JPH09227713A - 反射防止膜および画像表示装置 - Google Patents
反射防止膜および画像表示装置Info
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- JPH09227713A JPH09227713A JP8031841A JP3184196A JPH09227713A JP H09227713 A JPH09227713 A JP H09227713A JP 8031841 A JP8031841 A JP 8031841A JP 3184196 A JP3184196 A JP 3184196A JP H09227713 A JPH09227713 A JP H09227713A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- layer
- film
- antireflection film
- microvoids
- Prior art date
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- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 低い屈折率の層を容易に形成し、液晶表示装
置等において、外光による反射光を防止する優れた反射
防止層を提供する。 【解決手段】 樹脂からなる薄膜中にミクロボイドを含
む層であって、樹脂の屈折率より層の屈折率を低下させ
たものである低屈折率層を、逆相乳化法で形成すること
を特徴とする反射防止膜。
置等において、外光による反射光を防止する優れた反射
防止層を提供する。 【解決手段】 樹脂からなる薄膜中にミクロボイドを含
む層であって、樹脂の屈折率より層の屈折率を低下させ
たものである低屈折率層を、逆相乳化法で形成すること
を特徴とする反射防止膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、量産性、対汚染性
に優れた、ＬＣＤ（液晶表示装置）等のディスプレイに
おける外光の反射防止膜に関する。
に優れた、ＬＣＤ（液晶表示装置）等のディスプレイに
おける外光の反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、可視光のような波長域を有する光
に対する反射防止膜としては、金属酸化物等の透明薄膜
を積層させた多層膜が用いられてきた。単層膜では単色
光に対しては有効であるもののある程度の波長域を有す
る光に対しては有効に反射防止できないのに対し、この
ような多層膜においては、積層数が多いほどに広い波長
領域で有効な反射防止膜となる。そのため、従来の反射
防止膜には、物理蒸着法等の手段によって金属酸化物等
を３層以上積層した物が用いられてきた。しかしなが
ら、多層構造の反射防止膜を形成するためには、予め最
適に設計された各層の屈折率と膜厚との関係に従い、そ
の膜厚を高精度に制御した物理蒸着を何回も行う必要が
あり、非常に高コストなものとなっていた。また、表面
の耐傷性あるいは指紋付着性等の対汚染性の改善のため
には例えば新たに含フッ素樹脂からなる層を設ける必要
があった。
に対する反射防止膜としては、金属酸化物等の透明薄膜
を積層させた多層膜が用いられてきた。単層膜では単色
光に対しては有効であるもののある程度の波長域を有す
る光に対しては有効に反射防止できないのに対し、この
ような多層膜においては、積層数が多いほどに広い波長
領域で有効な反射防止膜となる。そのため、従来の反射
防止膜には、物理蒸着法等の手段によって金属酸化物等
を３層以上積層した物が用いられてきた。しかしなが
ら、多層構造の反射防止膜を形成するためには、予め最
適に設計された各層の屈折率と膜厚との関係に従い、そ
の膜厚を高精度に制御した物理蒸着を何回も行う必要が
あり、非常に高コストなものとなっていた。また、表面
の耐傷性あるいは指紋付着性等の対汚染性の改善のため
には例えば新たに含フッ素樹脂からなる層を設ける必要
があった。
【０００３】上述のような多層膜による方法の他に、空
気との界面において屈折率が徐々に変化する様な膜によ
って有効な反射防止効果を得る方法が従来知られてい
る。例えば、特開平２−２４５７０２号公報には、ガラ
ス基板とＭｇＦ2 の中間の屈折率を持つＳｉＯ2 超微粒
子とＭｇＦ2 超微粒子を混合してガラス基板に塗布し、
ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にＳｉＯ2 の
混合比を減少させてＭｇＦ2 の混合比を増加させる事に
より、塗布面とガラス基板との界面における屈折率変化
が緩やかとなり、反射防止効果が得られる事が記載され
ている。
気との界面において屈折率が徐々に変化する様な膜によ
って有効な反射防止効果を得る方法が従来知られてい
る。例えば、特開平２−２４５７０２号公報には、ガラ
ス基板とＭｇＦ2 の中間の屈折率を持つＳｉＯ2 超微粒
子とＭｇＦ2 超微粒子を混合してガラス基板に塗布し、
ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にＳｉＯ2 の
混合比を減少させてＭｇＦ2 の混合比を増加させる事に
より、塗布面とガラス基板との界面における屈折率変化
が緩やかとなり、反射防止効果が得られる事が記載され
ている。
【０００４】また、特開平５−１３０２１号公報には、
ＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率を有する超微粒子を用
いた反射防止膜をにおいて、この超微粒子が基板上に規
則正しく配列されたときに最も小さな反射率が得られる
ことが記載されている。
ＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 等の低屈折率を有する超微粒子を用
いた反射防止膜をにおいて、この超微粒子が基板上に規
則正しく配列されたときに最も小さな反射率が得られる
ことが記載されている。
【０００５】また、特開平７−９２３０５号公報には、
内層がメタクリル酸メチル、メタアクリル酸、トリフル
オロエチルアクリレート、Ｎ−イソブトキシメチルアク
リルアミドからなり、外層がスチレン、アクリル酸、ア
クリル酸ブチルからなる２層構成の屈折率１．４２８の
超微粒子が表面に露出して凹凸が形成された反射防止膜
によって光線透過率が５％増加した事が記されている。
内層がメタクリル酸メチル、メタアクリル酸、トリフル
オロエチルアクリレート、Ｎ−イソブトキシメチルアク
リルアミドからなり、外層がスチレン、アクリル酸、ア
クリル酸ブチルからなる２層構成の屈折率１．４２８の
超微粒子が表面に露出して凹凸が形成された反射防止膜
によって光線透過率が５％増加した事が記されている。
【０００６】更に、特開平７−１６８００６号公報に
は、テトラフルオロアクリレートとＭｇＦ2 ゾルの混合
物を塗布後、電子線照射により前記フッ素有機物成分を
重合、硬化することにより得られるような、超微粒子の
表面が完全に露出して凹凸状表面となっている反射防止
膜によって、光線透過率が約５％向上する事が記されて
いる。
は、テトラフルオロアクリレートとＭｇＦ2 ゾルの混合
物を塗布後、電子線照射により前記フッ素有機物成分を
重合、硬化することにより得られるような、超微粒子の
表面が完全に露出して凹凸状表面となっている反射防止
膜によって、光線透過率が約５％向上する事が記されて
いる。
【０００７】一方、特開平４−１２１７０１号公報に
は、ポリマー内部に波長以下の気泡を形成し、屈折率が
膜厚方向に連続的に変化する不均質膜の原理を利用した
反射防止膜によって、ガラスの光線透過率が５〜１５％
向上する事が記されている。
は、ポリマー内部に波長以下の気泡を形成し、屈折率が
膜厚方向に連続的に変化する不均質膜の原理を利用した
反射防止膜によって、ガラスの光線透過率が５〜１５％
向上する事が記されている。
【０００８】しかしながら、前記特開平２−２４５７０
２号公報に記載の反射防止膜は、混合比の異なる塗布膜
を積み重ねて得られるため、膜の形成の煩雑さと屈折率
のコントロールの困難さが問題であった。また、前記特
開平５−１３０２１号公報の反射防止膜においては、最
表層の超微粒子がバインダで覆われているために屈折率
を緩やかに変化させる事が困難な事、焼き付け温度が高
温であるために用いられる基材が限定される等の問題が
あった。また、特開平７−９２３０５号公報に記載の反
射防止膜は、含フッ素樹脂を含む超微粒子がフッ素を含
有しない樹脂成分を含むために屈折率が１．４２８とな
り、充分な反射防止効果が得られず、特開平７−１６８
００６に記載の反射防止膜は、やはり超微粒子として用
いているＭｇＦ2 自体の屈折率が１．３８であるため
に、充分な反射防止効果が得られないという問題があっ
た。また、特開平４−１２１７０１号公報に記載の反射
防止膜は、ミクロボイドの形成に溶剤洗浄による溶剤可
溶成分の洗い出し工程を含むため、均一な分布を有する
ミクロボイドの形成等の製造上の問題を解決する必要が
あった。
２号公報に記載の反射防止膜は、混合比の異なる塗布膜
を積み重ねて得られるため、膜の形成の煩雑さと屈折率
のコントロールの困難さが問題であった。また、前記特
開平５−１３０２１号公報の反射防止膜においては、最
表層の超微粒子がバインダで覆われているために屈折率
を緩やかに変化させる事が困難な事、焼き付け温度が高
温であるために用いられる基材が限定される等の問題が
あった。また、特開平７−９２３０５号公報に記載の反
射防止膜は、含フッ素樹脂を含む超微粒子がフッ素を含
有しない樹脂成分を含むために屈折率が１．４２８とな
り、充分な反射防止効果が得られず、特開平７−１６８
００６に記載の反射防止膜は、やはり超微粒子として用
いているＭｇＦ2 自体の屈折率が１．３８であるため
に、充分な反射防止効果が得られないという問題があっ
た。また、特開平４−１２１７０１号公報に記載の反射
防止膜は、ミクロボイドの形成に溶剤洗浄による溶剤可
溶成分の洗い出し工程を含むため、均一な分布を有する
ミクロボイドの形成等の製造上の問題を解決する必要が
あった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、簡単な方法
で低い屈折率の層を形成し、液晶表示装置等における外
光の反射光を防止する優れた反射防止層を得る事を課題
とする。
で低い屈折率の層を形成し、液晶表示装置等における外
光の反射光を防止する優れた反射防止層を得る事を課題
とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述の課題は下記の反射
防止膜によって解決された。 １．樹脂によって形成される薄膜中に逆相乳化法によっ
て光の波長以下のサイズのミクロボイドを形成させた低
屈折率層を含むことを特徴とする反射防止膜。 ２．前記屈折率層が０．１０体積分率以上、０．５０体
積分率以下のミクロボイドを含む事を特徴とする１に記
載の反射防止膜。 ３．前記低屈折率層が基材よりも屈折率の高い層の上に
形成されたことを特徴とする１に記載の反射防止膜。 ４．前記反射防止膜がアンチグレア効果を有する事を特
徴とする１乃至３の反射防止膜。 ５．１に記載の反射防止膜を有する事を特徴とする画像
表示装置。
防止膜によって解決された。 １．樹脂によって形成される薄膜中に逆相乳化法によっ
て光の波長以下のサイズのミクロボイドを形成させた低
屈折率層を含むことを特徴とする反射防止膜。 ２．前記屈折率層が０．１０体積分率以上、０．５０体
積分率以下のミクロボイドを含む事を特徴とする１に記
