JP2000053449A - 防曇鏡およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 鏡の表面に親水膜として無機酸化膜を形成す
る構造の防曇鏡において、親水膜の膜構造および製造方
法を適正化する。 【解決手段】 鏡の表面に１００〜１０００ｎｍの光触
媒ＴｉＯ２膜２０を成膜し、その上に１０〜５０ｎｍの
多孔質ＳｉＯ２膜２２を成膜する。多孔質ＳｉＯ２膜２
２の表面粗さを２ｎｍ以上にする。透明ガラス基板１６
の裏面１６ｂに反射膜１８を成膜し、その後基板温度を
２００〜４５０℃に保って、基板表面１６ａに光触媒Ｔ
ｉＯ２膜２０と多孔質ＳｉＯ２膜２２を真空蒸着で成膜
する。
る構造の防曇鏡において、親水膜の膜構造および製造方
法を適正化する。 【解決手段】 鏡の表面に１００〜１０００ｎｍの光触
媒ＴｉＯ２膜２０を成膜し、その上に１０〜５０ｎｍの
多孔質ＳｉＯ２膜２２を成膜する。多孔質ＳｉＯ２膜２
２の表面粗さを２ｎｍ以上にする。透明ガラス基板１６
の裏面１６ｂに反射膜１８を成膜し、その後基板温度を
２００〜４５０℃に保って、基板表面１６ａに光触媒Ｔ
ｉＯ２膜２０と多孔質ＳｉＯ２膜２２を真空蒸着で成膜
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、鏡の表面に無機
親水膜を形成する構造の防曇鏡およびその製造方法に関
し、無機親水膜の膜構造および製造工程の適正化を図っ
たものである。
親水膜を形成する構造の防曇鏡およびその製造方法に関
し、無機親水膜の膜構造および製造工程の適正化を図っ
たものである。
【０００２】
【従来の技術】防曇鏡は、車両のアウターミラー、浴室
用ミラー等に用いられるもので、鏡表面での水滴の付着
を防止して視認性を向上させたものである。防曇鏡の１
つの形式として、鏡の表面に無機親水膜を形成して、表
面に付着した水を薄い膜状に広げるものがある。この種
の防曇鏡としては、例えば本出願人の出願に係る特開平
８−１１６３１号公報、特開平１０−３６１４４号公報
に記載のものがある。
用ミラー等に用いられるもので、鏡表面での水滴の付着
を防止して視認性を向上させたものである。防曇鏡の１
つの形式として、鏡の表面に無機親水膜を形成して、表
面に付着した水を薄い膜状に広げるものがある。この種
の防曇鏡としては、例えば本出願人の出願に係る特開平
８−１１６３１号公報、特開平１０−３６１４４号公報
に記載のものがある。
【０００３】特開平８−１１６３１号公報に記載の防曇
鏡は、ガラス等の基板部材の表面側または裏面側に反射
膜を成膜し、該基板部材の最表面に親水膜として多孔質
のＳｉＯ2 膜を成膜したものである。特開平１０−３６
１４４号公報に記載の防曇鏡は、上記特開平８−１１６
３１号の防曇鏡の構造において、多孔質ＳｉＯ2 膜の下
層に光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜を成膜することによ
り、多孔質ＳｉＯ2 に付着して多孔質に目詰りを生じさ
せている汚れ等の有機物を分解除去して、親水性が長期
間にわたり維持されるようにしたものである。
鏡は、ガラス等の基板部材の表面側または裏面側に反射
膜を成膜し、該基板部材の最表面に親水膜として多孔質
のＳｉＯ2 膜を成膜したものである。特開平１０−３６
１４４号公報に記載の防曇鏡は、上記特開平８−１１６
３１号の防曇鏡の構造において、多孔質ＳｉＯ2 膜の下
層に光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜を成膜することによ
り、多孔質ＳｉＯ2 に付着して多孔質に目詰りを生じさ
せている汚れ等の有機物を分解除去して、親水性が長期
間にわたり維持されるようにしたものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ガラス等の透明基板部
材の裏面に反射膜を形成し、表面に親水膜を成膜する構
造の防曇鏡を製造する場合、先に表面に親水膜を成膜
し、後で裏面に反射膜をスパッタリング、蒸着等で成膜
すると、反射膜の成膜中に、飛散した反射膜材料が表面
側に回り込んで親水膜表面に付着し、親水性を低下させ
る。したがって、この場合には、反射膜を成膜する前に
親水膜の表面をマスキング材で被膜し、反射膜を成膜後
にマスキング材を剥がして洗浄する工程が必要となり、
製造コストが高くなる。また、マスキング材の被膜、剥
離および洗浄によって親水膜を汚染する機会が多くな
り、製品の安定上好ましくない。
材の裏面に反射膜を形成し、表面に親水膜を成膜する構
造の防曇鏡を製造する場合、先に表面に親水膜を成膜
し、後で裏面に反射膜をスパッタリング、蒸着等で成膜
すると、反射膜の成膜中に、飛散した反射膜材料が表面
側に回り込んで親水膜表面に付着し、親水性を低下させ
る。したがって、この場合には、反射膜を成膜する前に
親水膜の表面をマスキング材で被膜し、反射膜を成膜後
にマスキング材を剥がして洗浄する工程が必要となり、
製造コストが高くなる。また、マスキング材の被膜、剥
離および洗浄によって親水膜を汚染する機会が多くな
り、製品の安定上好ましくない。
【０００５】逆に、先に裏面に反射膜を成膜し、後で表
面に親水膜を成膜する場合には、親水膜をゾルゲル法で
成膜すると、大気中で５００℃以上での焼成が必要とな
り、反射膜が酸化を起こして、ピンホール、変色等を生
じさせる。また、親水膜をバインダ法で成膜すると、硬
化温度が低く、密着性が悪いため、剥れやすい。
面に親水膜を成膜する場合には、親水膜をゾルゲル法で
成膜すると、大気中で５００℃以上での焼成が必要とな
り、反射膜が酸化を起こして、ピンホール、変色等を生
じさせる。また、親水膜をバインダ法で成膜すると、硬
化温度が低く、密着性が悪いため、剥れやすい。
【０００６】また、特開平１０−３６１４４号公報に記
載の防曇鏡の構造では、ＴｉＯ2 膜が厚いと反射率特性
に悪影響を及ぼすとともに、成膜に時間がかかり製造コ
ストが高くなる。逆に、ＴｉＯ2 膜が薄いと多孔質Ｓｉ
Ｏ2 膜に付着した汚れを分解する能力が低下する。ま
た、多孔質ＳｉＯ2 が厚いとＴｉＯ2 膜の光触媒機能が
多孔質ＳｉＯ2 膜の表面に届きにくくなり、該多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜に付着した汚れを分解する能力が低下する。逆
に、多孔質ＳｉＯ2 膜が薄いと、該多孔質ＳｉＯ2 膜の
耐摩耗性が低下し、耐久性が低下する。したがって、Ｔ
ｉＯ2 膜および多孔質ＳｉＯ2 膜の膜厚を最適化するこ
とが必要である。
載の防曇鏡の構造では、ＴｉＯ2 膜が厚いと反射率特性
に悪影響を及ぼすとともに、成膜に時間がかかり製造コ
ストが高くなる。逆に、ＴｉＯ2 膜が薄いと多孔質Ｓｉ
Ｏ2 膜に付着した汚れを分解する能力が低下する。ま
た、多孔質ＳｉＯ2 が厚いとＴｉＯ2 膜の光触媒機能が
多孔質ＳｉＯ2 膜の表面に届きにくくなり、該多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜に付着した汚れを分解する能力が低下する。逆
に、多孔質ＳｉＯ2 膜が薄いと、該多孔質ＳｉＯ2 膜の
耐摩耗性が低下し、耐久性が低下する。したがって、Ｔ
ｉＯ2 膜および多孔質ＳｉＯ2 膜の膜厚を最適化するこ
とが必要である。
【０００７】また、ＴｉＯ2 膜をゾルゲル法で成膜する
と、大気中で５００℃以上での焼成が必要となり、基板
部材中のアルカリイオンがＴｉＯ2 膜中に拡散し、Ｔｉ
Ｏ2膜の光触媒機能が低下する。したがって、この場合
には、基板部材とＴｉＯ2 膜の間のＳｉＯ2 等のブロッ
ク層（バリア層）を成膜する必要が生じ、製造コストが
高くなる。
と、大気中で５００℃以上での焼成が必要となり、基板
部材中のアルカリイオンがＴｉＯ2 膜中に拡散し、Ｔｉ
Ｏ2膜の光触媒機能が低下する。したがって、この場合
には、基板部材とＴｉＯ2 膜の間のＳｉＯ2 等のブロッ
ク層（バリア層）を成膜する必要が生じ、製造コストが
高くなる。
【０００８】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、無機親水膜の膜構造および製造方法の適
正化を図った防曇鏡およびその製造方法を提供しようと
するものである。
点を解決して、無機親水膜の膜構造および製造方法の適
正化を図った防曇鏡およびその製造方法を提供しようと
するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明の防曇鏡は、基
板部材の裏面側または表面側に反射膜を形成し、該透明
基板部材の最表面に該透明基板部材側から、光透過性と
光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜と、光透過性および親水
性を有する多孔質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を形成
してなり、該多孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水性を
呈するようにした防曇鏡において、前記ＴｉＯ2 膜の膜
厚を１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とし、前記多孔質
ＳｉＯ2 膜の膜厚を１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下としてな
るものである。
板部材の裏面側または表面側に反射膜を形成し、該透明
基板部材の最表面に該透明基板部材側から、光透過性と
