WO2005000590A1

WO2005000590A1 - ノズルプレート及びその製造方法

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Publication number: WO2005000590A1
Application number: PCT/JP2004/006226
Authority: WO
Inventors: Haruhiko Deguchi; Chiyoshi Yoshioka; Yasuhiro Sakamoto; Hidetsugu Kawai; Shigeaki Kakiwaki
Original assignee: Sharp Kabushiki Kaisha
Priority date: 2003-06-27
Filing date: 2004-04-28
Publication date: 2005-01-06
Also published as: JP2005066890A; US20060176338A1; US20070195123A1; US7568785B2; JP4021383B2

Abstract

　本発明のノズルプレートは、液状物質を吐出する第１ノズル穴（オリフィス）（１１ａ）を有する第１ノズル層（１）と、第１ノズル穴（１１ａ）と連通し、上記液状物質の供給を受ける第２ノズル穴（１１ｂ）を有する第２ノズル層（２）との間に、第１ノズル層（１）よりエッチングに対する耐性が高い遮蔽層（３）を介在させたノズルプレート（８）において、上記遮蔽層（３）は、第１ノズル穴（１１ａ）および第２ノズル穴（１１ｂ）が連通する連通部の周囲に、局所的に形成されている。これにより、このノズルプレートは、高い形成精度の第１ノズル穴を備え、かつ、反り等の変形のおそれが少ない。

Description

明細書ノズルプレート及びその製造方法技術分野 .

本発明は、微小ドットによる微細パターンを形成する、微小ドット形成装置に用いるノズルプレートの構造とその製造方法に関するものである。 . ― 背景技術

従来においては、インクジエツトプリンタ一は専ら紙を媒体とし、文字通りプリンタ一として利用されてきた。ところが、近年インクジヱットプリンター技術の汎用性おょぴ低コスト性に着目し、従来フォトリソグラフィ技術で加工されていた、液晶表示装置用の力ラーフィルタ等の微細パターンの形成や、プリント配線板の導体パターンの形成などへのインクジェットプリンターの応用が注目されている。そこで、近年、' 微小なインクドットを描画対象（例えば、液晶表示用のカラーフィルタやプリント配線板等）に直接描画することにより微細パターンを高い精度で形成することができる微小ドット形成装置の開発が活発となっている ₍ このような微小ドット形成装置においては、吐出安定性や高度の着弾精度など高い吐出特性をもつノズルプレートが必要となる。

以下に従来のノズルプレートの構成と製造方法を説明する。日本国公開公報「特開平 9 - 2 1 6 3 6 8号公報」（公開日： 1 9 9 7年 8月 1 9 日）にはドライエッチングと湿式エッチングによってノズルプレートを形成する技術が開示されている。図 1 9 ( & ) · 図 1 9 ( b ) は上記特許文献 1に記載のノズルプレート（以下、従来の構成と称する）の説明図である。 +

従来のノズノレプレートは、 S O I ( S i l i c o n o n I n s u l a t o r ) 基板 2 1力、らなる。 S O I基板 2 1.は、図 1 9 ( a ) * 図 1 9 ( b ) に示すように、支持体である S i層 2 5上の全域にわたってェツチングストップ層である S i 0₂層 2 6を有し、さらにこの S i 0₂層 2 6上に活性層である S i層 2 4を有する。そして、 S i層 2 4にはォリフィス 2 2が形成され、 S i層 2 5にはテーパ部 2 3が形成されており、このオリフィス 2 2およびテーパ部 2 3が連通されている。

従来のノズルプレート製造方法（以下、従来の方法と称する）は以下の通りである。まず、活性層である S i層 2 4の表面を酸化し、酸化膜 (図示せず）を形成する。そして、この酸化膜 2 8に所定のパターンを形成し、このパターンをマスクとしてドライエッチングを行い、エッチングストップ層である S i 〇₂層 2 6でエッチングをとめ、オリフィス 2 2を形成する。次に、支持層である S i層 2 5の表面を酸化し、酸化膜（図示せず）を形成する。この酸化膜に所定のパターンを形成し、このパターンをマスクとして、アンダーカツトを生じる条件でドライエツチングを行い、 S i O ₂層 2 6でエッチングをとめ、テーパ部 2 3を形成する。最後に、オリフィス 2 2 とテーパ部 2 3 との間の S i 〇₂層 2 6や表面の酸化膜をフッ酸系のエッチング液で除去する。

しかしながら、従来の構成には以下のような問題がある。

( 1 ) エッチングストップ層である S i 〇₂層 2 6が S i層 2 4 · S i層 2 5間の全域にわたって形成されているため、 S i と S i O ₂ の線膨張率の差に起因する応力によってノズルプレートに大きな反りが発生するおそれがある。このノズルプレートの反りは、ノズルプレートとィンクジエツトへッドとの接合精度の低下のみなら.ずノズルプレート自体の構造的信頼性の低下という問題を招来する。

( 2 ) また、従来のノズルプレートにおいて、 .上記したような S i と S i 0 ₂ の線膨張率の差に起因するノズルプレートの反りを回避するためには、 S i 層 2 4および S i 層 2 5に十分な剛性が必要となる。したがって、オリフィス 2 2が形成される S i 層 2 4およびテーパ部 3が形成される S i層 2 5の層厚が大きくならざるを得ない（ S i層 2 4が 1 5 m , S i 層 2 5力 1 0 0 ^ ιη )。

これにより、オリフィス 2 2やテーパ部 2 3形成時の S i のエツチング量が多くなり、エッチング時の誤差が大きくなる。すなわち、液滴の流路となるノズル（オリフィス 2 2およぴテーパ部 2 3 ) の形成精度が低くなる。この点、特許文献 1 には、上記ノズルの加工精度が寸法設計値に対して土 1 ミクロン以内である、との記載があるが、微細ドット形成装置に適用するには加工精度が低い。

本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、高い形成精度の第 1 ノズル穴を備え、かつ、反り等の変形のおそれの少ないノズルプレートおよびその製造方法を実現することにある。発明の開示

本発明のノズルプレートは、上記目的を達成するために、液状物質を吐出する第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層と、第 1 ノズル穴に連通し、上記液状物質の供給を受ける第 2 ノズル穴を有する第 2 ノズル層との間に、第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高い遮蔽層を介在させたノズルプレートにおいて、上記遮蔽層は、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴が連通する連通部の周囲に、局所的に形成されていることを特徴としている。

まず、上記第 1 ノズル穴は、第 2 ノズル穴に供給された液状物質を吐出するためのものである。ここで、上記液状物質とは、液体のみならず、第 1 ノズル穴から吐出可能な程度の粘性を有する物質を含む。

また、上記遮蔽層は、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴が連通する連通部の周囲に形成されており、第 1 ノズル穴のエッチングの際、第 1 ノズル穴の開口部の形状を規定するマスクとなる。

上記構成によれば、上記遮蔽層が局所的に設けられているため、第 1 ノズル層と遮蔽層あるいは第 2ノズル層と遮蔽層との接触部分の面積を小さくできる。これにより、第 1 ノズル層および第 2 ノズル層と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。したがって、ノズルプレートを、例えばインクジェットヘッドと接合する際に、接合精度を上げることができるとともに、ノズルプレート自体の構造的信頼性を上げることができる。

さらに、上記のような応力の発生を抑制できることで、第 1 ノズル層および第 2ノズル層に要求される剛性が減少し、第 1 ノズル層おょぴ第 2 ノ.ズル層の層厚を小さくすることができる。すなわち、第 1 ノズル穴や第 2 ノズル穴のエツチングに伴うエッチング量が少なくなり、形成誤差を小さくできる。これにより、高い形成精度の第 1 ノズル穴および第 2ノズル穴を備えることができる。また、上記のように第 1 ノズル層およぴ第 2 ノズル層の層厚を小さくすることができるため、第 1 ノズル穴および第 2ノズル穴を小さく形成することができる。これにより、第 1 ノズル穴の集積度を上げることができ、ひいては描画の解像度を向上させることができる。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、上記遮蔽層の外形は、上記連通部における第 2ノズル穴の外形より大きいことが望ましい。

ここで、上記遮蔽層の外形が上記連通部における第 2 ノズル穴の外形と一致する状態が、局所的に形成した遮蔽層の外形の最小限度である。なぜなら、遮蔽層の外形が、形成しょうとする第 2ノズル穴の連通部における外形より小さいと、第 2ノズル穴のエッチングは、遮蔽層の周囲において第 1 ノズル層へと進行してしまうからである。

したがって、上記構成のように、遮蔽層の外形をこの最小限の外形（上記連通部における第 2 ノズル穴の外形）より大きくすることによって ·、遮蔽層は第 2 ノズル穴のエッチング時のストッパとして機能し、第 2 ノズル穴のエッチングを遮蔽層で確実に止めることができる。

また、これにより、第 2 ノズル層をエッチングする際、第 2 ノズル穴が遮蔽層を貫通することがないので、第 1 ノズル層の厚さが一定に保たれることになり、液状物質の流路抵抗にばらつきが生じることがない。また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、第 1 ノズル穴は、上記第 1 ノズル層の貫通部と上記遮蔽層の貫通部とから構成されていることが望ましい。

上記構成によれば、遮蔽層をエッチングマスクとして、遮蔽層の貫通部の口径と同一口径の貫通部を第 1 ノズル層に形成することができる。これにより、形状精度の高い第 1 ノズル穴を備えることができる。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、上記第 2 ノズル穴は、第 1 ノズル穴との連通部が狭まつたテーパ形状であることが望ましい。

上記構成によれば、第 2ノズル穴がテーパ形状であるため、第 2ノズル穴において、供給された液状物質に乱流が発生しにくく、液滴の吐出安定性を高めることができる。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、上記第 1 ノズル層および第 2 ノズル層がともに高分子有機材料で構成され、上記遮蔽層が金属材料、無機酸化物材料、無機窒化物材料のうちの少なくとも 1つから形成されていることが望ましい。

上記構成によれば、第 1 ノズル層および第 2ノズル層を、酸素を用いたプラズマによるドライエッチングで容易に加工できる。加えて、遮蔽層は上記酸素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエッチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、より一層高い形成精度の第 1 ノズル穴および第 2ノズル穴を備えることができる, また、第 2 ノズル層に形成される第 2 ノズル穴が遮蔽層を貫通することもないので、第 1 ノズル層の厚さを一定に保つことができ、吐出すベき液状物質の流路抵抗にばらつきが生じることがない。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、上記第 1 ノズル層お.よび第 2 ノズル層がともにポリイミド樹脂で形成され、上記遮蔽層が、 T i 、 A l 、 A u、 P t、 T a、 W、 N b、 S i 〇₂、 A l ₂〇₃、 S i Nから選定される少なくとも 1つの材料を主成分とすることが望ましい _Q 上記構成によれば、第 1 ノズル層および第 2 ノズル層を、酸素を用いたプラズマによるドライエッチングで容易に加工できる。加えて、遮蔽層は上記酸素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエッチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、より一層高い形成精度の第 1 ノズル穴おょぴ第 2ノズル穴を備えることができる _c また、第 2ノズル層に形成される第 2ノズル穴が遮蔽層を貫通することもないので、第 1 ノズル層の厚さを一定に保つことができ、液状物質の流路抵抗にばらつきが生じることがない。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、第 1ノズル層と第 2ノズル層の少なくとも一方が S i 、 S i 〇₂、 S i ₃N ₄のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって形成され、上記遮蔽層が、 A 1 、 C u、 A u、 P t 、 A 1酸化物、 A 1窒化物のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって形成されていることが望ましい。

上記構成によれば、第 1 ノズル層おょぴ第 2 ノズル層を、フッ素を用いたプラズマによるドライエッチングで容易に加工できる。加えて、遮蔽層は上記フッ素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してェツチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、一層高い形成精度の第 1 ノズル穴および第 2ノズル穴を備えることができる ₍ また、第 2ノズル層に形成される第 2ノズル穴が遮蔽層を貫通することもないので、第 1 ノズル層の厚さを一定に保つことができ、液状物質の流路抵抗にばらつきが生じることがない。

また、第 1 ノズル層が S i 0 ₂または S i ₃N 4で形成されている場合には、例えば、液状物質の吐出面に撥液膜を形成する場合に、該撥液膜の付着力が向上し、はがれや欠けを防止することができる。また、本発明のノズルプレートは、上記課題を解決するために、液状物質を吐出する一つ以上の第 1 ノズル穴を有するノズル層と、上記第 1 ノズル穴に連通するとともに上記液状物質の供給を受ける第 2 ノズル穴を有し、上記ノズル層に固着される補強板と、ノズル層よりエッチングに対する耐性が高く、少なくとも、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴の連通部の周囲に形成された遮蔽層とを備えたことを特徴としている。

また、上記遮蔽層は、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴の連通部の周囲に形成されており、第 1 ノズル穴のエッチングの際、第 1 ノズル穴の開口部の形状を規定するマスクとなる。

上記構成によれば、ノズル層に固着される構成の上記補強板を別工程で作成することができるため、補強板に使用する材料を選択する際の自由度が大幅に向上する。これによつて高剛性の補強板を使用することができ、ノズルプレートに反りが発生することを防止することができる。加えて、遮蔽層を、補強板に形成された第 2 ノズル穴の形状に影響を受けることなく、必要最低限の所定の形状に加工することができる。これにより、ノズル層と遮蔽層との接触部分の面積を小さくすることができる。

したがって、ノズル層および補強板と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。

以上により、ノズルプレート自体の構造的信頼性を上げることができるとともに、ノズルプレートを、例えばィンクジエツトへッドと接合する際に、その接合精度を上げることができる。

さらに、補強板の剛性によってノズル層に必要な剛性が低減するため、該ノズル層の層厚を小さくすることができる。すなわち、第 1 ノズル穴を層厚の小さなノズル層に形成することで、吐出液滴の大きさを制御する上記第 1 ノズル穴の形成精度を高めることができる。

また、上記のように第 1 ノズル穴を有するノズル層と第 2 ノズル穴を有する補強板とを別の工程で加工することができる。このため、吐出液滴の大きさを制御する吐出穴径を膜厚の薄いノズル層を加工することで設定できるため、高い形成精度の第 1 ノズル穴を備えることができる。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加えて、上記遮蔽層は第 2 ノズル穴の開口範囲内に形成されていることが望ましい。

上記構成によれば、上記遮蔽層が第 2 ノズル穴の開口範囲内に収まるため、遮蔽層の周囲に発生する上記応力を最小限に抑えることが可能となるとともに、遮蔽層をノズル層と補強板との間に挟み込まない構成となるので、ノズル層と補強板との接着精度を高めることができる。

また、上記構成によれば、ノズル層と遮蔽層との接触部分の面積を一層小さくすることができる。すなわち、ノズル層および補強板と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生をさらに抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。

これにより、ノズルプレートを、例えばィンクジエツトへッドと接合する際に、接合精度を上げることができるとともに、ノズルプレート自体の構造的信頼性を上げることができる。

また、上記のようにノズル層および補強板を別の工程で加工することができるため、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴を小さく形成することができる。これにより、第 1 ノズル穴の集積度を上げることができ、ひいては描画の解像度を向上させることができる。 .

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加えて、上記第 1 ノズル穴は、上記第 1 ノズル層の貫通部と上記遮蔽層の貫通部とから構成されていることが望ましい。

上記構成によれば、遮蔽層をエッチングマスクとして、遮蔽層の貫通部の口径と同一口径の貫通部をノズル層に形成することができる。これにより、一層形状精度の高い第 1 ノズル穴を備えることができる。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、上記ノズル層が高分子有機材料によって形成され、上記遮蔽層が金属材料、無機酸化物材料、無機窒化物材料のうちの少なくとも 1つによって形成され、上記補強板が S i 、無機酸化物材料、高分子有機材料のうちの少なくとも 1 つによって形成されていることが望ましい。

上記構成によれば、ノズル層を、酸素を用いたプラズマによるドライエッチングで容易に加工できる。加えて、遮蔽層は上記酸素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエツチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、一層高い形成精度の第 1 ノズル穴を備えることができる。

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、上記ノズル層がポリイミド樹脂で構成され、上記遮蔽層が T i 、 A 1 、 A u、 P t 、 W、 N b、 S i 0 ₂、 A l ₂〇3、 S i Nから選定される少なくとも 1つの材料で構成され、補強板が S i 、ガラス、 A 1 2〇₃ の少なくとも 1つを主成分とするセラミツク材料あるいはポリイミド樹脂から構成されていることが望ましい。

上記構成によれば、ノズル層を、酸素を用いたプラズマによるドライエッチングで容易に加工できる。加えて、遮蔽層は上記酸素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエツチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、一層高い形成精度の第 1 ノズル穴を備えることができる

また、本発明のノズルプレートは、上記構成に加え、上記ノズル層が S i 、 S i 〇₂、 S i ₃N 4のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって構成され、上記遮蔽層が A 1 、 C u、 A u、 P t、 A 1酸化物、 A 1窒化物のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料で構成され、上記補強板が、 S i、ガラス、 A 1 ₂0 3のうちの少なくとも 1つを主成分とするセラミツク材料あるいはポリイミド樹脂によって形成されていることが望ましい。

上記構成によれば、ノズル層を、フッ素を用いたプラズマによるドラィエッチングで容易に加工できる。加えて、遮蔽層は上記フッ素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエツチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、一層高い形成精度の第 1 ノズル穴を備えることができる。

また、ノズル層が S i 0 ₂または S i ₃N ₄で形成されている場合には、例えば、液状物質の吐出面に撥液膜を形成する場合に、該撥液膜の付着力が.向上し、はがれや欠けを防止することができる。

また、本発明のノズルプレートの製造方法は、上記課題を解決するために、液状物質を吐出する第 1 ノズル穴を有するノズルプレートの製造方法であって、上記第 1 ノズル穴を形成するためのノズル層を形成する工程と、上記第 1 ノズル穴の一部となる開口部を有し、第 1 ノズル穴を形成する際のエッチングマスクとなる遮蔽層を、上記ノズル層上に局所的に形成する工程と、上記遮蔽層をエッチングマスクとして、上記開口部からノズル層をエッチングし、上記開口部からノズル層を貫通する第 1 ノズル穴を形成する工程とを含むことを特徴としている。

上記方法によれば、遮蔽層をエッチングマスクとして、遮蔽層の開口部の口径と同一口径の第 1 ノズル穴をノズル層に形成することができる _c これにより、第 1 ノズル穴を高精度に形成することができる。

また、遮蔽層の材料に、第 1 ノズル穴のエッチングマスクとして、あるいは、第 1 ノズル穴の側壁として最適な材料を選択することができる。これにより、第 1 ノズル穴をより高精度に形成できる。

また、上記遮蔽層を局所的に形成するため、ノズル層と遮蔽層との接触部分の面積を小さくできる。これにより、ノズル層と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生を抑制することができ、ノズルプレトに大きな反りが発生することを防止できる。したがって、ノズルプレートを、例えばィンクジヱットへッドと接合する際に、接合精度を上げることができるとともに、ノズルプレート自体の構造的信頼性を上げることができる。

さらに、上記のような応力の発生を抑制できることで、ノズル層に要求される剛性が減少し、ノズル層の層厚を小さくすることができる。すなわ.ち、第 1 ノズル穴のエッチングに伴うエッチング量が少なくなり、形成誤差を小さくできる。これにより、第 1 ノズル穴を高い精度で形成することができる。

また、上記のようにノズル層の層厚を小さくすることができるため、第 1ノズル穴を小さく形成することができる。これにより、第 1 ノズル穴の集積度を上げることができ、ひいては描画の解像度を向上させることができる。

また、本発明のノズルプレートの製造方法は、上記方法に加え、上記の 3つの工程に続いて、別途形成された第 2ノズル穴を有する補強板を、上記ノズル層上に設けられた遮蔽層が上記第 2ノズル穴の内部に位置するように上記ノズル層に接合する工程を行うことが望ましい。

上記方法によれば、上記遮蔽層は、第 1 ノズル穴形成時のエッチングマスクとなる大きさでさえあれば、第 2ノズル穴の内部に位置するような小さな形状に形成することができる。これに加え、上記遮蔽層は第 2 ノズル穴の開口範囲内に位置するため、遮蔽層と補強板とは接触しない。これにより、ノズル層おょぴ補強板と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。

また、補強板をノズル層とは別に形成することで、製造工程の簡略化や製造コストの低減化が可能となる。

また、本発明のノズルプレートの製造方法は、上記課題を解決するために、液体を吐出するためのノズル穴を有するノズルプレートの製造方法であって、第 1 ノズル穴を加工するための第 1 ノズル層を形成する第 1工程と、上記第 1 ノズル穴の一部となる開口部を有し、該第 1 ノズル穴のエッチング時の遮蔽層となるエッチングマスクを、上記ノズル層上に局所的に形成する工程と、上記第 1 ノズル層おょぴ遮蔽層の上に、第 2ノズル穴を加工するための第 2 ノズル層を形成する第 3工程と、上記第 2ノズル層をエッチングすることで、該第 2ノズル層を貫通し、上記遮蔽層に達する第 2 ノズル穴を加工する第 4工程と、上記遮蔽層をエツチングマスクとして、上記開口部から第 1 ノズル層をエッチングすることで該第 1 ノズル層を貫通する第 1 ノズル穴を加工する第 5工程とを含むことを特徴としている。