載の反射防止膜。 ３．前記低屈折率層が基材よりも屈折率の高い層の上に
形成されたことを特徴とする１に記載の反射防止膜。 ４．前記反射防止膜がアンチグレア効果を有する事を特
徴とする１乃至３の反射防止膜。 ５．１に記載の反射防止膜を有する事を特徴とする画像
表示装置。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜によって優れ
た反射防止効果が得られた事については以下のように説
明できる。
た反射防止効果が得られた事については以下のように説
明できる。
【００１２】図１に、逆相乳化法によってミクロボイド
を形成した低屈折率層を含む反射防止膜を示す。図中
で、１は樹脂と空気が混在している層（ミクロボイド含
有層）、３は基材である。ミクロボイドは１の層中に均
一に分散して存在する。そしてこの低屈折率層は、反射
防止を行うべき透明基材の最表面に設けられる。本発明
においては、低屈折率層に含まれるボイドが均一である
ことに特徴がある。このことによって、ミクロでは樹脂
相と空気の相の複合構造であるが、マクロでは一つの層
とみなすことができ、低屈折率層を形成することにな
る。
を形成した低屈折率層を含む反射防止膜を示す。図中
で、１は樹脂と空気が混在している層（ミクロボイド含
有層）、３は基材である。ミクロボイドは１の層中に均
一に分散して存在する。そしてこの低屈折率層は、反射
防止を行うべき透明基材の最表面に設けられる。本発明
においては、低屈折率層に含まれるボイドが均一である
ことに特徴がある。このことによって、ミクロでは樹脂
相と空気の相の複合構造であるが、マクロでは一つの層
とみなすことができ、低屈折率層を形成することにな
る。
【００１３】空気の屈折率は１であり、本発明における
低屈折率層を形成する樹脂の屈折率は空気の屈折率１よ
りも高く、１．３から１．６５の間であるものが好まし
い。従って、空気層と基材３の間に位置するミクロボイ
ド含有層１の屈折率は、空気層の屈折率と樹脂自体の屈
折率の間になる。従って、本発明の低屈折率層の屈折率
は、樹脂層に逆相乳化法によってミクロボイドを形成す
る事によって、素材の屈折率よりもミクロボイドの体積
分率の分だけ低くすることもできる。
低屈折率層を形成する樹脂の屈折率は空気の屈折率１よ
りも高く、１．３から１．６５の間であるものが好まし
い。従って、空気層と基材３の間に位置するミクロボイ
ド含有層１の屈折率は、空気層の屈折率と樹脂自体の屈
折率の間になる。従って、本発明の低屈折率層の屈折率
は、樹脂層に逆相乳化法によってミクロボイドを形成す
る事によって、素材の屈折率よりもミクロボイドの体積
分率の分だけ低くすることもできる。
【００１４】逆相乳化法によりミクロボイドを含む樹脂
を形成する方法は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９
９０，１１２，Ｐ１２６３等に示されている。すなわ
ち、重合性を有するモノマー中にエアロゾルＯＴ（アメ
リカン サイアナミド社）等の界面活性剤を用いて水を
可視光の波長以下の粒径に分散させたエマルジョンを形
成させ、熱、ＵＶ照射等の方法によってモノマーを重合
することで連続相を固定化し、水を除くことによってミ
クロボイドを有する樹脂層を得ることができる。。
を形成する方法は、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９
９０，１１２，Ｐ１２６３等に示されている。すなわ
ち、重合性を有するモノマー中にエアロゾルＯＴ（アメ
リカン サイアナミド社）等の界面活性剤を用いて水を
可視光の波長以下の粒径に分散させたエマルジョンを形
成させ、熱、ＵＶ照射等の方法によってモノマーを重合
することで連続相を固定化し、水を除くことによってミ
クロボイドを有する樹脂層を得ることができる。。
【００１５】このような低屈折率を有する層は、さらに
多層膜の最上層として用いる事もできる。図２に、基材
フィルム上に基材の屈折率よりも高い屈折率を有する層
２を設け、さらにその上にミクロボイドを含む層を設け
た反射防止膜を示す。このように多層化する事によって
より広い波長領域において有効な反射防止膜を得る事
は、従来の技術と同様な原理に基づくものである。例え
ば、特開昭５９−５０４０１号公報に示されているよう
に、２層膜では、基材と接する第一層の膜の屈折率ｎ１
と膜厚ｄ１および第一層と接する第２層の屈折率ｎ２と
膜厚ｄ２が以下の関係を満たすようにする事によって、
反射防止膜としての作用が最適化される。このような多
層膜による反射防止条件については古くから公知であ
る。 第１層 ｍλ／４×０．７＜ｎ１ｄ１＜ｍλ／４×１．
３ 第２層 ｎλ／４×０．７＜ｎ２ｄ２＜ｎλ／４×１．
３ ただし、ｍは正整数、ｎは奇の正整数である。
多層膜の最上層として用いる事もできる。図２に、基材
フィルム上に基材の屈折率よりも高い屈折率を有する層
２を設け、さらにその上にミクロボイドを含む層を設け
た反射防止膜を示す。このように多層化する事によって
より広い波長領域において有効な反射防止膜を得る事
は、従来の技術と同様な原理に基づくものである。例え
ば、特開昭５９−５０４０１号公報に示されているよう
に、２層膜では、基材と接する第一層の膜の屈折率ｎ１
と膜厚ｄ１および第一層と接する第２層の屈折率ｎ２と
膜厚ｄ２が以下の関係を満たすようにする事によって、
反射防止膜としての作用が最適化される。このような多
層膜による反射防止条件については古くから公知であ
る。 第１層 ｍλ／４×０．７＜ｎ１ｄ１＜ｍλ／４×１．
３ 第２層 ｎλ／４×０．７＜ｎ２ｄ２＜ｎλ／４×１．
３ ただし、ｍは正整数、ｎは奇の正整数である。
【００１６】本発明における逆相乳化法によるミクロボ
イド含有層を形成するのに用いられるモノマーとして
