JP3467016B2 - 熱処理可能なダイクロイックミラー - Google Patents
熱処理可能なダイクロイックミラーInfo
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Description
【０００１】（発明の分野）
本発明はミラーに関し、特に、ガラスのような平たい基
体を利用して形成されるダイクロイックミラーであっ
て、その後にこのミラーを熱処理して焼き戻し又は曲げ
るられるものに関する。
体を利用して形成されるダイクロイックミラーであっ
て、その後にこのミラーを熱処理して焼き戻し又は曲げ
るられるものに関する。
【０００２】（発明の背景）
反射及び透過において異なった色を示す鏡であるダイク
ロイックミラーは、自動車用のバックミラー及び他の目
的のために用いることができる。鏡は、Ｃｈａｐｉｎの
米国特許Ｎo.４１６６０１８に記載されているタイプの
マグネトロンスパッタリング法を用いてガラス基体に反
射被膜を適用することにより製造することができる。ク
ロム又は銀のような反射性金属が標準のミラー用の反射
フィルムとして用いることができるが、ダイクロイック
ミラーは、一般に、２つの相隣接するフィルム、即ち、
異なった屈折率を有する材料のフィルムを用い、反射は
これらのフィルムの界面で起こる。
ロイックミラーは、自動車用のバックミラー及び他の目
的のために用いることができる。鏡は、Ｃｈａｐｉｎの
米国特許Ｎo.４１６６０１８に記載されているタイプの
マグネトロンスパッタリング法を用いてガラス基体に反
射被膜を適用することにより製造することができる。ク
ロム又は銀のような反射性金属が標準のミラー用の反射
フィルムとして用いることができるが、ダイクロイック
ミラーは、一般に、２つの相隣接するフィルム、即ち、
異なった屈折率を有する材料のフィルムを用い、反射は
これらのフィルムの界面で起こる。
【０００３】自動車用のバックミラーに用いられるダイ
クロイックミラー組立品は、発光ダイオード（”ＬＥＤ
ｓ”）のような光源を備えていることがある。このＬＥ
Ｄｓは、このＬＥＤｓからの光が前記ミラーを通って後
方向に送られるように、このミラーの前のハウジング中
に収容されている。そのようなミラー組立品の例は、Ｒ
ｏｂｅｒｔｓの米国特許Ｎo.５４８１４０９、５３５５
２８４及びＲｏｂｅｒｔｓ等の５３６１１９０に見られ
る。
クロイックミラー組立品は、発光ダイオード（”ＬＥＤ
ｓ”）のような光源を備えていることがある。このＬＥ
Ｄｓは、このＬＥＤｓからの光が前記ミラーを通って後
方向に送られるように、このミラーの前のハウジング中
に収容されている。そのようなミラー組立品の例は、Ｒ
ｏｂｅｒｔｓの米国特許Ｎo.５４８１４０９、５３５５
２８４及びＲｏｂｅｒｔｓ等の５３６１１９０に見られ
る。
【０００４】自動車の後ろ近くで何が起こっているかを
自動車運転手がハッキリと見られるように、前記ミラー
は高度に反射性でなければならない限りにおいて、これ
らのダイクロイックミラーには実質的な光学的性能が必
要である。非常に強力で、従って高価なＬＥＤｓを用い
る必要なしに、充分なＬＥＤ光がミラーを通過するため
に、勿論、透過率が重要である。ＬＥＤｓは、前記運転
手及び後続の交通機関の両方に種々の出来事を信号で送
ることができる。ＬＥＤ信号の中には自動車運転手に容
易に感知されるに充分に明るくさえあれば良いものもあ
るが、他のものは前記自動車の後の複数の自動車によっ
て感知されなければならない。例えば、後続の交通機関
が、乗客のサイドドア又は貨物バン（ｃａｒｇｏ ｖａ
ｎ）が開いているとき、見るのは困難である。前記バン
の外側のバックミラー中の明るいＬＥＤ信号が現れれ
ば、ドアが開いて乗客が出ようとしていることを後の交
通機関に信号で伝えることができる。
自動車運転手がハッキリと見られるように、前記ミラー
は高度に反射性でなければならない限りにおいて、これ
らのダイクロイックミラーには実質的な光学的性能が必
要である。非常に強力で、従って高価なＬＥＤｓを用い
る必要なしに、充分なＬＥＤ光がミラーを通過するため
に、勿論、透過率が重要である。ＬＥＤｓは、前記運転
手及び後続の交通機関の両方に種々の出来事を信号で送
ることができる。ＬＥＤ信号の中には自動車運転手に容
易に感知されるに充分に明るくさえあれば良いものもあ
るが、他のものは前記自動車の後の複数の自動車によっ
て感知されなければならない。例えば、後続の交通機関
が、乗客のサイドドア又は貨物バン（ｃａｒｇｏ ｖａ
ｎ）が開いているとき、見るのは困難である。前記バン
の外側のバックミラー中の明るいＬＥＤ信号が現れれ
ば、ドアが開いて乗客が出ようとしていることを後の交
通機関に信号で伝えることができる。
【０００５】曲がったミラーがマグネトロンスパッタリ
ング法を用いて製造されるときは、ミラー用のガラス基
体が最初に望みの形状に曲げられ、次いで適当な保持体
上に置かれ、マグネトロンスパッタリングにより被覆さ
れ得る。前記基体の湾曲のために、作り出される反射被
膜は正確に均一ではないであろう。前記製造プロセスそ
のものは、マグネトロンスパッタリング装置を通過する
保持体上に多数の小さなガラス基体を手で置く必要があ
り、生じた個々のミラー片が一旦スパッタリング操作が
終わりキャリヤーシートから手で取り出される必要があ
る限り、退屈で時間のかかるものである。
ング法を用いて製造されるときは、ミラー用のガラス基
体が最初に望みの形状に曲げられ、次いで適当な保持体
上に置かれ、マグネトロンスパッタリングにより被覆さ
れ得る。前記基体の湾曲のために、作り出される反射被
膜は正確に均一ではないであろう。前記製造プロセスそ
のものは、マグネトロンスパッタリング装置を通過する
保持体上に多数の小さなガラス基体を手で置く必要があ
り、生じた個々のミラー片が一旦スパッタリング操作が
終わりキャリヤーシートから手で取り出される必要があ
る限り、退屈で時間のかかるものである。
【０００６】基体として平坦なガラスシートを利用して
ダイクロイックミラーを提供し、その後このミラーを望
み通りに曲げたり切断したりし、しかもこのミラーが良
好な反射率を保持して運転手の後ろの対象物を見ること
ができ、良好な透過性を保持してＬＥＤ信号が前記ミラ
ーを通して容易に感知され得ることが望ましい。残念な
がら、約６５０℃〜約８００℃の範囲の温度を必要とす
る熱曲げプロセスは、商業的に入手可能なダイクロイッ
クミラーに望ましくない変化を生じ得る。そのようなミ
ラーの反射率はしばしば大きく減少し、曇り（ヘーズ）
