し、微粒子、バインダーの接着量が多くなったため、耐摩耗性は増加したが反射率が低下したためであると考えられる。
2 ガラス板(透光性基材)
3 下地膜
4 透明導電膜
5 光電変換層
6 裏面薄膜電極
7 二酸化ケイ素の微粒子
8 バインダー材料(金属アルコシキドのオリゴマー)
Claims (10)
- 二酸化ケイ素の微粒子と、金属アルコキシドとを含有する反射防止膜であって、
上記金属アルコキシドが、一般式(1)
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
(式中、Mは金属、Ra 及びRb はアルキル基、nは2〜10の整数である)
にて示されるオリゴマーであることを特徴とする反射防止膜。 - 上記微粒子の表面の少なくとも一部が外部環境に露出していることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜。
- 上記金属アルコキシドが、シリコンアルコシキドであることを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止膜。
- 透光性基材の表面に、二酸化ケイ素の微粒子と金属アルコキシドとを含有する反射防止膜が形成された反射防止基材であって、
上記微粒子が、一般式(1)
Ra O[{M(ORb )}2 −O−]n −Ra ・・・(1)
(式中、Mは金属、Ra 及びRb はアルキル基、nは2〜10の整数である)
にて示される上記金属アルコキシドのオリゴマーによって、上記透光性基材の表面に固着していることを特徴とする反射防止基材。 - 上記金属アルコキシドが、シリコンアルコシキドであることを特徴とする請求項4に記載の反射防止基材。
- 上記微粒子は、上記透光性基材の表面に被覆率80〜99%となるように固着していることを特徴とする請求項4または5に記載の反射防止基材。
- 上記微粒子の表面の少なくとも一部が外部環境に露出していることを特徴とする請求項4から6の何れか1項に記載の反射防止基材。
- 上記透光性基材が、ガラスであることを特徴とする請求項4から7の何れか1項に記載の反射防止基材。
- 請求項4から8の何れか1項に記載の反射防止基材が設けられていることを特徴とする光電変換装置。
- 請求項4から8の何れか1項に記載の反射防止基材を太陽電池用パネルとして備えていることを特徴とする太陽電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006116807A JP5063926B2 (ja) | 2006-04-20 | 2006-04-20 | 反射防止基材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006116807A JP5063926B2 (ja) | 2006-04-20 | 2006-04-20 | 反射防止基材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007286554A true JP2007286554A (ja) | 2007-11-01 |
JP5063926B2 JP5063926B2 (ja) | 2012-10-31 |
Family
ID=38758339
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006116807A Expired - Fee Related JP5063926B2 (ja) | 2006-04-20 | 2006-04-20 | 反射防止基材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5063926B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010042624A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Jsr Corp | 積層体 |
CN101665014A (zh) * | 2009-09-18 | 2010-03-10 | 浙江大学 | 全角度宽波长范围使用的减反射薄膜及其制备方法 |
JP2010186845A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物、波長変換組成物、波長変換層、及び波長変換層を備えた光起電装置 |
WO2011004811A1 (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-13 | 三菱電機株式会社 | 太陽電池モジュール用コーティング剤、並びに太陽電池モジュール及びその製造方法 |
WO2012043736A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | 三菱マテリアル株式会社 | 太陽電池の反射防止膜用組成物、太陽電池の反射防止膜、太陽電池の反射防止膜の製造方法、及び太陽電池 |
JP2012208206A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Olympus Corp | 反射防止膜および光学素子 |
WO2013132771A1 (ja) * | 2012-03-06 | 2013-09-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 太陽電池製造用のスリットノズル及び薬液塗布装置 |
JP2014038182A (ja) * | 2012-08-15 | 2014-02-27 | Kaneka Corp | 透明導電層付基板の製造方法および光電変換素子の製造方法 |
WO2014082550A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Saint-Gobain Glass France | Optical component and photovoltaic device |
WO2015047017A1 (ko) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 코닝정밀소재 주식회사 | 커버 기판 제조방법 |
WO2015141718A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | 三菱マテリアル株式会社 | 低屈折率膜及びその製造方法 |
CN105158825A (zh) * | 2015-08-27 | 2015-12-16 | 电子科技大学中山学院 | 一种抗反射结构及其构筑方法 |