光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜と、光透過性および親水
性を有する多孔質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を形成
してなり、該多孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水性を
呈するようにした防曇鏡において、前記ＴｉＯ2 膜の膜
厚を１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とし、前記多孔質
ＳｉＯ2 膜の膜厚を１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下としてな
るものである。
【００１０】この防曇鏡によれば、ＴｉＯ2 膜の膜厚を
１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下としたので、多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜に付着した汚れを分解する十分な能力が得ら
れ、かつ良好な反射率特性が得られるとともに成膜に要
する時間も短くてすむ。また、ＳｉＯ2 の膜厚を１０ｎ
ｍ以上５０ｎｍ以下としたので、ＴｉＯ2 膜の光触媒機
能が多孔質ＳｉＯ2 膜の表面に届きやすく、該多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜に付着した汚れを分解する十分な能力が得られ
るとともに、十分な耐摩耗性が得られ、高い耐久性が得
られる。また、多孔質ＳｉＯ2 膜の表面粗さ（算術平均
粗さＲａ）を２ｎｍ以上とすることにより十分な親水性
を得ることができる。
１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下としたので、多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜に付着した汚れを分解する十分な能力が得ら
れ、かつ良好な反射率特性が得られるとともに成膜に要
する時間も短くてすむ。また、ＳｉＯ2 の膜厚を１０ｎ
ｍ以上５０ｎｍ以下としたので、ＴｉＯ2 膜の光触媒機
能が多孔質ＳｉＯ2 膜の表面に届きやすく、該多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜に付着した汚れを分解する十分な能力が得られ
るとともに、十分な耐摩耗性が得られ、高い耐久性が得
られる。また、多孔質ＳｉＯ2 膜の表面粗さ（算術平均
粗さＲａ）を２ｎｍ以上とすることにより十分な親水性
を得ることができる。
【００１１】この発明の防曇鏡の製造方法は、透明基板
部材の裏面側に反射膜を形成し、該透明基板部材の表面
側に該透明基板部材側から、光透過性と光触媒機能を有
するＴｉＯ2 膜と、光透過性および親水性を有する多孔
質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を形成してなり、該多
孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水性を呈するようにし
た防曇鏡の製造方法であって、前記透明基板部材を２０
０℃以上４５０℃以下に加熱した状態で、該透明基板部
材の表面に直接前記ＴｉＯ2 膜と前記多孔質ＳｉＯ2 膜
との積層膜を真空蒸着で成膜してなるものである。
部材の裏面側に反射膜を形成し、該透明基板部材の表面
側に該透明基板部材側から、光透過性と光触媒機能を有
するＴｉＯ2 膜と、光透過性および親水性を有する多孔
質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を形成してなり、該多
孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水性を呈するようにし
た防曇鏡の製造方法であって、前記透明基板部材を２０
０℃以上４５０℃以下に加熱した状態で、該透明基板部
材の表面に直接前記ＴｉＯ2 膜と前記多孔質ＳｉＯ2 膜
との積層膜を真空蒸着で成膜してなるものである。
【００１２】この製造方法によれば、基板温度を比較的
低く保ってＴｉＯ2 膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜するの
で、基板部材中のアルカリイオンがＴｉＯ2 膜中に拡散
することがなく、ブロック層を設けなくても十分な光触
媒機能を得ることができる。したがって、基板部材の表
面に直接ＴｉＯ2 膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜できるの
で、製造工程が簡素化されて、製造コストが安くなる。
低く保ってＴｉＯ2 膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜するの
で、基板部材中のアルカリイオンがＴｉＯ2 膜中に拡散
することがなく、ブロック層を設けなくても十分な光触
媒機能を得ることができる。したがって、基板部材の表
面に直接ＴｉＯ2 膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜できるの
で、製造工程が簡素化されて、製造コストが安くなる。
【００１３】また、この発明の防曇鏡の製造方法は、基
板部材の表面側に反射膜を形成し、該反射膜の表面に該
反射膜側から、光透過性と光触媒機能を有するＴｉＯ2
膜と、光透過性および親水性を有する多孔質ＳｉＯ2 膜
とを積層した積層膜を形成してなり、該多孔質ＳｉＯ2
膜によって表面が親水性を呈するようにした防曇鏡の製
造方法であって、前記基板部材の表面側に前記反射膜を
成膜し、その後該基板部材を４５０℃以下に加熱した状
態で、該反射膜の表面に前記ＴｉＯ2 膜と前記多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜との積層膜を真空蒸着で成膜してなるものであ
る。
板部材の表面側に反射膜を形成し、該反射膜の表面に該
反射膜側から、光透過性と光触媒機能を有するＴｉＯ2
膜と、光透過性および親水性を有する多孔質ＳｉＯ2 膜
とを積層した積層膜を形成してなり、該多孔質ＳｉＯ2
膜によって表面が親水性を呈するようにした防曇鏡の製
造方法であって、前記基板部材の表面側に前記反射膜を
成膜し、その後該基板部材を４５０℃以下に加熱した状
態で、該反射膜の表面に前記ＴｉＯ2 膜と前記多孔質Ｓ
ｉＯ2 膜との積層膜を真空蒸着で成膜してなるものであ
る。
【００１４】この製造方法によれば、基板温度を比較的
低く保ってＴｉＯ2 膜とＳｉＯ2 膜との積層膜を成膜す
るので、反射膜の酸化を防止して、ピンホール、変色等
を防止することができる。
低く保ってＴｉＯ2 膜とＳｉＯ2 膜との積層膜を成膜す
るので、反射膜の酸化を防止して、ピンホール、変色等
を防止することができる。
【００１５】また、この発明の防曇鏡の製造方法は、透
明基板部材の裏面側に反射膜を形成し、該透明基板部材
の表面側に光透過性を有する無機親水膜を形成してな
り、該無機親水膜を最表面に配置して表面が親水性を呈
するようにした防曇鏡の製造方法であって、前記透明基
板部材の裏面側に前記反射膜を成膜し、その後該透明基
板部材を４５０℃以下に加熱した状態で、該透明基板部
材の表面側に前記無機親水膜を真空蒸着で成膜してなる
ものである。
明基板部材の裏面側に反射膜を形成し、該透明基板部材
の表面側に光透過性を有する無機親水膜を形成してな
り、該無機親水膜を最表面に配置して表面が親水性を呈
するようにした防曇鏡の製造方法であって、前記透明基
板部材の裏面側に前記反射膜を成膜し、その後該透明基
板部材を４５０℃以下に加熱した状態で、該透明基板部
材の表面側に前記無機親水膜を真空蒸着で成膜してなる
ものである。
【００１６】この製造方法によれば、先に基板表面側に
反射膜を成膜し、後で基板表面側に無機親水膜を成膜し
たので、反射膜が無機親水膜表面に付着しなくなり、親
水性の低下が生じない。また、無機親水膜をマスキング
材で被覆する必要がないので、製造工程が簡素化されて
製造コストが安くなり、製品の安定性も向上する。ま
た、基板温度を比較的低く保って無機親水膜を成膜する
ので、反射膜の酸化を防止して、ピンホール、変色等を
防止することができる。
反射膜を成膜し、後で基板表面側に無機親水膜を成膜し
たので、反射膜が無機親水膜表面に付着しなくなり、親
水性の低下が生じない。また、無機親水膜をマスキング
材で被覆する必要がないので、製造工程が簡素化されて
製造コストが安くなり、製品の安定性も向上する。ま
た、基板温度を比較的低く保って無機親水膜を成膜する
ので、反射膜の酸化を防止して、ピンホール、変色等を
防止することができる。
【００１７】なお、反射膜を、屈折率が異なり光学膜厚
がそれぞれλ／４（λは特定の波長）の複数層の無機膜
と、金属膜を積層した、前記特定波長λを中心波長とす
る選択反射特性を有する積層膜で構成する場合は、該複
数層の無機膜と金属膜をスパッタリングで順次成膜する
ことにより、効率よく該積層膜を成膜することができ
る。この場合、金属膜は例えばＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒまたは
Ｔｉで構成することができる。これらの金属は不動態で
あり、非常に安定した酸化被膜を形成し、ガラスおよび
酸化膜に対して密着性が良好なため、基板表面側に回り
込んで付着しても、その後該基板表面に成膜する無機親
水膜あるいは光触媒膜との密着力が高く、剥れにくく耐