上記方法によれば、遮蔽層をエッチングマスクとして、遮蔽層の開口部の口径と同一口径の第 1 ノズル穴を第 1 ノズル層に形成することができる。これにより、第 1 ノズル穴を高精度に形成することができる。また、遮蔽層は第 2 ノズル穴のェツチング時のストツパとして機能し、第 2ノズル穴のェツチングを遮蔽層で確実に止めることができる。すなわち、第 2 ノズル層をエッチングする際、第 2 ノズル穴が遮蔽層を貫通することがない。これにより、第 1 ノズル層の厚さが一定に保たれることになり、液状物質の流路抵抗にばらつきが生じることがない。

また、遮蔽層の材料に、第 1 ノズル穴のエッチング時の遮蔽層として、あるいは、第 1 ノズル穴の側壁として最適な材料を選択することができる。これにより、第 1 ノズル穴をより高精度に形成することができる。

さらに、第 1 ノズル穴おょぴ第 2 ノズル穴をエッチングする際、遮蔽層に対して 1方向からエッチングを行うため、従来の方法のように、向かい合うように 2方向からエッチングを行う場合に比較して、第 1 ノズル穴と第 2 ノズル穴の位置合わせが容易である。

また、本発明のノズルプレートの製造方法は、上記方法に加えて、上記第 4工程と第 5工程とを連続して行うことが望ましい。

上記方法によれば、第 4工程におけるエッチング装置およびェッチング液またはエッチングガスをそのまま使って、第 5工程のエッチングを行うことができる。これにより、製造プロセスを簡略化できる。

また、本発明のノズルプレートは、上記課題を解決するために、液状物質を吐出するための第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層と、第 1 ノズル穴に連通し、上記液状物質の供給を受けるための第 2 ノズル穴を有する第 2 ノズル層とを備えたノズルプレートにおいて、開口部を有し、第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性の高い吐出層が、第 1 ノズル層の液状物質吐出側の面に接するよう.に形成されており、上記第 1 ノズル穴は、第 1 ノズル層を貫通して上記開口部に連通していることを特徴としている。

まず、上記第 1 ノズル穴は、第 2 ノズル穴に供給された液状物質を吐出するためのものであり、その第 1 ノズル穴に連通した開口部は、液状物質の吐出方向や吐出量の制御に大きく寄与する吐出特性寄与部分である。ここで、上記液状物質とは、液体のみならず、第 1 ノズル穴から吐出可能な程度の粘性を有する物質を含む。

上記構成によれば、第 1 ノズル層よりェツチング耐性の高い吐出層に、上記開口部としての吐出特性寄与部分が形成されている。

したがって、第 1 ノズル穴を形成するために第 1 ノズル層をエツチングする場合に、吐出層は、そのエッチングに対する耐性が高いので、吐出層の開口部の形状が変形する等のおそれを小さくすることができる。例えば、予め形成された吐出層の開口部をー且第 1 ノズル層の構成材料で埋め、しかる後に第 1 ノズル層をエッチングして第 1 ノズル穴を形成し、上記開口部を開口させて吐出特性寄与部分とする場合であっても、吐出層のエッチング耐性が第 1 ノズル層より高いために、吐出層が露出した時点で第 1 ノズル層のエッチングが確実にストップする。すなわち、上記吐出特性寄与部分は予め形成された開口部と同一形状となる。

この結果、第 1 ノズル層に吐出層を設けることなく上記第 1 ノズル穴の吐出特性寄与部分を第 1 ノズル層に直接形成する場合と比較して、上記吐出特性寄与部分の形成精度を飛躍的に向上させることができる。

これにより、液状物質の吐出方向や吐出量が安定し、解像度の高い描画が可能となる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記吐出層は、第 1 ノズル層内に形成されていることが好ましい。

上記構成によれば、上記吐出層の厚みは、第 1 ノズル層の厚みより小さくなる。吐出層が薄い程、開口部を形成するためのエッチング量を小さくできるので、上記開口部の形成精度を高くすることができる。

したがって、上記のように、第 1 ノズル穴の吐出特性寄与部分を予め形成された開口部と同一形状に形成した場合、上記吐出特性寄与部分の形成精度は一層高まることになる。

これにより、液状物質の吐出方向や吐出量がさらに安定し、解像度の一層高い描画が可能となる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記吐出層の主成分が無機材料であることが好ましい。

上記構成によれば、上記吐出層が無機材料で構成されているため、上記吐.出層上に例えば撥液膜を形成した場合にも、上記吐出層に形成された開口部の形状を維持することができる。

すなわち、撥液膜の形成時に際して吐出層上に撥液材料を塗布した場合に、たとえ該撥液材料が上記開口部内に回りこんだとしても、酸素を含有するプラズマを用いたドライエッチング法等で簡便に除去でき、また該ドライエッチングによつて上記開口部が損傷を受けることもなく、その形状が変化することがないからである。

また、本発明のノズルプレートにおいては、第 1 ノズル穴における第 1 ノズル層の貫通部を第 1 ノズル穴部としたとき、上記吐出層の外形は、吐出層と第 1 ノズル層との境界面における第 1 ノズル穴部の外形より大きいことが望ましい。

上記構成によれば、吐出層は、第 1 ノズル層のエッチングにおけるストツパ層として機能する。すなわち、第 1 ノズル穴を形成するため第 2 ノズル層側から第 1 ノズル層をエッチングした場合、該エッチングは吐出層にていわば自動的にストップし、第 1 ノズル穴部が形成される。

これにより、第 1 ノズル層のオーバーエッチを防止でき、所定の形状の第 1 ノズル穴部を容易に形成することができる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記吐出層は上記開口部の周囲に、局所的に形成されていることが好ましい。

上記構成によれば、吐出層と第 1 ノズル層との接触面積を小さくすることができる。これにより、吐出層と第 1 ノズル層との線膨張率の差に起因する応力め発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。したがって、ノズルプレートを、例えばインクジエツトへッドと接合する際に、接合精度を上げることができるとともに、ノズルプレート自体の構造的信頼性を上げることができる。さらに、上記のような応力の発生を抑制できることで、第 1およぴ第 2 ノズル層に要求される剛性が減少し、第 1およぴ第 2 ノズル層の層厚を小さくすることができる。すなわち、第 1 ノズル穴や第 2 ノズル穴のエッチングに伴うエッチング量が少なくなり、形成誤差を小さくできる。これにより、高い形成精度の第 1および第 2 ノズル穴を備えることがでさる。

また、上記のように第 1および第 2 ノズル層の層厚を小さくすることができるため、第 1およぴ第 2 ノズル穴を小さく形成することができる。これにより、第 1 ノズル穴の集積度を上げることができ、ひいては描画の解像度を向上させることができる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記第 1 ノズル層と第 2 ノズル層との間に第 1 ノズル層よりェツチングに対する耐性が高い遮蔽層が局所的に介在し、上記第 1 ノズル穴は遮蔽層を貫通して第 2 ノズル穴に連通していることが好ましい。

上記構成によれば、上記遮蔽層は、第 1 ノズル層をエッチングして第

1 ノズル穴を形成する際、第 1 ノズル穴の開口部の形状を規定するマスクとなる。

これにより、遮蔽層の貫通部の口径と同一口径の貫通部を第 1 ノズル層に形成することができる。これにより、形状精度の高い第 1 ノズル穴を備えることができる。

また、上記遮蔽層が局所的に設けられているため、第 1 ノズル層と遮蔽層あるいは第 2 ノズル層と遮蔽層との接触部分の面積を小さくできる < これにより、第 1および第 2 ノズル層と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。したがって、ノズルプレートを、例えばィンクジエツトへッドと接合する際に、接合精度を上げることができるとともに、ノズルプレート自体の構造的信頼性を上げることができる。

さらに、上記のような応力の発生を抑制できることで、第' 1および第

2ノズル層に要求される剛性が減少し、第 1およぴ第 2ノズル層の層厚を小さくすることができる。すなわち、第 1 ノズル穴や第 2ノズル穴のエッチングに伴うエッチング量が少なくなり、形成誤差を小さくできる。これにより、高い形成精度の第 1および第 2 ノズル穴を備えることがでさる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記遮蔽層は、第 2 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高く、上記遮蔽層の外形は、第 1 ノズル穴と第 2 ノズル穴との連通部における第 2 ノズル穴の外形より大きいことが好ましい。

上記構成のように、遮蔽層のエッチング耐性を第 2ノズル層より高くし、遮蔽層の外形を第 1および第 2 ノズル穴の連通部における第 2 ノズル穴の外形より大きくすることによって、遮蔽層は第 2 ノズル穴のエツチング時のストッパとして機能し、第 2 ノズル穴のェツチングを遮蔽層で確実に止めることができる。また、第 2 ノズル層をエッチングする際、第 2 ノズル穴が遮蔽層を貫通することがないので、第 1 ノズル層の厚さが一定に保たれる。

換言すれば、遮蔽層によって第 2 ノズル穴加工の終点を、遮蔽層の表面に精度良く設定することができるので、第 1 ノ.ズル層が第 2 ノズル穴加工時のオーバーエッチによって損傷を受けることがなく、このため第 1 ノズル穴の長さを第 1 ノズル層の層厚で制御することができる。これによって流路抵抗が安定し、液滴の吐出安定性が安定し、着弾精度と解像度が向上する。

また、本発明のノズルプレートにおいて.は、上記第 1 ノズル層は第 2 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高いことが好ましい。

上記構成によれば、第 1 ノズル層自体を、第 2 ノズル穴のエッチング時のストッパとして機能させることができ、第 2ノズル穴のエッチングを第 1 ノズル層で止めることができる。

このように、遮蔽層を設けることなく、第 2 ノズル穴のエッチングを第 1 ノズル層で止めることができるため、上記した第 1および第 2 ノズル層と遮蔽層との間の応力が発生せず、ノズルプレートに反りが発生することを一層効果的に防止できる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、第 1 ノズル層の貫通部である第 1 ノズル穴部は、上記開口部との連通部が狭まつたテーパ形状であることが好ましい。

上記構成によれば、第 1 ノズル穴部がテーパ形状であるため、該第 1 ノズル穴部に供給された液状物質に乱流が発生しにくく、液滴の吐出安定性を高めることができる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記第 2ノズル穴は、第 1 ノズル穴との連通部が狭まつたテーパ形状であることが好ましい。上記構成によれば、第 2 ノズル穴がテーパ形状であるため、第 2ノズル穴において、供給された液状物質に乱流が発生しにくく、液滴の吐出安定性を高めることができる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、少なくとも、上記吐出層の液状物質吐出側の面に撥液膜が形成されていることが好ましい。

上記構成によれば、少なくとも、上記吐出層の液状物質吐出側の面に撥液膜が形成されているため、開口部に形成される液状物質のメニスカス形状が安定し、これに伴い液状物質の吐出方向が安定する。すなわち、着弾精度が向上し描画解像度が向上する。

ただし、上記撥液膜を形成する際、該撥液膜が開口部の内部（内壁）に回りこまないように形成することが望ましく、例えばドライエツチング等によつて上記開口部内に回り込んだ撥液膜を除去しても良い。

また、本発明のノズルプレートは、上記課題を解決するために、液状物質を吐出する第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層と、上記第 1 ノズル穴に連通するとともに上記液状物質の供給を受ける第 2ノズル穴を有し. 上記第 1 ノズル層に固着される補強板と、第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高く、少なくとも、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴の連通部の周囲に形成された遮蔽層と、開口部を有し、第 1 ノズル層よりェツチングに対する耐性が高く、第 1 ノズル層の液状物質吐出側の面に接するように形成された吐出層とを備え、上記第 1 ノズル穴は第 1 ノズル層を貫通して上記開口部に連通していることを特徴としている。

上記構成によれば、第 1 ノズル層よりエッチング耐性の高い吐出層に、上記開口部としての吐出特性寄与部分が形成されている。

したがって、第 1 ノズル穴を形成するために第 1 ノズル層をエツチングする場合に、吐出層は、そのエッチングに対する耐性が高いので、吐出層の開口部の形状が変形する等のおそれを小さくすることができる。例えば、予め形成された吐出層の開口部を一旦.第 1 ノズル層の構成材料で埋め、しかる後に第 1 ノズル層をエッチングして第 1 ノズル穴を形成し、上記開口部を開口させて吐出特性寄与部分とする場合であつても、吐出層のエツチング耐性が第 1 ノズル層より高いために、吐出層が露出した時点で第 1 ノズル層のエッチングが確実にストツプする。

すなわち、上記吐出特性寄与部分は予め形成された開口部と同一形状となる。

また、上記遮蔽層は、第 1 ノズル穴のエッチングの際、第 1 ノズル穴の開口部の形状を規定するマスクとなり、精度の高い第 1 ノズル穴を形成することができる。

さらに、上記遮蔽層を、補強板に形成された第 2ノズル穴の形状に影響を受けることなく、必要最低限の所定の形状に加工することができる。これにより、第 1ノズル層と遮蔽層との接触部分の面積を小さくすることができる。

また、第 1 ノズル層に固着される構成の上記補強板を別工程で作成することができるため、補強板に使用する材料を選択する際の自由度が大幅に向上する。これによつて高剛性の補強板を使用することができ、ノズルプレートに反りが発生することを防止することができる。

したがって、第 1ノズル層および補強板と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。

さらに、補強板の剛性によって第 1ノズル層に必要な剛性が低減するため、第 1 ノズル層の層厚を小さくすることができる。すなわち、第 1 ノズル穴を層厚の小さな第 1 ノズル層に形成することで、第 1 ノズル穴の形成精度をより高めることができる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記吐出層が A 1 、 P t 、 A u、 A 1 ₂0 ₃、 A 1 Nのうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって構成され、上記第 1 ノズル層がシリコン化合物から構成され、上記第 2ノズル層が有機樹脂で構成されていることが好ましい。

上記構成によれば、前記吐出層を構成する材料は、第 1 ノズル層を構成するシリコン化合物のエッチング（例えば、フッ素を含有するプラズマを用いたドライエッチング）、あるいは第 2ノズル層を構成する有機樹脂のエッチング（例えば、酸素を含有するプラズマを用いたドライエツチ）に対して、高いエッチング耐性を有している。

したがって、第 1およぴ第 2ノズル穴加工の際に吐出層が損傷を受けることがない。すなわち、ノズル（第 1および第 2ノズル穴）作成プロセスにおいて開口部が変形することがなく、非常に高い加工精度で加工された開口部を有するノズルプレートを構成することができる。これにより、着弾精度が向上し、描画解像度が向上する。

さらに、第 1 ノズル層を構成するシリコン化合物は、第 2 ノズル層を構成する有機樹脂のエッチング（例えば、酸素を含有するプラズマを用いたドライエッチ）に対して、高いエッチング耐性を有しているため、第 2ノズル穴加工の際にオーバーェツチによって、第 1 ノズル層が大きな損傷を受けることがない。

このため、第 1 ノズル層の層厚が減少することで第 1 ノズル穴の長さ (深さ）ひいては流路抵抗が変化することを抑制でき、これによつて液滴の吐出安定性の劣化を抑制することができる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記吐出層がシリコン化合物から構成され、上記第 1 ノズル層が A 1 を主成分とする金属材料で構成され、上記第 2ノズル層が有機樹脂で構成されることが好ましい。上記構成によれば、上記吐出層を構成する材料が、第 1 ノズル層を構成する A 1 を主成分とする金属材料のエッチング（例えば塩素を含有するプラズマを用いたドライエッチング）、あるいは第 2ノズル層を構成する有機樹脂のエッチング（例えば酸素を含むプラズマを用いたドライエツチ）に対して、高いエツチング耐性を有している。

したがって、第 1およぴ第 2 ノズル穴加工の際に開口部が損傷を受けることがない。すなわち、ノズル（第 1および第 2 ノズル穴）作成プロセスにおいて開口部が変形することがなく、非常に高い加工精度で加工された開口部を有するノズルプレートを構成することができる。これによって、着弾精度が向上し、描画解像度が向上する。

さらに、第 1 ノズル層を構成する A 1 を主成分とする金属材料は、第

2ノズル層を構成する有機樹脂のエッチング（例えば酸素を含有するプラズマを用いたドライエッチ）に対して、高いエッチング耐性を有している。したがって、第 2ノズル穴加工の際にオーバーエッチによって、第 1 ノズル層が大きな損傷を受けることがない。このため、第 1 ノズル層の層厚が減少することで第 1 ノズル穴の長さ (深さ）が変化しひいては流路抵抗が変化することを抑制でき、これにより、液滴の吐出安定性の劣化を抑制することができる。

また、本発明のノズルプレートにおいては、上記第 1 ノズル層が有機樹脂で形成され、上記吐出層が、 T i 、 A l 、 A u、 P t、 T a、 W、 N b、 S i 0 ₂、 A 1 2〇₃、 S i ₃ N ₄、 A 1 Nから選定される少なくとも 1つの材料を主成分とすることが好ましい。

上記構成によれば、第 1 ノズル層を酸素を用いたプラズマによるドラィエッチングで容易に加工できる。加えて、吐出層は上記酸素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエッチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、より一層高い形成精度の開口部を備えることができる。

また、上記構成において、遮蔽層についても吐出層と同様の材料を使用することができる。この場合、第 1 ノズル層をエッチングして第 1.ノズル穴を形成する際、上記遮蔽層を第 1 ノズル穴の開口部の形状を規定するマスクとして用いることができるので、レジストによるパターニングに比べ第 1 ノズル穴の加工精度を向上させることができる。

さらに、第 2 ノズル層を第 1 ノズル層と同様に有機樹脂で構成した場合、上記遮蔽層は、第 2 ノズル穴を加工する際の酸素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエッチング耐性が高く、したがって、第 2ノズル穴の加工を精度良く遮蔽層で停止することができる。

これによつて、.第 1 ノズル穴の長さ（深さ）が安定し、ひいては流路抵抗が安定するため液滴の吐出安定性が向上する。この結果、着弾精度が向上し、高解像度描画が可能になる。また、本発明のノズルプレートにおいては、上記第 1 ノズル層が S i 、 S i 0 ₂、 S i ₃N ₄のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって形成され、上記吐出層が、 A l 、 N i 、 F e、 C o、 C u、 A u、 P t、 A 1 酸化物、 A 1 窒化物のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって形成されていることが望ましい。

上記構成によれば、第 1 ノズル層を、フッ素を用いたプラズマによるドライエッチングで容易に加工できる。加えて、吐出層は上記フッ素を用いたプラズマによるドライエッチングに対してエツチング耐性が高く、ほとんどエッチングされない。これにより、より一層高い形成精度の開口部を備えることができる。

また、上記構成において、遮蔽層についても吐出層と同様の材料を使用することができる。この場合、第 1 ノズル層をエッチングして第 1 ノズル穴を形成する際、上記遮蔽層を第 1 ノズル穴の開口部の形状を規定するマスクとして用いることができるので、レジストによるパターニングに比べ第 1 ノズル穴の加工精度を向上させることができる。

さらに、第 2 ノズル層を第 1 ノズル層と同様に S i または S i化合物で構成した場合、上記遮蔽層は第 2ノズル穴を加工するフッ素を用いたプラズマによるドライエッチングに対するエッチング耐性が高いので、第 2 ノズル穴の加工を精度良く遮蔽層で停止することができる。

また、第 2 ノズル層を有機樹脂で構成した場合でも、上記遮蔽層は第 2ノス'ル穴を加工する酸素を用いたプラズマによるドライエッチングに対するエッチング耐性が高いので、第 2ノズル穴の加工を精度良く遮蔽層で停止することができる。これによつて、第 1 ノズル穴の長さが安定し、流路抵抗が安定するので、吐出安定性が向上する。これによつて着弾精度が向上し、高解像度描画が可能になる。

すなわち、上記構成では第 2 ノズル層に有機樹脂または S i あるいは S i化合物のいずれをも使用することができ、材料選択の範囲が広がり、ノズルプレートの製造が容易となる。

また、本発明のノズルプレートの製造方法は、 .上記課題を解決するために、液状物質を吐出するための、第 1開口部おょぴ第 1 ノズル穴部を有する第 1 ノズル穴と、該第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層とを備えたノズルプレートの製造方法であって、上記第 1開口部を有し、第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高い吐出層を形成する吐出層形成工程と、上記第 1開口部を埋めるとともに吐出層を覆うような第 1 ノズル層を形成する第 1 ノズル層形成工程と、上記第 1開口部の形成位置に対応して、上記第 1 ノズル層に上記第 1 ノズル穴部を形成する第 1 ノズル穴部形成工程と、上記第 1 ノズル穴部から第 1.ノズル層をエッチングし、上記第 1開口部内の第 1 ノズル層を除去する第 1除去工程とを含むものである。

まず、上記第 1開口部は、液状物質の吐出方向や吐出量の制御に大きく寄与する吐出特性寄与部分である。ここで、上記液状物質とは、液体のみならず、第 1 ノズル穴から吐出可能な程度の粘性を有する物質を含む。

上記方法によれば、上記吐出層が第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高いため、第 1開口部内の第 1 ノズル層を除去する第 1除去ェ程において、第 1 ノズル層がエッチングされ、吐出層が露出した時点で当該エッチングは確実にストツプする。

すなわち、上記吐出特性寄与部分は予め形成された第 1開口部と同一形状となる。

また、本発明のノズルプレートの製造方法においては、上記第 1除去工程の後に、第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性が低い第 2 ノズル層を、上記第 1 開口部および第 1 ノズル穴部を埋めるとともに第 1 ノズル層を覆うように形成する第 2 ノズル層形成工程と、該第 2ノズル層をエッチングすることで、該第 2ノズル層を貫通する第 2 ノズル穴を加ェする第 2 ノズル穴形成工程と、を含むことが望ましい。

上記方法によれば、第 1 ノズル層は第 2 ノズル穴のェツチング時のストッパとして機能し、遮蔽層等のエッチングストッパを形成することなく、第 2ノズル穴形成時の第 2 ノズル層のエッチングを第 1 ノズル層にて止めることができる。

したがって、上記遮蔽層等のエッチングストツパと第 1およぴ第 2 ノズル層とのとの線膨張率の差に起因する応力が発生することがない。

この結果、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止でき、ノズルプレートを、例えばインクジェットヘッドと接合する際に、接合精度.を上げることができるとともに、ノズルプレート自体の構造的信頼性を上げることができる。 '

さらに、上記のような応力の発生を回避できることで、第 1 ノズル層に要求される剛性が減少し、第 1 ノズル層の層厚を小さくすることができる。すなわち、第 1 ノズル穴部のエッチングに伴うエッチング量が少なくなり、形成誤差を小さくできる。これにより、第 1 ノズル穴部を高い精度で形成することができる。 .

さらに、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴をエッチングする際、吐出層に対して 1方向からエッチングを行うため、従来の方法のように、向かい合うように 2方向からエッチングを行う場合に比較して、第 1 ノズル穴と第 2 ノズル穴の位置合わせが容易である。

また、本発明のノズルプレートの製造方法においては、上記第 1 ノズル層形成工程と第 1 ノズル穴部形成工程との間に、第 2開口部を有し、第 1および第 2 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高い遮蔽層を、形成された第 1 ノズル層上に、上記第 1 開口部に対応して局所的に形成する遮蔽層形成工程と、上記第 2開口部を埋めるとともに第 1 ノズル層を覆うように第 2 ノズル層を形成し、しかる後に第 2 ノズル層をエッチングすることで、該第 2 ノズル層を貫通し、上記遮蔽層に達する第 2 'ノズル穴を加工する第 2 ノズル穴形成工程と、を含むことが好ましい。上記方法によれば、遮蔽層は第 2 ノズル穴のエッチング時のストッパとして機能し、第 2 ノズル穴のエッチングを遮蔽層で確実に止めることができる。また、第 2 ノズル層をエッチングする際、第 2ノズル穴が遮蔽層を貫通することがないので、第 1 ノズル層の厚さが一定に保たれる。換言すれば、' 遮蔽層によって第 2 ノズル穴加工の終点を、遮蔽層の表面に精度良く設定することができるので、第 1 ノズル層が第 2 ノズル穴加工時のオーバーエッチによって損傷を受けることがなく、このため第 1 ノズル穴の長さを第 1 ノズル層の層厚で制御することができる。これによって流路抵抗が安定し、液状物質の吐出安定性が安定し、着弾精度と解像度が向上する。 '

また、上記遮蔽層を局所的に形成するため、第 1 ノズル層と遮蔽層との接触部分の面積を小さくできる。これにより、第 1 ノズル層と遮蔽層との線膨張率の差に起因する応力の発生を抑制することができ、ノズルプレートに大きな反りが発生することを防止できる。

さらに、第 1 ノズル穴および第 2 ノズル穴をエッチングする際、遮蔽層に対して 1方向からエッチングを行うため、従来の方法のように、向かい合うように 2方向からエッチングを行う場合に比較して、第 1 ノズル穴と第 2 ノズル穴の位置合わせが容易である。

また、本発明のノズルプレートの製造方法においては、上記第 2 ノズル穴形成工程に連続して、上記第 1 ノズル穴部内の第 2ノズル層を除去する第 2除去工程と、上記第 1開口部内の第 2 ノズル層を除去する第 3 除去工程とを行うことが好ましい。

上記方法によれば、第 2 ノズル穴の加工工程におけるェツチング装置およびエッチング液またはエッチングガスをそのまま使って、第 1 ノズル穴のエッチングを行うことができる。

これにより、製造プロセスを簡略化できる。

また、本発明のノズルプレートの製造方法においては、上記第 2 ノズル穴形成工程に連続して、上記第 1 ノズル穴部形成工程および第 1 除去工程を行うことが好ましい。

上記方法によれば、第 2 ノズル穴の加工工程におけるエッチング装置およびエッチング液またはエッチングガスをそのまま使って、第 1 ノズル穴のエッチングを行うことができる。

これにより、製造プロセスを簡略化できる。また、本発明のノズルプレートの製造方法においては、少なくとも、上記吐出層表面に、上記吐出層よりェツチングに対する耐性の低い撥液膜を形成する工程と、上記第 1開口部の反対側からエッチングを行い、第 1 ノズル穴内の撥液膜を除去する工程とを含むことが好ましい。

上記方法は、吐出層の表面から第 1開口部の内部（内壁）に回り込んだ撥液膜を、第 1開口部の反対側からエッチングすることで除去するものである。

ここで、上記吐出層は上記撥液膜のエッチングに対して高いェッチング耐性を有しているため、第 1開口部内に回り込んだ撥液膜を除去するエッチング過程において、第 1開口部が変形することがない。

これにより、上記回り込んだ撥液膜を除去するエッチングを行う余裕度が大きくなり、十分なエッチングによって、上記回り込んだ撥液膜をほぼ完全に除去することができる。

この結果、第 1開口部の内部（内壁）における撥液膜の残留を回避できるため、第 1開口部表面の吐出液との濡れ性の安定化ひいては吐出液滴の着弾精度を向上させることができ、したがって、描画解像度の高いノズルプレートを安定して製造することができる。

本発明のさらに他の目的、特徴、および優れた点は、以下に示す記載によって十分わかるであろう。また、本発明の利益は、添付図面を参照した次の説明で明白になるであろう。図面の簡単な説明

図 1 ( a ) は、本発明の実施の形態 1にかかるノズルプレートを示す斜視図、図 1 ( b ) は、図 1 ( a ) の A— A ' 矢視断面を示す説明図である。

図 2は、上記ノズルプレートの変形例を断面の構成により示す説明図である。 .

図 3 ( a ) 〜図 3 ( g ) は、本発明の実施の形態 1 にかかるノズルプレートの製造方法を断面の構成により示す説明図.である。

図 4は、上記ノズルプレートの製造方法の変形例を断面の構成により示す説明図である。

図 5 ( a ) は、本発明の実施の形態 2にかかるノズルプレートを示す斜視図、図 5 ( b ) は、図 5 ( a ) における B— B ' 矢視断面を示す説明図である。

図 6 ( a ) 〜図 6 ( g ) は、本発明の実施の形態 2にかかるノズルプレートの製造方法を断面の構成により示す説明図である。

図 7は、実施の形態 2にかかる捕強板の構成を説明する斜視図である。図 8 ( a ) 〜図 8 ( c ) は、本発明の実施の形態 1 にかかるノズルプレートの他の製造方法を断面の構成により示す説明図である。

図 9は、本発明の実施の形態 1 にかかるノズルプレートの他の製造方法を断面の構成により示す説明図である。

図 1 0 ( a )、図 1 0 ( b ) は、ノズル層と補強板との接合方法を説明する模式図である。

図 1 1 ( a ) は、本発明の実施の形態 3にかかるノズルプレートを示す斜視図、図 1 1 ( b ) は、図 1 1 ( a ) の A— A' 矢視断面を示す説明図である。

図 1 2は、上記ノズルプレートの変形例を断面の構成により示す説明図である。図 1 3 ( a ) 〜図 1 3 ( g ) は、本発明の実施の形態 3にかかるノズルプレートの製造方法を断面の構成により示す説明図である。

図 1 4は、上記ノズルプレートの製造方法の変形例を断面の構成により示す説明図である。

図 1 5 ( a ) は、本発明の実施の形態 4にかかるノズルプレートを示す斜視図、図 1 5 ( b ) は、図 1 5 ( a ) における B— B ' 矢視断面を示す説明図である。

図 1 6 ( a ) 〜図 1 6 ( g ) は、本発明の実施の形態 4にかかるノズルプレートの製造方法を断面の構成により示す説明図である。

図 1 7 ( a ) 〜図 1 7 ( c ) は、撥液膜のエッチング除去工程を説明する説明図である。

図 1 8は、実施の形態 3にかかるノズルプレートの変形例を断面の構成により示す説明図である。

図 1 9 ( a ) は、従来のノズルプレートを示す斜視図、図 1 9 ( b ) は、図 1 9 ( a ) における C— C ' 矢視断面を示す説明図である。発明を実施するための最良の形態

以下、実施例おょぴ比較例により、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。

〔実施の形態 1〕

本発明の実施の形態 1について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。

(ノズルプレート）

図 1 ( a ) は、微小ドット形成装置に用いられる、本発明のノズルプ O 2005/000590

34

レートの一部の斜視図であり、図 1 ( b ) は、図 1 ( a ) の A— A' 矢視断面図である。ノズルプレートには 1個以上の液体（液状物質）吐出口 9が形成されており、図 1 ( a ) においては 2個の液体吐出口 9が示されている。

図 1 ( a ) . 図 1 ( b ) に示すように、ノズルプレート 8は、第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2、ストッパ層 3 (遮蔽層）、撥液膜 4、ノズル穴 1 1 を備えている。第 1 ノズル肩 1の液体吐出面側には撥液膜 4が形成され、その反対側には第 2ノズル層 2が形成されている。ストッパ層 3 は、第 2ノズル層 2内にて、第 1 ノズル層 1 と第 2ノズル層 2 との界面に位置し、第 1 ノズル層 1 に接するとともに、上記液体吐出口 9 を開口部とする第 1 ノズル穴 1 1 a の形成位置に局所的に形成されている。すなわち、第 1 ノズル穴 1 1 a は、撥液膜 4、第 1 ノズル層 1 を貫通し、さらに局所的に形成されたストツパ層 3の中心部を貫通している。

また、第 2 ノズル穴 1 1 bは、上記第 1 ノズル穴 1 1 a とともにノズル穴 1 1 を構成し、円筒形状の第 1 ノズル穴 1 1 a との連通部から裾広がりに拡開するテーパ形状（円錐台形状）であり、第 2 ノズル層 2を通つて、撥液膜 4の反対側の面 2 bにて開口している。

なお、円錐台形状の第 2ノズル穴 l i bの上底 1 1 yは、第 1 ノズル穴 1 1 a を中心とする円環形状であり、ストッパ層 3が当該上底 1 1 y を成して露出している。したがって、第 1 ノズル穴 1 1 a と第 2 ノズル穴 1 1 bの連通部 1 1 x (略円）の口径は、第 2 ノズル穴 l i bの -上底 1 1 y の外口径（上記連通部 1 1 Xにおける第 2ノズル穴 1 1 b の外形）より小さい。ここで、すでに説明したとおり、第 1 ノズル穴 1 1 a の略円形の開口部が液体吐出口 9 となっている。また、第 2ノズル穴 1 1 bの略円形の開口部が液体供給口 1 2 となっている。

以下、各部のサイズや材質の具体例を説明するが、本発明がその具体例に限定されるものではない。

第 1 ノズル層 1 には厚さが約 Ι ΠΙのポリイミド膜が用いられ、第 2 ノズル層 2には厚さが約 2 0 mのポリイミド膜が用いられている。ストッパ層 3は T i を主成分とする金属材料からなりノズルプレート

8全体の応力による反りを低減するため、 1辺約 2 0 μ mの略正方形形状となっている。

第 1 ノズル穴 1 1 a の開口部（液体吐出口 9 ) の口径は約 3 μ mである。また、第 2 ノズル穴 1 1 b の上底 1 1 yの外口径は 1 O ^ mであり、開口部（液体流入口 1 2 ) の口径は 3 0 πιである。

また、第 1 ノズル層 1上の撥液膜 4は、フッ素重合もしくはシリコン系の高分子膜により形成されている。

本実施の形態によれば、上記ストッパ層 3はノズル穴 1 1の形成位置ごとに局所的に設けられているため、従来のように第 1 ノズル層と第 2 ノズル層との界面の全体にわたってストッパ層を形成する構成と比較して、第 1 ノズル層 1およぴ第 2 ノズル層 2 とストッパ層 3 との線膨張率の差に起因する応力の発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレート 8に大きな反りが発生するこ'とを防止できる。

また、上記のような応力の発生を抑制できるため、第 1 ノズル層 1および第 2ノズル層 2に要求される剛性が小さくてすむ。これにより、第 1 ノズル層 1 あるいは第 2 ノズル層 2の層厚を、従来の構成（図 1 9 ( a ) ·図 1 9 ( b ) に示す S i層 2 4力 1 5 111、 S i層 2 5力 S 1 0 0 μ m ) に比較して、小さくすることができる。（本実施の形態では、第 1 ノズル層 1が 1 μ m_N 第 2 ノズル層 2力 2 0 μ πι)。これにより、第 1 ノズル穴 1 1 aおよぴ第 2 ノズル穴 1 1 bの後述するエッチングの際、第 1 ノズル層 1および第 2 ノズル層 2のェツチング量が少なくてすみ、形成誤差が小さくなる。したがって、形成精度の高いノズル穴 1 1 を備えることができる。

また、第 2 ノズル穴 l i bがテーパ形状であるため、第 2ノズル穴 1 l b内部において、液体の乱流が発生しにくくなり、液滴の吐出安定性を向上させることができる。

また、上記のように第 2 ノズル層 2 を従来の構成に比較して薄くすることができるため、第 2 ノズル穴 1 1 b をテーパ形状に形成しても、液体流入口 1 2を従来の構成に比較して小さくすることができる。これにより、ノズル穴 1 1 の集積度を上げることができる。

また、撥液膜 4によって、液滴が第 1 ノズル穴 1 1 a近傍の第 1 ノズル層 1 に付着することを防止することができる。

なお、第 1 ノズル層 1 に用いられる材料はポリイミドに限定されない。ポリイミド以外の高分子有機材料であっても良いし、 S i o₂、 S i ₃N₄ といった S i化合物材料、あるいは S i であっても良い。

また、ストツバ層 3に用いる材料も T i を主成分とする金属材料に限定されない。第 1 ノズル層 1および第 2 ノズル層 2のエツチング加工おょぴ後述する犠牲層 5のエッチングの際、当該エッチングに対して高い耐性を有する材料、すなわち、エッチングガス（酸素を含有するプラズマ、フッ素を含有するプラズマ等）、または、エツチャント（硝酸、水酸化カリウム水溶液等）に対する耐性の高い材料であればよい。具体的には、 T i 、 A l 、 C u、 A u、 P t、 T a、 W、 N b等を主成分とする金属材料、 S i 〇₂、 A 1 ₂0 ₃等を主成分とする無機酸化物材料、 S i ₃ N ₄等を主成分とする無機窒化物材料等が挙げられる。

また、第 2ノズル層 2に用いられる材料もポリィミドに限定されない。第 1 ノズル層 1 と同様に、ポリイミド以外の高分子有機材料であっても良いし、 S i 〇2、 S i ₃N ₄とレヽつた S i化合物材料、あるいは S i であつてもい。

また、ストッパ層 3 の形状もノズル穴 1 1 の形成位置に局在する形状でありさえすればよく、略正方形形状に限定されない。例えば円形であつても良い。円形は形状の等方性が最も高いので応力の低減も等方的となり好ましい。また、図 1 ( a ) に示すように、本実施の形態では 1個のストツパ層 3に対して 1個のノズル穴 1 1が形成されているがこれに限定されない。従来の構成より応力を抑えることが可能であれば、 1個のストッパ層 3に複数個のノズル穴 1 1を形成しても良い。

また、本実施の形態では、図 1 ( b ) に示すように、第 1 ノズル穴 1 1 a と第 2ノズル穴 l i bの連通部 1 1 Xの口径は、第 2ノズル穴 1 1 b の上底 1 1 yの口径より小さいがこれに限定されない。上記連通部 1 1 Xの口径が上記当接部 1 1 yの口径と同じであっても構わない。また、本実施の形態では、第 2ノズル穴 1 1 bは、第 1 ノズル穴 1 1 a との連通部 1 1 Xが狭まった円錐台形状（テーパ形状）であるがこれに限定されない。例えば、図 2に示すように、第 2ノズル穴 1 1 b の側壁がストッパ層 3 と垂直の、いわゆるストレート形状（円筒形状）に形成することもできる。この場合、第 2 ノズル穴 l i bの液体流入口 1 2をより小さくすることができ、ノズルの集積度をさらに高めることができる。さらに、第 2 ノズル穴 l i bを、図 8 ( c ) に示すような膨らみのあるテーパ形状としてもよい。

上記のように、ノズルプレートを第 1 ノズル層 1、ストッパ層 3、第 2 ノズル層 2を備える構成にすることによって、 .

( 1 ) 液体吐出口 9の形状を、厚さ 1 μ mの第 1 ノズル層 1の加工精度が支配するため、液体吐出口 9の形状精度を向上することができる。

( 2 ) ノズルプレート 8の剛性は第 2 ノズル層 2で維持できるため、ノズルプレート 8全体の剛性が高くなり、取り扱いが容易になる。

( 3 ) ストッパ層 3の形状を必要最小限に設定することができるので、応力によるノズルプレート 8の反りを低減することができる。

( 4 ) ノズルプレート 8の厚さを必要最小限にとどめることができるので、ノズルプレート 8の液体流入口 1 2を小さくすることができ、これによってノズル穴 1 1 の集積度を向上することができる。これに伴って解像度の高い画像を描画することができるようになる。

( 5 ) 膜厚の厚い第 2ノズル層 2によつて補強されているためノズルプレート 8全体の剛性が高く反りが発生しにくくなるとともに取り极いが容易になる。

( 6 ) 膜厚の厚い第 2 ノズル層 2に加工された第 2ノズル穴 l i bの加ェ精度がたとえ悪くとも、第 2 ノズル穴 l i bの加工時にはストッパ層 3でエッチングが止まるため、吐出される液滴の大きさを制御する第 1 ノズル穴 1 1 a に影響を及ぼすことがない。

( 7 ) ノズルプレート 8は、ストッパ層 3が第 1 ノズル層 1 よりも薄く設定されているため、前記ストツパ層 3 をフォトリソグラフィ技術を用いてエッチング加工を行う際、ストツパ層 3 を用いることなく第 1 ノズル層 1 を直接フォトリソグラフィ技術を用いて加工する場合に比べ、加ェの形状精度が高く、このストツパ層 3をマスクとしてエッチング選択性の高い加工方法で第 1ノズル層 1を加工することができるので、吐出される液滴の大きさを制御する第 1ノズル穴 1 l.aを高精度で形成することができる。

( 8 ) 第 1 ノズル層 1に S i 0₂あるいは S i ₃N 4を使用した'場合、第 1 ノズル層 1上に撥液膜 4を形成する際、撥液膜 4の付着力が向上するため、撥液膜 4のはがれや欠けが防止されるため、吐出される液滴の吐出方向が安定し、描画画像の解像度が向上する。

(ノズルプレートの製造方法）

次に、本実施の形態にかかるノズルプレートの一製造方法を説明する。図 3 ( a ) 〜図 3 ( g ) は本実施の形態にかかるノズルプレートの製造工程を説明する図である。また、図 4は、図 3 ( c ) に示される工程の変形例である。

まず、 S iやガラスなどからなる任意の厚さの一時保持のための基板 6に、犠牲層 5を、 N i を用いた湿式鍍金によつて形成する（図 3 ( a ) 参照）。犠牲層 5の厚さは 1 0 mとする。

次に、上記犠牲層 5の上に塗布型のポリイミド榭脂を厚さ 1 μ mで成膜し、第 1 ノズル層 1を形成する（第 1の工程、図 3 ( b ))。ここで、上記塗布型ポリイミド樹脂は犠牲層 5上にスピンコートによつて塗布し. 3 5 0 °Cで 2時間焼成した。

次に、上記第 1 ノズル層 1上に、ストッパ層 3を形成する〈第 2のェ程、図 3 ( c ))₀ まず、 T i を主成分とする材料を用い、スパッタ法にて厚さ 0. 5 ;u m ( 5 0 0 0 A) のストッパ層 3を形成する。そして、このストッパ層 3を、フォトリソグラフィにより所定の形状のレジストパターンを形成した後、イオンミリングのような A rイオンによるドラィエッチングによつて一辺 2 0 mの略正方形形状に加工する。このドライエッチングの際に、上記略正方形の内部に口径 3 μ mの開口部 1 1 a を 1個形成する。この開口部 1 1 a iは後述する第 1 ノズル穴 1 1 a の形成パターンであ第 1 ノズル穴 1 1 aの一部となる。 '

次に、第 2 ノズル層 2を上記第 1 ノズル層 1およぴストッパ層 3上に、 2 0 μ πιの厚さで形成する（第 3の工程、図 3 ( d ))。第 2ノズル層 2 は、第 1 ノズル層 1 と同様に塗布型ポリイミド榭脂をスビンコ一ト法にて塗布し、 3 5 0 °Cで 2時間焼成し 2 0 mの厚さとした。ここで、ストツパ層 3の開口部 1 1 a もポリイミド樹脂にて埋められることになる。

次に、上記第 2ノズル層 2上にフォトリソグラフィによってレジストパターン 7を形成し、酸素を主成分とするガスを用いたドライエツチングを行い、第 2 ノズル層 2にテーパ形状（円錐台形状）の第 2ノズル穴 l i b を形成した（第 4の工程、図 3 ( e ))。なお、上記ドライエッチングはストッパ層 3で止めることができる。すなわち、ストッパ層 3の上記開口部 1 1 a i を除いてストツパ層 3が露出した部位では、ドライェツチングがそれ以上進行しない。

第 2ノズル穴 l i bのテーパ形状の加工に際しては、上記ェツチングにおいて、レジスターン 7のエッチレートと第 2 ノズル層 2のポリィミド樹脂のエッチレートを概ね等しくし、該レジストパターン 7を 1 5 0 °Cで 6 0分ポストベータすることによってレジストパターン 7をテーパ形状とし、ェツチングによってこの形状を第 2ノズル層 2に転写する手法を用いた。すなわち、図 9に示すように、エッチレートがポリイミド樹脂（第 2 ノズル層 2 ) と概ね等しくテーパー断面を有するレジストパターン 7を形成し、ポリイミド榭脂のエッチングと同じスピードでレジストパターン 7をエッチングし、レジストパターン 7のエッジを広げる。このときポリイミド榭脂（第 2 ノズル層 2 ) もエッチングされることになり、ェツチングの壁面（第 2 ノズル穴 l i bの壁面）が当初レジストで形成したテーパーを有する壁面（レジストパターン 7 ) と同じ形状になる。なお、レジストパターン 7 と第 2 ノズル層 2のエッチレートとが概ね等しいことから、レジストパターン 7の厚さは第 2 ノズル層 2の厚さより厚く形成することが望ましい。

次に、第 4の工程に連続して、第 1 ノズル層 1 に第 1 ノズル穴 1 1 a を加工するエッチングを行う（第 5の工程、図 3 ( e ) 参照）。このとき第 1 ノズル穴 1 1 aは、先の工程で加工したストッパ層 3の開口部 1 1 aェによって決定される形状（略円形であり、口径が 3 /z m ) に加工される。このとき、ストッパ層 3は本工程の酸素を主成分とするドライエツチングではほとんどエッチングされないので、ストツパ層 3 に形成されたパターンが変化することなく、第 1 ノズル穴 1 1 aは図 3 ( e ) に示すようにほぼ垂直に加工され、これによつて第 1 ノズル穴 1 1 a を高い精度で形成することができる。

次に、上記レジストパターン 7をレジスト剥離液を用いて除去し、硝酸と水が主成分である水溶液に浸漬し犠牲層 5のみをエッチングすることで、ノズルプレート 8 を基板 6からとりはずす（図 3 ( f ) ) ₀ 先に述ベたように、第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2を形成するポリイミド樹脂ゃストッパ層 3を形成する T i は、上記犠牲層 5のエッチング液によつてほとんどエッチングされることがないので、犠牲層 5のエッチングによって、形状の変化や構造的信頼性の低下を招来することがない。次に、第 1 ノズル層 1 の表面に撥液膜 4を形成する（図 3 ( g ) )。ここでは、塗布の容易さを考慮する趣旨でフッ素重合体を用い、これをスタンプなどの方法により第 1 ノズル層 1 の表面に塗布し、高'分子膜にて撥液膜 4を形成した。なお、第 1 ノズル穴 1 1 a内に回り込んだ撥液膜については、撥液膜形成後に、酸素を含有するプラズマを用い、第 2ノズル穴 1 1 b側からドライエッチングすることで、これを除去した。これにより、ノズルプレート 8のダメージを最小限にすることができる。本実施の形態によれば、第 1 ノズル穴 1 1 a をエッチングする際、ストッパ層 3 をマスク（遮蔽層）として、第 1 ノズル穴 1 1 a をエツチングするため、第 1 ノズル穴 1 1 a を高精度に形成できる。

また、第 2 ノズル層 2をエッチングする際、ストッパ層 3で自動的にェツチングがとまり、第 2 ノズル穴 l i bのェツチング深さを規定することができる。

また、ストッパ層 3の材料に、第 1 ノズル穴 1 1 aのエッチング時の遮蔽層として、あるいは、第 1 ノズル穴 1 1 aの側壁として最適な材料を選択することができる。これにより、第 1 ノズル穴 1 1 a をより高精度に形成することができる。また、第 1 ノズル層 1 あるいは第 2 ノズル層 2 を薄く形成できるため、第 1 ノズル穴 1 1 aおよぴ第 2ノズル穴 1 1 bのエッチングの際、第 1 ノズル層 1および第 2 ノズル層 2のエッチング量が少なくてすみ、形成誤差が小さくなる。したがって、ノズル穴 1 1 を高い精度で形成できる。

具体的には、本実施の形態の工程を用いて作成した 2 0 0個の液体吐出口 9 を有するノズルプレート 8 の各液体吐出口 9の形状を評価したところ、ばらつきは ± 0 . 2 μ m と非常に高精度に加工できた。また、ノズルプレート 8の反りも Ι Ο μ ιη以下と非常に平坦であつた。

さらに、第 1 ノズル穴 1 1 aおよび第 2 ノズル穴 1 1 b をエッチングする際、ストッパ層 3に対して 1方向からエッチングを行うため、従来の方法のように、向かい合うように 2方向からエッチングを行う場合に比較して、第 1 ノズル穴 1 1 a と第 2 ノズル穴 l i b の位置あわせが容易である。

さらに、第 1 ノズル穴 1 1 aおよぴ第 2ノズル穴 l i bの形成工程（第 4工程および第 5工程）において、第 4工程におけるエッチング装置およびエッチング液またはエッチングガスをそのまま使って、第 5工程のエッチングを行うことができる。これにより、製造プロセスを簡略化できる。

なお、本実施の形態では、犠牲層 5 として N i 、第 1 ノズル層 1および第 2 ノズル層 2 としてとしてポリイミド樹脂、ストッパ層 3 として T i を用いたが、この組み合わせに限定されない。

犠牲層 5 には、 N i のほかに、第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2、ストツパ層 3に用いる材料との組み合わせによって、 A l 、 C u、などの硝酸、あるいは K O H水溶液に可溶な材料、またはポリイミドのような酸素プラズマによってエッチングできる材料を用いることができる。また、犠牲層 5 の形成方法についても鍍金以外に蒸着法、スパッタ法、塗布法などを材料に応じて用いることができる。

第 1 ノズル層 1 、第 2 ノズル層 2には、犠牲層 5のエッチングによるダメージが軽微な材料を用いることができる。また、ストッパ層 3には、 44

犠牲層 5のエッチングおよぴ第 1ノズル穴 1 1 aおよび第 2 ノズル穴 1 1 bのエッチングに対して耐性の高い材料を用いることができる。

ここで、表 1 に、使用材料（犠牲層、第 1 ノズル層、ストッパ層、第 2 ノズル層）および加工方法（ストッパ層、第 1 ノズル穴、第 2 ノズル穴、犠牲層除去）について好ましい組み合わせを示す。

表 1に示すように、第 1 ノズル層 1、第 2ノズル層 2はポリイミド樹脂のような高分子有機材料に限定されず、 S i または S i o ₂などの無機シリコン化合物を選択することができる。ただし、 S i 0 ₂や S i をドライエッチングするためには、 Fを含有する反応ガスを使用する必要があり、このエッチングに対して本実施の形態で用いた T i は耐性が低いため、 A uなどのエツチング耐性を有する材料をストツパ層 3 として利用することが望ましい。

また、ストッパ層 3にも、 T i以外に、表 1に示す組み合わせに応じて、同表に記載の材料を使用することができる。なお、ストッパ層 3の材料である T i は C F 4 と酸素の混合ガスを用いたプラズマでもエッチングすることができる。しかし、 T i の下に形成された第 1 ノズル層 1 (ポリイミド）が、上記ガスのプラズマによって T i よりも高速にエツチングされ、大きなダメージを受ける。したがって、本実施の形態ではストツパ層 3のパターユングには A rイオンによるドライエッチング法を採用している。このように、ストッパ層 3のエッチレートと第 1 ノズル層 1 のエッチレートとの差が少ない A rイオンによるドライエツチング法を採用することで、第 1 ノズル層 1 のダメージを最小限に抑えつつストッパ層 3をパターユングすることができる。

また工程 2において、上記ストッパ層 3は正方形形状に形成したがこれに限定されない。第 2 ノズル穴 l i b を形成する際、該第 2 ノズル穴 1 1 bがストッパ層 3に到達し、ェツチングの進行が止まるような形状および大きさであれば何でもよい。ただし、ストッパ層 3の応力によるノズルプレート 8の反りをより低減できるような形状および大きさ（必要最小限の大きさ）であることが望ましい。

さらに、工程 2においては、ストッパ層 3の形状と第 1 ノズル穴 1 1 aの形成パターンとなる開口部 1 1 a 丄を同時に作成したが、 2回のェツチング工程によつて作成することも可能である。さらに、工程 2では、図 4に示すよ 'うに、ノズル穴加工パターン（開口部 1 1 a i を有するストツバ層 3 )の作成時に、第 1 ノズル穴 1 1 a を加工することもできる。ただしこの場合は、第 2 ノズル層 2 を形成する際に（工程 3 )、先に加工した開口部 1 1 a 丄が埋められてしまうため、工程 5 において、再度当該部位を加工する。また、工程 4においては、第 2 ノズル穴 1 1 bを加工する際のマスク材とェツチング条件を適正化し、図 8 ( a ) 〜図 8 ( c ) に示すように、側壁に膨らみ（曲面）をもった第 2 ノズル穴 1 1. b を形成することもできる。

すなわち、に示すように第 2 ノズル層 2上に酸素のプラズマエッチに対する耐性の高い S i 〇₂ などをマスク 1 3 として形成し（図 8 ( a ) 参照）、酸素のプラズマエッチを高いガス圧たとえば 5 0 0 m T o r r でエッチングする（図 8 ( b ) 参照）。これにより、マスク 1 3の下にも、アンダーカツトが生じ、ふくらみのあるテーパーを形成することができる（図 8 ( c ) 参照）。

ただし、上記エッチングがオーバーエッチングになると、第 2 ノズル穴 1 1 b とストッパ層 3の接触部において第 2ノズル穴 1 1 bの口径 d が広がり、大面積のストッパ層 3が必要となるため、上記エッチングを適性に制御することが好ましい。

また、撥液膜 4 としては、フッ素重合体に限定されず、シリコン系の高分子膜、 D L C (ダイヤモンドライクカーボン）などを用いることもできる。

以上の加工工程を用いることによって、

( 1 ) 第 1 ノズル穴 1 1 a をストッパ層 3 の開口部 1 1 a i をマスクとして選択性の高い加工手段で加工するため、加工中の開口部 1 1 a i形状の変化が少なく、オーバーェツチや第 1 ノズル層 1 の厚さのばらつきなどによる、第 1 ノズル穴 1 1 aの加工形状の変動が少なく、形状精度が高く再現性のよい加工を行うことができる。

( 2 ) 上記第 2 ノズル穴 1 1 b を上記ストッパ層 3に対して選択性の高い加工手段によって加工するため、第 2 ノズル穴 l i bの加工を再現性よくストツパ層 3で止めることができる。このため、第 2 ノズル穴 1 1 b の加工精度が第 1 ノズル穴 1 1 a の加工精度に及ぼす影響が軽微であり、液体吐出口 9の形状精度が高く、層厚の厚いノズルプレート 8を安定して製造することができる。

〔実施の形態 2〕

本発明の実施の形態 2について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。

(ノズノレプレート）

図 5 ( a ) は、微小ドット形成装置に用いられる、本発明のノズルプレートの一部の斜視図であり、図 5 ( b ) は、図 5 ( a ) の B— B ' 矢視断面図である。ノズルプレートには 1個以上の液体（液状物質）吐出口 9 0が形成されており、図 5 ( a ) においては 2個の液体吐出口 9 0 が示されている。

図 5 ( a ) に示すように、ノズルプレート 8 0は、ノズル層 1 0、ストッパ層 3 0 (遮蔽層）、捕強板 2 0、ノズル穴 1 1 0 を備えている。ノズル層 1 0の液体吐出面側には撥液膜 4 0が形成され、その反対側には捕強板 2 0が接合されている。ストッパ層 3 0は、ノズル層 1 0 と補強板 2 0 の界面に位置し、上記液体吐出口 9 0を開口部とする第 1 ノズル穴 1 1 0 a の形成位置に局所的に形成されている。すなわち、第 1 ノズル穴.1 1 0 a は、撥液膜 4 0、ノズル層 1 0を貫通し、局所的に形成されたストッパ層 3 0の中心部を貫通している。

また、直方体形状の第 2 ノズル穴 1 1 0 bは、補強板 2 0を貫通しており、円筒形状の上記第 1 ノズル穴 1 1 0 a とともにノズル穴 1 1 0を構成する。

ここで、上記ストツパ層 3 0は、ノズル層 1 0 と補強板 2 0 との界面において第 2ノズル穴 1 1 0 bの内部（開口範囲内）に位置している。したがって、上記第 2ノズル穴 1 1 0 bの開口部にあたる底面（略正方形）が液体供給口 1 2 0 となっており、第 2ノズル穴 1 1 0 bの奥壁にあたる底面 1 1 O y (略正方形）の内側に、ノズル層 1 0 とストッパ層 3 0 との接触'面（穴付略正方形）が位置している。なお、この接触面の内側（中心部）には、第 1 ノズル穴 1 1 0 a と第 2ノズル穴 1 1 0 b との連通部 1 1 O x (略円形）が位置している。

ノズル層 1 0は、本実施の形態では厚さが 1 μ mのポリイミド膜で形成されている。

ストッパ層 3 0は、 T i を主成分とする金属材料が用いられ、ノズルプレート 8 0全体の応力による反りを低減するため、 1辺 1 Ο μ ηιの略正方形形状に形成されている。

第 1 ノズル穴 1 1 0 aの開口部（液体吐出口 9 0 ) の口径は 3 μ mとなっている。

撥液膜 4 0は、フッ素重合体を有する高分子材料から形成されている。補強板 2 0は厚さ δ θ μ ηιの S i からなり、上記した略正方形の第 2 ノズル穴 1 1 0 bの開口部（液体供給口 1 2 0 ) は、一辺が 3 0 μ mとなっている。 '

本実施の形態によれば、ストッパ層 3 0は、後述する第 1 ノズル穴 1 1 0 aのエッチング時に遮蔽層となれば足りることから、第 2 ノズル穴 1 1 0 bの内部に位置するよう、小さい形状にて形成されている。

このように、ノズル層 1 0 とストッパ層 3 0 との接触面を最小限にすることができ、加えて、補強板 2 0 とストッパ層 3 0 との接触面をなくすことができるため、ノズル層 1 0および捕強板 2 0 とストツパ層 3 0 との線膨張率の差に起因する応力の発生を、従来や実施の形態 1の構成に比較して大幅に抑制することができる。これにより、ノズルプレート 8 0に大きな反りが発生することを防止できる。 .

なお、ノズル層 1 0に用いられる材料はポリイミドに限定されない。ポリイミド以外の高分子有機材料であっても良いし、 s i o ₂、 S i 3N4 といった S i化合物材料、あるいは S i であっても良い。

また、ストッパ層 3 0に用いる材料も T i を主成分とする金属材料に限定されない。ノズル層 1 0のエッチングおよび後述する犠牲層 5 0のエッチングの際、当該エッチングに対して高い耐性を有する材料、すなわち、酸素を含有するプラズマ、フッ素を含有するプラズマ、硝酸、水酸化カリウム水溶液等に耐性の高い材料であればよい。具体的には、 τ i 、 A l 、 C u、 A u、 P t、 T a、 W、 N b、 S i 〇₂、 A 1₂〇3、 S i ₃N₄等を主成分とする金属材料あるいは無機酸化物材料や無機窒化物材料等が挙げられる。

また、補強板 2 0に用いられる材料も S i に限定されない。 S i 0₂、 S i ₃N₄といった S i化合物材料であっても良い。

また、ストッパ層 3 0の形状もノズル穴 1 1 0の形成位置に局在する形状でありさえすればよく、略正方形形状に限定されない。例えば円形であっても良い。円形は形状の等方性が最も高いので応力の低減も等方的となり好ましい。また、図 5 ( a ) に示すように、本実施の形態では 1個のストツパ層 3 0に対して 1個のノズル穴 1 1 0が形成されているがこれに限定されない。従来の構成より応力を抑えることが可能であれば、 1個のストツパ層 3 0に複数個のノズル穴 1 1 0を形成しても良い。また、補強板 2 0に設けられた第 2 ノズル穴 1 1 0 b も直方体形状（断面が正方形形状）に限定されない。円筒形状やテーパ形状（円錐台形状）であっても良い。

上記のように、ノズルプレートをノズル層 1 0、ストッパ層 3 0、補強板 2 0を備える構成にすることによって、

( 1 ) 液体吐出口 9 0の形状を、厚さ 1 μ mのノズル層 1 0の加工精度が支配するため、液体吐出口 1 2 0の形状精度を向上することができる。

( 2 ) ノズルプレート 8 0の剛性は捕強板 2 0で維持できるため、ノズルプレート 8 0全体の剛性が高くなり、取り扱いが容易になる。

( 3 ) ストッパ層 3 0の形状をさらに小さくすることができるので、応力によるノズルプレート 8 0の反りを低減することができる。

( 4 ) ノズルプレート 8 0の厚さを必要最小限にとどめることができるので、ノズルプレート 8 0の液体流入口 1 2 0 を小さくすることができ、これによつてノズル穴 1 1 0の集積度を向上することができる。これに伴って解像度の高い画像を描画することができるようになる。

( 5 ) また、ストッパ層 3 0は補強板 2 0に形成された第 2 ノズル穴 1 1 0 bの形状に影響を受けることなく、必要最低限の所定の形状に加工できるため、線膨張率の差によるノズルプレート 8 0の反りをさらに低減することができる。

( 6 .) ノズルプレート 8 0は、ストッパ層 3 0がノズル層 1 0 よりも薄く設定されているため、前記ストツバ層 3 0をフォトリソグラフィ技術を用いてエッチング加工を行う際、ストツパ層 3 0 を用いることなくノズル層 1 0 を直接フォトリソグラフィ技術を用いて加工する場合に比べ. 加工の形状精度が高く、このストッパ層 3 0をマスクとしてエッチング選択性の高い加工方法でノズル層 1 0 を加工することができるので、吐出される液滴の大きさを制御する第 1 ノズル穴 1 1 0 a を高精度で形成することができる。

(ノズルプレートの製造方法）

図 6 ( a ) 〜図 6 ( g ) は、本実施の形態にかかるノズルプレートの製造工程を示している。以下に、.同図を用いて本実施の形態にかかるノズルプレートの製造方法を説明する。

まず、 S iやガラスなどからなる任意の厚さの一時保持のための基板 6 0に、犠牲層 5 0を、 N i を用いた湿式鍍金によって形成する（図 6 ( a ))。犠牲層 5 0 の厚さは 1 0 μ mとする。

次に、上記犠牲層 5 0の上に塗布型のポリイミド樹脂を厚さ 1 μ mで成膜し、ノズル層 1 0を形成する（図 6 ( b ))。ここで、上記塗布型ポリイミド樹脂は犠牲層 5 0上にスピンコートによつて塗布し、 3 5 ひ。 C で 2時間焼成した。

次に、上記ノズル層 1 0上に、ストッパ層 3 0 (遮蔽層）を形成する (図 6 ( c ))。まず、 T i を主成分とする材料を用い、スパッタ法にて厚さ 5 0 0 0 Aのストッパ層 3 0を形成する。そして、このストッパ層 3 0を、フォトリソグラフィにより所定の形状のレジストパターンを形成した後、イオンミリングのような A rイオンによるドライエッチングによって一辺 1 0 μ mの略正方形形状に加工する。このドライエツチングの際に、上記略正方形の内部に口径 3 μ πιの開口部 1 1 0 _{a i} を 1個形成する。この開口部 1 1 0 a i は後述する第 1 ノズル穴 1 1 0 a の形成パターンであり、第 1 ノズル穴 1 1 0 a の一部となる。次に、上記ストッパ層 3 0の開口部 l l O a i に対応するパターンを有するレジストパターン 7 0を形成する。すなわち、レジストパターン 7 ◦の開口部 7 0 a にストツパ層 3 0の開口部 1 1 0 a i が位置するように形成される。しかる後に、ストッパ層 3 0をマスクとして、その開口部 l l O a i力らノズル層 1 0をエッチングし、第 1 ノズル穴 1 1 0 aを形成する。このエッチングには、酸素を主成分とするガスを用いたドライエッチングによる。（図 6 ( d ) )。