は、スチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族モノマーの
他に、メチルメタクリレート等の重合物のＴｇが室温よ
りも十分に高い（メタ）アクリル系のモノマーや、ヘキ
サフルオロイソプロピルアクリレート等の含フッ素モノ
マーを挙げることができる。
イド含有層を形成するのに用いられるモノマーとして
は、スチレン、ジビニルベンゼン等の芳香族モノマーの
他に、メチルメタクリレート等の重合物のＴｇが室温よ
りも十分に高い（メタ）アクリル系のモノマーや、ヘキ
サフルオロイソプロピルアクリレート等の含フッ素モノ
マーを挙げることができる。
【００１７】ミクロボイドの含有量は、逆相乳化する水
と乳化剤（界面活性剤）の量によって自由に調節でき
る。しかし、ミクロボイドの含有量が高すぎると、膜の
機械的強度を損なってしまうため、ミクロボイドの含有
量は５０％以下とするのが好ましい。また、ミクロボイ
ドの粒径は、用いる水に対する乳化剤の量の比によって
調節される。このようにして形成された空隙が波長オー
ダーの大きさを有するミクロボイドであれば、素材の屈
折率とボイドの含有率を調節する事により、目的の屈折
率を有する透明な膜を形成する事ができる。
と乳化剤（界面活性剤）の量によって自由に調節でき
る。しかし、ミクロボイドの含有量が高すぎると、膜の
機械的強度を損なってしまうため、ミクロボイドの含有
量は５０％以下とするのが好ましい。また、ミクロボイ
ドの粒径は、用いる水に対する乳化剤の量の比によって
調節される。このようにして形成された空隙が波長オー
ダーの大きさを有するミクロボイドであれば、素材の屈
折率とボイドの含有率を調節する事により、目的の屈折
率を有する透明な膜を形成する事ができる。
【００１８】本発明の反射防止膜を形成する基材として
は、セルロース誘導体（例えば、ジ−アセチル、トリ−
アセチル、プロピオニル−、ブタノイル−、アセチルプ
ロピオニル−アセテートなど）、ポリアミド、米国特許
第３、０２３、１０１号報記載のポリカーボネート、特
公昭４８−４０４１４号などに記載のポリエステル（特
にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１、４−シ
クロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン
１、２−ジフェノキシエタン−４、４’−ジカルボキシ
レート、）ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリメチルペンテン、シポリカーボネート、ポリメ
チルメタクリレート、ンジオタクチックポリスチレン、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレー
ト、ポリオレフィン、ポリエーテルエーテルケトン、ポ
リエーテルイミド、ポリオキシエチレン等のような各種
透明樹脂が使用でき、特にトリアセチルセルロース（Ｔ
ＡＣ）、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレー
トが好ましく用いられる。
は、セルロース誘導体（例えば、ジ−アセチル、トリ−
アセチル、プロピオニル−、ブタノイル−、アセチルプ
ロピオニル−アセテートなど）、ポリアミド、米国特許
第３、０２３、１０１号報記載のポリカーボネート、特
公昭４８−４０４１４号などに記載のポリエステル（特
にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１、４−シ
クロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン
１、２−ジフェノキシエタン−４、４’−ジカルボキシ
レート、）ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリメチルペンテン、シポリカーボネート、ポリメ
チルメタクリレート、ンジオタクチックポリスチレン、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレー
ト、ポリオレフィン、ポリエーテルエーテルケトン、ポ
リエーテルイミド、ポリオキシエチレン等のような各種
透明樹脂が使用でき、特にトリアセチルセルロース（Ｔ
ＡＣ）、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレー
トが好ましく用いられる。
【００１９】また、多層膜として用いる場合には、高屈
折率層の素材として、以下のようなものが用いられる。
折率層の素材として、以下のようなものが用いられる。
【００２０】有機材料としては比較的屈折率の高い被膜
形成性物質、たとえばポリスチレン、ポリスチレン共重
合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、
複素環、脂環式環状基、またはフッ素以外のハロゲン基
を有する各種重合体組成物、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ないしエポキシ樹脂などを硬化剤とする各種熱硬
化性樹脂形成性組成物、脂環式ないしは芳香族イソシア
ネートおよびまたはこれらとポリオールからなるウレタ
ン形成性組成物、および上記の化合物に２重結合を導入
することにより、ラジカル硬化を可能にした各種変性樹
脂またはプレポリマを含む組成物などが好ましく用いら
れる。また無機系微粒子を分散させた有機材料としては
一般に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機材料単
独で用いられる場合よりも低屈折率ものも用いられる。