久性が高い無機親水膜あるいは光触媒膜と無機親水膜と
の積層膜が得られる。
がそれぞれλ／４（λは特定の波長）の複数層の無機膜
と、金属膜を積層した、前記特定波長λを中心波長とす
る選択反射特性を有する積層膜で構成する場合は、該複
数層の無機膜と金属膜をスパッタリングで順次成膜する
ことにより、効率よく該積層膜を成膜することができ
る。この場合、金属膜は例えばＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒまたは
Ｔｉで構成することができる。これらの金属は不動態で
あり、非常に安定した酸化被膜を形成し、ガラスおよび
酸化膜に対して密着性が良好なため、基板表面側に回り
込んで付着しても、その後該基板表面に成膜する無機親
水膜あるいは光触媒膜との密着力が高く、剥れにくく耐
久性が高い無機親水膜あるいは光触媒膜と無機親水膜と
の積層膜が得られる。
【００１８】また、複数層の無機膜は例えばＴｉＯ2 膜
とＳｉＯ2 膜の積層膜や屈折率が異なる複数層のＴｉＯ
2 膜で構成することができ、金属膜として例えばＣｒ膜
と組み合わせることにより相互に高い密着力が得られ
る。この場合、無機親水膜を多孔質ＳｉＯ2 膜で構成
し、透明基板部材と多孔質ＳｉＯ2 膜との間に光透過性
および光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜を成膜すれば、基
板部材の裏面にＴｉＯ2 膜やＳｉＯ2 膜を成膜する時に
該無機膜の材料が表面側に回り込んで付着しても、その
後基板表面に成膜する光触媒ＴｉＯ2 膜との密着力が高
く、高い耐久性が得られる。
とＳｉＯ2 膜の積層膜や屈折率が異なる複数層のＴｉＯ
2 膜で構成することができ、金属膜として例えばＣｒ膜
と組み合わせることにより相互に高い密着力が得られ
る。この場合、無機親水膜を多孔質ＳｉＯ2 膜で構成
し、透明基板部材と多孔質ＳｉＯ2 膜との間に光透過性
および光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜を成膜すれば、基
板部材の裏面にＴｉＯ2 膜やＳｉＯ2 膜を成膜する時に
該無機膜の材料が表面側に回り込んで付着しても、その
後基板表面に成膜する光触媒ＴｉＯ2 膜との密着力が高
く、高い耐久性が得られる。
【００１９】また、この発明の防曇鏡の製造方法は、基
板部材の裏面側に反射膜を形成し、該透明基板部材の最
表面に該透明基板部材側から、光透過性と光触媒機能を
有するＴｉＯ2 膜と、光透過性および親水性を有する多
孔質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を形成してなり、該
多孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水性を呈するように
した防曇鏡の製造方法であって、前記透明基板部材の裏
面側に前記反射膜を成膜し、その後前記基板部材を２０
０℃以上４５０℃以下に加熱した状態で、該基板部材の
表面に直接前記ＴｉＯ2 膜と前記多孔質ＳｉＯ2 膜との
積層膜を真空蒸着で成膜してなるものである。
板部材の裏面側に反射膜を形成し、該透明基板部材の最
表面に該透明基板部材側から、光透過性と光触媒機能を
有するＴｉＯ2 膜と、光透過性および親水性を有する多
孔質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を形成してなり、該
多孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水性を呈するように
した防曇鏡の製造方法であって、前記透明基板部材の裏
面側に前記反射膜を成膜し、その後前記基板部材を２０
０℃以上４５０℃以下に加熱した状態で、該基板部材の
表面に直接前記ＴｉＯ2 膜と前記多孔質ＳｉＯ2 膜との
積層膜を真空蒸着で成膜してなるものである。
【００２０】この製造方法によれば、先に基板裏面側に
反射膜を成膜し、後で基板表面側に光触媒ＴｉＯ2 膜と
多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜したので、反射膜が多孔質Ｓｉ
Ｏ2膜の表面に付着しなくなり、親水性の低下が生じな
い。また、多孔質ＳｉＯ2 膜の表面をマスキング材で被
覆する必要がないので、製造工程が簡素化されて製造コ
ストが安くなり、製品の安定性も向上する。また、基板
温度を比較的低く保って光触媒ＴｉＯ2 膜と多孔質Ｓｉ
Ｏ2 膜を成膜するので、反射膜の酸化を防止して、ピン
ホール、変色等を防止することができる。
反射膜を成膜し、後で基板表面側に光触媒ＴｉＯ2 膜と
多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜したので、反射膜が多孔質Ｓｉ
Ｏ2膜の表面に付着しなくなり、親水性の低下が生じな
い。また、多孔質ＳｉＯ2 膜の表面をマスキング材で被
覆する必要がないので、製造工程が簡素化されて製造コ
ストが安くなり、製品の安定性も向上する。また、基板
温度を比較的低く保って光触媒ＴｉＯ2 膜と多孔質Ｓｉ
Ｏ2 膜を成膜するので、反射膜の酸化を防止して、ピン
ホール、変色等を防止することができる。
【００２１】また、基板温度を比較的低く保ってＴｉＯ
2 膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜するので、基板部材中の
アルカリイオンがＴｉＯ2 膜中に拡散することがなく、
ブロック層を設けなくても十分な光触媒機能を得ること
ができる。したがって、基板部材の表面に直接ＴｉＯ2
膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜できるので、製造工程が簡
素化されて、製造コストが安くなる。
2 膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜するので、基板部材中の
アルカリイオンがＴｉＯ2 膜中に拡散することがなく、
ブロック層を設けなくても十分な光触媒機能を得ること
ができる。したがって、基板部材の表面に直接ＴｉＯ2
膜と多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜できるので、製造工程が簡
素化されて、製造コストが安くなる。
【００２２】
【発明の実施の形態】この発明の防曇鏡を車両用アウタ
ーミラーに適用した実施の形態を図１（ａ）に示す。ア
ウターミラー１０はミラーハウジング１２の開口部内に
防曇鏡１４を配置している。防曇鏡１４は透明ガラス基
板１６の裏面１６ｂにＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｔｉ等の金属
膜を成膜して、反射膜１８が構成されている。透明ガラ
ス基板１６の表面１６ａには、光触媒膜としてＴｉＯ2
膜２０と、無機酸化膜等で構成される無機親水膜として
ＳｉＯ2 膜２２が積層成膜されている。ＳｉＯ2 膜２２
の表面は図１（ｂ）に拡大して示すように多孔質状に形
成され、親水化されている。反射膜１８の膜厚は、例え
ばＣｒの場合、５０〜１００ｎｍ程度である。
ーミラーに適用した実施の形態を図１（ａ）に示す。ア
ウターミラー１０はミラーハウジング１２の開口部内に
防曇鏡１４を配置している。防曇鏡１４は透明ガラス基
板１６の裏面１６ｂにＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｔｉ等の金属
膜を成膜して、反射膜１８が構成されている。透明ガラ
ス基板１６の表面１６ａには、光触媒膜としてＴｉＯ2
膜２０と、無機酸化膜等で構成される無機親水膜として
ＳｉＯ2 膜２２が積層成膜されている。ＳｉＯ2 膜２２
の表面は図１（ｂ）に拡大して示すように多孔質状に形
成され、親水化されている。反射膜１８の膜厚は、例え
ばＣｒの場合、５０〜１００ｎｍ程度である。
【００２３】光触媒ＴｉＯ2 膜と多孔質ＳｉＯ2 膜２２
の膜厚はＳｉＯ2 膜の２２の表面に付着した汚れの分解
性能（光触媒性能）に大きく影響する。表１は図１の構
造において、光触媒ＴｉＯ2 膜２０の膜厚を様々に設定
して１回／月のワックス洗車を６カ月間実車にて続けた
場合の水滴接触角の測定結果である。
の膜厚はＳｉＯ2 膜の２２の表面に付着した汚れの分解
性能（光触媒性能）に大きく影響する。表１は図１の構
造において、光触媒ＴｉＯ2 膜２０の膜厚を様々に設定
して１回／月のワックス洗車を６カ月間実車にて続けた
場合の水滴接触角の測定結果である。
【００２４】
【表１】 表１によれば、１００ｎｍ以上の膜厚であれば、接触角
は２０°以下であり、親水性を維持している。また、光
触媒ＴｉＯ2 膜２０が厚すぎると反射率特性が悪化する
とともに、成膜に時間がかかり製造コストが高くなるの
で、１０００ｎｍ以下の膜厚が望ましい。したがって、
光触媒ＴｉＯ2 膜２０の膜厚は、１００ｎｍ以上１００
０ｎｍ以下が適正である。
は２０°以下であり、親水性を維持している。また、光
触媒ＴｉＯ2 膜２０が厚すぎると反射率特性が悪化する
とともに、成膜に時間がかかり製造コストが高くなるの
で、１０００ｎｍ以下の膜厚が望ましい。したがって、
光触媒ＴｉＯ2 膜２０の膜厚は、１００ｎｍ以上１００
０ｎｍ以下が適正である。
【００２５】また、多孔質ＳｉＯ2 膜２２の膜厚による
水滴接触角の変化を図２に示す。これは、多孔質ＳｉＯ
2 膜２２の表面にオイルを付着させ、強度１ｍＷ／ｃｍ
2 のブラックライトを２４時間照射したときの測定結果
である。これによれば、５０ｎｍ以下の膜厚であれば、