続いて、レジスト 7 0を剥離液などを用いて除去する。ここで、ストッパ層 3 0は本工程の酸素を主成分とするドライエッチングではほとんどエッチングされないので、ストッパ層 3 0に形成されたパターンが変ィ匕することなく、第 1 ノズル穴 1 1 0 aは図 6 ( d ) に示すようにほぼ垂直に加工される。

このため、オーバーエッチによる加工形状の変化がなく、フォトリソグラフィのパターン精度に近い土 0. 1 mの極めて高い加工精度で第 1 ノズル穴 1 1 0 aを形成することができる。また、上記レジスト 7 0 の厚さは、上記ノズル層 1 0の厚さよりも大きいことが望ましく、本実施の形態では上記レジスト厚を 2 μ mとした。

次に、一辺 1 5 μ mの直方体形状の第 2ノズル穴 1 1 O bを有する補強板 2 0を、第 2ノズル穴 1 1 0 b内に上記ストッパ層 3 0が配置するように位置決めして接着する（図 6 ( e ) 参照）。ここでは各部材（ノズル層.1 0 と補強板 2 0 ) の接着面をカメラ等で観察し、観察位置から上記各部材を所定量移動し、機械的に接合する方法を用いた。

図 1 0 ( a ) はこの方法における、位置決め（ァライメントフエイズ）を示し、図 1 0 ( b ) は接合（接合フェイズ）を示している。まず、図 1 0 ( a ) に示すように、補強板位置測定エリア 6 5において、カメラ 6 1によつて捕強板 2 0の接合面を観察し、第 2ノズル穴 1 1 0 bの輪郭パターンを測定する。同様に、ノズル層位置測定エリア 6 7において、カメラ 6 2によってノズル層 1 0の接合面を観察し、ストッパ一層 3 0の輪郭パターンを測定する。

次に、図 1 0 ( b ) に示すように、上記測定結果からノズル層 1 0および補強板 2 0の適正移動量を算出し、この適正移動量に従い上記ノズル層 1 0 と補強板 2 0 とを接合ェリア 6 6における適性位置に移動させる（ァライメントフエイズ）。

そして、接合ェリア 6 6において、接合面をリアルタイムで観察することなく上下に圧着し、捕強板 2 0 とノズル層 1 0 とを接合する。

なお、補強板 2 0は S iからなり、接着剤には、耐薬品性の高いェポキシ系を用いる。接着の際には、接着剤とノズル層 1 0あるいは捕強板 2 0の線膨張係数の差から、ノズルプレート 8 0に反りが発生しないよう、常温にて硬化することが望ましい。

次に、硝酸と水が主成分である水溶液に浸漬し犠牲層 5 0のみをエツチングすることで、ノズルプレート 8 0を基板 6 0カゝらとりはずす（図 6 ( f ) 参照）。このとき、ノズル層 1 0を形成するポリイミド樹脂ゃストッパ層 3 0を形成する T i ならぴに捕強板 2 0を形成する S i は、上記犠牲層 5 0めエッチング液によってほとんどエッチングされることがないので、犠牲層 5 0のエッチングによって、形状の変化や構造的信頼性の低下を招来することがない。

次に、ノズル層 1 0の表面に撥液膜 4 0を形成する（図 6 ( g ) )。ここでは、塗布の容易さを考慮する趣旨によりフッ素重合体を用い、これをスタンプなどの方法でノズル層 1 0の表面に塗布す'ることで、高分子膜にて撥液膜 4 0を形成した。なお、第 1 ノズル穴 1 1 0 a内に回り込んだ撥液膜 4 0については、撥液膜 4 0形成後に、酸素を含有するブラズマを用レ、、第 2ノズル穴 1 1 0 b側からドライエッチングすることで、これを除去した。これにより、ノズルプレート 8 .0のダメージを最小限にすることができる。

ここで補強板 2 0の製造方法について図 7を用いて簡単に説明する。まず、図中矢印 D方向の厚さ 2 0 0 πιの S i基板 3 1に、第 2ノズル穴 1 1 0 b となる幅 1 5 t ni、深さ 1 5 μ mの溝をダイシング装置によって所定の間隔に形成する。次に、矢印 D方向の厚さ 1 0 0 u mの S i基板 3 2を上記溝を加工した S i基板 3 1の溝を配設した面 3 3にェポキシ系の接着剤を用いて接合する。次に、ダイシング装置によって溝に直交する方向（図中矢印 D方向）に切断する。これにより、図中矢印 E方向に沿った、第 2ノズル穴 1 1 0 b (断面が一辺 1 5 ;u mの略正方形）の列を 1列有する、矢印 F方向の厚さ 5 0 mの補強板 2 0を複数枚切り出すことができる。

ここで、上記方法は補強板 2 0の製造方法の単なる一例に過ぎず、例えば、図中矢印 E方向に沿った第 2ノズル穴 1 1 0 b (断面が一辺 1 5 μ mの略正方形）の列を図中矢印 D方向に複数列有する補強板 2 0を製造することもできる。この場合、溝を加工した S i基板 3 1を複数枚用いればよい。なお、溝を加工した上記 S i基板 3 1 を複数枚用い、溝の位置あるいは接合位置を調整すれば、千鳥配列された第 2ノズル穴 1 1 0 bを形成することもできる。

本実施の形態によれば、ストッパ層 3 0は第 1 ノズル穴 1 1 0 aのェツチング時に遮蔽層（マスク）となる大きさであればよい。よって、ストッパ層 3 0を実施の形態 1に比較して、より小さい形状にて形成することができる。 ·

また、補強板 2 0 とノズル層 1 0 とを別個に形成できるため、ノズルプレート 8 0を簡略に、また、安定して製造することができる。

以上のプロセスを用いて作成した 2 0 0個の液体吐出口 9 0を有するノズルプレート 8 0の各吐出口の形状を評価したところ、ばらつきは士 0 . 2 m と非常に高精度に加工できた。また、ノズルプレート 8 0 の反りも 5 μ m以下と非常に平坦であった。

なお、本実施の形態では、犠牲層 5 0に N i 、ノズル層 1 0にポリイミド樹脂、補強板 2 0に S i 、ストッパ層 3 0に T i を用いたが、この組み合わせに限定されない。

犠牲層 5 0には、 N i のほかに、ノズル層 1 0、補強板 2 0 、ストツパ層 3 0に用いる材料との組み合わせによって、 A l 、 C u、などの硝酸、あるいは K O H水溶液に可溶な材料、またはポリイミドのような酸素プラズマによってエッチングできる材料を用いることができる。また、犠牲層 5 0 の形成方法についても鍍金以外に蒸着法、スパッタ法、塗布法などを材料に応じて用いることができる。

ノズル層 1 0、補強板 2 0には、犠牲層 5 0 のエッチングによるダメージが軽微な材料を用いることができる。また、ストッパ層 3 0には、犠牲層 5 0のェツチングおよぴ第 1 ノズル穴 1 1 0 aのェツチングに対して耐性の高い材料を用いることができる。

ここで、表 2に使用材料（犠牲層、ノズル層、ストッパ層、補強板）および加工方法（ストッパ層、第 1 ノズル穴、犠牲層除去）について好ましい組み合わせを示す,

表 2

表 2に示すように、ノズル層 1 0はポリイミド樹脂のような高分子有機材料に限定されず、 S i または S i 0 ₂ などの無機シリコン化合物を用いることができる。また、補強板 2 0についても、 S i 以外にガラスや A 1 2〇₃などを主成分とするセラミックあるいはポリイミド樹脂といつた材料を使用することができる。

なお、ストッパ層 3 0の材料である T i は C F ₄ と酸素の混合ガスを用いたプラズマでもエッチングすることができる。しかし、 T i の下に形成.されたノズル層 1 0 (ポリイミド）が、上記ガスのプラズマによつて T i よりも高速にエッチングされ、大きなダメージを受ける。したがつて、本実施の形態ではストツパ層 3 0のパターユングには A rイオンによるドライエッチング法を採用している。このように、ストッパ層 3 0およびノズル層 1 0 とのエッチレートの差が少ない A rイオンによるドライエッチング法を採用することで、ノズル層 1 0のダメージを最小限に抑えつつストツパ層 3 0をパターニングすることができる。

また、撥液膜 4 0 としては、フッ素重合体に限定されず、シリコン系の高分子膜、 D L C (ダイヤモンドライクカーボン）などを用いることもできる。

また、本実施の形態では補強板 2 0は、 S i 板に第 2 ノズル穴 1 1 0 bを加工しただけである力補強板 2 0の厚さを変更することによって、液滴吐出機構や液滴吐出信号伝達手段を配置することが可能である。以上の加工工程を用いることによって、

( 1 ) 液体吐出口 9 0の形状を、厚さ 1 mのノズル層 1 0の加工精度が支配するため、液体吐出口 9 0の形状精度を向上することができる。

( 2 ) ノズルプレート 8 0の剛性は補強板 2 0で維持できるため、ノズルプレート 8 0全体の剛性が高くなり、取り扱いが容易になる。

( 4 ) ノズルプレート 8 0の厚さを必要最小限にとどめることができるので、ノズルプレート 8 0の液体流入口 1 2 0を小さくすることができ、これによつてノズル穴 1 1 0の集積度を向上することができる。これに伴って解像度の高い画像を描画することができるようになる。

( 5 ) ノズルプレート 8 0を簡便に、安定して製造することができる。なお、上記実施の形態のノズルプレート 8 ( 8 0 ) は、上記ストッパ層 3 ( 3 0 ) の膜厚が第 1 ノズル層 1 (ノズル層 1 0 ) よりも薄いことを特徴とすることもできる。上記構成のノズルプレート 8 ( 8 0 ) は、ストッパ層 3 ( 3 0 ) が第 1 ノズル層 1 (ノズル層 1 0 ) よりも薄く設定されているため、前記ストツパ層 3 ( 3 0 ) をフォトリソグラフィ技術を用いてエッチング加工を行う際、ストッパ層 3 ( 3 0 ) を用いることなく第 1 ノズル層 1 (ノズル層 1 0 ) を直接フォトリソグラフィ技術を用いて加工する場合に比ベ、加工の形状精度が高く、このストッパ層 3 ( 3 0 ) をマスクとしてエッチング選択性の高い加工方法で第 1 ノズル層 1 (ノズル層 1 0 ) を加工することができるので、吐出される液滴の大きさを制御する第 1 ノズル穴 1 1 a ( 1 1 0 a ) を高精度で形成することができる。

なお、上記実施の形態のノズルプレート 8は、第 1 ノズル層 1 または第 2ノズル層 2は、高分子有機材料または S i あるいは無機シリコン化合物から選定される材料によってそれぞれ形成され、上記ストツパ層 3 は第 1 ノズル層 1 または第 2 ノズル層 2の加工手段に対して、耐性の高い材料によつて形成されることを特徴とすることもできる。

上記構成のノズルプレート 8は、第 1 ノズル穴 1 1 aがストッパ層 3 を貫通する形状で第 1 ノズル層 1 に形成されているため、第 1 ノズル穴 1 1 a の形状精度が高い。また、第 2 ノズル層 2に形成された第 2 ノズル穴 1 1 bがストッパ層 3 を貫通することがないので第 1 ノズル層 1 の厚さが一定で、流路抵抗のばらつきがない。

なお、上記実施の形態におけるノズルプレート 8 ( 8 0 ) の製造方法は、第 1 ノズル層 1 (ノズル層 1 0 )' を添着する工程と、第 1 ノズル層 1 (ノズル層 1 0 ) 上にストッパ層 3 ( 3 0 ) を形成する工程と、ストッパ層 3 ( 3 0 ) に開口部を形成する工程と、ストッパ層 3 ( 3 0 ) に形成した開口部形状をマスクとして、第 1 ノズル穴 1 1 a ( 1 1 0 a ) を加工する工程と、第 1ノズル層 1 (ノズル層 1 0 ) と支持基板を離間する工程を備えることもできる。

上記構成のノズルプレート 8 ( 8 0 ) の製造方法では、第 1 ノズル穴 1 1 a ( 1 1 0 a ) のマスクとなるストッパ層 3 ( 3 0 ) の開口部を作成する際、第 1 ノズル層 1 (ノズル層 1 0 ) が支持基板によって支持されているため、上記開口部の加工を精度よく行うことができ、このためこの開口部をマスクとして加工する第 1 ノズル穴 1 1 a ( 1 1 0 a ) が高精度に形成される。

なお、上記実施の形態におけるノズルプレートの製造方法は、上記第 1 ノズル穴 1 1 aまたは第 2ノズル穴 1 1 bの加工をドライエッチングを用いて行うことを特徴とすることもできる。

上記構成のノズルプレート 8の製造方法では、高い異方性を有するェツチングで第 1 ノズル穴 1 1 a又は第 2ノズル穴 1 1 bを加工するため. 第 1 ノズル穴 1 1 aまたは第 2ノズル穴 l i bを高い加工精度で加工することができる。

また、上述したすべての実施の形態を通して、上記遮蔽層は液滴吐出信号伝達手段を兼ねることができる。

さらに、本発明にかかるノズルプレートは、バブルジェット（登録商標）方式、圧電吐出方式、静電吐出方式のいずれの方式のインクジエツトにおいても適用可能である。

本発明は上述した各実施の形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施の形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。〔実施の形態 3〕

本発明の実施の形態 3について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。

(ノズルプレート )

図 1 1 ( a ) は、微小ドット形成装置に用いられる、本発明のノズルプレートの一部の斜視図であり、図 1 1 ( b ) は、図 1 1 ( a ) の A— A ' 矢視断面図である。ノズルプレート 8には 1個以上の液状物質の吐出口（開口部または第 1開口部）（以下、吐出口と称する） 1 1 cが形成されており、図 1 1 ( a ) においては 2個の吐出口 1 1 cが示されている。

図 1 1 ( a ) '図 1 1 ( b ) に示すように、ノズルプレート 8の液状物質吐出側には撥液膜 4を有する第 1 ノズル層 1、液状物質供給側には第 2ノズル層 2が形成され、この第 1 ノズル層 1内に吐出層 1 4、第 2ノズル層 2内にストッパ層 3 (遮蔽層）が形成され、これら（撥液膜 4·、吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1、ストッパ層 3、第 2ノズル層 2 ) を貫くようにノズル穴 1 1が形成されている。

より具体的には、ノズルプレート 8の液状物質吐出面には撥液膜 4が形成され、撥液膜 4 と接するように第 1 ノズル層 1が形成されている。吐出層 1 4は第 1 ノズル 1層内にて局所的に形成され、さらに第 1 ノズル層 1の撥液膜 4側の面と吐出層 1 4の撥液膜 4側の面とは面一状に形成されている。第 2 ノズル層 2は、その片面が第 1 ノズル層 1 の撥液膜 4形成面の反対側の面に接するように形成されている。ストッパ層 3は第 2ノズル 2層内にて、その片面が第 1ノズル層 1 と接するように局所的に形成されている。 . また、撥液膜 4、吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1、および第 2ノズル層 2を貫通するノズル穴 1 1 は、撥液膜 4、吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1 およびストッパ層 3の貫通部である第 1 ノズル穴 1 1 a と、第 2ノズル層 2の貫通部である第 2ノズル穴 1 1 bカゝら構成される。さらに第 1 ノズル穴 1 1 a は、撥液膜 4およぴ吐出層 1 4の貫通部である吐出口 1 1 c と、第 1 ノズル層 1およびストッパ層 3の貫通部である第 1 ノズル穴部 1 1 d力らなる。

換言すれば、吐出層 1 4は、第 1 ノズル層 1内にて、撥液膜 4 と第 1 ノズル層 1 との界面に位置し、撥液膜 4に接するとともに、吐出口 1 1 cの形成位置に局所的に形成されていることになり、また、ストッパ層 3は、第 2ノズル層 2内にて、第 1 ノズル層 1 と第 2 ノズル層 2 との界面に位置し、第 1 ノズル層 1 に接するとともに、第 1 ノズル穴部 l i d の形成位置に局所的に形成されていることになる。

そして、ノズルプレート 8の裏面（撥液膜 4形成面の反対側の面） 'に形成された第 2ノズル穴 l i bの入口開口部から供給された液状物質が第 2 ノズル穴 1 1 bおよび第 1 ノズル穴部 l i dを介して吐出口 1 1 c から例えば、液滴として吐出される。なお、液状物質の吐出時の形状は、液滴形状に限定されない。

ここで、吐出口 1 1 cおよぴ第 1 ノズル穴部 l i dは、図 1 1 ( a ) に示すように、' ともに円筒形状を有しており、第 2 ノズル穴 1 1 bは、第 1 ノズル穴部 1 1 d との連通部から裾広がりに拡開するテーパ形状

(円錐台形状）である。

さらに、円筒形状の第 1 ノズル穴部 1 1 dの上底 1 1 aは、略吐出口 1 1 c を中心とする円環形状であり、吐出層 1 4が当該上底 1 1 を成して露出している。したがって吐出口 1 1 c と第 1 ノズル穴部 1 1 d との連通部 1 1 jS (略円形）の口径は、第 1 ノズル穴部 l i dの上底 1 1 αの外口径（上記連通部 1 1 βにおける第 1 ノズル穴部 1 1 dの外形）より小さい。

さらに、円錐台形状の第 2ノズル穴 l i bの上底 1 1 yは、略第 1 ノズル穴部 1 1 dを中心とする円環形状であり、ストツバ層 3が当該上底 1 1 yを成して露出している。したがって第 1 ノズル穴部 1 1 d と第 2 ノズル穴 l i b の連通部 1 1 X (略円形）の口径は、第 2 ノズル穴 1 1 bの上底 1 1 yの外口径（上記連通部 1 1 Xにおける第 2 ノズル穴 1 1 bの外形）より小さい。

吐出層 1 4には T i を主成分とする 0. 5 μ πιの T i膜が用いられている。また、第 1 ノズル層 1 には厚さが約 l mのポリイミド膜が用いられ、第 2 ノズル層 2には厚さが約 2 0 111のポリイミド膜が用いられている。

ストッパ層 3は T i を主成分とする金属材料からなりノズルプレート 8全体の応力による反りを低減するため、 1辺約 2 0 μ mの略正方形形状となっている。

第 1 ノズル穴 1 1 aの開口部にあたる吐出口 1 1 c の口径は約 3 μ m である。また、第 2 ノズル穴 1 1 bの上底 1 1 yの外口径は 1 O /^ mであり、入口開口部（液体流入口 1 2 ) の口径は 3 0 μ πιである。

また、吐出層 1 4および第 1 ノズル層 1上の撥液膜 4は、厚さが約 0 - 0 5 mのフッ素重合もしくはシリコン系の高分子膜により形成されている。上記撥液膜 4は、後述するように吐出口 1 1 cに回り込んだ余分な領域が、ドライエッチによって除去されるが、このドライエッチによつて吐出 P i l e の形状が大幅に変形しないように、その膜厚は吐出口 1 1 cの膜厚より薄いことが望ましい。

本実施の形態によれば、着弾精度に大きな影響を与えるノズルプレート 8の吐出口 1 1 cの形状が、上記 0 . 5 mの T i膜の加工精度で決定されるので、該吐出口 1 1 c の加工精度が非常に高く、これに伴って非常に高い着弾精度を確保することができる。

一方で、吐出口 1 1 cの加工精度を高めるためには、吐出層 1 4の膜厚を薄くすればよい。これにより、吐出層 1 4のエッチング量が小さくなるので、吐出層 1 4をエッチング剤に曝す時間を短くすることができる。ここで、吐出層 1 4の膜厚を薄くすることによって、吐出層 1 4の剛性が低下し、吐出口 1 1 cの構造的な信頼性が減少するおそれがある、本実施の形態では、吐出層 1 4が第 1 ノズル層 1の撥液膜 4側の面に接するように、かつ第 1 ノズル層 1の内部に形成されているため、吐出層 1 4が補強されている。したがって、吐出口 1 1 cの構造的信頼性を担保しつつも吐出口 1 1 c の形状精度を向上することができる。

また、上記ストッパ層 3はノズル穴 1 1 (第 1 ノズル穴部 1 1 d ) の形成位置ごとに局所的に設けられているため、第 1 ノズル層 1 と第 2ノズル層 2 との界面の全体にわたってストツパ層 3を形成する構成と比較して.、第 1 ノズル層 1および第 2ノズル層 2 とストツパ層 3 との線膨張率の差に起因する応力の発生を大幅に抑制することができ、ノズルプレート 8に大きな反りが発生することを防止できる。

また、第 2 ノズル穴 l i bがテーパ形状であるため、第 2ノズル穴 1 1 b内部において、液体の乱流が発生しにくくなり、液状物質の吐出安定性を向上させることができる。

また、撥液膜 4によって、液状物質が吐出口 1. 1 c近傍の吐出層 1 4 に付着することを防止できる。

なお、吐出層 1 4に用いられる材料は T i を主成分とする金属材料に限定されない。第 1 ノズル層 1および第 2ノズル層 2のエッチング工程および後述する犠牲層 5 (図 1 3 ( f ) 参照）のエッチングおよび吐出口 1 1 c内に回り込んだ撥液膜 4のエッチング工程の際、これらのエツチングに対して高い耐性を有する材料、すなわち、エッチングガス（酸素を含有するプラズマ、フッ素を含有するプラズマ等）、または、エッチヤント（硝酸、水酸化カリウム水溶液等）に対する耐性の高い材料であればよい。

具体的には、 T i 、 A l 、 C u、 C o、 F e、 N i 、 A u、 P t、 T a、 W、 N b等を主成分とする金属材料、 S i 0 ₂、 A 1 ₂0 3等を主成分とする無機酸化物材料、 S i ₃N ₄、 A 1 N等を主成分とする無機窒化物材料等が挙げられ、上記ェツチングガスあるいはェッチャントとの組み合わせで選択することができる。

また、第 1 ノズル層 1に用いられる材料はポリイミドに限定されない。ポリイミド以外の高分子有機材料であっても良いし、 s i o ₂、 S i ₃N ₄ といった S i化合物材料、あるいは S i であっても良い。

また、ストッパ層 3に用いる材料も T i を主成分とする金属材料に定されない。第 1 ノズル層 1およぴ第 2ノズル層 2のエッチング工程おょぴ後述する犠牲層 5のエッチング工程の際、これらのエッチングに対して高い耐性を有する材料、すなわち、エッチングガス（酸素を含有するプラズマ、フッ素を含有するプラズマ等）、または、エツチャント（硝酸、水酸化カリウム水溶液等）に対する耐性の高い材料であればよい。具体的には、 T i 、 A l 、 C u、 C o、 F e 、. N i 、 A u、 P t、 T a、 W、 N b等を主成分とする金属材料、 S i 〇₂、 A 1 ₂03等を主成分とする無機酸化物材料、 S i ₃N₄、 A 1 N等を主成分とする無機窒化物材料等が挙げられる。

また、第 2ノズル層 2に用いられる材料もポリイミドに限定されない。第 1ノズル層 1 と同様に、ポリイミド以外の高分子有機材料であっても良いし、 S i 0₂、 S i ₃N₄といった S i化合物材料、あるいは S i であつても良い。

また、吐出層 1 4の形状も吐出口 1 1 cの形成位置に局在する形状でありさえすればよく、略正方形形状に限定されない。例えば円形であつても良い。円形は形状の等方性が最も高いので応力の低減も等方的となり好ましい。

また、図 1 1 ( a ) に示すように、本実施の形態では 1個の吐出層 1

4に対して 1個の吐出口 1 1 cが形成されているがこれに限定されない _c 従来の構成より応力を抑えることが可能であれば、 1個の吐出層 1 4に複数個の吐出口 1 1 cを形成しても良い。

また、ストッパ層 3の形状もノズル穴 1 1 の形成位置に局在する形状でありさえすればよく、略正方形形状に限定されない。例えば円形であつても良い。円形は形状の等方性が最も高いので応力の低減も等方的となり好ましい。また、図 1 1 ( a ) に示すように、本実施の形態では 1 個のストッパ層 3に対して 1個のノズル穴 1 1 (第 1 ノズル穴部 l i d ) が形成されているがこれに限定されない。 '従来の構成より応力を抑えることが可能であれば、 1個のストッパ層 3に複数個のノズル穴 1 1 (第 1 ノズル穴部 l i d ) を形成しても良い。

また、本実施の形態では、図 1 1 ( b ) に示すように、吐出口 1 1 c の口径が第 1 ノズル穴部 1 1 dの口径よりも、わずかに小さく設定した力 S、これに限定されず、本発明の目的から考えると、吐出口' 1 1 c と第 1 ノズル穴部 1 1 dの口径が同一であってもよい。

また、本実施の形態では、図 1 1 ( b ) に示すように、第 1 ノズル穴部 1 1 d と第 2ノズル穴 l i bの連通部 1 1 Xの口径は、第 2ノズル穴 l i bの上底 1 1 yの口径より小さいがこれに限定されない。

上記連通部 1 1 Xの口径が上記当接部 1 1 yの口径と同じであっても構わない。また、本実施の形態では、第 2ノズル穴 l i bは、第 1 ノズル穴 1 1 a (第 1 ノズル穴部 l i d ) との連通部 1 1 Xが狭まった円錐台形状（テーパ形状）であるがこれに限定されない。例えば、図 1 2に示すように、第 2 ノズル穴 l i bの側壁がストッパ層 3 と垂直の、いわゆるストレート形状（円筒形状）に形成することもできる。この場合、第 2 ノズル穴 l i bの液体流入口 1 2をより小さくすることができ、' ノズル 1 1 の集積度をさらに高めることができる。さらに、第 2 ノズル穴 l i b を、図 8 ( c ) に示すような膨らみのあるテーパ形状としてもよレヽ

以上のように、ノズルプレート 8を吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1 、ストッパ層 3、第 2 ノズル層 2を備える構成にすることによって、

( 1 ) 吐出口 1 1 cの形状を、厚さ 0 . 5 μ πιの吐出層 1 4の加工精度が支配するため、吐出 P i l eの形状精度を向上することができる。

( 2 ) 吐出層 1 4力撥液膜 4のエッチング手段に対して耐性の高い材料を使用しているため、吐出口 1 1 c内部に回りこんだ撥液膜 4を除去する際、吐出口 1 1 cの形状が変化することがなく、製造工程における吐出口 1 1 cの加工精度劣化を防止することができる。

( 3 ) 吐出層 1 4に接して第 1 ノズル層 1を配置することによって、薄層である吐出層 1 4の剛性を第 1 ノズル層 1で保持するこどができるので、液状物質の吐出に際して吐出口 1 1 cの変形を最小限に抑えることができ、吐出安定性が向上する。

( 4 ) ノズルプレート 8の剛性は第 2 ノズル層 2で維持できるため、ノズルプレート 8全体の剛性が高くなり、取り扱いが容易になる。

( 5 ) ストッパ層 3の形状を必要最小限に設定することができるので、応力によるノズルプレート 8の反りを低減することができる。

( 6 ) ノズルプレート 8の厚さを必要最小限にとどめることができるので、ノズルプレート 8の液体流入口 1 2を小さくすることができ、これによってノズル穴 1 1の集積度を向上することができる。これに伴って解像度の高い画像を描画することができるようになる。

( 7 ) 膜厚の厚い第 2ノズル層 2によつて補強されているためノズルプレート 8全体の剛性が高く反りが発生しにくくなるとともに取り扱いが容易になる。

( 8 ) 膜厚の厚い第 2ノズル層 2に加工された第 2 ノズル穴 l i bの加ェ精度がたとえ悪くとも、第 2 ノズル穴 1 1 b の加工時にはストツパ層

3でェツチングが止まるため、吐出される液状物質の大きさを制御する吐出口 1 1 cに影響を及ぼすことがない。

(ノズルプレートの製造方法）

次に、本実施の形態にかかるノズルプレートのー製造方法を説明する。図 1 3 ( a ) 〜図 1 3 ( g ) は本実施の形態にかかるノズルプレートの製造工程を説明する図である。また、図 1 4は、図 1 3 ( c ) に示される工程の変形例である。

まず、 S iやガラスなどからなる任意の厚さの一時保持のための基板 6に、犠牲層 5を、 N i を用いた湿式鍍金によつて形成する（図 1 3 ( a ) 参照）。犠牲層 5の厚さは 1 0 μ ηιとする。

次に、上記犠牲層 5上に厚さ 0. 5 μ πιの T i膜を蒸着などの方法で成膜し、フォトリソグラフィを用いて 1辺 7 z mの略正方形形状である吐出層 1 4の外形形状と、口径である円形の吐出口 1 1 cの形状のレジストパターンを形成する。しかる後に、ドライエッチング法を用いて吐出層 1 4の外形形状と吐出口 1 1 c となる開口部 1 1 c i を同時に加工する（吐出層形成工程）。

上記した、吐出層 1 4の外形形状および開口部 1 1 c iの加工には、 C F ₄ と酸素の混合ガスを含有するプラズマを用いたドライエッチングを採用した。このエッチング手法においては、 T i膜を高速に、精度良く加工することができるとともに、犠牲層 5を構成する N i とのェッチング選択性が高いので（ N i はほとんどエッチングされない）、上記加工によって犠牲層 5が大きな損傷を受けることがなく犠牲層 5表面の平坦性が大幅に劣化することを防止できる。

この結果、犠牲層 5表面に形成されるノズルプレート 8の液状物質吐出面の平坦性が劣化することがない。また、上記加工は非常に高い精度が要求されるため、異方性の高いエッチング条件を用いている。

次に、上記犠牲層 5の上に塗布型のポリイミド榭脂を厚さ 1 μ mで成膜し、第 1 ノズル層 1 を形成する（第 1 ノズル層形成工程、図 1 3 ( b ))。ここで、上記塗布型ポリイミド樹脂は犠牲層 5上にスピンコートによつて塗布し、 3 5 0 °Cで 2時間焼成した。ここで、吐出層 1 4に形成された吐出口 1 1 c となる開口部 1 1 c i はポリイミド樹脂にて埋められる（ 1 1 c 2参照）。

次に、上記第 1 ノズル層 1上に、開口部 1 1 d ]_ を有するストツパ層

3を形成する（遮蔽層形成工程、図 1 3 ( c ))。

ここでは、まず、 T i を主成分とする材料を用い、スパッタ法にて厚さ 0. 5 μ ιη ( 5 0 0 0 Α) のストッパ層 3を形成する。そして、このストッパ層 3を、フォトリソグラフィにより所定の形状のレジストパターンを形成した後、イオンミリングのような A rイオンによるドライエツチングによって一辺 2 0 μ mの略正方形形状に加工する。このドライエッチングの際に、上記略正方形の内部に口径 3 z mの開口部 1 1 d i (第 2開口部）を 1個形成する。この開口部 1 1 d は後述する第 1 ノズル穴 1 1 a (第 1 ノズル穴部 l i d ) の形成パターンであり、第 1 ノズル穴部 1 1 dの一部となる。

次に、第 2 ノズル層 2を上記第 1 ノズル層 1およぴストッパ層 3上に、 2 0 w mの厚さで形成する（第 2 ノズル穴形成工程、図 1 3 ( d ))。第 2 ノズル層 2は、第 1 ノズル層 1 と同様に塗布型ポリイミド樹脂をスピンコート法にて塗布し、 3 5 0 °Cで 2時間焼成し 2 0 mの厚さとした。これにより、ストッパ層 3の開口部 1 1 d ;L もポリイミド樹脂にて埋められることになる（ 1 1 d ₂参照）。

次に、上記第 2 ノズル層 2上にフォトリソグラフィによってレジストパターン 7を形成し、酸素を主成分とするガスを用いたドライエツチングを行い、第 2 ノズル層 2にテーパ形状（円錐台形状）の第 2 ノズル穴 l i b を形成する（第 2 ノズル穴形成工程、図 1 3 ( e ) )。

なお、上記ドライエッチングはストッパ層 3で止めることができる。すなわち、ストツパ層 3 の上記開口部 1 1 d i を除いてストツパ層 3が露出した部位では、ドライエッチングがそれ以上進行しない。

第 2 ノズル穴 1 1 bのテーパ形状の加工に際しては、上記エッチングにおいて、レジストパターン 7のエッチレートと第 2ノズル層 2のポリィミド樹脂のエッチレートを概ね等しくし、該レジストパターン 7を 1 5 0 °Cで 6 0分ポストベータすることによってレジストパターン 7をテーパ形状とし、エッチングによってこの形状を第 2ノズル層 2に転写する手法を用いた。

すなわち、図 9 に示すように、エッチレートがポリイミド樹脂（第 2 ノズル層 2 ) と概ね等しくテーパ断面を有するレジストパターン 7を形成し、ポリイミド樹脂のエッチングと同じスピードでレジストパターン 7をエッチングし、レジストパターン 7のエッジを広げる。このときポリイミド樹脂（第 2 ノズル層 2 ) もエッチングされることになり、エツチングの壁面（第 2 ノズル穴 l i bの壁面）が当初レジストで形成したテーパを有する壁面（レジストパターン 7 ) と同じ形状になる。

なお、レジストパターン 7 と第 2 ノズル層 2のエツチレ一トとが概ね等しいことから、レジストパターン 7の厚さは第 2 ノズル層 2の厚さより厚く形成することが望ましい。

次に、上記第 2 ノズル穴形成工程に連続して、第 1 ノズル層 1 に第 1 ノズル穴 1 1 a (第 1 ノズル穴部 1 1 dおよび吐出口 1 1 c ) を加工するエッチングを行う（第 1 ノズル穴部形成工程、第 1除去工程、図 1 3 ( e ) 参照）。このとき、第 1 ノズル穴 1 1 aは、第 1 ノズル穴部 l i dが先の工程で加工したストッパ層 3 の開口部 1 1 によって決定される形状（略円形であり、口径が 3 μ m) に加工され、吐出口 1 1 cが吐出層 1 4に形成されたパターン（開口部 1 1 c と同一形状に加工される（すなわち、吐出層 1 4の開口部 l l c iに存在する第 1.ノズル層 1の材料（ 1

1 C ₂参照) がエッチング除去される）。

ここで、ストッパ層 3および吐出層 1 4は当該工程の酸素を主成分とするドライエッチングではほとんどエッチングされない。

したがって、第 1 ノズル層 1はストッパ層 3の開口部 1 1 d 1 とほぼ同一口径に（ストッパ層 3に対してほぼ垂直に）エッチングされ、吐出層 1 4 の吐出口 1 1 c を除く部位が露出した時点で該ドライエッチングが停止し、第 1 ノズル穴部 1 1 dが形成される。これに続いて、吐出層 1 4 の開口部 1 1 c に存在する第 1 ノズル層 1 の材料（ 1 1 c ₂参照）がエッチング除去され、吐出口 1 1 cが形成される。

次に、上記レジストパターン 7をレジスト剥離液を用いて除去し、硝酸と水が主成分である水溶液に浸漬し犠牲層 5のみをエッチングすることで、ノズルプレート 8を基板 6からとりはずす（図 1 3 ( f ))。

先に述べたように、第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2を形成するポリィミド樹脂や、ストッパ層 3あるいは吐出層 1 4を形成する T i は、上記犠牲層 5のエッチング液によってほとんどエッチングされることがないので、犠牲層 5のエッチングによって、形状の変化や構造的信頼性の低下を招来することがない。

次に、第 1 ノズル層 1 の表面に撥液膜 4を形成する（図 1 3 ( g ))。ここでは、塗布の容易さを考慮する趣旨でフッ素重合体を用い、これをスタンプなどの方法により第 1 ノズル層 1 の表面に塗布し、高分子膜にて撥液膜 4を形成した。なお、第 1 ノズル穴 1 1 a 内に回り込んだ撥液膜 4については、撥液膜 4形成後に、酸素を含有するプラズマを用い、第 2 ノズル穴 1 1 b側からドライエッチングすることで、これを除去した。これにより、ノズルプレート 8のダメージを最小限にすることができる。その詳細を以下に説明する。

図 1 7 ( a ) 〜図 1 7 ( c ) は上記撥液膜 4の回り込みを除去する際のドライエッチングプロセスを模式的に説明する図であり、第 1 ノズル穴 1 1 aおよび吐出層 1 4に形成した吐出口 1 1 cの拡大図である。すなわち、ノズルプレート 8 の液状物質吐出面側に撥液膜 4を塗布焼成すると、図 1 7 ( a ) に示すように、撥液膜 4の回り込みが第 1 ノズル穴 1 1 a (吐出口 1 1 cおよび第 1 ノズル穴部 1 1 d ) の内壁面に付着する。このような回り込んだ撥液膜 4は第 1 ノズル穴 1 1 a (特に吐出口 1 1 c ) の形状精度を劣化させる大きな要因となるため除去する必要がある。

本実施の形態では、このように回り込んだ撥液膜 4を、酸素含有のプラズマを用いたドライエッチングでエッチング除去するが、このとき第 1 ノズル層 1 にポリイミド樹脂などの有機材料を使用していると、図 1 7 ( b ) に示すように、遮蔽層 3 の下に形成した第 1 ノズル層 1 にサイドエツチが生じ、遮蔽層 3 の下にアンダーカットが生じてしまう。

こ.のとき、図 1 7 ( c ) に示すように吐出層 1 4がない場合には、上記アンダー力ットは液状物質吐出面まで到達し、結果として液状物質の吐出口 1 1 eの形状を変形させてしまう（点線が本来の形状）。

しかし、本実施の形態においては、酸素含有のプラズマを用いたドラィエッチングに対して高い耐性を有する吐出層 1 4が撥液膜 4 と接するように形成されており、この吐出層 1 4が吐出口 1 l c の形状を決定しているため、上記ドライエッチングによって吐出口 1 1 c の形状が変化する（図 1 7 ( c ) 参照）ことがない。この結果、非常に高精度のノズル穴 1 1 (第 1 ノズル穴 1 1 a ) を形成することができる。 '

なお、本実施の形態の工程を用いて作成した 2 0 0個の吐出口 1 1 c を有するノズルプレート 8の各吐出口 1 1 c の形状を評価したところ、ばらつきは ± 0. 1 5 μ m と非常に高精度に加工できた。また、ノズルプレート 8の反りも 1 0 μ ιη以下と非常に平坦であった。

本実施の形態によれば、吐出口 1 1 c (開口部 1 1 c を、厚さ 0 .

5 μ πιの吐出層 1 4に加工するため、吐出口 1 1 c を高精度に形成できる。

また、第 1 ノズル層 1 をエッチングして吐出口 1 1 c を形成する際、吐出層 1 4は吐出口 1 1 c の形状を画するエッチングストツパとしで機能し、エッチングの進行によって吐出口 1 1 c の側壁が露出した時点で確実かつ正確に該ェツチングが停止し、吐出口 1 1 cが形成される。' この結果、吐出口 1 1 cの形状精度は、第 1 ノズル層 1 自体に吐出口 1 1 c を形成した場合（吐出口 1 1 c の形状を画するエッチングストッパが第 1 ノズル層 1 にない場合）に比較して、飛躍的に向上する。

また、第 1 ノズル穴部 1 1 dをェツチングする際、トッパ層 3をマスク . （遮蔽層）として、第 1 ノズル層 1 をエッチングするため、第 1 ノズル穴部 1 1 dを高精度に形成できる。

また、第 2 ノズル層 2をエッチングする際、ストッパ層 3で自動的にェツチングが止まり、第 2 ノズル穴 l i bのェツチング深さを規定することができる。

また、ストツパ層 3の材料に、第 1 ノズル穴部 1 1 dのエツチング時の遮蔽層として、あるいは、第 1 ノズル穴部 l i dの側壁として最適な材料を選択することができる。これにより、第 1 ノズル穴部 1 1 dをより高精度に形成することができる。また、第 1 ノ.ズル層 1 あるいは第 2 ノズル層 2を薄く形成できるため、第 1 ノズル穴部 1 1 dおよび第 2 ノズル穴 l i bのエッチングの際、第 1 ノズル層 1およぴ第 2ノズル層 2 のエッチング量が少なくてすみ、形成誤差が小さくなる。したがって、ノズル穴 1 1 を高い精度で形成できる。

さらに、第 1 ノズル穴 1 1 aおよび第 2 ノズル穴 1 1 b をエッチングする際、ストッパ層 3に対して 1方向からエッチングを行うため、向かい合うように 2方向からエッチングを行う場合に比較して、第 1 ノズル穴 1 1 a と第 2 ノズル穴 1 1 b の位置あわせが容易である。

さらに、第 1 ノズル穴部 1 1 dおよび第 2ノズル穴 l i bの形成工程 (第 1 ノズル穴部形成工程、第 2 ノズル穴形成工程）において、第 1 ノズル穴部形成工程におけるエツチング装置およぴェッチング液またはェツチングガスをそのまま使って、第 1 ノズル穴部形成工程おょぴ第 2 ノズル穴形成工程のエッチングを行うことができる。これにより、製造プロセスを簡略化できる。

なお、本実施の形態では、犠牲層 5 として N i 、第 1 ノズル層 1およぴ第. 2 ノズル層 2 としてとしてポリイミド榭脂、ストッパ層 3 として T i を用いたが、この組み合わせに限定されない。

犠牲層 5には、 N i のほかに、第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2 、ストツパ層 3に用いる材料との組み合わせによって、 A l 、 C u、などの硝酸、あるいは K O H水溶液に可溶な材料、またはポリイミドのような酸素プラズマによってエッチングできる材料を用いることができる。また、犠牲層 5の形成方法についても鍍金以外に蒸着法、ス.パッタ法、塗布法などを材料に応じて用いることができる。

第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2には、犠牲層 5 のエッチングによるダメージが軽微な材料を用いることができる。また、吐出層 1 4、ストッパ層 3には、犠牲層 5のエッチング並びに第 1およぴ第 2ノズル穴 1 1 a · 1 l bのエッチングに対して耐性の高い材料を用いることができる。

ここで、表 3に、使用材料（犠牲層、吐出層、第 1 ノズル層、ストツパ層、第 2 ノズル層）および加工方法（吐出層、ストッパ層、第 1 ノズル穴、第 2ノズル穴、犠牲層除去）について好ましい組み合わせを示す。

表 3

表 3に示すように、第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2はポリイミド榭脂のような高分子有機材料に限定されず、 S i または S i ο ₂ などの無機シリコン化合物を選択することができる。

ただし、 S i Ο ₂や S i をドライエッチングするためには、 Fを含有する反応ガスを使用する必要があり、このエッチングに対して本実施の形態で用いた T i は耐性が低いため、 A u 、 P t などのエッチング耐性を有する材料を吐出層 1 4あるいはストツパ層 3 として利用することが望ましい。

また、上記 S i 0 ₂や S i などのシリコン化合物は上述した回り込んだ撥液膜 4を除去するエッチング手段に対して高い耐性を有しているため、第 1 ノズル穴 1 1 a の形状変化を防止でき、吐出口 1 1 cの形状安定性がさらに向上する。

また、吐出層 1 4あるいはストッパ層 3にも、 T i 以外に、表 1 に示す組み合わせに応じて、同表に記載の材料を使用することができる。なお、ストツパ層 3の材料である T i は、ストツパ層 3のパターニングの際、 C F ₄ と酸素の混合ガスを用いたプラズマでもエッチングすることができる。し力、し、 T i の下に形成された第 1 ノズル層 1 (ポリイミド）力上記混合ガスのプラズマによって T i よりも高速にェツチングされ、大きなダメージを受ける。したがって、本実施の形態ではストッパ層 3 のパターニングには A r イオンによるドライエッチング法を採用している。

このように、ストツパ層 3のエッチレートと第 1 ノズノレ層 1 のエッチレートとの差が少ない A rイオンによるドライエッチング法を採用することで、第 1 ノズル層 1 のダメージを最小限に抑えつつストツパ層 3 をパターニングすることができる。

また、上記工程においては、吐出層 1 4 (吐出層形成工程にて）あるいはストッパ層 3 (遮蔽層形成工程にて）を正方形形状に形成したが.これに限定されない。第 1 ノズル穴 1 1 a (第 1 ノズル穴部 l i d ) あるいは第 2 ノズル穴 1 1 b を形成する際、該第 1 ノズル穴 1 1 a (第 1 ノズル穴部 l i d ) あるいは第 2 ノズル穴 l i bがそれぞれ吐出層 1 4またはストッパ層 3に到達し、ェツチングの進行が止まるような形状および大きさであれば何でもよい。ただし、吐出層 1 4あるいはストッパ層 3の応力によるノズルプレート 8の反りをより低減できるような形状および大きさ、すなわち必要最小限の大きさであることが望ましい。

さらに、遮蔽層形成工程においては、ストッパ層 3 の形状と第 1 ノズル穴部 1 1 dの形成パターンとなる開口部 1 1 d . iを同時に作成したが、 2回のエッチング工程（ストッパ層 3の形状を形成するためのエツチングおよび開口部 1 1 d丄を形成するエッチング） .によって作成することも可能である。

さらに、遮蔽層形成工程において第 1 ノズル穴部 l i dの加工パターン（ストツパ層 3 の開口部 1 1 d を作成する際、図 1 4に示すように、第 1 ノズル穴部 1 1 dを加工することもできる。ただしこの場合は、第 2 ノズル層 2を形成する際に、先に加工した第 1 ノズル穴部 l i dが第 2ノズル層 2の形成材料によつて埋められてしまうため、第 1 ノズル穴部形成工程において、当該部位を再度加工する。

また、第 2 ノズル穴形成工程においては、第 2 ノズル穴 1 1 b を加工する際のマスク材とエッチング条件を適正化し、図 8 ( a ) 〜図 8 ( c ) に示すように、側壁に膨らみ（曲面）をもった第 2 ノズル穴 1 1 b を形成することもできる。

すなわち、図 8 ( a ) 〜図 8 ( c ) に示すように、第 2 ノズル層 2上に酸素のプラズマェツチに対する耐性の高い S i 〇₂ などをマスク 1 3 として形成し（図 8 ( a ) 参照）、酸素のプラズマエッチを高いガス圧たとえば 5 0 0 m T o r r でエッチングする（図 8 ( b ) 参照）。これにより、マスク 1 3の下にも、アンダーカットが生じ、ふくらみのあるテーパを形成することができる（図 8 ( c ) 参照）。

ただし、上記エッチングがオーバーエッチングになると、第 2 ノズル穴 1 1 b とストツパ層 3の接触部において第 2 ノズル穴 1 1 bの口径 d が広がり、大面積のストッパ層 3が必要となるため、上記エッチングを適性に制御することが好ましい。

以上の製造工程のように、吐出口 1 1 cを第 1 ノズル層 1 (および撥液膜 4 ) よりェツチングに対する耐性が高い吐出層 1 4に形成することによって、

( 1 ) 吐出層 1 4をエッチングストッパとして、その開口部 1 1 _{C l} と略同一形状（口径）の滴吐出口 1 1 cを形成でき、飛躍的に形状精度の高い吐出口 1 1 cを有するノズルプレート 8を製造することができる _c

( 2 ) さらに、ノズルプレート 8の製造工程の最終段階における、第 1 ノズル穴 1 1 a内に回りこんだ撥液膜 4のェツチング除去において、吐出口 1 1 cの形状変化が生じないため、安定して形状精度の高いノズルプレート 8を製造することができる。

なお、本実施の形態においては、第 1ノズル層 1の液状物質供給側に第 2 ノズル層 2を形成する構成を説明したが、これに限定されない。例えば、図 1 8に示すように、第 1 ノズル層 1 に第 2ノズル穴 1 1 bを有する補強板 2 0を接合した構成であってもよい。すなわち、液状物質吐出側に撥液膜 4が形成され、該撥液膜 4と接するように第 1 ノズル穴部 l i dを有する第 1 ノズル層 1が形成され、吐出口 1 1 cを有する吐出層 1 4が第 1 ノズル 1層内にて局所的に形成され、この吐出層 1 4 の撥液膜 4側の面と第 1ノズル層 1の撥液膜 4側の面とが面一状であり、さらに第 1 ノズル層 1には、この片面と接する局所的なストッパ層 3が形成されるとともに第 2ノズル穴 l i b を有する補強板 2 0が接合され、上記吐出口 1 1 c と第 1 ノズル穴部 1 1 d と第 2ノズル穴 1 1 b とが連通している構成であってもよい。 .

〔実施の形態 4〕

本発明の実施の形態 4について、図面に基づいて説明すれば、以下の通りである。

(ノズルプレート）

図 1 5 ( a ) は、微小ドット形成装置に用いられる、本発明のノズルプレートの一部の斜視図であり、図 1 5 ( b ) は、図 1 5 ( a ) の B _ B ' 矢視断面図である。ノズルプレート 8には 1個以上の液状物質の吐出口（開口部または第 1 開口部）（以下、吐出口と称する） 1 1 cが形成されており、図 1 5 ( a ) においては 2個の吐出口 1 1 cが示されている。

図 1 5 ( a ) . 図 1 5 ( b ) に示すように、ノズルプレート 8の液状物質吐出側には撥液膜 4を有する第 1 ノズル層 1、液状物質供給側には第 2ノズル層 2が形成され、この第 1 ノズル層 1 内に吐出層 1 4が形成され、これら（撥液膜 4、吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1、第 2 ノズル層 2 ) を貫くようにノズル穴 1 1 が形成されている。

より具体的には、ノズルプレート 8 の液状物質吐出面には撥液膜 4が形成され、撥液膜 4 と接するように第 1 ノズル層 1が形成されている。吐出層 1 4は第 1 ノズル 1層内にて局所的に形成され、さらに第 1 ノズル層 1 の撥液膜 4側の面と吐出層 1 4の撥液膜 4側の面とが面一状に形成されている。第 2 ノズル層 2は、その片面が第 1 ノズル層 1の撥液膜 4形成面の反対側の面に接するように形成されている。また、撥液膜 4、吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1、およぴ第 2 ノズル層 2を貫通するノズル穴 1 1は、撥液膜 4、吐出層 1 4、およぴ第 1 ノズル層 1の貫通部である第 1 ノズル穴 1 1 a と、第 2 ノズル層 2の貫通部である第 2ノズル穴 1 1 bから構成される。さらに第 1 ノズル穴 1 1 a は、撥液膜 4および吐出層 1 4の貫通部である吐出口 1 1 c と、第 1 ノズル層 1 の貫通部である第 1 ノズル穴部 1 1 dからなる。

換言すれば、吐出層 1 4は、第 1 ノズル層 1 内にて、撥液膜 4 と第 1 ノズル層 1 との界面に位置し、撥液膜 4に接するとともに、吐出口 1 1 cの形成位置に局所的に形成されていることになる。

そして、ノズルプレート 8の裏面（撥液膜 4形成面の反対側の面）に形成された第 2ノズル穴 1 1 bの開口部から供給された液状物質が第 2 ノズル穴 l i bおよぴ第 1 ノズル穴部 l i dを介して吐出口 1 1 c力、ら液状物質として吐出される。

ここで、吐出口 1 1 cおよび第 1 ノズル穴部 1 1 dは、図 1 5 ( a ) に示すように、ともに円筒形状を有しており、第 2 ノズル穴 1 1 b は、第 1 ノズル穴部 1 1 d との連通部から裾広がりに拡開するテーパ形状

(円錐台形状）である。

さらに、円筒形状の第 1 ノズル穴部 1 1 dの上底 1 1 ひは、略吐出口 1 1 c を中心とする円環形状であり、吐出層 1 4が当該上底 1 1 αを成して露出している。

こ.こで、吐出層 1 4は、 P t を主成分とする金属材料が用いられ、ノズルプレート 8全体の応力を低減するために、厚さ 0. 5 μ πι、一辺 1 0 μ mの略正方形形状に形成されている。

また、本実施の形態の第 1 ノズル層 1 は、厚さが 2 μ πιの S i 〇2膜で形成され、第 2ノズル層 2は、ポリイミド樹脂を主成分とする有機材料からなり、厚さ 2 0 に形成されている。

吐出口 1 1 c の口径は 3 μ πιとなっており、第 1ノズル穴部 1 1 d との連通部まで膜面に対して垂直に加工されている。また、第 1 ノズル穴部 l i dは吐出口 1 1 c との連通部において 4 μ.ηιの口径に加工されており、第 2ノズル穴 1 1 b との連通部まで、膜面に対して略垂直に加工されている。また第 2ノズル穴 l i bは第 1 ノズル穴部 1 1 d との連通部において 1 0 μ mの口径に加工されており、裾広がりに拡開するテーパ形状（円錐台形状）であり、第 2 ノズル層 2を貫通して撥液膜 4 の反対側の開口部 1 2において開口している。

撥液膜 4は、厚さが 0 . Ο δ πιのフッ素重合体を有する高分子材料から形成されている。

本実施の形態によれば、吐出層 1 4は第 1ノズル穴部 l i dのェッチング手段に対して高い耐性を有しているため、上記第 1 ノズル穴部 1 1 dのエッチングによって吐出口 1 1 c の形状が変形することを防止できる。

また着弾精度に大きな影響を与えるノズルプレート 8 の吐出口 1 1 c の形状が、上記 0 . 5 μ mの P t膜の加工精度で決定されるので、吐出口 1 1 c の加工精度が非常に高く、これに伴って非常に高い着弾精度を確保することができる。

なお、吐出層 1 4 の膜厚を減少させると吐出口 1 1 c の加工精度を高めることができる反面、吐出層 1 4の剛性が低下し、吐出口 1 1 cの構造的な信頼性が減少する。しかしながら、本実施の形態では、吐出層 1 4に接するように第 1 ノズル層 1が形成されているため、これによつて吐出層 1 4が補強され、吐出層 1 4の構造的信頼性を低下させることなく吐出口 1 1 cの形状精度を向上させることが可能となっている。

また、第 1 ノズル層 1は第 2ノズル穴 1 1 bのエツチング手段に対して、高い耐性を有しているので、第 2ノズル穴 l i bの加工によって第 1 ノズル穴部 1 1 dの形状が大幅に変形することがないとともに、第 2 ノズル穴 l i b加工時のオーバーェツチによって、第 1 ノズル層 1が完全に除去されることがない。

なお、吐出層 1 4に用いる材料も P tを主成分とする金属材料に限定されない。第 1 ノズル穴 1 1 aのエッチング、第 2ノズノレ穴 1 1 bのェツチング、犠牲層 5のエッチング（後述）、およぴ吐出口 1 1 c内に回り込んだ撥液膜 4のエッチング（後述）の際、当該エッチングに対して高い耐性を有する材料、すなわち、フッ素を含有するプラズマ、酸素を含有するプラズマ、硝酸、水酸化カリウム水溶液等に耐性の高い材料であればよく、犠牲層 5のエッチング、第 1 ノズル穴 1 1 aの加工手法、 'およぴ第 2ノズル穴 l i bの加工手法との組み合わせによつて選択することができる。

具体的には、吐出層 1 4に用いる材料として、 A l 、 A u、 P t 、 A 1₂0₃、 A 1 N、 S i 0₂等を主成分とする金属材料あるいは無機酸化物材料や無機窒化物材料等が挙げられる。

また、第 1 ノズル層 1 に用いられる材料は S i 〇2に限定されない。

S i 0₂以外の S i ₃N 4といった S i'化合物材料、あるいは S i であっても良い。また、吐出層 1 4、第 2ノズル層 2 との組み合わせに応じて A 1 を主成分とする材料を使用することができる。

また、第 2ノズル層 2に用いられる材料もポリイミドに限定されず、酸素ガスを含有するプラズマを用いたドライエッチングによって良好に加工される材料であれば使用可能であり、たとえばポリイミド以外の有機樹脂であっても良い。

また吐出層 1 4 の形状も吐出口 1 1 c の形成位置に局在する形状でありさえすればよく、略正方形形状に限定されない。例えば円形であっても良い。円形は形状の等方性が最も高いので応力の低減も等方的となり好ましい。また、図 1 5 ( a ) に示すように、本実施の形態では 1個の吐出層 1 4に対して 1個の吐出口 1 1 c形成されているがこれに限定されない。 1個の吐出層 1 4に複数個の吐出口 1 1 cを形成しても良い。

また、本実施の形態では、第 2 ノズル穴 l i bは、第 1 ノズル穴部 1

1 d との連通部 1 1 Xが狭まった円錐台形状（テーパ形状）であるがこれに限定されない。例えば、第 2 ノズル穴 1 1 b の側壁がノズルプレート 8表面に対して垂直の、いわゆるストレート形状（円筒形状）に形成することもできる。この場合、第 2ノズル穴 l i bの液体流入口 1 2をより小さくすることができ、ノズルの集積度をさらに高めることができる。

上記のように、ノズルプレート 8を第 1 ノズル層 1のエッチング剤に対して耐性の高い吐出層 1 4、第 2ノズル層 2のエッチング剤に対して耐性の高い第 1 ノズル層 1、第 2ノズル層 2を備える構成にすることによって、

( 1. ) 吐出口 1 1 c の形状を、厚さ 0 . 5 μ πχの吐出層 1 4 の加工精度が支配するため、吐出口 1 1 cの形状精度を向上することができる。

( 2 ) ストッパ層を形成しないので、プロセスを簡略化することができるとともに、ストッパ層に起因する応力を低減することができるので、応力によるノズルプレート 8の反りを制御しゃすくなる。

( 3 ) ノズルプレート 8の剛性は第 2ノズル層 2で維持できるため、ノズルプレート 8全体の剛性が高くなり、取り扱いが容易になる。

(4 ) 吐出層 1 4が、撥液膜 4のエッチング手段に対して耐性の高い材料を使用しているため、第 1 ノズル穴 1 1 a内に回り込んだ撥液膜 4を除去する際、吐出口 1 1 cの形状が変化することがなく、製造工程において吐出口 1 1 cの加工精度が劣化することを防止できる。

(ノズルプレートの製造方法）

図 1 6 ( a ) 〜図 1 6 ( g ) は、本実施の形態にかかるノズルプレートの製造工程を示している。以下に、図 1 6 ( a ) 〜図 1 6 ( g ) を用いて本実施の形態にかかるノズルプレートの製造方法を説明する。

まず、 S iやガラスなどからなる任意の厚さの一時保持のための基板 6に、犠牲層 5を、 N i を用いた湿式鍍金によつて形成する。犠牲層 5 の厚さは 1 0 mとする。

次に、上記犠牲層 5上に厚さ 0. 5 μ mの P t膜を蒸着などの方法で成膜し、フォトリソグラフィを用いて吐出層 1 4の外形形状と吐出口 1 1 cの形状のレジストパターンを形成する。しかる後に、ドライエッチング法を用いて上記吐出層 1 4の外形形状と吐出口 1 1 c となる開口部 1 1 c iを同時に加工する（吐出層形成工程、図 1 6 ( a ))。

上記 P t膜は化学的に比較的不活性な材料であるため、本実施の形態においては上記ドライエッチングは A r を用いたスパッタエッチングを用い、物理的な加工が支配的な方法によって加工した。また、本加工は非常に高い精度で行うため、異方性の高いエッチング条件を用いている。次に、上記犠牲層 5あるいは吐出層 1 4上に S i 〇₂膜からなる第 1 ノズル層 1を P _ C V D法によって成膜する（第 1 ノズル層形成工程、図 1 6 ( b ) )。

この P— C V D法によると、成膜する S O ₂·膜の有する応力を、成膜に用いるガスの組成、ガス圧、プラズマを発生するための R Fパワーによって制御することができるとともに、段差部のつき周りが良好であるため、上記吐出層 1 4の段差部においてクラックなどが発生することがない。したがって、いわば膜しての構造的な信頼性が高く、このため、ノズルプレート 8全体の構造的な信頼性が高くなる。

次に、上記第 1 ノズル層 1上にフォトリソグラフィによってレジストパターンを作成し、フッ素ガスを含有する反応性ィオンェツチング ( R I E ) によって、第 1 ノズル穴部 1 1 d となる開口部 1 1 d ]_および吐出口 1 1 c となる開口部 1 1 c iを加工する（第 1 ノズル穴部形成工程、第 1除去工程、図 1 6 ( c ) )。

ここで、第 1 ノズル穴部 1 1 dのエッチングが吐出層 1 4にて停止するよう、開口部 1 1 d iの形状は、開口部 1 1 c iよりも大きく（かつ吐出層 1 4の外形より小さく）加工する。

当該エッチング方法では、プラズマによって活性化されたフッ素が選択的に S i原子と反応するため、 S i 〇₂ のエッチング速度が非常に高い。これに対して、上述したように P tは化学的に安定な材料であるため、前記活性化されたフッ素とはほとんど反応しない。このため P tのエツ.チング速度が遅く、これによつて、本エッチングは吐出層 1 4 と第 1 ノズル層 1の界面で精度よく止めることができる。

次に上記第 1 ノズル層 1の上に塗布型のポリイミド樹脂を厚さ 2 0 μ mで成膜し、第 2 ノズル層 2を形成する（第 2 ノズル層形成工程、図 1 6 ( d ) )。

ここで、上記塗布型ポリイミド樹脂は第 1 ノズル層 1上にスピンコートによつて塗布し、 3 5 0 °Cで 2時間焼成した。ここで、開口部 1 1 dェおよび開口部 1 1 c 1 はポリイミド樹脂にて埋められることになる（ 1 1 c 2、 1 1 d ₂参照）。

次に、上記第 2 ノズル層 2上にフォトリソグラフィによってレジストパターン 7を形成する（図 1 6 ( e ) ) o

次いで、酸素を主成分とするガスを用いたドライエッチングを行い、第 2 ノズル層 2にテーパ形状（円錐台形状）の第 2 ノズル穴 1 1 b を形成し（第 2 ノズル穴形成工程、図 1 6 ( f ) )、続いて、第 1 ノズル層 1 に第 1 ノズル穴部 l i dを加工するェツチングおよび、吐出層 1 4に吐出口 1 1 c を加工するエッチングを行う（第 1 ノズル穴部形成工程、第 1除去工程、図 1 6 ( f ) 参照）。

なお、本実施の形態では、第 1 ノズル穴部 1 1 dおよび吐出口 1 l ' c を連続して形成し、吐出層 1 4でエッチングを止めた（吐出層 1 4の吐出口 1 1 c を除いて吐出層 1 4が露出した時点でドライエツチングは停止する）がこれに限定されない。上記エッチングを意図的に第 1 ノズル層 1 で止め、吐出口 1 1 c の形成（第 1 ノズル層 1で埋められた部分 1 1 c 2 のエッチング) を別工程 (別の方法あるいは条件) でエッチングすることも可能である。

なお、第 2 ノズル穴 1 1 b をテーパ形状に加工する工程については、上記実施の形態と同様であるため説明を省略する。

このとき第 1 ノズル穴 1 1 a は、先の工程でポリイミド樹脂によって埋められた形状が、ポリイミド樹脂が除去されることによって再現される。吐出口 1 1 c についても、吐出層 1 4の開口部 1 1 _{C l} を埋める第 2 ノズル層 2の材料（ 1 1 c ₂参照）が除去され、先の工程でポリイミド樹脂によって埋められる前の形状 1 1 _{C l}が再現される。

次に、上記レジストパターン 7をレジスト剥離液を用いて除去する。次いで、硝酸と水が主成分である水溶液に浸漬し犠牲層 5のみをエツチングすることで、ノズルプレート 8 となるべき積層体を基板 6からとりはずす（図 1 6 ( f ) )。

先に述べたように、第 1 ノズル層 1 を形成する S i 0 ₂、第 2ノズル層 2を形成するポリイミド榭脂や吐出層 1 4を形成する P t は、上記犠牲層 5のエッチング液によってほとんどエッチングされることがないため. 犠牲層 5のエッチングによって、ノズル穴 1 1 の形状変化ゃノズルプレート 8の構造的信頼性の低下を招来することがない。

次に、第 1 ノズル層 1の表面に撥液膜 4を形成する（図 1 6 ( g ) 参 BS )

ここでは、塗布の容易さを考慮する趣旨でフッ素重合体を用い、これをスタンプなどの方法により第 1 ノズル層 1の表面に塗布し、高分子膜にて撥液膜 4を形成した。なお、第 1 ノズル穴 1 1 a 内に回り込んだ撥液膜 4については、撥液膜 4形成後に、酸素を含有するプラズマを用い、第 2ノズル穴 1 1 b側からドライエッチングすることで、これを除去し、ノズルプレート 8が完成した。これにより、ノズルプレート 8のダメージを.最小限にすることができる。

本実施の形態では、第 1 ノズル穴 1 1 a 内に回り込んだ撥液膜 4を酸素を含有するプラズマを用いたドライエッチングでエッチング除去する _t ここで、本実施の形態においては、上述したように液状物質吐出面に酸素を含有するプラズマを用いたドライエッチングに対して高い耐性を有する吐出層 1 4が存在しており、この吐出層 1 4が吐出口 1 1 c の形状を決定しているため、上記ドライエッチングによって吐出口 1 1 cの形状が変化することがない。このため非常に高精度のノズル穴を形成することができる。 .

本実施の形態の製造工程を用いて作成した 2 0 0個の吐出口 1 1 cを有するノズルプレート 8の各吐 ί±1 P i l eの形状を評価したところ、ばらつきは ± 0 . 1 5 μ m と非常に高精度に加工できた。また、ノズルプレート 8 の反りも 1 0 μ ηι以下と非常に平坦であった。

なお、本実施の形態では、犠牲層 5に N i、吐出層 1 4に P i：、第 1 ノズル層 1に S i 0 ₂、第 2ノズル層 2にポリイミド樹脂、を用いたが、この組み合わせに限定されない。

犠牲層 5には、 N i のほかに、吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1、および第 2 ノズル層 2に用いる材料との組み合わせによって、 A l 、 C u、などの硝酸、あるいは K O H水溶液に可溶な材料を用いることができる。また、犠牲層 5 の形成方法についても鍍金以外に蒸着法、スパッタ法、塗布法などを材料に応じて用いることができる。

第 2 ノズル層 2には、犠牲層 5 のエッチングによるダメージが軽微な材料を用いることができる。ただし、後述する第 1ノズル層 1 あるいは吐出層 1 4 とのエッチングの選択性を考慮したとき、酸素を含有するプラズマを用いたエッチングが可能な有機樹脂が望ましい。さらに、分子鎖同士が架橋反応している分子構造を有する有機樹脂を用いると、第 2 ノズル層 2 の耐熱性、耐環境性が高く、ノズルプレート 8 の信頼性を向上することができる。また、吐出層 1 4、第 1 ノズル層 1 には、犠牲層 5のエッチングおよぴ第 2 ノズル穴 1 1 bのェツチングに対して耐性の高い材料を用いることができる。 +

さらに吐出層 1 4には、犠牲層 5のェツチング並びに第 2 ノズル穴 1 1 bのエッチングおよび第 1 ノズル穴 1 1 aのエッチングに対して耐性の高い材料を用いることができる。

ここで、表 4に使用材料（犠 ½層、吐出層、第 1 ノズル層、第 2 ノス、ル層）および加工方法（吐出口、第 1 ノズル穴、第 2 ノズル穴、犠牲層除去）について好ましい組み合わせを示す。

表 4

表 4に示すように、第 1 ノズル層 1 は S i 〇₂ のような S i化合物に限定されず、犠牲層 5のエッチングに濃硝酸を使用することができる場合、表面が不働体化する A 1 のような材料を使用することができる。 A 1 はじ 1 ガスを含有するプラズマを用いたドライエッチングで S i o ₂ に対して高い選択比で加工することができるので、吐出口 1 1 c の加工精度をさらに高めることができる。また、撥液膜 4 としては、フッ素重合体に限定されず、シリコン系の高分子膜、 D L C (ダイヤモンドライクカーボン）などを用いることもできる。

以上の製造工程を用いることによって、

( 1 ) 膜厚の薄い吐出層 1 4を加工して吐出口 1 1 cの形状（開口部

1 1 c i) を形成するため、飛躍的に形状精度の高い吐出口 1 1 c を有するノズルプレート 8を製造することができる。

( 2 ) さらに、ノズルプレート 8の加工工程の最終段階において、第 1 ノズル穴 1 1 a内に回りこんだ撥液膜 4を除去し、加えて、この時に吐出口 1 1 c の形状変化が生じないため、高い形成精度の第 1 ノズル穴 1 1 a を備えたノズルプレート 8 を安定して製造することができる。

( 3 ) ストッパ層（遮蔽層）を形成しないので、プロセスを簡略化することができるとともに、ストツバ層（遮蔽層）に起因する応力を低減することができるので、応力によるノズルプレート 8の反りを制御しやすくなる。

上記構成のノズルプレート 8の製造方法では、高い異方性を有するェツチングで第 1 ノズル穴 1 1 a又は第 2ノズル穴 1 1 b を加工するため. 第 1 ノズル穴 1 1 aまたは第 2 ノズル穴 l i b を高い加工精度で加工することができる。

なお、上記実施の形態におけるノズルプレート 8の製造方法は、吐出口 1 . 1 c、第 1 ノズル穴 1 1 aまたは第 2 ノズル穴 1 1 bの加工をドラィエッチングを用いて行うことを特徴とすることもできる。

また、本発明のノズルプレート 8の製造方法においては、上記吐出層 1 4または第 1 ノズル層 1 を、基板 6 に形成した犠牲層 5上に形成し、 _TO

PCT/JP2004/006226

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第 1 ノズル穴 1 1 aおよび第 2ノズル穴 l i bを加工した後、犠牲層 5 をエッチングすることによって、ノズルプレート 8 と基板 6 とを離間することが望ましい。

このようにすると、高い形状精度が要求される吐出口 1 1 cを備えた吐出層 1 4が、ノズル製造プロセスの最終段階まで、犠牲層' 5 と基板 6 によって保護されているため、プロセス中の取り扱いによって、吐出口 1 1 cが損傷を受けることがない。このため、吐出口 1 1 cが高い形状精度を維持したまま簡便にノズルプレート 8を製造することができるので、安定して高精度の吐出口 1 1 cを有するノズルプレート 8を製造することができ、ノズルプレート 8の製造における歩留まりを向上させることができる。

また、上記実施の形態 3、 4においても、撥液膜 4を形成しない構成を採用することができる。撥液膜 4を吐出層 1 4あるいは第 1 ノズル層 1上に形成しないことによって、吐出口 1 1 cの形状精度がさらに向上する。

尚、発明を実施するための最良の形態の項においてなした具体的な実施態様または実施例は、あくまでも、本発明の技術内容を明らかにするものであって、そのような具体例にのみ限定して狭義に解釈されるべきものではなく、本発明の精神と次に記載する特許請求の範囲内で、いろいろと変更して実施することができるものである。産業上の利用の可能性

本発明は、現像剤を用いて像担持体上に形成された静電潜像を顕像化する電子写真方式の現像装置及び画像形成装置に関するものであり、特 P T/JP2004/006226

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に、進行波電界を用いて像担持体上の現像位置に現像剤を搬送する現像装置及び画像形成装置のような用途に使用可能である。

Claims

求の範囲

1 . 液状物質を吐出する第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層と、第 1 ノズル穴と連通し、上記液状物質の供給を受ける第 2ノズル穴を有する第 2ノズル層との間に、第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高い遮蔽層を介在させたノズルプレートにおいて、

上記遮蔽層は、第 1 ノズル穴および第 2ノズル穴が連通する連通部の周囲に、局所的に形成されていることを特徴と _するノズルプレート.。

2 . 上記遮蔽層は、第 2 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高く、その外形は上記連通部における第 2ノズル穴の外形より大きいことを特徴とする請求の範囲 1に記載のノズルプレート。

3 . 上記第 1 ノズル穴は、上記第 1 ノズル層の貫通部と上記遮蔽層の貫通部とから構成されていることを特徴とする請求の範囲 1または 2に記載のノズルプレート。

4 . 上記第 2 ノズル穴は、第 1 ノズル穴との連通部が狭まったテーパ形状であることを特徴とする請求の範囲 1から 3のいずれか 1項に記載のノズノレプレート。

5 . 上記第 1 ノズル層および第 2ノズル層がともに高分子有機材料で構成され、上記遮蔽層が金属材料、無機酸化物材料、無機窒化物材料のうちの少なくとも 1つから形成されていることを特徴とする請求の範囲 1 から 4のいずれか 1項に記載のノズルプレート。

6 . 上記第 1 ノズル層および第 2 ノズル層がともにポリイミド樹脂で形成され、上記遮蔽層が、 T i 、 A l 、 A u、 P t、 T a、 W、 N b、 S i 〇₂、 A 1 ₂0 ₃、 S i Nから選定される少なくとも 1つの材料を主成分とすることを特徴とする請求の範囲 1から 5のいずれか 1項に記載のノズルプレート。

7 . 第 1 ノズル層と第 2ノズル層の少なくとも一方が S i 、 S i 0 ₂、 S i ₃N ₄のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって形成され、上記遮蔽層が、 A l 、 C u、 A u、 P t、 A 1酸化物、 A 1窒化物のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって形成されていることを特徴とする請求の範囲 1から 6のいずれか 1項に記載のノズルプレート。

8 . 液状物質を吐出する一つ以上の第 1 ノズル穴を有するノズル層と、上記第 1ノズル穴に連通するとともに上記液状物質の供給を受ける第 2 ノズル穴を有し、上記ノズル層に固着される補強板と、ノズル層よりェツチングに対する耐性が高く、少なくとも、第 1 ノズル穴おょぴ第 2ノズル穴の連通部の周囲に形成された遮蔽層とを備えたことを特徴とするノズノレプレート。

9 . 上記遮蔽層は第 2ノズル穴の開口範囲内に形成されていることを特徴とする請求の範囲 8に記載のノズルプレート。

1 0 . 上記第 1 ノズル穴は、上記第 1 ノズル層の貫通部と上記遮蔽層の貫通部とから構成されていることを特徴とする請求の範囲 8または 9に記载のノズルプレート。

1 1 . 上記ノズル層が高分子有機材料によって形成され、上記遮蔽層が金属材料、無機酸化物材料、無機窒化物材料のうちの少なくとも 1つによって形成され、上記補強板が S i 、無機酸化物材料、高分子有機材料のうちの少なくとも 1つによって形成されていることを特徴とする請求の範囲 8から 1 0のいずれか 1項に記載のノズルプレート。

1 2 . 上記ノズル層がポリイミド樹脂で構成され、上記遮蔽層が T i 、 A l 、 A u、 P t、 W、 N b、 S i 0₂、 A l ₂〇3、 S i Nから選定される少なくとも 1つの材料で構成され、補強板が S i 、ガラス、 A 1 ₂0₃ の少なくとも 1つを主成分とするセラミック材料あるいはポリイミド樹脂から構成されていることを特徴とする請求の範囲 8から 1 1のいずれ力 1項に記載のノズルプレート。 .

1 3. 上記ノズル層が S i 、 S i 〇₂、 S i ₃N₄のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって構成され、上記遮蔽層が A 1 、 C u、 A u、 P t、 A 1酸化物、 A 1窒化物のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料で構成され、上記補強板が、 S i 、ガラス、 A 1₂0₃のうちの少なくとも 1つを主成分とするセラミック材料あるいはポリイミド樹脂によつて形成されていることを特徴とする請求の範囲 8から 1 0のいずれか 1項に記載のノズルプレート。

1 4. 液状物質を吐出する第 1 ノズル穴を有するノズルプレートの製造方法であって、

上記第 1 ノズル穴を形成するためのノズル層を形成する工程と、上記第 1 ノズル穴の一部となる開口部を有し、第 1 ノズル穴を形成する際のエッチングマスクとなる遮蔽層を、上記ノズル層上に局所的に形成する工程と、

上記遮蔽層をエッチングマスクとして、上記開口部からノズル層をェツチングし、上記開口部からノズル層を貫通する第 1 ノズル穴を形成する工程とを含むことを特徴とするノズルプレートの製造方法。

1 5. 上記の 3つの工程に続いて、別途形成された第 2 ノズル穴を有する補強板を上記ノズル層に接合する工程を行うことを特徴とする請求の範囲 1 4に記载のノズルプレートの製造方法。

1 6 . 液体を吐出するためのノズル穴を有するノズルプレートの製造方法であって、

第 1 ノズル穴を加工するための第 1 ノズル層を形成する第 1工程と、上記第 1 ノズル穴の一部となる開口部を有し、該第 1 ノズル穴のエツチング時のエッチングマスクとなる遮蔽層を、上記ノズル層上に局所的に形成する第 2工程と、

上記第 1 ノズル層おょぴ遮蔽層の上に、第 2 ノズル穴を加工するための第 2 ノズル層を形成する第 3工程と、

上記第 2 ノズル層をエッチングすることで、該第 2 ノズル層を貫通し、上記遮蔽層に達する第 2 ノズル穴を加工する第 4工程と、

上記遮蔽層をエッチングマスクとして、上記開口部から第 1 ノズル層をエッチングすることで該第 1 ノズル層を貫通する第 1 ノズル穴を加工する第 5工程とを含むことを特徴とするノズルプレートの製造方法。

1 7 . 上記第 4工程と第 5工程とを連続して行うことを特徴とする請求の範囲 1 6 に記載のノズルプレートの製造方法。

1 8 .液状物質を吐出するための第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層と、第 1 ノズル穴に連通し、上記液状物質の供給を受けるための第 2 ノズル穴を有する第 2 ノズル層とを備えたノズルプレートにおいて、開口部を有し、第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性の高い吐出層が、第 1 ノズル層の液状物質吐出側の面に接するように形成されており、上記第 1 ノズル穴は、第 1 ノズル層を貫通して上記開口部に連通していることを特徴とするノズルプレート。

1 9 . 上記吐出層は、第 1 ノズル層内に形成されていることを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 0 . 上記吐出層の主成分が無機材料であることを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 1 . 第 1 ノズル穴における第 1 ノズル層の貫通部を第 1 ノズル穴部としたとき、

上記吐出層の外形は、吐出層と第 1 ノズル層との境界面における第 1 ノズル穴部の外形より大きいことを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 2 . 上記吐出層は開口部の周囲に、局所的に形成されていることを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 3 . 上記第 1 ノズル層と第 2 ノズル層との間に第 1 ノズル層よりエツチングに対する耐性が高い遮蔽層が局所的に介在し、上記第 1 ノズル穴は遮蔽層を貫通して第 2 ノズル穴に連通していることを特徴とする請求 ' の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 4 .上記遮蔽層は、第 2 ノズル層よりェツチングに対する耐性が高く'、上記遮蔽層の外形は、第 1 ノズル穴と第 2 ノズル穴との連通部における第 2 ノズル穴の外形より大きいことを特徴とする請求の範囲 2 3 に記載のノズノレプレート。

2 5 . 上記第 1 ノズル層は第 2 ノズル層よりエツチングに対する耐性が高いことを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 6 . 第 1 ノズル層の貫通部である第 1 ノズル穴部は、上記開口部との連通部が狭まつたテーパ形状であることを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 7 . 上記第 2 ノズル穴は、第 1 ノズル穴との連通部が狭まったテーパ形状であることを特徴とする請求の範囲 1 8に記载のノズルプレート。

2 8. 少なくとも、上記吐出層の液状物質吐出側の面に撥液膜が形成されていることを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

2 9. 液状物質を吐出する第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層と、上記第 1 ノズル穴に連通するとともに上記液状物質の供給を受ける第 2ノズル穴を有し、上記第 1 ノズル層に固着される補強板と、第 1'ノズル層よりェツチングに対する耐性が高く、少なくとも、第 1 ノズル穴および第

2ノズル穴の連通部の周囲に形成された遮蔽層と、開口部を有し、第 1 ノズル層よりェツチングに対する耐性が高く、第 1 ノズル層の液状物質吐出側の面に接するように形成された吐出層とを備え、上記第 1 ノズル穴は第 1 ノズル層を貫通して上記開口部に連通していることを特徴とするノズルプレート。

3 0. 上記吐出層が A 1 、 P t 、 A u、 A l ₂〇3、 A 1 Nのうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって構成され、上記第 1 ノズル層がシリコン化合物から構成され、上記第 2 ノズル層が有機樹脂で構成されていることを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート。

3 1. 上記吐出層がシリコン化合物から構成され、上記第 1 ノズル層が A 1 を主成分とする金属材料で形成され、上記第 2ノズル層が有機樹脂で構成されることを特徴とする請求の範囲 1 8に記載のノズルプレート₍ 3 2. 上記第 1 ノズル層が有機樹脂で形成され、上記吐出層が、

T i 、 A l 、 A u、 P t 、 T a、 W、 N b、 S i 〇2、 A 1 ₂0₃、 S i ₃ N₄、.A 1 Nから選定される少なくとも 1つの材料を主成分とすることを特徴とする請求の範囲 2 3に記載のノズルプレート。

3 3. 上記第 1 ノズル層が S i 、 S i 0₂、 S i ₃N 4のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によって形成され、上記吐出層が、 A 1 、 N i 、 F e、 C o、 C u、 A u、 P t 、 A l酸化物、 A 1窒化物のうちの少なくとも 1つを主成分とする材料によつて形成されていることを特徴とする請求の範囲 2 3に記載のノズルプレート。 .

3 4 . 液状物質を吐出するための、第 1開口部おょぴ第 1 ノズル穴部を有する第 1 ノズル穴と、該第 1 ノズル穴を有する第 1 ノズル層とを備えたノズルプレートの製造方法であって、

上記第 1開口部を有し、第 1 ノズル層よりェツチングに対する耐性が高い吐出層を形成する吐出層形成工程と、

上記第 1開口部を埋めるとともに吐出層を覆うような第 1 ノズル層を形成する第 1 ノズル層形成工程と、

上記第 1開口部の形成位置に対応して、上記第 1ノズル層に上記第 1 ノズル穴部を形成する第 1 ノズル穴部形成工程と、

上記第 1 ノズル穴部から第 1 ノズル層をエッチングし、上記第 1開口部内の第 1 ノズル層を除去する第 1除去工程とを含むことを特徴とするノズルプレートの製造方法。

3 5 . 上記第 1除去工程の後に、

第 1 ノズル層よりエッチングに対する耐性が低い第 2ノズル層を、上記第 1開口部おょぴ第 1 ノズル穴部を埋めるとともに第 1 ノズル層を覆うように形成する第 2 ノズル層形成工程と、

該第 2 ノズル層をエッチングすることで、該第 2 ノズル層を貫通する第 2ノズル穴を加工する第 2ノズル大形成工程と、

を含むことを特徴とする請求の範囲 3 4のノズルプレートの製造方法。 3 6 . 上記第 1 ノズル層形成工程と第 1 ノズル穴部形成工程との間に、第 2開口部を有し、第 1および第 2 ノズル層よりエッチングに対する耐性が高い遮蔽層を、形成された第 1 ノズル層上に、上記第 1開口部に対応して局所的に形成する遮蔽層形成工程と、

上記第 2開口部を埋めるとともに第 1 ノズル層を覆うように第 2 ノズル層を形成し、しかる後に第 2 ノズル層をエッチングすることで、該第

2ノズル層を貫通し、上記遮蔽層に達する第 2 ノ.ズル穴を加工する第 2 ノズル穴形成工程と、

含むこと特徴とする請求の範囲 3 4のノズルプレートの製造方法。

3 7 . 上記第 2ノズル穴形成工程に連続して、上記第 1 ノズル穴部内の第 2 ノズル層を除去する第 2除去工程と、上記第 1開口部内の第 2 ノズル層を除去する第 3除去工程とを行うことを特徴とする請求の範囲 3 5 に記載のノズルプレ'ートの製造方法。 -

3 8 . 上記第 2 ノズル穴形成工程に連続して、上記第 1 ノズル穴部形成工程および第 1除去工程を行うことを特徴とする請求の範囲 3 6 に記載のノズルプレートの製造方法。

3 9 . 上記一連の工程の後に、少なくとも、上記吐出層表面に、上記吐出層よりェツチングに対する耐性の低い撥液膜を形成する工程と、上記第 1 開口部の反対側からエッチングを行い、第 1 ノズル穴内の撥液膜を除去する工程とを含むことを特徴とする請求の範囲 3 4に記载のノズルプレートの製造方法。