JP2016136228A (ja) * | 2014-03-31 | 2016-07-28 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止フィルムの製造方法 |
CN110739363A (zh) * | 2018-07-18 | 2020-01-31 | 李武 | 一种太阳能发电路面组件 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106483591B (zh) * | 2015-09-02 | 2018-10-30 | 中国科学院理化技术研究所 | 一种原位纳米压制减反增透表面结构及其制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002006764A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 携帯電話表示窓材 |
JP2002270866A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-20 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 太陽電池モジュール |
WO2004070436A1 (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Sdc Technologies-Asia Ltd. | 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品 |
WO2005001525A1 (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-06 | Zeon Corporation | 光学積層フィルム、偏光板および光学製品 |
WO2005064367A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Zeon Corporation | 偏光板保護フィルム、反射防止機能付偏光板および光学製品 |
JP2005238591A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Nippon Zeon Co Ltd | 光学積層フィルム |
-
2006
- 2006-04-20 JP JP2006116807A patent/JP5063926B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002006764A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-01-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 携帯電話表示窓材 |
JP2002270866A (ja) * | 2001-03-07 | 2002-09-20 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 太陽電池モジュール |
WO2004070436A1 (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Sdc Technologies-Asia Ltd. | 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品 |
WO2005001525A1 (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-06 | Zeon Corporation | 光学積層フィルム、偏光板および光学製品 |
WO2005064367A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Zeon Corporation | 偏光板保護フィルム、反射防止機能付偏光板および光学製品 |
JP2005238591A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Nippon Zeon Co Ltd | 光学積層フィルム |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010042624A (ja) * | 2008-08-15 | 2010-02-25 | Jsr Corp | 積層体 |
JP2010186845A (ja) * | 2009-02-12 | 2010-08-26 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物、波長変換組成物、波長変換層、及び波長変換層を備えた光起電装置 |
WO2011004811A1 (ja) * | 2009-07-08 | 2011-01-13 | 三菱電機株式会社 | 太陽電池モジュール用コーティング剤、並びに太陽電池モジュール及びその製造方法 |
CN102473765A (zh) * | 2009-07-08 | 2012-05-23 | 三菱电机株式会社 | 太阳能电池模块用涂布剂和太阳能电池模块及其制造方法 |
DE112010002848T5 (de) | 2009-07-08 | 2012-06-21 | Mitsubishi Electric Corp. | Beschichtungsmittel für ein solarzellenmodul, solarzellenmodul undverfahren zum herstellen des solarzellenmoduls |
JP5165114B2 (ja) * | 2009-07-08 | 2013-03-21 | 三菱電機株式会社 | 太陽電池モジュール用コーティング剤、並びに太陽電池モジュール及びその製造方法 |
CN101665014B (zh) * | 2009-09-18 | 2013-01-02 | 浙江大学 | 全角度宽波长范围使用的减反射薄膜及其制备方法 |
CN101665014A (zh) * | 2009-09-18 | 2010-03-10 | 浙江大学 | 全角度宽波长范围使用的减反射薄膜及其制备方法 |
CN103081112A (zh) * | 2010-09-30 | 2013-05-01 | 三菱综合材料株式会社 | 太阳能电池的防反射膜用组合物、太阳能电池的防反射膜、太阳能电池的防反射膜的制造方法及太阳能电池 |
TWI509048B (zh) * | 2010-09-30 | 2015-11-21 | Mitsubishi Materials Corp | 太陽能電池之防反射膜用組成物、太陽能電池之防反射膜、太陽能電池之防反射膜的製造方法、及太陽能電池 |