接触角は２０°以下であり、親水性を維持している。た
だし、多孔質ＳｉＯ2 膜２２が薄すぎると、膜強度が低
下し、耐摩耗性が劣ってくる。表２は、多孔質ＳｉＯ2
膜２２の膜厚を様々に設定して、その表面で１Ｎ／ｃｍ
2 の荷重で布を巻いた摩擦子を１万回往復させたときの
表面の外観の観測結果である。
水滴接触角の変化を図２に示す。これは、多孔質ＳｉＯ
2 膜２２の表面にオイルを付着させ、強度１ｍＷ／ｃｍ
2 のブラックライトを２４時間照射したときの測定結果
である。これによれば、５０ｎｍ以下の膜厚であれば、
接触角は２０°以下であり、親水性を維持している。た
だし、多孔質ＳｉＯ2 膜２２が薄すぎると、膜強度が低
下し、耐摩耗性が劣ってくる。表２は、多孔質ＳｉＯ2
膜２２の膜厚を様々に設定して、その表面で１Ｎ／ｃｍ
2 の荷重で布を巻いた摩擦子を１万回往復させたときの
表面の外観の観測結果である。
【００２６】
【表２】 表２によれば、膜厚が１０ｎｍ以上であれば、十分な膜
強度が得られる。したがって、多孔質ＳｉＯ2 膜２２の
膜厚は１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が適正である。
強度が得られる。したがって、多孔質ＳｉＯ2 膜２２の
膜厚は１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が適正である。
【００２７】多孔質ＳｉＯ2 膜２２の表面粗さは親水性
に直接影響する。図３は、多孔質ＳｉＯ2 膜２２の表面
粗さＲａを様々に設定した場合の水滴接触角の測定結果
である。ここでの表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０
１-1994 で定義されている算術平均粗さＲａであり、Ａ
ＦＭ（原子間力顕微鏡）等の測定に基づき求めることが
できるものである。図３のよれば、表面粗さＲａが２ｎ
ｍ以上であれば、十分な親水性が得られる。図４は、多
孔質ＳｉＯ2 膜２２の表面粗さを１ｎｍと２ｎｍ以上に
設定して、光が当たらない室内に放置した時の水滴接触
角の変化の測定結果である。これによれば、表面粗さが
１ｎｍでは親水性がすぐに低下するが、表面粗さが２ｎ
ｍ以上では親水性の低下が緩やかである。
に直接影響する。図３は、多孔質ＳｉＯ2 膜２２の表面
粗さＲａを様々に設定した場合の水滴接触角の測定結果
である。ここでの表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０
１-1994 で定義されている算術平均粗さＲａであり、Ａ
ＦＭ（原子間力顕微鏡）等の測定に基づき求めることが
できるものである。図３のよれば、表面粗さＲａが２ｎ
ｍ以上であれば、十分な親水性が得られる。図４は、多
孔質ＳｉＯ2 膜２２の表面粗さを１ｎｍと２ｎｍ以上に
設定して、光が当たらない室内に放置した時の水滴接触
角の変化の測定結果である。これによれば、表面粗さが
１ｎｍでは親水性がすぐに低下するが、表面粗さが２ｎ
ｍ以上では親水性の低下が緩やかである。
【００２８】次に、図１の防曇鏡１４の製造工程の一例
を図５に従って説明する。 （１） ガラス基板作製 はじめに透明ガラス基板１６を所定のミラー基板形状に
作製する。一般的に、車両用ミラーでは普通板ガラス
（ソーダ石灰ガラス）がコスト、品質の面から使用され
る。
を図５に従って説明する。 （１） ガラス基板作製 はじめに透明ガラス基板１６を所定のミラー基板形状に
作製する。一般的に、車両用ミラーでは普通板ガラス
（ソーダ石灰ガラス）がコスト、品質の面から使用され
る。
【００２９】（２） 反射膜成膜 透明ガラス基板１６の裏面にＣｒ，Ｃｒ−Ｎｉ，Ｔｉ等
を成膜して反射膜１８を形成する。成膜には例えばスパ
ッタリングを用いることができる。図６はこのとき用い
られる治具の一例である。この治具２４は垂直板２６の
片面に、上下方向に一定間隔置きに棚２８が設けられ、
各棚２８に透明ガラス基板１６がその裏面１６ｂを表に
向けて１枚ずつ立て掛けて配置される。この治具２４は
スパッタリング装置内で、図７のように治具ホルダー３
０に鉛直に支持されて、ターゲット３２（Ｃｒ，Ｃｒ−
Ｎｉ，Ｔｉ等）に向かい合わせに配置される。スパッタ
リングは、アルゴン等のイオン３１をターゲット３２に
衝突させてスパッタ原子、分子３３をたたき出して飛散
させ、透明ガラス基板１６の裏面１６ｂに付着させる。
このとき、透明ガラス基板１６の裏面１６ｂに付着でき
なかったスパッタ原子、分子は治具２４に当たり、その
一部は反射して透明ガラス基板１６の表面１６ａに付着
する（２次スパッタリングとも言う。）。表面１６ａに
付着する厚さは１０分の数ｎｍ程度と考えられるが、こ
れが親水膜２２（多孔質ＳｉＯ2 膜）に付着すると、親
水性を低下させる。しかし、ここでは親水膜２２を成膜
する前に反射膜１８を成膜するので、そのような不都合
は生じない。また、Ｃｒ，Ｎｉ，Ｔｉは不動態であり、
非常に安定した酸化被膜を形成する。これらは、ガラス
および酸化膜に対して密着性が良好なため、上記２次ス
パッタリングにより透明ガラス基板１６の表面１６ａに
形成されたＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｔｉ等の被膜上に光触媒
ＴｉＯ2 膜２０や多孔質ＳｉＯ2 膜２２を成膜しても密
着力が高く、これら膜２０，２２は剥れにくく耐久性は
低下しない。
を成膜して反射膜１８を形成する。成膜には例えばスパ
ッタリングを用いることができる。図６はこのとき用い
られる治具の一例である。この治具２４は垂直板２６の
片面に、上下方向に一定間隔置きに棚２８が設けられ、
各棚２８に透明ガラス基板１６がその裏面１６ｂを表に
向けて１枚ずつ立て掛けて配置される。この治具２４は
スパッタリング装置内で、図７のように治具ホルダー３
０に鉛直に支持されて、ターゲット３２（Ｃｒ，Ｃｒ−
Ｎｉ，Ｔｉ等）に向かい合わせに配置される。スパッタ
リングは、アルゴン等のイオン３１をターゲット３２に
衝突させてスパッタ原子、分子３３をたたき出して飛散
させ、透明ガラス基板１６の裏面１６ｂに付着させる。
このとき、透明ガラス基板１６の裏面１６ｂに付着でき
なかったスパッタ原子、分子は治具２４に当たり、その
一部は反射して透明ガラス基板１６の表面１６ａに付着
する（２次スパッタリングとも言う。）。表面１６ａに
付着する厚さは１０分の数ｎｍ程度と考えられるが、こ
れが親水膜２２（多孔質ＳｉＯ2 膜）に付着すると、親
水性を低下させる。しかし、ここでは親水膜２２を成膜
する前に反射膜１８を成膜するので、そのような不都合
は生じない。また、Ｃｒ，Ｎｉ，Ｔｉは不動態であり、
非常に安定した酸化被膜を形成する。これらは、ガラス
および酸化膜に対して密着性が良好なため、上記２次ス
パッタリングにより透明ガラス基板１６の表面１６ａに
形成されたＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｔｉ等の被膜上に光触媒
ＴｉＯ2 膜２０や多孔質ＳｉＯ2 膜２２を成膜しても密
着力が高く、これら膜２０，２２は剥れにくく耐久性は
低下しない。
【００３０】（３） 光触媒膜成膜 ＴｉＯ2 膜２０が十分な光触媒機能を持つためには、ア
ナターゼ形の結晶構造に成膜する必要がある。アナター
ゼ形に成膜するためには、ある程度の熱エネルギーが必
要であり、このため透明ガラス基板１６を加熱した状態
で成膜する必要がある。ところが、このときの基板温度
が５００℃を越えると、透明ガラス基板１６中のナトリ
ウムイオンがＴｉＯ2 膜２０中に拡散し、ＮａｘＴｉｙ
Ｏｚとなり、ＴｉＯ2 膜２０の光触媒性が失われてしま
う。このため、高温焼成が必要なゾルゲル法を用いて成
膜する場合には、ナトリウムイオンの拡散を防止するブ
ロック層（ＳｉＯ2 等が用いられる。）が必要となり、
製造工程が複雑化する。
ナターゼ形の結晶構造に成膜する必要がある。アナター
ゼ形に成膜するためには、ある程度の熱エネルギーが必
要であり、このため透明ガラス基板１６を加熱した状態
で成膜する必要がある。ところが、このときの基板温度
が５００℃を越えると、透明ガラス基板１６中のナトリ
ウムイオンがＴｉＯ2 膜２０中に拡散し、ＮａｘＴｉｙ
Ｏｚとなり、ＴｉＯ2 膜２０の光触媒性が失われてしま
う。このため、高温焼成が必要なゾルゲル法を用いて成
膜する場合には、ナトリウムイオンの拡散を防止するブ
ロック層（ＳｉＯ2 等が用いられる。）が必要となり、
製造工程が複雑化する。
【００３１】そこで、ここでは、光触媒ＴｉＯ2 膜２０
および多孔質ＳｉＯ2 膜２２を真空蒸着で成膜する。透
明ガラス基板１６の温度を様々に変えてこれら膜２０，
２２を真空蒸着で成膜した場合の水滴接触角の変化の測
定結果を図８に示す。これは、多孔質ＳｉＯ2 膜２２の
表面にオイルを付着させ、強度１ｍＷ／ｃｍ2 のブラッ
クライトを２４時間照射したときの測定結果である。図
８によれば、基板温度を２００℃から４５０℃にしてＴ
ｉＯ2 膜２０を成膜することにより、ＴｉＯ2膜２０を
アナターゼ形に結晶化でき、光触媒機能が得られる。こ
の程度の基板温度ではナトリウムイオンの拡散も起こら
ないため、ブロック層は不要であり、製造工程が簡素化
される。また、反射膜１８にピンホールや変色が生じる
こともない。
および多孔質ＳｉＯ2 膜２２を真空蒸着で成膜する。透
明ガラス基板１６の温度を様々に変えてこれら膜２０，
２２を真空蒸着で成膜した場合の水滴接触角の変化の測
定結果を図８に示す。これは、多孔質ＳｉＯ2 膜２２の
表面にオイルを付着させ、強度１ｍＷ／ｃｍ2 のブラッ
クライトを２４時間照射したときの測定結果である。図