（ｈａｚｅ）の発達も問題を提供する。特に、１％を超
える曇りは回避されるべきである。
ダイクロイックミラーを提供し、その後このミラーを望
み通りに曲げたり切断したりし、しかもこのミラーが良
好な反射率を保持して運転手の後ろの対象物を見ること
ができ、良好な透過性を保持してＬＥＤ信号が前記ミラ
ーを通して容易に感知され得ることが望ましい。残念な
がら、約６５０℃〜約８００℃の範囲の温度を必要とす
る熱曲げプロセスは、商業的に入手可能なダイクロイッ
クミラーに望ましくない変化を生じ得る。そのようなミ
ラーの反射率はしばしば大きく減少し、曇り（ヘーズ）
（ｈａｚｅ）の発達も問題を提供する。特に、１％を超
える曇りは回避されるべきである。
【０００７】（発明の要約）
本発明は、焼き戻し又は曲げの間に実質的な温度に供さ
れ、そのような処理の後に優れた反射性及び透過性を示
すことのできるダイクロイックミラーを提供する。１つ
の具体例において、本発明は、ガラス転移温度が６５０
〜８００℃の透明な基体を有し、スパッタリングにより
被覆された複数のフィルムを有する、熱処理可能なダイ
クロイックミラーに関する。これらフィルムは、少なく
とも２対（ｐａｉｒｓ）、好ましくは少なくとも３対の
相隣接するフィルムを形成し、各対のフィルムは本質的
に異なった屈折率（即ち、少なくとも約０．２、好まし
くは少なくとも約０．４異なる屈折率）を有し、それら
の間に反射界面を提供する。各フィルムは、１対又は２
対の相隣接する、本質的に異なった屈折率を有する複数
のフィルムの構成要素であり得る。
れ、そのような処理の後に優れた反射性及び透過性を示
すことのできるダイクロイックミラーを提供する。１つ
の具体例において、本発明は、ガラス転移温度が６５０
〜８００℃の透明な基体を有し、スパッタリングにより
被覆された複数のフィルムを有する、熱処理可能なダイ
クロイックミラーに関する。これらフィルムは、少なく
とも２対（ｐａｉｒｓ）、好ましくは少なくとも３対の
相隣接するフィルムを形成し、各対のフィルムは本質的
に異なった屈折率（即ち、少なくとも約０．２、好まし
くは少なくとも約０．４異なる屈折率）を有し、それら
の間に反射界面を提供する。各フィルムは、１対又は２
対の相隣接する、本質的に異なった屈折率を有する複数
のフィルムの構成要素であり得る。
【０００８】本質的に異なった屈折率を有し、相隣接す
るフィルム対の１構成要素である第１のフィルムは、金
属の酸化物、例えばチタンの酸化物を含む。前記第１の
フィルムよりも基体から遠い第２のフィルムは、酸化可
能なフィルム、好ましくは金属又は半金属、例えばシリ
コンを含み、また、本質的に異なった屈折率を有する相
隣接するフィルム対の１構成要素である。前記第１及び
第２のフィルムは相隣接していてもよく、或いはそれら
の間に第３の酸素バリヤーフィルムであって、前記第１
の及び第２のフィルムの少なくとも一方、好ましくは両
方と相隣接する本質的に異なった屈折率のフィルム対を
形成して後者のフィルムとの境界に反射界面を提供し、
それを通して酸素が透過するのを抑制して前記第２のフ
ィルムを酸化から保護するものを持っていても良い。
るフィルム対の１構成要素である第１のフィルムは、金
属の酸化物、例えばチタンの酸化物を含む。前記第１の
フィルムよりも基体から遠い第２のフィルムは、酸化可
能なフィルム、好ましくは金属又は半金属、例えばシリ
コンを含み、また、本質的に異なった屈折率を有する相
隣接するフィルム対の１構成要素である。前記第１及び
第２のフィルムは相隣接していてもよく、或いはそれら
の間に第３の酸素バリヤーフィルムであって、前記第１
の及び第２のフィルムの少なくとも一方、好ましくは両
方と相隣接する本質的に異なった屈折率のフィルム対を
形成して後者のフィルムとの境界に反射界面を提供し、
それを通して酸素が透過するのを抑制して前記第２のフ
ィルムを酸化から保護するものを持っていても良い。
【０００９】第４の保護被膜は、前記第２のフィルムよ
りも基体から遠くに設けられ、ガラス転移温度での熱処
理の間酸素がそれを通して浸入するのを防ぐのに充分な
厚さと組成を有し、前記複数のフィルムへの物理的損傷
に対する保護を提供する。これら第３及び第４のフィル
ムは、好ましくはそれらの間に前記第２のフィルムを挟
み、相隣接する。
りも基体から遠くに設けられ、ガラス転移温度での熱処
理の間酸素がそれを通して浸入するのを防ぐのに充分な
厚さと組成を有し、前記複数のフィルムへの物理的損傷
に対する保護を提供する。これら第３及び第４のフィル
ムは、好ましくはそれらの間に前記第２のフィルムを挟
み、相隣接する。
【００１０】第５のフィルムとしてベースフィルムが、
基体と第１のフィルムの間に配置されても良い。この第
５のフィルム又はベースフィルムは、望ましくは、第１
のフィルムのすぐ下にあり（即ち、相隣接し）、第１の
フィルムの屈折率とは実質的に異なった屈折率を有す
る。例えば、もし第１のフィルムが約２．４の屈折率を
有する酸化チタンであれば、ベースフィルムはそれぞれ
が約２．０の屈折率を有する窒化ケイ素又は酸化亜鉛で
あってよい。第１と第２のフィルムの場合のように、第
５のベースフィルムと第１の相隣接するフィルムの間の
屈折率における相違は、ミラーの反射性に寄与する屈折
界面を提供する。更に、前記保護被膜は第２のフィルム
に相隣接し、第２のフィルムの屈折率とは実質的に異な
る屈折率を有する。
基体と第１のフィルムの間に配置されても良い。この第
５のフィルム又はベースフィルムは、望ましくは、第１
のフィルムのすぐ下にあり（即ち、相隣接し）、第１の
フィルムの屈折率とは実質的に異なった屈折率を有す
る。例えば、もし第１のフィルムが約２．４の屈折率を
有する酸化チタンであれば、ベースフィルムはそれぞれ
が約２．０の屈折率を有する窒化ケイ素又は酸化亜鉛で
あってよい。第１と第２のフィルムの場合のように、第
５のベースフィルムと第１の相隣接するフィルムの間の
屈折率における相違は、ミラーの反射性に寄与する屈折
界面を提供する。更に、前記保護被膜は第２のフィルム
に相隣接し、第２のフィルムの屈折率とは実質的に異な
る屈折率を有する。
【００１１】得られたダイクロイックミラーは、熱処理
の後、少なくとも２４％、好ましくは少なくとも３５％
の透過率、及び少なくとも４５％の反射率を示す。曇り
（ｈａｚｅ）は望ましくは約１％以下、好ましくは０．
５％以下である。特に重要なのは保護被膜である。何故
ならば、酸化性の元素を補助品から保護し、その元素の
フィルムの酸化を実質的に防いで反射が熱処理によって
それ程変わらないようにするのは、この保護被膜である
からである。
の後、少なくとも２４％、好ましくは少なくとも３５％
の透過率、及び少なくとも４５％の反射率を示す。曇り
（ｈａｚｅ）は望ましくは約１％以下、好ましくは０．
５％以下である。特に重要なのは保護被膜である。何故
ならば、酸化性の元素を補助品から保護し、その元素の
フィルムの酸化を実質的に防いで反射が熱処理によって
それ程変わらないようにするのは、この保護被膜である
からである。
【００１２】望ましくは、前記第１のフィルムは、この
フィルムの金属酸化物とは異なる元素又は化合物で、不
純物と考え得るものを含む。この不純物はそのフィルム
の金属の化合物であってよく、熱処理したときそのフィ
ルム中に曇りの形成を妨害するのに充分な量存在する。
その金属の酸化物に対する前記異なった物質のモル比
は、０．１以下であり、好ましくは約０．００１〜０．
１である。
フィルムの金属酸化物とは異なる元素又は化合物で、不
純物と考え得るものを含む。この不純物はそのフィルム
の金属の化合物であってよく、熱処理したときそのフィ
ルム中に曇りの形成を妨害するのに充分な量存在する。
その金属の酸化物に対する前記異なった物質のモル比
は、０．１以下であり、好ましくは約０．００１〜０．
１である。
【００１３】他の具体例において、本発明はダイクロイ
ックミラーの製造方法を包含する。この方法は、６５０
〜８００℃のガラス転移温度を有する透明な基体の上に
複数の順次的なフィルムをマグネトロンスパッタリング
被覆することを含み、これら複数のフィルムは少なくと
も２対、好ましくは少なくとも３対の相隣接するフィル
ムを含み、各対のフィルムは、それらの間に反射界面を
提供するように本質的に異なった屈折率（即ち、少なく
とも約０．２、好ましくは少なくとも約０．４異なる屈
折率）を有する。各フィルムは、本質的に異なった屈折
率を有する１対の、又は２対の相隣接するフィルムの１
構成要素であり得る。第１のフィルムは本質的に異なっ
た屈折率を有する相隣接するフィルム対の１構成要素で
あり、金属の酸化物、例えばチタンの酸化物を含む。第
１のフィルムの上に、シリコンのような酸化可能な元素
を含む第２の酸化可能なフィルムが堆積される。それを
通して酸素の浸入を実質的に防ぐのに充分な厚さと組成
を有する保護被膜が、前記第２のフィルムの上に堆積さ
れる。
ックミラーの製造方法を包含する。この方法は、６５０
〜８００℃のガラス転移温度を有する透明な基体の上に
複数の順次的なフィルムをマグネトロンスパッタリング
被覆することを含み、これら複数のフィルムは少なくと
も２対、好ましくは少なくとも３対の相隣接するフィル
ムを含み、各対のフィルムは、それらの間に反射界面を
提供するように本質的に異なった屈折率（即ち、少なく
とも約０．２、好ましくは少なくとも約０．４異なる屈
折率）を有する。各フィルムは、本質的に異なった屈折
率を有する１対の、又は２対の相隣接するフィルムの１
構成要素であり得る。第１のフィルムは本質的に異なっ
た屈折率を有する相隣接するフィルム対の１構成要素で
あり、金属の酸化物、例えばチタンの酸化物を含む。第
１のフィルムの上に、シリコンのような酸化可能な元素
を含む第２の酸化可能なフィルムが堆積される。それを
通して酸素の浸入を実質的に防ぐのに充分な厚さと組成
を有する保護被膜が、前記第２のフィルムの上に堆積さ
れる。
【００１４】前記方法は、第１のフィルム中にこのフィ
ルムの金属酸化物とは異なり、不純物と考えることので
きる元素又は化合物を添加することができる。この不純
物はそのフィルムの金属の化合物であってよく、熱処理
したときそのフィルム中に曇りの形成を抑制するのに充
分な量、存在する。前記金属の酸化物に対する前記異な
った物質のモル比は、０．１以下であり、好ましくは約
０．００１〜０．１である。この不純物は、好ましく
は、金属酸化物中に後者が堆積されるとき添加すること
ができ、スパッタリング雰囲気中に存在する窒素のよう
な追加のガスから誘導することができる。好ましい具体
例において、前記金属酸化物は酸化チタンであり、前記
異なった化合物はチタン又は酸素の窒素化合物、例えば
窒化チタンである。その好ましい具体例において、前記
方法は、前記金属の酸化物が堆積されるのを可能にする
だけでなく、他の化合物が共堆積されるのも可能にする
雰囲気中で第１のフィルムをスパッタリング堆積する工
程を含む。好ましくは、このスパッタリング雰囲気は約
１０モル％以下の量の窒素を含む。
ルムの金属酸化物とは異なり、不純物と考えることので
きる元素又は化合物を添加することができる。この不純
物はそのフィルムの金属の化合物であってよく、熱処理
したときそのフィルム中に曇りの形成を抑制するのに充
分な量、存在する。前記金属の酸化物に対する前記異な
った物質のモル比は、０．１以下であり、好ましくは約
０．００１〜０．１である。この不純物は、好ましく
は、金属酸化物中に後者が堆積されるとき添加すること
ができ、スパッタリング雰囲気中に存在する窒素のよう
な追加のガスから誘導することができる。好ましい具体
例において、前記金属酸化物は酸化チタンであり、前記
異なった化合物はチタン又は酸素の窒素化合物、例えば
窒化チタンである。その好ましい具体例において、前記
方法は、前記金属の酸化物が堆積されるのを可能にする
だけでなく、他の化合物が共堆積されるのも可能にする
雰囲気中で第１のフィルムをスパッタリング堆積する工
程を含む。好ましくは、このスパッタリング雰囲気は約
１０モル％以下の量の窒素を含む。
【００１５】（好ましい具体例の詳細な説明）
図１は、現在使用されており、Ｖｅｒｒｅｒｉｅｓ Ｈ
ｉｒｔｚ ＳＡから入手可能なダイクロイックミラーを
示す。ガラス基体に最も近いフィルムは、厚さ約７９nm
（７９０Å）の酸化錫であり、これに続いて二酸化チタ
ンフィルム（３５nm（３５０Å））、シリコンフィルム
（１９nm（１９０Å））、及び再上部の二酸化ケイ素フ
ィルム（５nm（５０Å））がある。二酸化ケイ素の外側
フィルムが実際に独立に適用されたのか、それが元素状
シリコンフィルムの空気曝露による酸化によって形成さ
れたのかは分からない。しかしながら、後者が実際の機
構と考えられる。商業的に入手可能なミラーの反射率は
５０％であり、その透過率（Ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ Ｄ
６５）は３３％であり、その曇り因子（ｈａｚｅｆａｃ
ｔｏｒ）は０．４０である。ここで用いた反射率は半球
反射率（ｈｅｍｉｓｐｈｅｒｉｃａｌ ｒｅｆｌｅｃｔ
ａｎｃｅ）（波長範囲２００〜２６００nmに渡る反射率
系及び積分球を用いて測定）のことである。
ｉｒｔｚ ＳＡから入手可能なダイクロイックミラーを
示す。ガラス基体に最も近いフィルムは、厚さ約７９nm
（７９０Å）の酸化錫であり、これに続いて二酸化チタ
ンフィルム（３５nm（３５０Å））、シリコンフィルム
（１９nm（１９０Å））、及び再上部の二酸化ケイ素フ
ィルム（５nm（５０Å））がある。二酸化ケイ素の外側
フィルムが実際に独立に適用されたのか、それが元素状
シリコンフィルムの空気曝露による酸化によって形成さ
れたのかは分からない。しかしながら、後者が実際の機
構と考えられる。商業的に入手可能なミラーの反射率は
５０％であり、その透過率（Ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ Ｄ
６５）は３３％であり、その曇り因子（ｈａｚｅｆａｃ
ｔｏｒ）は０．４０である。ここで用いた反射率は半球
反射率（ｈｅｍｉｓｐｈｅｒｉｃａｌ ｒｅｆｌｅｃｔ
ａｎｃｅ）（波長範囲２００〜２６００nmに渡る反射率
系及び積分球を用いて測定）のことである。
【００１６】図１の商業的に入手可能なミラーをガラス
軟化温度で曲げた。曲がった後、このミラーの反射率は
３６％に減った。これは自動車のバックミラー製品に使
用するためのダイクロイックミラーには許容できない。
軟化温度で曲げた。曲がった後、このミラーの反射率は
３６％に減った。これは自動車のバックミラー製品に使
用するためのダイクロイックミラーには許容できない。
【００１７】図２に記載されたミラーはミラーフレーム
にはめられ、その被覆された側が後ろ向き、即ち、運転
手の方に向いていることが理解されるであろう。従っ
て、反射率は、ガラス基体を通過して反射される光が殆
どなくて被覆された側からの反射に関し、透過率はミラ
ーの前に配置された１又はそれ以上のＬＥＤｓからの光
の透過に関する。ＬＥＤは図２において２４として模式
的に示されており、このＬＥＤはミラー１０の前方に配
置されている。従って、本発明のダイクロイックミラー
の透過率は主として前記ＬＥＤｓによって放出される光
の波長において重要である。図３は約５９６nmにピーク
の放射率を有するＬＥＤ（曲線Ａ）によって放出される
黄色光の光出力の、及び約６１５nmにピークの放射率を
有する他のＬＥＤ（曲線Ｒ／Ｏ）によって放出される赤
橙色光の光出力を示す。曲線Ａ及びＲ／Ｏ（グラフ上の
右側目盛りに関する）から、これらのＬＥＤからの光出
力は約５５０nm〜６５０nmの波長範囲で起こることが見
て取れる。従って、好ましい具体例において、この波長
範囲では透過率はかなり高い（少なくとも２４％、好ま
しくは少なくとも３５％）。
にはめられ、その被覆された側が後ろ向き、即ち、運転
手の方に向いていることが理解されるであろう。従っ
て、反射率は、ガラス基体を通過して反射される光が殆
どなくて被覆された側からの反射に関し、透過率はミラ
ーの前に配置された１又はそれ以上のＬＥＤｓからの光
の透過に関する。ＬＥＤは図２において２４として模式
的に示されており、このＬＥＤはミラー１０の前方に配
置されている。従って、本発明のダイクロイックミラー
の透過率は主として前記ＬＥＤｓによって放出される光
の波長において重要である。図３は約５９６nmにピーク
の放射率を有するＬＥＤ（曲線Ａ）によって放出される
黄色光の光出力の、及び約６１５nmにピークの放射率を
有する他のＬＥＤ（曲線Ｒ／Ｏ）によって放出される赤
橙色光の光出力を示す。曲線Ａ及びＲ／Ｏ（グラフ上の
右側目盛りに関する）から、これらのＬＥＤからの光出
力は約５５０nm〜６５０nmの波長範囲で起こることが見
て取れる。従って、好ましい具体例において、この波長
範囲では透過率はかなり高い（少なくとも２４％、好ま
しくは少なくとも３５％）。
【００１８】さて、図２を参照して、ガラス基体が１２
に示されており、第１のフィルム又はベースフィルム１
４がガラス基体表面上にスパッターされる。このベース
フィルムは酸化亜鉛（好ましくは）であってよく、この
ミラーの全体の反射率を増すために、また望ましくは反
射率における色中性（ｃｏｌｏｒ ｎｅｕｔｒａｌｉｔ
ｙ）を得るために色の調節を可能にするために存在す
る。前記ベースフィルムは、酸素含有雰囲気中で、亜鉛
ターゲットからガラス上にスパッターされ得る。
に示されており、第１のフィルム又はベースフィルム１
４がガラス基体表面上にスパッターされる。このベース
フィルムは酸化亜鉛（好ましくは）であってよく、この
ミラーの全体の反射率を増すために、また望ましくは反
射率における色中性（ｃｏｌｏｒ ｎｅｕｔｒａｌｉｔ
ｙ）を得るために色の調節を可能にするために存在す
る。前記ベースフィルムは、酸素含有雰囲気中で、亜鉛
ターゲットからガラス上にスパッターされ得る。
【００１９】前記ベースフィルム１４上に金属酸化物フ
ィルム１６がスパッターされ、これに酸化可能な元素含
有フィルム１８が続き、今度は保護膜２０が続く。相隣
接するフィルム対として示されたフィルム１６及び１８
の屈折率は、これら２つのフィルムの間の界面２２が反
射表面となるように、充分に本質的に異なっている。即
ち、前記屈折率は、好ましくは少なくとも０．２（即
ち、少なくとも約１０％）異なり、好ましくは少なくと
も約０．４（即ち、少なくとも約２０％）異なる。フィ
ルム２０は、その主たる目的として、ガラス製品が熱曲
げにおいて用いられる高温に供されたとき、酸化される
ことからフィルム１８を保護するものである。フィルム
１８の酸化は、このミラーの反射性の実質的減少を引き
起し、従って、このフィルムの酸化は避けられるべきで
ある。
ィルム１６がスパッターされ、これに酸化可能な元素含
有フィルム１８が続き、今度は保護膜２０が続く。相隣
接するフィルム対として示されたフィルム１６及び１８
の屈折率は、これら２つのフィルムの間の界面２２が反
射表面となるように、充分に本質的に異なっている。即
ち、前記屈折率は、好ましくは少なくとも０．２（即
ち、少なくとも約１０％）異なり、好ましくは少なくと
も約０．４（即ち、少なくとも約２０％）異なる。フィ
ルム２０は、その主たる目的として、ガラス製品が熱曲
げにおいて用いられる高温に供されたとき、酸化される
ことからフィルム１８を保護するものである。フィルム
１８の酸化は、このミラーの反射性の実質的減少を引き
起し、従って、このフィルムの酸化は避けられるべきで
ある。
【００２０】ベースフィルム１４は、酸化亜鉛、酸化
錫、酸化ニオブ、窒化ケイ素、酸化ビスマス、酸化アル
ミニウム、及びこれら金属の合金の酸化物を包含するい
ずれの誘電性材料であってもよい。酸化亜鉛及び亜鉛合
金の酸化物、例えば亜鉛／錫酸化物が好ましい。何故な
らば、それらは一般に大きな厚さでスパッターするのが
容易であり、従って比較的廉価であるからである。酸化
亜鉛は、Ａｉｒｃｏ，Ｉｎｃ．から商業的に入手可能な
タイプのマグネトロンスパッター装置を用いて、清浄化
されたガラス基体表面上にスパッターされる。
錫、酸化ニオブ、窒化ケイ素、酸化ビスマス、酸化アル
ミニウム、及びこれら金属の合金の酸化物を包含するい
ずれの誘電性材料であってもよい。酸化亜鉛及び亜鉛合
金の酸化物、例えば亜鉛／錫酸化物が好ましい。何故な
らば、それらは一般に大きな厚さでスパッターするのが
容易であり、従って比較的廉価であるからである。酸化
亜鉛は、Ａｉｒｃｏ，Ｉｎｃ．から商業的に入手可能な
タイプのマグネトロンスパッター装置を用いて、清浄化
されたガラス基体表面上にスパッターされる。
【００２１】マグネトロンスパッタリングはＣｈａｐｉ
ｎの米国特許Ｎo.４１６６０１８に記載されており、こ
の教えを引用によりこの明細書の内容に含める。マグネ
トロンスパッタリングは一連の低圧ゾーンを通してガラ
ス基体を移送することを含み、このゾーン中でフィルム
の積み重ねを作り上げる種々のフィルムが連続的に適用
される。金属フィルムは金属源又は「ターゲット」から
スパッターされ、このターゲットの下をガラス基体が搬
送される。金属フィルムはアルゴンのような不活性ガス
中で金属ターゲットからスパッタリングにより形成する
ことができるが、酸化亜鉛のような酸化物フィルムは酸
素ガスを含む反応性雰囲気中で亜鉛ターゲットを利用し
てスパッターすることができる。堆積されるフィルムの
厚さは、被覆室を通るガラス基体の速度を変えることに
より、電力及びスパッタリング速度を変えることによ
り、また、勿論、その中で同じフィルムが適用される室
の数を変えることにより、調節することができる。従っ
て、酸素ガスを含む反応性雰囲気中で金属亜鉛ターゲッ
トを用いて、酸化亜鉛のフィルム１４を適用することが
できる。約８０nm（８００Å）〜約１３０nm（１３００
Å）の厚さを有する酸化亜鉛が好ましく、厚さ約１０
９．５nm（１０９５Å）の酸化亜鉛フィルムは許容でき
る結果を与えた。
ｎの米国特許Ｎo.４１６６０１８に記載されており、こ
の教えを引用によりこの明細書の内容に含める。マグネ
トロンスパッタリングは一連の低圧ゾーンを通してガラ
ス基体を移送することを含み、このゾーン中でフィルム
の積み重ねを作り上げる種々のフィルムが連続的に適用
される。金属フィルムは金属源又は「ターゲット」から
スパッターされ、このターゲットの下をガラス基体が搬
送される。金属フィルムはアルゴンのような不活性ガス
中で金属ターゲットからスパッタリングにより形成する
ことができるが、酸化亜鉛のような酸化物フィルムは酸
素ガスを含む反応性雰囲気中で亜鉛ターゲットを利用し
てスパッターすることができる。堆積されるフィルムの
厚さは、被覆室を通るガラス基体の速度を変えることに
より、電力及びスパッタリング速度を変えることによ
り、また、勿論、その中で同じフィルムが適用される室
の数を変えることにより、調節することができる。従っ
て、酸素ガスを含む反応性雰囲気中で金属亜鉛ターゲッ
トを用いて、酸化亜鉛のフィルム１４を適用することが
できる。約８０nm（８００Å）〜約１３０nm（１３００
Å）の厚さを有する酸化亜鉛が好ましく、厚さ約１０
９．５nm（１０９５Å）の酸化亜鉛フィルムは許容でき
る結果を与えた。
【００２２】フィルム１４とは異なり、フィルム１４と
は本質的に異なった屈折率を有するフィルム対を好まし
くは形成するフィルム１６は、チタン、亜鉛、ニオブ、
錫又はビスマスのような金属の酸化物を含み、酸化チタ
ンが好ましい。このフィルム中に曇りの形成を抑制する
ために、このフィルム中に少量の、不純物と考えること
のできる異なった物質を添加することが望ましい。窒素
はこの目的にとって好ましく、少量の窒素、即ち、約１
０モル％以下の窒素を含む雰囲気中で金属をスパッター
することにより酸化物フィルム中にこれを容易に添加す
ることができる。この方法で、反応性ガスとして、比較
的多量の酸素、及び比較的少量の窒素を含む雰囲気中で
チタンターゲットをスパッターすることにより、少量の
窒素を含有する酸化チタンフィルムを作ることができ
る。望ましくは、前記ターゲットは、酸素が化学量論よ
りも少ない酸化チタンである。このタイプのターゲット
は国際出願ＷＯ ９７／２５４５１（１９９７年７月１
７日発行）に記載されており、この文献の教えを引用に
よりこの明細書の記載に含める。ここで、ターゲット
は、酸素がなく、酸素含有化合物を含まないアルゴンの
ような雰囲気中でターゲットベース上にＴｉＯ２ をプ
ラズマ溶射することにより製作することができる。マグ
ネトロンスパッタリング法において用いられるときは、
このターゲットは高出力レベルで稼働することができ、
ガラス基体上に酸化チタンの迅速で、従って経済的な堆
積に行き着く。
は本質的に異なった屈折率を有するフィルム対を好まし
くは形成するフィルム１６は、チタン、亜鉛、ニオブ、
錫又はビスマスのような金属の酸化物を含み、酸化チタ
ンが好ましい。このフィルム中に曇りの形成を抑制する
ために、このフィルム中に少量の、不純物と考えること
のできる異なった物質を添加することが望ましい。窒素
はこの目的にとって好ましく、少量の窒素、即ち、約１
０モル％以下の窒素を含む雰囲気中で金属をスパッター
することにより酸化物フィルム中にこれを容易に添加す
ることができる。この方法で、反応性ガスとして、比較
的多量の酸素、及び比較的少量の窒素を含む雰囲気中で
チタンターゲットをスパッターすることにより、少量の
窒素を含有する酸化チタンフィルムを作ることができ
る。望ましくは、前記ターゲットは、酸素が化学量論よ
りも少ない酸化チタンである。このタイプのターゲット
は国際出願ＷＯ ９７／２５４５１（１９９７年７月１
７日発行）に記載されており、この文献の教えを引用に
よりこの明細書の記載に含める。ここで、ターゲット
は、酸素がなく、酸素含有化合物を含まないアルゴンの
ような雰囲気中でターゲットベース上にＴｉＯ２ をプ
ラズマ溶射することにより製作することができる。マグ
ネトロンスパッタリング法において用いられるときは、
このターゲットは高出力レベルで稼働することができ、
ガラス基体上に酸化チタンの迅速で、従って経済的な堆
積に行き着く。
【００２３】酸素及び窒素又は他の反応性ガスの相対的
量は、大きい割合の金属酸化物及び熱処理の間の曇り形
成を抑制するのに充分な小さい割合の他の化合物を、フ
ィルム１６が含むように調節される。窒素は格子間に
（粒子境界中に）又は置換して（酸化チタン結晶中に）
又は両方に取り入れられると考えられるが、発明者はそ
のような説明に拘束されたくない。好ましくは、金属酸
化物（例えば、酸化チタン）に対する異なった物質（こ
の例においては酸素及び／又はチタンに結合された窒
素）のモル比は約０．００１〜約０．１の範囲にある。
フィルム１６は都合に応じたどんな厚さであってもよい
が、好ましくは厚さが約２０〜４０nm（２００〜４００
Å）である。少量の窒素を含有し、約２７nm（２７０
Å）の厚さの酸化チタンは良好な結果を与えた。
量は、大きい割合の金属酸化物及び熱処理の間の曇り形
成を抑制するのに充分な小さい割合の他の化合物を、フ
ィルム１６が含むように調節される。窒素は格子間に
（粒子境界中に）又は置換して（酸化チタン結晶中に）
又は両方に取り入れられると考えられるが、発明者はそ
のような説明に拘束されたくない。好ましくは、金属酸
化物（例えば、酸化チタン）に対する異なった物質（こ
の例においては酸素及び／又はチタンに結合された窒
素）のモル比は約０．００１〜約０．１の範囲にある。
フィルム１６は都合に応じたどんな厚さであってもよい
が、好ましくは厚さが約２０〜４０nm（２００〜４００
Å）である。少量の窒素を含有し、約２７nm（２７０
Å）の厚さの酸化チタンは良好な結果を与えた。
【００２４】図２におけるフィルム１６に相隣接するし
て（即ち、接触して）、シリコンのような金属又は半金
属を含むフィルム１８があり、これらフィルム１６及び
１８は本質的に異なった屈折率を有し、相隣接するフィ
ルム対を形成し、反射界面２２を創り出す。そのような
金属及び半金属は酸化可能な傾向があり、好ましくはシ
リコン、ニオブ、アルミニウム、ニッケル、クロム、及
びこれらの合金からなる群から選ばれ、シリコンが特に
好ましい。フィルム１８は、好ましくは屈折率が約１．
３以上であり、好ましくは少なくとも３．０である。フ
ィルム１８及び反射率に寄与する他のフィルムはそれら
の空乏幅（ｄｅｐｌｅｔｉｏｎ ｗｉｄｔｈｓ）を超え
る厚さ、即ち、更に厚さを増しても屈折率に実質的に何
らの変化も生じなくするに充分な厚さであるべきであ
る。約５〜１５nm（５０〜１５０Å）の厚さのシリコン
が好ましい。
て（即ち、接触して）、シリコンのような金属又は半金
属を含むフィルム１８があり、これらフィルム１６及び
１８は本質的に異なった屈折率を有し、相隣接するフィ
ルム対を形成し、反射界面２２を創り出す。そのような
金属及び半金属は酸化可能な傾向があり、好ましくはシ
リコン、ニオブ、アルミニウム、ニッケル、クロム、及
びこれらの合金からなる群から選ばれ、シリコンが特に
好ましい。フィルム１８は、好ましくは屈折率が約１．
３以上であり、好ましくは少なくとも３．０である。フ
ィルム１８及び反射率に寄与する他のフィルムはそれら
の空乏幅（ｄｅｐｌｅｔｉｏｎ ｗｉｄｔｈｓ）を超え
る厚さ、即ち、更に厚さを増しても屈折率に実質的に何
らの変化も生じなくするに充分な厚さであるべきであ
る。約５〜１５nm（５０〜１５０Å）の厚さのシリコン
が好ましい。
【００２５】フィルム２０は、フィルム１８に好ましく
は相隣接するが、必ずしもそうでない、本質的に異なっ
た屈折率を有する相隣接するフィルム対を形成する保護
被膜である。フィルム２０に必要な機能は、酸素がそれ
を透過するのに非常に抵抗性であることである。フィル
ム２０は、前記ミラーの色、透過率、及び反射率に干渉
しないように、好ましくは充分に薄く、約５〜約１５nm
（約５０〜約１５０Å）の範囲であることが望ましい。
窒化ケイ素が特に好ましく、厚さ７．５nm（７５Å）の
窒化ケイ素のフィルムが良好な結果を与えた。前記保護
被膜２０用の他の材料は、酸素バリヤーを形成する他の
窒化物及び炭化物、例えば炭化ケイ素を包含する。上述
のように、フィルム２０は、好ましくはフィルム１８に
相隣接するが、前記ミラーの性質に悪影響を与えない１
又はそれ以上の他のフィルム、特にチタン、ニオブ又は
アルミニウムのような金属が、フィルム１８及び２０の
間にスパッタリング堆積されてもよい。更に、フィルム
２０は保護被膜と呼ばれているが、これは、透明な基体
からフィルム１８よりも遠いというそれの位置のことを
言っていることが理解されるであろう。下に横たわるフ
ィルムに保護を提供したり、色を調節したりする等のた
めに、望まれるならば、他の、更なるフィルム、例えば
炭化ケイ素、酸化ケイ素、等をフィルム２０の上にスパ
ッタリング堆積してもよい。
は相隣接するが、必ずしもそうでない、本質的に異なっ
た屈折率を有する相隣接するフィルム対を形成する保護
被膜である。フィルム２０に必要な機能は、酸素がそれ
を透過するのに非常に抵抗性であることである。フィル
ム２０は、前記ミラーの色、透過率、及び反射率に干渉
しないように、好ましくは充分に薄く、約５〜約１５nm
（約５０〜約１５０Å）の範囲であることが望ましい。
窒化ケイ素が特に好ましく、厚さ７．５nm（７５Å）の
窒化ケイ素のフィルムが良好な結果を与えた。前記保護
被膜２０用の他の材料は、酸素バリヤーを形成する他の
窒化物及び炭化物、例えば炭化ケイ素を包含する。上述
のように、フィルム２０は、好ましくはフィルム１８に
相隣接するが、前記ミラーの性質に悪影響を与えない１
又はそれ以上の他のフィルム、特にチタン、ニオブ又は
アルミニウムのような金属が、フィルム１８及び２０の
間にスパッタリング堆積されてもよい。更に、フィルム
２０は保護被膜と呼ばれているが、これは、透明な基体
からフィルム１８よりも遠いというそれの位置のことを
言っていることが理解されるであろう。下に横たわるフ
ィルムに保護を提供したり、色を調節したりする等のた
めに、望まれるならば、他の、更なるフィルム、例えば
炭化ケイ素、酸化ケイ素、等をフィルム２０の上にスパ
ッタリング堆積してもよい。
【００２６】好ましい具体例において、図３に概略的に
示したように、追加のフィルム２６がフィルム１６及び
１８の間にスパッタリング堆積され、このフィルム２６
は酸素がそれを通して透過することに対して高い抵抗性
を有するバリヤーフィルムである。フィルム２６は保護
被膜２０と同じ材料で出来ていてよく、好ましくは窒化
ケイ素で出来ている。この具体例においては、このフィ
ルム１８はバリヤーフィルム２０及び２６の間にサンド
イッチされ保護され、従って、酸素から更に保護されて
いる。
示したように、追加のフィルム２６がフィルム１６及び
１８の間にスパッタリング堆積され、このフィルム２６
は酸素がそれを通して透過することに対して高い抵抗性
を有するバリヤーフィルムである。フィルム２６は保護
被膜２０と同じ材料で出来ていてよく、好ましくは窒化
ケイ素で出来ている。この具体例においては、このフィ
ルム１８はバリヤーフィルム２０及び２６の間にサンド
イッチされ保護され、従って、酸素から更に保護されて
いる。
【００２７】（例１）
Ａｒｉｃｏ，Ｉｎｃ．によって製造された商業的なマグ
ネトロンスパッタリングラインを用いて、平坦なガラス
シートの上部を清浄化した表面を、一連の連続的ゾーン
中の種々のターゲットからのスパッタリングに曝した。
この連続的ゾーンを通るガラスシートの移動速度及び種
々のゾーン中の種々のマグネトロンスパッタリング装置
へ送給される電力は、スパッターされたフィルムの望み
の厚さを提供するようなものであった。図２のタイプの
フィルム積み重ねが生じた。最初に亜鉛ターゲットから
の亜鉛を酸素含有雰囲気中でガラス表面上にスパッター
して、厚さ約１０９．５nm（１０９５Å）の酸化亜鉛の
堆積を行い、次いで上述のような化学量論的量よりも少
ない酸素を有する酸化チタンターゲットを含むゾーンに
前記シートを通した。後者のゾーンはモル比７％の窒素
及び９３％の酸素の窒素と酸素の雰囲気を含んでいた。
得られた、厚さ２７nm（２７０Å）のフィルムは、大き
な割合の酸化チタン及び小さな割合の窒素を含んでい
た。このようにして調製されたフィルムの上にアルゴン
雰囲気中でシリコンターゲットからシリコンを厚さ２
１．５nm（２１５Å）にスパッターし、このシリコン層
の上に、窒素含有雰囲気中のシリコンターゲットを用い
て、窒化ケイ素の保護被膜を厚さ７．５nm（７５Å）に
堆積した。
ネトロンスパッタリングラインを用いて、平坦なガラス
シートの上部を清浄化した表面を、一連の連続的ゾーン
中の種々のターゲットからのスパッタリングに曝した。
この連続的ゾーンを通るガラスシートの移動速度及び種
々のゾーン中の種々のマグネトロンスパッタリング装置
へ送給される電力は、スパッターされたフィルムの望み
の厚さを提供するようなものであった。図２のタイプの
フィルム積み重ねが生じた。最初に亜鉛ターゲットから
の亜鉛を酸素含有雰囲気中でガラス表面上にスパッター
して、厚さ約１０９．５nm（１０９５Å）の酸化亜鉛の
堆積を行い、次いで上述のような化学量論的量よりも少
ない酸素を有する酸化チタンターゲットを含むゾーンに
前記シートを通した。後者のゾーンはモル比７％の窒素
及び９３％の酸素の窒素と酸素の雰囲気を含んでいた。
得られた、厚さ２７nm（２７０Å）のフィルムは、大き
な割合の酸化チタン及び小さな割合の窒素を含んでい
た。このようにして調製されたフィルムの上にアルゴン
雰囲気中でシリコンターゲットからシリコンを厚さ２
１．５nm（２１５Å）にスパッターし、このシリコン層
の上に、窒素含有雰囲気中のシリコンターゲットを用い
て、窒化ケイ素の保護被膜を厚さ７．５nm（７５Å）に
堆積した。
【００２８】得られたミラーを空気中で熱曲げに供し、
曲げの前後で以下の光学的性質を測定した。報告した透
過率値は可視光（Ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ Ｃ）に対する
透過率であった。
曲げの前後で以下の光学的性質を測定した。報告した透
過率値は可視光（Ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ Ｃ）に対する
透過率であった。
【００２９】
【００３０】得られた曲げられたミラーの被覆された側
は優れた耐久性を示した。この被膜をＡＳＴＭ Ｂ１１
７の塩スプレー試験及びＡＳＴＭ Ｂ３８０−６５のＣ
ｏｒｒｏｄｅｋｏｔｅ試験をパスした。被膜にナイフで
ダイヤモンド模様に刻み目を付け、粘着テープ（３Ｍ
（商標）＃Ｂ９６）でダイヤモンド型の被膜切片を持ち
上げることを試み、またイソプロパノールを染み込ませ
た布で前記被膜を擦り取ることを試みることを包含する
数回の試験の結果、この被膜の接着性は優秀と評価され
た。
は優れた耐久性を示した。この被膜をＡＳＴＭ Ｂ１１
７の塩スプレー試験及びＡＳＴＭ Ｂ３８０−６５のＣ
ｏｒｒｏｄｅｋｏｔｅ試験をパスした。被膜にナイフで
ダイヤモンド模様に刻み目を付け、粘着テープ（３Ｍ
（商標）＃Ｂ９６）でダイヤモンド型の被膜切片を持ち
上げることを試み、またイソプロパノールを染み込ませ
た布で前記被膜を擦り取ることを試みることを包含する
数回の試験の結果、この被膜の接着性は優秀と評価され
た。
【００３１】（例２）
例１のマグネトロンスパッタリング手順を繰り返してガ
ラス表面に以下の複数のフィルム（ガラス表面から外側
に向けて）及び厚さを有するフィルムの積み重ねを前記
ガラス表面上に形成した。
ラス表面に以下の複数のフィルム（ガラス表面から外側
に向けて）及び厚さを有するフィルムの積み重ねを前記
ガラス表面上に形成した。
【００３２】得られたミラーを空気中で熱曲げに供し
て、曲げの前後で以下の光学的性質を測定した。報告し
た透過率値は、可視光（Ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ Ｃ）に
対する透過率であった。
て、曲げの前後で以下の光学的性質を測定した。報告し
た透過率値は、可視光（Ｉｌｌｕｍｉｎａｎｔ Ｃ）に
対する透過率であった。
【００３３】
【００３４】例１のミラーの性質に似た性質がえられ
た。
た。
【００３５】本発明の好ましい具体例を記述したが、本
発明は、その精神及び特許請求の範囲から離れることな
く、種々の変形、適応及び修飾を施すことができること
が理解されるべきである。 ［図面の簡単な説明］
発明は、その精神及び特許請求の範囲から離れることな
く、種々の変形、適応及び修飾を施すことができること
が理解されるべきである。 ［図面の簡単な説明］
【図１】先行技術のダイクロイックミラーの破談断面概
略図。
略図。
【図２】本発明のダイクロイックミラーの破談断面図。
【図３】本発明のダイクロイックミラーの破談断面図。
【図４】ＬＥＤ出力対波長のグラフと重ね合わせて共に
示した、波長の関数としての本発明のミラーの透過率と
反射率のグラフ。
示した、波長の関数としての本発明のミラーの透過率と
反射率のグラフ。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 マクスウェル，スコット エー.
アメリカ合衆国，ウィスコンシン
53556，ローン ロック，フィレーン
ロード イー2774
(56)参考文献 特開 平１−114802（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−213632（ＪＰ，Ａ)
実開 平１−98751（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G02B 5/26 - 5/28
B60R 1/04 - 1/06
B60R 1/12
G02B 5/08
C03C 17/34 - 17/36
Claims (19)
- 【請求項１】 ガラス転移温度が６５０〜８００℃の透
明な基体、及び前記基体に支持され且つ少なくとも２対
の相隣接するフィルムを形成するスパッタリングにより
被覆された複数のフィルムを有する、熱処理可能ダイク
ロイックミラーであって、 前記各対のフィルムが、それらの間に反射界面を提供す
るように少なくとも約０．２異なる屈折率を有し、且つ
前記複数のフィルムが、前記基体上に適用されたベースフィルム； 前記基体から見て前記ベースフィルムよりも遠い所に位
置し、 前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、
且つ金属の酸化物を含む第１のフィルム； 前記基体から見て前記第１のフィルムよりも遠い所に位
置し、前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、
且つ酸化可能な金属又は半金属を含む第２のフィルム；
並びに 前記ガラス転移温度で熱処理したときに酸素がそれを透
過するのを実質的に防ぐのに充分な厚さと組成を有する
保護被膜； を含む、前記熱処理の後に波長範囲５５０〜６５０nmで
少なくとも２４％の透過率及び少なくとも４５％の反射
率を示す熱処理可能ダイクロイックミラー。 - 【請求項２】 ガラス転移温度が６５０〜８００℃の透
明な基体、及び前記基体に支持され且つ少なくとも２対
の相隣接するフィルムを形成するスパッタリングにより
被覆された複数のフィルムを有する、熱処理可能ダイク
ロイックミラーであって、 前記各対のフィルムが、それらの間に反射界面を提供す
るように少なくとも約０．２異なる屈折率を有し、且つ
前記複数のフィルムが、 前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、且つ金
属の酸化物を含む第１のフィルム、ここでこの第１のフ
ィルムは、前記ガラス転移温度で熱処理をしたときの前
記第１のフィルム中での曇りの形成を抑制するに充分な
量の不純物を含み、前記金属酸化物に対する前記不純物
のモル比が０．１以下である； 前記基体から見て前記第１のフィルムよりも遠い所に位
置し、前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、
且つ酸化可能な金属又は半金属を含む第２のフィルム；
並びに 前記熱処理をしたときに酸素がそれを透過するのを実質
的に防ぐのに充分な厚さと組成を有する保護被膜； を含む、前記熱処理の後に波長範囲５５０〜６５０nmで
少なくとも２４％の透過率及び少なくとも４５％の反射
率を示す熱処理可能ダイクロイックミラー。 - 【請求項３】 前記第１のフィルムが、チタン、亜鉛、
ニオブ、錫、ビスマス、及びこれらの合金からなる群か
ら選ばれる金属の酸化物を含む、請求項１又は２に記載
のダイクロイックミラー。 - 【請求項４】 前記第２のフィルムが、シリコン、ニオ
ブ、アルミニウム、ニッケル、クロム、及びこれらの合
金からなる群から選ばれる、請求項１又は２に記載のダ
イクロイックミラー。 - 【請求項５】 前記第１及び第２のフィルムが異なった
屈折率を有する同じフィルム対の構成要素である、請求
項１又は２に記載のダイクロイックミラー。 - 【請求項６】 前記第１のフィルムと第２のフィルムと
の間に堆積され、且つ前記第１及び第２のフィルムの少
なくとも１つと共に、異なった屈折率を有するフィルム
対を形成する第３のフィルムを有し、この第３のフィル
ムが、前記ダイクロイックミラーを前記ガラス転移温度
で熱処理したときに酸素が通過するのを実質的に防ぐの
に充分な厚さと組成を有する、請求項１又は２に記載の
ダイクロイックミラー。 - 【請求項７】 前記第３のフィルムが、前記第１及び第
２のフィルムのそれぞれと共に、異なった屈折率を有す
るフィルム対を形成する、請求項６に記載のダイクロイ
ックミラー。 - 【請求項８】 前記第２のフィルムが、前記第３のフィ
ルム及び前記保護被膜のそれぞれと共に、異なった屈折
率を有するフィルム対を形成する、請求項６又は７に記
載のダイクロイックミラー。 - 【請求項９】 前記不純物が窒素を含む、請求項２に記
載のダイクロイックミラー。 - 【請求項１０】 ガラス転移温度が６５０〜８００℃の
透明な基体、及び前記基体に支持され且つ少なくとも２
対の相隣接するフィルムを形成するスパッタリングによ
り被覆された複数のフィルムを有する、熱処理可能ダイ
クロイックミラーであって、 前記各対のフィルムが、それらの間に反射界面を提供す
るように少なくとも約０．２異なる屈折率を有し、且つ
前記複数のフィルムが、 前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、且つ酸
化チタンを含む第１のフィルム； 前記基体から見て前記第１のフィルムよりも遠い所に位
置し、前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、
且つシリコンを含む第２のフィルム；並びに 前記ガラス転移温度で熱処理したときに酸素がそれを透
過するのを実質的に防ぐのに充分な厚さと組成を有する
保護被膜； を含み、前記酸化チタンの第１のフィルムが、前記熱処
理のときに前記第１の相隣接フィルム中に曇りが形成さ
れるのを抑制するのに充分な量で、この第１フィルムの
形成の間にその中に堆積された不純物を含み、前記酸化
チタンに対する前記不純物のモル比が０．１以下であ
る、熱処理可能ダイクロイックミラー。 - 【請求項１１】 前記保護被膜が窒化ケイ素である、請
求項１〜１０のいずれかに記載のダイクロイックミラ
ー。 - 【請求項１２】 ガラス転移温度が６５０〜８００℃の
透明な基体、及び前記基体に支持され且つ少なくとも２
対の相隣接するフィルムを形成する複数のフィルムを有
する、熱処理可能ダイクロイックミラーであって、 前記各対のフィルムが、それらの間に反射界面を提供す
るように少なくとも約０．２異なる屈折率を有し、且つ
前記複数のフィルムが、 前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、且つチ
タン、亜鉛、ニオブ、錫、ビスマス、及びこれらの合金
からなる群から選ばれる金属の酸化物を含む第１のフィ
ルム； 前記基体から見て前記第１のフィルムよりも遠い所に位
置し、前記相隣接するフィルム対の一構成要素であり、
且つシリコン、ニオブ、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、及びこれらの合金からなる群から選ばれる酸化され
得る元素を含む第２のフィルム；並びに 前記ガラス転移温度でダイクロイックミラーを熱処理し
たときに酸素がそれを透過するのを実質的に防ぐのに充
分な厚さと組成を有する窒化ケイ素の保護被膜； を含み、前記熱処理の後で少なくとも２４％の透過率及
び少なくとも４５％の反射率を示す熱処理可能ダイクロ
イックミラー。 - 【請求項１３】 前記第１のフィルムが、前記熱処理の
ときに前記第１の相隣接するフィルムに曇りが形成され
るのを抑制するのに充分な量で、前記第１のフィルムの
形成の間にその中に堆積された不純物を含み、前記金属
酸化物に対する前記不純物のモル比が０．１以下であ
る、請求項１２のダイクロイックミラー。 - 【請求項１４】 前記不純物が窒素である、請求項１３
のダイクロイックミラー。 - 【請求項１５】 前記透明基体上に前記複数のフィルム
をマグネトロンスパッタリングにより被覆することを含
む、請求項１〜１４のいずれかに記載のダイクロイック
ミラーの製造方法。 - 【請求項１６】 前記不純物を含む雰囲気中で前記金属
酸化物フィルムをスパッタリング被覆する工程を含む、
請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１７】 酸素及び窒素を含む雰囲気中で前記金
属酸化物フィルムをスパッタリング被覆する工程を含
む、請求項１６に記載の方法。 - 【請求項１８】 前記金属酸化物が酸化チタンである、
請求項１５〜１７のいずれかに記載の方法。 - 【請求項１９】 前記金属酸化物フィルムを、化学量論
的量より少ない量の酸素を有する酸化チタンを含むター
ゲットからのスパッタリングにより被覆する、請求項１
５〜１８のいずれかに記載の方法。
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