上記に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系
共重合体、ポリエステル（アルキドを含む）系重合体、
繊維素系重合体、ウレタン系重合体、およびこれらを硬
化せしめる各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組成物
など透明性があり無機系微粒子を安定に分散せしめる各
種の有機材料が使用可能である。さらに有機置換された
ケイ素系化合物をこれに含めることができる。
形成性物質、たとえばポリスチレン、ポリスチレン共重
合体、ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、
複素環、脂環式環状基、またはフッ素以外のハロゲン基
を有する各種重合体組成物、メラミン樹脂、フェノール
樹脂、ないしエポキシ樹脂などを硬化剤とする各種熱硬
化性樹脂形成性組成物、脂環式ないしは芳香族イソシア
ネートおよびまたはこれらとポリオールからなるウレタ
ン形成性組成物、および上記の化合物に２重結合を導入
することにより、ラジカル硬化を可能にした各種変性樹
脂またはプレポリマを含む組成物などが好ましく用いら
れる。また無機系微粒子を分散させた有機材料としては
一般に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機材料単
独で用いられる場合よりも低屈折率ものも用いられる。
上記に述べた有機材料の他、アクリル系を含むビニル系
共重合体、ポリエステル（アルキドを含む）系重合体、
繊維素系重合体、ウレタン系重合体、およびこれらを硬
化せしめる各種の硬化剤、硬化性官能基を有する組成物
など透明性があり無機系微粒子を安定に分散せしめる各
種の有機材料が使用可能である。さらに有機置換された
ケイ素系化合物をこれに含めることができる。
【００２１】これらのケイ素系化合物は一般式 R1a R2 b SiX4-(a ＋b) （ここでＲ1 、Ｒ2 は各々アルキル基、アルケニル基、
アリル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、
メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有
する炭化水素基。Ｘはアルコキシル、アルコキシアルコ
キシル、ハロゲンないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な置換基。ａ、ｂは各々０、１または２でか
つａ＋ｂが１または２である。）であらわされる化合物
ないしはその加水分解生成物である。
アリル基、またはハロゲン基、エポキシ基、アミノ基、
メルカプト基、メタクリルオキシ基ないしシアノ基を有
する炭化水素基。Ｘはアルコキシル、アルコキシアルコ
キシル、ハロゲンないしアシルオキシ基から選ばれた加
水分解可能な置換基。ａ、ｂは各々０、１または２でか
つａ＋ｂが１または２である。）であらわされる化合物
ないしはその加水分解生成物である。
【００２２】これに分散される無機化合物としてはアル
ミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなど
の金属元素の酸化物が好ましく用いられる。これらは微
粒子状で粉末ないしは水および／またはその他の溶媒中
へのコロイド状分散体として提供されるものである。こ
れらは上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合
分散される。
ミニウム、チタニウム、ジルコニウム、アンチモンなど
の金属元素の酸化物が好ましく用いられる。これらは微
粒子状で粉末ないしは水および／またはその他の溶媒中
へのコロイド状分散体として提供されるものである。こ
れらは上記の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合
分散される。
【００２３】被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料としては各種元素のアルコキ
シド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
がありこれらの好適な例としては、チタンテトラエトキ
シド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタンテトラ
−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、
チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテトラ−tert
−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニ
ウムトリ−ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキ
シド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブト
キシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウム
テトラ−ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−
プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、
ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド、ジルコニウム
テトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコレート化合
物、さらにはジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウムビスアセチル
アセトネート、ジ−エトキシチタニウムビスアセチルア
セトネート、ビスアセチルアセトンジルコニウム、アル
ミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムジ−ｎ−
ブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウム
ジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセトアセテート、ト
リ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセ
テートなどのキレート化合物、さらには炭酸ジルコニー
ルアンモニウム、あるいはジルコニウムを主成分とする
活性無機ポリマなどをあげることができる。上記に述べ
た他に、屈折率が比較的低いが上記の化合物と併用でき
るものとしてとくに各種のアルキルシリケート類もしく
はその加水分解物、微粒子状シリカとくにコロイド状に
分散したシリカゲルが用いられる。
身が液状である無機系材料としては各種元素のアルコキ
シド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
がありこれらの好適な例としては、チタンテトラエトキ
シド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタンテトラ
−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、
チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテトラ−tert
−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニ
ウムトリ−ｉ−プロポキシド、アルミニウムトリブトキ
シド、アンチモントリエトキシド、アンチモントリブト
キシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウム
テトラ−ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−
プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブトキシド、
ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド、ジルコニウム
テトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコレート化合
物、さらにはジ−イソプロポキシチタニウムビスアセチ
ルアセトネート、ジ−ブトキシチタニウムビスアセチル
アセトネート、ジ−エトキシチタニウムビスアセチルア
セトネート、ビスアセチルアセトンジルコニウム、アル
ミニウムアセチルアセトネート、アルミニウムジ−ｎ−
ブトキシドモノエチルアセトアセテート、アルミニウム
ジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセトアセテート、ト
リ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノエチルアセトアセ
テートなどのキレート化合物、さらには炭酸ジルコニー
ルアンモニウム、あるいはジルコニウムを主成分とする
活性無機ポリマなどをあげることができる。上記に述べ
た他に、屈折率が比較的低いが上記の化合物と併用でき
るものとしてとくに各種のアルキルシリケート類もしく
はその加水分解物、微粒子状シリカとくにコロイド状に
分散したシリカゲルが用いられる。
【００２４】本発明の低屈折率反射防止層を形成するた
めの塗布液は、バーコート、カーテンフロー、ディップ
コート、スピンコート、ロールコート等の塗布法によっ
て各種基材フィルム上に塗布され、反射防止膜の塗膜が
形成される。
めの塗布液は、バーコート、カーテンフロー、ディップ
コート、スピンコート、ロールコート等の塗布法によっ
て各種基材フィルム上に塗布され、反射防止膜の塗膜が
形成される。
【００２５】本発明の低屈折率反射防止層は、中間層と
してハードコート層、防湿、帯電防止層等を設ける事も
できる。ハードコート層としては、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系のポリマーの他に、シリカ系の物が使
用できる。
してハードコート層、防湿、帯電防止層等を設ける事も
できる。ハードコート層としては、アクリル系、ウレタ
ン系、エポキシ系のポリマーの他に、シリカ系の物が使
用できる。
【００２６】本発明の低屈折率反射防止層の表面に有
機、無機化合物の微粒子によってえられる凹凸を形成
し、外光を乱反射させて景色の写り込みを防ぐアンチグ
レア効果を付与することもできる。また、この反射防止
膜は、単独であるいはアンチグレア効果を併用して液晶
表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤ
Ｐ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置に適
用し、外光の反射を防止する事で、視認性を大幅に改良
する事ができる。
機、無機化合物の微粒子によってえられる凹凸を形成
し、外光を乱反射させて景色の写り込みを防ぐアンチグ
レア効果を付与することもできる。また、この反射防止
膜は、単独であるいはアンチグレア効果を併用して液晶
表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤ
Ｐ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ
Ｄ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置に適
用し、外光の反射を防止する事で、視認性を大幅に改良
する事ができる。
【００２７】
実施例１ スチレン／ジビニルベンゼンを６：４の体積比で混合し
た混合液中に、イルガキュア９０７（商品名：チバガイ
ギー社）を１ｗｔ％加え、エアロゾルＯＴ（商品名：ア
メリカン サイアナミド社）０．５ｗｔ％を含む水１
２．５ｖｏｌ．％を加えた。この液を分散機にかけ、水
を十分に分散した後に、この分散液をＴＡＣ上に塗布厚
１２０ｎｍになるよう塗布し、ＵＶ照射によってモノマ
ーを重合した。８０℃で２時間乾燥し、乾燥膜厚１００
ｎｍの低屈折率層を形成した。膜の屈折率は１．３５
（約０．４体積分率のミクロボイド含有）であり、視感
反射率はＴＡＣのみの場合の３．７５％から１％に減少
した。
た混合液中に、イルガキュア９０７（商品名：チバガイ
ギー社）を１ｗｔ％加え、エアロゾルＯＴ（商品名：ア
メリカン サイアナミド社）０．５ｗｔ％を含む水１
２．５ｖｏｌ．％を加えた。この液を分散機にかけ、水
を十分に分散した後に、この分散液をＴＡＣ上に塗布厚
１２０ｎｍになるよう塗布し、ＵＶ照射によってモノマ
ーを重合した。８０℃で２時間乾燥し、乾燥膜厚１００
ｎｍの低屈折率層を形成した。膜の屈折率は１．３５
（約０．４体積分率のミクロボイド含有）であり、視感
反射率はＴＡＣのみの場合の３．７５％から１％に減少
した。
【００２８】実施例２ ＴＡＣフィルム上に３重量％のポリスチレン（商品名：
トーポレックスＧＰＰＳ５２５−５１（三井東圧製））
を含むトルエン溶液を塗布し、屈折率１．５８５、膜圧
１６０nmの高屈折率層を形成した。続いて、実施例１の
ミクロボイドを含有する低屈折率層を１２０ｎｍの膜厚
に塗工した。視感反射率はＴＡＣのみの場合の３．７５
％から０．５％に減少した。
トーポレックスＧＰＰＳ５２５−５１（三井東圧製））
を含むトルエン溶液を塗布し、屈折率１．５８５、膜圧
１６０nmの高屈折率層を形成した。続いて、実施例１の
ミクロボイドを含有する低屈折率層を１２０ｎｍの膜厚
に塗工した。視感反射率はＴＡＣのみの場合の３．７５
％から０．５％に減少した。
【００２９】実施例３ 表面にアンチグレア処理を施した偏光板に、実施例２に
記載の反射防止膜を形成した。この反射防止処理された
偏光板を液晶テレビの表面側に組み込んだところ、外光
の反射や背景の映り込み等が大幅に減少し、表示品位の
高いディスプレイを得ることができた。
記載の反射防止膜を形成した。この反射防止処理された
偏光板を液晶テレビの表面側に組み込んだところ、外光
の反射や背景の映り込み等が大幅に減少し、表示品位の
高いディスプレイを得ることができた。
【００３０】比較例１ ＴＡＣフィルムにスチレン／ジビニルベンゼンを６：４
の体積比で混合した混合液に過酸化ベンゾイル適量を加
えた液を塗布し、ＵＶ照射によってモノマーを重合し
た。８０℃で２時間乾燥し、乾燥膜厚１００ｎｍの薄膜
を形成した。膜の屈折率は１．５９であり、反射防止効
果はみられなかった。
の体積比で混合した混合液に過酸化ベンゾイル適量を加
えた液を塗布し、ＵＶ照射によってモノマーを重合し
た。８０℃で２時間乾燥し、乾燥膜厚１００ｎｍの薄膜
を形成した。膜の屈折率は１．５９であり、反射防止効
果はみられなかった。
【００３１】
【発明の効果】本発明の反射防止膜の低屈折率層は、素
材自体の屈折率よりも低い屈折率を有する膜とすること
ができ、有効に外光の反射を防止する事ができる。
材自体の屈折率よりも低い屈折率を有する膜とすること
ができ、有効に外光の反射を防止する事ができる。
【図１】本発明の逆相乳化法によって形成されたミクロ
ボイドを含む低屈折率層による反射防止膜の断面図を示
す。
ボイドを含む低屈折率層による反射防止膜の断面図を示
す。
【図２】本発明の逆相乳化法によって形成されたミクロ
ボイドを含む低屈折率層と、基材よりも高い屈折率を有
する層から成る反射防止膜の断面図を示す。
ボイドを含む低屈折率層と、基材よりも高い屈折率を有
する層から成る反射防止膜の断面図を示す。
１：逆相乳化法によって形成されたミクロボイドを含む
低屈折率層 ２：高屈折率層 ３：基材
低屈折率層 ２：高屈折率層 ３：基材
Claims (5)
- 【請求項１】 樹脂によって形成される薄膜中に逆相乳
化法によって光の波長以下のサイズのミクロボイドを形
成させた低屈折率層を含むことを特徴とする反射防止
膜。 - 【請求項２】 前記屈折率層が０．１０体積分率以上、
０．５０体積分率以下のミクロボイドを含む事を特徴と
する請求項１に記載の反射防止膜。 - 【請求項３】 前記低屈折率層が基材よりも屈折率の高
い層の上に形成されたことを特徴とする請求項１に記載
の反射防止膜。 - 【請求項４】 前記反射防止膜がアンチグレア効果を有
する事を特徴とする請求項１乃至３の反射防止膜。 - 【請求項５】 請求項１に記載の反射防止膜を有する事
を特徴とする画像表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8031841A JPH09227713A (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 反射防止膜および画像表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8031841A JPH09227713A (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 反射防止膜および画像表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09227713A true JPH09227713A (ja) | 1997-09-02 |
Family
ID=12342288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8031841A Pending JPH09227713A (ja) | 1996-02-20 | 1996-02-20 | 反射防止膜および画像表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09227713A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6166855A (en) * | 1998-06-05 | 2000-12-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and display device having the same |
| WO2005001525A1 (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-06 | Zeon Corporation | 光学積層フィルム、偏光板および光学製品 |
| JP2005037927A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 光学積層フィルム |
| JP2007269912A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Nitto Denko Corp | 多孔質体の製造方法、多孔質体、反射防止膜、反射防止シートの製造方法及び反射防止シート |
| JP2007316644A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Far Eastern Textile Ltd | 防眩性フィルム、その製造方法及び表示素子におけるその使用 |
| CN100420961C (zh) * | 2003-06-26 | 2008-09-24 | 日本瑞翁株式会社 | 光学层压膜、偏振片及光学制品 |
| JP2011209512A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Lintec Corp | 画像表示装置用飛散防止フィルムおよびこれを備えた画像表示装置 |
| CN102822702A (zh) * | 2010-04-12 | 2012-12-12 | 3M创新有限公司 | 光学叠堆和光导 |
| CN111108601A (zh) * | 2017-10-06 | 2020-05-05 | 索尼半导体解决方案公司 | 固态摄像元件、制造方法和电子设备 |
-
1996
- 1996-02-20 JP JP8031841A patent/JPH09227713A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6166855A (en) * | 1998-06-05 | 2000-12-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Anti-reflection film and display device having the same |
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| JP2005037927A (ja) * | 2003-06-26 | 2005-02-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 光学積層フィルム |
| JPWO2005001525A1 (ja) * | 2003-06-26 | 2007-09-20 | 日本ゼオン株式会社 | 光学積層フィルム、偏光板および光学製品 |
| US7285323B2 (en) | 2003-06-26 | 2007-10-23 | Zeon Corporation | Optical multilayer film, polarizing plate and optical product |
| CN100420961C (zh) * | 2003-06-26 | 2008-09-24 | 日本瑞翁株式会社 | 光学层压膜、偏振片及光学制品 |
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| JP2007316644A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Far Eastern Textile Ltd | 防眩性フィルム、その製造方法及び表示素子におけるその使用 |
| JP2011209512A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Lintec Corp | 画像表示装置用飛散防止フィルムおよびこれを備えた画像表示装置 |
| CN102822702A (zh) * | 2010-04-12 | 2012-12-12 | 3M创新有限公司 | 光学叠堆和光导 |
| US9116285B2 (en) | 2010-04-12 | 2015-08-25 | 3M Innovative Properties Company | Light directing film |
| CN111108601A (zh) * | 2017-10-06 | 2020-05-05 | 索尼半导体解决方案公司 | 固态摄像元件、制造方法和电子设备 |
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