８によれば、基板温度を２００℃から４５０℃にしてＴ
ｉＯ2 膜２０を成膜することにより、ＴｉＯ2膜２０を
アナターゼ形に結晶化でき、光触媒機能が得られる。こ
の程度の基板温度ではナトリウムイオンの拡散も起こら
ないため、ブロック層は不要であり、製造工程が簡素化
される。また、反射膜１８にピンホールや変色が生じる
こともない。
【００３２】（４） 親水膜成膜 基板温度を２００℃から４５０℃に保ったまま、ＳｉＯ
2 膜２２を真空蒸着で成膜する。このとき、蒸着速度を
速くしたり、酸素分圧を高くする等により表面を多孔質
に形成することができる。すなわち、蒸着速度を速くす
ると均一な膜になりにくくなり、凹凸の大きい膜になり
易くなる。また、酸素分圧を高くすると、基材の表面
（この場合、ＴｉＯ2 膜２０の表面）に付着するエネル
ギが低下し、凹凸の大きい膜になり易くなる。
2 膜２２を真空蒸着で成膜する。このとき、蒸着速度を
速くしたり、酸素分圧を高くする等により表面を多孔質
に形成することができる。すなわち、蒸着速度を速くす
ると均一な膜になりにくくなり、凹凸の大きい膜になり
易くなる。また、酸素分圧を高くすると、基材の表面
（この場合、ＴｉＯ2 膜２０の表面）に付着するエネル
ギが低下し、凹凸の大きい膜になり易くなる。
【００３３】ＴｉＯ2 膜２０を緻密な膜に成膜し、Ｓｉ
Ｏ2 膜２２を多孔質の膜に成膜するための成膜条件の一
例を表３に示す。
Ｏ2 膜２２を多孔質の膜に成膜するための成膜条件の一
例を表３に示す。
【００３４】
【表３】 以上の工程によって完成した図１の防曇鏡１４の分光特
性を図９に示す。これは、反射膜１８をＣｒで構成した
ときのものである。また、反射膜１８をＣｒ，Ｎｉ−Ｃ
ｒ，Ｔｉでそれぞれ構成したときの、基板に対する反射
膜の密着性の測定結果を表４に示す。
性を図９に示す。これは、反射膜１８をＣｒで構成した
ときのものである。また、反射膜１８をＣｒ，Ｎｉ−Ｃ
ｒ，Ｔｉでそれぞれ構成したときの、基板に対する反射
膜の密着性の測定結果を表４に示す。
【００３５】
【表４】 表４は、５％塩水中で５時間煮沸を行ったときのもので
ある。表４によれば、いずれの場合も膜剥離が起こら
ず、高い密着性が得られている。また、２次スパッタリ
ングによる影響について測定した結果を表５に示す。
ある。表４によれば、いずれの場合も膜剥離が起こら
ず、高い密着性が得られている。また、２次スパッタリ
ングによる影響について測定した結果を表５に示す。
【００３６】
【表５】 表５によれば、先に多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜し、後で反
射膜を成膜した場合（ａ）に比べて、図５の工程（先に
反射膜を成膜し、後で多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜）では水
滴接触角、汚れ分解能とも良好な結果が得られている。
射膜を成膜した場合（ａ）に比べて、図５の工程（先に
反射膜を成膜し、後で多孔質ＳｉＯ2 膜を成膜）では水
滴接触角、汚れ分解能とも良好な結果が得られている。
【００３７】この発明の防曇鏡を車両用アウターミラー
に適用した他の実施の形態を図１０、図１１に断面図で
示す（防曇鏡本体のみ示す。）。図１と共通する部分に
は同一の符号を用いる。これらは、特定波長の反射率を
高くしてブルー鏡（青みがかった色に反射するミラー）
等に構成したものである。図１０の防曇鏡３４は、透明
ガラス基板１６の裏面１６ｂに、屈折率が相対的に高い
ＴｉＯ2 膜３８および屈折率が相対的に低いＳｉＯ2 膜
４０による複数層の無機膜とＣｒによる金属膜４２を成
膜して、特定波長の選択反射特性を有する反射膜３６を
形成したものである。ＴｉＯ2 膜３８とＳｉＯ2 膜４０
の膜厚は、強調したい波長λの１／４の光学膜厚にそれ
ぞれ設定する。例えば、強調する中心波長を４５０ｎｍ
とする場合は、ＴｉＯ2 膜３８（屈折率２．４）は４５
０／４／２．４＝約４７ｎｍの膜厚に設定する。
に適用した他の実施の形態を図１０、図１１に断面図で
示す（防曇鏡本体のみ示す。）。図１と共通する部分に
は同一の符号を用いる。これらは、特定波長の反射率を
高くしてブルー鏡（青みがかった色に反射するミラー）
等に構成したものである。図１０の防曇鏡３４は、透明
ガラス基板１６の裏面１６ｂに、屈折率が相対的に高い
ＴｉＯ2 膜３８および屈折率が相対的に低いＳｉＯ2 膜
４０による複数層の無機膜とＣｒによる金属膜４２を成
膜して、特定波長の選択反射特性を有する反射膜３６を
形成したものである。ＴｉＯ2 膜３８とＳｉＯ2 膜４０
の膜厚は、強調したい波長λの１／４の光学膜厚にそれ
ぞれ設定する。例えば、強調する中心波長を４５０ｎｍ
とする場合は、ＴｉＯ2 膜３８（屈折率２．４）は４５
０／４／２．４＝約４７ｎｍの膜厚に設定する。
【００３８】図１１の防曇鏡４４は、透明ガラス基板１
６の裏面に、屈折率が相対的に高いＴｉＯ2 膜４６およ
び屈折率が相対的に低いＴｉＯ2 膜４８による複数層の
無機膜とＣｒによる金属膜５０を成膜して、特定波長の
選択反射特性を有する反射膜５２を形成したものであ
る。ＴｉＯ2 膜４６とＴｉＯ2 膜４８の膜厚は、強調し
たい波長λの１／４の光学膜厚にそれぞれ設定する。Ｔ
ｉＯ2 膜４６，４８の屈折率は、成膜時の導入酸素ガス
量で調整することができる（導入酸素ガス量を多くする
ほど屈折率が低くなる。）。
６の裏面に、屈折率が相対的に高いＴｉＯ2 膜４６およ
び屈折率が相対的に低いＴｉＯ2 膜４８による複数層の
無機膜とＣｒによる金属膜５０を成膜して、特定波長の
選択反射特性を有する反射膜５２を形成したものであ
る。ＴｉＯ2 膜４６とＴｉＯ2 膜４８の膜厚は、強調し
たい波長λの１／４の光学膜厚にそれぞれ設定する。Ｔ
ｉＯ2 膜４６，４８の屈折率は、成膜時の導入酸素ガス
量で調整することができる（導入酸素ガス量を多くする
ほど屈折率が低くなる。）。
【００３９】図１０、図１１の防曇鏡３４，４４も図１
の防曇鏡１４について説明した製造工程に準じて製造さ
れる。複数層の膜で構成される反射膜３６，５２は例え
ばインライン式のスパッタリング装置を用いて、複数層
を連続的に形成することができる。インライン式のスパ
ッタリングを行う場合に用いる治具の一例を図１２に示
す。この治具５４は、水平板で構成され、該水平板には
一定間隔で開口部５５が形成され、上面の開口部５５の
両側に配置された支持用突起５６上に透明ガラス基板１
６がその裏面１６ｂを上向きにしてそれぞれ載置支持さ
れる。
の防曇鏡１４について説明した製造工程に準じて製造さ
れる。複数層の膜で構成される反射膜３６，５２は例え
ばインライン式のスパッタリング装置を用いて、複数層
を連続的に形成することができる。インライン式のスパ
ッタリングを行う場合に用いる治具の一例を図１２に示
す。この治具５４は、水平板で構成され、該水平板には
一定間隔で開口部５５が形成され、上面の開口部５５の
両側に配置された支持用突起５６上に透明ガラス基板１
６がその裏面１６ｂを上向きにしてそれぞれ載置支持さ
れる。
【００４０】治具５４は図１３に示すように、インライ
ン式スパッタリング装置内でコンベア５８に載せられて
一定速度で搬送され、コンベア５８の上方に固定配置さ
れたターゲット６０の下方を通過する。スパッタリング
は、アルゴン等のイオン６１をターゲット６０に衝突さ
せてスパッタ原子、分子６３をたたき出して飛散させ、
透明ガラス基板１６の裏面１６ｂに付着させる。
ン式スパッタリング装置内でコンベア５８に載せられて
一定速度で搬送され、コンベア５８の上方に固定配置さ
れたターゲット６０の下方を通過する。スパッタリング
は、アルゴン等のイオン６１をターゲット６０に衝突さ
せてスパッタ原子、分子６３をたたき出して飛散させ、
透明ガラス基板１６の裏面１６ｂに付着させる。
【００４１】最初の膜３８（４６）の成膜が終了した
ら、次のターゲットを通過する位置で次の膜４０（４
８）が成膜され、さらに次のターゲットを通過する位置
で最後の膜４２（５０）が成膜されて反射膜３６（５
２）が完成する。
ら、次のターゲットを通過する位置で次の膜４０（４
８）が成膜され、さらに次のターゲットを通過する位置
で最後の膜４２（５０）が成膜されて反射膜３６（５
２）が完成する。
【００４２】図１０または図１１の防曇鏡３４，４４の
分光特性を図１４に示す。また、基板に対する反射膜の
密着性の測定結果を表６に示す。
分光特性を図１４に示す。また、基板に対する反射膜の
密着性の測定結果を表６に示す。
【００４３】
【表６】 表６は、５％塩水中で５時間煮沸を行ったときのもので
ある。表６によれば、いずれの場合も膜剥離が起こら
ず、高い密着性が得られている。
ある。表６によれば、いずれの場合も膜剥離が起こら
ず、高い密着性が得られている。
【００４４】また、反射膜３６，５２の成膜時に２次ス
パッタリングによりスパッタ原子、分子６３が基板表面
１６ａへ回り込んで付着するが、これらは基板表面１６
ａに対する密着がよく、しかも基板表面１６ａに成膜す
る光触媒ＴｉＯ2 膜２０との密着力も高い。
パッタリングによりスパッタ原子、分子６３が基板表面
１６ａへ回り込んで付着するが、これらは基板表面１６
ａに対する密着がよく、しかも基板表面１６ａに成膜す
る光触媒ＴｉＯ2 膜２０との密着力も高い。
【００４５】この発明の防曇鏡を車両用アウターミラー
に適用したさらに別の実施の形態を図１５に断面図で示
す（防曇鏡本体のみ示す。）。図１と共通する部分には
同一の符号を用いる。これは反射膜を基板部材の表面側
に配置する表面鏡にこの発明を適用したものである。防
曇鏡６４は透明ガラス基板もしくは不透明ガラス基板ま
たはガラス以外の基板で構成された基板部材１７の表面
１７ａにＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｔｉ等の金属膜を成膜し
て、反射膜１８が構成されている。反射膜１８の表面に
は、光触媒膜としてＴｉＯ2 膜２０と、無機酸化膜等で
構成される無機親水膜としてＳｉＯ2 膜２２が直接積層
成膜されている。ＳｉＯ2 膜２２の表面は多孔質状に形
成され、親水化されている。この防曇鏡６４も前記図１
の防曇鏡１４について説明した製造工程に準じて製造さ
れる。この場合、基板部材１７がガラス基板であって
も、光触媒ＴｉＯ2 膜２０とガラス基板１７との間の反
射膜１８がブロック層となるので、ガラス基板中のナト
リウが光触媒ＴｉＯ2 膜２０に拡散することはない。た
だし、反射膜１８の酸化を防止するため、光触媒ＴｉＯ
2 膜２０および多孔質ＳｉＯ2 膜２２の蒸着時の基板温
度は４５０℃以下に保つのが望ましい。
に適用したさらに別の実施の形態を図１５に断面図で示
す（防曇鏡本体のみ示す。）。図１と共通する部分には
同一の符号を用いる。これは反射膜を基板部材の表面側
に配置する表面鏡にこの発明を適用したものである。防
曇鏡６４は透明ガラス基板もしくは不透明ガラス基板ま
たはガラス以外の基板で構成された基板部材１７の表面
１７ａにＣｒ，Ｎｉ−Ｃｒ，Ｔｉ等の金属膜を成膜し
て、反射膜１８が構成されている。反射膜１８の表面に
は、光触媒膜としてＴｉＯ2 膜２０と、無機酸化膜等で
構成される無機親水膜としてＳｉＯ2 膜２２が直接積層
成膜されている。ＳｉＯ2 膜２２の表面は多孔質状に形
成され、親水化されている。この防曇鏡６４も前記図１
の防曇鏡１４について説明した製造工程に準じて製造さ
れる。この場合、基板部材１７がガラス基板であって
も、光触媒ＴｉＯ2 膜２０とガラス基板１７との間の反
射膜１８がブロック層となるので、ガラス基板中のナト
リウが光触媒ＴｉＯ2 膜２０に拡散することはない。た
だし、反射膜１８の酸化を防止するため、光触媒ＴｉＯ
2 膜２０および多孔質ＳｉＯ2 膜２２の蒸着時の基板温
度は４５０℃以下に保つのが望ましい。
【００４６】なお、以上説明した実施の形態では、この
発明を自動車用ミラーに適用した場合について説明した
が、浴室用ミラー等にも適用することができる。
発明を自動車用ミラーに適用した場合について説明した
が、浴室用ミラー等にも適用することができる。
【図１】 この発明の防曇鏡の実施の形態を示す断面図
である。
である。
【図２】 図１の防曇鏡における多孔質ＳｉＯ2 膜の膜
厚による水滴接触角の変化を示す特性図である。
厚による水滴接触角の変化を示す特性図である。
【図３】 図１の防曇鏡における多孔質ＳｉＯ2 膜の表
面粗さによる水滴接触角の変化を示す特性図である。
面粗さによる水滴接触角の変化を示す特性図である。
【図４】 図１の防曇鏡における室内放置日数による水
滴接触角の変化を示す特性図である。
滴接触角の変化を示す特性図である。
【図５】 図１、図１０、図１１、図１５の防曇鏡の製
造工程を示す工程図である。
造工程を示す工程図である。
【図６】 図１の反射膜のスパッタリングに用いる治具
を示す図である。
を示す図である。
【図７】 図６の治具を用いたスパッタリング工程を示
す図である。
す図である。
【図８】 図１の防曇鏡の製造工程における基板加熱温
度による水滴接触角の変化を示す特性図である。
度による水滴接触角の変化を示す特性図である。
【図９】 図１の防曇鏡の分光特性を示す特性図であ
る。
る。
【図１０】 この発明の防曇鏡の他の実施の形態を示す
断面図である。
断面図である。
【図１１】 この発明の防曇鏡のさらに別の実施の形態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図１２】 図１０、図１１の反射膜のスパッタリング
に用いる治具を示す図である。
に用いる治具を示す図である。
【図１３】 図１２の治具を用いたスパッタリング工程
を示す図である。
を示す図である。
【図１４】 図１０または図１１の防曇鏡の分光特性を
示す特性図である。
示す特性図である。
【図１５】 この発明の防曇鏡のさらに別の実施の形態
を示す断面図である。
を示す断面図である。
１４，３４，４４，６４ 防曇鏡 １６ 透明ガラス基板（基板部材） １７ 基板部材 １８，３６，５２ 反射膜 ２０ 光触媒ＴｉＯ2 膜 ２２ 多孔質ＳｉＯ2 膜 ３８，４０ 複数層の無機膜（ＴｉＯ2 膜，ＳｉＯ
2 膜） ４２，５０ 金属膜 ４６，４８ 複数層の無機膜（屈折率が相対的に高いＴ
ｉＯ2 膜，屈折率が相対的に低いＴｉＯ2 膜）
2 膜） ４２，５０ 金属膜 ４６，４８ 複数層の無機膜（屈折率が相対的に高いＴ
ｉＯ2 膜，屈折率が相対的に低いＴｉＯ2 膜）
【手続補正書】
【提出日】平成１０年９月３０日（１９９８．９．３
０）
０）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２７】多孔質ＳｉＯ２膜２２の表面粗さは親水性
に直接影響する。図３は、多孔質ＳｉＯ２膜２２の表面
粗さＲａを様々に設定した場合の水滴接触角の測定結果
である。ここでの表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０
１−１９９４で定義されている算術平均粗さＲａであ
り、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）等の測定に基づき求める
ことができるものである。図３によれば、表面粗さＲａ
が２ｎｍ以上であれば、十分な親水性が得られる。図４
は、多孔質ＳｉＯ２膜２２の表面粗さを１ｎｍと２ｎｍ
以上に設定して、光が当たらない室内に放置した時の水
滴接触角の変化の測定結果である。これによれば、表面
粗さが１ｎｍでは親水性がすぐに低下するが、表面粗さ
が２ｎｍ以上では親水性の低下が緩やかである。
に直接影響する。図３は、多孔質ＳｉＯ２膜２２の表面
粗さＲａを様々に設定した場合の水滴接触角の測定結果
である。ここでの表面粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ ０６０
１−１９９４で定義されている算術平均粗さＲａであ
り、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）等の測定に基づき求める
ことができるものである。図３によれば、表面粗さＲａ
が２ｎｍ以上であれば、十分な親水性が得られる。図４
は、多孔質ＳｉＯ２膜２２の表面粗さを１ｎｍと２ｎｍ
以上に設定して、光が当たらない室内に放置した時の水
滴接触角の変化の測定結果である。これによれば、表面
粗さが１ｎｍでは親水性がすぐに低下するが、表面粗さ
が２ｎｍ以上では親水性の低下が緩やかである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図 １】
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【図 １０】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図 １１】
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【図 １５】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｆ Ｆターム(参考） 2H042 DA01 DA03 DA12 DA18 DB11 DC02 DE01 DE08 3B111 AA01 AA05 AB06 AC01 AC03 BB06 CA03 3D053 FF19 FF28 FF40 4G059 AA01 AC05 AC21 EA04 EA05 EB03 GA04 GA07 GA12 4G069 AA15 BA02A BA02B BA04A BA04B BA48A BC50A BC50B BC58A BC58B BC68A BC68B CA01 DA05 EA20 EA26 EB05 EB15X EB15Y ED02 EE06 FA05 FB02
Claims (11)
- 【請求項１】基板部材の裏面側または表面側に反射膜を
形成し、該透明基板部材の最表面に該透明基板部材側か
ら、光透過性と光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜と、光透
過性および親水性を有する多孔質ＳｉＯ2 膜とを積層し
た積層膜を形成してなり、該多孔質ＳｉＯ2 膜によって
表面が親水性を呈するようにした防曇鏡において、 前記ＴｉＯ2 膜の膜厚を１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以
下とし、前記多孔質ＳｉＯ2 膜の膜厚を１０ｎｍ以上５
０ｎｍ以下としてなる防曇鏡。 - 【請求項２】前記多孔質ＳｉＯ2 膜の表面の算術平均粗
さＲａが２ｎｍ以上である請求項１記載の防曇鏡。 - 【請求項３】透明基板部材の裏面側に反射膜を形成し、
該透明基板部材の表面側に該透明基板部材側から、光透
過性と光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜と、光透過性およ
び親水性を有する多孔質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜
を形成してなり、該多孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親
水性を呈するようにした防曇鏡の製造方法であって、 前記透明基板部材を２００℃以上４５０℃以下に加熱し
た状態で、該透明基板部材の表面に直接前記ＴｉＯ2 膜
と前記多孔質ＳｉＯ2 膜との積層膜を真空蒸着で成膜し
てなる防曇鏡の製造方法。 - 【請求項４】基板部材の表面側に反射膜を形成し、該反
射膜の表面に該反射膜側から、光透過性と光触媒機能を
有するＴｉＯ2 膜と、光透過性および親水性を有する多
孔質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を形成してなり、該
多孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水性を呈するように
した防曇鏡の製造方法であって、 前記基板部材の表面側に前記反射膜を成膜し、その後該
基板部材を４５０℃以下に加熱した状態で、該反射膜の
表面に前記ＴｉＯ2 膜と前記多孔質ＳｉＯ2 膜との積層
膜を真空蒸着で成膜してなる防曇鏡の製造方法。 - 【請求項５】透明基板部材の裏面側に反射膜を形成し、
該透明基板部材の表面側に光透過性を有する無機親水膜
を形成してなり、該無機親水膜を最表面に配置して表面
が親水性を呈するようにした防曇鏡の製造方法であっ
て、 前記透明基板部材の裏面側に前記反射膜を成膜し、その
後該透明基板部材を４５０℃以下に加熱した状態で、該
透明基板部材の表面側に前記無機親水膜を真空蒸着で成
膜してなる防曇鏡の製造方法。 - 【請求項６】前記反射膜をＣｒ，Ｎｉ−ＣｒまたはＴｉ
で構成する請求項３〜５のいずれかに記載の防曇鏡の製
造方法。 - 【請求項７】前記反射膜を、前記透明基板部材側から、
屈折率が異なり光学膜厚がそれぞれλ／４（λは特定の
波長）の複数層の無機膜と、金属膜とを積層した、前記
特定波長λを中心波長とする選択反射特性を有する積層
膜で構成し、該複数層の無機膜および該金属膜をスパッ
タリングで順次成膜してなる請求項５記載の防曇鏡の製
造方法。 - 【請求項８】前記金属膜をＣｒ、Ｎｉ−ＣｒまたはＴｉ
で構成する請求項７記載の防曇鏡の製造方法。 - 【請求項９】前記複数層の無機膜を前記透明基板部材側
からＴｉＯ2 膜とＳｉＯ2 膜との積層膜で構成し、前記
金属膜をＣｒで構成し、前記無機親水膜を多孔質ＳｉＯ
2 膜で構成し、前記透明基板部材と前記多孔質ＳｉＯ2
膜との間に光透過性および光触媒機能を有するＴｉＯ2
膜を成膜する請求項７記載の防曇鏡の製造方法。 - 【請求項１０】前記複数層の無機膜を前記透明基板部材
側から屈折率が相対的に高いＴｉＯ2膜と屈折率が相対
的に低いＴｉＯ2 膜との積層膜で構成し、前記金属膜を
Ｃｒで構成し、前記無機親水膜を多孔質ＳｉＯ2 膜で構
成し、前記透明基板部材と前記多孔質ＳｉＯ2 膜との間
に光透過性および光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜を成膜
する請求項７記載の防曇鏡の製造方法。 - 【請求項１１】基板部材の裏面側に反射膜を形成し、該
透明基板部材の最表面に該透明基板部材側から、光透過
性と光触媒機能を有するＴｉＯ2 膜と、光透過性および
親水性を有する多孔質ＳｉＯ2 膜とを積層した積層膜を
形成してなり、該多孔質ＳｉＯ2 膜によって表面が親水
性を呈するようにした防曇鏡の製造方法であって、 前記透明基板部材の裏面側に前記反射膜を成膜し、その
後前記基板部材を２００℃以上４５０℃以下に加熱した
状態で、該基板部材の表面に直接前記ＴｉＯ2膜と前記
多孔質ＳｉＯ2 膜との積層膜を真空蒸着で成膜してなる
防曇鏡の製造方法。
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6959173B2 (en) * | 2002-03-06 | 2005-10-25 | Denso Corporation | Downloading server and mobile station using local-area wireless communication |
| KR100558151B1 (ko) * | 2000-05-17 | 2006-03-10 | 가부시키가이샤 무라카미 가이메이도 | 복합재 |
| EP1661867A1 (en) | 2004-11-19 | 2006-05-31 | Murakami Corporation | Article with photocatalytic film |
| KR100718597B1 (ko) * | 2006-01-23 | 2007-05-16 | 인터테크 주식회사 | 친수성 박막의 형성방법 |
| JP2010275440A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Murakami Corp | 親水性回復剤および親水性回復方法 |
| JP2011513801A (ja) * | 2008-03-11 | 2011-04-28 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 反射性物品 |
| JP2016224113A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | ジオマテック株式会社 | 防曇性反射防止膜、防曇性反射防止膜付きカバー基体及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
| US10042090B2 (en) | 2012-11-21 | 2018-08-07 | Murakami Corporation | Hydrophilic member and method for manufacturing same |
Families Citing this family (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6480335B1 (en) * | 1999-01-19 | 2002-11-12 | Kabushiki Kaisha Tokai-Rika-Denki-Seisakusho | Reflecting mirror |
| JP2000347013A (ja) * | 1999-04-02 | 2000-12-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 親水性鏡及びその製造方法 |
| JP3701826B2 (ja) * | 1999-11-12 | 2005-10-05 | 株式会社村上開明堂 | 有色防曇鏡 |
| JP3184827B1 (ja) * | 2000-05-11 | 2001-07-09 | 市光工業株式会社 | 可視光線応答型光触媒 |
| FR2838735B1 (fr) * | 2002-04-17 | 2005-04-15 | Saint Gobain | Substrat a revetement auto-nettoyant |
| JP2004309628A (ja) * | 2003-04-03 | 2004-11-04 | Tokai Rika Co Ltd | 反射鏡 |
| US20060077549A1 (en) * | 2003-05-14 | 2006-04-13 | Mrakami Corporation | Anti-fog mirror |
| TWI339741B (en) * | 2003-06-26 | 2011-04-01 | Zeon Corp | Optical laminated film, polarizer and optical article |
| US20050286132A1 (en) * | 2003-10-30 | 2005-12-29 | Tonar William L | Electrochromic device having a self-cleaning hydrophilic coating with a controlled surface morphology |
| WO2005103172A2 (en) | 2004-04-15 | 2005-11-03 | Avery Dennison Corporation | Dew resistant coatings |
| US7713632B2 (en) | 2004-07-12 | 2010-05-11 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| JP2008506801A (ja) * | 2004-07-16 | 2008-03-06 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 発光性シリコン酸化物フレーク |
| US7862910B2 (en) | 2006-04-11 | 2011-01-04 | Cardinal Cg Company | Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties |
| WO2007143041A2 (en) | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Carrier Corporation | Systems and methods for removal of contaminants from fluid streams |
| WO2007143013A1 (en) * | 2006-06-01 | 2007-12-13 | Carrier Corporation | Preparation and manufacture of an overlayer for deactivation resistant photocatalysts |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| EP2066594B1 (en) * | 2007-09-14 | 2016-12-07 | Cardinal CG Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
| EP2352584B1 (en) | 2008-04-04 | 2017-02-15 | Carrier Corporation | Photocatalytic device with mixed photocatalyst/silica structure |
| US11786036B2 (en) | 2008-06-27 | 2023-10-17 | Ssw Advanced Technologies, Llc | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| US8286561B2 (en) | 2008-06-27 | 2012-10-16 | Ssw Holding Company, Inc. | Spill containing refrigerator shelf assembly |
| ES2654377T3 (es) | 2008-10-07 | 2018-02-13 | Ross Technology Corporation | Superficies resistentes a los derrames con fronteras hidrofóbicas y oleofóbicas |
| US20110051241A1 (en) * | 2009-09-01 | 2011-03-03 | Ilvento Gregory A | Anti-fog screen and methods |
| US9074778B2 (en) | 2009-11-04 | 2015-07-07 | Ssw Holding Company, Inc. | Cooking appliance surfaces having spill containment pattern |
| WO2011116005A1 (en) | 2010-03-15 | 2011-09-22 | Ross Technology Corporation | Plunger and methods of producing hydrophobic surfaces |
| DE102010046991B4 (de) * | 2010-09-30 | 2016-12-29 | Schott Ag | Hitzeschutzverglasung, deren Verwendung und Verfahren zu deren Herstellung |
| PE20140834A1 (es) | 2011-02-21 | 2014-07-10 | Ross Technology Corp | Revestimiento superhidrofos y oleofobos con sistema aglutinantes con bajo contenido de cov |
| DE102011085428A1 (de) | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Schott Ag | Einlegeboden |
| EP2791255B1 (en) | 2011-12-15 | 2017-11-01 | Ross Technology Corporation | Composition and coating for superhydrophobic performance |
| AU2013281220B2 (en) | 2012-06-25 | 2017-03-16 | Ross Technology Corporation | Elastomeric coatings having hydrophobic and/or oleophobic properties |
| EP3541762B1 (en) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Static-dissipative coating technology |
| CN110577369B (zh) * | 2018-08-13 | 2021-12-03 | 蓝思科技股份有限公司 | 多层金属涂层Logo及其制备方法、玻璃基板和电子设备 |
| CN113167928B (zh) * | 2018-12-21 | 2023-10-27 | 柯尼卡美能达株式会社 | 电介质多层膜、其制造方法和使用其的光学构件 |
| CN112811829A (zh) * | 2020-04-30 | 2021-05-18 | 法国圣戈班玻璃公司 | 防雾玻璃、车辆以及制造防雾玻璃的方法 |
| GB202011237D0 (en) * | 2020-07-21 | 2020-09-02 | Pilkington Group Ltd | Antimicrobial and/or antiviral mirror |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2280699A (en) * | 1993-08-05 | 1995-02-08 | Caradon Everest Ltd | Coated sheet glass and insulated glazing units |
| JPH0811631A (ja) * | 1994-06-29 | 1996-01-16 | Murakami Kaimeidou:Kk | 車両用ミラー |
| FR2744117B1 (fr) * | 1996-01-11 | 1998-04-03 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage avec couches reflechissantes et son procede de fabrication |
| JP2901550B2 (ja) * | 1996-07-26 | 1999-06-07 | 株式会社村上開明堂 | 防曇素子 |
-
1998
- 1998-08-06 JP JP10234981A patent/JP2000053449A/ja active Pending
-
1999
- 1999-07-15 EP EP99113832A patent/EP0978494B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-15 DE DE69923389T patent/DE69923389T2/de not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-05-23 US US09/863,489 patent/US20010030808A1/en not_active Abandoned
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100558151B1 (ko) * | 2000-05-17 | 2006-03-10 | 가부시키가이샤 무라카미 가이메이도 | 복합재 |
| US6959173B2 (en) * | 2002-03-06 | 2005-10-25 | Denso Corporation | Downloading server and mobile station using local-area wireless communication |
| EP1661867A1 (en) | 2004-11-19 | 2006-05-31 | Murakami Corporation | Article with photocatalytic film |
| JP2006142206A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Murakami Corp | 光触媒膜坦持部材 |
| KR100718597B1 (ko) * | 2006-01-23 | 2007-05-16 | 인터테크 주식회사 | 친수성 박막의 형성방법 |
| JP2011513801A (ja) * | 2008-03-11 | 2011-04-28 | ピーピージー・インダストリーズ・オハイオ・インコーポレイテッド | 反射性物品 |
| JP2010275440A (ja) * | 2009-05-29 | 2010-12-09 | Murakami Corp | 親水性回復剤および親水性回復方法 |
| US10042090B2 (en) | 2012-11-21 | 2018-08-07 | Murakami Corporation | Hydrophilic member and method for manufacturing same |
| JP2016224113A (ja) * | 2015-05-27 | 2016-12-28 | ジオマテック株式会社 | 防曇性反射防止膜、防曇性反射防止膜付きカバー基体及び防曇性反射防止膜の製造方法 |
Also Published As
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