WO2012043736A1 (ja) * | 2010-09-30 | 2012-04-05 | 三菱マテリアル株式会社 | 太陽電池の反射防止膜用組成物、太陽電池の反射防止膜、太陽電池の反射防止膜の製造方法、及び太陽電池 |
JP5884486B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2016-03-15 | 三菱マテリアル株式会社 | 太陽電池の反射防止膜用組成物、太陽電池の反射防止膜、太陽電池の反射防止膜の製造方法、及び太陽電池 |
JP2012208206A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Olympus Corp | 反射防止膜および光学素子 |
WO2013132771A1 (ja) * | 2012-03-06 | 2013-09-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 太陽電池製造用のスリットノズル及び薬液塗布装置 |
JP2014038182A (ja) * | 2012-08-15 | 2014-02-27 | Kaneka Corp | 透明導電層付基板の製造方法および光電変換素子の製造方法 |
WO2014082550A1 (en) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | Saint-Gobain Glass France | Optical component and photovoltaic device |
WO2015047017A1 (ko) * | 2013-09-30 | 2015-04-02 | 코닝정밀소재 주식회사 | 커버 기판 제조방법 |
WO2015141718A1 (ja) * | 2014-03-18 | 2015-09-24 | 三菱マテリアル株式会社 | 低屈折率膜及びその製造方法 |
JP2015194740A (ja) * | 2014-03-18 | 2015-11-05 | 三菱マテリアル株式会社 | 高耐久性低屈折率膜 |
JP2016136228A (ja) * | 2014-03-31 | 2016-07-28 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止フィルムの製造方法 |
CN105158825A (zh) * | 2015-08-27 | 2015-12-16 | 电子科技大学中山学院 | 一种抗反射结构及其构筑方法 |
CN110739363A (zh) * | 2018-07-18 | 2020-01-31 | 李武 | 一种太阳能发电路面组件 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5063926B2 (ja) | 2012-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5063926B2 (ja) | 反射防止基材の製造方法 | |
JP4841782B2 (ja) | 低反射膜および太陽電池パネル | |
TWI579341B (zh) | 低折射率膜形成用組成物及使用此之低折射率膜之形成方法 | |
JP4224646B2 (ja) | 紫外線に対する露光による架橋結合/高密度化を使用して多層光材料を製造する方法と当該方法で製造された光材料 | |
CN100480736C (zh) | MgF2光学薄膜和具备该薄膜的光学组件以及该薄膜的制造方法 | |
JP2009237551A (ja) | 反射防止膜及びその形成方法 | |
JP4048912B2 (ja) | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 | |
JP2003202406A (ja) | 反射防止フィルム及びディスプレイ装置 | |
JP6266230B2 (ja) | 表面改質金属酸化物微粒子、薄膜形成用の塗布液、薄膜付き基材、光電気セル、及び表面改質金属酸化物微粒子の製造方法 | |
JP5665404B2 (ja) | 光学膜の製造方法、光学膜および光学部品 | |
JPWO2008001675A1 (ja) | 光学多層薄膜、光学素子、及び光学多層薄膜の製造方法 | |
JP5683146B2 (ja) | 光学膜の製造方法および光学素子の製造方法 | |
JP2002182006A (ja) | 反射防止膜、それを備えた基材および光電変換装置 | |
JP3744188B2 (ja) | 熱線遮蔽膜形成用塗布液及び熱線遮蔽膜 | |
JP6592897B2 (ja) | シリカエアロゲル膜の製造方法 | |
JP4182825B2 (ja) | 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物微粒子とこれを用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体並びに日射遮蔽用透明基材 | |
JP2017058429A (ja) | 反射防止膜の製造方法 | |
JP2020007382A (ja) | コーティング組成物とその製造方法、および光学部材、ならびに撮像装置 | |
JP2002365403A (ja) | 低反射膜およびこれを用いた透明積層体 | |
JPH1149532A (ja) | 低反射ガラス物品およびその製造方法 | |
JP6123432B2 (ja) | 低屈折率膜形成用組成物の製造方法及び低屈折率膜の形成方法 | |
WO2001047033A1 (fr) | Transducteur photoelectrique et substrat pour transducteur photoelectrique | |
JP2003054996A (ja) | 反射抑制膜およびこれを備えた透明基体 | |
JPH10212138A (ja) | 表示装置 | |
KR20160028235A (ko) | 반사 방지율이 향상된 태양전지 반사 방지막용 코팅 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110509 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120710 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120808 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150817 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |