WO1995031886A1 - Plaquette a circuit imprime multicouche et sa production, et plaque de transfert et sa production - Google Patents

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WO1995031886A1
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wiring pattern
conductive
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wiring board
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Hiroto Yoshinuma
Kenzaburo Kawai
Shinichi Kobayashi
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Dai Nippon Printing Co., Ltd.
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Definitions

  • Multi-layer printed wiring board and its manufacturing method Description Multi-layer printed wiring board and its manufacturing method, and master for transfer and its manufacturing method
  • the present invention relates to a multilayer printed wiring board and a method for manufacturing the same, and a transfer master used for manufacturing the multilayer printed wiring board and a method for manufacturing the same.
  • the present invention relates to a transfer master plate capable of industrially producing the above-mentioned multilayer printed wiring board and a method for producing the same.
  • the subtractive method and the additive method are mainly used for forming the copper pattern of the printed wiring board.
  • the sub-active method after drilling a hole in a copper-clad laminate, copper plating is performed on the inside and surface of the hole, and photo etching is performed. This is a method of forming a pattern by using a pattern. Although this subtractive method is technically highly complete and inexpensive, the formation of fine patterns is restricted by the thickness of the copper foil and other factors. It is difficult .
  • the additive method forms a resist in a part other than a circuit pattern forming part on a laminate containing a catalyst for electroless plating, thereby exposing the laminate.
  • This is a method in which a circuit pattern is formed on the exposed part by electroless plating or the like.
  • This adaptive method can form a fine pattern, but has difficulties in terms of cost and reliability.
  • a pressure lamination method is used together with a cured pre-predader.
  • the pre-predder serves as an adhesive for each layer, and a connection between the layers is created by forming a through-hole, and an electroless plating or the like is applied to the inside.
  • multilayer boards have been required to be thinner and lighter, and at the same time, to have high wiring capability per unit area,
  • various measures have been taken to reduce the thickness of the substrate, to connect layers, to mount components, and so on.
  • a multi-layer wiring board which satisfies the above-mentioned requirements by sequentially laminating a conductor pattern layer and an insulating layer on a base material. It is.
  • This multilayer wiring board is made by alternately performing photo-etching of the copper plating layer and patterning of the photosensitive resin, so that high-definition wiring is required. The connection between layers at any position is possible.
  • the copper plating and the photo-etching are performed alternately multiple times, which complicates the process, and furthermore, one layer is formed on the substrate. Because of the series processes that can be stacked one after another, if a trouble occurs in the intermediate process, it will be difficult to regenerate the product and hinder the reduction of manufacturing costs. Was.
  • the present invention has been made in view of such circumstances, and has been made of a multilayer printed wiring board having a high-definition pattern and a multilayer printed circuit board having such a multilayer structure.
  • G To provide a transfer master plate and a method for manufacturing the same, which enable industrially advantageous production of wiring boards.
  • a first feature of the present invention is that a substrate for a multi-layer printed wiring board and a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred onto the substrate are provided, and each wiring pattern is provided.
  • the insulating layer has a conductive layer and an insulating resin layer formed below the conductive layer, and the insulating resin layer is a wiring butter of the substrate or the lower layer.
  • This is a multilayer printed wiring board characterized by being fixed to a single layer.
  • a second feature of the present invention is that a substrate for a multilayer printed wiring board and a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred onto the substrate are provided, and each wiring pattern is provided.
  • the conductive layer has a conductive layer and an insulating resin layer formed below the conductive layer, and the insulating resin layer is a wiring pattern of the substrate or the lower layer.
  • a multi-layer printed wiring board that has an additional insulating layer interposed between the wiring pattern layers where the wiring pattern layers overlap each other. is there .
  • a third feature of the present invention is that a substrate for a multilayer printed wiring board and a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred onto the substrate are provided, and each wiring pattern is provided.
  • the conductive layer has a conductive layer and an adhesive layer formed below the conductive layer, and the wiring pattern layer crosses or overlaps with each other in a multilayer.
  • This is a multi-layer printed wiring board characterized in that an insulating resin layer is provided between the upper and lower wiring patterns between the upper and lower eyebrows.
  • a fourth feature of the present invention is that a substrate for a multilayer printed wiring board and a plurality of wiring butter layers sequentially transferred onto the substrate are provided.
  • Each wiring pattern layer has a conductive layer and is located at a portion where the wiring pattern layers cross each other or overlap with each other in multiple layers.
  • This is a multilayer printed wiring board characterized in that an insulating resin layer is provided between upper and lower wiring butter layers.
  • a fifth feature of the present invention is that a substrate for a printed wiring board and a wiring pattern layer formed on the substrate are provided, and one of the wiring pattern layers is provided.
  • the part is a printed wiring board characterized by being configured by arranging a plurality of wires having a small line width in parallel.
  • a sixth feature of the present invention is that a wiring having a conductive layer and a sticky or adhesive insulating resin layer laminated on the conductive layer on a conductive substrate.
  • Forming a plurality of transfer masters by providing a pattern layer, and pressing the transfer master on one surface of a substrate for a multilayer printed wiring board, and peeling the conductive substrate.
  • a step of transferring the wiring pattern layer whereby the step of transferring the wiring pattern layer is sequentially repeated for a plurality of transfer masters.
  • a seventh feature of the present invention is a wiring having, on a conductive substrate, a conductive layer and an adhesive or adhesive insulating resin layer laminated on the conductive layer.
  • Forming a plurality of transfer masters by providing a pattern layer, and pressing the transfer master on one surface of a substrate for a multilayer printed wiring board; And a step of transferring the wiring pattern layer by peeling off the wiring pattern layer.
  • the wiring pattern of the lower layer must be prepared in advance.
  • An additional insulating layer is formed at a portion of the wiring pattern layers where the wiring pattern layers will overlap with each other, and the step of transferring the wiring pattern layer is performed on a plurality of transfer masters.
  • a method of manufacturing a multilayer printed wiring board characterized by repeating the above steps in order to laminate a plurality of the wiring pattern layers on the substrate.
  • An eighth feature of the present invention is that a wiring pattern layer having a conductive layer and an adhesive layer laminated on the conductive layer is provided on a conductive substrate and transferred.
  • the ninth feature of the present invention is that a process of forming a plurality of transfer masters by providing a wiring pattern layer made of a conductive layer on a conductive substrate, On one side of the board for wiring board A step of forming an adhesive-insulating photosensitive resin layer, and pressing the transfer master onto the adhesive-insulating photosensitive resin layer to peel off the conductive substrate, thereby transferring the wiring pattern layer; And a step of exposing and developing the adhesive insulating photosensitive resin layer using the transferred wiring pattern layer as a mask,
  • the step of transferring the wiring pattern layer and the step of exposing and developing the adhesive and insulative photosensitive resin layer are sequentially repeated to form a plurality of the plurality of the above-mentioned substrates on the substrate for the multilayer printed wiring board.
  • This is a method for manufacturing a multilayer printed wiring board characterized by laminating wiring pattern layers.
  • a tenth feature of the present invention is that a wiring butter layer having a conductive layer and an adhesive layer laminated on the conductive layer is provided on a conductive substrate.
  • Process is sequentially repeated to arrange a large number of wiring pattern layers in a multi-layer printed circuit.
  • Multi-layer This is a method for manufacturing a printed
  • the first feature of the present invention is a process of forming a plurality of transfer masters by forming a wiring pattern layer made of a conductive layer on a conductive substrate, and forming a multilayer prepress.
  • An adhesive insulating photosensitive resin layer is formed on one surface of a substrate for a printed wiring board, and a transfer master is pressed onto the adhesive insulating photosensitive resin layer to peel off the conductive substrate.
  • a step of transferring the wiring pattern layer By repeating the step of transferring the wiring pattern layer sequentially, a large number of pattern layers are printed.
  • the step of exposing and developing the above-mentioned adhesive insulated photosensitive resin layer using the transferred wiring pattern layer as a mask is further performed. This is a method for manufacturing a multilayer printed wiring board characterized by having the above features.
  • a 12th feature of the present invention resides in a step of forming a conductive film on one surface of a substrate for a printed wiring board and a predetermined wiring pattern on the conductive film. Forming a patterning layer, and exposing the conductive film by a wiring pattern in which a plurality of wirings having a small line width are arranged in parallel with each other; Forming a conductive layer on the conductive film by electrodeposition, removing the patterning layer, and etching the exposed conductive layer.
  • This is a method for manufacturing a printed wiring board, characterized by comprising a step of removing by a ring.
  • a first feature of the present invention is a wiring pattern in which a plurality of wirings having a small line width are arranged in parallel on a conductive substrate.
  • a conductive layer is formed by electrodeposition, and an adhesive layer is formed on the conductive layer by electrodeposition, thereby forming a wiring pattern composed of a laminate of the conductive layer and the adhesive layer.
  • a step of transferring the wiring pattern layer A method of manufacturing a printed wiring board characterized by comprising a step of transferring the wiring pattern layer.
  • a fourteenth feature of the present invention is that a conductive substrate having at least a conductive surface and an insulating masking layer of a desired pattern formed on the conductive substrate are provided. And a conductive master formed on the conductive substrate and between the insulating masking layers, which is a transfer master.
  • the fifteenth feature of the present invention is that at least a conductive substrate having a conductive surface and a conductive surface of the conductive substrate having a small line width are provided on the conductive substrate.
  • An insulating masking layer formed so as to be exposed at a desired wiring pattern such as a set of wirings; and an insulating masking layer formed on the conductive substrate.
  • the sixteenth feature of the present invention is that a step of forming an insulating masking layer with a desired pattern on a conductive substrate having at least a conductive surface, and exposing the substrate.
  • Forming a conductive layer on the surface of the conductive substrate by an electrodeposition method the method comprising the steps of: BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
  • FIG. 1 is a schematic sectional view of a multilayer printed wiring board according to a first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a drawing for explaining a method of manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the transfer master plate of the present invention used in the method of manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the transfer master plate of the present invention used in the manufacturing method.
  • FIG. 5 is a drawing for explaining the manufacturing method of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 6 is a schematic sectional view showing another embodiment of the transfer master according to the present invention.
  • FIG. 7 is a view for explaining a method of manufacturing the transfer master shown in FIG.
  • FIG. 8 is a schematic sectional view showing another embodiment of the transfer master according to the present invention.
  • FIG. 9 is a diagram for explaining a method of manufacturing the transfer master shown in FIG.
  • FIG. 10 is a schematic sectional view showing another embodiment of the transfer master of the present invention.
  • FIG. 11 is a view for explaining a method of manufacturing the transfer master shown in FIG. 10.
  • FIG. 12 shows the wiring pattern of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 3 is a perspective view showing an intersection of layers.
  • FIG. 13 is a perspective view showing a portion near a wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 14 is a drawing for explaining a method of connecting the wiring pattern layers of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 15 is a perspective view showing a connection state at the intersection of the wiring pattern layers of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 16 is a perspective view showing a connection state at the intersection of the wiring pattern layers of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 17 is a perspective view showing a connection state at the intersection of the wiring pattern layers of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 18 is a perspective view showing a connection state in the vicinity of the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 19 is a perspective view showing a connection state in the vicinity of the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 20 is a perspective view showing a connection state in the vicinity of the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 21 is a perspective view showing a connection state in the vicinity of the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 22 is a perspective view showing a connection state in the vicinity of the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 23A is a perspective view showing a connection state near a wiring butter layer of the multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram showing a state where a connecting body used to connect adjacent parts is formed.
  • FIG. 24 is a perspective view showing a state in which connections near the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board of the present invention are sequentially formed.
  • FIG. 25 is a perspective view showing a state in which connections near the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board of the present invention are sequentially formed.
  • FIG. 26 is a schematic sectional view of a multilayer printed wiring board according to a second embodiment of the present invention.
  • FIG. 27 is a drawing for explaining the method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 28 is a perspective view showing a state where an insulating layer is formed on the wiring pattern layer.
  • FIG. 29 is a drawing for explaining the method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 30 is a drawing for explaining a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 31 is a drawing for explaining a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 32 is a drawing for explaining the method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 33 is a drawing for explaining the method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 34 is a schematic sectional view of a multilayer printed wiring board according to a third embodiment of the present invention.
  • FIG. 35 is a drawing for explaining the method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 36 is a drawing for explaining the method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 37 is a schematic sectional view showing another example of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 38 is a drawing for explaining an example of a transfer master used in another example of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 39 is a view for explaining another example of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 40 is a drawing for explaining another example of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 41 is a drawing for explaining another example of the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 42 is a perspective view showing an intersection of a wiring pattern layer in an example of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 43 is a perspective view showing an intersection of a wiring pattern layer in another example of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 44 is a perspective view showing the vicinity of the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 45 shows a printed wiring board according to a fourth embodiment of the present invention. It is a partial plan view of 4 0
  • FIG. 46 is a partially enlarged longitudinal sectional view of the printed wiring board shown in FIG. 45 taken along line A-A and line B-B.
  • FIG. 47 is a diagram showing an embodiment of a wide wiring of the printed wiring board of the present invention.
  • Fig. 48 is a diagram showing an aspect of the wide wiring of the printed wiring board of the present invention.
  • Fig. 49 shows a mode of wiring with a large line width of the printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 50 is a diagram showing an embodiment of a wide wiring of a printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 51 is a view corresponding to FIG. 46 showing another example of the printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 52 is a drawing for explaining the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 53 is a view for explaining the method of manufacturing the transfer master plate of the present invention and the method of manufacturing the printed wiring board of the present invention.
  • FIG. 54 is a diagram illustrating the print method of the present invention.
  • FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing another example of the wiring board.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a multilayer printed wiring board according to the present invention. It is a sectional view.
  • a multilayer printed wiring board 1 is provided on a substrate 2 for a multilayer printed wiring board and a substrate 2 for a multilayer printed wiring board.
  • a third-layer wiring pattern layer 5 laminated on the ground layer 4 is provided to form a multi-layer printed wiring board having a three-layer structure.
  • Each of the wiring pattern layers 3, 4, and 5 constituting the multi-layer printed wiring board 1 has a conductive layer 3a, 4a, 5a and a conductive layer, respectively. It has insulating resin layers 3b and 4b5b formed below the layer.
  • the multi-layer printed wiring board 1 is formed by connecting the wiring pattern layers 3, 4, and 5 to a wiring pattern on or below the substrate 2 for the multi-layer printed wiring board. It is an overprinting type structure in which the wiring pattern layers are sequentially transferred and laminated on the wiring layers, and the portions where the wiring pattern layers intersect each other (intersections) are between the upper and lower wiring pattern layers. This insulation is maintained by the insulating resin layer that constitutes the upper wiring pattern layer.
  • the multilayer printed wiring board 1 of the present invention does not have a wiring pattern covered with an insulating layer as seen in a conventional multilayer printed wiring board.
  • the conductive layers 3a, 4a, and 5a of the wiring pattern layers 3, 4, and 5 are always partially exposed, and as described later, the wiring pattern is formed. It is possible to easily connect each wiring pattern layer at the intersection of the wiring layers or at the part where each wiring pattern layer is close to each other (proximal part).
  • the substrate 2 for the multilayer printed wiring board constituting the multilayer printed wiring board 1 of the present invention is a glass epoxy board, a polyimide board, an aluminum board.
  • Known substrates can be used as substrates for multi-layer printed wiring boards, such as ceramic substrates and composite substrates of glass epoxy and polyimide. it can .
  • the thickness of the substrate 2 is preferably in the range of 5 to 1000 m.
  • each wiring pattern layer 3, 4, 5 is set to 1 so that the lower wiring pattern layer in the lamination transfer described later can be crossed over without any defect. 0 m or less, preferably in the range of 10 to 60 // m.
  • the thickness of the conductive layers 3a, 4a, and 5a constituting the wiring pattern layers 3, 4, and 5 suppresses the electrical resistance of the wiring pattern layers to a low level. At least 1, preferably in the range of 5 to 40 / m.
  • the thickness of the insulating resin layers 3b, 4b, and 5b depends on the insulating resin used, but maintains insulation between the upper and lower wiring pattern layers at the intersection. For this purpose it should be at least 1; wm or more, preferably in the range 5 to 30 / m.
  • the line width of the wiring pattern layers 3, 4, and 5 can be arbitrarily set to a minimum width of about 10 / m.
  • the material of the conductive layers 3a, 4a, and 5a is not particularly limited as long as a thin film can be formed by an electrodeposition method as described later.
  • copper is used.
  • Silver, gold, nickel, chromium, zinc, tin, white gold, etc. can be used.
  • the material of the insulating resin layers 3b, 4b, and 5b may be an electrodepositable insulating material that exhibits adhesiveness at room temperature or by heating.
  • anionic or cationic synthetic high molecular resin having adhesiveness can be cited.
  • anionic synthetic polymer resin an acrylic resin, a polyester resin, a maleated oil resin, a polybutadiene resin, and an epoxy resin.
  • the above-described anionic synthetic polymer resin may be used in combination with a crosslinkable resin such as a melamine resin, a phenol resin, or a urethane resin.
  • Polyimide resin or the like can be used alone or as a mixture of any combination of these.
  • the cationic synthetic polymer resin described above may be used in combination with a crosslinkable resin such as a polyester resin or a urethane resin.
  • a tackifying resin such as a mouth resin, a terpene resin, or a petroleum resin may be added as necessary to impart tackiness to the polymer resin. It is possible.
  • the above polymer resin is used in the production method of the present invention described later. It is neutralized by an alkaline or acidic substance and solubilized in water, or is subjected to electrodeposition in a water-dispersed state. That is, the anionic synthetic high-molecular resin includes trimethylamine, methylamine, dimethylethanolamine, diisoamine, and the like. Neutralize with amines such as ropanolamine and inorganic alkalis such as ammonia and caustic. In addition, cationic synthetic polymer resins are neutralized with acids such as acetic acid, formic acid, propionic acid, and lactic acid. Then, the high molecular resin that has been neutralized and solubilized in water is used in a state of being diluted with water as a water-dispersed type or a dissolved type.
  • the above-mentioned polymer resin may be used in the form of a block isocyanate or the like.
  • a known thermosetting resin having a thermopolymerizable unsaturated bond is added, and all the layers of the multilayer printed wiring board are transferred and formed, and then all the insulating resin layers are cured by heat treatment. You may let me do it.
  • a resin having a polymerizable unsaturated bond for example, an acryl group, a vinyl group, or an aryl group
  • the insulating resin layer include thermosetting resins, as well as thermoplastic resins, as long as they exhibit tackiness by room temperature or heating. Loses tackiness after curing 9
  • Adhesive resin may be used. In order to increase the strength of the coating film, it may contain an organic or inorganic filler, and the material of the insulating resin layers 3b, 4b, 5b may be used. It may be an electrodepositable adhesive that shows fluidity at room temperature or when heated.
  • a photoresist is applied to a conductive substrate 11 as a transfer substrate by applying a photoresist to the photoresist.
  • the layer 12 is formed (FIG. 2 (A)).
  • the photo-resist layer 12 is contact-exposed and developed using a predetermined photo-mask to form an insulating masking layer 12 ', and the conductive substrate 11 Then, expose the wiring pattern part 11a (Fig. 2 (B :)).
  • a conductive layer 14 is formed by a plating method on the wiring pattern portion 11a of the conductive substrate 11 (FIG. 2 (C :)).
  • a sticky or adhesive insulating resin layer 15 is formed on the conductive layer 14 by a coating method (FIG. 2 (D) :).
  • a transfer pattern for a wiring pattern layer having a first wiring pattern layer 13 having a conductive layer 14 and an insulating resin layer 15 is provided.
  • the original version 10 is obtained.
  • an insulating masking layer 32 ′ and a conductive layer 24 ′ are formed on the conductive substrates 21, 31. , 34, and a wiring pattern having insulating resin layers 25, 35 Transfer master 20 for the second wiring pattern layer with the turn layers 23, 33, and transfer master 3 for hiring the third wiring pattern. Make 0.
  • the transfer master 10 shown in FIG. 2 (E) may be used instead of the transfer master 10 shown in FIG. 2 (D). That is, as shown in FIG. 2 (E), a peelable resin layer 12a is provided on the surface of the conductive substrate 11 and the insulating masking layer 12 '. ing .
  • the releasable resin layer 12a can be formed of a silicone resin, a polyimide resin, a Teflon resin, or the like, and is particularly capable of separating from an adhesive. In consideration of the moldability, silicone resin is preferably used. Thermosetting silicone resin, ultraviolet curing silicone resin, and electron beam curing silicone can be used as the silicone resin. Okay.
  • the thickness of such a peelable resin layer is preferably about 0.05 to 0.1 l / m. If the thickness of the releasable resin layer 12a is too strong, and if it is less than 0.05 / m, the peeling resin layer 12a may be broken by an external force, and the insulating mask may be formed. Insufficient protection of layer 12 '. If the thickness of the peelable resin layer 12a exceeds 0., the electrodeposited substance will not be formed in the concave portion or the shape of the concave portion will change, which is not preferable. No. Examples of the method for forming the peelable resin layer 12a include a method in which the composition is applied by a pouring method and then cured, a spin coat, a roll coat, and the like. It is terrible.
  • the transfer master 10 for the line pattern layer is pressure-bonded so that the insulating resin layer 15 comes into contact with the substrate 2.
  • This crimping may be performed by any method such as roller crimping, plate crimping, and vacuum crimping.
  • the insulating resin layer is made of an insulating resin that exhibits tackiness or adhesiveness by heating, heat bonding can be performed.
  • the conductive substrate 11 is peeled off, and the wiring pattern layer 13 is transferred onto the substrate 2 to have the conductive layer 3a and the insulating resin layer 3b.
  • the first wiring pattern layer 3 is formed on the substrate 2 (FIG.
  • the multilayer wiring pattern 3 on which the first wiring pattern layer 3 is transferred is formed.
  • the transfer master 20 for the second wiring pattern layer on the substrate 2 for the printed wiring board aligning it with the first wiring pattern layer.
  • the wiring pattern layer is similarly transferred to form a second wiring pattern layer 4 having the conductive layer 4a and the insulating resin layer 4b.
  • a third-layer wiring pattern is formed on the substrate 2 on which the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 are transferred and formed.
  • the transfer layer master 30 for the turn layer the alignment is performed in the same manner to transfer the wiring pattern layer, and the transfer layer having the conductive layer 5a and the insulating resin layer 5b is provided.
  • the multilayer printed wiring board 1 has a structure of a so-called overprinting type in which each wiring layer, the 0 -turn layers 3, 4, and 5 are formed. It is.
  • the transfer masters 10, 20, 30 for the wiring pattern layer are made of conductive substrates 11, 21, 31, and a photo resist.
  • Colored insulating masking layer is made of conductive substrates 11, 21, 31, and a photo resist.
  • the transfer master 10 for the first wiring pattern layer has the insulating resin layer 15. It does not matter if no is formed. In this case, if an insulating pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer is previously provided on the substrate 2 for the multilayer printed wiring board, the wiring pattern of the first layer can be obtained. The layer can be transferred onto the substrate 2.
  • FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an intaglio evening transfer master, which is one embodiment of the transfer master according to the present invention.
  • a transfer master 1 OA is formed by etching a conductive substrate 11 having at least a conductive surface, and etching the conductive substrate 11.
  • a concave portion 18 and an insulating masking layer 16 made of an insulating material provided in the concave portion 18 are provided.
  • the insulating mask layer 16 is formed such that its surface protrudes from the surface of the conductive substrate 11 by a predetermined height. Adjacent The intaglio portion surrounded by the insulating masking layer 16 forms the conductive layer forming portion 19.
  • the concave portion 18 has a bowl shape having a wide upper surface due to a side etching effect at the time of etching
  • the conductive layer forming portion 19 has the same shape.
  • the surface of the conductive substrate 11 is exposed in the center of the bottom surface, and the peripheral portion is formed of the insulating masking layer 16.
  • the conductive layer exposed portion at the center of the bottom surface serves as a starting electrode to form a conductive layer 14 in the conductive layer forming portion 19, and on the conductive layer 14.
  • a sticky or adhesive insulating resin layer 15 is formed.
  • FIG. 7 is an explanatory diagram of a method of manufacturing the intaglio type transfer master shown in FIG.
  • a photo resist layer is first formed on a conductive substrate 11 by a known method, and a photo mask having a predetermined angle and a turn pattern is formed.
  • the photoresist layer is irradiated with ultraviolet rays through the substrate, and is exposed and removed (developed) to form an etching masking layer 17 having a predetermined pattern.
  • the etching masking layer 17 is used as an etching mask, and the portion of the conductive substrate 11 where the masking layer is not formed is etched.
  • a recess 18 is formed by performing the etching.
  • the masking layer 17 for the etching enters the substrate portion at the lower portion of the edge, and the side etching portion is formed.
  • the upper surface area of the recess 18 including the side-etching portion is formed to be larger than the area of the masking layer non-formed portion, and the recess 18 is formed.
  • the bowl is shaped (Fig. 7 (B)).
  • the insulating masking layer 16 is formed by electrodepositing a conductive material (FIG. 7 (C)).
  • the surface of the insulating masking layer 16 is formed at substantially the same height as the surface of the etching masking layer 17.
  • the etching masking layer 17 is removed, and the conductive surface of the conductive substrate 11 is exposed to form an intaglio-shaped conductive layer forming portion 19. (Fig. 7 (D)).
  • the adhesive or adhesive is formed on the conductive layer 14 by electrodeposition.
  • the insulating resin layer 15 is formed to obtain a transfer master 10A of the present invention (FIG. 7 (E)).
  • the conductive layer 14 grows isotropically in the horizontal and vertical directions with the central portion of the concave conductive layer forming portion 19 as a starting electrode. Therefore, the conductive layer 14 is formed with a substantially flat surface. In addition, the conductive layer 14 is in contact with the conductive substrate 11 only at a part of the bottom, and the adhesiveness to the conductive substrate 11 is reduced by that much. As a result, the conductive layer 14 can be easily removed at the time of transfer, and the insulating masking layer 16 is not affected by the contact peeling force. Further, since the conductive layer 14 is formed in the conductive layer forming portion 19 after the etching masking layer 17 is removed, the final wiring pattern is formed.
  • the area of the mask is the area of the etching masking layer 17 which is the initial etching resist pattern. If the masking layer 17 for etching is formed in a predetermined fine pattern, the area becomes the same as that of the pattern. Since the conductive layer 14 can be formed through this pattern, it is possible to obtain a wiring pattern with high dimensional accuracy that does not require dimensional adjustment. it can .
  • FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a lithographic type electroplated transfer master which is another embodiment of the transfer master according to the present invention.
  • the transfer master 10 B has a conductive substrate 11 having at least a conductive surface, and the conductive substrate 11 has a large upper surface area due to the etching. It has a concave portion 18 formed in a bowl shape and an insulating masking layer 16 made of an insulating material provided in the concave portion 18.
  • the surface of the insulating masking layer 16 is formed at substantially the same height as the surface of the conductive substrate 11.
  • the exposed portion of the conductive surface surrounded by the adjacent insulating masking layer 16 forms the conductive layer forming portion 19.
  • the concave portion 18 has a bowl shape with a wide upper surface due to the side-etching effect at the time of etching
  • the conductive layer forming portion 19 has the same shape.
  • the center of the bottom surface of the is the exposed part of the conductive surface, and the edge is the insulating masking layer 16.
  • the narrowed exposed portion of the conductive surface at the center of the bottom surface serves as a starting electrode to deposit electrodeposits, and the conductive layer 14 is horizontally placed on the conductive layer forming portion 19. It is also formed isotropically in the vertical direction.
  • an insulating resin layer 15 that is more sticky or adhesive than that of the conductive layer 14 is formed by electrodeposition.
  • FIG. 9 is an explanatory view of a method for producing the lithographic type transfer master 10B shown in FIG.
  • a photo resist layer is formed on the conductive substrate 11, and an ultraviolet ray is applied to the photo resist layer through a photo mask of a predetermined pattern.
  • a masking layer 17 for etching of a predetermined pattern is formed by exposing and removing (developing) (FIG. 9 (A)).
  • the etching masking layer 17 is used as an etching mask, and the portion of the conductive substrate 11 where the masking layer is not formed is etched.
  • the recesses 18 are formed by etching, but as in the case of FIG.
  • the upper surface area of the recess 18 including the side-etching portion is formed to be larger than the area of the masking layer non-forming portion.
  • the recess 18 has a bowl shape (FIG. 9B).
  • an insulating masking layer 16 is formed by electrodepositing an insulating material into the recess 18 thus formed in a bowl shape as shown in FIG. 9 (C)), in the original plate of the lithographic type, the insulating masking layer 16 is formed at substantially the same height as the surface of the conductive substrate 11.
  • the etching masking layer 17 is removed, and the conductive surface of the conductive substrate 11 is exposed to form a conductive layer forming portion 19 (FIG. 9 (D )).
  • the conductive layer 14 is adhered or adhered on the conductive layer 14 by electrodeposition.
  • An insulating resin layer 15 is formed to be a transfer master 10B of the present invention (FIG. 9 (E)).
  • the conductive layer forming portion 19 The exposed portion of the conductive surface is narrowed by the wide portion of the insulating masking layer 16 due to the side etching portion, and the narrowed conductive surface is formed.
  • the electrodeposited material grows horizontally and vertically isotropically on the substrate, so that the conductive layer 14 has a substantially uniform surface. Formed.
  • the conductive layer 14 is only in contact with the conductive substrate 11 at a part of the bottom, and the adhesiveness with the conductive substrate 11 is reduced by that much. As a result, the conductive layer 14 is easily peeled at the time of transfer, and the insulating masking layer 16 is not affected by the contact peeling force.
  • the insulating resin layer 15 and the conductive layer 14 are pressed and adhered to the substrate 2 preferentially and selectively at the time of transfer. Does not receive the contact peeling force, and the insulating masking layer 16 is not deformed or damaged.
  • FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a letterpress type transfer master, which is another embodiment of the transfer master according to the present invention.
  • the transfer master 10 C has at least a conductive substrate 11 having a conductive surface, a concave portion 18 formed on the conductive substrate 11, An insulating masking layer 16 made of an insulating material provided in the concave portion 18 is provided.
  • the insulating masking layer 16 is formed so that its surface is lower than the surface of the conductive substrate 11 by a predetermined height.
  • the exposed portion of the conductive surface of the conductive substrate 11 surrounded by the adjacent insulating masking layer 16 forms the conductive layer forming portion 19, and this conductive layer A conductive layer 14 is formed on the forming portion 19, and a sticky or adhesive insulating resin layer 15 is formed on the conductive layer 14.
  • FIG. 11 is an explanatory diagram of a method of manufacturing the master 10 C for transfer of the relief type shown in FIG. 10.
  • a photo resist layer is first formed on a conductive substrate 11 by a known method, and a photo mask having a predetermined pattern is formed.
  • the photo resist layer is exposed and removed (developed) to form an etching masking layer 17 having a predetermined pattern.
  • the etching masking layer 17 is used as an etching mask to etch the portion of the conductive substrate 11 where the masking layer is not formed.
  • a concave portion 18 which is faithful to the mask pattern is formed (FIG. 11 (B)).
  • an insulating masking layer 16 is formed by electrodepositing an insulating material in the thus formed recess 18 (FIG. 11 ( C))).
  • the surface of the insulating masking layer 16 is formed so as to be lower than the surface of the etching masking layer 17.
  • the etching masking layer 17 is removed, and the conductive surface of the conductive substrate 11 is exposed to form a conductive layer forming portion 19 (FIG. 1). 1 (D)).
  • the adhesive or adhesive is formed on the conductive layer 14 by electrodeposition.
  • the insulating resin layer 15 is formed to obtain a transfer master 10C of the present invention (FIG. 11 (E)).
  • the surface of the insulating masking layer 16 is formed so as to be lower than the conductive substrate 11.
  • the insulating masking layer 16 does not come into contact with the substrate 2 for the multilayer printed wiring board. Therefore, the insulating masking layer 16 can be prevented from being deformed or damaged without being affected by the contact peeling force.
  • the conductive layer 14 is formed on the conductive layer forming portion 19 after the etching masking layer 17 is removed, the final wiring pattern is formed.
  • the area of the mask is the same as the pattern of the masking layer 17 for etching, which is the initial etching resist pattern. If the masking layer 17 is formed in a predetermined fine pattern, the conductive layer 14 can be formed through this pattern. As a result, a wiring pattern can be obtained with high dimensional accuracy that does not require dimensional adjustment.
  • the conductive substrates 11 and 2131 need only have at least a surface having conductivity.
  • Conductive metal plates such as mini, copper, nickel, iron, stainless steel, titanium, etc., or glass plates, polyesters, polica -Use a resin film such as a resin film such as polycarbonate, polyimide, polyethylene, or acrylic with a conductive thin film formed on the surface of an insulating substrate.
  • the surface of the conductive substrate must be It is also possible to form a thin film such as a film (Cr) or ceramic force Nizen (Ni + P + SiC manufactured by Kanigen).
  • the thickness of this thin film is preferably about 0.1 to 1.0 zm.
  • the etching masking layer 17 may be formed, for example, by ion plating, vacuum deposition, sputtering, chemical vapor deposition, or the like. Ri by the chemical vapor deposition (CVD) of various thin-film forming processes including such, sheet re mosquitoes on the substrate (S i 0 2) thin film, chi Tsu Lee spoon Shi Li co down (S i N chi) thin film, 9 6% a A thin film with high electrical insulation such as a lumina thin film, a belly thin film, a forsterate thin film, etc. is formed, and then a photoresist is applied on the thin film. It can be formed by exposing and developing an etching resist through a mask having a predetermined shape.
  • a masking layer may be formed by applying a photoresist on the conductive substrate 11 without forming a thin film.
  • the photoresist used to form the etching masking layer 17 is gelatin, casein, polyvinyl alcohol, or the like. Examples thereof include those obtained by adding a photosensitizer such as bichromate to alcohol or the like.
  • the thickness of the etching masking layer 17 thus formed is preferably about 0.5 to 10.0 m.
  • the etching of the conductive substrate 11 using the etching masking layer 17 as an etching mask is performed by etching. It can be performed by a known and customary means such as a jet-etching such as a pump, a spray, and a dry-etching.
  • a jet-etching such as a pump, a spray, and a dry-etching.
  • the conductive substrate is a SUS plate, it is contacted (immersed, etc.) with a ferric chloride solution, and when the conductive substrate is a Ti plate, HF — H 2 0 2 - Tsu by the and child H Ru is brought into contact with the 2 0 solution or the like, Ru is suitably carried out.
  • the surface of the concave portion is improved by immersing it in HF—NH 4 F solution, HF solution, or the like for several tens of seconds.
  • the surface may be roughened. By doing so, it is possible to further improve the fixing property of the insulating material electrodeposited in the concave portion 18 into the concave portion. .
  • the insulating masking layer 16 is an electrodeposition material made of an insulating material.
  • the electrodeposition material of the insulation pattern is generally made of an organic material (polymer material), and its original form is well known as an electrodeposition coating method.
  • electrodeposition coating there are two types of electrodeposition, cation electrodeposition and anion electrodeposition, due to the electrochemical reaction with the main electrode. This is categorized according to whether the electrodeposited material exists as a strong cation or acts as an anion.
  • Organic macromolecules used for electrodeposition include natural oils and fats, synthetic oils and fats, alkyd resins, polyester resins, acrylic resins, and the like.
  • maleated oil and polybutadiene resin have been known for a long time, and the curing of the electrodeposited substance depends on an oxidation polymerization reaction.
  • the cation type has a large amount of epoxy resin and can be used alone or modified. Other than that, there are so-called resin-based and acrylic-based resins. Polyamino resin is widely used, and a stronger insulating layer can be formed by heat curing or light curing.
  • fluorine-introduced resin or a dispersion of fluorine-containing polymer particles in the above resin are preferable to use.
  • fluorine-based resins include an electrodeposition resin dispersed with ethylene tetrafluoride, and a fluorine-bonded electrodeposition resin to the main chain or side chain of the polyacryl. Is particularly preferably used.
  • tetrafluoroethylene-dispersed electrodeposition resin fluorine-acrylic resin (PAFC) and the like are exemplified.
  • fluorine-bonded electrodeposition resin to the acryl main chain examples include fluorofluorene-vinyl ether copolymers containing fluorine in the main chain. It is terrible. In order to increase the strength of the coating film, it is recommended to co-deposit a thermosetting melamine resin and heat-treat it.
  • FIG. 12 is a perspective view showing an intersection of a wiring pattern layer 3 and a wiring pattern layer 4 constituting the multilayer printed wiring board 1.
  • the conductive layer of each wiring pattern layer is always partially exposed, and at the intersection, the wiring pattern is formed.
  • the insulation between the wiring layer 3 and the wiring pattern layer 4 is maintained by the insulating resin layer 4b constituting the wiring pattern layer 4 which is the upper layer.
  • the wiring pattern crossing, or each wiring pattern as shown in Figure 13 Wiring patterns in the part where the wiring layers are close to each other (the proximity part, in the example shown, wiring pattern layer 3 and wiring pattern layer 4 are close to each other) This makes it easy to connect layers.
  • Connections at the intersections or adjacent parts of the wiring pattern layers as described above include (1) the lift-off method, (2) the printing method, and (3) Dispense method, (4) Ultra fine particle spray method, (5) Laser drawing method, (6) Selective electroless plating method
  • FIG. 14 is a diagram for explaining an example of a method of connecting the intersections of the multilayer printed wiring board 1 by the lift-off method of the above (1).
  • the wiring pattern layer 4 on which the through hole pattern 41, which penetrates in advance at the position where the intersection is formed is transferred onto the wiring pattern layer 3
  • a multilayer printed wiring board 1 is formed, and the photo resist is placed on the multilayer printed wiring board 1.
  • a photoresist layer (Not shown) to form a photoresist layer.
  • the photo-resist layer is contact-exposed and developed using a predetermined photo-mask, and the through-hole 41 around the intersection is developed.
  • the resist layer 42 is formed so that the conductive layer 4a is slightly exposed (FIG. 14 (A)).
  • an electroless plating catalyst is applied onto the multilayer printed wiring board 1 to form a catalyst layer 43 (FIG. 14 (B)).
  • a conductive material is deposited on the catalyst layer 43 by electroless plating to form a conductive layer 44, and the conductive layer 44 is used as an electrode to form a plating method.
  • a conductive film 45 is formed (FIG. 14 (C)).
  • FIG. 15 shows the conductive layer 3 a of the wiring pattern layer 3 and the conductive layer of the wiring pattern layer 4 thus interconnected by the joint 46.
  • FIG. 4 is a perspective view showing the state of FIG.
  • connection at the intersections or near portions of the wiring pattern layers of the multilayer printed wiring board 1 by the printing method (2) above is performed by printing on each wiring pattern layer.
  • a conductive paste or solder so as to extend over the conductive layers 3a and 4a constituting the layers 3 and 4 to form a joint. It is what you do.
  • the printing method used is not particularly limited, screen printing, which is generally suitable for thick film printing and is widely used in the electronics industry, is preferred. No. Before performing screen printing, create a screen printing plate with openings at the parts corresponding to the connections between the wirings, and position them on the multilayer wiring board in advance. It is only necessary to print the conductive paste ink such as silver paste.
  • connection at the intersection or adjacent part of the wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board 1 by the dispensing method of (3) is performed by the printing method described above. Similar to the above, but a conductive ink is ejected from a fine nozzle to form a joint between the conductive layers 3a and 4a of the wiring pattern layers 3 and 4. This is done by drawing directly. Specifically, a dispenser having a needle-shaped ejection port that is generally used to apply a small amount of adhesive or the like to a required portion can be used. . Also, depending on the viscosity of the conductive ink used, the ink jet method used for output devices such as computers can also be used. It is.
  • the ultrafine particle spraying method (4) the ultrafine particles are transported by being placed in a high-speed airflow, and the fine particles are placed close to the multilayer printed wiring board 1 to form a multilayer nozzle.
  • the gas deposition method a method called the gas deposition method.
  • the equipment used in this method basically consists of two vacuum chambers, high vacuum and low vacuum, and a connection pipe connecting each vacuum chamber.
  • the ultrafine particles are formed by a vacuum evaporation method in a low-vacuum chamber into which argon gas is introduced, and the substrate is placed in a high-vacuum chamber. ing .
  • connection pipes are located in the vicinity of the generation of ultrafine particles in the low vacuum chamber and in the vicinity of the multilayer printed wiring board 1 in the high vacuum chamber.
  • Each vacuum tank having an opening in the direction orthogonal to the wiring board is maintained at a constant pressure by the vacuum exhaust system. Therefore, a high-speed air flow (gas flow) from the low vacuum chamber to the high vacuum chamber is generated in the connection pipe due to the pressure difference between the vacuum chambers.
  • the ultra-fine particles generated in this step are carried by this air flow and transported to the high vacuum tank side, where they collide with the wiring pattern layers 3 and 4 of the multilayer printed wiring board 1 and become mutually Sinters to form a film.
  • the conductive layers 3a and 4a of the wiring pattern layers 3 and 4 can be formed.
  • a conductor (junction) can be selectively formed at a place where connection is required.
  • a solution in which conductive fine particles are dispersed is applied to a multilayer printed wiring board, and a desired portion of the coating film is formed by a laser.
  • the resin binder is decomposed or evaporated to remove the resin binder, and the conductive fine particles are precipitated and coagulated at the heated portion to selectively.
  • a conductor is formed on the substrate.
  • the solution use a solution obtained by dispersing conductive fine particles such as gold or silver in a polyester resin or an acrylic resin, and squeeze the argon laser.
  • the selective electroless plating method in (6) above uses a selective electroless plating technique generally known as a photoforming method. I can do it. This technology is reducible,
  • a photosensitive agent layer containing an oxidized metal serving as a catalyst for the electroless plating is formed on a multilayer printed wiring board, and the photosensitive agent layer is selectively exposed to light. By doing so, the metal particles serving as a catalyst are deposited on the electroless plating, and then immersed in the electroless plating solution to expose the exposed portion. Only a selective make-up is applied to the product.
  • the selective vapor deposition method (7) uses a selective film deposition technique, which is one of the thin film forming techniques. That is, an organic metal gas containing a conductive element such as metal or carbon, or a vapor of an organic substance containing a conductive element is introduced into the vacuum chamber, and the vacuum chamber is installed in the vacuum chamber. The above-mentioned gas or vapor is adsorbed on the surface of the multilayer printed wiring board 1 and then the laser or ion beam is collected or collected. It converges and irradiates the substrate, and the gas or vapor adsorbed on that part is decomposed by heat or collision energy, and the conductive material such as metal and carbon is decomposed. The conductive material is deposited on the multilayer printed wiring board 1.
  • Such a selective vapor deposition method has been put to practical use as an LSI wiring correction technique.
  • the collected argon laser decomposes organic metal gas containing chromium, cobalt, white gold, tungsten, etc.
  • the technology for depositing carbon films can be used.
  • the welding method of the above (8) is based on the wiring pattern layer.
  • the intersection of 3 and 4 is selectively heated by a laser, and the insulating resin layer 4b (between the conductive layers 3a and 4a of the upper and lower wiring pattern layers 3 and 4 is formed.
  • the insulating resin layer 4b constituting the upper layer, and further heating the conductive layers 3 a and 4 a themselves to a high temperature, each wiring pattern is formed.
  • the conductive layers 3a and 4a forming the cleaning layer are fused to each other to form a connection portion and to connect them.
  • the wiring pattern layers 3 and 4 are not electrically connected as shown in FIG. In the vicinity (which can also be dealt with at the intersection), wire bonding is performed using a wire bonding device.
  • the conductive layers 3 a and 4 a are connected by a wire bridge 150.
  • the one-shot method using the wire-bonding device of (10) above is, for example, a wiring pattern layer as shown in FIG. 21.
  • the non-conducting parts 3 and 4 (which can be dealt with in the same way even at the intersection) are connected to the wire bonding device using A short (one time) bonding is performed, and the conductive layers 3a and 4a are bonded to each other with no bridging. This is a connection method based on 5.5.
  • the multilayer printed wiring board 1 before the connection operation is immersed in a palladium plating solution.
  • Laser with a predetermined spot diameter and adjusted power at the irradiated surface for example, argon laser
  • an adjacent portion or a crossing portion to be electrically connected is irradiated for a predetermined time, and the irradiated portion is, for example, deposited with a Pd film to a predetermined thickness and connected. It is preferable to irradiate the laser with a force that does not circulate the palladium plating solution.
  • the plating solution is removed by washing with water, and the electrically conductive layers 3a and 4a are separated by the plating film 1557, which is completely precipitated as shown in FIG. A connection is made.
  • the batch transfer method of the laminate of the conductor and the solder paste in the above (12) is generally performed as shown in FIGS. 23A and 23B.
  • a laminated body 140 of a conductive layer 141 and a solder plating layer 142 is prepared in the following manner. That is, on a conductive substrate 1449, a transfer substrate developed by using a resist method to form a desired pattern (conductive pattern) is formed. For example, an electrolytic plating is applied to form a conductor layer 141, and a predetermined solder plating bath composition is used to form the conductor plating on the conductor layer. Then, a Haneda metal layer 144 is formed.
  • the Haneda plating layer 142 can be similarly formed by screen printing and dipping of the Haneda paste. is there .
  • the stacked body 140 stacked in this manner is connected to a non-conductive portion (intersection) of the wiring pattern layers 3 and 4 as shown in FIG. 23A.
  • the thermal treatment can be performed at the same time, and the conductive layers 3a and 4a are connected.
  • the thermal transfer temperature is a temperature at which the solder plating layer 142 can melt and deform. It is performed in a temperature range of about 300 ° C.
  • the metal lump insertion method of (U) is applied to the wiring gap in the non-conducting adjacent portion of the wiring pattern layers 3 and 4 as shown in FIG.
  • a metal ball 71 having a diameter of about 30 to 100 m is placed, pressed, and then pressure-sensitive from above as shown in FIG. 24 (B).
  • the use of a metal ball is more preferable, but it is possible to use a metal ball that is not spherical and is a so-called metal piece (lump). .
  • such metal balls (lumps) are used in the printing method and the dispensing method in order to further improve the reliability of the connection part. You can also do it. That is, after the metal ball is installed, the printing or dispensing is performed.
  • the electroless plating method (14) will be described based on FIGS. 25 (A) to 25 (F).
  • the electroless plating catalyst is applied to the entire surface of the multilayer printed wiring board having the wiring pattern layers 3 and 4 as shown in FIG. 25 (A). This is applied to form a catalyst layer 81 (FIG. 25 (B)).
  • a photo resist is applied on this to form a photo resist, and then, using a predetermined photo mask, a resist layer 8 is formed. Close exposure and development of 3 and 83 are performed to expose the portion H corresponding to the position where the wiring pattern should be connected (Fig. 25 (C)). After that, after exposing the exposed portion H, an electroless plating is performed to perform connection.
  • connection portion 85 is formed to connect the conductive layers 3a and 4a (FIG. 25 (D)). After that, the remaining unnecessary resist and the catalyst layer are sequentially removed to leave only the connection portion 8.5 (catalyst layer 81a) (FIG. 25 (E)).
  • the conductive layer 3a of the wiring pattern layer 3 and the conductive layer 4a of the wiring pattern layer 4 may be connected to each other by forming a bonding portion 51 partially.
  • a junction 52 may be formed so as to cover the intersection of the wiring pattern layer 3 and the wiring pattern layer 4 as shown in FIG.
  • the junction part 61 is formed so as to straddle a part of the proximity part, and the wiring path is formed.
  • the conductive layer 3a of the turn layer 3 and the conductive layer 4a of the wiring pattern layer 4 may be connected, or as shown in FIG.
  • a junction 62 may be formed so as to cover an adjacent portion between the wiring pattern layer 3 and the wiring pattern layer 4.
  • the multilayer printed wiring board of the present invention uses the connection method as described in (2) to (1) above, so that it can be restrained at the place where the through-hole is formed. Since the connection between each wiring pattern layer can be made at any point without having to do so, the degree of freedom in changing the circuit design after manufacturing a multilayer printed wiring board is limited to the conventional degree. This is larger than multi-layer printed wiring boards.
  • the multilayer printed wiring board 1 has a three-layer structure.
  • the method of manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention provides a desired number of wiring pattern layers by repeating the same stack transfer. The resulting multi-layer printed wiring board can be manufactured.
  • the multilayer printed wiring board of the present invention is obtained by impregnating the above-described multi-layer printed wiring board 1 having a three-layer structure with a glass cloth impregnated with epoxy resin. It is possible to achieve a multi-layer structure by pressing and laminating together with the semi-cured pre-preda in a cured state.
  • the multilayer printed wiring board of the present invention having a two-layer structure is a problem of the conventional double-sided printed wiring board, that is, the problem of forming holes in the double-sided printed wiring board. It can solve the problem of high density that arises from the precision of drilling. This is because, as described above, in the multilayer printed wiring board of the present invention, the conductive layer of each wiring pattern layer is always partially exposed, It is easy to connect the wiring pattern layers at the intersections of the wiring pattern layers or at the adjacent parts without forming a rule hole. This is because it can be done.
  • Liquid B 100 parts by weight of a mixture of 7 parts by weight of acrylonitrile, 5 parts by weight of acrylonitrile and 2 parts by weight of acrylic acid, 0.5 parts by weight of sulfuric acid ester soda and 0.2 parts by weight of persulfuric acid soda were added to the mixture while passing through nitrogen gas in ion-exchanged water. After reacting for 5 hours, add 12 equivalents of added acrylic acid to xylylenediamine to obtain anion-type electrodeposition with a nonvolatile content of 19%. Liquid B was prepared
  • a reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube is equipped with a bis [4- ⁇ 4- (aminophenol) phenol] tank.
  • 30.835 g (0.05 mol) of norephon and 236.5 g of N, N-dimethyl acetoacetamide were added, and pyromellitic diacid was added.
  • 10.9 g (0.05 mol) of the anhydride was added at room temperature under a nitrogen atmosphere while paying attention to the rise in solution temperature, and the mixture was stirred for about 20 hours to obtain polyamic acid.
  • a 0.2 mm thick stainless steel plate with a polished surface is prepared as a conductive substrate, and a commercially available photolithography photoresist is placed on this stainless steel plate.
  • Store PMER manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • P-AR900 to a thickness of 20 // m and dried, and then adhere to each using three types of photomasks on which wiring patterns are formed. After exposure, development, washing, and drying were performed, followed by thermosetting to produce transfer masters (three types) with an insulating layer.
  • the transfer master was connected to the anode of the DC power supply, the platinum electrode was connected to the cathode, and electrodeposition was performed for 1 minute at a voltage of 50 V. Drying and heat treatment for 30 minutes to form an adhesive insulating resin layer A with a thickness of 15 on the conductive layer, and transfer master Al for three types of wiring pattern layers , A 2, and A 3.
  • a photo resist (OFPR-800, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied on the multilayer printed wiring board, and the photo resist layer is formed. (Thickness: 1.0; um), contact exposure is performed using a photomask for forming the connection portion, and then development, washing, and drying are performed. The ball was exposed.
  • the pattern of the resist layer 42 having an opening at the intersection is the same as that of the upper wiring pattern layer 4. It is desirable that the diameter of the through-hole is slightly larger than the diameter of the through-hole, and as a result, as shown in FIG.
  • the electroless plating layer (junction 46) formed inside has a shape that is partially raised above the surface of the upper wiring pattern layer 4, and the upper wiring pattern layer is formed. The connection between the lower wiring pattern layer 4 and the lower wiring pattern layer 3 can be made more reliable.
  • the multi-layer printed wiring board is connected to an electroless plating catalyst (a template activator manufactured by Meltex Co., Ltd. 444 and a template).
  • an electroless plating catalyst a template activator manufactured by Meltex Co., Ltd. 444 and a template.
  • the catalyst layer is formed by immersing the multilayer printed wiring board in an electroless plating solution (Moletech Co., Ltd.) CU — 3900) for 20 minutes It was immersed, washed and dried to form a conductive layer.
  • copper plating is performed on this conductive layer in the same manner as in (4) of Experimental Example 1 to form a conductive film, and then the resist layer is peeled off and lifted. By turning off, a junction was formed in the through hole, and continuity between the wiring butter layers was confirmed.
  • the multilayer printed wiring board manufactured in ( ⁇ ) of Experimental Example 1 was applied to an automatic coating device (XYD) manufactured by Iinuma Gage Mfg. Co., Ltd.
  • the conductive paste ink (Shirube manufactured by Tokuka Chemical Laboratory) A small amount of the test piece P — 225) was sprayed onto the intersection, and after drying, continuity between the wiring pattern layers was confirmed.
  • a fine particle dispersion solution having the following composition was applied to the multi-layer printed wiring board prepared in (10) of Experimental Example 1 by the spin coating method and dried to form a coating film. Formed. (Composition of fine particle dispersion solution)
  • the spot diameter is 100 m and the power on the irradiated surface is 1
  • the through hole is not formed at the intersection of each wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board.
  • the cross section was irradiated for about 3 ms to evaporate and remove the polyester resin in the coating film to form a gold thin film on the cross section.
  • the multilayer printed wiring board prepared in (10) of No. 1 was immersed, and then dried to form a photosensitive layer.
  • the multilayer printed wiring board prepared in (10) of the experimental example, the evaporation source for pyrene, and the ion source for gallium were installed.
  • the chamber was evacuated to 3 X 10 " 6 T 0 rr.
  • the gallium ion source was positioned so that the ion beam was perpendicular to the wiring board. did .
  • the evaporation source is heated to about 70 ° C. to evaporate the pyrene, and the gallium ion beam is formed on each wiring pattern layer of the multilayer printed wiring board. Irradiation is performed at the intersection where no through-hole is formed, under the following conditions, to deposit a carbon film. Was performed. As a result, a carbon film having a thickness of 3 // m can be formed on the intersections, and the conduction between the wiring pattern layers can be confirmed.
  • the multilayer printed wiring board manufactured in (9) of Experimental Example 1 and the emission of the argon laser were used.
  • the laser beam spot diameter was adjusted to 80 ⁇ m and the power on the irradiated surface was adjusted to 1 W.
  • the ano-regon laser is placed at the intersection where no horn is formed. Irradiate for about 5 ms to evaporate and remove the insulating resin layer between the upper wiring pattern layer and the lower wiring pattern layer at the intersection, and to connect the conductive layers of each wiring pattern layer to each other. The fusion was performed, and continuity between the wiring pattern layers was confirmed.
  • the multilayer printed wiring board prepared in (10) of Experimental Example 1 was immersed in a palladium plating solution having the following composition.
  • a laminate of a conductor layer and a solder plating layer is prepared in the following manner, and is prepared, that is, a resist is formed on a conductive substrate by using a resist method.
  • a conductive layer is formed on the transfer substrate having the conductive pattern formed thereon in the following manner, and the following bath composition is used on the conductive layer.
  • Solder plating was performed to form a solder plating layer.
  • similar layers can be obtained by screen printing and dipping of solder paste in addition to the solder plating.
  • immersed in a platinum electrode to the anode of a DC power supply to their respective contact above the transfer substrate to the cathode, subjected to energization of 2 min at a flow density of 3 a / dm 2, a conductive path Turn-down (conductive A copper plating film was formed on the exposed surface to form a conductor layer (2.0 ⁇ m thick).
  • Haneda plating layer In forming the Haneda plating layer, a current was applied for 3 minutes at room temperature and a current density of 3 AZ dm 2 , and a 5.0 ⁇ m thick layer was formed on the conductor layer of the copper plating film. A Haneda plating layer was formed.
  • wiring gaps between adjacent parts that are not conductive are used.
  • a metal ball (lumps) made of Au having a diameter of 50 zm was placed on the surface, and a sheet coated with a pressure-sensitive adhesive was pressed on the metal ball to form a connection part. After that, continuity between each wiring pattern wired in this way was confirmed.o
  • An electroless plating catalyst was applied to the entire surface of the multilayer printed wiring board fabricated in (10) of Experimental Example 1 to form a catalyst layer.
  • a resist layer is adhered and exposed, developed using a predetermined photomask, and a wiring pattern is formed. The part corresponding to the position where the turn should be connected has been exposed.
  • electroless copper plating was performed to form a connection portion. After that, the remaining unnecessary resist and the catalyst layer were sequentially removed, and continuity was confirmed between the wired wiring paths.
  • composition and operating conditions of the electroless plating catalyst, the activation (reduction), and the electroless plating are as follows. It was as below.
  • transfer masters Dl, D2, and D3 (corresponding to Fig. 7) Prepare a SUS430 substrate (0.15 mm thick) as a conductive substrate whose surface is close enough to a mirror surface. Then, the substrate is cleaned with an Al-Grease degreasing solution, neutralized with 10% hydrochloric acid at 25 ° C, washed and dried in running pure water, and dried. Etsu A 20 cp OFPR (Position type register manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) was used as the register for the spinning, and the spin coat method (rotational speed: 1200 rpm) was used. Coating at 0 sec. Using three types of photomasks on which wiring patterns are formed, perform exposure processing and development processing, respectively, to obtain a predetermined pattern. Conductive substrates (three types) having the etching masking layer (thickness: 2.0 m) were formed.
  • the surface of the conductive substrate is coated with an iron chloride-based etching solution (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd .; An intaglio structure was formed by forming a recess about 2 m deep in an iron solution.
  • the entire surface of the substrate is covered with a tetrafluoroethylene dispersion type electrodeposition resin.
  • the conductive substrate is baked in a circulating oven for 110 or 30 minutes, and then only the etching masking layer is at room temperature. Dissolve and remove by immersion in acetate for 0 seconds, remove the masking layer for etching, and clean at 180 ° C for 30 minutes. Then, a master for transfer having an intaglio structure with a step of 2 m was produced.
  • the s US substrate of the transfer master prepared in this manner was washed with 10% hydrochloric acid at room temperature, and then the transfer master and the platinum electrode having the following composition were opposed to each other.
  • the growth process of the copper plating film is etched.
  • the exposed portion of the SUS substrate which is reduced by a total of 4 // m on both sides due to the side-etching part generated by the grinding process, is used as the starting electrode. It grew isotropically in the horizontal and vertical directions in the recess with a step of 2 m.
  • the transfer masters D 1, D 2, and D 3 are pressed in this order on a 50-m-thick polyimide film substrate under the following conditions to insulate the conductive layer from the conductive layer.
  • Three types of wiring pattern layers consisting of resin layer C were transferred onto a physolem substrate to produce a multilayer printed wiring board.
  • the same multi-layer printed wiring board was produced 70 times by using the above-mentioned transfer master, but it was repeated 70 times. Also, no damage of the insulating layer is observed at all, and the transfer master of the present invention has excellent durability, and it is possible to produce a high-precision multi-layer printed wiring board. This was confirmed.
  • transfer masters El, E2, and E3 (corresponding to Fig. 9) Prepare a SUS430 substrate (0.25 mm thick) as a conductive substrate whose surface is sufficiently close to a mirror surface. Then, the surface of the substrate is cleaned with an Al-Grease degreasing solution, neutralized with 10% hydrochloric acid at 25 ° C, washed and dried in running pure water, and dried. 20 cp OFPR (Tokyo Ohka Chemical Co., Ltd.) (Polish type resist manufactured by Co., Ltd.) is applied by spin coating method (rotation speed: 1500 rpm) for 40 sec, and the wiring pattern is formed. Using three types of photomasks, each of them is subjected to an exposure process and a development process, and a predetermined pattern of an etching masking layer (film thickness: 1. Conductive substrates (3 types) with 2 ⁇ m) were formed.
  • the surface of the conductive substrate is coated with an iron chloride-based etching solution (Junsei Chemical Co., Ltd .; An intaglio structure was formed by forming a recess with a depth of about 4 zm in the iron solution).
  • the entire surface of the substrate is covered with ethylene tetrafluoride dispersed electrodeposition resin.
  • Electrode Nislon (made by Shimizu Corporation) is electrodeposited at 25 m AZ dm 2 and then electrodeposited at a constant voltage of 20 V for about 3 minutes. Then, an insulating masking layer was formed by growing an electrodeposition film in the recess formed by the etching until the surface became flush with the surface of the conductive substrate.
  • the conductive substrate is baked in a circulating oven at 110 ° C for 30 minutes, and then only the etching masking layer is formed. Was dissolved in acetone at room temperature for 30 seconds to dissolve and remove it.After the masking layer for etching was removed, it was further cleaned at 180 ° C for 30 minutes. They were baked in an oven to produce a lithographic transfer master.
  • the growth process of the copper plating film is as follows.
  • the exposed portion of the conductive surface of the SUS substrate which has been reduced by a total of 4 m on both sides by the side-etching portion generated by the etching process, is used as the output electrode.
  • Conductive layers were formed on the substrate that were 2 // m wider on each of the left and right sides than the surface width of the exposed portion of the conductive surface. Also, the copper plating film grew isotropically in the horizontal and vertical directions.
  • the transfer masters El, E2, and E3 for the three types of wiring pattern layers prepared in (1) above are deposited in this order in thickness.
  • the three types of wiring pattern layers consisting of the conductive layer and the insulating resin layer C are pressed onto a 50 m polymid film substrate under the following conditions to form a film. This was transferred to a substrate to produce a multilayer printed wiring board.
  • a substrate (0.4 mm thick) made of titanium (Ti) is prepared as a conductive substrate, and a spin coating method (150 rpm, 4 rpm) is applied to the surface. (0 sec) by applying a photo resist (Tokyo Ohka Co., Ltd .; 0 FPR 800) to form three types of photo-resistors in which wiring patterns are formed. Use a mask Then, each of them is subjected to an exposure process and a development process to form a conductive substrate (3 Om) having a predetermined pattern of a masking layer for etching. Species).
  • a photo resist Tokyo Ohka Co., Ltd .; 0 FPR 800
  • H 2 (remainder) was immersed in the liquid for 2 minutes, and the exposed part of Ti was etched (etching depth 2 m) to form a concave part. That you Ru improve Ri by adhesion to substrate materials eye to HF - a recessed surface was roughened with NH 4 solution (3 0 seconds) o
  • the masking layer for etching was used as a mask for electrodeposition, and the tetrafluorocarbon titanium dispersed electrodeposition resin (manufactured by Shimizu Corporation) was placed in the recess.
  • the record noise) to 25 mA
  • electrodeposition was performed at a constant voltage of 20 V for about 60 seconds, so that the center was approximately centered as shown in Fig. 11 (C).
  • the insulating masking layer was formed by growing the electrodeposition film so that it was concave and the surface was lower than the surface of the Ti substrate.
  • the transfer masters F 1, F 2, and F 3 for the three types of wiring pattern layers prepared in (1) above are stacked in this order.
  • the three types of wiring pattern layers consisting of a conductive layer and an insulating resin layer C are pressed on a 50 m polymid film substrate under the following conditions to form a film. This was transferred to a substrate to produce a multilayer printed wiring board.
  • the same multi-layer printed wiring board was repeatedly manufactured 100 times using the above-mentioned master for transfer, but the continuous transfer was repeated 100 times.
  • the transfer master of the present invention has excellent durability and enables the production of high-precision multi-layer printed wiring boards. was confirmed.
  • the conductive pattern or the wiring pattern layer composed of the conductive layer and the insulating resin layer provided on the transfer master is multiplied.
  • a wiring printed layer having a conductive layer on the upper side and an insulating resin layer on the lower side is used as a multilayer printed wiring board. It can be laminated in multiple layers on a substrate.
  • This multi-layer lamination is a parallel-series prototyping in which a plurality of transfer masters having a predetermined wiring pattern layer are formed in parallel, and the transfer masters are sequentially transferred using these transfer masters.
  • a multilayer printed wiring board has a wiring pattern formed by an insulating layer as seen in a conventional multilayer printed wiring board. Since the conductive layer constituting each wiring pattern layer is always partially exposed, there is no covering of the wiring pattern layer, and there is no intersection of each wiring pattern layer. The wiring pattern layers can be easily connected to each other at a position where the wiring pattern layers are close to each other, and a multi-layer preform having extremely high versatility. This makes it possible to use printed wiring boards.
  • a substrate made of a conductive metal having at least a surface capable of being thermally oxidized or nitrided is used. You can do it.
  • a metal plate which can be thermally oxidized such as stainless steel (SUS), Ti, Ta, etc .
  • a metal plate which can be nitrided, such as Ti, Si or a conductive substrate. Examples thereof include a thin film of the above-mentioned thermally oxidizable or nitridable metal formed on the surface. The thickness of the above metal thin film is preferably about 1 to 2 / m.
  • the surface of the substrate 11 has a certain mirror surface so that the metal layer can be easily peeled off from the substrate in the transfer of the metal layer to a workpiece to be described later.
  • Heat The surface of the substrate 11 made of a conductive metal that can be oxidized or nitrided is subjected to thermal oxidation or nitridation.
  • a thin film made of an oxide or a nitride is formed. In this case, the thickness of the thin film is preferably about 0.1 to 0.5 m.
  • a photo resist layer is formed on the thin film with a predetermined pattern. Thereafter, the thin film is etched using the photo resist layer as a mask, and the conductive metal surface of the substrate 11 is exposed, and the photo resist layer is exposed.
  • a transfer master 10 having an insulating masking layer made of an oxide or a nitride on the surface of the conductive substrate 11 is provided. Is obtained. Since this insulating masking layer is insulative, the plating does not grow on the insulating masking layer in a later process.
  • a substrate having at least a surface made of an anodizable metal can be used as the substrate 11 used for the transfer master 10.
  • an anodizable metal plate such as Al, Ta, Ti or the like, or a thin film of the above-described anodically oxidizable metal formed on the surface of a conductive substrate, etc.
  • the surface of the substrate is subjected to a certain degree of mirror surface treatment so that the metal layer can be easily peeled off from the substrate in the transfer of the metal layer to a workpiece to be described later.
  • a photo-resist layer is formed in a predetermined pattern on the substrate 11 which is preferably provided.
  • the substrate 11 is used as an anode, the white metal plate is used as a cathode, and the substrate 11 is anodized.
  • Anodization of the substrate 11 An anodic oxide film is formed on the portion where the photoresist layer is not formed. This anodic oxide film is a film having an electrical insulating property.
  • the photo resist layer is removed to expose the conductive portion of the substrate 11.
  • an insulating masking layer made of an anodized film can be obtained.
  • the substrate 11 used for the transfer master 10 should have at least a surface force and a metal plate made of Ti — A1 or a conductive substrate with a Ti (1)
  • a thin film of A1 can be mentioned.
  • the surface of the substrate 11 has a certain extent to facilitate the peeling of the plating layer from the substrate 11 in the transfer of the plating layer to a workpiece to be described later. It is preferable that the mirror finish is applied.
  • a photo-resist layer is formed with a predetermined pattern on a substrate 11 made of a Ti-1A1 plate.
  • the substrate 11 is etched to form a concave portion.
  • the substrate 11 is used as an anode
  • the white metal plate is used as a cathode
  • the substrate 11 is subjected to anodic oxidation in an anodic oxidizing solution.
  • a Ti-A1 anodic oxide film is formed on the formation portion.
  • This Ti—A 1 anodic oxide film is a film having an electrical insulating property, and thereafter, the photo resist layer is removed to expose the conductive portion of the substrate 11.
  • Ruko As a result, an insulating masking layer made of a Ti-A1 anodic oxide film can be obtained.
  • a resist film is formed on the stainless steel substrate 11, and a desired fine pattern is formed.
  • the resist film is exposed and developed through a photomask having a resist pattern, and is insulated by a resist on the stainless steel substrate 11.
  • the conditions of the heat treatment applied to the stainless steel substrate 11 can be such that the heating temperature is in the range of about 150 to 300 ° C. and the heating time is in the range of 1 to 3 hours. If the heating temperature and the heating time do not fall within the above ranges, the residual stress due to the rolling direction existing on the stainless steel substrate 11 or the tension at the time of winding the lonelette is obtained.
  • the stainless steel substrate 11 to which the present invention is applied is not particularly limited, and has been used as a substrate of a master for forming a fine pattern. Can be listed. Specifically, SUS304, SUS301, SUS430,
  • Stainless steel such as SUS405, SUS403, SUS410, etc. You can raise the less substrate.
  • cleaning of the stainless steel substrate 11 can be performed by using known cleaning means such as organic solvent cleaning, electrolytic degreasing in an alkaline solution, and water cleaning.
  • the resist used in the present invention may be a well-known organic resist, for example, gelatin, casein, glue, egg white anolebate.
  • Natural tanno such as minced oil, carbohydrate, carboxymethyl cellulose, polyvinylinole alcohol, polyacrylic acid, polyacrylic acid Clinoleamide, Polyvinylpyrrolidone, Polyethylene oxide, Maleic anhydride copolymer, and carboxy of the above resins
  • a diazo group having a diazo group may be used in combination with one or a mixture of two or more of a modified acid or a modified sulfonate.
  • Diazo resin which is a reaction product of a dimethyl compound and paraformaldehyde, an azide compound having an azide group, Photo-curing of condensed gay cinnamate resin in which vinyl alcohol is condensed with gay cinnamate, resin using styrene benzoyl salt, heavy chromate, etc.
  • a compound having photosensitive group By adding a compound having a photosensitive group, a compound having photosensitivity can be given.
  • the photosensitive group is not limited to the above-mentioned photocurable photosensitive group.
  • the insulating masking layer of the master for transfer 10 is made of ceramic. It is possible to use a hot precursor polymer, a curable resin, or the like. Specifically, cerazane polymer and silane compound S i (0R) n are used as ceramic precursor polymers.
  • thermosetting resin examples include a melamine resin, a urea resin, a polyimide, an epoxy resin, a novolac resin, and the like. Wear .
  • Epoxy resins and the like can be given as examples of the ultraviolet curing resin.
  • an epoxy resin or the like can be cited as an electron beam-curable resin.
  • the curing treatment of the insulating film can be performed by heating, ultraviolet irradiation, and electron beam irradiation, respectively. .
  • Et al is, that Ki de S i 0 2, S i N ⁇ formed in vacuum as an insulating Ma scan key in g layer, and this that formed by Ri form an inorganic thin film such as T a 0 5 is .
  • an inorganic thin film as described above is used as the insulating masking layer, an insulating film made of the inorganic thin film is formed on the entire surface of the substrate 11 and then lifted off. At the stage where the insulating film on the photoresist layer has been removed and the conductive portion of the substrate 11 has been exposed, it is not necessary to cure the insulating film remaining in the concave portion.
  • the transfer master 10 is composed of a substrate 11 having at least a conductive surface, a closed-metal processed surface formed on the substrate 11 with a predetermined pattern, and And an insulating masking layer formed on the chromatized surface.
  • the substrate 11 is a conductive material.
  • the substrate 11 only needs to be capable of forming a concave portion by an etching process or the like.
  • This is a substrate made of conductive metal such as stainless steel, titanium, nickel, and the like.
  • the thickness of such a substrate 11 is preferably about 0.2 to 2 mm.
  • the surface of the substrate 11 has a certain size so that the plating layer can be easily peeled off from the substrate 11 in the transfer of the plating layer to a workpiece to be described later. It is preferable that the mirror surface has been applied.
  • a photo resist layer is formed on the substrate 11 with a predetermined pattern.
  • the substrate 11 is subjected to a chromate treatment to form a chromate treated surface at the exposed portion of the substrate 11.
  • a coating solution of an insulating substance is applied to the entire surface of the substrate 11 to form an insulating film, and the photo resist layer is removed.
  • the conductive film on the substrate 11 is exposed by removing the insulating film on the photo resist layer.
  • the insulating film remains on the substrate 11 only on the chromatized surface, and the remaining insulating film is cured as necessary. By doing so, an insulating masking layer can be obtained.
  • FIG. 26 shows a multilayer printed wiring board according to the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing one example.
  • the multilayer printed wiring board 1 is mounted on a substrate 2 for a multilayer printed wiring board and a substrate 2 for a multilayer printed wiring board.
  • This is a multilayer printed wiring board having a three-layer structure including a third wiring pattern layer 5 laminated on the layer 4.
  • the wiring pattern layer 3 of the first layer and the wiring of the second layer stacked on the wiring pattern layer 3 are formed.
  • an additional insulating layer 161 is interposed.
  • the additional insulating layer 163 is interposed at the position where the above-mentioned is.
  • the additional insulating layer 163 covers a part of the strip-shaped second wiring pattern layer 4, but FIG. 26 is shown in a cross-sectional view. Therefore, the image is difficult to grasp, and the specific configuration can be easily understood by referring to the perspective view of FIG. 28.
  • the wiring pattern layer 3 of the first layer and the wiring pattern layer 3 of the third layer In the case where the wire pattern layer 5 and the wire pattern layer 5 overlap with each other, this can be naturally assumed. In this case, an additional insulating layer 161 is interposed in a portion where the wire pattern layer 5 overlaps with the wire pattern layer 5. .
  • the wiring pattern layers 3, 4, 5 constituting the multilayer printed wiring board 1 are respectively composed of conductive layers 3 a, 4 a, 5 a and a lower part of the conductive layers. And insulating resin layers 3b and 4b5b formed on the substrate. Then, the multilayer printed wiring board 1 sequentially transfers and laminates the respective wiring pattern layers 3, 4, and 5 on the substrate 2 or on the lower wiring pattern layer. This is an overprinting type structure, and the additional insulating layers 161 and 163 described above are interposed at the places where the wiring pattern layers overlap each other. Insulation between the upper and lower wiring pattern layers is ensured.
  • the insulation between the upper and lower wiring pattern layers can be made even by the insulating resin layers 3b, 4b, and 5b constituting the upper wiring pattern layer.
  • the reliability of the multi-layer printed wiring board 1 is separately provided by interposing new additional insulating layers 16 1 and 16 3 separately. Is being improved.
  • the additional insulating layers 161 and 163 are positively interposed at the places where the wiring butter layers overlap each other. In other places, the conductive layers 3a, 4a, and 5a of the wiring pattern layers 3, 4, and 5 are always partially exposed.
  • the wiring pattern layers are located near the intersections of the wiring pattern layers or when the wiring pattern layers It is possible to connect each wiring pattern layer in a part (proximal part) close to each other.
  • the additional insulating layers 16 1 and 16 3 interposed at the portions where the wiring butter layers overlap each other are formed as shown in FIGS. 26 and 28. It is desirable that the wiring pattern layer be formed so as to completely cover the entire top and side surfaces of the wiring pattern layer at the overlapping portion. This is to ensure complete insulation. The material and formation method of such an insulating layer will be described later.
  • the transfer master 10 (see FIG. 2) for the wiring pattern layer is placed on the substrate 2 for the multilayer printed wiring board.
  • the insulating resin layer 15 is attached to the substrate 2. Crimp so that it abuts. This crimping may be performed by any method such as roller crimping, plate crimping, and vacuum crimping. In the case where the insulating resin layer is made of an insulating resin that exhibits tackiness or adhesiveness by heating, thermocompression bonding can be performed.
  • the conductive substrate 11 is peeled off and the wiring pattern layer 13 is transferred onto the substrate 2 so that the wiring pattern layer 13 has the conductive layer 3a and the insulating resin layer 3b.
  • a first wiring pattern layer 3 is formed on a substrate 2 for a multilayer printed wiring board (FIG. 27 (A)).
  • the wiring pattern layer 3 of the first layer thus formed is An additional insulating layer is formed at a portion where the second wiring pattern layer 4 and the third wiring pattern layer 5 to be laminated in the next step are to overlap. It is.
  • the portion that is expected to overlap is a portion that inevitably causes an overlap if the wiring pattern layer to be laminated in the next process is transferred.
  • the wiring pattern of the second layer is different from the wiring pattern layer 3 of the first layer. It is assumed that only the wiring layer 4 overlaps (actually, it often overlaps with the third wiring pattern layer 5 in many cases).
  • the additional insulating layer 16 1 is a screen printing plate that has been prepared in advance so as to correspond to the pattern of the portion where the wiring pattern layers will overlap. Is formed by screen printing using
  • the ink composition for printing is not particularly limited as long as the insulation properties after coating and drying can be ensured, but a more preferable specific example is Polyimi. Resin solution (Toray Chemicon Fine SP-110) and epoxy resin solution can be fisted. Preferably, it is a polyimide resin.
  • a transfer master 20 for the second-layer wiring pattern layer (see FIG. 3) In the same manner, the wiring pattern layer is transferred to the first wiring pattern layer 3, and the wiring pattern layer is similarly transferred to the conductive layer 4a.
  • the second wiring pattern layer 4 having the insulating resin layer 4b is formed (FIG. 27).
  • An additional insulating layer 163 is formed.
  • For the wiring pattern layer 4 of the second layer it is assumed that only the wiring pattern layer 5 of the third layer overlaps, and additional insulation is provided.
  • Reference to the perspective view of Fig. 28 A-A 'view of Fig. 28 corresponds to the cross-sectional view of Fig. 27 (D).
  • the third-layer wiring pattern is formed on the substrate 2 on which the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 are formed by transfer.
  • the transfer master 30 see Fig. 4 for the transfer layer, transfer the wiring pattern layer in the same manner, and transfer the conductive layer 5a and the insulating resin layer.
  • a third-layer wiring pattern layer 5 having 5b is formed (FIG. 27E).
  • an additional insulating layer 163 is interposed in a portion where the wiring pattern layer 4 of the second layer and the wiring pattern of the third layer 5 overlap each other. Yes.
  • the wiring pattern shown in Fig. 27 The number of overlapping parts in the strata has been described using only a few examples to make it easier to understand. It is not limited.
  • FIG. 29 (A) shows the transfer of the first wiring pattern layer 3 having the conductive layer 3a and the insulating resin layer 3b on the substrate 2 for a multilayer printed wiring board. This is the state shown in the figure, and the first wiring pattern layer 3 is formed by the same method as that shown in FIG. 27 (A).
  • a photosensitive insulating material is applied to the substrate 2 on which the first wiring pattern layer 3 has been transferred and cured, as shown in FIG. 29 (B).
  • a photosensitive coating liquid containing a photosensitive polyimide resin as a main component is applied and dried to form a photosensitive insulating coating film 170.
  • the coating method can be any of the following: plate coating method, no-coating method, dipping method, spin coating method, etc. You can use this method.
  • the wiring pattern layer 3 of the first layer, the wiring pattern layer 4 of the second layer and the wiring pattern of the third layer which are laminated in the next step.
  • the photosensitive insulating coating 1 70 is exposed in close contact (Fig. 29 (B)), then developed, and the substrate is opened after the overlapping of the parts to be overlapped is performed. Or on a hot plate Heat treatment is performed to cure the insulating coating film to form an additional insulating layer 161 (FIG. 29 (C)).
  • the transfer master 20 for the second wiring pattern layer (see FIG. 3) is placed on the substrate 2 on which the first wiring pattern layer 3 is transferred and formed. ), The wiring pattern is transferred to the first wiring pattern layer, the wiring pattern is similarly transferred, and the conductive layer 4a and the insulating resin layer are similarly transferred.
  • a second wiring pattern layer 4 having 4b is formed (FIG. 29 (D)).
  • an additional insulating layer 161 is interposed in a portion where the first wiring pattern layer 3 and the second wiring pattern layer 4 overlap. Yes.
  • FIG. 29 (E) An additional insulating layer 163 is formed (FIG. 29 (E)).
  • the formation of the additional insulating layer 163 may be performed along the steps shown in FIGS. 29 (B) to (C) according to the formation of the additional insulating layer 161. From the cross-sectional view of FIG. 29 (E), there is no image that the additional insulating layer 163 covers the second wiring pattern layer 4. Therefore, please refer to the aforementioned perspective view in Fig. 28.
  • the view from the arrow A—A ′ in FIG. 28 corresponds to the cross-sectional view in FIG. 29 (E).
  • a third-layer wiring pattern is formed on the substrate 2 on which the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 are transferred and formed.
  • a transfer master 30 for the ground layer see Fig. 4
  • a third wiring pattern layer 5 having a conductive layer 5a and an insulating resin layer 5b is formed (FIG. 29 (F)).
  • An additional insulating layer 163 is interposed at the portion where the second wiring pattern layer 4 and the third wiring pattern layer 5 overlap. It should be noted that the number of overlapping portions of the wiring pattern layers in FIG. 29 is described by taking as few examples as possible in order to facilitate understanding. It is, of course, not limited to this number.
  • a photosensitive polyimide resin as described above may be used as a photosensitive insulating material for forming the insulating layer shown in FIG. 29, a photosensitive polyimide resin as described above may be used. I like it.
  • the advantage of using a photosensitive polyimide resin is that higher insulation can be obtained.
  • FIG. 30 Another embodiment in which an insulating layer is interposed in a portion where the wiring pattern layers overlap with each other will be described with reference to FIGS. 30 to 31.
  • FIG. 30 Another embodiment in which an insulating layer is interposed in a portion where the wiring pattern layers overlap with each other will be described with reference to FIGS. 30 to 31.
  • FIG. 30 (A) shows a transfer of a first wiring pattern layer 3 having a conductive layer 3a and an insulating resin layer 3b on a substrate 2 for a multilayer printed wiring board.
  • FIG. 27 (A) is formed by the same method as that shown in FIG. 27 (A).
  • the insulating material (polyimide resin, air Insulation by applying and drying a coating liquid containing a polyimide resin as a main component, particularly preferably a polyimide resin.
  • a coating film 16 1a is formed.
  • the coating method can be any of the plate coating method, bar coating method, dipping method and spin coating method.
  • a photo resist layer 181, as shown in FIG. 30 (C) is formed and dried.
  • the formation of the photo resist layer 18 1 is performed by a plate coating method, a bar coating method, a dipping method, or a spin coating method. Any method such as a tent method may be used.
  • the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 (and the third-layer wiring pattern) to be stacked in the next step are formed.
  • the insulating coating 161a is exposed. The part is removed by etching (Fig. 30 (D)). Further, after the resist 182 is removed by etching, the substrate is heat-treated with an open or hot plate to cure the remaining insulating film. To form an additional insulating layer 16 1 (FIG. 30 (E)).
  • a transfer master 20 for the second wiring pattern layer is formed on the substrate 2 on which the first wiring pattern layer 3 is formed by transfer.
  • the layer is transferred to form a second-layer wiring pattern layer 4 having a conductive layer 4a and an insulating resin layer 4b (FIG. 31).
  • the wiring pattern layer 4 of the second layer and the wiring pattern layer 5 of the third layer, which will be laminated in the next step, are to be overlapped at a portion where the wiring pattern layer 4 will overlap.
  • An additional insulating layer 16 3 is formed (FIG. 31).
  • FIG. 31 (B) shows an image that the additional insulating layer 163 covers the second-layer wiring pattern layer 4. Since there is no such thing, please refer to the perspective view of FIG. 28 described above. A view taken along the arrow A ⁇ A 'in FIG. 28 corresponds to the cross-sectional view in FIG. 31 (B).
  • a third-layer wiring pattern is formed on the substrate 2 on which the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 are transferred and formed.
  • the transfer master 30 see Fig. 4 for the transfer layer, transfer the wiring pattern layer in the same way, and transfer the conductive layer 5a and insulating resin.
  • a third wiring pattern layer 5 having a layer 5b is formed (FIG. 31 (C)).
  • an additional insulating layer 163 is interposed in a portion where the wiring pattern layer 4 of the second layer and the wiring pattern layer 5 of the third layer overlap each other.
  • Figures 30 and 31 The number of overlapping parts between the wiring pattern layers has been described using examples that are as small as possible to make it easier to understand. It is not limited to the number.
  • FIG. 32 Another embodiment in which an insulating layer is interposed in a portion where the wiring pattern layers overlap with each other will be described with reference to FIGS. 32 to 33.
  • FIG. 32 Another embodiment in which an insulating layer is interposed in a portion where the wiring pattern layers overlap with each other will be described with reference to FIGS. 32 to 33.
  • an insulating layer transfer substrate provided with an insulating layer pattern corresponding to the pattern of the portion where the wiring pattern layers are to overlap with each other is prepared in advance.
  • the insulating layer pattern is transferred to the substrate side for a multilayer printed wiring board. Therefore, first, an insulating layer transfer substrate 190 (FIG. 32 (D)) as shown in FIG. 32 is firstly manufactured. That is, a photo resist is applied on the conductive substrate 19 1 as an insulating layer transfer substrate to form a photo resist layer 19 2 (FIG. 32 ( A)).
  • the wiring pattern layer 3 of the first layer as described above and the wiring pattern layer 4 of the second layer to be stacked in the next step overlaps with the wiring pattern layer 5).
  • a photomask (not shown) prepared in advance so as to correspond to a pattern of a portion where the third wiring pattern layer 5) overlaps with the wiring pattern layer 5).
  • a conductive layer 1994 is formed on the insulating pattern portion 1991a of the conductive substrate 1991 by a plating method (FIG. 32 (C)). In this case, the conductive layer 194 is peeled off. Used as delamination.
  • a sticky or adhesive insulating resin layer 1995 is formed on the conductive layer 1994 by an electrodeposition method, and dried to form an insulating layer transfer substrate. Make it (Fig. 32 (D)).
  • the pattern of the portion where the wiring pattern layer 4 of the second layer and the wiring pattern layer 5 of the third layer to be laminated in the next step overlap each other is expected to overlap.
  • An insulating layer transfer substrate provided with an insulating layer pattern corresponding to the conductive layer is also prepared in advance (not shown), but the conductive layer 1994 and the insulating resin layer 1995 are not prepared.
  • the same materials as those for the conductive layers 3a, 4a, 5a and the insulating resin layers 3b, 4b, 5b may be used, respectively.
  • FIG. 33 shows an example in which a multilayer printed wiring board is manufactured using the insulating layer transfer substrate 190 and the like prepared in this way.
  • FIG. 33 (A) shows the transfer of the first wiring pattern layer 3 having the conductive layer 3a and the insulating resin layer 3b on the substrate 2 for a multilayer printed wiring board.
  • FIG. 27 (A) is formed by the same method as that shown in FIG. 27 (A).
  • the insulating layer transfer substrate 190 is pressure-bonded onto the substrate on which the first-layer wiring pattern layer 3 is formed.
  • the crimping at this time may use any method such as roller crimping, plate crimping, and vacuum crimping.
  • the insulating resin layer 195 is made of an insulating resin exhibiting tackiness or adhesiveness by heating, thermocompression bonding can be performed. After that, By separating the edge layer transfer substrate 190 and transferring the insulating layer pattern, the insulating layer having the conductive layer 194 a and the additional insulating layer 195 a is provided. A pattern is formed on the substrate, and after the transfer, the additional insulating layer 195a is cured (FIG. 33 (B)).
  • a transfer master 20 employing the second-layer wiring pattern is employed (see FIG. 3). Similarly, the wiring pattern layer is transferred to the first wiring pattern layer, and then the wiring pattern layer is similarly transferred to the conductive layer 4a and the insulating resin layer. A second wiring pattern layer 4 having 4b is formed (FIG. 33 (C)). At this time, an additional insulating layer 195a (conductive layer 1) is provided at the portion where the first wiring pattern layer 3 and the second wiring pattern layer 4 overlap. 94 a) is interposed.
  • the insulating layer transfer substrate provided with the insulating layer pattern corresponding to the insulating layer is transferred, and the insulating layer pattern having the conductive layer 198a and the additional insulating layer 199a is transferred.
  • a layer is formed on the substrate, and after the transfer, the insulating layer is cured (FIG. 33 (D)).
  • the third-layer wiring pattern is formed on the substrate 2 on which the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 have been transferred and formed.
  • the transfer master 30 see Fig. 4 for the transfer layer
  • Have third The wiring pattern layer 5 of the layer is formed (FIG. 33 (E)).
  • an additional insulating layer 199a is interposed in a portion where the wiring pattern layer 4 of the second layer and the wiring pattern layer 5 of the third layer overlap. ing .
  • the number of overlapping portions of the wiring pattern layers in FIG. 33 has been described using an example where the number of overlapping portions is as small as possible to facilitate understanding. Until now, of course, it is not limited to this number.
  • the dispense can be easily understood by assuming, for example, a method of extruding and applying a coating solution from the tip of a syringe needle.
  • the first wiring pattern layer 3 is formed by the same method as that in FIG. 27 (A).
  • the wiring pattern layer 3 of the first layer formed in this manner is transferred and cured.
  • the substrate 2 is preliminarily transferred to a portion where the wiring pattern will overlap.
  • An insulating layer is formed by a dispensing method using a solution applicator (XYD-455-ZC, manufactured by Micro Giken Co., Ltd.) in advance (Fig. 2 7 (B)).
  • a solution applicator XYD-455-ZC, manufactured by Micro Giken Co., Ltd.
  • a more preferable specific example is poly-poly.
  • a solution containing a mid resin as a main component (Semicofine SP-1110 manufactured by Toray Industries, Inc.) is mentioned.
  • the transfer master 20 for the second-layer wiring pattern layer is used on the substrate 2 on which the first-layer wiring pattern layer 3 has been transferred and formed.
  • the wiring pattern layer is transferred in the same manner as the first wiring pattern layer 3 is positioned, and the conductive layer 4a and the insulating resin are transferred.
  • a second wiring pattern layer 4 having a layer 4b is formed (FIG. 27 (C)).
  • an additional insulating layer 161 is interposed in a portion where the first wiring pattern layer 3 and the second wiring pattern layer 4 overlap. ing .
  • An additional insulating layer 163 is formed.
  • Layer 163 is formed by disposing the wiring pattern layers so as to correspond to the pattern of the expected portion where the wiring pattern layers overlap with each other. (Fig. 27 (D)).
  • the third-layer wiring pattern is formed on the substrate 2 on which the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 are transferred and formed.
  • the transfer master 30 for the transfer layer the alignment is performed in the same manner to transfer the wiring pattern layer, and the conductive layer 5a and the insulating resin layer 5b are provided.
  • a third-layer wiring pattern layer ⁇ is formed (FIG. 27 ()).
  • the wiring pattern layer 4 of the second layer and the wiring pattern layer 5 of the third layer The additional insulating layer 163 is interposed at the part where
  • the portion where the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 to be stacked in the next process overlaps is overlapped.
  • an additional insulating layer 161 is interposed in the screen printing.
  • the wiring pattern layer 4 of the second layer corresponds to the pattern of the portion where the wiring pattern layer 5 of the third layer overlaps.
  • an additional insulating layer 163 was interposed in the screen printing.
  • the additional insulating layer 16 1 and the additional insulating layer 16 3 As the ink composition, Semicofine SP-110 manufactured by Toray Industries, Inc. was used.
  • the portion where the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 to be laminated in the next process overlaps is overlapped.
  • a photomask that has been pre-fabricated to correspond to the pattern of the part to be joined, a polyimidography method is used.
  • An additional insulating layer 161 made of resin was interposed.
  • the wiring pattern layer 4 of the second layer corresponds to the pattern where the wiring pattern layer 5 of the third layer overlaps with the wiring pattern layer 4 of the third layer.
  • an additional insulating layer 163 consisting of a polyimid tree 8 is formed by a photolithography method. It was interposed.
  • the transfer masters Cl, C2, and C3 for the three types of wiring pattern layers manufactured in (7) of Experimental Example 1 of the first embodiment were formed in this order by thickness 5.
  • the three types of wiring pattern layers consisting of the conductive layer and the insulating resin layer C are crimped on the polyimide film substrate of No. 0 under the following conditions on the film substrate. This was transcribed to produce a multilayer printed wiring board.
  • FIG. 30 shows a portion where the first wiring pattern layer 3 and the second wiring pattern layer 4 to be laminated in the next process overlap.
  • the additional insulating layer 16 1 made of a polyimide resin interposed according to the manufacturing method shown in FIG. 31, the wiring pattern of the second layer is similarly formed.
  • an additional insulating layer 163 made of a polyimide resin is also interposed at a portion where the wiring layer 4 and the third wiring pattern layer 5 overlap with each other.
  • the part where the first-layer wiring pattern layer 3 and the second-layer wiring pattern layer 4 to be laminated in the next step overlap each other is shown in FIG.
  • the additional insulating layer 195 was interposed by the manufacturing method shown in FIG. Similarly, at the portion where the second wiring pattern layer 4 and the third wiring pattern layer 5 overlap, the additional insulating layer 1999a is formed in the same manner. It was interposed.
  • composition used for forming the additional insulating layers 195a and 199a was the same as the electrodeposition liquid C for the insulating resin layer.
  • the resistivity was measured for each of these multilayer printed wiring board samples to evaluate the insulation properties.
  • Chi I sand this filtrate and was measured resistivity between the upper and lower conductive layers, (the applied voltage 1 0 0 V, temperature 2 2 ° C, humidity 5 0%), 1 0 15 Q cm or more The values are shown.
  • the breakdown voltage was measured. In other words, when the voltage was applied to the conductive layer with the insulating layer between them and the measurement was performed, the insulation was good with a dielectric breakdown voltage of 1 KV or more and the insulation was good.
  • a substrate for a multilayer printed wiring board and a plurality of wiring pattern layers sequentially transferred onto the substrate are provided.
  • the wiring butter layer provided with the multi-layer printed wiring board has a conductive layer and an insulating resin layer formed below the conductive layer. It is fixed to the substrate or the lower wiring pattern layer by the insulating resin layer. Since the additional insulation layer is interposed at the part where the wiring pattern layers overlap each other, it can be manufactured with low cost and high-definition pattern. Inherently, reliable insulation can be provided where wiring patterns overlap, and a multilayer printed wiring board with excellent reliability can be provided. . In particular, by forming the insulating layer from a polyimide resin, a device that can withstand high voltage can be manufactured. Third embodiment
  • FIG. 34 shows a multi-layer printed wiring board of the present invention.
  • 1 is a schematic cross-sectional view showing one example.
  • the multilayer printed wiring board 1 is composed of a substrate 2 for a multilayer printed wiring board, and a wiring pattern of a first layer provided on the substrate 2.
  • It is a multi-layer printed wiring board having a three-layer structure including a turn layer 7.
  • Each of the wiring pattern layers 3, 5, 7 constituting the multilayer printed wiring board 1 includes a conductive layer 3 a, 5 a, 7 a and a conductive layer, respectively. Bonding layers 3 b, 5 b, formed at the lower part of
  • the multi-layer printed wiring board 1 includes the wiring pattern layers 3, 5, and 7 on the substrate 2 or through a lower insulating wiring layer via an insulating resin layer. It is an overprinting type structure in which the transfer pattern layers are sequentially transferred and stacked on the wiring layers. In the part where the wiring pattern layers cross each other (intersection), the upper and lower wiring pattern layers The insulation between them is maintained by the insulating resin layers 204 and 206.
  • the insulating resin layers 204 and 206 are formed by exposing and developing the insulating photosensitive resin layer using the wiring pattern layers 5 and 7 as a mask as described later.
  • the insulating resin layers 204 and 206 exist only below the wiring pattern layers 5 and 7.
  • the multi-layer printed wiring board 1 of the present invention has a wiring pattern covered by an insulating layer as seen in a conventional multilayer printed wiring board.
  • the conductive layers 3a, 5a, and 7a of the wiring pattern layers 3, 5, and 7 are always partially exposed, and as described later, the wiring patterns are formed. The intersection of the turn layers or the part where each wiring butter layer is close to each other
  • the edge-sensitive resin includes quinone diazide as a substance that promotes dissolution by light irradiation in novolak resin, polyimide resin, and the like. Examples thereof include substances to which substances such as benzoyl benzoyl olephonate ester and dihydroxy pyridine are added, and the like.
  • a novolak resin, a polyimide resin, or the like having a substituent in the resin that promotes dissolution by light irradiation is also used. be able to .
  • the thickness of the insulating resin layer formed of such an insulating photosensitive resin depends on the insulating photosensitive resin to be used. However, the thickness between the upper and lower wiring pattern layers at the intersection is determined. L m or more, preferably 3 to: L 0 m to keep the insulation of the wiring and to prevent the defect from crossing over the lower wiring pattern layer.
  • a known thermosetting resin having a thermopolymerizable unsaturated bond such as block isocyanate is added to the above-mentioned insulated photosensitive resin to form a multilayer resin. After transferring and forming each layer of the printed wiring board, the insulating resin layer can be cured by heat treatment.
  • thermosetting resin a resin having a polymerizable unsaturated bond (for example, an acryl group, a vinyl group, or an aryl group) is added to the insulating photosensitive resin.
  • a resin having a polymerizable unsaturated bond for example, an acryl group, a vinyl group, or an aryl group
  • the insulating resin layer can be cured by electron beam irradiation.
  • the transfer master 10 (see FIG. 2) is pressed onto the substrate 2 for a multilayer printed wiring board so that the adhesive layer 15 comes into contact with the substrate 2.
  • This crimping may follow any method such as roller crimping, plate crimping or vacuum crimping. In the case where the adhesive layer 15 develops tackiness or adhesiveness by heating, thermocompression bonding can be performed.
  • a first-layer wiring pattern layer 3 having an adhesive layer 3b is formed on the substrate 2 (FIG. 35 (A)).
  • an insulating photosensitive resin layer 204 ′ is formed on the substrate 2 so as to cover the first wiring pattern layer 3 (FIG. 35 (B)).
  • the transfer master layer 20 for the second wiring pattern layer (see Fig. 3) to form the first wiring pattern layer.
  • the wiring pattern layer is similarly transferred after the alignment with respect to the second wiring pattern layer 5 having the conductive layer 5a and the adhesive layer 5b. (Fig. 35 (C)).
  • the wiring pattern layer 5 as a mask and exposing and developing the insulating photosensitive resin layer 204 ′, only the wiring pattern layer 5 below the wiring pattern layer 5 is exposed.
  • an insulating resin layer 204 is formed, and the insulating resin layer 204 and the adhesive layer 5b are cured (FIG. 35 (D)).
  • an insulating photosensitive resin layer 206 ′ is formed on the substrate 2 so as to cover the wiring pattern layer 5 of the second layer (FIG. 36). (A)), on the insulating photosensitive resin layer 206 ′, similarly using the transfer master 30 (see FIG. 4) for the third wiring pattern layer. Then, the wiring pattern layer is transferred to form a third wiring pattern layer 7 having a conductive layer 7a and an adhesive layer 7b (see FIG. 36 (B)). Next, by using the wiring pattern layer 7 as a mask and exposing and developing the insulating photosensitive resin layer 206 ′, the wiring pattern layer 7 is formed. An insulating resin layer 206 is formed only on the lower side, and the insulating resin layer 206 and the adhesive layer 7b are cured (FIG. 36 (C)).
  • FIG. 37 is a schematic sectional view showing another example of the multilayer printed wiring board of the present invention.
  • the multilayer printed wiring board 24 1 is connected to a substrate 24 42 for the multilayer printed wiring board and an insulating resin layer 24 3 on the substrate 24 2.
  • a first wiring pattern layer 244 provided on the first wiring layer and a first wiring pattern layer 244 laminated on the wiring pattern layer 244 with an insulating resin layer 2445 interposed therebetween.
  • Each of the wiring pattern layers 24 4, 24 6, 24 48 constituting the multilayer printed wiring board 24 1 is made of a conductive layer, and is made of an insulating resin. This is an overprinting type structure that is sequentially transferred and laminated on the substrate 2442 and the lower wiring pattern layer via the layers. In addition, at portions where the wiring pattern layers intersect each other (intersections), insulation between the upper and lower wiring pattern layers is maintained by the insulating resin layers 245 and 247. It is. As described later, the insulating resin layers 24 3, 24 5, and 24 7 are formed by masking the wiring pattern layers 24 4, 24 6, and 24 48. It is formed by exposing and developing the light-sensitive resin layer, and the insulating resin layer 2 4 3 is provided only under the wiring pattern layers 24 4, 24 6 and 24 48.
  • the multi-layer printed wiring board 24 1 of this embodiment also has a wiring pattern formed by the insulating layer as seen in the conventional multilayer printed wiring board. Since there is no coating, each wiring pattern layer 2444, 2464, 2448 is always partially exposed, and as described later, the wiring pattern layer is not exposed. Connection of each wiring pattern layer at an intersection or a portion where each wiring pattern layer is close to each other (proximal portion) can be easily performed. .
  • Substrate 242 constituting multilayer printed wiring board 241 described above can be similar to substrate 2 of multilayer printed wiring board 1 described above. The explanation is omitted.
  • each wiring pattern layer 24 4, 24 6, 24 48 has a defect that the lower wiring pattern layer crosses over in the lamination transfer as described later. In order to keep the electrical resistance of the wiring pattern layer low, it should be within the range of 5 to 40 m.
  • the line width of such wiring pattern layers 2 4 4, 2 4 6, 2 4 8 is about 10 / ⁇ 1 You can set it arbitrarily.
  • the material of the conductive layer constituting the wiring pattern layer 24 4, 24 6, 24 48 may be the same as the material of the above-described conductive layer 3 a, 5 a, 7 a. Can be mentioned.
  • the thickness of the insulating resin layer formed by curing the adhesive insulating photosensitive resin depends on the insulating photosensitive resin to be used. However, the thickness between the upper and lower wiring pattern layers at the intersection is determined. L / m or more, preferably 3 to 10 m, to maintain the insulation of the wiring and to prevent defects from crossing over the lower wiring pattern layer. The range of.
  • FIGS. 37 to 40 taking the above-mentioned multilayer printed wiring board 24 1 as an example, other than the method for manufacturing the multilayer printed wiring board of the present invention, FIG. An embodiment of the present invention will be described.
  • a transfer master for manufacturing the multilayer printed wiring board 24 1 is manufactured.
  • a photo resist is applied on a conductive substrate 25 1 as a transfer substrate to form a photo resist layer, and a photo mask is formed using a predetermined photo mask.
  • the photoresist layer is contact-exposed and developed to form an insulating layer 252, and a conductive layer is formed on the exposed portion of the conductive substrate 251 by a plating method.
  • a transfer master 250 for the wiring pattern layer with the first wiring pattern layer 25 3 is obtained (Fig. 38).
  • a transfer master 270 is prepared for the third wiring pattern layer (FIGS. 38 (B) and (C)).
  • an adhesive insulating photosensitive resin layer 24 3 ′ is formed on the substrate 24 2 (FIG. 39 (A)), and the above-mentioned wiring pattern is formed on the adhesive insulating photosensitive resin layer 24 3 ′.
  • the transfer master plate 250 for the green layer is pressure-bonded so that the wiring pattern layer 253 comes into contact.
  • This crimping may be performed by any method such as roller crimping, plate crimping, and vacuum crimping.
  • thermocompression bonding can be performed.
  • the conductive substrate 25 1 is peeled off, and the wiring pattern layer 25 3 is transferred onto the substrate 24 2 (FIG. 39 (B)).
  • the insulating resin layer 2 5 is formed only below the wiring pattern layer 25 3. 4 3 is formed, and the insulating resin layer 2 4 3 is cured. As a result, the first wiring pattern layer 244 made of a conductive layer is formed on the substrate 242 via the insulating resin layer 243 (see FIG. 3). 9
  • an adhesive insulating photosensitive resin layer 245 ′ is formed on the substrate 242 so as to cover the first-layer wiring pattern layer 244 (FIG. 39 (D)). ), This adhesive insulating photosensitive resin layer
  • the wiring pattern layer is similarly transferred, and the second wiring pattern layer 263, which is made of a conductive layer, is transferred (see FIG. 3 9 (E)).
  • the wiring pattern layer 2 63 is used as a mask to expose and develop the adhesive insulating photosensitive resin layer 24 5 ′, whereby the wiring pattern layer 2 63 is exposed.
  • An insulating resin layer 245 is formed only below 63, and the insulating resin layer 245 is cured.
  • the second wiring pattern layer 24 6 made of a conductive layer is formed on the substrate 24 2 via the insulating resin layer 24 5 (FIG. 4). 0 (A)).
  • an adhesive insulating photosensitive resin layer 247 ′ is formed on the substrate 242 so as to cover the second wiring pattern layer 246 (FIG. 40 (B)). ), This adhesive insulating photosensitive resin layer
  • the alignment is performed similarly, and the wiring pattern layer is transferred.
  • the third wiring pattern layer 273 made of a conductive layer is transferred (FIG. 40 (C)).
  • the wiring pattern layer 273 is obtained.
  • An insulating resin layer 247 is formed only on the lower side of 273 and this insulating resin layer 247 is cured.
  • the third wiring pattern layer 248 made of a conductive layer is formed on the substrate 242 via the insulating resin layer 247 (see FIG. 4).
  • each wiring pattern layer 24 4, 24 6, The stacking of 2 48 is made by transferring the wiring pattern layers 2 5 3, 2 6 3, 2 7 3 of the transfer master layer for wiring pattern layer 2 5 0 2 6 0, 2 7
  • the multi-layer printed wiring board 2 4 1 is connected to each wiring pattern layer 2 4 4, because the transfer is performed by sequentially transferring it onto the substrate via the conductive resin layer. It is a so-called overprint type structure consisting of 2464 and 2448.
  • an insulating photosensitive resin layer or an adhesive insulating photosensitive layer is used for forming each wiring pattern layer.
  • the resin layer is exposed and developed, in the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, the exposure and development may be performed in the final stage. For example, as shown in FIG.
  • FIG. 42 shows a multilayer printed wiring board 1 according to the present invention.
  • FIG. 4 is a perspective view showing an intersection where a wiring pattern layer intersects. As shown in FIG. 42, at the intersection, an insulating resin layer 204 (shaded portion) is present between the wiring pattern layer 3 and the wiring pattern layer 5, As a result, the insulation of the two wiring pattern layers that cross each other is maintained, and the insulating resin layer 204 exists only below the wiring pattern layer 5. In regions other than the portions, the conductive layers 3a and 5a of the wiring pattern layers 3 and 5 are always exposed.
  • the multilayer printed wiring board of the present invention is not limited to wiring in which the upper and lower wiring pattern layers intersect, but overlaps with multiple layers. There may be parts that meet.
  • FIG. 43 is a perspective view showing a portion where the wiring pattern layers constituting the multi-layer printed wiring board 1 of the present invention overlap with the multi-layer. The intersection of the wiring pattern layers 3 and 5 as shown in FIG. 42 and the overlap of the wiring pattern layers 3 and 5 as shown in FIG. The wiring distance can be shortened by installing the wiring, and the wiring inductance can be reduced by designing the signal wiring, GND wiring, power supply wiring, etc. as appropriate. It can be made smaller.
  • the portions where the wiring pattern layers intersect or the portions where the wiring pattern layers overlap are formed by the multilayer printed wiring board 24 1 shown in FIG. 41. Needless to say, it may be formed on the multilayer printed wiring board 1 'shown in FIG.
  • FIG. 44 shows a multilayer printed wiring board 1 of the present invention. 0 5 —
  • FIG. 3 is a perspective view showing a portion where wiring pattern layers to be formed are close to each other.
  • the wiring pattern layer 244 and the wiring pattern layer 246 are close to each other in the vicinity, and the respective insulating resin layers 243 and 244 are located close to each other. 5 (shaded area) exists only below the wiring pattern layer 24 4 and the wiring pattern layer 24 6, respectively, so that each wiring pattern is provided.
  • the layers 244 and 246 are always exposed, there are the intersections of the wiring pattern layers as described above. Alternatively, since each wiring pattern layer is exposed in the vicinity, the connection of each wiring pattern layer can be easily performed.
  • the entire surface is not exposed at the final stage of the process shown in FIG. 41, and the mask is only exposed to a portion where bonding is required. It is permissible to open a hole and apply a connection process to that part.
  • DDE 4,4 'diaminovinyl ether
  • DDE 4,4 'diaminovinyl ether
  • NMP N-methylpyrrolidone
  • this solution was poured into 1 liter of water, and the precipitate was filtered off and dried to obtain 8.06 g of a resin powder.
  • 3 g of the obtained resin powder was redissolved in 17 g of NMP to prepare a polyamic acid ester having a solid content of 15% by weight.
  • an emulsion ion solution 65 parts by weight of an emulsion ion solution, an acryl-based copolymer resin 2 having a carboxyl group as an electrodeposition carrier 2 0 7-parts by weight, hexame toxylene melamine 0.85 parts by weight, trimethinoleamine as a neutralizing agent 0.35 parts by weight, ethanol 3 parts by weight, 3 parts by weight of phenol resin and 18.8 parts by weight of water were mixed and stirred to prepare an anion-type electrodeposition solution for an adhesive layer.
  • a 0.2 mm thick stainless steel plate whose surface has been polished is prepared as a conductive substrate, and a commercially available photo storage for media is placed on this stainless steel plate.
  • Store PMER manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • P-AR900 is applied to a thickness of 10 m and dried, and each is subjected to contact exposure using three types of photomasks on which wiring patterns are formed. After the development, they were developed, rinsed and dried, and then heat-cured to produce transfer masters (three types) with an insulating layer.
  • each of the three types of transfer masters having a conductive layer formed thereon is opposed to a white gold electrode, and the electrode for the adhesive layer prepared in the above (2) is made to face each other.
  • Immerse in the liquid A connect the transfer master to the anode of the DC power source, and connect the white gold electrode to the cathode, and perform electrodeposition for 1 minute at a voltage of 50 V. Drying and heat treatment at 30 ° C for 30 minutes to form a 20 / zm thick adhesive layer on the conductive layer, and transfer master A for three types of wiring pattern layers 1, A2 and A3.
  • the transfer master A1 for the wiring pattern layer prepared in (4) above was placed on a polyimide film substrate with a thickness of 25 ⁇ under the following conditions.
  • the first wiring pattern layer consisting of a conductive layer and an adhesive layer is transferred by pressing, and then the adhesive layer is cured at 180 ° C for 30 minutes. Thus, the formation of the first wiring pattern layer was completed.
  • the insulating photosensitive resin solution prepared in (1) above is placed on the film substrate on which the first wiring pattern layer is formed. 9-9 was applied by a spin-n-coat method and dried (at 80 ° C for 60 minutes) to form a 12 ⁇ m-thick insulated photosensitive resin layer. After that, the transfer master A2 for the wiring layer layer prepared in the above (4) is crimped on the insulated photosensitive resin layer under the following conditions, and the conductive material is pressed.
  • second wiring layer Nono a layer that adhesive layer or we 0 transferring the evening one emission layer.
  • the insulated photosensitive resin layer is exposed under the following conditions, and then developed by an immersion method. After 250. C, the insulating photosensitive resin layer and the adhesive layer were cured under the conditions of 30 minutes to complete the formation of the second wiring pattern layer.
  • Exposure time 600 counts
  • the prepared transfer master A 3 for the wiring pattern layer prepared above is crimped under the same conditions as the crimping conditions for the transfer master A 2 described above to form a third layer comprising a conductive layer and an adhesive layer.
  • the wiring pattern layer of the eye was transferred.
  • the insulated photosensitive resin layer is exposed under the above-described conditions, and is developed by an immersion method. After that, the insulating photosensitive resin layer and the adhesive layer were cured under the conditions of 250 ° C. and 30 minutes, thereby completing the formation of the third wiring pattern layer.
  • the multilayer printed wiring board of the present invention provided with three wiring pattern layers was manufactured.
  • an adhesive insulating photosensitive resin solution for the insulating resin layer 75 parts by weight of methacrylate metal acrylate, Aronix Ml 13 (manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.) 10 parts by weight, 0.5 parts by weight of azobisisoptirononitrile are heated and stirred in the reaction solution at 70 ° C., and 50 parts by weight of ethyl acetate are added for about 2 hours. Then, the mixture was dropped and kept for 2 hours. Next, a solution prepared by dissolving 2 parts by weight of azobisisobutylonitrile in 25 parts by weight of ethyl acetate was added dropwise to this solution over about 3 hours. Further, a holding reaction was performed for 3 hours. Thereafter, the mixture was heated to 140 ° C. to remove the solvent and obtain an acrylic copolymer.
  • the acrylic copolymer obtained as described above was mixed with the insulated photosensitive resin solution prepared in Example 1 and stirred to form an adhesive insulating film.
  • a photosensitive resin solution was prepared.
  • a 0.2 mm thick stainless steel plate with a polished surface is prepared as a conductive substrate, and a commercially available photolithography device is mounted on this stainless steel plate.
  • a coat (PMERP-AR900, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied to a thickness of 10 m and dried, and three types of photomasks on which wiring patterns are formed are removed. After performing contact exposure, each was developed, washed with water, dried, and then heat-cured to produce transfer masters (three types) with an insulating layer.
  • a copper pyrophosphate plating bath having the same composition as that used in Example 1 with the above-mentioned transfer master and the platinum electrode facing each other.
  • the adhesive insulated photosensitive resin solution prepared in (1) above was spin-coated on a 25 m thick polyimide film substrate. It was applied by the 1 2 — method and dried (80 ° C, 30 minutes) to form a 10 um thick adhesive and insulated photosensitive resin layer. After that, the transfer master B1 for the wiring pattern layer prepared in the above (2) is pressure-bonded on the insulating photosensitive resin layer under the following conditions to form a conductive layer. The resulting first wiring pattern layer was transcribed.
  • the adhesive insulating photosensitive resin layer is exposed under the following conditions, and then developed by an immersion method. Thereafter, the adhesive insulating photosensitive resin layer was cured under the conditions of 150 ° C. and 30 minutes to complete the formation of the first wiring pattern layer.
  • the adhesive-insulating photosensitive resin solution prepared in the above (1) by spin coating. It was applied by the method and dried (80. C, 30 minutes) to form an adhesive insulating photosensitive resin layer having a thickness of 10 ⁇ m. Then, on this adhesive insulating photosensitive resin layer, the transfer master for the wiring pattern layer prepared in (2) above was used. B2 was pressed under the same conditions as the first layer to transfer the second wiring pattern layer made of a conductive layer.
  • the adhesive insulating photosensitive resin layer is exposed under the same conditions as the first layer, and the immersion method is used. After the development, the adhesive insulating photosensitive resin layer was cured under the conditions of 150 and 30 minutes to complete the formation of the second wiring pattern layer.
  • the adhesive insulating photosensitive resin solution prepared in the above (1) is spin-coated. And dried (at 80 ° C for 30 minutes) to form a 10 m thick adhesive and insulated photosensitive resin layer. Then, on this adhesive insulating photosensitive resin layer, the transfer master B3 for the wiring pattern layer prepared in the above (2) was prepared under the same conditions as the first layer. Then, the third wiring pattern layer made of a conductive layer was transferred.
  • the transferred third wiring pattern layer is used as a mask, the adhesive insulating photosensitive resin layer is exposed under the same conditions as the first layer, and the immersion method is used. After the development, the adhesive insulating photosensitive resin layer was cured under the conditions of 150 ° C. and 30 minutes, thereby completing the formation of the third wiring pattern layer.
  • the multilayer printed wiring board of the present invention including the three wiring pattern layers was manufactured.
  • a transfer master C1 for a wiring layer layer is pressure-bonded on a polyimide film substrate having a thickness of 25 ⁇ under the following conditions to form a conductive layer and an adhesive layer.
  • the resulting first wiring pattern layer was transcribed.
  • the insulating photosensitive resin solution prepared in Example 1 was applied on the film substrate on which the first wiring pattern layer was formed by the spin coating method. It was coated and dried (80, 30 minutes) to form a 12 m thick insulated photosensitive resin layer. Then, on the insulating photosensitive resin layer, the transfer master C2 for the wiring pattern layer is pressure-bonded under the following conditions to form a second layer comprising a conductive layer and an adhesive layer. The wiring pattern layer of the eye was transferred.
  • the insulating photosensitive resin solution prepared in Example 1 was applied on the film substrate to which the second wiring pattern layer was transferred by the spin coating method. It was then coated and dried (80 ° C, 30 minutes) to form a 12 m thick insulated photosensitive resin layer. After that, the above-mentioned wiring pattern layer is formed on the insulating photosensitive resin layer. 5
  • the transfer master plate C3 for one application is crimped under the same conditions as the press-fitting conditions of the transfer master plate C2 above, and the third wiring pattern layer consisting of the conductive layer and the adhesive layer was transcribed.
  • each of the wiring pattern layers from the transferred eyes to the third layer is used as a mask, the insulating photosensitive resin layer is exposed under the following conditions, and the immersion method is used. After development, the insulating photosensitive resin layer and the adhesive layer were cured under the conditions of 250 ° C. and 30 minutes.
  • Exposure time more than 700 counts
  • the multi-layer printed wiring board of the present invention having three wiring pattern layers was manufactured.
  • a conductive layer provided on a transfer master or a wiring pattern layer composed of a conductive layer and an adhesive layer is provided on a substrate.
  • the wiring pattern layer can be laminated in multiple layers on the substrate.
  • This multi-layer lamination is a parallel-serial prototyping in which a plurality of transfer masters on which a predetermined wiring pattern layer is formed are produced in parallel, and these transfer masters are sequentially transferred. Because it is a process, it is possible to eliminate defective products by inspection before transfer, improve the production yield, and at the same time, increase throughput. Also, there is an insulating resin layer between wiring pattern layers that cross or overlap in multiple layers.
  • Such an insulating resin layer is formed by exposing and developing the insulating photosensitive resin layer or the adhesive insulating photosensitive resin layer using the wiring pattern layer as a mask. Therefore, the techniques for forming wiring layers and patterning, which have been conventionally performed on a substrate, and the many times of the alignment process are required. This is not necessary, and the manufacturing process can be simplified.
  • the multilayer printed wiring board does not have a wiring pattern covered by an insulating layer as seen in the conventional multilayer printed wiring board, so that each wiring is not covered. The conductive layer constituting the pattern layer is always partially exposed.
  • each wiring pattern layer at the intersection of each wiring pattern layer or at the part where each wiring pattern layer is close to each other.
  • This enables a multi-layer printed wiring board with extremely high versatility.
  • the wiring for example, the signal wiring, the GND wiring, and the power supply wiring so as to cross each other or to overlap in multiple layers as described above.
  • the inductance of the wiring can be reduced, and a multilayer printed wiring board with excellent electrical characteristics can be obtained.
  • FIG. 45 is a partial plan view showing an example of the printed wiring board of the present invention
  • FIG. 46 (A) is taken along the line A--A in FIG.
  • FIG. 46 (B) is a partially enlarged longitudinal sectional view taken along the line B—B in FIG.
  • the printed wiring board 301 is formed on a printed wiring board substrate 302 with a predetermined pattern.
  • the pad portion 304 having a large line width as described above has the line width w of the wiring portion 300 having a small line width. It is characterized by being a set of wirings having almost the same line width.
  • the pad portion 304 is a set of strip-shaped wires 304 a having a line width w, but the pad portion 304 having a large line width is formed. In the state of 0 4, for example,
  • a wire having a line width w as shown in FIG. 49 is formed in a spiral shape, and a line as shown in FIG. 50 is formed.
  • Wirings having a width w formed concentrically can be cited.
  • the line width of the pad section 304 is the same as the line width w of the wiring section 304, but it is not limited to this.
  • the line width of the pad section 304 can be set in a range of 50% to 200% of the line width w of the wiring section 3.05.
  • each of the wires that make up the is no problem if the line spacing is set to about 5 to 50 m.As shown here, the pad section 304 with a large line width is connected to the wiring section with a small line width.
  • the printed wiring board 310 of the present invention has Over the entire area of the pattern layer 303, the wiring pattern is composed of wirings having almost the same line width, and the film thickness of the wiring pattern layer 303 is uniform. .
  • the pad section 30 is required. Since the wires with a small line width that make up 4 are connected to each other by means of solder, etc., there is no problem in the same way as the conventional printed wiring board pad. It is possible to add a binding.
  • the wiring pattern layer 303 is an example in which the wiring section is composed of two types of wiring, a pad section 304 having a line width W and a wiring section 304 having a line width w.
  • the widths of the wirings that make up the wiring pattern layer 303 are three or more, the wiring with the largest line width and the wiring with the smallest line width are used. It is possible to make a set of wirings having the same line width as the width.
  • the substrate 302 constituting the printed wiring board 301 of the present invention having the wiring pattern layer 303 as described above is a glass epoxy substrate, a glass epoxy substrate, or the like.
  • a substrate for printed wiring boards such as an imimated substrate, an aluminum ceramic substrate, a composite substrate of glass epoxy and polyimid, etc.
  • Substrate can be used.
  • the thickness of the substrate 2 is in the range of 5 to 1000 / zm. It's strong and good.
  • the material of the wiring constituting the wiring pattern layer 303 is not particularly limited as long as a thin film can be formed by an electrodeposition method, as described later.
  • a thin film can be formed by an electrodeposition method, as described later.
  • copper, silver, gold, nickel, chromium, zinc, tin, and white gold can be used, and the film thickness is determined by the wiring pattern layer 303
  • it can be set to l / m or more, preferably in the range of 5 to 40 // m.
  • the line width of the wiring constituting the wiring pattern layer 303 can be arbitrarily set up to a minimum width of about 1.
  • the printed wiring board of the present invention may be one in which the wiring pattern layer 1 is formed on a substrate via an adhesive layer.
  • FIG. 51 is a longitudinal section corresponding to FIG. 46 showing the configuration of such a printed wiring board.
  • the wiring 304 a and the wiring 304 constituting the pad 304 are connected to the substrate 302 via the adhesive layer 303.
  • the thickness of the adhered adhesive layer 300 depends on the insulating property of the adhesive material used, but the thickness between the upper and lower wirings at the intersection of the multi-layer wirings described later. It should be at least 1 / zm or more, preferably in the range 5 to 30 / m, to maintain insulation.
  • the material of the above-mentioned adhesive layer 300 may be an electrodepositable adhesive material that exhibits tackiness by heating at room temperature or by heating.
  • an anionic or cationic synthetic polymer resin having adhesiveness can be mentioned.
  • anionic synthetic polymer resin an acrylic resin, a polyester resin, a maleated oil resin, a polybutadiene resin, Polyimide resin, polyamide resin, polyamide resin, etc. may be used alone or as a mixture of any combination of these resins. Can be used. Further, the above-mentioned anionic synthetic polymer resin may be used in combination with a crosslinkable resin such as a melamine resin, a phenol resin, or a urethane resin.
  • cationic synthetic polymer resin acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, polybutadiene resin, polyamide resin, The polyimide resin or the like can be used alone or as a mixture of any combination of these.
  • the above cationic synthetic polymer resin may be used in combination with a cross-linkable resin such as a polyester resin and a urethane resin.
  • a tackifying resin such as a mouth resin, a terpene resin, a petroleum resin, etc., as needed, in order to impart tackiness to the above polymer resin. It is.
  • the above-mentioned polymer resin is neutralized by an alkaline or oxidized substance in the production method of the present invention to be described later, or is dissolved in water, or is dissolved in water. It is subjected to the electrodeposition method in a dispersed state. That is, the anionic synthetic polymer resin includes trimethylamine, methylamine, dimethinoethanol, aminoamine, and dimethylamine. Lee Seo profile Roh, 0 Roh Lumpur A Mi emissions A Mi emissions such as, you neutralized with A down mode double-A, inorganic A Le mosquitoes Li such as caustic mosquito Li.
  • the cationic synthetic polymer resin is neutralized with an acid such as acetic acid, formic acid, propionic acid, and lactic acid. Then, the high molecular weight resin that has been neutralized and solubilized in water is used as a water dispersion type or a solution type diluted with water.
  • thermosetting resin having a bond may be added, and all the layers of the printed wiring board may be transferred and then all the adhesive layers may be cured by a heat treatment.
  • a resin having a polymerizable unsaturated bond for example, an acryl group, a vinyl group, or an aryl group
  • thermoplastic resins may be used as long as they exhibit tackiness by room temperature or heating. Adhesive resin that loses adhesiveness after curing with thermosetting resin may be used. It may also contain organic or inorganic fillers to increase the strength of the coating.
  • the material of the adhesive layer 300 may be an electrodepositable adhesive that exhibits fluidity at room temperature or by heating.
  • a conductive film 307 is formed on one surface of a substrate 302 for a printed wiring board, and the surface of the substrate 2 is made conductive (FIG. 52 (A)).
  • This current-carrying film is a thin film made of nickel, copper, gold, silver, palladium, tin, copper, etc. formed by electroless plating or the like. The thickness is preferably about 100 A to 1 m.
  • the exposed resist is developed through a predetermined photomask to develop an insulating pattern.
  • the forming layer 308 is formed (FIG. 52 (B) :).
  • the exposed portion 300 a of the conductive film 307 obtained by the formation of the patterning layer 308 has a large line width and a small line width.
  • This is a wiring pattern that is a set of wirings that have almost the same line width as the new wiring.
  • a conductive layer (wiring pattern layer) 303 is formed on the exposed portion 300 a of the conductive film 307 by an electric plating (FIG. 5 2 ( C)).
  • the line width of the exposed portion 300 a of the conductive film 307 is almost the same over the entire area of the substrate 302, the electric field formed by energization is large.
  • the variation in density is small and the deposition rate is uniform when a conductive layer is formed by electric plating on a surface like this, and the formed conductive layer 303 has a uniform thickness. The thickness will be uniform.
  • the patterning layer 308 is removed (FIG. 52 (D)), and the conductive layer of the substrate 302 is further removed. 2 3 one
  • (Wiring pattern layer) 303 By etching the formation surface side, the conductive film 307 which is a thin film is removed, and the wiring pattern layer 303 is formed. In the example shown, a printed wiring board on which the wiring section 304a of the cutout section 304 is formed is obtained (FIG. 52).
  • the above-described etching of the current-carrying film 307 may be performed by using a well-known common technique such as a disk-etching such as a dip and a spray, and a dry-etching. 0
  • the above-described method of manufacturing a printed wiring board is a method of forming a wiring pattern directly on a substrate.
  • a printed wiring board of the present invention using a transfer master is described. Describes the manufacturing method of
  • a photoresist is applied to a conductive substrate 311 to form a photoresist layer 312. (Fig. 53 (A)). Then, using a predetermined photomask, the photo-resist layer 312 is closely contact-exposed and developed to form an insulating layer 313. Exposing the wiring pattern part 3 1 1a (Fig. 5 3
  • the wiring pattern portion 3 1 1a is a wiring in which a wiring having a large line width is a set of wirings having almost the same line width as a wiring having a small line width. Is a pattern
  • a conductive layer 314 is formed on the wiring pattern portion 311a of the conductive substrate 311 by a plating method (FIG. 5-3).
  • the deposition rate is uniform when a bonding layer is formed by electrodeposition on such a surface, and the thickness of the formed bonding layer 315 is uniform. Become a As a result, the transfer master 310 for the wiring pattern layer provided with the wiring pattern layer 316 having the conductive layer 314 and the adhesive layer 315 is formed. can get .
  • the above-mentioned transfer master plate 310 for the wiring pattern layer is pressure-bonded onto the substrate 302 so that the adhesive layer 315 contacts the substrate 302.
  • This crimping may follow any method such as roller crimping, plate crimping, or vacuum crimping.
  • the adhesive layer 315 is made of an adhesive material that exhibits tackiness or adhesiveness by heating, thermocompression bonding can be performed.
  • the conductive substrate 311 is peeled off and the wiring pattern layer 303 is transferred onto the substrate 302 so that the conductive layer 3114 (wiring 304a ) And a wiring pattern layer 303 having an adhesive layer 315 (adhesive layer 306) are formed on the substrate 302 (FIG. 53 (E)).
  • Conductive metal plate such as metal, titanium, etc., or glass plate Polyester, Polycarbonate, Polyimide, Polyethylene,
  • the thickness of 1 is 0.05 to 0.5 mm.
  • a chromium (Cr), a ceramic force generator (Nigen manufactured by Kanigen Co., Ltd.) is provided on the surface of the conductive substrate. + P + S i C) may be formed.
  • the thickness of this thin film is preferably about 0.1 to 1.0 m.
  • the wiring pattern layer 303 was transferred and formed on the substrate. After that, the adhesive layer 303 is cured.
  • the curing treatment of the adhesive layer involves shrinkage of the adhesive layer, and in a conventional printed wiring board, the shrinkage of the adhesive layer causes wrinkles in the upper conductive layer, This phenomenon was remarkable especially for wiring with a large line width.
  • the wiring having the large line width (the pad portion 304 in the illustrated example) has almost the same line width as the wiring having the small line width.
  • the conductive layer 314 (wiring 304a) has almost no effect. Therefore, generation of wrinkles in the conductive layer 3 14 (wiring 304 a) and electrical Deterioration of characteristics, poor contact, and peeling between the conductive layer 314 (wiring 304 a) and the adhesive layer 306 are effectively prevented.
  • the printed wiring board 301 described above is formed by forming only one wiring layer on the substrate, and the printed wiring board of the present invention is composed of two printed wiring boards. More than one wiring pattern layer may be formed on the substrate.
  • FIG. 54 is a schematic cross-sectional view showing another example of the printed wiring board of the present invention.
  • the printed wiring board 32 1 is composed of a substrate 32 2 and a substrate 3 2 ′ 2.
  • the first-layer wiring pattern layer 32 3 provided thereon and the second-layer wiring pattern laminated on this wiring pattern layer 32 3 A multilayer having a three-layer structure including a layer 3 2 3 ′ and a third wiring pattern layer 3 2 3 ⁇ ⁇ laminated on the wiring pattern layer 3 2 3 ′
  • Each of the wiring pattern layers 3 2 3, 3 2 3 ′ and 3 2 ′ is a printed wiring board, and the conductive layers (wirings) 3 2 5 and 3 2, respectively. Five ' ,
  • Such a multilayer printed wiring board is formed by sequentially transferring each wiring pattern layer by the method using the above-mentioned transfer master. And power. Also in this case, the large line width wiring is formed as a set of lines having almost the same line width as the small line width wiring.
  • a 0.5 / zm thick copper thin film was formed by electroless plating on a 25 ⁇ m thick polyimide film plate to form a conductive film ( (Corresponds to Fig. 52 (A)).
  • a commercially available photo resist for plating PMERP-AR900, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.
  • PMERP-AR900 a commercially available photo resist for plating
  • the width of each line of the collective wiring of the section 50 / m
  • the wiring interval of the section 50 # #
  • the total width of the pit 55 0 ⁇ m
  • the anode of the DC power supply is immersed.
  • connect the above-mentioned substrate with the white gold electrode as the cathode and apply current at a current density of 1 OAZ dm 2 for 5 minutes to expose the exposed portion of the conductive film that is not covered with the patterning layer.
  • a copper plating film was formed on the substrate to form a conductive layer (corresponding to Figure 52 (C)).
  • the thickness of the conductive layer of the wiring part (wiring part 305 in FIG. 45) of this printed wiring board is about 1, and the pad part (the pad in FIG. 45)
  • the thickness of the conductive layer in section 304) is about 9 ⁇ m, and the wiring thickness of the resulting printed wiring board is extremely uniform.
  • the thickness of the conductive layer of the wiring part (wiring part 305 in FIG. 45) of this printed wiring board is about 10; zm, and the pad part (the part in FIG.
  • the thickness of the conductive layer of the cut portion 304) is about 7 ⁇ m, and the thickness of the obtained wiring of the printed wiring board has a large variation due to the line width of the wiring. This was confirmed.
  • Emulsion polymerization of the emulsifier-free is performed by polymerizing for 5 hours to prepare a poly (acryloyl oleate / methyl acrylate) copolymer emulsion solution.
  • a mixture of 3 parts by weight, 3 parts by weight of petrol cell solvent and 18.8 parts by weight of water was mixed and stirred to prepare an anion-type electrodeposition solution for an adhesive layer.
  • a 0.2 mm thick stainless steel plate with a polished surface was prepared as a conductive substrate, and a commercially available film storage for photolithography was placed on this stainless steel plate.
  • a coat (PMERP-AR900, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied to a thickness of 10 // m and dried, and is subjected to contact exposure using a photomask of a predetermined pattern. After that, it was imaged, rinsed, dried, and heat-cured to produce a transfer master with an insulating layer (corresponding to Fig. 53 (B)).
  • the exposed pattern (wiring pattern) of the conductive substrate of this transfer master is a pattern as shown in Fig.
  • the above transfer master was connected to a cathode with a white gold electrode on the cathode, a current density of 1 OAZ dm 2 was applied for 5 minutes, and the exposed portion of the conductive substrate not covered with the insulating layer was exposed. Then, a copper plating film was formed as a conductive layer (corresponding to Fig. 53 (C)).
  • the transfer master having the conductive layer formed in (2) above and the white gold electrode are opposed to each other, and are immersed in the electrodeposition solution for the adhesive layer prepared in (1) above.
  • the transfer master was connected to the anode of the power supply, the cathode was connected to the white gold electrode, and electrodeposition was performed for 1 minute at a voltage of 50 V. After drying and heat treatment, an adhesive layer was formed on the conductive layer to obtain a transfer master for a wiring pattern layer.
  • the transfer master for the wiring pattern layer prepared in (3) is pressure-bonded under the following conditions, and the wiring pattern consisting of the conductive layer and the adhesive layer is formed.
  • the turn layer is transferred, and then the adhesive layer is cured at 150 ° C. for 30 minutes to complete the formation of the wiring pattern layer and obtain a printed wiring board.
  • the transfer master for the wiring pattern layer prepared in (3) is pressure-bonded under the following conditions, and the wiring pattern consisting of the conductive layer and the adhesive layer is formed.
  • the turn layer is transferred, and then the adhesive layer is cured at 150 ° C. for 30 minutes to complete the formation of the wiring pattern layer and obtain a printed wiring board.
  • the thickness of the conductive layer of the printed circuit board (the wiring section 300 in FIG. 45) is about 10 ⁇ m, and the thickness of the adhesive layer is about 15 ⁇ m.
  • the thickness of the conductive layer in the pad portion (pattern portion 304 in FIG. 45) was about 9 m, and the thickness of the adhesive layer was about 14 ⁇ m. It was confirmed that the wiring film thickness of the printed circuit board was extremely uniform. The pad had almost no wrinkles and a good surface condition.
  • the pad portion was not a set of wires with a small line width, but the entire surface was a single wire (width: 550 / m (width and width same width)). As a result, a printed wiring board was manufactured.
  • the thickness of the conductive layer of the printed circuit board (wiring section 300 in FIG. 45) is about 10 zm, and the thickness of the adhesive layer is about 15 ⁇ m.
  • the thickness of the conductive layer in the pad portion (pattern portion 304 in FIG. 45) is about 7 ⁇ m, and the thickness of the adhesive layer is about 10 m. G. It was confirmed that the wiring thickness of the wiring board was greater than the wiring width due to the line width of the wiring. In addition, wrinkles are noticeable in the pad area, and the surface condition is insufficient. It was a thing.
  • a wiring having a large line width is a set of wirings having almost the same line width as a wiring having a small line width. Since the conductive layer is formed by electrodeposition on the conductive film exposed by such a wiring pattern, the deposition speed during the formation of the conductive layer is over the entire wiring pattern. It is almost uniform, and the conductive layer power and the thickness of the resulting wiring pattern layer are uniform. Also, a conductive board that exposes a large line width with a wiring pattern that is a set of lines having almost the same line width as a small line width line.
  • the conductive layer is formed by electrodeposition, the deposition rate during the formation of the conductive layer is almost uniform over the entire wiring pattern, and the conductive layer is formed on the substrate.
  • the thickness of the wiring pattern layer obtained by the transfer is uniform.
  • the above-mentioned adhesive layer is also formed to have a uniform thickness. After the conductive layer is provided on the substrate via the adhesive layer, even if the adhesive layer hardens and contracts, the conductive layer is hardly affected. The generation of wrinkles is prevented, the wiring pattern layer is extremely flat, and the adhesion to the substrate and the electrical characteristics are excellent.

Landscapes

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Description

明 細 書 多層 プ リ ン ト 配線板 と そ の 製造方法、 お よ び転写用 原版 と そ の 製造方法
技 術 分 野
本発 明 は 多層 プ リ ン ト 配線板 と そ の 製造方法、 お よ び 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造 に 用 い る 転写用 原版 と そ の 製 造方 法 に 係 り 、 特 に 高精細 な パ タ ー ン を 有す る 多層 プ リ ン ト 配線板 と 、 こ の よ う な 多層 プ リ ン ト 配線板 を 低 コ ス ト で製造す る こ と が で き る 製造方法、 お よ び上記 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造 を工業的有利 に 行 う こ と が で き る 転写用 原版 と そ の 製造方法 に 関す る 。
背 景 技 術
半導体技術 の 飛躍 的 な 発展 に よ り 、 半導体パ ッ ケ ー ジ の 小型化、 多 ピ ン 化、 フ ァ イ ン ピ ッ チ 化、 電子部品 の 極 小化 な どが急速 に 進 み 、 い わ ゆ る 高密度実装 の 時代 に 突 入 し た。 そ れ に伴 っ て 、 プ リ ン ト 配線板 も 片面配線 か ら 両面配線へ、 さ ら に 多層化、 薄型化が進 め ら れて い る 。
現在、 プ リ ン ト 配線板の 銅パ タ ー ン の 形成 に は 、 主 と し て サ ブ ト ラ ク テ ィ ブ法 と 、 ア デ ィ テ ィ ブ法が用 い ら れ て い る 。
サ ブ ト ラ ク テ ィ ブ法 は 、 銅張 り 積層板 に 穴 を 開 け た 後 に 、 穴の 内 部 と 表面 に 銅 メ ツ キ を行 い 、 フ ォ ト エ ツ チ ン グ に よ り パ タ ー ン を 形成す る 方法で あ る 。 こ の サ ブ ト ラ ク テ ィ ブ法 は 技術 的 に 完成度が高 く 、 ま た コ ス ト も 安 い が、 銅箔 の 厚 さ 等 に よ る 制約 か ら 微細パ タ ー ン の 形成 は 困難 で あ る 。
—方、 ア デ ィ テ ィ ブ法 は 無電解 メ ツ キ 用 の 触媒 を 含有 し た 積層板上 の 回路 パ タ ー ン 形成部以外 の 部分 に レ ジ ス ト を 形成 し 、 積層板 の 露 出 し て い る 部分 に 無電解鋦 メ ッ キ 等 に よ り 回路パ タ ー ン を 形成す る 方法で あ る 。 こ の ァ デ ィ テ ィ ブ法 は 、 微細パ タ ー ン の 形成が可能で あ る が、 コ ス ト 、 信頼性 の 面 で難が あ る 。
多 層基板 の 場 合 に は、 上記 の 方法等で作製 し た 片面 あ る い は両面の プ リ ン ト 配線板 を 、 ガ ラ ス 布 に エ ポ キ シ 樹 脂等 を 含浸 さ せ た 半硬化状態 の プ リ プ レ ダ と 一緒 に 加圧 積層 す る 方法が用 い ら れて い る 。 こ の 場合、 プ リ プ レ ダ は各層 の 接着剤 の 役割 を な し 、 層 間 の 接続 は ス ル ー ホ ー ル を 作成 し 、 内 部 に 無電解 メ ツ キ等 を施 し て行 っ て い る ま た 、 高密度実装 の 進展 に よ り 、 多層基板 に お い て は 薄型、 軽量化 と 、 そ の 一方 で単位面積 当 り の 高 い 配線能 力が要求 さ れ、 一層 当 た り の 基板の 薄型化、 層 間 の 接続 や 部 品 の 搭載方法等 に 工夫が な さ れて い る 。
し か し な 力く ら 、 上記 の サ ブ ト ラ ク テ ィ ブ法 に よ り 作製 さ れ た 両面 プ リ ン ト 配線板 を 用 い た 多層基板の 作製 は、 両面 プ リ ン ト 配線板 の 穴形成の た め の ド リ ル加工 の 精度 と 、 微細化限界 の 面 か ら 高密度化 に 限界が あ り 、 製造 コ ス ト の 低減 も 困難 で あ っ た。
一方、 近年で は 上述 の よ う な 要求 を 満 た す も の と し て 基材上 に 導体パ タ ー ン 層 と 絶縁層 と を順次積層 し て作製 さ れ る 多 層配線板が開発 さ れ て い る 。 こ の 多層配線板 は 銅 メ ツ キ 層 の フ ォ ト エ ッ チ ン グ と 感光性樹脂 の パ タ ー 二 ン グ を 交互 に 行 っ て作製 さ れ る た め 、 高精細 な 配線 と 任 意 の 位 置 で の 層 間接続が可能 と な っ て い る 。
し か し な 力く ら 、 こ の 方式で は銅 メ ツ キ と フ ォ ト エ ッ チ ン グ を 交互 に 複数回 行 う た め 、 工程が煩雑 と な り 、 ま た 基板上 に 1 層 づっ 積 み上 げ る 直列 プ ロ セ ス の た め 、 中 間 工程 で ト ラ ブ ルが発生す る と 、 製品 の 再生が困難 と な り 製造 コ ス ト の 低減 に 支障を き た し て い た。
さ ら に 、 従来 の 多層配線板 に お い て は、 層 間 の 接続が バ イ ァ ホ ー ル を作成す る こ と に よ り 行わ れて い た た め 、 煩雑 な フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ ー 工程が必要で あ り 、 製造 コ ス ト 低減の 妨 げ と な っ て い た。
発明 の 開示
本発 明 は 、 こ の よ う な 実情 に 鑑み て な さ れ た も の で あ り 、 高精細 な パ タ ー ン を 有す る 多層 プ リ ン ト 配線板 と 、 こ の よ う な 多層 プ リ ン ト 配線板 を フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 一 工程 を 含 ま ず基板上へ の 転写積層方式 に よ り 製造す る こ と が可能 な 製造方法 と 、 こ の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造 を工業的有利 に 実施す る こ と を可能 と す る 転写用 原版 と そ の 製造方法を 提供す る こ と を 目 的 と す る 。 本発 明 の 第 1 の 特徴 は 、 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、 こ の 基板上 に 順次転写 さ れ た 複数 の 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え 、 各配線パ タ ー ン 層 は導電性層 と 、 こ の 導電性 層 の 下部 に 形成 さ れ た絶縁樹脂層 を 有す る と と も に 、 前 記絶縁樹脂層 は前記基板 あ る い は下層 の 配線バ タ 一 ン 層 に 固着 さ れ て い る こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 で あ る 。
本発 明 の 第 2 の 特徴 は 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、 こ の基板上 に 順次転写 さ れ た 複数 の 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え 、 各配線パ タ ー ン 層 は導電性層 と 、 こ の 導電性 層 の 下部 に 形成 さ れ た 絶縁樹脂層 を 有す る と と も に 、 前 記絶縁樹脂層 は前記基板 あ る い は下層 の 配線パ タ ー ン 層 に 固着 さ れ て お り 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重な り 合 う 部 分 に 追加絶縁層 を 介在 さ せ た こ と を 特徵 と す る 多 層 プ リ ン ト 配線板で あ る 。
本発 明 の 第 3 の 特徴 は、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、 こ の 基板上 に 順次転写 さ れ た 複数 の 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え 、 各配線パ タ ー ン 層 は導電性層 と 、 該導電性層 の 下部 に 形成 さ れ た 接着層 を 有す る と と も に 、 配線パ 夕 ー ン 層 が相互 に 交差 も し く は 多層 に 重 な り 合 う 部分 に お い て上下の 配線パ タ ー ン 眉 間 に 絶縁樹脂層 を 設 け た こ と を特徴 と す る 多 層 プ リ ン ト 配線板で あ る 。
本発 明 の 第 4 の 特徴 は 、 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、 こ の 基板上 に 順次転写 さ れ た複数 の 配線バ タ 一 ン 層 と を 備 え 、 各配線パ タ ー ン 層 は導電性層 を 有す る と と も に 、 配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差 も し く は 多層 に 重 な り 合 う 部分 に お い て上下 の 配線バ タ 一 ン 層 間 に 絶縁樹脂層 を設 け た こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板で あ る 。
本発 明 の 第 5 の 特徴 は 、 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、 こ の 基板上 に 形成 さ れ た 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え 、 該配線パ タ ー ン 層 の 一部 は 、 線幅 の小 さ い 配線 を 複数 平行 に 配置 し て構成 さ れ る こ と を 特徴 と す る プ リ ン ト 配 線板 で あ る 。
本発 明 の 第 6 の 特徵 は 、 導電性基板の 上 に 、 導電性層 と 該導電性層上 に 積層 さ れ た 粘着性 あ る い は接着性 の 絶 縁樹脂層 と を有す る 配線パ タ ー ン 層 を設 け て転写用 原版 を 複数作製す る 工程 と 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方の 面 に 前記転写用 原版を 圧着 し 、 前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 前記配線パ タ ー ン層 を 転写す る 工程 と を 備 え 、 前記配線パ タ ー ン 層 の 転写工程 を 複数 の転写 用 原版 に つ い て順次繰 り 返 し て、 前記基板上 に 複数の 前 記配線パ タ ー ン 層 を 積層 す る こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法で あ る 。
本発 明 の 第 7 の 特徵 は、 導電性基板の 上 に 、 導電性層 と こ の 導電性層上 に 積層 さ れ た 粘着性あ る い は接着性の 絶縁樹脂層 と を有す る 配線パ タ ー ン 層 を設 け て転写用 原 版を複数作製す る 工程 と 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の基板 の 一方 の 面 に前記転写用 原版を 圧着 し 、 前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 前記配線パ タ ー ン 層 を転写 す る ェ 程 と を 備 え 、 配線パ タ ー ン 層 同士 を 積層 す る 前 に 、 予 め 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の う ち 配線パ タ ー ン 層 同士 が重な り 合 う 予定部分 に 追加絶縁層 を形成 さ せ て お き 、 前記配 線バ タ 一 ン 層 の 転写工程 を 複数の 転写用 原版 に つ い て順 次繰 り 返 し て、 前記基板上 に 複数 の 前記配線パ タ ー ン 層 を 積層 す る こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造 方法で あ る 。
本発 明 の 第 8 の 特徴 は 、 導電性基板 の 上 に 、 導電性層 と こ の 導電性層上 に 積層 さ れ た接着層 と を 有す る 配線パ タ ー ン 層 を 設 け て転写用 原版を複数作製す る 工程 と 、 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方の 面 に 下層 の 転写用 原 版 を 圧着 し て前記導電性基板 を剥離す る こ と に よ り 下層 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と 、 前記下層 の 配線パ タ ー ン 層 を 覆 う よ う に 絶縁感光性樹脂層 を 形成 し 、 該絶 縁感光性樹脂層上 に 上層 の 転写用 原版 を 圧着 し て前記導 電性基板 を剥離す る こ と に よ り 上層 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と 、 転写 さ れ た上層 の 配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て前記絶縁感光性樹脂層 の 露光 · 現像 を 行 う ェ 程 と 、 を 備 え た こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法で あ る 。
本発 明 の 第 9 の 特徴 は、 導電性基板 の 上 に 、 導電性層 か ら な る 配線パ タ ー ン 層 を 設 け て転写用 原版 を 複数作製 す る 工程 と 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板の 一方 の 面 に 粘着絶縁感光性樹脂層 を 形成 し 、 該粘着絶縁感光性樹脂 層上 に 転写用 原版 を 圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と 、 転写 さ れ た前記配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て前記粘着絶縁感光 性樹脂層 の 露光 · 現像 を行 う 工程 と を 備 え 、
配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と 、 粘着絶縁感光性樹 脂層 の 露光 · 現像工程 と を順次繰 り 返 し て、 前記多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板上 に 複数の 前記配線パ タ ー ン 層 を 積層 す る こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方 法で あ る 。
本発 明 の 第 1 0 の 特徵 は 、 導電性基板 の 上 に 、 導電性 層 と こ の 導電性層上 に 積層 さ れ た接着層 と を 有す る 配線 バ タ 一 ン 層 を設 け て 転写用 原版を 複数作製す る 工程 と 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方の 面 に 下層 の 転写用 原版を 圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 下 層 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と 、 前記基板上の 配 線パ タ ー ン 層 を覆 う よ う に 絶縁感光性樹脂層 を形成 し 、 該絶縁感光性樹脂層上 に上層 の 転写用 原版 を圧着 し て前 記導電性基板 を剥離す る こ と に よ り 上層 の 配線バ タ 一 ン 層 を転写す る 工程 と を 備 え 、 上層 の 配線パ タ ー ン 層 を転 写す る 工程 を 順次繰 り 返 し て多数 の 配線パ タ ー ン 層 を多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 上 に 積層 し た後、 前記配線 パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て前記絶縁感光性樹脂層 の 露光 • 現像 を 行 う 工程 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法 で あ る 。
本発 明 の 第 1 1 の 特徵 は 、 導電性基板 の 上 に 、 導電性 層 か ら な る 配線パ タ ー ン 層 を 設 け て転写用 原版を 複数作 製す る 工程 と 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方 の 面 に 粘着絶縁感光性樹脂層 を 形成 し 、 該粘着絶縁感光性樹 脂層上 に 転写用 原版 を 圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層 を転写す る 工程 と を 備 え 、 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程を 順次繰 り 返 し て 多数の パ タ ー ン 層 を 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 上 に 積層 し た 後、 転写 さ れ た 前記配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て前 記粘着絶縁感光性樹脂層 の 露光 · 現像 を行 う 工程 を更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法 で あ る 。
本発明 の 第 1 2 の 特徴 は 、 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方 の 面 に 通電膜 を 形成す る 工程 と 、 こ の 通電膜上 に 所 定 の 配線パ タ ー ン を 有す る パ タ ー ニ ン グ層 を 形成 し 、 線 幅 の 小 さ い 配線 を 複数平行 に配置 し てな る 配線パ タ ー ン に よ り 前記通電膜 を露 出 さ せ る 工程 と 、 露 出 し て い る 前 記通電膜上 に 電析 に よ り 導電層 を形成す る 工程 と 、 前記 パ タ ー ニ ン グ層 を 除去 し 、 さ ら に 露 出 し て い る 通電層 を エ ッ チ ン グ に よ り 除去す る 工程 と を 備 え た こ と を 特徴 と す る プ リ ン ト 配線板 の 製造方法で あ る 。
本発 明 の 第 1 3 の 特徵 は 、 導電性基板上 に 、 線幅 の 小 さ い 配線 を複数平行 に 配置 し て な る 配線パ タ ー ン に よ り 電析 に よ り 導電層 を 形成 し 、 こ の 導電層上 に 電着 に よ り 接着層 を 形成す る こ と に よ っ て導電層 と 接着層 の 積層体 か ら な る 配線パ タ ー ン 層 を設 け た 転写用 原版 を作製す る 工程 と 、 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方 の 面 に 前記転写 用 原版 を 圧着 し 、 前記導電性基板 を剥離す る こ と に よ り 前記配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と を 備 え た こ と を 特 徴 と す る プ リ ン ト 配線板 の 製造方 法で あ る 。
本発 明 の 第 1 4 の 特徴 は、 少 な く と も 表面が導電性 の 導電性基板 と 、 こ の 導電性基板 に 形成 さ れ た 所望パ タ ー ン の 絶縁 マ ス キ ン グ層 と 、 前記導電性基板上で あ っ て絶 縁 マ ス キ ン グ層 間 に 形成 さ れ た導電性層 と を 備 え た こ と を 特徵 と す る 転写用 原版で あ る 。
本発 明 の 第 1 5 の 特徴 は、 少 な く と も 表面が導電性 の 導電性基板 と 、 こ の 導電性基板上 に 、 こ の 導電性基板 の 導電性面が線幅 の 小 さ い 配線 の 集合で あ る よ う な 所望 の 配線パ タ ー ン で露 出 す る よ う に 形成 し た絶縁 マ ス キ ン グ 層 と 、 前記導電性基板上で あ っ て 絶縁 マ ス キ ン グ層 間 に 電析 に よ り 形成 さ れ た 導電層 と 、 を 備 え た こ と を 特徴 と す る 転写用 原版で あ る 。
本発 明 の 第 1 6 の 特徴 は、 少 な く と も 表面が導電性の 導電性基板上 に 、 所望パ タ ー ン で絶縁 マ ス キ ン グ層 を形 成す る 工程 と 、 露 出 し て い る 前記導電性基板表面 に電着 法 に よ り 導電性層 を 形成す る 工程 と を備 え た こ と を特徴 と す る 転写用 原版 の 製造方法で あ る 。 図面の 簡単な説明
図 1 は本発明 の 第 1 の 実施例を示す多層 プ リ ン ト 配線 板の概略断面図で あ る 。
図 2 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説明 す る た め の 図面で あ る 。
図 3 は本発明 の多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法 に使用 す る 本発明 の 転写用原版の一例を示す概略断面図で あ る 図 4 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法 に使用 す る 本発明 の転写用 原版の一例を示す概略断面図で あ る 図 5 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説明 す る た め の 図面で あ る 。
図 6 は本発明の転写用 原版の他の 態様を示す概略断面 図で あ る 。
図 7 は図 6 に示 さ れ る 転写用原版の製造方法を.説明す る た め の 図で あ る 。
図 8 は本発明の転写用 原版の他の態様を示す概略断面 図であ る 。
図 9 は図 8 に 示 さ れ る 転写用原版の 製造方法を説明す る た め の 図で あ る 。
図 1 0 は本発明の転写用原版の他の 態様を示す概略断 面図であ る 。
図 1 1 は図 1 0 に示 さ れ る 転写用 原版の製造方法を説 明す る た め の 図で あ る 。
図 1 2 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層 の交差部を示す斜視図で あ る 。
図 1 3 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 配線パ タ ー ン 層の近接部を示す斜視図で あ る 。
図 1 4 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層相互の 接続方法を説明す る た め の 図面で あ る 。
図 1 5 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層 の交差部 に お け る 接続状態を示す斜視図で あ る 。
図 1 6 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層 の交差部 に お け る 接続状態を示す斜視図で あ る 。
図 1 7 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層 の交差部 に お け る 接続状態を示す斜視図で あ る 。
図 1 8 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層の近接部 に お け る 接続状態を示す斜視図であ る 。
図 1 9 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の 配線パ タ ー ン 層 の近接部 に お け る 接続状態を示す斜視図で あ る 。
図 2 0 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層の近接部 に お け る 接続状態を示す斜視図で あ る 。
図 2 1 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層の近接部 に お け る 接続状態を示す斜視図で あ る 。
図 2 2 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層 の近接部 に お け る 接続状態を示す斜視図であ る 。
図 2 3 A は、 本発明 の多層 プ リ ン ト 配線板の配線バ タ 一 ン層 の近接部に お け る 接続状態を示す斜視図で あ る 。
図 2 3 B は、 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン層の 近接部を接続す る た め に 使用 さ れ る 接続体を形成 さ せ た 状態を示す図で あ る 。
図 2 4 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層 の近接部 に お け る 接続を順次形成 さ せ る 状態を 示す斜 視図で あ る 。
図 2 5 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層の近接部 に お け る 接続を順次形成 さ せ る 状態を 示す斜 視図であ る 。
図 2 6 は本発明 の 第 2 の実施例 を示す多層 プ リ ン ト 配 線板の概略断面図で あ る 。
図 2 7 は本発明の多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説 明す る た め の 図面で あ る 。
図 2 8 は配線パ タ ー ン層の上に絶縁層 を形成 さ せ た状 態を示す斜視図であ る 。
図 2 9 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説 明す る た め の 図面であ る 。
図 3 0 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説 明す る た め の 図面で あ る 。
図 3 1 は本発明の多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説 明す る た め の 図面であ る 。
図 3 2 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説 明す る た め の 図面で あ る 。
図.3 3 本発明の多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法を説 明す る た め の 図面で あ る 。 図 3 4 は本発明 の 第 3 の実施例を示す多層 プ リ ン ト 配 線板の概略断面図で あ る 。
図 3 5 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法を説 明す る た め の 図面で あ る 。
図 3 6 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法を説 明す る た め の 図面で あ る 。
図 3 7 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 他の例 を示す 概略断面図で あ る 。
図 3 8 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法の他 の例 に使用 す る 転写用原版の一例 を説明す る た め の 図面 であ る 。
図 3 9 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法の他 の例を説明す る た め の 図面であ る 。
図 4 0 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法の他 の例を説明す る た め の 図面で あ る 。
図 4 1 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の製造方法の他 の例を説明す る た め の 図面で あ る 。
図 4 2 は本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板の一例 に お け る 配線パ タ ー ン層の交差部を示す斜視図で あ る 。
図 4 3 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の他の例 に お け る 配線パ タ ー ン層 の交差部を示す斜視図で あ る 。
図 4 4 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の配線パ タ ー ン 層の近接部を示す斜視図であ る 。
図 4 5 は本発明 の 第 4 の実施例を示す プ リ ン ト 配線板 4 の 部分平面図で あ る 0
図 4 6 は 図 4 5 に 示 さ れ る プ リ ン ト 配線板の A — A 線 お よ び B — B 線 に お け る 部分拡大縦断面図であ る 。
図 4 7 は本発明 の プ リ ン ト 配線板の線幅の 大 き い配線 の態様を示す図で め な 。
図 4 8 は本発明 の プ リ ン ト 配線板の線幅の大 き い配線 の態様を示す図で め る o
図 4 9 は本発明 の プ リ ン ト 配線板の線幅の 大 き い配線 の態様を.示す図で め る o
図 5 0 は本発明の プ リ ン ト 配線板の線幅の大 き い配線 の 態様を示す図で め る o
図 5 1 は本発明の プ リ ン ト 配線板の他の例を示す図 4 6 に相当 す る 図で あ る
図 5 2 は本発明の プ リ ン ト 配線板の製造方法を説明す る た め の 図面で あ る o
図 5 3 は本発明の転写用原版の製造方法お よ び本発明 の プ リ ン ト 配線板の 製造方法を説明す る た め の 図で あ る 図 5 4 は本発明の プ リ ン ト 配線板の他の例を示す縦断 面図であ る 。
発明を実施す る た め の最良の形態 第 1 の実施例
以下、 本発明 の 第 1 の実施例 につ い て図面を参照 し な が ら 説明す る 。
図 1 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の一例を示す概略 断面図で あ る 。 図 1 に お い て、 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 は 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 と 、 多 層 プ リ ン ト 配線板 用 の 基板 2 上 に 設 け ら れ た 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 こ の 配線パ タ ー ン 層 3 上 に 積層 さ れ た 第 2 層 目 の 配 線ノ、 ° タ ー ン 層 4 と 、 更 に 配線パ タ ー ン 層 4 上 に 積層 さ れ た 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と を 備 え て お り 、 3 層構 成 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 と な っ て い る 。
こ の 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 を構成す る 各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 ,. 5 は、 そ れ ぞれ導電性層 3 a , 4 a , 5 a と こ の 導電性層 の 下部 に 形成 さ れ た 絶縁樹脂層 3 b , 4 b 5 b と を 有 し て い る 。 そ し て、 多層 プ リ ン ト 配線板 1 は 各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 , 5 を 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 の 上、 あ る い は 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の上 に 順次 転写積層 し た 重ね 刷 り 型 の 構造で あ り 、 各配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 (交差部) で は、 上下の 配線パ タ ー ン 層 間 の 絶縁 は 上層 の 配線パ タ ー ン 層 を構成す る 絶 縁樹脂層 に よ り 保 た れ て い る 。
こ の た め 、 本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 は 、 従来 の 多層 プ リ ン ト 配線板 に 見 ら れ た よ う な 絶縁層 に よ る 配線 パ タ ー ン の 被覆が な く 、 各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 , 5 の 導電性層 3 a , 4 a , 5 a は部分的 に 常 に 裸 出 さ れて お り 、 後述す る よ う に 、 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ る い は 各配線パ タ ー ン 層 が相互 に 近接す る 部分 (近接部) に お け る 各配線パ タ 一 ン 層相互の 接続を 容易 に 行 う こ と がで さ る o
本発 明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 を 構成す る 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 は 、 ガ ラ ス エ ポ キ シ 基板、 ポ リ イ ミ ド基板、 ア ル ミ ナ セ ラ ミ ッ ク 基板、 ガ ラ ス エ ポ キ シ と ポ リ イ ミ ド の 複 合基板等、 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と し て 公知 の 基板 を 使用 す る こ と がで き る 。 こ の 基板 2 の 厚 さ は 5 〜 1 0 0 0 m の 範囲で あ る こ と が好 ま し い 。
各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 , 5 の 厚 み は 、 後述す る 積層 転写 に お け る 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の 乗 り 越 え を 欠陥 な く 行 う た め に 、 1 0 0 m以下、 好 ま し く は 1 0 ~ 6 0 // m の 範囲 と す る 。 ま た 、 各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 , 5 を 構成す る 導電性層 3 a , 4 a , 5 a の 厚み は 、 配線パ タ ー ン 層 の 電気抵抗 を低 く 抑 え る た め 1 以上、 好 ま し く は 5 〜 4 0 / m の 範囲 と す る 。 さ ら に 、 絶縁樹脂層 3 b , 4 b , 5 b の 厚み は 、 使用 す る 絶縁樹脂 に も よ る が、 交差部 に お い て上下 の 配線パ タ ー ン 層 間の 絶縁を 保 つ た め に 少な く と も 1 ; w m以上、 好 ま し く は 5 〜 3 0 / m の 範囲 と す る 。 こ の よ う な 配線パ タ ー ン層 3 , 4 , 5 の 線幅 は 、 最小幅 1 0 / m程度 ま で任意 に 設定す る こ と 力《 で き る 。
導電性層 3 a , 4 a , 5 a の 材料 は 、 後述す る よ う に 電着法 に よ り 薄膜形成が可能 な も の で あ れば特 に 制限 は な く 、 例 え ば、 銅、 銀、 金、 ニ ッ ケ ル、 ク ロ ム 、 亜鉛、 すず、 白 金等 を 用 い る こ と がで き る 。 - 1 1 - ま た 、 絶縁樹脂層 3 b , 4 b , 5 b の 材料 は、 常温 も し く は加熱 に よ り 粘着性 を 示す電着性絶縁物質で あ れ ば よ い 。 例 え ば、 使用 す る 高分子 と し て は 、 粘着性 を 有す る ァ ニ オ ン 性、 ま た は カ チ オ ン 性 の 合成高分子樹脂 を 挙 げ る こ と がで き る 。
具体的 に は 、 ァ ニ オ ン 性合成高分子樹脂 と し て、 ァ ク リ ル樹脂、 ポ リ エ ス テ ル樹脂、 マ レ イ ン 化油樹脂、 ポ リ ブ タ ジ エ ン 樹脂、 エ ポ キ シ 樹脂、 ポ リ ア ミ ド樹脂、 ポ リ イ ミ ド樹脂等 を 単独 で、 あ る い は 、 こ れ ら の 樹脂 の 任意 の 組み 合 わ せ に よ る 混 合物 と し て使用 で き る 。 さ ら に 、 上記の ァ ニ オ ン 性合成高分子樹脂 と メ ラ ミ ン 樹脂、 フ ユ ノ ー ル樹脂、 ウ レ タ ン 樹脂等の架橋性樹脂 と を併用 し て も よ い。
ま た 、 カ チ オ ン 性 合成高分子樹脂 と し て、 ア ク リ ル樹 脂、 エ ポ キ シ 樹脂、 ウ レ タ ン 樹脂、 ポ リ ブ タ ジ エ ン 樹脂 ポ リ ア ミ ド樹脂、 ポ リ イ ミ ド樹脂等を単独 で、 あ る い は こ れ ら の 任意の 組み 合わ せ に よ る 混合物 と し て使用 で き る 。 さ ら に 、 上記の カ チ オ ン 性合成高分子樹脂 と ポ リ エ ス テ ル樹脂、 ウ レ タ ン 樹脂等 の 架橋性樹脂 と を 併用 し て も よ い。
ま た、 上記の 高分子樹脂 に 粘着性を付与す る た め に 口 ジ ン 系、 テ ル ペ ン 系、 石油樹脂系等の 粘着付与樹脂 を 必 要 に 応 じ て添加す る こ と も 可能で あ る 。
上記の 高分子樹脂 は 、 後述す る 本発明 の 製造方法 に お い て ア ル カ リ 性 ま た は 酸性物質 に よ り 中和 し て水 に 可溶 化 さ れ た 状態、 ま た は 水分散状態 で電着法 に 供 さ れ る 。 す な わ ち 、 ァ ニ オ ン 性 合成高分子樹脂 は 、 ト リ メ チ ル ァ ミ ン 、 ジ ェ チ ル ァ ミ ン 、 ジ メ チ ル エ タ ノ ー ノレ ア ミ ン 、 ジ イ ソ プ ロ パ ノ ー ル ァ ミ ン 等 の ア ミ ン 類 、 ア ン モ ニ ア 、 苛 性 カ リ 等 の 無機 ア ル カ リ で 中和す る 。 ま た 、 カ チ オ ン 性 合成高分子樹脂 は 、 酢酸、 ギ酸、 プ ロ ピ オ ン 酸、 乳酸等 の 酸 で 中和 す る 。 そ し て、 中和 さ れ水 に 可溶化 さ れ た 高 分子樹脂 は 、 水分散型 ま た は 溶解型 と し て水 に 希釈 さ れ た 状態で使用 さ れ る 。
ま た、 上記 の 粘着性 を 示す電着性絶縁物質の 絶縁性、 耐熱性等 の 信頼性 を 高 め る 目 的で、 上記 の 高分子樹脂 に ブ ロ ッ ク イ ソ シ ァ ネ ー ト 等 の 熱重合性不飽和結合 を 有す る 公知 の 熱硬化性樹脂 を 添加 し 、 多層 プ リ ン ト 配線板の 全層 を 転写形成後、 熱処理 に よ っ て すベ て の 絶縁樹脂層 を 硬化 さ せ て も よ い 。 勿論、 熱硬化性樹脂以外 に も 、 重 合性不飽和結合 (例 え ば、 ア ク リ ル基、 ビニ ル基、 ァ リ ル基等) を 有す る 樹脂 を電着性絶縁物質 に 添加 し て お け ば、 多層 プ リ ン ト 配線板 の 全層 を転写形成後、 電子線照 射 に よ っ てすベ て の 絶縁樹脂層 を硬化 さ せ る こ と がで き
Ό o
絶縁樹脂層 の 材料 と し て は、 上記 の 他 に 、 常温 も し く は 加熱 に よ り 粘着性 示す も の で あ れ ば、 熱可塑性樹脂 は も ち ろ ん の こ と 、 熱硬化性樹脂 で硬化後 は 粘着性 を 失 9 う よ う な 粘着性樹脂 で も よ い 。 ま た 、 塗膜 の 強度 を 出 す た め に 有機 あ る い は 無機 の フ ィ ラ ー を 含 む も の で も よ い ま た 、 絶縁樹脂層 3 b , 4 b , 5 b の 材料 は、 常温 も し く は 加熱 に よ り 流動性 を 示す電着性 の 接着剤 で あ っ て も よ い
次 に 、 上記 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 の 製造を 例 に し て 図 2 乃至図 5 を 参照 し な が ら 本発 明 の 多 層 プ リ ン ト 配線 板 の 製造方法を 説明 す る
ま ず、 本発 明 の 転写用 原版 を 作成す る た め に 、 転写基 板 と し て の 導電性基板 1 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を 塗布 し て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 1 2 を形成 (図 2 ( A ) ) す る 。 そ し て、 所定の フ オ ト マ ス ク を用 い て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 1 2 を 密着露光 し 現像 し て絶縁 マ ス キ ン グ層 1 2 ' と し 導電性基板 1 1 の う ち 配線パ 夕 ー ン 部分 1 1 a を 露 出 さ せ る (図 2 ( B :) ) 。 次 に、 導電性基板 1 1 の 配線パ 夕 ー ン 部分 1 1 a 上 に メ ッ キ 法 に よ り 導電性層 1 4 を形成 す る (図 2 ( C :) ) 。 そ の 後、 導電性層 1 4 上 に ¾ 法 に よ り 粘着性 あ る い は 接着性 の 絶縁樹脂層 1 5 を 形成す る (図 2 ( D ) :) 。 こ れ に よ り 、 導電性層 1 4 と 絶縁樹 脂層 1 5 と を有す る 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 1 3 を設 け た 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 1 0 が得 ら れ る 。 同 様 に し て、 図 3 お よ び図 4 に 示 さ れ る よ う に、 導電性基 板 2 1 , 3 1 上 に 絶縁 マ ス キ ン グ層 3 2 ' と 、 導電性層 2 4 , 3 4 お よ び絶縁樹脂層 2 5 , 3 5 を 有す る 配線パ タ ー ン 層 2 3 , 3 3 を 設 け た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 2 0 、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 雇 用 の 転 写用 原版 3 0 を作製す る 。
な お 、 図 2 ( D ) に 示す転写用 原版 1 0 の 代 わ り に 、 図 2 ( E ) に 示す転写用 原版 1 0 を 用 い て も よ い 。 す な わ ち 図 2 ( E ) に 示す よ う に 、 導電性基板 1 1 お よ び絶 縁 マ ス キ ン グ層 1 2 ' の 表面 に 、 剥離性樹脂層 1 2 a が 設 け ら れて い る 。 剥離性樹脂層 1 2 a は 、 シ リ コ ー ン 樹 脂、 ポ リ イ ミ ド樹脂、 テ フ ロ ン 樹脂等 に よ り 形成す る こ と が で き 、 特 に 粘着剤 に 対す る 離型性 を 考慮 し た 場合、 シ リ コ ー ン 樹脂が好 ま し く 使用 さ れ る 。 シ リ コ ー ン 樹脂 と し て は 熱硬化型 シ リ コ ー ン 樹脂、 紫外線硬化型 シ リ コ ー ン 樹脂、 電子線硬化型 シ リ コ ー ン.樹脂 の い ず れ で あ つ て も よ い 。 こ の よ う な 剥離性樹脂層 の 厚 さ は 0 . 0 0 5 〜 0 . l // m 程度が好 ま し い。 剥離性樹脂層 1 2 a の 厚 さ 力く 0 . 0 0 5 // m未満で あ る と 、 外力 に よ る 剥離性樹 脂層 1 2 a の 破断等が生 じ て絶縁 マス キ ン グ層 1 2 ' の 保護 が不十分 と な る 。 ま た 剥離性樹脂層 1 2 a の 厚 さ が 0 . を越 え る と 、 電着物質が凹 部内 に 形成 さ れ な か っ た り 、 凹部形状 の 変化が起 こ り 好 ま し く な い 。 剥離 性樹脂層 1 2 a の 形成方法 と し て は 、 掛 け流 し 法 に よ り 塗布 し た後 に 硬化 さ せ る 方法、 ス ピ ン コ ー ト 、 ロ ー ル コ 一 ト 等が挙 げ ら れ る 。
次 に 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 、 上記 の 配 線パ タ ー ン層用 の転写用原版 1 0 を絶縁樹脂層 1 5 が基 板 2 に 当接す る よ う に圧着す る 。 こ の圧着 は、 ロ ー ラ 圧 着、 プ レ ー ト 圧着、 真空圧着等、 いずれの方法に し た が つ て も よ い。 ま た、 絶縁樹脂層が加熱 に よ り 粘着性あ る い は接着性を発現す る 絶縁樹脂か ら な る 場合 に は、 熱圧 着を行 う こ と も で き る 。 そ の後、 導電性基板 1 1 を剥離 し て配線パ タ ー ン 層 1 3 を基板 2 上に転写す る こ と に よ り 、 導電性層 3 a と 絶縁樹脂層 3 b を有す る 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン層 3 を基板 2 上 に形成す る (図 5 ( A ) ) そ の後、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン層 3 が転写形成 さ れた 多層 プ リ ン ト 配線板用 の基板 2 上 に、 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層用 の転写用 原版 2 0 を用 いて第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 に対す る 位置合わせを行 っ た う えで同様 に配線 パ タ ー ン層 の転写を行 い、 導電性層 4 a と 絶縁樹脂層 4 b を有す る 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 4 を形成す る (図 5 ( B ) ) 。 さ ら に、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 お よ び第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 4 が転写形成 さ れた基 板 2 上 に 、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 3 0 を用 い て 同様 に 位置合わせを行 っ て配線パ タ ー ン層 の転写を行い、 導電性層 5 a と 絶縁樹脂層 5 b を有す る 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層 5 を形成す る (図 5 ( C ) ) 上述の よ う に、 各配線パ タ ー ン層 3 , 4 , 5 の積層 は 配線パ タ ー ン層用 の 転写用原版 1 0 , 2 0 , 3 0 の配線 タ ー ン層 1 3 , 2 3 , 3 3 を基板上 に順次転写す る こ と に よ り 行 わ れ る た め 、 多層 プ リ ン ト 配線板 1 は 各配線 ノ、0 タ ー ン 層 3 , 4 , 5 力、 ら な る 、 い わ ゆ る 重ね 刷 り 型 の 構造 で あ る 。
尚 、 上述 の 例 で は 、 配線 パ タ ー ン 層 用 の 転写 用 原 版 1 0 , 2 0 , 3 0 は 、 導電性基板 1 1 , 2 1 , 3 1 と 、 フ ォ ト レ ジ ス ト カヽ ら な る 絶縁 マ ス キ ン グ層
1 2 ' , 3 2 ' と 、 導電性層 1 4 , 2 4 , 3 4 と 、 こ の 導電性層 1 4 , 2 4 , 3 4 上 に 形成 さ れ た 粘着性 あ る い は 接着性 の 絶縁樹脂層 1 5 , 2 5 , 3 5 と か ら な っ て い る が、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 1 0 に つ い て は 、 絶縁樹脂層 1 5 が形成 さ れて い な い も の で も よ い 。 こ の 場合、 予 め 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 絶縁性 の 粘着剤層 あ る い は接着剤層 を 設 け て お け ば、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を基板 2 上 に 転写す る こ と が で き る 。
こ こ で、 本発明 の 転写用 原版の 他 の 態様 を説 明 す る 。 図 6 は本発明 に 係 る 転写用 原版の一態様で あ る 凹版 夕 イ ブ の 転写用 原版の 概略構成図で あ る 。 図 6 に お い て、 転写用 原版 1 O A は 少 な く と も 表面が導電性 を 示す導電 性基板 1 1 と 、 該導電性基板 1 1 に エ ッ チ ン グ に よ り 形 成 さ れ た 凹部 1 8 と 、 こ の 凹部 1 8 内 に 設 け ら れ た絶縁 性物質 か ら な る 絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 と を 備 え て い る 。 絶縁 マ ス 午 ン グ層 1 6 は そ の 表面が導電性基板 1 1 の 表 面 よ り 所定 の 高 さ だ け 突 出 し て形成 さ れて い る 。 隣 り 合 う 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 に よ り 囲 ま れた 凹版部分 は導電 性層形成部 1 9 を な す。 こ こ で、 凹部 1 8 は エ ッ チ ン グ 時の サ イ ドエ ッ チ ン グ効果 に よ り 上面が広い椀状を な し て い る た め 、 導電性層形成部 1 9 は そ の 底面中央部 に導 電性基板 1 1 の表面が裸出 し 、 辺縁部 は絶縁マ ス キ ン グ 層 1 6 か ら な る 。 そ し て、 こ の底面中央部の導電面裸出 部が 出発電極 と な っ て導電性層形成部 1 9 内 に導電性層 1 4 が形成 さ れ、 こ の導電性層 1 4 上 に粘着性あ る い は 接着性の絶縁樹脂層 1 5 が形成 さ れて い る 。
図 7 は、 図 6 に示す凹版 タ イ プの転写用原版の製造方 法の説明図であ る 。 図 7 に お い て、 ま ず公知の方法に よ つ て導電性基板 1 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト 層を形成 し 、 所 定 ノ、 ° タ ー ン の フ ォ ト マ ス ク を介 し て該 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 に紫外線を照射後、 露光 · 除去 (現像) し て所定パ タ ー ン の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を形成す る (図 7
( A ) ) 。 次 に、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を エ ッ チ ン グ用 マ ス ク と し て導電性基板 1 1 の マ ス キ ン グ 層非形成部分を エ ッ チ ン グ し て凹部 1 8 を形成す る が、 こ の 際、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 縁辺下部の基板 部分に入 り 込んでサ イ ドエ ッ チ ン グ部が形成 さ れ、 こ の サ イ ドエ ッ チ ン グ部を含む凹部 1 8 の上面面積は マ ス キ ン グ層 非形 成部分 の 面積 よ り も 大 き く 形成 さ れ、 凹部 1 8 は椀.状を な す (図 7 ( B ) ) 。
次 に、 こ の よ う に椀状 に形成 さ れた凹部 1 8 内 に絶縁 性物質 を電着 さ せ る こ と に よ っ て絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 を形成す る (図 7 ( C ) ) 。 絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 の 表 面 は エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 の 表面 と 略同一の 高 さ に 形成 さ れ る 。 そ の 後、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ 層 1 7 を 除去 し て導電性基板 1 1 の 導電面 を 裸 出 し て 凹 版状 の 導電性層 形成部 1 9 と す る (図 7 ( D ) ) 。 そ し て 、 こ の 導電性層形成部 1 9 に 電着 に よ り 導電性層 1 4 を形成 し た 後、 導電性層 1 4 上 に 電着 に よ り 粘着性 あ る い は 接着性 の 絶縁樹脂層 1 5 を 形成 し て 本発明 の 転写用 原版 1 0 A と す る (図 7 ( E ) ) 。
上述 の 転写用 原版 1 O Aで は、 凹状の 導電性層 形成部 1 9 の 中央部分 を 出発電極 と し て、 導電性層 1 4 が水平 並 び に 垂直方 向 に 等方的 に 成長す る た め 、 導電性層 1 4 は 表面が略均一 な 平面 と な っ て形成 さ れ る 。 そ し て、 導 電性層 1 4 は 、 底部の 一部 に お い て導電性基板 1 1 と 接 触 し て い る に す ぎず、 そ の 分導電性基板 1 1 と の 密着性 が低減で き る た め 、 転写時 の 導電性層 1 4 の 引 き 抜 き が 容易 に 行わ れ、 絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 に 接触剥離力 の 影 響を 与 え な い 。 ま た、 導電性層 1 4 は 、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 除去後 の 導電性層形成部 1 9 内 に 形成 さ れ る こ と か ら 、 最終 の 配線パ タ ー ン の 面積 は 初期 エ ッ チ ン グ レ ジ ス ト パ タ ー ン で あ る エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 の ノ、。 タ ー ン と 同一面積 と な り 、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を所定 の 微細パ タ ー ン に て形成 し て お け ば、 こ の パ タ ー ン 通 り に導電性層 1 4 を形成す る こ と がで き る の で、 寸法調整の必要の な い高 い寸法精度で配線バ タ ー ン を得 る こ と がで き る 。
図 8 は本発明 に 係 る 転写用原版の他の態様であ る 平版 タ イ プ電着転写用原版の概略構成図であ る 。 図 8 に お い て、 転写用 原版 1 0 B は少な く と も 表面が導電性を示す 導電性基板 1 1 と 、 該導電性基板 1 1 に エ ッ チ ン グ に よ り 上面面積が広 く 椀状 に形成 さ れた 凹部 1 8 と 、 こ の 凹 部 1 8 内 に設 け ら れ た絶縁性物質か ら な る 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 と を備え て い る 。 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 は そ の 表面が導電性基板 1 1 の表面 と 略同一の高 さ に形成 さ れ て い る 。 隣 り 合 う 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 に よ り 囲 ま れた 導電面裸出部分は導電性層形成部 1 9 を な す。 こ こ で、 凹部 1 8 は エ ッ チ ン グ時の サ イ ドエ ッ チ ン グ効果 に よ り 上面が広 い椀状を な し て い る た め、 導電性層形成部 1 9 は そ の底面中央部が導電面裸出部を な し 、 辺縁部が絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 を な す。 そ し て、 こ の底面中央部の狭 め ら れた導電面裸出部が 出発電極 と な っ て電着物が析出 さ れ、 導電性層形成部 1 9 上 に導電性層 1 4 が水平並 び に垂直方向 に等方的 に形成 さ れて い る 。 さ ら に、 導電性 層 1 4 上 に電着に よ り 粘着性あ る い は接着性の絶縁樹脂 層 1 5 が形成 さ れて い る 。
図 9 は、 図 8 に示す平版 タ イ プの転写用原版 1 0 B の 製造方法の'説明図で あ る 。 図 9 に お い て、 図 7 の場合 と 同様 に し て導電性基板 1 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を形成 し 、 所定パ タ ー ン の フ ォ ト マ ス ク を 介 し て該 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 に 紫外線 を 照射 し た 後、 露光 , 除去 (現像) し て 所定パ タ ー ン の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を 形成す る (図 9 ( A ) ) 。 次 に 、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ 層 1 7 を エ ッ チ ン グ用 マ ス ク と し て導電性基板 1 1 の マ ス キ ン グ層 非形成部分 を エ ッ チ ン グ し て 凹部 1 8 を形成 す る が、 図 7 の 場合 と 同 様 に エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 の 縁辺 の 基板部分 に 入 り 込ん で サ イ ド エ ッ チ ン グ部 が形成 さ れ、 こ の サ イ ド エ ッ チ ン グ部 を 含 む 凹部 1 8 の 上面面積 は マ ス キ ン グ層非形成部分 の 面積 よ り も 大 き く 形成 さ れ、 凹部 1 8 は 椀状 を な す (図 9 ( B ) ) 。
次 に 、 こ の よ う に 椀状 に 形成 さ れ た 凹部 1 8 内 に 絶縁 性物質 を 電着 さ せ る こ と に よ っ て絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 を 形成す る (図 9 ( C ) ) が、 平版 タ イ プ の 原版 に お い て は絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 は導電性基板 1 1 の表面 と 略 同一の 高 さ に 形成 さ れ る 。 そ の 後、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を 除去 し て導電性基板 1 1 の 導電面を 裸出 し て導電性層形成部 1 9 と す る (図 9 ( D ) ) 。 そ し て、 こ の 導電性層形成部 1 9 に 電着 に よ り 導電性層 1 4 を形 成 し た後、 導電性層 1 4 上 に 電着 に よ り 粘着性 あ る い は 接着性 の 絶縁樹脂層 1 5 を 形成 し て 本発明 の 転写用 原版 1 0 B と す る (図 9 ( E ) ) 。
上記 の転写用 原版 1 0 B で は 、 導電性層形成部 1 9 の 導電面裸出部 は、 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 の サ イ ドエ ツ チ ン グ部 に よ る 幅広部分 に よ っ て狭め ら れて お り 、 こ の 狭 め ら れ た導電面裸出部を 出発電極 と し て、 電着物質が基 板上 に 水平並び に垂直方向 に等方的 に成長す る た め、 導 電性層 1 4 は表面が略均一な 平面 と な っ て形成 さ れ る 。 そ し て、 導電性層 1 4 は、 底部の一部に お い て導電性基 板 1 1 と 接触 し て い る にす ぎず、 そ の分導電性基板 1 1 と の密着性が低減で き る た め、 転写時の導電性層 1 4 の 剥離が容易 に行わ れ、 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 に接触剥離 力の影響を与え な い。 ま た、 版の構造上、 転写時 に絶縁 樹脂層 1 5 と 導電性層 1 4 が優先的且つ 選択的 に基板 2 に加圧密着 さ れ る た め、 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 は接触剥 離力 を受 けず、 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 が変形 し た り 損傷 を受 け る こ と がな い。
図 1 0 は本発明 に 係 る 転写用原版の他の態様で あ る 凸 版 タ イ プの転写用原版の概略構成図で あ る 。 図 1 0 に お い て、 転写用原版 1 0 C は少な く と も表面が導電性を示 す導電性基板 1 1 と 、 該導電性基板 1 1 に形成 さ れた 凹 部 1 8 と 、 こ の凹部 1 8 内 に設け ら れた絶縁性物質か ら な る 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 と を備え て い る 。 絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 は そ の表面が導電性基板 1 1 の表面よ り 所定 の高 さ だ け低 く な る よ う に形成 さ れて い る 。 隣 り 合 う 絶 縁マ ス キ ン グ層 1 6 に よ り 囲 ま れた導電性基板 1 1 の導 電面裸出部が導電性層形成部 1 9 を な し 、 こ の導電性層 形 成 部 1 9 に 導 電 性 層 1 4 が 形 成 さ れ 、 こ の 導 電性層 1 4 上 に 粘着性 あ る い は 接着性の 絶縁樹脂層 1 5 が形成 さ れ て い る 。
図 1 1 は 、 図 1 0 に 示す 凸版 タ イ プ の 転写用 原版 1 0 C の 製造方法 の 説 明図で あ る 。 図 1 1 に お い て、 ま ず公 知 の 方 法 に よ っ て導電性基板 1 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 形成 し 、 所定パ タ ー ン の フ ォ ト マ ス ク を介 し て 該 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 に 紫外線 を 照射後、 露光 · 除去 (現像) し て 所定パ タ ー ン の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を 形成 す る (図 1 1 ( A ) ) 。 次 に 、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を エ ッ チ ン グ用 マ ス ク と し て導電性基板 1 1 の マ ス キ ン グ層 非形成部分を エ ッ チ ン グ し て マ ス ク パ タ ー ン に 忠実 な 凹部 1 8 を 形成す る (図 1 1 ( B ) ) 。
次 に 、 こ の よ う に 形成 さ れ た 凹部 1 8 内 に 絶縁牲物質 を 電着 さ せ る こ と に よ っ て絶縁マ ス キ ン グ層 1 6 を形成 す る (図 1 1 ( C ) ) 。 絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 の 表面 は エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 の 表面 よ り 低 く な る よ う に 形成 さ れ る 。 そ の 後、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を 除去 し て導電性基板 1 1 の 導電面を 裸 出 し て導電 性層形成部 1 9 と す る (図 1 1 ( D ) ) 。 そ し て 、 こ の 導電性層形成部 1 9 に 電着 に よ り 導電性層 1 4 を 形成 し た 後、 導電性層 1 4 上 に 電着 に よ り 粘着性あ る い は接着 性 の 絶縁樹脂層 1 5 を 形成 し て本発 明 の 転写用 原版 1 0 C と す る (図 1 1 ( E ) ) 。 上述の 転写用 原版 1 0 C で は 、 絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 の 表面が導電性基板 1 1 よ り も 低 く な る よ う に 形成 さ れ て い る た め 、 転写時 に 絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 が多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 と 接触す る こ と が な い 。 し た が つ て 、 絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 は接触剥離力 の 影響 を 受 け ず 変形や 損傷 を 防止す る こ と がで き る 。 さ ら に 、 導電性層 1 4 は 、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 除去後 の 導電性 層形成部 1 9 に 形成 さ れ る こ と か ら 、 最終 の 配線パ タ ー ン の 面積 は 初期 エ ッ チ ン グ レ ジ ス ト パ タ ー ン で あ る エ ツ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 の パ タ ー ン と 同一面積 と な り エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を 所定の 微細パ タ ー ン に て形成 し て お け ば、 こ の パ タ ー ン 通 り に導電性層 1 4 を 形成す る こ と がで き る の で、 寸法調整の 必要の な い 高 い 寸法精度で配線パ タ ー ン を 得 る こ と がで き る 。
本発明 の 転写用 原版 に お い て、 導電性基板 1 1 , 2 1 3 1 と し て は、 少 な く と も 表面が導電性を 有す る も の で あ れ ば よ く 、 ァ ノレ ミ ニ ゥ ム 、 銅、 ニ ッ ケ ル、 鉄、 ス テ ン レ ス 、 チ タ ン 等の 導電性 の 金属板、 あ る い は ガ ラ ス 板、 ポ リ エ ス テ ル、 ポ リ カ ー ボネ ー ト 、 ポ リ イ ミ ド、 ポ リ エ チ レ ン 、 ア ク リ ル等 の 樹脂 フ ィ ル ム 等の 絶縁性基板の 表 面 に 導電性薄膜 を 形成 し た も の を 使用 す る こ と がで き る こ の よ う な 導電性基板 1 1 , 2 1 , 3 1 の 厚 さ は
0 . 0 5 〜 : L . 0 m m程度が好 ま し い 。 ま た、 原版 と し て の 耐刷性 を高 め る た め に 、 導電性基板 の 表面 に 、 ク ロ ム ( C r ) 、 セ ラ ミ ッ ク 力 ニ ゼ ン ( K a n i g e n 社製 N i + P + S i C ) 等 の 薄膜 を形成 し て も よ い 。 こ の 薄 膜 の 厚 さ は 0 . 1 〜 1 . 0 z m程度が好 ま し い 。
エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 は 、 例 え ば イ オ ン プ レ 一テ ィ ン グ法、 真空蒸着法、 ス パ ッ タ リ ン グ法、 化学的 気相蒸着法 ( C V D 法) 等 の 各種 の 薄膜形成法 に よ り 、 基板 の 上 に シ リ カ ( S i 0 2 ) 薄膜、 チ ツ イ匕 シ リ コ ン ( S i N χ ) 薄膜、 9 6 % ア ル ミ ナ 薄膜、 ベ リ リ ャ 薄膜 フ ォ ル ス テ ラ ィ ト 薄膜等 の 電気絶縁性 の 高 い 薄膜 を形成 し 、 次 に 、 こ の 薄膜上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布 し て カヽ ら 所定形状の マ ス ク を介 し て露光 · 現像 ェ ツ チ ン グ レ ジ ス ト 剥離す る こ と に よ り 形成す る こ と がで き る 。 あ い る は 薄膜 を形成す る こ と な く 導電性基板 1 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を 塗布 し て マ ス キ ン グ層 を形成 し て も よ い 。 こ れ ら エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 の 形成 に 使用 す る フ ォ ト レ ジ ス ト と し て は、 ゼ ラ チ ン 、 カ ゼ イ ン 、 ボ リ ビニ ル ァ ル コ ー ル等 に 重 ク ロ ム 酸塩等の 感光剤 を 添加 し た も の を 挙 げ る こ と がで き る 。 こ の よ う に形成 さ れ る エ ッ チ ン グ 用 マ ス キ ン グ層 1 7 の 厚 さ は 0 . 5 ~ 1 0 . 0 m程度 が好 ま し い 。
そ し て、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 1 7 を エ ッ チ ン グ用 マ ス ク と し て の 導電性基板 1 1 の エ ッ チ ン グ は、 デ ィ ッ プ、 ス プ レ ー 等 の ゥ エ ツ ト エ ッ チ ン グや 、 ド ラ イ エ ッ チ ン グ等 の 公知 の 慣用 的手段で行 う こ と がで き る が 例 え ば導電性基板 が S U S 板 の 場合 は塩化第二鉄液 に 接 触 (浸漬 な ど) さ せ る こ と に よ っ て、 導電性基板が T i 板 の 場合 に は H F — H 2 0 2 - H 2 0 液 に 接触 さ せ る こ と 等 に よ っ て 、 好適 に 行わ れ る 。 な お 、 T i 基板 の 場 合 エ ッ チ ン グ後 に さ ら に H F — N H 4 F 液、 H F 液等 に 数 十秒 間程度浸漬 さ せ る こ と に よ っ て、 凹部表面を よ り 粗 面化 さ せ る よ う に し て も よ い 。 こ の よ う に す る こ と に よ り 、 凹部 1 8 内 に 電着形成 さ れ る 絶縁性物質 の 凹部内 へ の 定着性 の さ ら な る 向 上を 図 る こ と がで き る 。
絶縁 マ ス キ ン グ層 1 6 は絶縁性物質か ら な る 電着材料 で あ る 。 絶縁パ タ ー ン の 電着材料 は、 一般 に 有機材料 (高分子材料) か ら な り 、 そ の 原形 は電着塗装法 と し て よ く 知 ら れ て い る 。 電着塗装で は 、 電気化学的 な 主電極 と の 反応 に よ り カ チ オ ン 電着 と ァ ニ オ ン 電着 と が あ る 。 こ れ は、 電着材料力く カ チ オ ン と し て存在す る か、 ァ ニ ォ ン と し て挙動す る か で分類 さ れ る 。 電着 に 用 い ら れ る 有 機高分子物質 と し て は 、 天然油脂系、 合成油脂系、 ア ル キ ッ ド樹脂系、 ポ リ エ ス テ ル樹脂系、 ア ク リ ル樹脂系、 エ ポ キ シ 樹脂系、 ポ リ イ ミ ド樹脂系等 の 種 々 の 有機高分 子物質等が挙 げ ら れ る 。 ァ ニオ ン 型で は、 古 く か ら マ レ イ ン 化油や ポ リ ブ タ ジ エ ン 系樹脂が知 ら れ て お り 、 電着 物質 の硬化 は酸化重 合反応 に よ る 。 カ チ オ ン 型 は ェ ポ キ シ 樹脂系 が多 く 、 単独 あ る い は変性 さ れて使用 で き る 。 そ の 他 に 、 メ ラ ミ ン 樹脂系、 ア ク リ ル樹脂系等の い わ ゆ る ポ リ ア ミ ノ 系樹脂が多 く 用 い ら れ、 熱硬化 や光硬化等 に よ り 強固 な 絶縁層 を 形成で き る 。
特 に 離型性 を 良好 に す る た め に 、 上記樹脂 に フ ッ 素 を 導入 し た も の や 、 フ ッ 素系 ポ リ マ ー 粒子 を分散 さ せ た も の 等 が好適 に 用 い ら れ る 。 こ れ ら フ ッ 素系樹脂 と し て は 四 フ ッ 化エ チ レ ン 分散型電着樹脂 ゃ ァ ク リ ル主鎖 あ る い は 側鎖への フ ッ 素結合型 電着樹脂 な どが特 に 好適 に 用 い ら れ、 四 フ ッ 化 工 チ レ ン 分散型電着樹脂 と し て は フ ッ 素 ア ク リ ル樹脂 ( P A F C ) 等が例 示 的 に 挙 げ ら れ、 ァ ク リ ル主鎖へ の フ ッ 素結合型電着樹脂 と し て は主鎖 に フ ッ 素 を 含む フ ルォ ロ ォ レ フ ィ ン — ビニ ルエ ー テ ル共重合体 等が例示的 に 挙 げ ら れ る 。 ま た、 塗膜 の 強度 を 高 め る た め に 、 熱硬化性 メ ラ ミ ン 樹脂 を共析 さ せ、 熱処理 を 行 う と よ い 。
次 に 、 本発 明 に 係 る 多層 プ リ ン ト 配線板の 各配線パ 夕 ー ン 層 の 交差部 あ る い は 近接部 に お け る 接続 に つ い て説 明す る 。
図 1 2 は 、 多層 プ リ ン ト 配線板 1 を 構成す る 配線バ タ — ン 層 3 と 配線パ タ ー ン 層 4 と の 交差部 を 示す斜視図で あ る 。 図 1 2 に 示 さ れ る よ う に 、 各配線パ タ ー ン 層 の導 電性層 は部分 的 に 常 に 裸 出 さ れ た も の と な り 、 交差部で は 、 配線パ タ ー ン 層 3 と 配線パ タ ー ン 層 4 と の 間 の 絶縁 は 上層 で あ る 配線パ タ ー ン 層 4 を構成す る 絶縁樹脂層 4 b に よ り 保 た れ て い る 。 そ し て、 各配線パ タ ー ン層 の 導電性層 は 部分 的 に 常 に 裸 出 さ れ て い る た め 、 配線バ タ ー ン 層 の 交差部、 あ る い は、 図 1 3 に 示 さ れ る よ う に 各 配線パ タ ー ン 層 が相互 に 近接す る 部分 (近接部、 図示例 で は 配線パ タ ー ン 層 3 と 配線パ タ ー ン 層 4 と が近接 し て い る ) に お け る 各配線パ タ ー ン 層相互 の 接続 を 容易 に 行 う こ と 力 で き る 。
上記 の よ う な 各配線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ る い は 近接 部 に お け る 接続 と し て は 、 ( 1 ) リ フ ト オ フ 法、 ( 2 ) 印刷法、 ( 3 ) デ イ ス ペ ン ス 法、 ( 4 ) 超微粒子吹付 け 法、 ( 5 ) レ ー ザ ー 描画法、 ( 6 ) 選択無電解 メ ツ キ 法
( 7 ) 選択蒸着法、 ( 8.) 溶接接合法、 ( 9 ) ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ法、 ( 10) ワ イ ヤ .一ボ ン デ ィ ン グ装 置 を 用 い た 1 シ ョ ッ ト 法、 ( 11 ) レ ー ザ ー メ ツ キ 法、 ( 12 ) 導 電体 と 半 田 メ ツ キ と の 積層体の 一括転写法、 ( 13) 金属 塊挿入法、 ( 14) 無電解 メ ツ キ 法等が挙 げ ら れ る 。
図 1 4 は上記 ( 1 ) の リ フ ト オ フ 法 に よ る 多層 プ リ ン ト 配線板 1 の 交差部 の 接続方法の 一例 を説明す る た め の 図で あ る 。 ま ず、 交差部 と な る 位 置 に 予 め 貫通す る ス ル 一ホ ー ルパ タ ー ン 4 1 を形成 し た 配線パ タ ー ン 層 4 を 配 線パ タ ー ン 層 3 上 に 転写 し て多層 プ リ ン ト 配線板 1 を 構 成 し 、 こ の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト
(図示せず) を塗布 し て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 形成す る 。 次 に 、 所定 の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 密着露光 し 現像 し て 、 交差部の ス ル ー ホ ー ル 4 1 周 縁 の 導電性層 4 a を わ ず か に 露 出 さ せ る よ う に レ ジ ス ト 層 4 2 を 形成す る (図 1 4 ( A ) ) 。 次 に 、 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 上 に 無電解 メ ツ キ 触媒を 塗布 し て触媒層 4 3 を 形成す る (図 1 4 ( B ) ) 。 そ の 後、 こ の触媒層 4 3 に 無電解 メ ツ キ に よ り 導電性物質 を 析 出 さ せ て導電層 4 4 と し 、 こ の導電層 4 4 を 電極 と し て メ ツ キ 法 に よ り 導電 膜 4 5 を 形成す る ( 図 1 4 ( C ) ) 。 そ し て、 レ ジ ス ト 層 4 2 を剥離 し て リ フ ト オ フ す る こ と に よ り 、 ス ル ー ホ ー ル 4 1 内 に 接合部 4 6 を形成す る (図 1 4 ( D ) ) 。 図 1 5 は 、 こ の よ う に し て接合部 4 6 に よ り 相互 に接続 さ れ た 配線パ タ ー ン 層 3 の 導電性層 3 a と 配線パ タ ー ン 層 4 の 導電性層 4 a と の 状態 を示す斜視図で あ る 。
上記 ( 2 ) の 印刷法 に よ る 多層 プ リ ン ト 配線板 1 の 配 線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ る い は近接部の 接続 は 、 印刷 に よ り 各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 を構成す る 導電性層 3 a , 4 a 相互間 に 跨 が る よ う に 導電ペ ー ス ト ま た は ハ ン ダを 固着 し て接合部を 形成す る こ と に よ り 行 う も の で あ る 。 用 い る 印刷方式 は 特 に 限定 さ れ る も の で は な い が、 一般 に 厚膜 の 印刷 に 適 し 、 電子工業分野で多用 さ れて い る ス ク リ ー ン 印刷が好 ま し い。 ス ク リ ー ン 印刷を行 う 場合 に は、 予 め 配線間 の 接続部 に 相 当 す る 部分 に 開孔部 を も つ ス ク リ ー ン 印刷版 を 作成 し 、 多層配線板上 に 位置 を 合わ せ て 配置 し 、 銀ペ ー ス ト 等 の 導電性ペ ー ス ト イ ン キ を 印 刷す れ ば よ い。 ま た 、 上記 ( 3 ) の デ イ ス ペ ン ス 法 に よ る 多層 プ リ ン ト 配線板 1 の 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ い る は近接部 の 接続 は 、 上記の 印刷法 に 類似 し て い る が、 導電性 の イ ン キ を 微細 な ノ ズ ル か ら 噴 出 さ せ、 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 の 導電性層 3 a , 4 a 間 に 接合部 を 直接描画形成す る こ と に よ り 行 う も の で あ る 。 具体的 に は 、 一般 に 接着剤等 を必要箇所 に 少量付着 さ せ る た め に 用 い ら れて い る 針状 の 噴 出 口 を 有す る デ ィ ス ペ ン サ ー が使用 で き る 。 ま た 、 使用 す る 導電性 イ ン キ の 粘度 に よ っ て は、 コ ン ピ ュ ー タ 等の 出 力装 置 に 使用 さ れて い る イ ン ク ジ 二 ッ ト 方式 も 使 用 可能で あ る 。
上記 ( 4 ) の超微粒子吹付 け 法 は 、 超微粒子を 高速 の 気流 に 乗せ て搬送 し 、 多層 プ リ ン ト 配線板 1 に近接 し て 設 け ら れ た 微細 な ノ ズルか ら 多層 プ リ ン ト 配線板 1 に 吹 き 付 け る こ と に よ っ て、 超微粒子 と 多層 プ リ ン ト 配線板 1 と の 衝突エ ネ ル ギ ー に よ り 相互 に 焼結 し て膜を 形成す る 方法 で あ り 、 ガ ス デ ポ ジ シ ョ ン 法 と 呼 ば れて い る 方法 が利用 で き る 。 こ の 方法 に 用 い る 装置 は 、 基本的 に は 高 真空 と 低真空の 2 つ の 真空槽 と 、 各真空槽 を 接続す る 接 続パ イ プか ら な る 。 そ し て、 超微粒子 は 、 ア ル ゴ ン ガ ス 等を導入 し た 低真空槽 内 に お い て真空蒸発法 に よ り 形成 さ れ、 ま た 、 基板 は 高真空槽 内 に 設置 さ れ て い る 。 上記 の 接続パ イ プ は、 低真空槽内 の 超微粒子 の 発生す る 近傍 と 、 高真空槽内 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 の 近傍部で あ つ て、 こ の 配線板 に 直交す る 方 向 と に 開 口 部 を 有 し て い る 各真 空槽 は 、 そ れ ぞ れ真空排気系 に よ っ て一定 の 圧力 に 保 た れ て い る た め 、 各真空槽間 の 圧力差 に よ り 接続パ イ プ 内 に は 低真空槽 か ら 高真 空槽へ 向 か う 高速 の 気流 ( ガ ス 流) が発生 し 、 低真 空槽 内 で発生 し た 超微粒子 は こ の 気流 に 乗せ ら れ て高真空槽側 へ搬送 さ れ、 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 の 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 に 衝突 し て互 い に 焼結 し 膜状 に な る 。 金、 銀、 銅、 ニ ッ ケ ル等 の 金属 を 母材 に こ の 方法を 用 い る こ と に よ り 、 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 の 導電性層 3 a , 4 a 間 の 接続 を必要 と す る 箇所 に 選択的 に 導電体 (接 合部) を 形成す る こ と が で き る 。
上記 ( 5 ) の レ ー ザ ー 描画 法 は、 導電性の 微粒子 を分 散 し た 溶液を 多層 プ リ ン ト 配線板 に 塗布 し 、 こ の 塗膜 の 所望 の 箇所を レ ー ザ ー に よ っ て加熱す る こ と に よ り 、 樹 脂バ イ ン ダ ー を 分解 あ る い は 蒸発 さ せ て 除去 し 、 こ の 加 熱箇所 に導電性微粒子 を 析 出 、 凝集 さ せ て選択的 に 導電 体 を 形成す る も の で あ る 。 溶液 と し て は 、 ポ リ エ ス テ ル 樹脂、 ア ク リ ル樹脂等 に 金、 銀等の導電性微粒子 を分散 し た も の を 用 い 、 ア ル ゴ ン レ ー ザ ー 等 を絞 っ て照射す る こ と に よ り 、 数十 // m 程度 の 細線 を描画す る こ と がで き る 0
上記 ( 6 ) の 選択無電解 メ ツ キ 法 は 、 一般 に フ ォ ト フ ォ ー ミ ン グ法 と し て知 ら れ て い る 選択的 な 無電解 メ ツ キ 技術 を 用 い る こ と がで き る 。 こ の技術 は 、 還元可能で、 かつ 無電解 メ ツ キ に 対 し て触媒 と な る 酸化状態 の 金属 を 含 む感光剤層 を 多 層 プ リ ン ト 配線板上 に 形成 し 、 こ の 感 光剤層 を選択 的 に 露光 さ せ る こ と に よ り 、 無電解 メ ツ キ に 対 し て触媒 と な る 金属粒子 を 析 出 さ せ、 そ の 後、 無電 解 メ ツ キ 液 に 浸漬す る こ と に よ り 露光部 に の み選択的 な メ ッ .キ を 施す も の で あ る 。
ま た 、 上記 ( 7 ) の 選択蒸着法 は 、 薄膜形成技術 の 一 つ で あ る 選択的膜堆積技術を 用 い る も の で あ る 。 す な わ ち 、 真空槽内 に 金属 、 炭素等 の 導電性元素 を 含む 有機金 属 ガ ス 、 あ る い は 、 導電性元素 を 含 む有機物 の 蒸気 を導 入 し 、 真空槽 内 に 設置 し た 多層 プ リ ン ト 配線板 1 表面 に 上記 の ガ ス あ る い は 蒸気 を 吸着 さ せ、 次 に 、 レ ー ザ ー あ る い は イ オ ン ビ ー ム を 、 集光 あ る い は収束 し て基板 に 照 射 し 、 そ の 部分 に 吸着 し て い る ガ ス あ い る は 蒸気 を 熱 ま た は 衝突 エ ネ ル ギ ー に よ っ て分解 し て、 金属、 炭素等の 導電性物質 を 多層 プ リ ン ト 配線板 1 上 に 堆積 さ せ る も の で あ る 。 こ の よ う な 選択蒸着法 は、 L S I の 配線修正技 術 と し て実用 化 さ れ て い る 。 具体的 に は 、 集光 し た ア ル ゴ ン レ ー ザ ー に よ っ て ク ロ ム 、 コ バ ル ト 、 白 金、 タ ン グ ス テ ン 等を 含む有機金属 ガ ス を分解 し て、 こ れ ら の 金属 を 所望 の 修正箇所 に 堆積す る 技術、 あ る い は、 ガ リ ウ ム の イ オ ン ビ ー ム に よ っ て ピ レ ン 等 の 有機材料の 蒸気 を分 解 し て炭素膜 を堆積す る 技術 を用 い る こ と がで き る 。
さ ら に 、 上記 ( 8 ) の 溶接接合法 は、 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 の 交差部 を レ ー ザ ー で選択的 に 加熱 し 、 上下 の 配 線パ タ ー ン 層 3 , 4 の 導電性層 3 a , 4 a 間 に 存在す る 絶縁樹脂層 4 b (上層 を 構成す る 絶縁樹脂層 4 b ) を 溶 融 * 蒸発 さ せ、 さ ら に 、 導電性層 3 a , 4 a 自 体 も 高温 に 加熱す る こ と に よ っ て 、 各配線パ タ ー ン 層 を構成す る 導電性層 3 a , 4 a を 相互 に 融着 し て接 合部 を形成 し 接 続す る も の で あ る 。
上記 ( 9 ) の ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ法 は 、 例 え ば、 図 2 0 に 示 さ れ る よ う に 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 の 導通 さ れ て い な い 近接部 (交差部 に お い て も 同様 に 対処可能で あ る ) を 、 ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ装置 を 用 い て、 ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ を 行 い 、 導電性層 3 a と 4 a と を ワ イ ヤ ー プ リ ッ ジ 1 5 0 に よ り 接続す る 方法 で あ る 。
上記 ( 1 0 ) の ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ装置 を用 い'た 1 シ ョ ッ ト 法 は 、 例 え ば、 図 2 1 に 示 さ れ よ う に 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 の 導通 さ れ て い な い近接部 (交差部 に お い て も 同 様 に 対処可能で あ る ) を 、 ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ装 置 を 用 い て、 1 シ ョ ッ ト ( 1 回) の ボ ン デ ィ ン グ を 行 い プ リ ッ ジ な し の 状態で導電性層 3 a と 4 a と を ボ ン デ ィ ン グ塊 (パ ッ ド) 1 5 5 に よ り 接続す る 方法で あ る 。
上記 ( 1 1 ) の レ ー ザ ー メ ツ キ法 は 、 例 え ば、 パ ラ ジ ゥ ム メ ツ キ 液中 に 、 接続操作前の 多層 プ リ ン 卜 配線板 1 を 浸漬 さ せ た状態 で、 所定 の ス ポ ッ ト 径、 照射面で の パ ヮ 一 等 を 調整 し た レ ー ザ ー (例 え ば、 ア ル ゴ ン レ ー ザ ー ) を 、 導通す べ き 近接部 な い し は交差部 に 所定時間照射 し 照射部分 に 例 え ば P d 膜 を 所定厚 さ に 析 出 さ せ て接続す る 方法で あ る 。 な お 、 好 ま し く は 、 パ ラ ジ ウ ム メ ツ キ 液 を 循環 さ せ な 力く ら レ ー ザ ー を 照射 さ せ る の が よ い 。 ま た メ ツ キ 液 は 水洗 に よ り 除去 さ れ、 図 2 2 に 示 さ れ る ご と く 析 出 し た メ ツ キ 膜 1 5 7 に よ り 導電性層 3 a と 4 a と の 接続が な さ れ る 。
上記 ( 12) の 導電体 と 半 田 メ ツ キ と の 積層体の 一括転 写法 は 、 図 2 3 A , 2 3 B に 示 さ れ る ご と く 行わ れ る 。 ま ず最初 に 、 図 2 3 B に 示 さ れ る よ う に 導電体層 1 4 1 と 半 田 メ ツ キ層 1 4 2 の 積層体 1 4 0 を以下の要領で作 製す る 。 す な わ ち 、 導電性 の 基板 1 4 9 上 に 、 レ ジ ス ト 法を 用 い て現像 し 所望 の パ タ ー ン (導電性パ タ ー ン) を 形成 し た 転写基板の 上 に 、 例 え ば、 電解 メ ツ キ を.施 し 導 電体層 1 4 1 を形成 し 、 こ の 導電体層上 に 所定 の 半 田 メ ツ キ 浴組成物 を 用 い て半 田 メ ツ キ を行 い 、 半 田 メ ツ キ層 1 4 2 を形成す る 。 な お、 半 田 メ ツ キ層 1 4 2 は 、 半 田 メ ツ キ の 他、 半 田 ペ ー ス 卜 の ス ク リ ー ン 印刷、 デ ィ ッ ピ ン グで も 同 様 に形成可能で あ る 。 こ の よ う に し て積層 し た積層体 1 4 0 を 、 図 2 3 A に 示 さ れ る よ う に配線パ 夕 ー ン 層 3 , 4 の導通 さ れて い な い 近接部 (交差部 に お い て も 同 様 に 対処可能 で あ る ) に一括熱転写 し 、 導電性層 3 a と 4 a と の 接続 を 行 う 。 こ の 際、 熱転写温度 は半 田 メ ツ キ 層 1 4 2 が溶融変形可能 な 温度で あ る 2 0 0 〜 3 0 0 °C程度 の 温度範囲 で行 わ れ る 。
上記 ( U) の 金属塊挿入法 は、 図 2 4 ( A ) に 示 さ れ る よ う に 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 の 導通 さ れ て い な い 近接 部 の 配線間隙 に 、 例 え ば、 直径 3 0 〜 1 0 0 m 程度 の 金属 ボ ー ル 7 1 を 配置 し 、 し 力、 る 後、 図 2 4 ( B ) に 示 さ れ る よ う に そ の 上か ら 感圧接着剤 を塗布 し た シ ー ト 7 2 を 圧着 し 、 導電性層 3 a と 4 a と を 接続す る 方法で あ る 。 な お、 金属 ボ ー ル の 使用 は 、 よ り 好 ま し い 使用 態 様 で あ る が、 球形 で な い い わ ゆ る 金属 片 (塊) の よ う な も の で も 使用 可能で あ る 。 ま た、 こ の よ う な 金属 ボ ー ル (塊) は、 前記 印刷法、 デ イ ス ペ ン ス 法 に お い て も 接続 部 の 信頼性 を よ り 向上 さ せ る た め に 使用 す る こ と も で き る 。 す な わ ち 、 金属 ボ ー ル を 設置 し た後 に 、 前記 の 印刷 な い し は デ ィ ス ペ ン ス を 行 う の で あ る 。
上記 ( 14) の 無電解 メ ツ キ 法を 図 2 5 ( A ) 〜 ( F ) に 基づ い て説明す る 。 ま ず、 最初 に 図 2 5 ( A ) に 示 さ れ る よ う な 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 を 備 え る 多層 プ リ ン ト 配線板上 に 無電解 メ ツ キ 触媒 を全面 に 塗布 し て触媒層 8 1 を形成す る (図 2 5 ( B ) ) 。 次 い で、 こ の 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を 塗布 し て フ ォ ト レ ジ ス ト を形成 し た の ち 所定 の フ ォ ト マ ス ク を用 い て レ ジ ス ト 層 8 3 , 8 3 を密 着露光、 現像 し 、 配線パ タ ー ン の 接続すべ き 位置 に 相 当 す る 部分 H を露 出 さ せ る (図 2 5 ( C ) ) 。 そ の 後、 こ の 露 出 部分 H を 活性化 さ せ た 後、 無電解 メ ツ キ を 行 い接 続部 8 5 を 形成 さ せ 導電性層 3 a と 4 a と を接続 す る (図 2 5 ( D ) ) 。 し か る 後、 残余の 不要 な レ ジ ス ト お よ び触媒層 を 順次、 除去 し て、 接続部 8.5 (触媒層 8 1 a ) の み を 残す (図 2 5 ( E ) ) 。
な お 、 上述 の よ う な ( 2 ) 〜 ( 14) の 方法 に よ る 交差 部 の 接続で は 、 可能 で あ る 範囲 に お い て 図 1 6 に 示 さ れ る よ う に 交差部 の 一部 に 接合部 5 1 を形成 し て配線バ タ ー ン 層 3 の 導電性層 3 a と 配線パ タ ー ン 層 4 の 導電性層 4 a と を 接続 し て も よ く 、 あ る い は 図 1 7 に 示 さ れ る よ う に 、 配線パ タ ー ン 層 3 と 配線パ タ ー ン 層 4 と の 交差部 を覆 う よ う な 接合部 5 2 を形成 し て も よ い 。 ま た 、 近接 部 に お け る 接続 に お い て も 、 図 1 8 に示 さ れ る よ う に 近 接部 の 一部 に 跨が る よ う に 接合部 6 1 を形成 し て配線パ タ ー ン 層 3 の 導電性層 3 a と 配線パ タ ー ン 層 4 の 導電性 層 4 a と を接続 し て も よ く 、 あ る い は 図 1 9 に 示 さ れ る よ う に 、 配線パ タ ー ン 層 3 と 配線パ タ ー ン 層 4 と の 近接 部 を 覆 う よ う な 接合部 6 2 を形成 し て も よ い 。
本発 明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 は、 上述 し た ( 2 ) 〜 ( 1 ) の よ う な 接続方式 を用 い る こ と に よ り 、 ス ル ー ホ ー ル の 形成箇所 に 拘束 さ れず に 任意の 箇所で各配線パ 夕 ー ン 層 間 の 接続が で き る た め 、 多層 プ リ ン ト 配線板を 作 製 し た 後 の 回路設計 の 変更 の 自 由 度が、 従来 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 に 比べ て大 き い も の で あ る 。
尚、 上記の 例で は 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 は 3 層構成で あ る が、 本発 明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法 は 、 同 様 の 積層転写 を 繰 り 返 し 行 う こ と に よ り 所望 の 数 の 配線 パ タ ー ン層 を 備 え た 多 層 プ リ ン ト 配線板 を 製造す る こ と がで き る 。
ま た 、 本発 明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 は、 例 え ば、 上記 の 3 層構造 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 を 、 ガ ラ ス 布 に ェ ポ キ シ 樹脂 を 含浸 さ せ た 半硬化状態 の プ リ プ レ ダ と 一緒 に 加圧積層 し て、 よ り 多 層化 を 図 っ た も の と す る こ と がで さ
さ ら に 、 2 層構造 の 本発 明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 は、 従来 の 両面 プ リ ン ト 配線板 の 問題点、 す な わ ち 、 両面 プ リ ン ト 配線板 の 穴形成 の た め の ド リ ル加工の 精度 か ら 生 じ る 高密度化 に お け る 問題 を解決す る こ と がで き る 。 こ れ は 、 上述 し た よ う に 、 本発明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板で は 、 各配線パ タ ー ン 層 の 導電性層 が部分的 に 常 に 裸 出 し て お り 、 ス ル ー ホ ー ル を形成す る こ と な く 配線パ タ ー ン 層 の 交差部、 あ る い は 、 近接部 に お け る 各配線パ タ ー ン 層相互の 接続 を 容易 に 行 う こ と がで き る か ら で あ る 。
次 に 、 実験例 を 示 し て本発明 を 更 に 詳細 に説明 す る 。 実験例 1
( 1 ) 絶縁樹脂雇用 電着液 A の 調製
ア ク リ ル酸 プ チ ル 1 3 . 2 重量部、 メ タ ク リ ル酸 メ チ ル 1 . 6 重量部、 ジ ビ ニ ルベ ン ゼ ン 0 . 2 重量部 お よ び 過硫酸 カ リ ウ ム 1 %水溶液 8 5 重量部 を 混合 し 、 8 0 °C . 5 時 間重合 し て 無乳化剤 の 乳化重合 を 行 っ て ポ リ ア ク リ ル酸 プ チ ル ポ リ メ 夕 ク リ ル酸 メ チ ル共重合ェ マ ル ジ ョ ン 溶液 を調製 し た。
次 に 、 こ の ェ マ ル ジ ヨ ン 溶液 7 2 重量部、 電着担体 と し て カ ル ボ キ シ ル基 を 有す る ァ ク リ ル系共重合体樹脂 2 重量部、 へ キ サ メ ト キ シ メ ラ ミ ン 0 . 8 5 重量部、 中和 剤 と し て ト リ メ チ ノレ ア ミ ン 0 . 3 5 重量部、 エ タ ノ ー ル 3 重量部、 プ チ ル セ 口 ソ ル プ 3 重量部 お よ び水 1 8 . 8 重量部 を 混合攪拌 し て ァ ニ オ ン 型電着液 A を 調製 し た 。
( 2 ) 絶縁樹脂層 用 電着液 B の 調製
ア ク リ ロ ニ ト リ ル 7 重量部、 ァ ク リ ノレ酸ェ チ ル 5 重量 部、 ア ク リ ル酸 2 重量部 を 混合 し た も の 1 0 0 重量部 に 対 し 、 ラ ウ リ ル硫酸エ ス テ ル ソ ー ダ 0 . 5 重量部、 過硫 酸 ソ ー ダ 0 . 2 重量部 を添加 し た も の を 、 イ オ ン 交換水 中 で 窒素 ガ ス を通 じ な が ら 5 時 間反応 さ せ 、 さ ら に 、 添 加 ァ ク リ ル酸 の 1 2 当量の キ シ リ レ ン ジ ア ミ ン を 添加 し て、 不揮発分 1 9 % の ァ ニ オ ン 型電着液 B を調製 し た
( 3 ) 絶縁樹脂層用 電着液 C の 調製
攪拌機、 還流冷却機 お よ び窒素導入管 を 備 え た 反応容 器 に 、 ビ ス 〔 4 - { 4 - ( ア ミ ノ フ エ ノ キ シ ) フ エ ノ キ シ } フ ヱ ニ ソレ 〕 ス ノレ ホ ン 3 0 . 8 3 5 g ( 0 . 0 5 m o l ) と N , N - ジ メ チ ノレ ア セ ト ア ミ ド 2 3 6 . 5 g を 入 れ、 ピ ロ メ リ ッ ト 酸二無水物 1 0 . 9 g ( 0 . 0 5 m o 1 ) を 常温、 窒素雰囲気下で溶液温度 の 上昇 に 注意 し な が ら 加 え 、 約 2 0 時間攪拌 し て ポ リ ア ミ ド酸 を 得 た 調製 し た ポ リ ア ミ ド酸 の 対数粘度 ( N , N - ジ メ チ ノレ ア セ ト ア ミ ド を 溶媒 と し 、 温度 3 5 °C、 濃度 0 . 5 g / 1 0 0 m l で 測定) は 1 . 5 2 d l Z g で あ っ た 。
次 に 、 こ の ポ リ ア ミ ド酸溶液 に ジ メ チ ル エ タ ノ ー ル ァ ミ ン 8 . 9 g (対 カ ル ボ キ シ ル 当量 9 0 m 0 1 % ) を 徐 々 に 加 え 、 2 0 分 間常温 に て攪拌後、 水 1 3 0 . 2 g を 攪拌 し つ つ 徐 々 に 加 え て 希釈 し て ポ リ ア ミ ド酸電着液 C を 調製 し た (樹脂濃度 1 0 重量% ) 。
( 4 ) 転写用 原版 に お け る 導電性層 の 形成 (図 2 ( C ) 対応) )
導電性基板 と し て、 表面 を研磨 し た厚 さ 0 . 2 m m の ス テ ン レ ス 板 を 準備 し 、 こ の ス テ ン レ ス 板上 に 市販 の メ ツ キ 用 フ ォ ト レ ジ ス ト (東京応化工業 (株) 製 P M E R
P - A R 9 0 0 ) を 厚 さ 2 0 // m に 塗布乾燥 し 、 配線 パ タ ー ン が形成 さ れて い る 3 種の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て そ れ ぞ れ密着露光 を 行 っ た 後、 現像 · 水洗 · 乾燥 し 、 さ ら に 熱硬化 を 行 つ て絶縁層 を備 え た 転写用 原版 ( 3 種) を 作製 し た 。
上記 の 転写用 原版 と 白 金電極 を対 向 さ せ て下記 の 組成 の ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ浴 ( p H = 8 、 液温 = 5 5 。C ) 中 に 浸漬 し 、 直流電源 の 陽極 に 白 金電極 を 陰極 に 上記 の 転写 基板 を接続 し 、 電流密度 1 O A / d m 2 で 5 分間 の 通電 を 行 い 、 フ ォ ト レ ジ ス ト で被覆 さ れて い な い導電性基板 の 裸 出 部 に 厚 さ 1 0 m の 銅 メ ツ キ 膜 を形成 し 導電性層 と し た。 こ の導電性層形成を 3 種の転写用原版に つ い て 行 っ た。
( ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ浴の組成)
ピ ロ 燐酸銅 … 9 4 g ノ 1 ピ ロ 燐酸銅 カ リ ウ ム ·'· 3 4 0 Ε / 1 ア ン モ ニ ア水 … 3 c c Ζ 1
( 5 ) 転写用原版 に お け る 絶縁樹脂層 Α の形成 (図 2 ( D ) 対応) )
上記 ( 4 ) に お い て導電性層 を形成 し た 3 種の転写用 原版の各々 と 白金電極 と を対向 さ せて上記の ( 1 ) で調 製 し た ァ ニオ ン型電着液 A 中 に浸潰 し、 直流電源の 陽極 に転写用原版を 陰極 に 白金電極を そ れぞれ接続 し 、 5 0 Vの電圧で 1 分間の電着を行い、 こ れを 1 8 0 °C、 3 0 分間で乾燥 · 熱処理 し て、 導電性層上に厚 さ 1 5 の 粘着性を有す る 絶縁樹脂層 A を形成 し て 3 種の配線パ 夕 ー ン層用 の転写用 原版 A l , A 2 , A 3 と し た。
( 6 ) 転写用原版 に お け る 絶縁樹脂層 Β の形成 (図 2 ( D ) 対応) )
上記 ( 4 ) に お い て導電性層を形成 し た 3 種の転写用 原版の 各々 と 白金電極 と を対向 さ せて上記の ( 2 ) で調 製 し た ァ ニオ ン型電着液 Β 中 に浸漬 し、 直流電源の陽極 に転写用原版を 陰極 に 白金電極を そ れぞれ接続 し 、 2 0 V の電圧で 3 0 秒間の電着を行い、 こ れを 1 2 0 eC、 1 0 分 間 で乾燥 · 熱処理 し て、 導電性層上 に 厚 さ 1 5 c m の 粘着性 を 有す る 絶縁樹脂層 B を 形成 し て 3 種 の 配 線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 B l , B 2 , B 3 と し た 。
( 7 ) 転写用 原版 に お け る 絶縁樹脂層 C の 形成 (図 2 ( D ) 対応) )
上記 ( 4 ) に お い て導電性層 を 形成 し た 3 種 の 転写用 原版 の 各 々 と 白 金電極 と を 対 向 さ せ て上記 の ( 3 ) で調 製 し た ァ ニ オ ン 型電着液 C 中 に 浸潰 し 、 直流電源 の 陽極 に 転写用 原版 を 陰極 に 白 金電極 を そ れ ぞれ接続 し 、 2 0 V の 電圧 で 2 秒 間 の 電着 を行 い 、 こ れを N , N — ジ メ チ ル ァ セ ト ア ミ ド を 5 0 重量%含有 し た水溶液で洗浄 し て 常温乾燥 さ せ た後、 1 5 0 、 1 時間 の 熱処理 を 行 っ て 導電性層上 に 厚 さ 1 0 z m の 絶縁樹脂層 C を 形成 し て 3 種 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 C I , C 2 , C 3 と た
( 8 ) 多層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 1 (図 5 対応) 上記 の ( 5 ) に お い て作製 し た 3 種の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 A l , A 2 , A 3 を 、 こ の 順序で厚 さ 5 0 の ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 下記の 条件で圧 着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 A か ら な る 3 種の 配線パ 夕 ー ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し て 多層 プ リ ン ト 配線板 を作製 し た。 (圧着条件)
圧 力 : 2 0 k g f Z c m 2
温 度 : 1 8 0 °C
( 9 ) 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 2 (図 5 対応) 上記 の ( 6 ) に お い て作製 し た 3 種の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 B l , B 2 , B 3 を 、 こ の 順序で厚 さ 5 0 t m の ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム基板上 に 下記 の 条件で圧 着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 B か ら な る 3 種 の 配線バ タ ー ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し て多層 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た 。
(圧着条件)
圧 力 : 5 0 k g f / c m 2
温 度 : 2 0 0 °C
( 10) 多 層 プ リ ン ト 配線板の 作製 3 (図 5 対応) 上記の ( 7 ) に お い て作製 し た 3 種 の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 C I , C 2 , C 3 を 、 こ の 順序で厚 さ 5 0 # mの ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に下記の 条件で圧 着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 C か ら な る 3 種 の 配線バ タ 一 ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し 、 そ の 後、 フ イ ノレ ム 基 板 に 2 3 0 eC、 1 時 間 の 熱処理 を施 し 、 転写 さ れ た絶縁 樹脂層 C を 硬化 さ せ て 多層 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た。
(圧着条件)
圧 力 : 4 0 k g f Z c m 2
温 度 : 2 0 0 °C 実験例 2 ( リ フ 卜 オ フ 法 に よ る 接続)
実験例 1 の ( 10) に お い て作製 し た 多 層 プ リ ン ト 配線 板 の 各配線パ タ ー ン 層 の 交差部の う ち 、 上層 に ス ル ー ホ ー ル を 形成 し た 接続予 定箇所 を リ フ ト オ フ 法 に よ り 接続 し た 。
こ の 接続 は 、 ま ず、 多層 プ リ ン ト 配線板上 に フ ォ ト レ ジ ス ト (東京応化工業 (株) 製 O F P R — 8 0 0 ) を 塗布 し て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 (厚み 1 . 0 ;u m ) を 形成 し た 後、 接続部形成用 の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て密着露光 を 行 っ た 後、 現像 · 水洗 · 乾燥 し 、 交差部 の ス ル ー ホ ー ル を 露 出 さ せ た。 こ こ で、 図 1 4 ( A ) に 示 さ れ る よ う に 交差部 に 開 口 部 を も つ レ ジ ス ト 層 4 2 の パ タ ー ン は上部 配線パ タ ー ン層 4 の ス ル ー ホ ー ル径 よ り も 若干大 き い こ と が望 ま し く 、 そ の 結果 と し て、 図 1 4 ( D ) に 示 さ れ る よ う に 、 ス ル ー ホ ー ル の 内 部 に 形成 さ れ る 無電解 メ ッ キ 層 (接合部 4 6 ) が上部配線パ タ ー ン 層 4 の 表面 に一 部乗 り 上 げ た 形状 と な り 、 上部配線パ タ ー ン 層 4 と 下部 配線パ タ ー ン 層 3 と の 接続 を よ り 確実 な も の と す る こ と がで き る 。
次 に 、 多層 プ リ ン ト 配線板 を無電解 メ ツ キ触媒 ( メ ル テ ッ ク ス (株) 製ェ ン プ レ ー ト ァ ク チ ベ ー タ 4 4 4 お よ びェ ン プ レ ー ト P A — 4 9 1 ) に 浸漬 し て触媒層 を形成 し た 後、 多層 プ リ ン ト 配線板を無電解 メ ツ キ 液 ( メ ル テ ッ ク ス (株) 製 メ ノレ プ レ ー ト C U — 3 9 0 ) に 2 0 分間 浸漬 さ せ 、 水洗乾燥 し て導電層 と し た 。 さ ら に 、 こ の 導 電層上 に 実験例 1 の ( 4 ) と 同様 に し て銅 メ ツ キ を 行 い 導電膜 を 形成 し た 後、 レ ジ ス ト 層 を 剥離 し て リ フ ト オ フ す る こ と に よ り 、 ス ル ー ホ ー ル 内 に 接合部 を 形成 し 、 各 配線バ タ 一 ン 層 間 の 導通 を 確認 し た。
実験例 3 ( 印刷法 に よ る 接続)
実験例 1 の ( 10) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線 板 の 各配線パ タ ー ン 層 の 交差部の う ち 、 ス ル ー ホ ー ル の 形成 さ れて い な い 交差部 に 、 こ の 交差部 に 相 当 す る 開孔 部を 有す る ス ク リ ー ン 印刷版 を 用 い て導電性ペ ー ス ト イ ン キ (徳カ化学研究所製 シ ル ベ ス ト P — 2 2 5 ) を 印刷 し 、 乾燥後、 各配線パ タ ー ン 層 間 の導通 を 確認 し た 。 実験例 4 ( デ ィ ス ペ ン ス 法 に よ る 接続)
実験例 1 の ( Π ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線 板 を (株) 飯沼 ゲ ー ジ 製作所製の 自 動塗布装置 ( X Y D
4 5 5 0 Z C 2 — 2 型) に 装着 し 、 デ イ ス ペ ン ザ に接 続 さ れ た 内 径 0 . 2 m m の ニ ー ド ル (針状 の 噴 出 口 ) を 各配線パ タ ー ン 層 の 交差部の う ち 、 ス ル ー ホ ー ル の 形成 さ れ て い な い交差部上 に 移動 さ せ、 導電性ペ ー ス ト イ ン キ (徳カ化学研究所製 シ ルベ ス ト P — 2 2 5 ) を 噴 出 さ せ て交差部上 に 少量塗布 し 、 乾燥後、 各配線パ タ ー ン 層 間 の 導通 を 確認 し た 。
実験例 5 (超微粒子吹付 け 法 に よ る 接続)
そ れ ぞれ独立 に 排気 ポ ン プを備え た 2 つ の 真空槽も、 中央部 に ス ト ッ プバ ル ブ を 持つ 直径 2 m m の ス テ ン レ ス 製接続パ イ プで接続 し 、 バ ル ブを 閉 じ た ま ま で そ れ ぞれ の 真空槽内 を 排気 し て 、 一方 を 2 x 1 0 " 3 T 0 r r (高 真空槽) 、 他方 に は ァ ノレ ゴ ン ガ ス を 導入 し つ つ 5 0 0 T o r r (低真空槽) に 保 っ た。 そ し て、 高真空槽 に は 実験例 1 の ( 1 D ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線板 を 設置 し た 。 こ の 高真 空槽内 で は、 上記の 接続パ イ プの 先端部 (先端径 = 8 0 m ) が、 多 層 プ リ ン 卜 配線板の 各配線パ タ ー ン 層 の 交差部 ( ス ル ー ホ ー ル の 形成 さ れて い な い 交差部) に 位 置 合わ せ さ れ、 かつ 配線板 に 垂直 と な る よ う に し た。 ま た 、 低真空槽 は、 抵抗加熱式 の 蒸発 源 に 金 を仕込 み 、 こ の 蒸発源の上方 2 c m 程度 の 所 に 接 続パ イ プの 一方 の 開 口 端部が位置す る よ う に し た 。
次 に 、 抵抗加熱式 の 蒸発源 に通電 し て金 の 蒸発 を 開始 し 、 接続パ イ プの 高真 空槽内 の 先端部か ら 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 に 金微粒子 を 吹 き 付 け 、 交差部 に 直径 1 0 0 β m s 厚 さ 3 0 ; m の 金膜 (接合部) を約 1 秒で形成 し 各配線パ タ ー ン 層 間 の 導通 を 確認 し た。
実験例 6 ( レ ー ザ ー 描画法 に よ る 接続)
下記組成 の 微粒子分散溶液 を実験例 1 の ( 1 0 ) に お い て作製 し た 多 層 プ リ ン ト 配線板上 に ス ピ ン コ ー ト 法 に よ り 塗布 し 乾燥 さ せ て塗膜 を 形成 し た 。 (微粒子分散溶液 の 組成)
金微 ¾ ·子 ■ 3 0 重量部 ( ガ ス 中蒸発 法 で作製、 直径約 0 1 〃 m ) ポ リ エ ス テ ル樹 … 2 重量部 (東洋紡 (株) 製バ イ 口 ン 2 0 0 )
ト ル ェ ン ••• 5 0 重量部 メ チ ル ェ チ ノレ ケ 卜 ン ••• 5 0 重量部 次 に 、 ス ポ ッ ト 径 を 1 0 0 m 、 照射面で の パ ワ ー を 1 W に 調節 し た ァ ル ゴ ン レ ー ザ一を 、 多層 プ リ ン 卜 配線 板の 各配線パ タ ー ン 層 の 交差部 の う ち 、 ス ル ー ホ ー ル の 形成 さ れ て い な い 交差部 に約 3 m s 照射 し 、 上記塗膜 中 の ポ リ エ ス テ ル樹脂 を 蒸発除去 し て金薄膜 を交差部上 に 形成 し た 。 次 い で、 溶剤 ( ト ルェ ン : メ チ ノレ エ チ ル ケ ト ン = 1 : 1 の 混合溶剤 ) を 用 い て未照射部分 の 塗膜を 溶 解除去 し 、 洗浄乾燥 の 後、 各配線パ タ ー ン 層 間 の 導通を 確認 し
実験例 _ (選択無電解 メ ツ キ 法 に よ る 接続)
下記組成 の 感光性水溶液 (液温 = 4 0 °C ) 中 に 実験例
1 の ( 1 0 ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線板 を 浸漬 し 、 そ の 後、 乾燥 さ せ て感光性層 を 形成 し た。
(感光性水溶液の 組成)
酢酸銅 … 8 g / 1 グ リ セ リ ン … 1 6 g / 1 ソ ノレ.ピ ト ー ル … 1 1 0 g ハ ペ ン タ エ リ ス リ ト ー ル ··· 1 0 g Z 1 次 に 、 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 各配線パ タ ー ン 層 の 交差 部 の う ち 、 ス ノレ ー ホ ー ル の 形成 さ れ て い な い 交差部 の み が露光 さ れ る よ う に 作成 さ れ た フ ォ ト マ ス ク を上記配線 板 に 密着 さ せ て露光 · 水洗 を 行 い 、 こ れ を下記組成 の 無 電解 メ ツ キ 浴 (浴温 = 6 8 °C ) に 3 時間浸潰 し て 無電解 メ ツ キ を 行 い 、 水洗 · 乾燥 の 後、 各配線パ タ ー ン 層 間 の 導通 を 確認 し た 。
(無電解 メ ツ キ 浴 の 組成)
• 硫酸銅 0 0 3 m 0 1 /
• 苛性 ソ ー ダ 0 1 2 5 m 0 1 / • シ ア ン 化 ナ ト リ ウ ム 0 0 0 0 4 m o 1 / • ホ ル マ リ ン 0 0 9 m o 1 / • エ チ レ ン ジ ァ ミ ン 4 0 0 3 6 m o 1 / 酢酸 ナ ト リ ウ ム
実験例 8 (選択蒸着法 に よ る 接続)
真空槽内 に 、 実験例 の ( 1 0 ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線板 と 、 ピ レ ン の 蒸発源 と 、 ガ リ ウ ム の ィ ォ ン 源 を 設置 し 、 真空槽内 を 3 X 1 0 " 6 T 0 r r ま で排気 し た 。 尚、 ガ リ ウ ム の イ オ ン 源 は、 配線板 に 垂直 に ィ ォ ン ビ ー ム が入射す る よ う に 配置 し た 。
次 に 、 蒸発源を 7 0 °C程度 に 加熱 し て ピ レ ン を 蒸発 さ せ、 ガ リ ウ ム イ オ ン ビ ー ム を 、 多層 プ リ ン ト 配線板 の 各 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 の う ち 、 ス ル ー ホ ー ル の 形成 さ れて い な い 交差部 に 下記 の 条件で照射 し て炭素膜 の 堆積 を 行 っ た 。 こ れ に よ り 、 膜厚 3 // m の 炭素膜 を交差部上 に 形成す る こ と がで き 、 各配線パ タ ー ン 層 間 の 導通 を 確 a " し / o
( イ オ ン ビ ー ム 照射条件)
• ビ ー ム 加速電圧 : 2 0 k V
• ビ ー ム 照射面積 : 3 0 ;z m□
• 照射時間 : 1 5 分 間 実験例 9 (溶接接合法 に よ る 接続)
内 部 を ア ル ゴ ン ガ ス で 置換 し た 容器内 に 、 実験例 1 の ( 9 ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線板 と 、 ァ ル ゴ ン レ ー ザ ー の 出射部 を 配設 し 、 レ ー ザ ー の ス ポ ッ ト 径 を 8 0 〃 m 、 照射面で の パ ワ ー を 1 W に 調節 し た。 そ し て 多層 プ リ ン ト 配線板 の 各配線パ タ ー ン層 の 交差部 の う ち ス ノレ — ホ ー ノレ の 形成 さ れて い な い 交差部 に ァ ノレ ゴ ン レ ー ザ 一 を約 5 m s 間照射 し て、 交差部 の 上層配線パ タ ー ン 層 と 下層配線パ タ ー ン 層 間 の 絶縁樹脂層 を 蒸発除去 し て 各配線パ 夕 一 ン 層 の 導電性層 を相互 に 融着 し 、 各配線パ タ ー ン 層 間 の 導通 を 確認 し た 。
実験例 1 0 ( ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ法 に よ る 接続)
実験例 1 の ( 1 ϋ ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線 板の 各配線パ タ ー ン 層 を 用 い 、 こ れ ら の 導通 さ れて い な い 近接部 を ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ装 置 を用 い て、 金線 (直径 4 0 m ) に よ り ワ イ ヤ 一 ボ ン デ ィ ン グを 行 い、 図 2 0 に 示 さ れ る 模式図 の ご と く ワ イ ヤ ー プ リ ッ ジ に よ り 接続 し た。 し か る 後、 こ の よ う に し て配線 さ れ た 各配 線パ タ ー ン 間 の 導通 を 確認 し た。
実験例 1 1 ( ヮ ィ ャ 一 ボ ン デ ィ ン グ装 置 を 用 い た 1 シ ョ ッ ト 法 に よ る 接続ノ
実験例 1 の ( 10) に お い て作製 し た 多 層 プ リ ン ト 配線 板 の 各配線パ 夕 一 ン 層 を 用 い 、 こ れ ら の 導通 さ れ て い な い 近接部を ワ イ ヤ ー ボ ン デ ィ ン グ装 置 を 用 い て、 金線 (直径 1 0 0 m ) に よ り 1 シ ョ ッ ト ( 1 回) の ボ ン デ ィ ン グ を 行 い 、 図 2 1 に 示 さ れ る 模式図 の ご と く ボ ン デ ィ ン グ塊 (パ ッ ド) を 形成す る こ と に よ り 接続 し た。 し か る 後、 こ の よ う に し て配線 さ れた 各配線パ タ ー ン 間 の 導通 を 確認 し た
実験例 1 2 ( レ一ザ ー メ ツ キ 法 に よ る 接続)
下記組成 の パ ラ ジ ウ ム メ ツ キ液中 に 、 実験例 1 の ( 10) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線板 を 浸漬 さ せ た。
( ノ、。 ラ ジ ウ ム メ ツ キ 液の 組成)
P d C 1 2 1 . 7 7 3 3 g/1 エ チ レ ン ジ ァ ミ ン 5 . 3 ml/1
チ ォ ジ グ リ コ ー ル酸 3 0 mg/1
N a H 2 P 0 H 2 0 6 . 3 5 9 4 g/1 P b ( C H 3 C 0 0 ) 2 3 p. p. b.
次 に 、 ス ポ ッ ト 径 1 0 0 μ m 照射面で の パ ヮ 一を 1 . 0 Wに調整 し た ア ル ゴ ン レ ー ザ ー を 、 導通 さ れて い な い 交差部 に 約 9 0 秒 間照射 し 、 照射部分 に P d 膜 を約 5 0 // m 析 出 さ せ た (図 2 2 ) 。 し か る 後、 水洗 · 乾燥 さ せ た後、 配線 さ れた各配線バ タ ー ン 間の導通を確認 し た。
実験例 1 3 (導電体 と 半田 メ ツ キ と の積層体の一括転写 法 に よ る 接続)
ま ず、 導電体層 と 半田 メ ツ キ層 と の 積層体を以下の要 領で作製 し 、 準備 し た す な わ ち 、 導電性の基板上に、 レ ジ ス ト 法を用 い て所望のノヽ。 夕 一 ン (導電性パ タ ー ン ) を形成 し た転写基板上 に、 下記の要領で導電体層 を形成 し、 こ の導電体層上 に 下記の メ ッ キ浴組成物を用 い て半 田 メ ツ キ を行い、 半田 メ ッ キ層を形成 し た。 な お、 半田 メ ツ キ層 は、 半田 メ ツ キ の他、 半田ぺ ー ス ト の ス ク リ ー ン 印刷、 デ ィ ッ ピ ン グで も 同様な層が得 ら れ る
導電体層 の形成 に 際 し て は、 上記転写基板 と 白 金電極 を対向 さ せ て下記の組成の ピ ロ 燐酸銅 メ ッ キ浴 ( H = 8 . 8 、 液温 = 5 5 V ) 中 に浸漬 し 、 直流電源の 陽極 に 白金電極を 陰極 に上記の転写基板を そ れぞれ接 し 、 流密度 3 A / d m 2 で 2 分間の通電を行い、 導電性のパ タ ー ン (導電面裸出部) 上に銅 メ ツ キ膜を形成 し て導電 体層 (厚 さ 2 . 0 β m ) と し た。
( ピ ロ 燐酸銅 メ ッ キ浴の組成)
ピ ロ 燐酸銅 9 4 g / 1 ピ ロ 憐酸銅力 リ ウ ム 3 4 0 g / 1 ア ン モ ニ ア水 3 c c / 1 半 田 メ ツ キ 層形成 の た め の 半 田 メ ツ キ 浴組成物 は 以下 の よ う な 組成 と し た 。
( メ ッ キ 浴組成)
第一錫 4 0 g / 1 鉛 1 5 g / 1 遊離 ほ う ふ つ 酸 1 0 0 g / 1 ホ ル マ リ ン ( 3 7 % ) 1 0 m 1 / 1 光沢剤 6 0 m 1 / 1 分散剤 4 0 g / 1 な お 、 上 st光沢剤 は、 2 %炭酸ナ ト リ ウ ム 溶液 中 で 2 8 0 m 1 の ァ セ ト ァ ノレ デ ヒ ド と 1 0 6 m l の 0 — ト ル ィ ジ ン を 1 5 °C で 1 0 日 間反応 さ せ て得 ら れ た 沈殿物 を イ ソ プ 口 パ ノ 一 ル に 溶解 し て 2 0 %溶液 と し た も の を用 い た 。 ま た 、 上記分散剤 は、 1 モ ル の ノ リ ル ア ル コ ー ル に 1 5 モ ノレ の ェ チ レ ン ォ キ ソ ィ ド を 付加 し た生成物で あ る ポ リ エ チ レ ン グ リ コ ー ノレ ノ ニ ル フ エ ニ ル エ ー テ ノレ を用 い た o
半 田 メ ツ キ層形成 に 際 し て は、 室温、 電流密度 3 A Z d m 2 で 3 分間 の 通電を行 い 、 上記銅 メ ツ キ膜の 導電体 層上 に 厚 さ 5 . 0 β m の 半 田 メ ツ キ層 を形成 さ せ た。
次 い で 、 実験例 1 の ( 10) に お い て作製 し た 多 層 プ リ ン ト 配線板の 各配線パ タ ー ン 層 を 準備 し 、 こ れ ら の 導通 さ れ て い な い 近接部 を、 上述 の 導電体層 と 半 田 メ ツ キ 層 の 積層体 を 用 い て、 図 2 3 ( A ) に 示 さ れ る ご と く 熱転 写 に よ り 、 導電体層 と 半 田 メ ツ キ 層 の 積層体 を一括転写 し 接続 さ せ た。 熱転写温度 は 3 5 0 °C と し た 。 し か る 後 こ の よ う に し て配線 さ れ た 各配線バ タ 一 ン 間 の 導通 を 確 αα^ し 7 ο
実験例 1 4 (金属塊挿入法 に よ る 接続)
実験例 1 の ( 1 0 ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線 板 の 各配線パ タ ー ン 層 を 用 い 、 こ れ ら の導通 さ れ て い な い 近接部 の 配線間隙 に 直径 5 0 z m の A u か ら な る 金属 ボ ー ル (塊) を 配置 し 、 そ の 上か ら 感圧接着剤 を 塗布 し た シ ー ト を 圧着 し 、 接続部を形成 し た。 し か る 後、 こ の よ う に し て配線 さ れ た 各配線パ タ ー ン 間 の 導通を 確認 し た o
実験例 1 5 (無電解 メ ツ キ 法 に よ る 接続)
実験例 1 の ( 1 0 ) に お い て作製 し た 多層 プ リ ン ト 配線 板上 に 無電解 メ ツ キ 触媒 を 全面 に 塗布 し て触媒層 を形成 し た 。 次 い で、 こ の 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布形成 し た の ち 、 所定 の フ ォ ト マ ス ク を用 い て レ ジ ス ト 層 を 密着露 光、 現像 し 、 配線パ タ ー ン の 接続すべ き 位置 に相 当 す る 部分 を 露 出 さ せ た 。 こ の 露 出部分 を 活性化 さ せ た 後、 無 電解銅 メ ツ キ を 行 い接続部 を形成 さ せ た 。 し か る 後、 残 余 の 不要 な レ ジ ス ト お よ び触媒層 を順次、 除去 し て、 配 線 さ れ た 各配線パ 夕 一 ン 間 の 導通を 確認 し た 。
無電解 メ ツ キ触媒、 性化 ( ァ ク セ レ ー 夕 ) お よ び無 電解 メ ツ キ と し て の 組成 お よ び操作条件 は、 そ れ ぞれ以 下 の 通 り と し た 。
(無電解 メ ッ キ触媒)
触媒 : 塩化パ ラ ジ ウ ム ' 0 . 2 g / 1 塩化第 1 錫 - 2 0 g / 1 濃塩酸 - 2 0 0 m l 操作条件 : 室温、 処理時間 5 分
(活性化 ( ァ ク セ レ ー タ ) )
活性化剤 : 硫酸 … 5 0 g / 1 操作条件 : 5 0 °C、 処理時間 5 分
(無電解 メ ツ キ 浴 の 組成)
• 硫酸銅 … 7 g / 1
• E D T A … 2 5 g Z 1 • ホ ル ム ァ ノレ デ ヒ ド … 5 0 g / 1
• N a C N ••• 6 0 m g / 1 操作条件 : p H = 1 2 . 6 浴温度 7 0 °C、
処理時間 2 0 分
形成膜厚 : 0 . 5 z m
実験例 1 6
( 1 ) 転写用 原版 D l , D 2 , D 3 の 作製 (図 7 対応) 導電性基板 と し て表面が十分鏡面 に 近 い S U S 4 3 0 基板 (厚 さ 0 . 1 5 m m ) を準備 し 、 こ の 基板を ア ル 力 リ 脱脂液 に て表面洗浄 を行 い、 2 5 °C、 1 0 %塩酸 に て 中和処理を し 、 さ ら に 純水流水中 に て洗浄乾燥後、 エ ツ チ ン グ用 レ ジ ス ト と し て 2 0 c p の O F P R (東京応化 (株) 製 ポ ジ 型 レ ジ ス ト ) を ス ピ ン コ ー ト 法 (回転数 1 2 0 0 r p m ) 、 4 0 s e c で塗布 し 、 配線パ タ ー ン が形成 さ れ て い る 3 種 の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て、 そ れ ぞ れ露光処理、 現像処理 を 行 っ て所定パ タ ー ン の エ ツ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 (膜厚 2 . 0 m ) を 有す る 導電性基 板 ( 3 種) を形成 し た 。
次 に 、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 を マ ス ク と し て 、 導電性基板表面 を塩化鉄系エ ッ チ ン グ液 (純正化学 (株) 製 ; 塩化第二鉄溶液) に て深 さ 約 2 m の 凹部 を 形成 し て 凹版構造 と し た。
洗浄後、 該エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 を維持 し た ま ま 、 本基板表面全面 に 四 フ ッ 化工 チ レ ン 分散型電着樹脂
( (株) シ ミ ズ製 ; エ レ コ ー ト ナ イ ス ロ ン ) を 2 5 m A / d m 2 に て下地電着後、 2 0 V 定電圧で約 3 分間 の 電 着を 行 い 、 エ ッ チ ン グ に よ り 形成 さ れた上記凹部 内 に 、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 と 同一面 に な る ま で電着膜 を 成長 さ せ て絶縁マ ス キ ン グ層 を形成 し た。
次 い で 、 導電性基板 を 循環オ ー ブ ン に て 1 1 0 、 3 0 分間焼 き 付 け を 行 っ た後、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ 層 の み を 常温、 3 0 秒 間 ア セ ト ン 浸漬 に て 溶解除去 し 、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層剥離後、 さ ら に 、 1 8 0 °C、 3 0 分間 ク リ ー ン オ ー ブ ン に て焼 き 付 け を行 い 、 段差 2 m の 凹版構造の 転写用 原版を作製 し た。 こ の よ う に し て作製 し た 転写用 原版 の s U S 基板 を 室 温 に て 1 0 %塩酸 で 洗浄後、 上記転写用 原版 と 白 金電極 を 対 向 さ せ て下記 の 組成 の ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 ( P H = 8 . 8 、 液温 = 5 5 °C ) 中 に 浸漬 し 、 直流電源 の 陽極 に 白 金電極 を 陰極 に 上記 の 転写用 原版 を そ れ ぞれ接続 し 、 電流密度 5 A Z d m 2 で 2 . 2 分間 の 通電 を 行 い 、 絶縁 マ ス キ ン グ層 が形成 さ れ て い な い導電性基板の 導電面裸 出 部 に 銅 メ ツ キ 膜 を 形成 し て導電性層 (厚 さ 2 . 2 M m ) と し た 。 ■
( ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 の 組成)
ピ ロ 燐酸銅 9 4 g / 1 ピ ロ 燐酸銅 力 リ ゥ ム 3 4 0 g κ 1 ア ン モ ニ ア 水 3 c c / 1 こ の 時、 銅 メ ツ キ膜 の 成長過程 は 、 エ ッ チ ン グ工程 に よ り 生 じ た サ イ ド エ ッ チ ン グ 部 に よ り 両 サ イ ド で 合計 4 // m 縮小 し た S U S 基板 の 導電面裸 出 部を 出発電極 と し て、 前記段差 2 m の 凹部内 に 水平 お よ び垂直方 向 に 等方 的 に 成長 し た。
次 に 、 実験例 1 の ( 7 ) と 同様 に し て、 導電性層上 に 粘着性 を 有す る 絶縁樹脂層 C を形成 し て 3 種 の 配線パ 夕 ー ン 層用 の 転写用 原版 D l , D 2 , D 3 と し た。
( 2 ) 多層 プ リ ン ト 配線板 の 作製
上記の ( 1 ) に お い て作製 し た 3 種 の 配線パ 夕 ー ン 層 用 の 転写用 原版 D 1 , D 2 , D 3 を 、 こ の 順序で厚 さ 5 0 mの ポ リ ィ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 下記 の 条件で圧 着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 C か ら な る 3 種 の 配線バ タ ー ン 層 を フ イ ソレ ム 基板上 に 転写 し て多 層 プ リ ン ト 配線板 を作製 し た o
(圧着条件)
圧 力 : 4 0 k g f c m 2
度 : 2 0 0 °C
尚、 上記 の 転写 に よ る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 に 際 し て、 転写用 原版 の 絶縁層 の 破壊 は 全 く 観察 さ れ な か つ た o
そ の 後、 さ ら に上記 の 転写用原版を 用 い て 同様 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 作製 を 7 0 回繰 り 返 し 行 っ た が、 7 0 回 の 連続転写 に対 し て も 絶縁層 の ダ メ 一 ジ は 全 く 観察 さ れず、 本発 明 の 転写用 原版が優れ た 耐久性 を も ち 、 高精 度 の 多 層 プ リ ン 卜 配線板 の 作製が可能 で あ る こ と が確認 さ れ た。
実験例 1 Ί
( 1 ) 転写用 原版 E l , E 2 , E 3 の 作製 (図 9 対応) 導電性基板 と し て 表面が十分鏡面 に 近 い S U S 4 3 0 基板 (厚 さ 0 . 2 5 m m ) を準備 し 、 こ の 基板を ア ル 力 リ 脱脂 液 に て表面洗浄 を 行 い 、 2 5 °C、 1 0 %塩酸 に て 中和処理 を し 、 さ ら に 純水流水中 に て洗浄乾燥後、 エ ツ チ ン グ用 レ ジ ス ト と し て 2 0 c p の O F P R (東京応化 (株) 製 ポ ジ 型 レ ジ ス ト ) を ス ピ ン コ ー ト 法 (回 転数 1 5 0 0 r p m ) 、 4 0 s e c で塗布 し 、 配線パ タ ー ン が形成 さ れ て い る 3 種 の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て、 そ れ ぞ れ露光処理、 現像処理 を 行 っ て所定パ タ ー ン の エ ツ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 (膜厚 1 . 2 ^ m ) を 有す る 導電性基 板 ( 3 種) を 形成 し た。
次 に 、 こ の エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 を マ ス ク と し て、 導電性基板表面 を塩化鉄系 エ ッ チ ン グ 液 (純正化学 (株) 製 ; 塩化第二鉄溶液) に て 深 さ 約 4 z m の 凹部 を 形成 し て 凹版構造 と し た。
洗浄後、 該 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 を維持 し た ま ま 、 本基板表面全面 に 四 フ ッ 化 エ チ レ ン 分散型電着樹脂
( (株) シ ミ ズ製 ; エ レ コ ー ト ナ イ ス ロ ン ) を 2 5 m A Z d m 2 に て下地電着後、 2 0 V定電圧で約 3 分 間 の 電 着 を 行 い 、 エ ッ チ ン グ に よ り 形成 さ れ た上記凹部内 に 、 導電性基板表面 と 同一面 に な る ま で電着膜 を成長 さ せ て 絶縁 マ ス キ ン グ層 を形成 し た。
次 い で、 こ の 導電性基板 を循環オ ー ブ ン に て 1 1 0 °C、 3 0 分間焼 き 付 け を 行 っ た 後、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ 層 の み を 常温、 3 0 秒 間 ア セ ト ン 浸漬 に て溶解除去 し 、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層剥離後、 さ ら に 、 1 8 0 °C、 3 0 分 間 ク リ ー ン オ ー ブ ン に て焼 き 付 け を行 い、 平版構 造の 転写用 原版 を 作製 し た 。
こ の よ う に し て作製 し た転写用 原版 の S U S 基板 を 室 温 に て 1 0 %塩酸で洗浄後、 上記転写用 原版 と 白 金電極 を 対 向 さ せ て下記 の 組成 の ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 ( p H = 8 . 8 、 液温 = 5 5 °C ) 中 に 浸漬 し 、 直流電源の 陽極 に 白 金電極 を 陰極 に 上記 の 転写用 原版 を そ れ ぞ れ接続 し 、 電流密度 5 A Z d m 2 で 1 分 間 の 通電を 行 い 、 絶縁 マ ス キ ン グ層 が形成 さ れ て い な い導電性基板 の 導電面裸 出部 に 銅 メ ツ キ 膜を 形成 し て導電性層 (厚 さ 1 . 0 m ) と し た。
( ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 の 組成)
ピ ロ 燐酸銅 … 9 4 g 1 ピ ロ 燐酸銅 カ リ ウ ム - 3 4 0 g / 1 ア ン モ ニ ア 水 … 3 c c Z l こ の 時、 銅 メ ツ キ 膜 の 成長過程 は 、 エ ッ チ ン グ工程 に よ り 生 じ た サ イ ド エ ッ チ ン グ部 に よ り 両 サ イ ド で合計 4 m縮小 し た S U S 基板の導電面裸 出部を 出 発電極 と し て、 基板上 に 導電面裸 出 部表面幅 よ り も 左右各 サ イ ド で そ れ ぞれ 2 // m幅広 の 導電性層 が形成 さ れ た。 ま た、 銅 メ ツ キ膜 は 水平お よ び垂直方向 に 等方的 に 成長 し た。
次 に 、 実験例 1 の ( 7 ) と 同様 に し て、 導電性層上 に 粘着性を 有す る 絶縁樹脂層 C を 形成 し て 3 種 の 配線バ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 E l , E 2 , E 3 と し た。
( 2 ) 多 層 プ リ ン ト 配線板の 作製
上記 の ( 1 ) に お い て作製 し た 3 種 の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 E l , E 2 , E 3 を 、 こ の 順序で厚 さ 5 0 mの ポ リ ィ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 下記 の 条件で圧 着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 C か ら な る 3 種 の 配線パ 夕 ー ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し て 多 層 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た。
(圧着条件)
圧 力 : A O k g f Z c m 2
温 度 : 2 0 0 °C
尚、 上記 の 転写 に よ る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 に 際 し て 、 転写用 原版 の 絶縁層 の 破壊 は 全 く 観察 さ れ な か つ そ の 後、 さ ら に 上記 の 転写用 原版を 用 い て 同様 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 を 9 0 回繰 り 返 し 行 っ た が、 9 0 回 の 連続転写 に 対 し て も 絶縁 マ ス キ ン グ層 の ダ メ ー ジ は 全 く 観察 さ れず、 本発 明 の 転写用 原版が優 れ た 耐久性を も ち 、 高精度 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 作製が可能 で あ る こ と が確認 さ れ た。
実験例 1 8
( 1 ) 転写用 原版 F l , F 2 , F 3 の 作製 (図 1 1 対 応)
導電性基板 と し て チ タ ン ( T i ) 製 の 基板 (厚 さ 0 . 4 m m ) を 準備 し 、 こ の 表面 に ス ピ ン コ ー ト 法 (回 転数 1 5 0 0 r p m、 4 0 s e c ) に よ り フ ォ ト レ ジ ス ト (東京応化 (株) 製 ; 0 F P R 8 0 0 ) を塗布 し 、 配 線パ タ ー ン が形成 さ れて い る 3 種 の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て、 そ れぞれ露光処理、 現像処理を行 っ て所定パ タ ー ン の エ ツ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 (膜厚 1 . O m ) を有す る 導電性基板 ( 3 種) を形成 し た。
次 に 、 の ェ ツ チ ン ク 用 マ ス キ ン グ層 を マ ス ク と し て 導電性基板を H F ( 2 . 5 t % ) - H 2 0 2 ( 1 5 w t % ) 一 0
H 2 (残部 ) 液中 に 2 分間浸潰 し、 T i の 露出部を ェ ッ ナ ン グ (ェ ッ チ ン グ深 さ 2 m ) し 、 凹部 を形成 し た o そ の後、 電着物質の基板密着性を よ り 向上 さ せ る こ と を 目 的 に H F — N H 4 液中で凹部表面を粗面 化 し た ( 3 0 秒 ) ο
次に、 上記ェ ツ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層 を電着用 マ ス ク と し て、 上記凹部内 に 四 フ ッ 化工 チ レ ン分散型電着樹脂 ( (株 ) シ ミ ズ製 ; エ レ コ ー ト ナ イ ス ロ ン ) を 2 5 m A
/ d m 2 に て下地電着後 、 2 0 V 定電圧で約 6 0 秒間の 電着を行 う こ と に よ っ て、 図 1 1 ( C ) に示 し た よ う に 略中央部が凹状を な し 、 し か も そ の表面が T i 基板表面 よ り も 低 く な る よ う に電着膜を成長 さ せて絶縁マ ス キ ン グ層 を形成 し た
次い で、 こ の導電性基板を循環ォ ー ブ ン に て 1 1 0 °c 3 0 分間焼 き 付 け を行 っ た後、 エ ツ チ ン グ用 マ ス キ ン グ 層の み を常 7ητΐ 、 3 0 秒間 ア セ ト ン浸漬 に て溶解除去 し 、 エ ッ チ ン グ用 マ ス キ ン グ層剥離後、 さ ら に、 1 8 0 °C 、 3 0 分間 ク リ 一 ン オ ー ブ ン に て焼 き 付け を行い、 凸版構 造の転写用原版を作製 し た。 こ の よ う に し て作製 し た 転写用 原版 と 白 金電極 を 対 向 さ せ て下記 の 組成 の ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 ( p H = 8 . 8 液温 = 5 5 °C ) 中 に 浸漬 し 、 直流電源 の 陽極 に 白 金電極 を 陰極 に上記 の 転写用 原版 を そ れ ぞ れ接続 し 、 電流密度 5 A / d m 2 で 1 . 5 分 間 の 通電 を 行 い 、 絶縁 マ ス キ ン グ層 が形成 さ れて い な い 導電性基板 の 導電面裸 出 部 に 銅 メ ツ キ 膜 を形成 し て導電性層 (厚 さ 1 . 5 ; m ) と し た
( ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 の 組成)
ピ ロ 燐酸銅 … ' 9 4 g 1 ピ ロ 燐酸銅 カ リ ウ ム … 3 4 0 g Z 1 P比 … 7 . 0
次 に 、 実験例 1 の ( 7 ) と 同様 に し て、 導電性層上 に 粘着性 を 有す る 絶縁樹脂層 C を形成 し て 3 種の 配線パ 夕 一 ン 層用 の 転写用 原版 F l , F 2 , F 3 と し た 。 .
( 2 ) 多層 プ リ ン ト 配線板 の 作製
上記 の ( 1 ) に お い て作製 し た 3 種 の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 F 1 , F 2 , F 3 を 、 こ の 順序で厚 さ
5 0 mの ポ リ ィ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 下記の 条件 で圧 着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 C か ら な る 3 種 の 配線パ 夕 ー ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し て 多 層 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た。
(圧着条件)
圧 力 : 4 0 k g f / c m
温 度 : 2 0 0 °C 尚、 上記 の 転写 に よ る 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 に 際 し て、 転写用 原版の 絶縁層 の 破壊 は 全 く 観察 さ れ な か つ た。
そ の 後、 さ ら に 上記 の 転写用 原版 を 用 い て 同 様 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 作製 を 1 0 0 回繰 り 返 し 行 っ た が、 1 0 0 回 の 連続転写 に 対 し て も 絶縁層 の ダ メ ー ジ は 全 く 観察 さ れず、 本発 明 の 転写用 原版が優れ た 耐久性 を も ち 高精度 の 多 層 プ リ ン ト 配線板の 作製が可能 で あ る こ と が 確認 さ れ た 。
以上詳述 し た よ う に 、 本発明 に よ れ ば転写用 原版上 に 設 け た導電性層 あ る い は導電性層 と 絶縁樹脂層 と か ら な る 配線パ タ ー ン 層 を 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板上 に 転 写す る こ と に よ り 、 上部 に導電性層 を下部 に 絶縁樹脂層 を 備 え た 配線パ 夕 一 ン 層 を 多層 プ リ ン ト 配線板用.の 基板 上 に 多層 に 積層す る こ と がで き る 。 こ の 多層積層 は、 所 定 の 配線バ タ 一 ン 層 を形成 し た転写用 原版 を並行 し て複 数作製 し 、 こ れ ら の 転写用 原版を 用 い て順次転写す る 並 直列 プ ロ セ ス で あ る た め 、 転写前 の 検査 に よ り 不良品 を 排除す る こ と がで き 、 製造歩留が 向上す る と と も に 、 ス ル ー プ ッ ト が高 く 、 さ ら に 、 従来基板上で行 っ て い た配 線層 の 形成ゃ ノ、 ° タ ー ニ ン グの た め の メ ツ キ 、 お よ び フ ォ ト エ ッ チ ン グ工程 は 不要 と な り 、 製造工程 の 簡略化が可 能 と な る 。 ま た、 多 層 プ リ ン ト 配線板 に は、 従来 の 多層 プ リ ン ト 配線板 に 見 ら れ た よ う な 絶縁層 に よ る 配線パ 夕 ー ン の 被覆が な く 、 各配線パ タ ー ン 層 を構成す る 導電性 層 は 部分的 に 常 に 裸 出 さ れ て お り 、 各配線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ る い は 各配線パ タ ー ン 層 が相互 に 近接す る 部位 に お け る 各配線パ タ ー ン 層 相互の 接続 を 容易 に 行 う こ と がで き 、 汎用 性 の 極 め て高 い 多層 プ リ ン ト 配線板が可能 と な る 。
転写用 原版 の 変形例
(変形例 1 )
次 に 図 2 に 示す転写用 原版 1 0 の 変形例 に つ い て説明 す る 。
転写用 原版 1 0 に 用 い る 基板 1 1 と し て は、 少 な く と も 表面が熱酸化可能 あ る い は 窒化可能で あ り 導電性を 有 す る 金属 か ら な る 基板 を 用 い る こ と がで き る 。 具体的 に は、 ス テ ン レ ス ( S U S ) 、 T i 、 T a 等 の 熱酸化可能 な 金属板、 T i 、 S i 等 の 窒化可能 な 金属板、 あ る い は 導電性 の 基板の 表面 に 上記 の 熱酸化可能 ま た は 窒化可能 な 金属 の 薄膜 を 形成 し た も の 等を挙 げ る こ と がで き る 。 上記 の 金属薄膜 の 厚 さ は 1 〜 2 / m 程度が好 ま し い 。
尚、 基板 1 1 の 表面 は 、 後述す る メ ツ キ 層 の 被加工物 へ の 転写 に お い て メ ツ キ 層 を 基板か ら 容易 に 剥離 さ せ る た め に 、 あ る 程度 の 鏡面処理 を施 さ れて い る こ と が好 ま し い o
熱.酸化可能 あ る い は 窒化可能な 導電性金属 か ら な る 基 板 1 1 の 表面 に 熱酸化処理 あ る い は 窒化処理 を 施 し て、 酸化物 あ る い は 窒化物 か ら な る 薄膜 を 形成す る 。 こ の 場 合、 薄膜 の 厚 さ は 0 . 1 〜 0 . 5 m 程度 が好 ま し い 。 次 に 、 薄膜上 に 所定パ タ ー ン で フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を形成 す る 。 そ の 後、 フ ォ 卜 レ ジ ス ト 層 を マ ス ク と し て 薄膜 を エ ツ チ ン グ し 、 基板 1 1 の 導電性金属表面 を 露 出 さ せ る そ し て 、 フ ォ 卜 レ ジ ス ト 層 を 除去す る こ と に よ り 、 導電 性基板 1 1 の 表面 に 酸化物 あ る い は 窒化物 か ら な る 絶縁 マ ス キ ン グ層 を 備 え た 転写用 原版 1 0 が得 ら れ る 。 こ の 絶縁 マ ス キ ン グ層 は 絶縁性で あ る た め 、 後工程 に お い て 絶縁 マ ス キ ン グ層上 に は メ ツ キ は 成長 し な い 。
(変形例 2 )
転写用 原版 1 0 に 用 い る 基板 1 1 と し て は 、 少 な く と も 表面が陽極酸化可能 な 金属 か ら な る 基板 を用 い る こ と が で き る 。 具体的 に は 、 A l 、 T a 、 T i 等 の 陽極酸化 可能 な 金属板、 あ る い は導電性の 基板 の 表面 に 上記 の 陽 極酸化可能 な 金属 の 薄膜 を形成 し た も の 等 を 挙 げ る こ と が で き る
尚、 基板 の 表面 は 、 後述す る メ ツ キ層 の 披加工物へ の 転写 に お い て メ ツ キ 層 を基板か ら 容易 に 剥離 さ せ る た め に 、 あ る 程度 の 鏡面処理 を施 さ れて い る こ と が好 ま し い 基板 1 1 に 所定パ タ ー ン で フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 形成す る 。 次 に 、 基板 1 1 に ェ ツ チ ン グ を行 い 凹部を 形成す る そ の 後、 こ の 基板 1 1 を 陽極 と し 、 白 金板 を 陰極 と し て 陽極酸化液中 で基板 1 1 の 陽極酸化を 行 い 、 基板 1 1 の フ ォ ト レ ジ ス ト 層 非形成部分 に 陽極酸化膜 を 形成す る 。 こ の 陽極酸化膜 は 、 電気絶縁性を 有す る 膜 で あ り 、 そ の 後、 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 除去 し て基板 1 1 の 導電部 を 露 出 す る こ と に よ り 、 陽極酸化膜 か ら な る 絶縁 マ ス キ ン グ 層 力く得 ら れ る 。
(変形例 3 )
転写用 原版 1 0 に 用 い る 基板 1 1 と し て は 、 少 な く と も 表面力く T i — A 1 か ら な る 金属板、 あ る い は導電性 の 基板 の 表面 に T i 一 A 1 の 薄膜を 形成 し た も の 等 を 挙 げ る こ と がで き る 。 T i — A 1 膜の 組成 は、 T i : A l = 5 0 : 5 0 (組成比 ; a t o m % ) が酸化膜 の 性 晶性、 絶縁性 の 点か ら 望 ま し い 。
尚、 基板 1 1 の 表面 は、 後述す る メ ツ キ層 の 被加工物 へ の 転写 に お い て メ ツ キ 層 を基板 1 1 か ら 容易 に 剥離 さ せ る た め に 、 あ る 程度 の 鏡面処理 を 施 さ れて い る こ と が 好 ま し い。
T i 一 A 1 板 か ら な る 基板 1 1 に 所定パ タ ー ン で フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を形成す る 。 次 に 、 基板 1 1 に エ ッ チ ン グ を行 い 凹 部 を形成す る 。 そ の 後、 こ の 基板 1 1 を 陽極 と し 、 白 金板 を 陰極 と し て 陽極酸化液中 で基板 1 1 の 陽極 酸化 を行 い 、 基板 1 1 の フ ォ ト レ ジ ス ト 層非形成部分 に T i 一 A 1 陽極酸化膜 を 形成す る 。 こ の T i — A 1 陽極 酸化膜 は、 電気絶縁性を 有す る 膜 で あ り 、 そ の 後、 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 除去 し て基板 1 1 の 導電部 を露 出 す る こ と に よ り 、 T i 一 A 1 陽極酸化膜か ら な る 絶縁 マ ス キ ン グ層 が得 ら れ る 。
(変形例 4 )
転写用 原版 1 0 の ス テ ン レ ス 製基板 1 1 に 加熱処理 を 施 し た 後、 該 ス テ ン レ ス 基板 1 1 上 に レ ジ ス ト 膜 を 成膜 し 、 所望 の 微細パ タ ー ン を 有す る フ ォ ト マ ス ク を 介 し て 前記 レ ジ ス ト 膜 を露光 · 現像 し て前記 ス テ ン レ ス 基板 1 1 上 に レ ジ ス ト に よ る 絶縁 マ ス キ ン グ層 を 得 る 。 ス テ ン レ ス 基板 1 1 に 施す加熱処理 の 条件 は 、 加熱温度 を 1 5 0 〜 3 0 0 °C程度、 加熱時間 を 1 〜 3 時間 の 範囲 と す る こ と がで き る 。 加熱温度 お よ び加熱時間が上記 の 範囲 に 満 た な い 場合、 ス テ ン レ ス 基板 1 1 に 存在す る 圧延方 向 に よ る 残留応力 あ る い は ロ ーノレ巻上時の テ ン シ ョ ン に よ る 残留応力 を 完全 に 取 り 除 く こ と がで き ず、 微細バ タ ー ン 形成用 原版の 製版が終了 し た後 に お い て ス テ ン レ ス 基板 1 1 の 収縮が発生す る 。 ま た 、 上記 の 加熱温度 お よ び加熱時 間 を 超 え る よ う な 加熱処理 を施 し て も 、 加熱処 理 に よ る 更 な る 効果 は 得 ら れず、 製造 コ ス ト の 上昇を 来 す の み で好 ま し く な い 。
本発明 の 適用 対象 と な る ス テ ン レ ス 基板 1 1 は 特 に 制 限 は な く 、 従来 よ り 微細パ タ ー ン 形成用 原版 の 基板 と し て用 い ら れて い る も の を 挙 げ る こ と がで き る 。 具体的 に は 、 S U S 3 0 4 、 S U S 3 0 1 、 S U S 4 3 0 、
S U S 4 0 5 、 S U S 4 0 3 、 S U S 4 1 0 等の ス テ ン レ ス 基板 を 挙 げ る こ と がで き る 。
ス テ ン レ ス 基板 1 1 に 加熱処理 を 施 す前 に 、 予 め ス テ ン レ ス 基板 1 1 を 洗浄 し て お く こ と が好 ま し い 。 こ の ス テ ン レ ス 基板 1 1 の 洗浄 は 、 有機溶剤洗浄、 ア ル カ リ 液 中 で の 電解脱脂、 水洗浄等 の 公知 の 洗浄手段 を用 い る こ と 力 で き る 。
本発 明 に お い て 使用 す る レ ジ ス ト は 、 公知 の 有機 レ ジ ス ト で よ く 、 例 え ば、 ゼ ラ チ ン 、 カ ゼ イ ン 、 グ ル ー 、 卵 白 ァ ノレ ブ ミ ン 等 の 天 然 タ ン ノ、' ク 質 、 カ ル ボ キ シ メ チ ノレ セ ル ロ ー ス 、 ポ リ ビ ニ ノレ ア ル コ ー ノレ 、 ポ リ ア ク リ ル 酸 、 ポ リ ア ク リ ノレ ア ミ ド 、 ポ リ ビ ニ ル ピ ロ リ ド ン 、 ポ リ エ チ レ ン ォ キ サ イ ド、 無水 マ レ イ ン 酸共重合体 お よ び上記 の 樹 脂 の カ ル ボ ン 酸変性物 あ る い は ス ル ホ ン 酸変性物等 の 1 種 ま た は 2 種以上 を 混合 し た も の に 対 し 、 例 え ば、 ジ ァ ゾ基 を 有す る ジ ァ ゾニ ゥ ム 化合物 お よ びパ ラ ホ ル ム ア ル デ ヒ ド の 反応生成物で あ る ジ ァ ゾ樹脂、 ア ジ ド基 を 有す る ア ジ ド化合物、 ポ リ ビニ ル ア ル コ ー ゾレ に ゲ イ 皮酸 を縮 合 し た ゲ イ 皮酸縮合樹脂、 ス チ ルバ ゾ リ ゥ ム 塩を 用 い た 樹脂、 重 ク ロ ム 酸塩等 の 光硬化型 の 感光性基 を 有す る も の を 添加す る こ と に よ り 、 感光性を 付与 し た も の を 挙 げ る こ と がで き る 。 尚、 感光性基 は上述の 光硬化型感光性 基 に 限定 さ れ る も の で は な い 。
(変形例 5 )
転写用 原版 1 0 の 絶縁 マ ス キ ン グ層 と し て は 、 セ ラ ミ ッ ク 前駆体 ポ リ マ ー 、 硬化型樹脂等 を 使用 す る こ と がで き る 。 具体的 に は 、 セ ラ ミ ッ ク 前駆体 ポ リ マ ー と し て、 シ ラ ザ ン ポ リ マ ー 、 シ ラ ノ ー ル化合物 S i ( 0 R ) n
( O H ) 4 _ n 〈 R : 炭化水素基 〉 等 を 挙 げ る こ と がで き る 。 絶縁性物質 と し て セ ラ ミ ッ ク 前駆体 ポ リ マ ー を 用 い た場合、 絶縁膜 の 硬化処理 は 、 セ ラ ミ ッ ク 前駆体 ポ リ マ 一を 焼成す る こ と に よ り 行 う こ と がで き る 。
ま た 、 熱硬化型樹脂 と し て は、 メ ラ ミ ン 樹脂、 ユ リ ア 樹脂、 ポ リ イ ミ ド、 エ ポ キ シ 樹脂、 ノ ボ ラ ッ ク 樹脂等 を 挙 げ る こ と がで き る 。 紫外線硬化型樹脂 と し て は 、 ェ ポ キ シ 樹脂等 を 挙 げ る こ と がで き る 。 ま た 、 電子線硬化型 樹脂 と し て、 エ ポ キ シ 樹脂等を 挙 げ る こ と がで き る 。 絶 縁性物質 と し て上記 の よ う な 硬化型樹脂 を 用 い た 場合、 絶縁膜 の 硬化処理 は 、 そ れぞれ加熱、 紫外線照射、 電子 線照射 に よ り 行 う こ と がで き る 。
さ ら に 、 絶縁 マ ス キ ン グ層 と し て真空 中 で形成 し た S i 0 2 、 S i N 、 T a 0 5 等 の 無機薄膜 に よ り 形 成す る こ と がで き る 。 絶縁マ ス キ ン グ層 と し て上記の よ う な 無機薄膜を用 い た 場合、 基板 1 1 の 全面 に 無機薄膜 か ら な る 絶縁膜を形成 し た後、 リ フ ト オ フ に よ り フ ォ ト レ ジ ス ト 層上の 絶縁膜 を 除去 し て基板 1 1 の 導電部を 露 出 し た 段 階で、 凹 部 に 残存 し て い る 絶縁膜 の 硬化 は不要 で あ る 。
(変形例 6 ) 転写用 原版 1 0 は 、 少 な く と も 表面が導電性 を 示す基 板 1 1 と 、 こ の 基板 1 1 に 所定パ タ ー ン で形成 さ れ た ク 口 メ ー ト 処理面 と 、 こ の ク ロ メ ー ト 処理面 に 形成 さ れ た 絶縁 マ ス キ ン グ層 と を 備 え て い る 。 基板 1 1 と し て は 、 導電性 を有す る も の で あ り 、 特 に 基板 1 1 は エ ッ チ ン グ 処理等 に よ り 凹部の 形成が可能 な も の で あ れ ば よ く 、 ス テ ン レ ス 、 チ タ ン 、 ニ ッ ケ ル等の 導電性 の 金属 か ら な る 基板 で あ る 。 こ の よ う な 基板 1 1 の 厚 さ は 0 . 2 〜 2 m m 程度が好 ま し い 。
尚、 基板 1 1 の 表面 は 、 後述す る メ ツ キ 層 の 被加工物 へ の 転写 に お い て メ ツ キ 層 を 基板 1 1 か ら 容易 に 剥離 さ せ る た め に あ る 程度 の 鏡面処理を 施 さ れ て い る こ と が好 ま し い 。
ま ず、 基板 1 1 に 所定パ タ ー ン で フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 形成 す る 。 次 に 、 基板 1 1 に ク ロ メ 一 ト 処理 を施 し て、 基板 1 1 の 露 出 箇所 に ク ロ メ ー ト 処理面 を 形成す る 。 そ の 後、 こ の 基板 1 1 の 全面 に 絶縁性物質の 塗布液を塗布 し て絶縁膜 を形成 し 、 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 除去す る と 同 時 に リ フ ト オ フ に よ り フ ォ ト レ ジ ス ト 層上の 絶縁膜 を 除 去 し て基板 1 1 の 導電部 を露 出す る 。 こ れ に よ り 、 基板 1 1 に は ク ロ メ ー ト 処理面上 に の み 絶縁膜が残存す る こ と に な り 、 こ の 残存 し て い る 絶縁膜 を必要 に 応 じ て硬化 さ せ る こ と に よ り 絶縁 マ ス キ ン グ層 が得 ら れ る 。
第 2 の 実施例 以下、 本発 明 の 第 2 の 実施例 に つ い て 図面 を 参照 し な が ら 説 明 す る 。 な お 、 図 1 乃至図 2 5 に 示 す第 1 の 実施 例 と 同一部分 に は 同一符号 を付 し て詳細 な 説 明 は 省略す 図 2 6 は 本発明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 一例 を 示す概 略断面図 で あ る 。 図 2 6 に お い て、 多層 プ リ ン ト 配線板 1 は 、 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 と 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 設 け ら れ た 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 こ の 配線パ タ ー ン 層 3 上 に 積層 さ れ た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 、 更 に 配線パ タ ー ン 層 4 上 に 積 層 さ れ た 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と を 備 え た 3 層構 成 の 多層 プ リ ン ト 配線板で あ る 。
そ し て、 図 2 6 に 示 さ れ る よ う に 、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と こ の 配線パ タ ー ン 層 3 上 に 積層 さ れ た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と が重 な り 合 う 箇所 に は 、 追加 絶縁層 1 6 1 が介在 さ れ る 。 さ ら に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と こ の 配線パ タ ー ン 層 4 上に 積層 さ れ た 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り 合 う 箇所 に は 、 追加 絶縁層 1 6 3 が介在 さ れ る 。 追加絶縁層 1 6 3 は 、 帯状 の 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン層 4 の 一部 を覆 っ て い る の で あ る が、 図 2 6 は 断面図で示 さ れて い る の で そ の ィ メ ー ジ が掴 み に く く 、 図 2 8 の 斜視図 を参照す る こ と に よ り 具体的構成が容易 に 理解で き る 。
な お、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 第 3 層 目 の 配 線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り を生 じ る 場 合 に も 当 然想定で き 、 こ の 場合 に も 重 な り 合 う 箇所 に は 追加絶縁層 1 6 1 が介在 さ れ る 。
前記多層 プ リ ン ト 配線板 1 を構成す る 各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 , 5 は 、 そ れ ぞ れ導電性層 3 a , 4 a , 5 a と こ の 導電性層 の 下部 に 形成 さ れ た 絶縁樹脂層 3 b , 4 b 5 b と を 有 し て い る 。 そ し て、 多層 プ リ ン ト 配線板 1 は 各配線パ タ ー ン 層 3 , 4 , 5 を基板 2 の 上、 あ る い は 下 層 の 配線パ タ 一 ン 層 の 上 に 順次転写積層 し た 重ね 刷 り 型 の 構造 で あ り 、 各配線パ タ ー ン 層 が相互 に 重な り 合 う 箇 所 に は、 上述 の ご と く 追加絶縁層 1 6 1 , 1 6 3 が介在 さ れ て お り 、 上下の 配線パ タ ー ン 層 間 の 絶縁 を 確実 な も の と し て い る 。 す な わ ち 、 上下の 配線パ タ ー ン 層 間 の 絶 縁 は 上層 の 配線パ タ ー ン 層 を構成す る 絶縁樹脂層 3 b , 4 b , 5 b に よ っ て も 可能で は あ る も の の 、 本発明 に お い て は 、 こ れ と は別途 に 、 新た な 追加絶縁層 1 6 1 , 1 6 3 を 介在 さ せ て、 多 層 ブ リ ン ト 配線板 1 の 信頼性 を 向上 さ せ て い る の で あ る 。
な お、 本発 明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 は、 各配線バ タ 一 ン 層 が相互 に 重 な り 合 う 箇所 に積極 的 に 追加絶縁層 1 6 1 , 1 6 3 を 介在 さ せ た構造 を と つ て い る の で 、 そ の 他 の 場所で は 配線パ タ ー ン 層 3 , 4 , 5 の導電性層 3 a , 4 a , 5 a は 部分 的 に 常 に 裸 出 さ れて お り 、 配線 パ タ ー ン 層 の 交差部近傍 あ る い は 各配線パ タ ー ン 層 が相 互 に近接す る 部位 (近接部) に お け る 各配線パ タ ー ン 層 相互の 接続 を 行 う こ と が で き る 。
前記配線バ タ 一 ン 層 同士が重 な り 合 う 部分 に 介在 さ れ る 追加絶縁層 1 6 1 , 1 6 3 は 、 図 2 6 お よ び図 2 8 に 示 さ れ る よ う に 、 重 な り 合 う 部分 に お け る 配線パ タ ー ン 層 の 上面 お よ び側面部 の 全体 を 完全 に 覆 う よ う な 形態 と す る こ と が望 ま し い 。 絶縁性 を 完全 に 担保す る た め で あ る 。 こ の よ う な 絶縁層 の 材質や 、 形成方法 に つ い て は後 述す る 。
次 に 、 上記 の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 の 製造を 例 に し て 図 2 7 を 参照 し な が ら 本発 明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製 造方法 を 説 明す る 。
ま ず、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 、 上記の 配 線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 1 0 (図 2 参照) を.絶縁樹 脂層 1 5 が基板 2 に 当 接す る よ う に 圧着す る 。 こ の 圧着 は、 ロ ー ラ 圧着、 プ レ ー ト 圧着、 真空圧着等、 い ずれの 方法 に し た 力《 つ て も よ い 。 ま た、 絶縁樹脂層 が加熱 に よ り 粘着性 あ る い は接着性 を 発現す る 絶縁樹脂 か ら な る 場 合 に は 、 熱圧着 を行 う こ と も で き る 。 そ の 後、 導電性基 板 1 1 を剥離 し て配線パ タ ー ン 層 1 3 を基板 2 上 に 転写 す る こ と に よ り 、 導電性層 3 a と 絶縁樹脂層 3 b を 有す る 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 を 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 形成す る (図 2 7 ( A ) ) 。
こ の よ う に 形成 さ れ た 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 次工程 で積層 さ れ る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 お よ び 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り 合 う 予定部分 に 追加絶縁層 が形成 さ れ る 。 重 な り 合 う 予 定部分 と は 、 次 工程 で積層 さ れ る 配線パ タ ー ン 層 が転写 さ れれ ば、 必然 的 に 重 な り を生 じ る 箇所 を い う 。 図 2 7 に 示 さ れ る 実施 例 で は 、 理解 を 容 易 に す る た め に 第 ' 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 に 対 し て は 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 の み が 重 な り 合 う こ と を 想定 し て お り (実際 に は 、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 に も 重 な り 合 う こ と が多 々 あ る ) 追加 絶縁層 1 6 1 は 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重な り 合 う 予定 部分 の パ タ ー ン に 対応す る よ う に予 め 作製 さ れ た ス ク リ — ン 印刷版 を 用 い て、 ス ク リ ー ン 印刷 に て形成 さ れ る
(図 2 7 ( B ) ) 。 印刷用 の イ ン キ組成物 と し て は、 塗 布乾燥後の 絶縁性が担保で き れば、 特 に 制限 は な い が、 よ り 好適 な 具体例 と し て は 、 ポ リ イ ミ ド樹脂溶液 (東 レ セ ミ コ フ ァ イ ン S P — 1 1 0 ) 、 エ ポ キ シ 樹脂溶 液が拳.げ ら れ る 。 好 ま し く は ポ リ イ ミ ド樹脂で あ る 。
そ の 後、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 が転写形成 さ れ た 基板 2 上 に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原 版 2 0 (図 3 参照) を用 い て 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 に 対す る 位置 合わ せ を 行 っ た う え で 同様 に 配線パ タ ー ン 層 の 転写 を行 い 、 導電性層 4 a と 絶縁樹脂層 4 b を 有 す る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 を形成す る (図 2 7
( C ) ) 。 こ の 際、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と の 重 な り 合 う 部分 に は 追加絶 縁層 1 6 1 力く介在 さ れ て い る 。
次 い で、 今度 は 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 、 次ェ 程で積層 さ れ る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り 合 う 予定部分 に 追加絶縁層 1 6 3 が形成 さ れ る 。 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 に 対 し て は 、 第 3 層 目 の 配線バ タ ー ン 層 5 の み が重 な り 合 う こ と を 想定 し て お り 、 追加絶 縁層 1 6 3 は 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予 定部 分の パ タ ー ン に 対応す る よ う に 予 め 作製 さ れ た ス ク リ ー ン 印刷版を 用 い て、 ス ク リ ー ン 印刷 に て形成 さ れ る (図 2 7 ( D ) ) 。 図 2 7 ( D ) の 断面図 か ら は 、 絶縁層 6 3 が第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 を 覆 う と い う ィ メ ー ジ が現れて い な い の で、 図 2 8 の 斜視図 を参考 さ れ た い 図 2 8 の A — A ' 矢視図が、 図 2 7 ( D ) の 断面図 に 相 当 す る 。
次 い で、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 お よ び第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 が転写形成 さ れ た 基板 2 上 に 、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 3 0 (図 4 参照) を 用 い て 同様 に 位置 合 わせ を 行 っ て配線パ タ ー ン 層 の 転 写 を 行 い 、 導電性層 5 a と 絶縁樹脂層 5 b を 有す る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 を 形成す る (図 2 7 ( E ) ) 。 こ の 際、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 第 3 層 目 の 配線 パ タ ー ン 脣 5 と の 重 な り 合 う 部分 に は追加絶縁層 1 6 3 が介在 さ れて い る 。 な お 、 図 2 7 に お け る 配線パ タ ー ン 層 同 士の 重 な り 合 う 部分 の 数 は 、 理解 を 容易 に す る た め に 極'力少 な い 例 を と つ て説 明 し た ま で で 、 も ち ろ ん こ の 数 に 限定 さ れ る も の で は な い 。
次 に 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重な り 合 う 部分 に 絶縁層 を 介在 さ せ る 他 の 実施例 を 図 2 9 に 沿 っ て説明 す る 。
図 2 9 ( A ) は 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 導電性層 3 a と 絶縁樹脂層 3 b を 有す る 第 1 層 目 の 配線 パ タ ー ン 層 3 を転写 し た 状態 を 示 し た も の であ り 、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 は 、 前記図 2 7 ( A ) と 同 じ 手 法 で形成 さ れ る 。
次 い で、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 を転写、 硬化 さ せ た 基板 2 に 、 図 2 9 ( B ) に 示す よ う に 感光性絶縁材 料、 特 に 好 ま し く は 、 感光性 ポ リ イ ミ ド樹脂 を主成分 と す る 感光性塗布液 を塗布 · 乾燥 さ せ て感光性絶縁塗膜 1 7 0 を形成す る 。 塗布方法 と し て は 、 プ レ ー ト コ ー テ ィ ン グ法、 ノ — コ ー テ ィ ン グ法、 デ ィ ッ ピ ン グ法、 ス ピ ン コ ー テ ィ ン グ法等 い ずれ の 方法で め'つ て も よ い 。 そ の 後、 第 1 層 目 の 配線パ タ 一 ン 層 3 と 、 次ェ程で積層 さ れ る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 お よ び第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り 合 う 予定部分 の パ 夕 ー ン に 対応す る よ う に 予 め作製 さ れ た フ オ ト マ ス ク 1 7 1 を用 い て、 感光性絶縁塗膜 1 7 0 を 密着露光す る (図 2 9 ( B ) ) し か る 後、 現像 し て、 重 な り 合 う 予定部分のパ 夕 一ニ ン グ を 行 っ た 後、 基板 を ォ ー プ ン ま た は ホ ッ ト プ レ一 ト で 熱処理 し 、 絶縁塗膜 を硬化 さ せ て追加絶縁層 1 6 1 を形 成 さ せ る (図 2 9 ( C ) ) 。 そ の後、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 が転写形成 さ れた基板 2 上 に、 第 2 層 目 の配 線パ タ ー ン 層用 の転写用 原版 2 0 (図 3 参照) を用 い て 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン層 に対す る 位置合わせを行 っ た う え で同様 に配線パ タ ー ン層 の転写を行い 、 導電性層 4 a と 絶縁樹脂層 4 b を有す る 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン 層 4 を形成す る (図 2 9 ( D ) ) 。 こ の 際、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン 層 4 と の重 な り 合 う 部分 に は追加絶縁層 1 6 1 が介在 さ れて い る 。
次 い で、 今度 は第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 4 と 、 次ェ 程で積層 さ れ る 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層 5 と が重な り 合 う 予定部分 に追加絶縁層 1 6 3 が形成 さ れ る (図 2 9 ( E ) ) 。 追加絶縁層 1 6 3 の形成 は、 前記追加絶縁層 1 6 1 の形成 に準 じ て図 2 9 ( B ) 〜 ( C ) に示 さ れ る 工程 に沿 っ て行え ば よ い。 な お、 図 2 9 ( E ) の 断面図 か ら は、 追加絶縁層 1 6 3 が第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 4 を覆 う と い う ィ メ ー ジ が現れて い な い の で、 前述 し た 図 2 8 の斜視図を参考 さ れた い。 図 2 8 の A — A ' 矢視 図が、 図 2 9 ( E ) の 断面図 に相 当す る 。
次い で、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 お よ び第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン層 4 が転写形成 さ れた基板 2 上に、 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン 層用 の転写用原版 3 0 (図 4 参照) を用 い て同様 に位置合わせを行 っ て配線パ タ ー ン層の転 写 を 行 い 、 導電性層 5 a と 絶縁樹脂層 5 b と を 有す る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 を 形成す る (図 2 9 ( F ) ) こ の 際、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 第 3 層 目 の 配線 パ タ ー ン 層 5 と の 重 な り 合 う 部分 に は 追加絶縁層 1 6 3 が介在 さ れて い る 。 な お 、 図 2 9 に お け る 配線パ タ ー ン 層 同 士 の 重 な り 合 う 部分 の 数 は、 理解 を 容易 に す る た め に 極力少 な い 例 を と つ て説 明 し た ま で で、 も ち ろ ん こ の 数 に 限定 さ れ る も の で は な い 。
ま た 、 図 2 9 に 示 さ れ る 絶縁層 を 形成す る た め の 感光 性絶縁材料 と し て は 、 前述 し た よ う に 感光性 ポ リ イ ミ ド 樹脂 を用 い る こ と が好 ま し い。 感光性 ポ リ イ ミ ド樹脂 を 用 い る こ と に よ り 、 よ り 高 い 絶縁性が得 ら れ る と い う メ リ ッ ト が生 じ る 。
次 に 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 部分 に 絶縁層 を 介在 さ せ る 更 に 他の 実施例 を 図 3 0 〜 図 3 1 に 沿 っ て 説 明 す る 。
図 3 0 ( A ) は 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 導電性層 3 a と 絶縁樹脂層 3 b を 有す る 第 1 層 目 の 配線 パ タ ー ン層 3 を 転写 し た 状態を示 し た も の で あ り 、 前記 図 2 7 ( A ) と 同 じ 手法 で形成 さ れ る 。
次 い で、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 を転写、 硬化 さ せ た 基板 2 に 、 図 3 .0 ( B ) に 示す よ う に 絶縁材料 ( ポ リ イ ミ ド樹脂、 エ ポ キ シ 樹脂) 、 特 に 好 ま し く は ポ リ イ ミ ド樹脂 を主成分 と す る 塗布液を 塗布 · 乾燥 さ せ て絶縁 塗膜 1 6 1 a を形成す る 。 塗布方法 と し て は 、 プ レ ー ト コ ー テ ィ ン グ法、 バ ー コ 一テ ィ ン グ法、 デ ィ ッ ピ ン グ法 ス ピ ン コ ー テ ィ ン グ 法等 の い ずれ の 方法で あ っ て も よ い 次 い で、 図 3 0 ( C ) に 示す よ う に 、 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 1 8 1 を 形成 し 乾燥 さ せ る 。 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 1 8 1 の 形成 は 、 プ レ ー ト コ ー テ ィ ン グ法、 バ一 コ ー テ ィ ン グ 法、 デ ィ ッ ピ ン グ法、 ス ピ ン コ ー テ ィ ン グ法等 い ずれ の 方法で あ つ て も よ い 。 そ の 後、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 次工程で積層 さ れ る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 ( お よ び第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 ) と が重 な り 合 う 予定部分 の パ タ ー ン に 対応す る よ う に 予 め 作製 さ れ た フ ォ ト マ ス ク 1 8 5 を 用 い て、 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 1 8 1 を 密着露光す る (図 3 0 ( C ) ) o
し か る 後、 現像 し て、 重 な り 合 う 予定部分 の パ タ ー 二 ン グ を 行 つ た 後 ( レ ジ ス ト 1 8 2 の 形成) 、 絶縁塗膜 1 6 1 a の 露 出 部分 を エ ツ チ ン グ除去す る (図 3 0 ( D ) ) 。 さ ら に 、 レ ジ ス ト 1 8 2 を エ ツ チ ン グ除去 し た後、 基板 を オ ー ブ ン ま た は ホ ッ ト プ レ ー ト で熱処理 し 残余の 絶縁塗膜 を 硬化 さ せ て追加絶縁層 1 6 1 を 形成 さ せ る (図 3 0 ( E ) :) 。
そ の 後、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン層 3 が転写形成 さ れ た基板 2 上 に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原 版 2 0 (図 3 参照) を 用 い て第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 に 対す る 位置 合わ せ を 行 つ た う え で 同様 に 配線パ タ ー ン 層 の 転写 を 行 い 、 導電性層 4 a と 絶縁樹脂層 4 b を 有す る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン層 4 を形成す る (図 3 1
( A ) ) 。 こ の 際、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と の 重 な り 合 う 部分 に は 追加絶 縁層 1 6 1 が介在 さ れ て い る 。
次 い で 、 今度 は 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 、 次ェ 程で積層 さ れ る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り 合 う 予定部分 に 追加絶縁層 1 6 3 が形成 さ れ る ( 図 3 1
( B ) ) 。 追加絶縁層 1 6 3 の 形成 は 、 前記追加絶縁層 1 6 1 の 形成 に 準 じ て (図 3 0 ( B ) 〜 ( E ) ) に 示 さ れ る 工程 に 沿 っ て行 え ば よ い。 な お、 図 3 1 ( B ) の 断 面図 力、 ら は 、 追加絶縁層 1 6 3 が第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン層 4 を 覆 う と い う イ メ ー ジ が現れて い な い の で、 前述 し た 図 2 8 の 斜視図 を 参考 さ れ た い 。 図 2 8 の A ^ A ' 矢視図が、 図 3 1 ( B ) の 断面図 に 相 当 す る 。
次 い で、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 お よ び第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 が転写形成 さ れ た基板 2 上 に 、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 3 0 (図 4 参照) を 用 い て 同様 に 位置 合 わ せ を 行 っ て配線パ タ ー ン 層 の転 写を 行 い 、 導電性層 5 a と 絶縁樹脂層 5 b を 有す る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 を形成す る (図 3 1 ( C ) ) 。 こ の 際、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 第 3 層 目 の 配線 パ タ ー ン 層 5 と の 重 な り 合 う 部分 に は 追加絶縁層 1 6 3 が介在 さ れて い る 。 な お、 図 3 0 お よ び図 3 1 に お け る 配線パ タ ー ン 層 同士 の 重 な り 合 う 部分 の 数 は 、 理解 を 容 易 に す る た め に 極力少 な い 例 を と つ て説 明 し た ま で で、 も ち ろ ん こ の 数 に 限定 さ れ る も の で は な い 。
次 に 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 部分 に 絶縁層 を 介在 さ せ る 更 に 他 の 実施例 を 図 3 2 〜 図 3 3 に 沿 っ て 説 明す る 。
追加絶縁層 は 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予定 部分の パ タ ー ン に 対応す る 絶縁層パ タ ー ン を 備 え る 絶縁 層転写基板 を 予 め 作製 し 、 こ の 絶縁層 パ タ ー ン を 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板側 に 転写 し て 形成 さ れ る 。 従 っ て ま ず 最 初 に 、 図 3 2 に 示 さ れ る ご と く 絶縁層 転 写基板 1 9 0 (図 3 2 ( D ) ) が作製 さ れ る 。 す な わ ち 、 絶縁 層転写基板 と し て の 導電性基板 1 9 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布 し て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 1 9 2 を 形成 (図 3 2 ( A ) ) す る 。 そ の 後、 上述 し て き た よ う な 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 次工程で積層 さ れ る 第 2 層 目 の 配 線パ タ ー ン 層 4 ( お よ び第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 ) と が重 な り 合 う 予定部分の パ タ ー ン に 対応す る よ う に予 め 作製 さ れ た フ ォ ト マ ス ク (図示せ ず) を 用 い て 、 フ ォ ト レ ジ ス ト 層 1 9 2 を 密着露光 し 現像 し て、 導電性基板 1 9 1 の 絶 縁 パ タ ー ン 部 分 1 9 1 a を 露 出 さ せ る ( 図 3 2 ( B ) ) 。 次 に 、 導電性基板 1 9 1 の 絶縁パ タ ー ン 部分 1 9 1 a 上 に メ ツ キ 法 に よ り 導電性層 1 9 4 を 形成 す る (図 3 2 ( C ) ) 。 こ の 場合、 導電性層 1 9 4 は剥 離層 と し て 使用 さ れ る 。 そ の 後、 導電性層 1 9 4 上 に 電 着法 に よ り 粘着性 あ る い は 接着性 の 絶縁樹脂層 1 9 5 を 形 成 し 乾 燥 さ せ て 絶 縁 層 転 写基 板 を 作 製 す る ( 図 3 2 ( D ) ) 。 同様 に し て 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 次工程 で積層 さ れ る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り 合 う 予定部分 の バ タ 一 ン に 対応す る 絶縁層パ タ ー ン を 備 え る 絶縁層転写基板 も 予 め準備 さ れ る (図示 せ ず) な お 、 導電性層 1 9 4 お よ び絶縁樹脂層 1 9 5 の 材料 と し て は 、 そ れ ぞれ、 前記導電性層 3 a , 4 a , 5 a お よ び絶縁樹脂層 3 b , 4 b , 5 b と 同様 な 材料 を 用 い れ ば よ い o
こ の よ う に し て準備 さ れ た 絶縁層転写基板 1 9 0 等 を 用 い て 多層 プ リ ン ト 配線板 を作製す る 例 が図 3 3 に 示 さ れ る 。
図 3 3 ( A ) は 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 上 に 導電性層 3 a と 絶縁樹脂層 3 b を 有す る 第 1 層 目 の 配線 パ タ ー ン 層 3 を転写 し た 状態 を 示 し た も の で あ り 、 前記 図 2 7 ( A ) と 同 じ 手法で形成 さ れ る 。
こ の 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 が形成 さ れ た 基板 の 上 に 、 上記絶縁層転写基板 1 9 0 を 圧着す る 。 こ の 際 の 圧着 は 、 ロ ー ラ 圧着、 プ レ ー ト 圧着、 真空圧着等 の い ず れの 方法を 用 い て も よ い 。 ま た、 絶縁樹脂層 1 9 5 が加 熱 に よ り 粘着性 あ る い は 接着性を発現す る 絶縁樹脂か ら な る 場合 に は 、 熱圧着 を行 う こ と も で き る 。 そ の 後、 絶 縁層転写基板 1 9 0 を剥離 し て絶縁層パ タ ー ン を転写す る こ と に よ り 、 導電層 1 9 4 a お よ び追加絶縁層 1 9 5 a と を有す る 絶縁層パ タ ー ン を基板上 に形成 し 、 転写後、 追加絶縁層 1 9 5 a を硬化 さ せ る (図 3 3 ( B ) ) 。
そ の後、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン 層 3 が転写形成 さ れ た基板 2 上 に 、 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン雇用 の転写用原 版 2 0 (図 3 参照) を用 い て第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 に対す る 位置合わせ を行 っ た う え で 同様 に配線パ タ ー ン 層 の転写を行 い、 導電性層 4 a と 絶縁樹脂層 4 b を有す る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン層 4 を形成す る (図 3 3 ( C ) ) 。 こ の 際、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 と 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と の 重 な り 合 う 部分 に は追加絶縁層 1 9 5 a (導電層 1 9 4 a ) が介在 ざれて い る 。
次 いで、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン層 4 と 、 次工程で積 層 さ れ る 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層 5 と が重な り 合 う 予 定部分のパ タ ー ン に対応す る 絶縁層パ タ ー ン を備え る 絶 縁層転写基板を転写 し て、 導電層 1 9 8 a お よ び追加絶 縁層 1 9 9 a を有す る 絶縁層パ タ ー ン を基板上に形成 し 、 転写後、 絶縁層 を硬化 さ せ る (図 3 3 ( D ) ) 。
次い で、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 お よ び第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 4 が転写形成 さ れた基板 2 上に、 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層用 の転写用原版 3 0 (図 4 参照) を用 いて同様 に位置合わせ を行 っ て配線パ タ ー ン層の転 写を行い、 導電性層 5 a と 絶縁樹脂層 5 b を有す る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 を 形成す る (図 3 3 ( E ) ) 。 こ の 際、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 第 3 層 目 の 配線 パ タ ー ン 層 5 と の 重 な り 合 う 部分 に は 追加絶縁層 1 9 9 a が介在 さ れて い る 。 な お 、 図 3 3 に お け る 配線パ タ ー ン 層 同士の 重 な り 合 う 部分 の 数 は 、 理解 を 容易 に す る た め に 極力少 な い 例 を と つ て説 明 し た ま で で 、 も ち ろ ん こ の 数 に 限定 さ れ る も の で は な い 。
次 い で、 前記第 1 の 実施例 の ス ク リ ー ン 印刷法 に 類似 す る デ ィ ス ペ ン ス に よ る 追加絶縁層 の 介 在方法を 、 前述 の 図 2 7 を 再度用 い て説明す る 。 デ イ ス ペ ン ス と は、 例 え ば、 注射器 の 針 の 先か ら 塗布液を押 し 出 し 塗設す る 方 法を想定す れ ば容易 に 理解がで き る 。
ま ず 、 第 1 層 目 の 配 線 パ タ ー ン 層 3 は 、 前記 図 2 7 ( A ) と 同 じ 手法 で形成 さ れ る 。 こ の よ う に 形成 さ れ た 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン層 3 を 転写、 硬化 さ せ た 基板 2 に あ ら か じ め 配線パ タ ー ン が重 な り 合 う 予定部分 に の み あ ら か じ め 溶液塗布装置 ( ミ ク ロ 技研 (株) 製 X Y D — 4 5 5 0 Z C ) を 用 い て デ イ ス ペ ン ス 法 に よ り 絶縁層 が形成 さ れ る (図 2 7 ( B ) ) 。 デ イ ス ペ ン ス 用 の イ ン キ と し て は 塗布乾燥後 の 絶縁性が担持で き れ ば、 特 に 制 限 は な い が、 よ り 好適 な 具体例 と し て は ポ リ イ ミ ド樹脂 を主成分 と す る 溶液 (東 レ (株) 製 セ ミ コ フ ァ イ ン S P — 1 1 0 ) が挙 げ ら れ る 。 こ の も の が塗布、 乾燥 さ れて 追加絶縁層 1 6 1 が形成 さ れ る 。 そ の 後、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 が転写形成 さ れ た 基板 2 上 に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原 版 2 0 を 用 い て 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 に 対す る 位 置 合 わ せ を 行 っ た う え で 同 様 に 配線パ タ ー ン 層 の 転写を 行 い 、 導電性層 4 a と 絶縁樹脂層 4 b を 有す る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 を 形成す る (図 2 7 ( C ) ) 。 こ の 際、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 第 2 層 目 の 配線バ タ ー ン 層 4 と の 重 な り 合 う 部分 に は 追加絶縁層 1 6 1 が介 在 さ れて い る 。
次 い で、 今度 は 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 、 次ェ 程で積層 さ れ る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と が重 な り 合 う 予定部分 に 追加絶縁層 1 6 3 が形成 さ れ る 。 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 に 対 し て は、 第 3 層 目 の 配線バ タ ー ン 層 5 の み が重 な り 合 う こ と を想定 し て お り 、 追加絶 縁層 1 6 3 は 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予 定部 分 の パ タ ー ン に 対応 し てす る よ う に デ ィ ス ペ ン ス を 行 い 形成 さ れ る (図 2 7 ( D ) ) 。
次 い で、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 お よ び第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 が転写形成 さ れ た基板 2 上 に 、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 3 0 を用 い て 同様 に 位置合わ せ を 行 っ て配線パ タ ー ン 層 の 転写 を行 い 、 導 電性層 5 a と 絶縁樹脂層 5 b を有す る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー.ン 層 β を 形成す る (図 2 7 ( Ε ) ) 。 こ の 際、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と の 重 な り 合 う 部分 に は 追加絶縁層 1 6 3 が介在 さ れ て い る o
次 に 、 実験例 を 示 し て本発 明 を 更 に 詳細 に 説 明 す る 。 実 験 例
( 1 ) 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 1 (図 2 7 対応) 第 1 の 実施例 の 実験例 1 の ( 5 ) に お い て作製 し た 3 種の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 A l 、. A 2 、 A 3 を こ の 順序で厚 さ 5 0 μ πιの ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 下記 の 条件 で圧着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 Α か ら な る 3 種 の 配線パ タ ー ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し て 多層 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た。
(圧着条件)
圧力 : S O k g f Z c m 2
温度 : 1 8 0 °C
な お 、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 次工程で積層 さ れ る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と が重 な り 合 う 部分 に は 、 重な り 合 う 部分 の パ タ ー ン に 対応す る よ う に 予 め 作製 さ れ た ス ク リ ー ン 印刷版 を 用 い て、 ス ク リ ー ン 印刷 に て追加絶縁層 1 6 1 を介在 さ せ た。 同様 に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 に 対 し て は、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン層 5 が重 な り 合 う 部分 の パ タ ー ン に 対応す る よ う に予 め作製 さ れ た ス ク リ 一 ン 印刷版を 用 い て、 ス ク リ ー ン 印 刷 に て追加絶縁層 1 6 3 を 介在 さ せ た。
追加絶縁層 1 6 1 、 追加絶縁層 1 6 3 形成の た め の ィ ン キ 組成物 と し て は 、 東 レ 株式会社製、 セ ミ コ フ ァ イ ン S P — 1 1 0 を 用 い た 。
( 2 ) 多 層 プ リ ン ト 配線板 の作製 2 (図 2 9 対応) 第 1 の 実施例 の 実験例 1 の ( 6 ) に お い て作製 し た 3 種 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用原版 B l 、 B 2 、 B 3 を こ の 順序で厚 さ 5 0 / mの ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 下記 の 条件で圧着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 B か ら な る 3 種 の 配線パ タ ー ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し て 多層 プ リ ン ト 配線板 を作製 し た 。
(圧着条件)
圧力 : 5 0 k g f Z c m 2
温度 : 2 0 0 °C
な お、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 次工程 で積層 さ れ る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と が重な り 合 う 部分 に は 、 重 な り 合 う 部分 の パ タ ー ン に 対応す る よ う に 予 め 作製 さ れ た フ ォ ト マ ス ク を 用 い て、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 一 法 に て ポ リ イ ミ ド樹脂か ら な る 追加絶縁層 1 6 1 を介 在 さ せ た。 同様 に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 に 対 し て は 、 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン層 5 が重 な り 合 う 部分の パ タ ー ン に 対応す る よ う に 予 め作製 さ れ た フ ォ ト マ ク ス を 用 い て、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 一 法 に て ポ リ イ ミ ド樹 8 か ら な る 追加絶縁層 1 6 3 を介在 さ せ た。
追加絶縁層 1 6 1 、 追加絶縁層 1 6 3 形成の た め の 感 光性樹脂組成物 と し て は 東 レ 株式会社製、 フ ォ ト ニ ー ス U P — 5 1 0 0 F を 用 い た 。
( 3 ) 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 作製 3 (図 3 0 お よ び 図
3 1 対応)
第 1 の 実施例 の 実験例 1 の ( 7 ) に お い て作製 し た 3 種の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 C l 、 C 2 、 C 3 を こ の 順序で厚 さ 5 0 の ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 下記 の 条件 で圧着 し て 導電性層 と 絶縁樹脂層 C か ら な る 3 種 の 配線パ タ ー ン 層 を フ ィ ル ム 基板上 に 転写 し 、 多 層 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た。
(圧着条件)
圧 力 : O k g f / c m "
温度 : 2 0 0 °C
な お 、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 次工程で積層 さ れ る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と が重 な り 合 う 部分 に は 、 図 3 0 お よ び 図 3 1 に 示 さ れ る 製造方法 に よ っ て ポ リ イ ミ ド樹脂か ら な る 追加絶縁層 1 6 1 を 介在 さ せ た 同様 に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 4 と 第 3 層 目 の 配線 パ タ ー ン 層 5 が重 な り 合 う 部分 に も 、 同様 の 方法で ポ リ ィ ミ ド樹脂 か ら な る 追加絶縁層 1 6 3 が介在 さ せ た。
追加絶縁層 1 6 1 、 追加絶縁層 1 6 3 形成 の た め の ポ リ イ ミ ド樹脂含有塗布組成物 と し て は東 レ 株式会社製、 セ ミ コ フ ァ イ ン S P — 3 4 1 を 用 い た。
( 4 ) 多 層 プ リ ン ト '配線板 の 作製 4 (図 3 3 対応) 第 1 の 実施例 の 実験例 1 の ( 5 ) に お い て作製 し た 3 種の配線パ タ ー ン層用 の 転写用原版 A l 、 A 2 、 A 3 を こ の 順序で厚 さ 5 0 m の ポ リ イ ミ ド フ ィ ルム基板上 に 下記の 条件で圧着 し て導電性層 と 絶縁樹脂層 A か ら な る 3 種の配線パ タ ー ン層 を フ ィ ル ム基板上 に転写 し て多層 プ リ ン ト 配線板を作製 し た。
(圧着条件)
圧力 : 2 0 k g f Z c m 2
温度 : 1 8 0 °C
な お、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 と 、 次工程で積層 さ れ る 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 4 と が重な り 合 う 部分 に は 、 図 3 3 に 示 さ れ る 製造方 法 に よ っ て追加絶縁層 1 9 5 を介在 さ せ た。 同様 に、 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン 層 4 と 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層 5 が重な り 合 う 部分 に も 、 同様の方法で追加絶縁層 1 9 9 a を介在 さ せ た。
追加絶縁層 1 9 5 a , 1 9 9 a 形成の た め に用 い た組 成物 は、 前記絶縁樹脂層用電着液 C と 同様 と し た。
こ れ ら の各多層 プ リ ン ト 配線版サ ン プ ル にっ き 抵抗率 を測定 し絶縁性を評価 し た。 すな わ ち 、 導電性層 の上下 間の 抵抗率を測定 し た と こ ろ 、 (印加電圧 1 0 0 V、 温 度 2 2 °C、 湿度 5 0 % ) 、 1 0 15 Q c m以上の値を示 し た。 ま た、 さ ら に絶縁破壊電圧を測定 し た。 すな わ ち 、 絶縁層 を 間 にす る 導電性層 に電圧印加を行な い測定を行 つ た と こ ろ 、 絶縁破壊電圧 1 K V以上 と 絶縁性は良好で め つ 7こ o 以上詳述 し た よ う に 、 本発 明 に よ れば、 多層 プ ラ ン ト 配線板用 の 基板 と 、 該基板上 に 順次転写 さ れ た複数 の 配 線パ タ ー ン 層 を備 え る 多 層 プ リ ン ト 配線板が提供 さ れ る 前記配線バ タ 一 ン 層 は 導電性層 と 該導電性層 の 下部 に 形 成 さ れ た 絶縁樹脂層 を 有す る と と も に 、 前記絶縁樹脂層 に よ っ て前記基板 あ る い は下層 の 配線パ タ ー ン 層 に 固着 さ れ て い る 。 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 部分 に 追 加絶縁層 が介在す る 構成 と な っ て い る の で、 低 コ ス 卜 で 製造で き 、 高精細 な パ タ ー ン を有す る こ と は も と よ り 、 配線パ タ ー ン が重 な り 合 う 箇所 に お い て確実 な 絶縁がで き 、 信頼性 に 優れ る 多層 プ リ ン ト 配線板が提供で き る 。 ま た 、 特 に 、 絶縁層 を ポ リ イ ミ ド樹脂 か ら 構成す る こ と に よ り 高電圧 に 耐え ら れ る デバ イ ス も 制作可能 と な る 。 第 3 の 実施例
以下、 本発 明 の 第 3 の 実施例 に つ い て 図面 を 参照 し な が ら 説明 す る 。 な お 図 1 乃至図 2 5 に 示す第 1 の 実施例 と 同一部分 に は 同一符号 を付 し て詳細 な 説 明 は 省略す る 図 3 4 は 本発明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 一例 を 示す概 略断面図で あ る 。 図 3 4 に お い て、 多層 プ リ ン ト 配線板 1 は 、 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の基板 2 と 、 基板 2 上 に 設 け ら れ た 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 と 、 こ の 配線バ タ ー ン 層 3 上 に 絶縁樹脂層 2 0 4 を 介 し て積層 さ れ た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 と 、 更 に 配線パ タ ー ン 層 5 上 に 絶縁樹脂層 2 0 6 を 介 し て積層 さ れ た 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 7 と を 備 え た 3 層構成 の 多層 プ リ ン ト 配線板で の る 。
こ の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 を構成す る 各配線パ タ ー ン 層 3 , 5 , 7 は 、 そ れ ぞ れ導電性層 3 a , 5 a , 7 a と こ の 導 電 性 層 の 下 部 に 形 成 さ れ た 接 着層 3 b , 5 b ,
7 b と を有 し て い る 。 そ し て 、 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 は 各配線パ タ ー ン 層 3 , 5 , 7 を基板 2 の 上、 あ る い は、 絶縁樹脂層 を 介 し て下層 の 配線バ タ 一 ン 層 の 上 に 順次転 写積層 し た 重ね 刷 り 型 の 構造で あ り 、 各配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 (交差部) で は 、 上下 の 配線バ タ ー ン 層 間の 絶縁 は絶縁樹脂層 2 0 4 , 2 0 6 に よ り 保 た れ て い る 。 こ の 絶縁樹脂層 2 0 4 , 2 0 6 は、 後述す る よ う に 配線パ タ ー ン 層 5 , 7 を マ ス ク と し て絶縁感光性 樹脂層 を露光、 現像 し て形成 さ れ た も の で あ り 、 配線パ タ ー ン 層 5 , 7 の 下方 に の み 絶縁樹脂層 2 0 4 , 2 0 6 が存在す る 。 し た が っ て、 本発明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 は 、 従来の 多層 プ リ ン ト 配線板 に 見 ら れ た よ う な 絶縁 層 に よ る 配線パ タ ー ン の 被覆がな く 、 各配線パ タ ー ン 層 3 , 5 , 7 の 導電性層 3 a , 5 a , 7 a は 部分的 に 常 に 裸 出 さ れて お り 、 後述す る よ う に 、 配線パ タ ー ン 層 の 交 差 部 あ る い は 各 配線 バ タ 一 ン 層 が 相互 に 近接す る 部 位
(近接部) に お け る 各配線パ タ ー ン 層相互の 接続を 容易 に 行 う こ と 力 で き る 。
ま た 、 絶縁樹脂層 2 0 4 , 2 0 6 を 形成す る た め の 絶 縁感光性樹脂 と し て は 、 ノ ボ ラ ッ ク 樹脂、 ポ リ イ ミ ド樹 脂等 に 、 光照射 に よ っ て溶解 を 促進す る 物質 と し て キ ノ ン ジ ア ジ ド系、 二 ト 口 べ ン ジ ル ス ノレ ホ ン 酸エ ス テ ノレ系、 ジ ヒ ド ロ ピ リ ジ ン 系 等 の 物質 を 添加 し た も の 等 を 挙 げ る こ と が で き る 。 ま た 、 絶縁感光性樹脂 と し て、 光照射 に よ っ て 溶解 を 促進 す る 置換基 を 樹脂'内 に 有す る ノ ボ ラ ッ ク 樹脂、 ポ リ イ ミ ド樹脂等 も 使用 す る こ と が で き る 。 こ の よ う な 絶縁感光性樹脂 で形成 さ れ る 絶縁樹脂層 の 厚 み は 、 使用 す る 絶縁感光性樹脂 に も よ る が、 交差部 に お い て上下 の 配線パ タ ー ン 層 間 の 絶縁 を 保っ た め 、 お よ び、 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の 乗 り 越 え を欠陥 を 防止す る た め に 、 l 〃 m 以上、 好 ま し く は 3 〜 : L 0 m の 範囲 と す る ま た、 上記 の 絶縁感光性樹脂 に ブ ロ ッ ク イ ソ シ ァ ネ ー ト 等 の 熱重合性不飽和結合を有す る 公知 の 熱硬化性樹脂 を 添加 し 、 多層 プ リ ン ト 配線板 の 各層 を転写形成後、 熱処 理 に よ っ て絶縁樹脂層 を硬化 さ せ る こ と が で き る 。 勿論 熱硬化性樹脂以外 に も 、 重合性不飽和結合 (例 え ば、 ァ ク リ ル基、 ビニ ル基、 ァ リ ル基等) を 有す る 樹脂 を絶縁 感光性樹脂 に 添加 し て お け ば、 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 各 層 を転写形成後、 電子線照射 に よ っ て絶縁樹脂層 を 硬化 さ せ る こ と がで き る 。
次 に 、 上記 の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 を 例 に し て 図 3 5 お よ.び図 .3 6 を 参照 し な が ら 本発明 の 多 層 プ リ ン ト 配線 板の 製造方法 を 説明 す る 。 次 に、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の基板 2 上 に 、 転写用原 版 1 0 (図 2 参照) を接着層 1 5 が基板 2 に 当接す る よ う に圧着す る 。 こ の 圧着 は、 ロ ー ラ 圧着、 プ レ ー ト 圧着 真空圧着等、 い ずれの方法 に し た が っ て も よ い。 ま た、 接着層 1 5 が加熱 に よ り 粘着性あ る い は接着性を発現す る 場合 に は、 熱圧着を行 う こ と も で き る 。 そ の後、 導電 性基板 1 1 を剥離 し て配線パ タ ー ン層 1 3 を基板 2 上 に 転写 し 、 接着層 1 5 を 硬 化 す る こ と に よ り 、 導電性層 3 a と 接着層 3 b を有す る 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 を基板 2 上 に 形成す る (図 3 5 ( A ) ) 。
そ の後、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 3 を覆 う よ う に基 板 2 上 に 絶縁感光性 樹脂層 2 0 4 ' を形成 し ( 図 3 5 ( B ) ) 、 こ の絶縁感光性樹脂層 2 0 4 ' 上 に第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層用 の転写用原版 2 0 (図 3 参照) を用 い て第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 に対す る 位置合わせ を行 つ た う えで同様 に配線パ タ ー ン層 の転写を行い、 導電性 層 5 a と 接着層 5 b を有す る 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 5 を形成す る (図 3 5 ( C ) ) 。 次に、 こ の配線パ タ ー ン層 5 を マ ス ク と し て絶縁感光性樹脂層 2 0 4 ' を露光 現像す る こ と に よ り 、 配線パ タ ー ン 層 5 の下方の み に絶 縁樹脂層 2 0 4 を形成 し 、 こ の絶縁樹脂層 2 0 4 と 接着 層 5 b を硬化す る (図 3 5 ( D ) ) 。
次 いで、 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 5 を覆 う よ う に基 板 2 上に絶縁感光性樹脂層 2 0 6 ' を形成 し (図 3 6 ( A ) ) 、 こ の 絶縁感光性樹脂層 2 0 6 ' 上 に 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 3 0 (図 4 参照) を 用 い て 同 様 に 位置合わ せ を行 っ て配線パ タ ー ン 層 の 転写 を 行 い 、 導電性層 7 a と 接着層 7 b を 有す る 第 3 層 目 の 配 線パ タ ー ン 層 7 を 形成す る (図 3 6 ( B ) ) 。 次 に 、 こ の 配 線 パ タ ー ン 層 7 を マ ス ク と し て 絶縁 感 光 性 樹脂層 2 0 6 ' を露光、 現像 す る こ と に よ り 、 配線パ タ ー ン 層 7 の 下方 の み に 絶縁樹脂層 2 0 6 を 形成 し 、 こ の 絶縁樹 脂層 2 0 6 と 接着層 7 b を 硬化す る (図 3 6 ( C ) ) 。
次 に 、 本発 明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 他 の 実施例 に つ い て説明 す る 。 図 3 7 は本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 他 の 例 を 示す概略断面図で あ る 。 図 3 7 に お い て 、 多層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 は、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 2 4 2 と 、 基板 2 4 2 上 に 絶縁樹脂層 2 4 3 を介 し て設 け ら れ た 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 4 4 と 、 こ の配線 パ タ ー ン 層 2 4 4 上 に 絶縁樹脂層 2 4 5 を 介 し て積層 さ れ た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 4 & と 、 更 に 配線バ タ ー ン 層 2 4 6 上 に 絶縁樹脂層 2 4 7 を介 し て積層 さ れ た 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 4 8 と を 備 え た 3 層構成の 多層 プ リ ン ト 配線板 で あ る 。
こ の 多層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 を構成す る 各配線バ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 は 、 そ れ ぞ れ導電性層 か ら な り 、 絶縁樹脂層 を 介 し て基板 2 4 2 や下層 の 配線パ タ ー ン層 の上 に 順次転写積層 し た 重ね 刷 り 型 の構造で あ り 、 各配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 (交差部) で は 、 上下 の 配線パ タ ー ン 層 間 の 絶縁 は絶縁樹脂層 2 4 5 , 2 4 7 に よ り 保 た れて い る 。 こ の 絶縁樹脂層 2 4 3 , 2 4 5 , 2 4 7 は 、 後述す る よ う に 配線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 を マ ス ク と し て粘着絶縁感 光性樹脂層 を 露光、 現像 し て形成 さ れ た も の で あ り 、 配 線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 の 下方 に の み 絶縁 樹脂層 2 4 3 , 2 4 5 , 2 4 7 が存在す る 。 し た が っ て 本実施例 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 も 、 従来 の 多層 プ リ ン ト 配線板 に 見 ら れ た よ う な絶縁層 に よ る 配線パ タ ー ン の 被覆が な く 、 各配線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 は 部分 的 に 常 に 裸 出 さ れて お り 、 後述す る よ う に 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ る い は 各配線パ タ ー ン 層 が相 互 に 近接す る 部分 (近接部) に お け る 各配線パ タ ー ン 層 相互 の 接続を 容易 に 行 う こ と がで き る 。
上記 の 多層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 を 構成す る 基板 2 4 2 は、 上述の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 の 基板 2 と 同様 と す る こ と がで き 、 こ こ で の 説明 は 省略す る 。
各配線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 の 厚 み は、 後述す る よ う な 積層転写 に お け る 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の 乗 り 越 え を 欠陥 な く 行 い 、 ま た、 配線パ タ ー ン 層 の電 気 抵 抗 を 低 く 押 え る た め 以 上、 好 ま し く は 5 〜 4 0 m の 範囲 と す る 。 こ の よ う な 配線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 の 線幅 は、 最小幅 1 0 / Π1 程度 ま で任意 に 設定す る こ と がで き る 。
配線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 を構成す る 導 電性層 の 材料 は、 上述 の 導電性層 3 a , 5 a , 7 a の 材 料 と 同 様 の も の を 挙 げ る こ と がで き る 。
粘着絶縁感光性樹脂 を硬化 さ せ て形成 さ れ る 絶縁樹脂 層 の 厚 み は 、 使用 す る 絶縁感光性樹脂 に も よ る が、 交差 部 に お い て上下 の 配線パ タ ー ン 層 間 の 絶縁 を 保っ た め 、 お よ び、 下層 の 配線 パ タ ー ン 層 の 乗 り 越 え を 欠陥 を 防止 す る た め に 、 l // m 以上、 好 ま し く は 3 〜 1 0 m の 範 囲 と す る 。
次 に 、 上記の 多層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 を 例 に し て 図 3 7 乃至 図 4 0 を 参照 し な が ら 本発明 の 多 層 プ リ ン ト 配 線板 の 製造方法の 他 の 実施例 を説 明す る 。
ま ず、 多層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 を 製造す る た め の 転 写用 原版 を作製す る 。 転写基板 と し て の 導電性基板 2 5 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布 し て フ ォ ト レ ジ ス 卜 層 を形成 し 、 所定の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 を 密着露光 し 現像 し て絶縁層 2 5 2 と し 、 導電性基板 2 5 1 の 露 出 し た 部分 に メ ツ キ 法 に よ り 導電性層 を形成 し て第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 5 3 を設 け た配線パ 夕 ー ン 層用 の 転写用 原版 2 5 0 が得 ら れ る (図 3 8
( A ) ) 。 同様 に し て 、 導電性基板 2 6 1 , 2 7 1 上 に 導電性層 か ら な る 配線パ タ ー ン層 2 6 3 , 2 7 3 を設 け た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 2 6 0 、 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層用 の 転写用原版 2 7 0 を作製す る (図 3 8 ( B ) 、 ( C ) ) 。
次 に、 基板 2 4 2 上 に 粘着絶縁感光性樹脂層 2 4 3 ' を形成 し (図 3 9 ( A ) ) 、 こ の粘着絶縁感光性樹脂層 2 4 3 ' 上 に上記の配線パ タ ー ン層用 の転写用原版 2 5 0 を配線パ タ ー ン層 2 5 3 が当接す る よ う に圧着す る 。 こ の圧着 は、 ロ ー ラ 圧着、 プ レ ー ト 圧着、 真空圧着 等、 いずれの方法 に し たが っ て も よ い。 ま た、 粘着絶縁 感光性樹脂層 2 4 3 ' が加熱 に よ り 粘着性あ る い は接着 性を発現す る 場合 に は、 熱圧着を行 う こ と も で き る 。 そ の 後、 導電性基板 2 5 1 を剥離 し て配線パ タ ー ン層 2 5 3 を基板 2 4 2 上 に転写 し (図 3 9 ( B ) ) . こ の 配線パ タ ー ン層 2 5 3 を マ ス ク と し て粘着絶縁感光性樹 脂層 2 4 3 ' を露光、 現像す る こ と に よ り 、 配線パ タ ー ン層 2 5 3 の下方の み に絶縁樹脂層 2 4 3 を形成 し 、 こ の 絶縁樹脂層 2 4 3 を硬化す る 。 こ れ に よ り 、 導電性層 か ら な る 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 2 4 4 を絶縁樹脂層 2 4 3 を介 し て基板 2 4 2 上 に形成す る (図 3 9
( C ) ) 。
そ の後、 第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 2 4 4 を覆 う よ う に基板 2 4 2 上に粘着絶縁感光性樹脂層 2 4 5 ' を形成 し (図 3 9 ( D ) ) 、 こ の 粘着絶縁感光性樹脂層
2 4 5 ' 上に第 2 層 目 の配線パ タ ー ン 層用 の転写用原版 2 6 0 を用 い て第 1 層 目 の配線パ タ ー ン層 に対す る 位置 合わ せ を 行 っ た う え で 同様 に 配線パ タ ー ン 層 の 転写 を 行 い 、 導電性層 か ら な る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 6 3 を転写す る (図 3 9 ( E ) ) 。 次 に 、 こ の 配線パ タ ー ン 層 2 6 3 を マ ス ク と し て粘着絶縁感光性樹脂層 2 4 5 ' を露光、 現像す る こ と に よ り 、 配線パ タ ー ン 層 2 6 3 の 下方 の み に 絶縁樹脂層 2 4 5 を形成 し 、 こ の 絶縁樹脂層 2 4 5 を 硬化す る 。 こ れ に よ り 、 導電性層 か ら な る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 4 6 を絶縁樹脂層 2 4 5 を 介 し て基板 2 4 2 上 に 形成す る (図 4 0 ( A ) ) 。
次 い で、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 4 6 を覆 う よ う に 基板 2 4 2 上 に 粘着絶縁感光性樹脂層 2 4 7 ' を 形成 し (図 4 0 ( B ) ) 、 こ の 粘着絶縁感光性樹脂層
2 4 7 ' 上 に 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 2 7 0 を 用 い て 同様 に 位置合わ せ を行 っ て配線パ タ ー ン 層 の 転写 を 行 い 、 導電性層 か ら な る 第 3 層 目 の 配線パ 夕 ー ン 層 2 7 3 を転写す る (図 4 0 ( C ) ) 。 次 に 、 こ の 配線パ タ ー ン 層 2 7 3 を マ ス ク と し て粘着絶縁感光性樹 脂層 2 4 7 ' を露光、 現像す る こ と に よ り 、 配線パ タ ー ン 層 2 7 3 の 下方 の み に 絶縁樹脂層 2 4 7 を形成 し 、 こ の 絶縁樹脂層 2 4 7 を 硬化す る 。 こ れ に よ り 、 導電性層 か ら な る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 2 4 8 を 絶縁樹脂層 2 4 7 を 介 し て基板 2 4 2 上 に 形成す る (図 4 0
( D ) ) 。
上 述 の よ う に 、 各 配 線 パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 の 積層 は 、 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 2 5 0 2 6 0 , 2 7 0 の 配線パ タ ー ン 層 2 5 3 , 2 6 3 , 2 7 3 を 粘着絶縁感光性樹脂層 を介 し て基板上 に 順次転 写 す る こ と に よ り 行 わ れ る た め 、 多 層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 は 各配線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 , 2 4 8 か ら な る 、 い わ ゆ る 重ね 刷 り 型 の 構造で あ る 。
上述の 本発 明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法 は 、 い ずれ も 各配線パ タ ー ン 層 を 形成す る ご と に 絶縁感光性樹 脂層 あ る い は 粘着絶縁感光性樹脂層 の 露光、 現像 を行 う も の で あ る が、 本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法 で は、 最終段階で露光、 現像 を行 っ て も よ い。 例 え ば、 図 4 1 ( A ) に 示す よ う に 、 基板 2 上 に 、 導電性層 3 a と 接着層 3 b か ら な る 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 、 絶 縁感光性樹脂層 2 0 4 ' 、 導電性層 5 a と 接着層 5 b か ら な る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 5 、 絶縁感光性樹脂層 2 0 6 ' お よ び導電性層 7 a と 接着層 7 b か ら な る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 7 を 順次積層 し 、 最後 に各配線パ タ ー ン 層 3 , 5 , 7 を マ ス ク と し て 絶縁感光性樹脂層 2 0 4 ' と 絶縁感光性樹脂層 2 0 6 ' を一括露光す る 。 こ れ に よ り 、 図 4 1 ( B ) に 示 さ れ る よ う に 、 配線パ タ ー ン 層 3 , 5 , 7 の 下方 の み に絶縁樹脂層 2 0 4 , 2 0 6 が存在す る 多層 プ リ ン ト 配線板 1 ' を形成す る こ と 力《で き る 。
図 4 2 は、 本発明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 を構成す る 配線パ タ ー ン 層 が交差す る 交差部 を 示す斜視図で あ る 。 図 4 2 に 示 さ れ る よ う に 、 交差部で は配線パ タ ー ン 層 3 と 配線パ タ ー ン 層 5 と の 間 に 絶縁樹脂層 2 0 4 (斜線部 分) が存在 し 、 こ れ に よ り 交差す る 両配線パ タ ー ン 層 の 絶縁 が保 た れ、 かつ 、 絶縁樹脂層 2 0 4 は 配線パ タ ー ン 層 5 の 下方 に の み 存在す る た め 、 交差部 を 除 く 領域 で は 各配線パ タ ー ン 層 3 , 5 の 導電性層 3 a , 5 a は 常 に 裸 出 さ れ て い る 。
ま た 、 本発 明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 は 、 上述の よ う に 上下 の 配線パ タ ー ン 層 が交差す る よ う な 配線 の み で は な く 、 多 層 に 重 な り 合 う 部分が存在 し て も よ い 。 図 4 3 は 本発 明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 1 を構成す る 派配線パ タ ー ン 層 が 多 層 に 重 な り 合 う 部分 を 示 す斜視 図 で あ る 。 図 4 2 に 示 さ れ る よ う な 配線パ タ ー ン 層 3 , 5 の 交差部や 図 1 3 に 示 さ れ る よ う な 配線パ タ ー ン 層 3 , 5 の 重 な り 合 い を 設 け る こ と に よ り 配線距離 を 短縮す る こ と がで き 信号配線、 G N D 配線、 電源配線等を 適宜設計す る こ と に よ っ て配線の イ ン ダ ク タ ン ス を 小 さ く す る こ と が可能 と な る 。
上述 の よ う な 配線パ タ ー ン 層 が交差す る 部分あ る い は 多層 に 重 な り 合 う 部分 は、 図 3 7 に 示 さ れ る 多層 プ リ ン ト 配線板 2 4 1 や 図 4 1 に 示 さ れ る 多層 プ リ ン ト 配線板 1 ' に お い て も 形成 し て よ い こ と は勿論 で あ る 。
さ ら に 、 図 4 4 は 本発明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 1 を構 0 5 —
成す る 配線バ タ ― ン 層 が相互 に近接す る 部位 を示す斜視 図 で あ る 。 図 4 4 に 示 さ れ る よ う に 、 近接部で は 配線パ タ ー ン 層 2 4 4 と 配線パ タ ー ン 層 2 4 6 と が近接 し 、 各 絶縁樹脂層 2 4 3 , 2 4 5 (斜線部分) は、 そ れ ぞ れ配 線パ タ ー ン 層 2 4 4 と 配線パ タ ー ン 層 2 4 6 の 下 に の み 存在 し 、 こ れ に よ り 各配線パ タ ー ン 層 2 4 4 , 2 4 6 は 常 に 裸 出 さ れて い る 本発 明 に 係 る 多層 プ リ ン ト 配線板 で は 、 上述の よ う に 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ る い は近接部 に お い て 各配線 パ タ ー ン 層 が裸 出 さ れて い る た め 、 各配線パ タ ー ン 層 の 接続 を 容易 に 行 ラ こ と 力くで き る 。
当 然 の こ と な が ら 、 図 4 1 に示す工程 の 最終段 階 で全 面露光す る こ と な く 、 接合 の 必要な 部位 に の み マ ス ク 露 光 を 行 な い 、 絶 に 孔 を 開 け そ の 部分 に 接続処理 を ほ ど こ し て も よ い
次 に 、 具体的 な 実験例 を 示 し て本発明 を 更 に 詳細 に 説 明 す る 。
実験例 1
( 1 ) 絶縁樹脂層用 の 絶縁感光性樹脂液の 調製
4 , 4 ' ジ ア ミ ノ フ ヱ ニ ル エ ー テ ル ( 以下、 D D E と 略す) 4 . 0 0 g と ピ ロ メ リ ッ ト 酸 ジ メ チ ノレ エ ス テ ノレ ジ ク ロ リ ド 6 . 3 8 g を N — メ チ ル ピ ロ リ ド ン (以下、 N M P と 略す) 9 5 g に 溶解 し 、 こ れ に 炭酸ナ ト リ ウ ム 8 . 6 g を 添加 し 、 室温 で 6 時間反応 さ せ た。 反応終了後、 こ の 溶液 を 1 リ ッ ト ル の 水 中 に 入 れ、 沈 殿 を ろ 別乾燥 し て樹脂粉末 8 . 0 6 g を 得 た。 得 ら れ た 樹脂粉末 3 g を N M P 1 7 g に 再溶解 し 、 固形分 1 5 重 量% の ポ リ ア ミ ッ ク 酸 エ ス テ ル を調製 し た 。
— 方 、 D D E 4 . 0 0 g 、 ピ ロ メ リ ッ ト 酸二 無水物 4 . 2 3 g を N M P 4 7 g に 溶解 し 、 室温で 6 時 間反応 さ せ て ポ リ ア ミ ッ ク 酸溶液を 得 た 。 こ の ポ リ ア ミ ッ ク 酸 溶液 2 g と 、 上記の ポ リ ア ミ ッ ク 酸エ ス テ ル溶液 1 8 g と を 混 合 し 、 固形分 1 5 重量% の ポ リ ア ミ ッ ク 酸 エ ス テ ル、 ポ リ ア ミ ッ ク 酸混 合液 を 調製 し た 。
こ の 混合溶液 に 2 , 3 , 4 , 4 ' ー テ ト ラ ヒ ド ロ キ シ ベ ン ゾ フ エ ノ ン の 1 , 2 — ナ フ ト キ ノ ン 一 2 — ジ ア ジ ド — 5 — ス ル ホ ン 酸 の 3 モ ル置換化合物 0 . 9 0 g を加 え 室温で 3 時間攪拌後、 1 . 0 / m の フ ィ ル タ ー に よ り ろ 過 し 所望 の 液を調製 し た。
( 2 ) 接着層用 の 電着液の 調製
ァ ク リ ノレ酸 プ チ ノレ 1 3 . 2 重量部、 メ タ ク リ ル酸 メ チ ル 1 . 6 重量部、 ジ ビ ニ ルベ ン ゼ ン 0 . 2 重量部 お よ び 過硫酸 カ リ ウ ム 1 %水溶液 8 5 重量部を 混合 し 、 8 0 °C 5 時間重合 し て無乳化剤 の 乳化重合 を 行 っ て、 ポ リ ア ク リ ル酸 プ チ ル / ポ リ メ タ ク リ ル酸 メ チ ル共重合ェ マ ル ジ ョ ン 溶液を調製 し た 。
次 .に 、 の ェ マ ル ジ ヨ ン 溶液 6 5 重量部、 電着担体 と し て カ ル ボ キ シ ル基 を 有す る ァ ク リ ル系共重合体樹脂 2 0 7 - 重量部、 へ キ サ メ ト キ シ メ ラ ミ ン 0 . 8 5 重量部、 中 和 剤 と し て ト リ メ チ ノレ ア ミ ン 0 . 3 5 重量部、 エ タ ノ ー ル 3 重量部、 プ チ ノレ セ ノレ ソ ノレ ブ 3 重量部お よ び水 1 8 . 8 重量部を混合攪拌 し て ァ ニォ ン型の接着層用電着液を調 製 し た。
( 3 ) 転写用原版 に お け る 導電性層 の形成
導電性基板 と し て、 表面を研磨 し た厚 さ 0 . 2 m m の ス テ ン レ ス板を準備 し、 こ の ス テ ン レ ス板上 に市販の メ ツ ヤ 用 フ オ ト レ ジ ス ト (東京応化工業 (株) 製 P M E R
P - A R 9 0 0 ) を厚 さ 1 0 m に塗布乾燥 し、 配線パ タ ー ン が形成 さ れて い る 3 種の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て そ れぞれ密着露光を行 つ た後、 現像 · 水洗 · 乾燥 し 、 さ ら に 熱硬化を行 っ て絶縁層 を備え た転写用原版 ( 3 種) 作 製 し た。
上 記 の転写用原版 と 白金電極を対向 さ せて下記の組成 の ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ浴 ( Ρ Η = 8 、 液温 = 5 5 °C ) 中 に 浸漬 し 、 直流電源の 陽極に 白金電極を陰極に上記の転写 基板を接続 し 、 電流密度 1 0 A / d m L で 5 分 間 の 通 電. を行 い、 フ ォ ト レ ジ ス ト で 被覆 さ れて い な い導電性基板 の裸出部に厚 さ 1 0 m の銅 メ ツ キ膜を形成 し導電性層 と し た。 こ の導電性層形成を 3 種の転写用原版に つ い て ίΤ つ た o
( ピ 口 燐.酸銅 メ ツ キ浴の組成)
ピ 口 燐酸銅 9 4 g / 1 0 8 一 ピ ロ 燐酸銅 カ リ ウ ム … 3 4 0 g / 1
ア ン モ ニ ア 水 … 3 c c / 1
( 4 ) 転写用 原版 に お け る 接着層 の 形成
上記 ( 3 ) に お い て導電性層 を 形成 し た 3 種 の 転写用 原版 の 各 々 と 白 金電極 と を 対 向 さ せ て上記 の ( 2 ) で調 製 し た 接着層用 の 電着液 A に 浸漬 し 、 直流電源の 陽極 に 転写用 原版を 陰極 に 白 金電極 を そ れ ぞれ接続 し 、 5 0 V の 電圧 で 1 分間 の 電着 を 行 い 、 こ れ を 1 5 0 °C、 3 0 分 間 で乾燥 · 熱処理 し て 、 導電性層上 に 厚 さ 2 0 /z mの 接 着 層 を 形 成 し て 3 種 の 配線 パ タ ー ン 層 用 の 転写 用 原 版 A 1 、 A 2 、 A 3 と し た。
( 5 ) 多層 プ リ ン ト 配線板の 作製 (図 3 5 お よ び
図 3 6 対応)
厚 さ 2 5 μ πιの ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 、 上記 の ( 4 ) に お い て作製 し た 配線パ タ ー ン層用 の 転写用原版 A 1 を下記 の 条件で圧着 し て導電性層 と 接着層 か ら な る 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を転写 し 、 そ の 後、 1 8 0 °C 3 0 分 間 の 条件で接着層 を硬化 さ せ て第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 の 形成 を 完了 し た。
(圧着条件)
圧力 : l O k g f Z c m 2
温度 : 8 0 で
次 に 、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 が形成 さ れ た フ ィ ル ム 基板上 に 、 上記の ( 1 ) で調製 し た 絶縁感光性樹脂液 0 9 — を ス ピ ン n 一 ト 法 に よ り 塗布 し 乾燥 ( 8 0 °C、 6 0 分 間) し て 厚 み 1 2 β m. の 絶縁感光性樹脂層 を 形成 し た 。 そ の 後、 こ の 絶縁感光性樹脂層上 に 、 上記 の ( 4 ) に お い て 作製 し た配線パ 夕 一 ン 層 用 の 転写用 原版 A 2 を 下記 の 条 件 で圧着 し て導電性層 と 接着層 か ら な る 第 2 層 目 の 配線 ノヽ0 夕 一 ン 層 を 転写 し た 。
(圧着条件)
圧力 : 1 0 k g f c m 2 温度 : 8 0 °C
次 い で、 転写 し た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て、 絶縁感光性樹脂層 を下記 の 条件で露光 し 、 浸漬 法 に よ り 現像 を 行 い 、 そ の 後、 2 5 0 。C、 3 0 分 の 条件 で絶縁感光性樹脂層 と 接着層 と を 硬化 さ せ て第 2 層 目 の 配線パ タ 一 ン 層 の 形成 を 完了 し た。
(露光条件)
密着露光機 : 大 日 本 ス ク リ ー ン 製造 (株) 製
P - 2 0 2 - G
真空引 き : 6 0 秒
露光時 間 : 6 0 0 カ ウ ン ト
同 様 に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 が形成 さ れ た フ ィ ル ム 基板上 に、 上記の ( 1 ) で調製 し た絶縁感光性樹脂 液 を ス ピ ン コ ー ト 法 に よ り 塗布 し 乾燥 ( 8 0 °C、 6 0 分 間) し て厚み 1 2 / m の 絶縁感光性樹脂層 を形成 し た。 そ の 後 の 絶縁感光性樹脂層上 に 、 上記 の ( 4 ) に お い て作製 し た配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 A 3 を 上記 の 転写用 原版 A 2 の 圧着条件 と 同 じ 条件 で圧着 し て導電 性層 と 接着層 か ら な る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写 し た。
次 い で、 転写 し た 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て 、 絶縁感光性樹脂層 を 上記の 条件 で露光 し 、 浸漬 法 に よ り 現像 を行 い 、 そ の 後、 2 5 0 °C 、 3 0 分 の 条件 で絶縁感光性樹脂層 と 接着層 と を硬化 さ せ て 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 の 形成 を 完了 し た 。
以上 に よ り 、 3 層 の 配線パ タ ー ン 層 を 備 え た本発 明 の 多層 プ リ ン ト 配線板 を作製 し た 。
実験例 2
( 1 ) 絶縁樹脂層 用 の 粘着絶縁感光性樹脂液の 調製 メ チ ノレ メ タ ク リ レ ー ト 7 5 重量部、 ァ ロ ニ ッ ク ス M l 1 3 (東亞合成化学 (株) 製) 1 0 重量部、 ァ ゾ ビ ス イ ソ プ チ ロ ニ ト リ ノレ 0 . 5 重量部を反応溶液中 で 7 0 °C で加熱攪拌 し 、 酢酸ェ チ ル 5 0 重量部 を 約 2 時 間 か け て滴下 し 、 2 時間保持 し た。 次 い で、 こ の 溶液 に 、 ァ ゾ ビ ス イ ソ プ チ ロ ニ ト リ ル 2 重量部 を酢酸ェ チ ル 2 5 重量 部 に 溶解 し た 溶液を 約 3 時間 か け て滴下 し 、 さ ら に 3 時 間保持反応を 行 っ た 。 そ の 後、 1 4 0 °C に 加熱 し て脱溶 剤 を 行 い 、 ア ク リ ル共重合体 を 得 た。
上記 の よ う に し て 得 た ア ク リ ル共重合体 を 、 実施例 1 で調製 し た 絶縁感光性樹脂溶液 と 混合攪拌 し て粘着絶縁 感光性樹脂液 を 調製 し た 。
( 2 ) 転写用 原版 に お け る 導電性層 の 形成 (図 3 8 対 応)
導電性基板 と し て、 表面 を 研磨 し た 厚 さ 0 . 2 m mの ス テ ン レ ス 板 を 準備 し 、 こ の ス テ ン レ ス 板上 に 市販 の メ ツ キ 用 フ ォ ト レ ジ ス ト (東京応化工業 (株) 製 P M E R P - A R 9 0 0 ) を 厚 さ 1 0 m に 塗布乾燥 し 、 配線パ タ ー ン が形成 さ れて い る 3 種の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て そ れ ぞ れ密着露光 を行 っ た 後、 現像 · 水洗 · 乾燥 し 、 さ ら に 熱硬化 を行 っ て絶縁層 を 備 え た転写用 原版 ( 3 種) を 作製 し た。
上記 の 転写用 原版 と 白 金電極を 対 向 さ せ て実施例 1 に お い て使用 し た も の と 同 じ 組成の ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ浴
( p H = 8 、 液温 = 5 5 °C ) 中 に 浸潰 し 、 直流電源の 陽 極 に 白 金電極 を 陰極 に 上記 の 転写基板 を接続 し 、 電流密 度 l O A Z d m 2 で 5 分 間 の 通電 を 行 い 、 フ ォ ト レ ジ ス ト で 被 覆 さ れ て い な い 導 電 性基 板 の 裸 出 部 に 厚 さ 1 0 i mの 銅 メ ツ キ膜を形成 し 導電性層 と し た。 こ の 導電性 層形成 を 3 種 の 転写用 原版 に つ い て行 っ て 3 種の 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 B l 、 B 2 、 B 3 と し た 。
( 3 ) 多層 プ リ ン ト 配線板 の作製 (図 3 9 お よ び
図 4 0 対応)
厚 さ 2 5 mの ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 、 上記の ( 1 ) で調製 し た 粘着絶縁感光性樹脂液を ス ピ ン コ ー ト 1 2 — 法 に よ り 塗布 し 乾燥 ( 8 0 °C、 3 0 分間) し て厚 み 1 0 u m の 粘着絶縁感光性樹脂層 を 形成 し た 。 そ の 後、 こ の 絶縁感光性樹脂層上 に 、 上記 の ( 2 ) に お い て作製 し た 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 B 1 を下記 の 条件 で圧着 し て導電性層 か ら な る 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写 し た 。
(圧着条件)
圧 力 : 1 0 k g f c m
温度 : 8 0 °C
次 い で 、 転写 し た 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て、 粘着絶縁感光性樹脂層 を 下記の 条件で露光 し 、 浸漬法 に よ り 現像 を 行 い 、 そ の 後、 1 5 0 °C、 3 0 分 の 条件で粘着絶縁感光性樹脂層 を硬化 さ せ て 第 1 層 目 の 配 線パ 夕 一 ン 層 の 形成 を 完了 し た。
(露光条件)
密着露光機 : 大 日 本 ス ク リ ー ン 製造 (株) 製
P - 2 0 2 - G
露光時間 : 3 0 カ ウ ン ト
次 に 、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層が形成 さ れ た フ ィ ル ム 基板上 に 、 上記 の ( 1 ) で調製 し た粘着絶縁感光性樹 脂液を ス ピ ン コ ー ト 法 に よ り 塗布 し 乾燥 ( 8 0 。C、 3 0 分間) し て厚み 1 0 β m の 粘着絶縁感光性樹脂層 を形成 し た。 そ の 後、 こ の 粘着絶縁感光性樹脂層上 に 、 上記の ( 2 ) に お い て作製 し た配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 B 2 を第 1 層 目 と 同 じ 条件で圧着 し て導電性層か ら な る 第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 を転写 し た。
次 い で、 転写 し た第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 を マ ス ク と し て、 粘着絶縁感光性樹脂層 を第 1 層 目 と 同 じ 条件で 露光 し 、 浸漬法 に よ り 現像を行い、 そ の後、 1 5 0 、 3 0 分の条件で粘着絶縁感光性樹脂層 を硬化 さ せ て第 2 層 目 の配線パ タ ー ン層 の形成を完了 し た。
同様 に、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン層が形成 さ れ た フ ィ ル ム基板上 に 、 上記の ( 1 ) で調製 し た粘着絶縁感光性 樹脂液を ス ピ ン コ ー ト 法 に よ り 塗布 し 乾燥 ( 8 0 °C、 3 0 分間) し て厚み 1 0 m の粘着絶縁感光性樹脂層 を 形成 し た。 そ の後、 こ の 粘着絶縁感光性樹脂層上 に、 上 記の ( 2 ) に お い て作製 し た配線パ タ ー ン層用 の転写用 原版 B 3 を第 1 層 目 と 同 じ 条件で圧着 し て導電性層か ら な る 第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層を転写 し た。
次 い で、 転写 し た第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層 を マ ス ク と し て、 粘着絶縁感光性樹脂層を第 1 層 目 と 同 じ 条件で 露光 し 、 浸漬法 に よ り 現像を行い、 そ の後、 1 5 0 °C、 3 0 分の条件で粘着絶縁感光性樹脂層 を硬化 さ せ て第 3 層 目 の配線パ タ ー ン層 の形成を完了 し た。
以上 に よ り 、 3 層 の 配線パ タ ー ン層 を備え た本発明の 多層 プ リ ン ト 配線板を作製 し た。
実験例 3
ま ず、 実施例 1 の ( 3 ) お よ び ( 4 ) と 同様 に し て、 3 種 の 配線パ 夕 ー ン 層 用 の 転写用 原版 C l 、 C 2 、 C 3 を作製 し た 。
次 に 、 厚 さ 2 5 μ πι の ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 、 配線パ 夕 一 ン 層用 の 転写用 原版 C 1 を下記 の 条件 で圧着 し て導電性層 と 接着層 か ら な る 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写 し た。
(圧着条件)
圧 力 : 1 0 k g f / c m
温度 : 8 0 。C
次 い で、 第 1 層 目 の 配線パ タ ー ン 層が形成 さ れ た フ ィ ル ム 基板上 に 、 実施例 1 で調製 し た絶縁感光性樹脂液を ス ピ ン コ ー ト 法 に よ り 塗布 し 乾燥 ( 8 0 、 3 0 分間) し て厚み 1 2 m の 絶縁感光性樹脂層 を形成 し た 。 そ の 後、 こ の 絶縁感光性樹脂層上 に 、 上記の 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 C 2 を 下記の 条件で圧着 し て導電性層 と 接着層 か ら な る 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写 し た。
(圧着条件)
圧力 : 1 0 k g f / c m 2
温度 : 8 0 。C
さ ら に 、 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 が転写 さ れ た フ ィ ル ム 基板上 に 、 実施例 1 で調製 し た 絶縁感光性樹脂液 を ス ピ ン コ ー ト 法 に よ り 塗布 し 乾燥 ( 8 0 °C、 3 0 分間) し て厚 み 1 2 m の 絶縁感光性樹脂層 を 形成 し た 。 そ の 後、 こ の 絶縁感光性樹脂層上 に 、 上記の 配線パ タ ー ン 層 5 一 用 の 転写用 原版 C 3 を 上記 の 転写用 原版 C 2 の 圧 着条件 と 同 じ 条件 で圧着 し て導電性層 と 接着層 か ら な る 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写 し た。
次 い で、 転写 し た 目 か ら 第 3 層 目 ま で の 各配線 パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て、 絶縁感光性樹脂層 を 下記 の 条件 で露光 し 、 浸漬法 に よ り 現像 を 行 い 、 そ の 後、 2 5 0 °C 、 3 0 分 の 条件 で絶縁感光性樹脂層 と 接着層 と を 硬化 さ せ た o
(露光条件)
密着露光機 : 大 日 本 ス ク リ ー ン 製造 (株) 製
P - 2 0 2 - G
露光時間 : 7 0 0 カ ウ ン ト 以上
以上 に よ り 、 3 層 の 配線パ タ ー ン 層 を備 え た 本発 明 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た。
以上詳述 し た よ う に 、 本発明 に よ れ ば、 転写用 原版上 に 設 け た導電性層 あ る い は 導電性層 と 接着層 と か ら な る 配線パ タ ー ン 層 を 基板上 に 転写す る こ と に よ り 、 配線パ タ ー ン 層 を基板上 に 多 層 に 積層す る こ と がで き る 。 こ の 多 層積層 は 、 所定 の 配線パ タ ー ン 層 を 形成 し た転写用 原 版 を 並行 し て複数作製 し 、 こ れ ら の 転写用原版を 用 い て 順次転写す る 並直列 プ ロ セ ス で あ る た め 、 転写前 の 検査 に よ り 不良品 を 排除す る こ と がで き 、 製造歩留 が 向上す る と と も に 、 ス ル ー プ ッ ト が高 く 、 ま た、 交差 あ る い は 多層 に 重 な り 合 う 配線パ タ ー ン 層 間 に は絶縁樹脂層 が存 在 し て 各配線パ タ ー ン 層 間 の 絶縁が保 た れ る 。 こ の よ う な 絶縁樹脂層 は 配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て絶縁感光 性樹脂層 あ る い は 粘着絶縁感光性樹脂層 を露光 · 現像す る こ と に よ り 行 わ れ る た め 、 従来基板上で行 っ て い た配 線層 の 形成 や パ タ ー ニ ン グ の た め の メ ツ キ 、 お よ び多数 回 に 亘 る ァ ラ イ メ ン ト 工程 は 不要 と な り 、 製造工程の 簡 略化 が可能 と な る 。 ま た 、 多層 プ リ ン ト 配線板 に は 、 従 来 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 に 見 ら れ た よ う な 絶縁層 に よ る 配線 パ タ ー ン の 被覆 が な く 、 各配線パ タ ー ン 層 を 構成す る 導電性層 は 部分的 に 常 に 裸 出 さ れて い る 。 こ の た め 各 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 あ る い は各配線パ タ ー ン 層 が相 互 に 近接す る 部分 に お け る 各配線パ タ ー ン 層相互 の 接続 を 容易 に 行 う こ と がで き 、 汎用 性 の 極 め て高 い 多層 プ リ ン ト 配線板が可能 と な る 。 さ ら に 、 配線、 例 え ば、 信号 配線、 G N D 配線、 電源配線 を上述の よ う に 交差 も し く は 多 層 に 重 な り 合 う よ う に 適宜設計す る こ と に よ り 、 配 線 の イ ン ダ ク タ ン ス を 小 さ く す る こ と がで き 、 電気特性 に 優 れ た 多層 プ リ ン ト 配線板が可能 と な る 。
第 4 の 実施例
以下、 本発明 の 第 4 の 実施例 に つ い て 図面を参照 し て 説明 す る 。 な お、 図 1 乃至図 2 5 に 示す第 1 の 実施例 と 同一部分 に は 同一符号 を付 し て詳細 な 説 明 は 省略す る 。
図 4 5 は 本発明 の プ リ ン ト 配線板の 一例 を示す部分平 面図 で あ り'、 図 4 6 ( A ) は 図 4 5 の A — A 線 に お け る 部分拡大縦 断面図、 図 4 6 ( B ) は 図 1 の B — B 線 に お け る 部分拡大縦 断面図 で あ る 。 図 4 5 お よ び 図 4 6 に お い て、 プ リ ン ト 配線板 3 0 1 は、 プ リ ン ト 配線板用 の 基 板 3 0 2 上 に 所定 の パ タ ー ン で設 け ら れ た 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 を 備 え 、 こ の 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 は線 幅 が大 き い パ ッ ト 部 3 0 4 (線幅 = W ) と 線幅 の 小 さ い 配線部
3 0 5 (線 幅 = w ) と か ら な っ て い る 。
本発明 の プ リ ン ト 配線板 3 0 1 は 、 上記 の よ う な 線幅 が大 き い パ ッ ト 部 3 0 4 が、 線幅 の 小 さ い 配線部 3 0 5 の 線 幅 w と ほ ぼ 同一の 線幅 を 有す る 配線 の 集合で あ る こ と を 特徴す る 。 図示例 で は 、 パ ッ ト 部 3 0 4 は 線 幅 w の ス ト ラ イ プ状 の 配線 3 0 4 a の集合 と な っ て い る が、 線 幅 の 大 き い パ ッ 卜 部 3 0 4 の 態 様 と し て 、 例 え ば、 図
4 7 に 示 さ れ る よ う な 線 幅 w の 波 状 の 配線 の 集 合、 図 4 8 に 示 さ れ る よ う な 線幅 w の 配線が マ ト リ ッ ク ス 状 に 集 合 し た も の 、 図 4 9 に 示 さ れ る よ う な 線幅 w の 配線が う ず巻 き 状 に 形成 さ れ た も の 、 お よ び、 図 5 0 に 示 さ れ る よ う な 線幅 w の 配線が 同心 円状 に 形成 さ れ た も の 等 を 挙 げ る こ と がで き る 。
上記 の 例 で は、 パ ッ ト 部 3 0 4 を 構成す る 線幅 は 、 配 線部 3 0 5 の 線幅 w と 同一で あ る が、 こ れ に 限定 さ れ る も の で は な く 、 パ ッ ト 部 3 0 4 を構成す る 線幅 は 、 配線 部 3. 0 5 の 線幅 w の 5 0 〜 2 0 0 % の 範囲で設定す る こ と がで き る 。 ま た 、 パ ッ ト 部 3 0 4 を 構成す る 各配線の 線 間 隔 は 5 〜 5 0 m 程度設 け ら れて い れ ば 問題 は な い こ の よ う に 、 線 幅 が大 き い パ ッ ト 部 3 0 4 を線幅 の 小 さ い 配線部 3 0 5 の 線 幅 w と ほ ぼ同一の 線幅 を有す る 配 線 の 集 合 と す る こ と に よ り 、 本 発 明 の プ リ ン ト 配線板 3 0 1 は 、 そ の 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 の 全域 に お い て ほ ぼ 同一 の 線幅 か ら な る 配線 で構成 さ れ、 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 の 膜厚 は 均一 な も の と な る 。 ま た 、 例 え ば、 上記 の ノ、 ° ッ ト 部 3 0 4 に お い て ワ イ ヤ ボ ン デ ィ ン グゃ ハ ン ダ 付 け を 行 う 場合で も 、 パ ッ ト 部 3 0 4 を構成す る 線幅 の 小 さ い 配線がハ ン ダ等 に よ り 相互 に 接続 さ れ る た め 、 従 来の プ リ ン ト 配線板 の パ ッ ト 部 と 同様 に 何 ら 支障 な く ヮ ィ ャ ボ ン デ ィ ン グ付 け を行 う こ と がで き る 。
上述 の 例 で は 、 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 は 、 線幅 Wの パ ッ ト 部 3 0 4 と 線幅 w の 配線部 3 0 5 の 2 種の配線か ら な る 例 で あ る が、 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 を 構成す る 配線 の 幅 が 3 種以上で あ る 場合 に は、 線幅が大 き い配線を 、 線幅が最 も 小 さ い 配線 の 線幅 と 同一の 線幅 を 有す る 配線 の 集合 と す る こ と 力くで き る 。
上記 の よ う な 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 を 備 え る 本発明 の プ リ ン ト 配線板 3 0 1 を構成す る 基板 3 0 2 は、 ガ ラ ス エ ポ キ シ 基板、 ポ リ イ ミ ド基板、 ア ル ミ ナ セ ラ ミ ッ ク 基 板、 ガ ラ ス エ ポ キ シ と ポ リ イ ミ ド の 複合基板等、 プ リ ン 卜 配線板用 の 基板 と し て の 公知 の 基板を 使用 す る こ と が で き る 。 こ の 基板 2 の 厚 さ は 5 〜 1 0 0 0 /z m の 範囲で あ る こ と 力く好 ま し い 。
ま た 、 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 を構成す る 配線 の 材料 は 後述す る よ う に 電析法 に よ り 薄膜形成 が可能 な も の で あ れ ば特 に 制 限 は な く 、 例 え ば、 銅、 銀、 金、 ニ ッ ケ ル、 ク ロ ム 、 亜鉛、 すず、 白 金等 を用 い る こ と がで き 、 膜厚 は 配 線 パ タ ー ン 層 3 0 3 の 電気 抵 抗 を 低 く 抑 え る た め l / m 以上、 好 ま し く は 5 〜 4 0 // m の 範囲 と す る こ と が で き る 。 さ ら に 、 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 を 構成す る 配 線 の 線幅 は 、 最小幅 1 程度 ま で任意 に 設定す る こ と が で き る 。
さ ら に 、 本発明 の プ リ ン ト 配線板 は 、 基板上 に 接着層 を 介 し て配線パ タ ー ン 層 1 を形成 し た も の で あ っ て も よ い 。 図 5 1 は、 こ の よ う な プ リ ン ト 配線板 の 構成 を 示す 図 4 6 相 当 の 縦断面で あ る 。 図 5 1 に 示 さ れ る よ う に 、 パ ッ ト 部 3 0 4 を構成す る 配線 3 0 4 a や配線部 3 0 5 は 、 接着層 3 0 6 を介 し て基板 3 0 2 に 固着 さ れ て い る こ の 接着層 3 0 6 の 厚 み は 、 使用 す る接着材料 の 絶縁性 に も よ る が、 後述す る 多 層配線の 交差部 に お け る 上下 の 配線 間 の 絶縁を 保っ た め に 少 な く と も 1 /z m以上、 好 ま し く は 5 〜 3 0 / m の 範囲 と す る 。
上記の 接着層 3 0 6 の 材料 は、 常温 も し く は加熱 に よ り 粘着性を 示す電着性 の 接着材料で あ れ ば よ い 。 例 え ば 使用 す る 高分子 と し て は 、 粘着性 を 有す る ァ ニ オ ン 性、 ま た は カ チ ォ ン 性の 合成高分子樹脂 を 挙 げ る こ と がで き る o
具体 的 に は 、 ァ ニ オ ン 性合成高分子樹脂 と し て 、 ァ ク リ ル樹脂、 ポ リ エ ス テ ル樹脂、 マ レ イ ン 化油樹脂、 ポ リ ブ タ ジ エ ン 樹脂、 エ ポ キ シ 樹脂、 ポ リ ア ミ ド樹脂、 ポ リ イ ミ ド 樹脂等 を単独で 、 あ る い は 、 こ れ ら の 樹脂 の 任意 の 組 み 合 わ せ に よ る 混 合物 と し て使用 で き る 。 さ ら に 、 上記 の ァ ニ オ ン 性 合成高分子樹脂 と メ ラ ミ ン 樹脂、 フ エ ノ ー ル樹脂、 ウ レ タ ン 樹脂等の 架橋性樹脂 と を 併用 し て も よ い 。
ま た 、 カ チ オ ン 性合成高分子樹脂 と し て、 ア ク リ ル樹 脂、 エ ポ キ シ 樹脂、 ウ レ タ ン 樹脂、 ポ リ ブ タ ジ エ ン 樹脂 ポ リ ア ミ ド樹脂、 ポ リ イ ミ ド樹脂等を単独で、 あ る い は こ れ ら の 任意 の組み 合わ せ に よ る 混合物 と し て使用 で き る 。 さ ら に 、 上記 の カ チ オ ン 性合成高分子樹脂 と ポ リ エ ス テ ル樹脂、 ウ レ タ ン 樹脂等の 架橋性樹脂 と を 併用 し て も よ い 。
ま た 、 上記の 高分子樹脂 に 粘着性 を 付与す る た め に 口 ジ ン 系、 テ ルペ ン 系、 石油樹脂系等 の 粘着付与樹脂を必 要 に 応 じ て 添加す る こ と も 可能で あ る 。
上記 の 高分子樹脂 は 、 後述す る 本発明 の 製造方法 に お い て ア ル カ リ 性 ま た は 酸化物質 に よ り 中和 し て水 に 可溶 化 さ れ た 状態、 ま た は 水分散状態で電着法 に 供 さ れ る 。 す な わ ち 、 ァ ニ オ ン 性合成高分子樹脂 は 、 ト リ メ チ ル ァ ミ ン 、 ジ ェ チ ル ァ ミ ン 、 ジ メ チ ノレ エ タ ノ 一 ノレ ア ミ ン 、 ジ イ ソ プ ロ ノ、0 ノ ー ル ア ミ ン 等 の ア ミ ン 類、 ア ン モ ニ ア 、 苛 性 カ リ 等 の 無機 ア ル カ リ で 中和 す る 。 ま た 、 カ チ オ ン 性 合成高分子樹脂 は 、 酢酸、 ギ酸、 プ ロ ピオ ン 酸、 乳酸等 の 酸で 中和 す る 。 そ し て 、 中和 さ れ水 に 可溶化 さ れ た 高 分子樹脂 は 、 水分散型 ま た は 溶解型 と し て水 に 希釈 さ れ た 状態で使用 さ れ る 。
ま た 、 上記 の 接着材料 の 絶縁性、 耐熱性等 の 信頼性 を 高 め る 目 的 で、 上記 の 高分子樹脂 に ブ ロ ッ ク イ ソ シ ァ ネ 一 ト 等 の 熱重 合性不飽和 結合を有す る 公知 の 熱硬化性樹 脂 を 添加 し 、 プ リ ン ト 配線板 の 全層 を 転写形成後、 熱処 理 に よ っ て す べて の 接着層 を硬化 さ せ て も よ い 。 勿論、 熱硬化性樹脂以外 に も 、 重合性不飽和結合 (例 え ば、 ァ ク リ ル基、 ビニ ル基、 ァ リ ル基等) を有す る 樹脂 を接着 材料 に 添加 し て お け ば、 多層 プ リ ン ト 配線板の 全層 を転 写形成後、 電子線照射 に よ っ てす ベ て の接着層 を硬化 さ せ る こ と 力 で き る 。
接着層 3 0 6 の 材料 と し て は、 上記の 他 に 、 常温 も し く は加熱 に よ り 粘着性 を 示す も の で あ れ ば、 熱可塑性樹 脂 は も ち ろ ん の こ と 、 熱硬化性樹脂で硬化後 は 粘着性を 失 う よ う な 粘着性樹脂 で も よ い。 ま た、 塗膜 の 強度 を 出 す た め に 有機 あ る い は 無機 の フ ィ ラ ー を 含む も の で も よ い o
ま た 、 接着層 3 0 6 の 材料 は、 常温 も し く は加熱 に よ り 流動性を 示す電着性 の 接着剤で あ っ て も よ い 。 次 に 、 上記 の プ リ ン ト 配線板 3 0 1 の 製造 を 例 に し て 図 5 2 を 参照 し な 力く ら 本発 明 の プ リ ン ト 配線板 の 製造方 法 を 説 明 す る 。
ま ず、 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 3 0 2 の 一方 の 面 に 通 電膜 3 0 7 を 形成 し 、 基板 2 の 表面 を 導電性 と す る (図 5 2 ( A ) ) 。 こ の 通電膜 は 無電解 メ ツ キ 等 に よ り 形成 し た ニ ッ ケ ル、 コ ノく ル ト 、 金、 銀、 パ ラ ジ ウ ム 、 すず、 銅等 か ら な る 薄膜 で あ り 、 膜厚 は 1 0 0 A 〜 1 m 程度 が好 ま し い 。 次 に 、 こ の 通電膜上 に 感光性 レ ジ ス ト を塗 布 し た 後、 所定の フ ォ ト マ ス ク を 介 し て密着露光 し 現像 す る こ と に よ り 絶縁性 の パ タ ー ニ ン グ層 3 0 8 を 形成す る (図 5 2 ( B ) :) 。 こ の パ タ ー ニ ン グ層 3 0 8 の形成 に よ っ て 得 ら れ る 通電膜 3 0 7 の 露 出 部 3 0 7 a は、 線 幅 の 大 き い 配線が線 幅 の 小 さ い 配線 と ほ ぼ同一 の線幅 を 有す る 配線 の 集合で あ る よ う な 配線パ タ ー ン で あ る 。 次 い で 、 電気 メ ツ キ に よ り 通電膜 3 0 7 の 露 出 部 3 0 7 a 上 に 導 電 層 ( 配線 パ タ ー ン 層 ) 3 0 3 を 形 成 す る ( 図 5 2 ( C ) ) 。 こ の 場合、 基板 3 0 2 の 全域 に お い て通 電膜 3 0 7 の 露 出 部 3 0 7 a の線幅が ほ ぼ同一で あ る た め 、 通電 に よ り 形成 さ れ る 電界密度 の バ ラ ツ キ が小 さ く こ の よ う な 面上 に 電気 メ ツ キ に よ り 導電層 を形成す る 際 の 析 出 速度が均一で、 形成 さ れ た 導電層 3 0 3 の 厚み は 均一 な も の と な る 。 そ の 後、 パ タ ー ニ ン グ層 3 0 8 を 除 去 (図 5 2 ( D ) ) し 、 さ ら に 、 基板 3 0 2 の 導電層 2 3 一
(配線パ タ ー ン 層) 3 0 3 形成面側 を エ ッ チ ン グす る こ と に よ り 、 薄膜で あ る 通電膜 3 0 7 を 除去 し 、 配線パ 夕 ー ン 層 3 0 3 (図示例 で は ノ、。 ッ ト 部 3 0 4 の 配線 3 0 4 a ) が形成 さ れ た プ リ ン ト 配線板が得 ら れ る (図 5 2
( E ) ) 。 上記 の 通電膜 3 0 7 の エ ッ チ ン グ は 、 デ ィ ッ プ 、 ス プ レ ー 等 の ゥ ヱ ッ ト エ ッ チ ン グ や、 ド ラ イ エ ッ チ ン グ等 の 公知 の 慣用 的手段 で行 う こ と がで き る 0
上記の プ リ ン ト 配線板 の 製造方法 は 、 基板 に 直接配線 パ タ ー ン を形成す る 方法 で あ る が、 次 に 、 転写用 原版 を 用 い た 本発明 の プ リ ン ト 配線板の 製造方法を 説 明 す る 。
ま ず、 本発 明 の 転写用 原版を作成す る た め に 、 導電性 基板 3 1 1 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布 し て フ オ ト レ ジ ス ト 層 3 1 2 を形成す る (図 5 3 ( A ) ) 。 そ し て 、 所定 の フ ォ ト マ ス ク を用 い て フ ォ ト レ ジ ス ト 層 3 1 2 ·を密着 露光 し 現像 し て絶縁層 3 1 3 と し 、 導電性基板 3 1 1 の う ち 配線パ タ ー ン 部分 3 1 1 a を露 出 さ せ る (図 5 3
( B ) ) 。 こ の 配線バ タ ー ン 部分 3 1 1 a は、 線幅 の 大 き い 配線が線幅 の 小 さ い 配線 と ほ ぼ同一の線幅 を 有す る 配線 の 集合で あ る よ う な 配線パ タ ー ン で あ る
次 に 、 導電性基板 3 1 1 の 配線パ タ ー ン 部分 3 1 1 a 上 に メ ツ キ 法 に よ り 導電層 3 1 4 を 形成す る (図 5 3
( C ) ) 。 こ の 場合、 導電性基板 3 1 1 の 全域 に お い て 配線パ タ ー ン 部分 3 1 1 a の 線幅が ほ ぼ同一で あ る た め 通電 に よ り 形成 さ れ る 電界密度の バ ラ ツ キ が小 さ く 、 こ の よ う な 面上 に 電気 メ ツ キ に よ り 導電層 を 形成す る 際 の 析 出速度が均一で、 形成 さ れ た 導電層 3 1 4 の厚 み は 均 一 な も の と な る 。 そ の 後、 導電層 3 1 4 上 に 電着法 に よ り 接着層 3 1 5 を 形成す る ( 図 5 3 ( D ) ) 。 こ の 場合 も 、 導電性基板 3 1 1 の 全域 に お い て導電層 3 1 4 の 線 幅が ほ ぼ 同一 で あ る た め 、 通電 に よ り 形成 さ れ る 電界密 度 の バ ラ ツ キ が小 さ く 、 こ の よ う な 面上 に 電着 に よ り 接 着層 を 形成す る 際 の 析 出 速度 は 均一で、 形成 さ れ た 接着 層 3 1 5 の 厚み は 均一 な も の と な る 。 こ れ に よ り 、 導電 層 3 1 4 と 接着層 3 1 5 と を 有す る 配線パ タ ー ン 層 3 1 6 を 設 け た 配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 3 1 0 が 得 ら れ る 。
次 に 、 基板 3 0 2 上 に 、 上記 の 配線パ タ ー ン 層用 の 転 写用 原版 3 1 0 を接着層 3 1 5 が基板 3 0 2 に 当 接す る よ う に 圧着す る 。 こ の 圧着 は 、 ロ ー ラ 圧着、 プ レ ー ト 圧 着、 真空圧着等、 い ずれの 方法 に し た が っ て も よ い 。 ま た 、 接着層 3 1 5 が加熱 に よ り 粘着性 あ る い は接着性 を 発現 す る 接着材料か ら な る 場合 に は 、 熱圧着を行 う こ と も で き る 。 そ の 後、 導電性基板 3 1 1 を 剥離 し て配線パ タ ー ン 層 3 0 3 を基板 3 0 2 上 に 転写す る こ と に よ り 、 導電層 3 1 4 (配線 3 0 4 a ) と 接着層 3 1 5 (接着層 3 0 6 ) を 有す る 配線パ タ ー ン 層 3 0 3 を 基板 3 0 2 上 に 形成す .る (図 5 3 ( E ) ) 。
本発 明 の 転写用 原版 3 1 0 に お い て、 導電性基板 3 1 1 と し て は 、 少 な く と も 表面が導電性 を 有す る も の で あ れ ば よ く 、 ア ル ミ ニ ウ ム 、 銅、 ニ ッ ケ ル、 鉄、 ス テ ン レ ス 、 チ タ ン 等 の 導電性 の 金属 板、 あ る い は ガ ラ ス 板 ポ リ エ ス テ ル、 ポ リ カ ー ボ ネ ー ト 、 ポ リ イ ミ ド 、 ポ リ エ チ レ ン 、 ア ク リ ル等 の 樹脂 フ ィ ル ム 等 の 絶縁性基板 の 表 面 に 導電性薄膜 を 形成 し た も の を 使用 す る こ と がで き る こ の よ う な 導 電 性 基 板 1 1 の 厚 さ は 0 . 0 5 〜 : L . 0 m m程度が好 ま し い 。 ま た 、 原版 と し て の 耐刷性 を 高 め る た め に 、 導電性基板 の 表面 に 、 ク ロ ム ( C r ) 、 セ ラ ミ ッ ク 力 ニ ゼ ン ( K a n i g e n 社製 N i + P + S i C ) 等 の 薄膜 を 形成 し て も よ い 。 こ の 薄膜 の 厚 さ は 0 . 1 〜 1 . 0 m程度が好 ま し い。
上記 の 接着層 3 1 5 (接着層 3 0 6 ) が硬化型 の 接着 材料 に よ り 形成 さ れて い る 場合 に は、 基板上 に 配線バ タ ー ン 層 3 0 3 を転写形成 し た 後、 接着層 3 0 6 を硬化 さ せ る 。 一般 に 、 接着層 の 硬化処理で は接着層 の 収縮 を 伴 い 、 従来の プ リ ン ト 配線板で は、 接着層 の 収縮 に よ っ て 上層 で あ る 導電層 に し わ が生 じ 、 特 に線幅 の 大 き い配線 で こ の 現象が顕著で あ っ た 。 し か し 、 本発明 で は上述の よ う に 線幅 の 大 き い 配線 (図示例 で は パ ッ ト 部 3 0 4 ) は 線 幅 の 小 さ い配線 と ほ ぼ同一の 線幅 を有す る 配線 の 集 合 で あ る た め 、 接 着 層 3 0 6 に 収 縮 が生 じ て も 導電層 3 1 4 (配線 3 0 4 a ) に は殆 ど影響が な く 、 し た 力 つ て 、 導電層 3 1 4 (配線 3 0 4 a ) の し わ の 発生、 電気 特性 の 劣化、 接触不良 や 導電層 3 1 4 (配線 3 0 4 a ) と 接着層 3 0 6 と の 剥 れ等 の 発生が有効 に 防止 さ れ る 。
上述の プ リ ン ト 配線板 3 0 1 は 、 基板上 に 配線パ 夕 一 ン 層 力く 1 層 の み形成 さ れ た も の で あ る が、 本発明 の プ リ ン ト 配線板 は 2 層 以上 の 配線パ タ ー ン 層 が基板上 に 形成 さ れ た も の で あ っ て も よ い。
図 5 4 は 本発明 の プ リ ン ト 配線板の 他 の 例 を示 す概 略 断面図 で あ り 、 プ リ ン ト 配線板 3 2 1 は 基板 3 2 2 と 、 基 板 3 2 '2 上 に 設 け ら れ た 第 1 層 目 の 配線 パ タ ー ン 層 3 2 3 と 、 こ の 配線パ タ ー ン 層 3 2 3 上 に 積層 さ れ た 第 2 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 2 3 ' と 、 さ ら に 配線パ タ ー ン 層 3 2 3 ' 上 に 積層 さ れ た 第 3 層 目 の 配線パ タ ー ン 層 3 2 3 〃 を 備 え た 3 層構成の 多層 プ リ ン ト 配線板で あ る そ し て、 各配線パ タ ー ン 層 3 2 3 , 3 2 3 ' 、 3 2 3 ' は、 そ れ ぞれ導電層 (配線) 3 2 5 , 3 2 5 ' ,
3 2 5 " と 、 こ の 導電層 (配線) の 下部 に 形成 さ れ た 接 着層 3 2 6 , 3 2 6 ' , 3 2 6 " と を有 し て い る 。
こ の よ う な 多層 の プ リ ン ト 配線板 は、 上述の転写用 原 版 を 用 い た 方法 に よ り 各配線パ タ ー ン 層 を 順次転写す る こ と に よ り 形成す る こ と 力 で き る 。 そ し て、 こ の 場合 に も 、 線幅 の 大 き い配線 は線幅 の 小 さ い配線 と ほ ぼ 同一の 線幅 を 有す る 配線 の 集合 と し て形成 さ れ る 。
次 に 、 具体的 な 実験例 を 示 し て本発 明 を 更 に詳細 に 説 明す る 。 実験例 1
さ 2 5 μ m の ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 板上 に 、 無電解 メ ッ キ 法 に よ つ て厚 さ 0 . 5 /z m の 銅薄膜 を形成 し て通 電膜 と し た (図 5 2 ( A ) に 対応) 。 こ の 通電膜上 に 、 市販 の メ ツ キ 用 フ ォ ト レ ジ ス ト (東京応化工業 (株) 製 P M E R P - A R 9 0 0 ) を 厚 さ 2 0 m に 塗布乾 燥 し 、 配線バ タ ー ン が形成 さ れて い る フ ォ ト マ ス ク を 用 い て 密着露光 を 行 っ た後、 現像 · 水洗 · 乾燥 し 、 さ ら に 熱硬化 を行 っ て パ タ ー ニ ン グ層 を形成 し た (図 5 2 ( B ) に 対応) o 上記 の 配線パ タ ー ン は、 図 4 5 に 示 さ れ る よ う な パ タ ー ン で あ り 、 配線部の線幅 = 5 0 β m ^
部 の 集合配線 の 各線幅 = 5 0 / m 部の 配線 間隔 = 5 0 # m ッ ト 部 の 全幅 = 5 5 0 ^ m (縦横 同一幅) と し
次 に 、 上記 の 基板 と 白 金電極を対 向 さ せ て下記 の 組成 の ピ 口 燐酸銅 メ ツ キ浴 ( p H = 8 液温 = 5 5 °C ) 中 に 浸漬 し 、 直流電源 の 陽極 に 白 金電極 を 陰極 に 上記 の 基板 を 接続 し 、 電流密度 1 O A Z d m 2 で 5 分間の 通電を行 い 、 パ タ ー ニ ン グ層 で被覆 さ れて い な い導電膜の 露 出 部 に 銅 メ ツ キ膜 を 形成 し 導電性層 と し た (図 5 2 ( C ) に 対応 ) o
( ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 の 組成)
ピ ロ 燐酸銅 … 9 4 g / 1
ピ ロ 燐酸銅 カ リ ウ ム … 3 4 0 g / 1 ア ン モ ニ ア 水 … 3 c c / 1 次 に 、 パ タ ー ニ ン グ層 を 6 0 〜 7 0 °C に 加温 し た
N a 0 H 4 % 溶 液 に よ り 除 去 し ( 図 5 2 ( D ) に 対 応) 、 そ の 後、 塩化第 2 鉄水溶液を 用 い て 全体 を 通電膜 が除去 さ れ る ま で エ ッ チ ン グ し (図 5 2 ( E ) に 対応) 、 プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た。
こ の プ リ ン ト 配線板 の 配線部 (図 4 5 の 配線部 3 0 5 ) の 導電層 の 厚 み は 約 1 で あ り 、 ま た 、 パ ッ ト 部 (図 4 5 の パ ッ ト 部 3 0 4 ) の 導電層 の 厚 み は約 9 β m で あ り 、 得 ら れ た プ リ ン ト 配線板の配線膜厚 は 極 め て均
—で あ る こ と が確認 さ れ た。
比較例 1
パ ッ ト 部 を線幅 の 小 さ な 配線 の 集合で は な く 、 全面 を 1 つ の 配線 (幅 5 0 m (縦横同一幅) ) と し た 他 は 、 実験例 1 と 同様 に し て プ リ ン ト 配線板 を 作製 し た 。
こ の プ リ ン ト 配線板 の 配線部 (図 4 5 の 配線部 3 0 5 ) の 導電層 の 厚み は約 1 0 ;z m で あ り 、 ま た 、 パ ッ ト 部 (図 4 5 の パ ッ ト 部 3 0 4 ) の 導電層 の 厚み は約 7 β m で あ り 、 得 ら れ た プ リ ン ト 配線板の 配線膜厚 は、 配線の 線幅 に よ り バ ラ ツ キ が大 き い こ と が確認 さ れ た。
実験例 2
( 1 ) 接着層用 の 電着液の 調製
ァ ク リ ノレ酸 プ チ ル 1 3 . 2 重量部、 メ タ ク リ ル酸 メ チ ル 1 . 6 重量部、 ジ ビニ ルベ ン ゼ ン 0 . 2 重量部 お よ び 2 9 - 過 硫酸 力 リ ゥ ム 1 %水 溶液 8 5 重量部 を 混合 し 、 8 0 °C、
5 時 間重合 し て無乳化剤 の 乳化重合 を 行 っ て、 ポ リ ア ク リ ノレ酸 プ チ ル / ポ リ メ タ ク リ ル酸 メ チ ル共重合ェ マ ル ジ ョ ン 溶液 を 調製 し た 。
次 に 、 こ の ェ マ ル ジ ョ ン 溶液 6 5 重量部、 電着担体 と し て カ ル ボ キ シ ル基 を 有す る ァ ク リ ル系共重合体樹脂 2 重量部、 へ キ サ メ ト キ シ メ ラ ミ ン 0 . 8 5 重量部、 中和 剤 と し て ト リ メ チ ル ァ ミ ン 0 . 3 5 重量部、 エ タ ノ ー ル
3 重量部、 プ チ ル セ ル ソ ル プ 3 重量部 お よ び水 1 8 . 8 重量部 を 混 合撹拌 し て ァ ニ オ ン 型 の 接着層用 電着液 を調 製 し た。
( 2 ) 転写用 原版 に お け る 導電層 の 形成
導電性基板 と し て 、 表面を研磨 し た厚 さ 0 . 2 m m の ス テ ン レ ス 板 を準備 し 、 こ の ス テ ン レ ス 板上 に 市販の メ ツ キ 用 フ オ ト レ ジ ス ト (東京応化工業 (株) 製 P M E R P - A R 9 0 0 ) を 厚 さ 1 0 // m に 塗布乾燥 し 、 所定パ タ ー ン の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て密着露光を行 っ た 後、 現 像 · 水洗 · 乾燥 し 、 さ ら に 熱硬化 を 行 っ て絶縁層 を 備 え た転写用 原版 を作製 し た (図 5 3 ( B ) に対応) 。 こ の 転写用 原版 の 導電性基板 の 露 出パ タ ー ン (配線パ タ ー ン ) は 、 図 4 5 に 示 さ れ る よ う な パ タ ー ン で あ り 、 配線部の 線幅 = 5 0 m、 パ ッ ト 部の 集合配線 の 各線幅 = 5 0 β m、 パ ッ ト 部 の 配線間 隔 = 5 0 / m、 パ ッ ト 部 の 全幅 = 5 5 0 m (縦横同一幅) と し た 。 上記 の 転写用 原版 と 白 金電極 を 対 向 さ せ て下記 の 組成 の ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 ( p H = 8 、 液温 = 5 5 °C ) 中 に 浸漬 し 、 直流電源 の 陽極 に 白 金電極を 陰極 に 上記 の 転写 用 原版 を接続 し 、 電流密度 1 O A Z d m 2 で 5 分 間 の 通 電 を 行 い 、 絶縁層 で被覆 さ れ て い な い 導電性基板 の 露 出 部 に 銅 メ ツ キ膜 を 形成 し 導電層 と し た (図 5 3 ( C ) に 対応) 。
( ピ ロ 燐酸銅 メ ツ キ 浴 の 組成)
ピ ロ 燐酸銅 … 9 4 g / 1
ピ ロ 燐酸銅 カ リ ウ ム … 3 4 0 g ノ 1
ア ン モ ニ ア 水 … 3 c c / 1
( 3 ) 転写用原版 に お け る 接着層 の形成 (図 5 3 ( D ) に 対応)
上記 ( 2 ) に お い て導電層 を形成 し た 転写用 原版 と 白 金電極 と を 対 向 さ せ て上記の ( 1 ) で調製 し た 接着層用 の 電着液 に 浸潰 し 、 直流電源の 陽極 に 転写用 原版 を 陰極 に 白 金電極 を そ れ ぞ れ接続 し 、 5 0 V の 電圧 で 1 分間 の 電着 を 行 い 、 こ れを 1 5 0 °C、 3 0 分 間 で乾燥 · 熱処理 し て 、 導電層上 に 接着層 を形成 し て配線パ タ ー ン 層用 の 転写用 原版 と し た 。
( 4 ) プ リ ン ト 配線板 の 作製 (図 5 3 ( E ) に 対応) 厚 さ 2 5 μ πιの ポ リ イ ミ ド フ ィ ル ム 基板上 に 、 上記 の
( 3 ) に お い て作製 し た 配線パ タ ー ン 層 用 の 転写用 原版 を下記 の 条件で圧着 し て導電層 と 接着層 か ら な る 配線パ タ ー ン層 を転写 し 、 そ の 後、 1 5 0 °C、 3 0 分間 の 条件 で接着層 を硬化 さ せ て配線バ タ ー ン層 の形成を完了 し プ リ ン ト 配線板を得た。
(圧着条件)
圧力 : l O k g i Z c m 2 温度 : 8 0 °C
こ の プ リ ン ト 配線板の配線部 (図 4 5 の配線部 3 0 5 ) の 導 電層 の 厚 み は 約 1 0 u m - , 接着層 の 厚み は 約 1 5 μ m で あ り 、 ま た、 パ ッ ト 部 (図 4 5 のパ ッ ト 部 3 0 4 ) の導電層の厚み は約 9 m、 接着層の厚み は約 1 4 β m で あ り 、 得 ら れた プ リ ン ト 配線板の配線膜厚 は極め て均 —で あ る こ と が確認 さ れた。 ま た、 パ ッ ト 部の は し わ は 殆 ど な く 、 良好な表面状態で あ つ た。
比較例 2
パ ッ ト 部を線幅の小 さ な配線の集合で は な く 、 全面を 1 つ の配線 (幅 5 5 0 / m (縦横同一幅) ) と し た他 は、 実験例 1 と 同様 に し て プ リ ン ト 配線板を作製 し た。
こ の プ リ ン ト 配線板の配線部 (図 4 5 の配線部 3 0 5 ) の 導 電層 の 厚 み は 約 1 0 z m、 接着層 の 厚み は 約 1 5 μ m で あ り 、 ま た、 パ ッ ト 部 (図 4 5 のパ ッ ト 部 3 0 4 ) の導電層の厚み は約 7 ^ m、 接着層の厚み は約 1 0 m で あ り 、 得 ら れた プ リ ン ト 配線板の配線膜厚は、 配線の 線幅 に よ り バ ラ ツ キ 力 大 き い こ と が確認 さ れた。 さ ら に、 パ ッ ト 部で,は し わ の発生が 目立ち 、 表面状態は不十分な も の で あ っ た 。
以上詳述 し た よ う に 、 本発 明 に よ れ ば線 幅 の 大 き い 配 線 を線幅 の 小 さ い 配線 と ほ ぼ 同一の 線幅 を 有す る 配線 の 集合で あ る よ う な 配線パ タ ー ン で露 出 す る 通電膜 に 電析 に よ り 導電層 を 形成す る の で、 導電層 の 形成時 の 析 出速 度が配線パ タ ー ン 全域 に お い て ほ ぼ均等 で あ り 、 こ の 導 電層 力、 ら な る 配線パ タ ー ン 層 の 厚 み は 均一で あ る 。 ま た 線幅 の 大 き い配線 を線幅 の 小 さ い 配線 と ほ ぼ同一 の 線幅 を有す る 配線の 集合で あ る よ う な 配線パ タ ー ン で露 出 す る 導電性基板 に 電析 に よ り 導電層 を 形成す る の で 、 導電 層 の 形成時 の 析 出速度が配線パ タ ー ン 全域 に お い て ほ ぼ 均等 で あ り 、 こ の 導電層 を基板上 に 転写 し て得 ら れ る 配 線パ タ ー ン 層 の 厚み は 均一 な も の と な る 。 さ ら に 、 導電 性基板上 に 形成 し た 導電層 に 電着 に よ り 形成 し た接着層 を介 し て基板 に導電層 を転写す る 場合、 上記 の 接着層 も 均一 な 厚 み に 形成 さ れ、 ま た 、 接着層 を 介 し て基板上 に 導電層 を 設 け た 後、 接着層 の 硬化収縮が生 じ て も 導電層 へ の影響が ほ と ん ど な く 、 導電層 の し わ 発生が防止 さ れ 配線パ タ ー ン 層 は 極 め て平坦 で あ り 、 かつ 、 基板 と の 密 着性や電気特性 に 優 れ る も の で あ る 。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、
こ の 基板上 に 順次転写 さ れ た複数 の 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え 、
各配線パ タ ー ン 層 は導電性層 と 、 こ の 導電性層 の 下部 に 形成 さ れ た 絶縁樹脂層 を 有す る と と も に 、 前記絶縁樹 脂層 は前記基板 あ る い は下層 の配線パ タ ー ン 層 に 固着 さ れ て い る こ と を 特徵 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板。
2 . 前記絶縁樹脂層 は 、 電着粘着剤 あ る い は 電着接 着剤 に よ り 形成 さ れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 請求 項 1 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
3 . 前記配線パ タ ー ン 層 は相互 に 交差 ま た は 近接 し 配線パ 夕 一 ン 層 の 交差部 に お い て上下 の 配線バ タ 一 ン 層 間 は 、 上層 の 配線パ タ ー ン 層 を構成す る 絶縁樹脂層 に よ り 絶縁 さ れて い る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
4 . 配線パ タ ー ン 層 の 交差部 ま た は近接部 に お い て 配線パ タ ー ン 層 相互間 の 接続がな さ れて い る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 に 記載の 多層 プ リ ン ト 配線板。
5 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は 、 各配線パ タ ー ン 層 を 構成す る 導電性層相互 間 に 跨が る よ う に 固着 さ れ る と と も に 導電ペ ー ス ト ま た は ハ ン ダか ら 形成 さ れ た接合 部 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 に 記載の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
6 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は、 各配線パ タ ー ン 層 を 構成す る 導電性層相互間 に 跨が る よ う に 導電性微粒 子を 定着 し て形成 さ れ た接合部 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
7 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は 、 各配線パ タ ー ン 層 を 構成す る 導電性層相互間 に 跨が る よ う に 部分 的 に 無 電解 メ ツ キ を 行 っ て 形成 さ れ た 接 合部 を 有す る こ と を 特 徵 と す る 請求項 4 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板。
8 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は、 各配線パ タ ー ン 層 を構成 す る 導電性層相互 間 に 跨が る よ う に 導電性物質 を堆積 さ せ て形成 し た 接合部 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 に 記載の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
9 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は、 各配線パ タ ー ン 層 を構成す る 導電性層相互間 を 熱エ ネ ル ギ ー 照射 に よ り 溶融接合 さ せ て形成 し た接合部 を 有す る こ と を特徴 と す る 請求項 4 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板。
1 0 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は、 ワ イ ヤ ボ ン デ ィ ン グ に よ る ワ イ ヤ ー プ リ ッ ジ な い し は ボ ン デ ィ ン グ 塊 で形成 さ れ た接合部 を 有す る こ と を特徴 と す る 請求項 4 に記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板。
1 1 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は 、 多層 プ リ ン ト 配線板 を.メ ッ キ 液中 に 浸漬 さ せ た 状態で、 レ ー ザ ー を 照 射 し 、 照射部分 に メ ツ キ組成物 を 析 出 さ せ て形成 さ れ た 接 合部 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
1 2 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は 、 導電体 と 半 田 メ ツ キ と の 積層 体 の 一括熱転写 に よ り 形成 さ れ た 接合部 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 に 記載の 多層 プ リ ン ト 配線板。
1 3 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は 、 金属塊 を 配置 し 、 そ の 上 か ら 感圧接着剤 を 塗布 し た シ ー ト を 圧 着 し て 形成 さ れ た 接 合部 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板。
1 4 . 配線パ タ ー ン 層 の 接続箇所 は 、 無電解 メ ツ キ 触媒 を塗布 し て触媒層 を形成 し 、 こ の 上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を 塗布形成 し た の ち 、 所定 の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て レ ジ ス ト 層 を 密着露光、 現像 し 接続箇所 を 露 出 さ せ 、 こ の 露 出 部分を 活性化 さ せ た 後、 無電解 メ ツ キ を行 っ て形成 さ れ た接合部 を 有す る こ と を 特徴 と す る 請求項 4 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
1 5 . 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、
こ の 基板上 に 順次転写 さ れ た複数 の 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え、
各配線パ タ ー ン 層 は導電性層 と 、 こ の 導電性層 の 下部 に 形成 さ れ た 絶縁樹脂層 を 有す る と と も に 、 前記絶縁樹 脂層.は前 f己基板 あ る い は下層 の 配線パ タ ー ン 層 に 固着 さ れて お り 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 部分 に 追加 絶縁層 を 介在 さ せ た こ と を 特徴 と す る 多 層 プ リ ン ト 配線 板。
1 6 . 前記絶縁樹脂層 は 、 電着粘着剤 あ る い は 電着 接着剤 に よ り 形成 さ れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 請 求項 1 5 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板。
1 7 . 前記追加 絶縁層 は 、 ポ リ イ ミ ド樹脂 で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 1 5 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板
1 8 . 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、
こ の 基板上 に 順次転写 さ れ た 複数 の 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え 、
各配線バ タ 一 ン 層 は 導電性層 と こ の 導電性層 の 下部 に 形成 さ れ た 接着層 を 有す る と と も に 、 配線パ タ ー ン 層 が 相互 に 交差 も し く は 多層 に 重な り 合 う 部分 に お い て上下 の 配線パ タ ー ン 層 間 に 絶縁樹脂層 を設 け た こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板。
1 9 . 前記絶縁樹脂層 は、 絶縁感光性樹脂 を 硬化 し て形成 さ れ た も の で あ る こ と を特徴 と す る 請求項 1 8 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板。
2 0 . 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、
こ の 基板上 に 順次転写 さ れ た複数 の 配線パ タ ー ン 層 と を 備 え、
各配線パ タ ー ン 層 は 導電性層 を 有す る と と も に 、 配線 パ タ ー ン 層 が相互 に 交差 も し く は 多層 に 重 な り 合 う 部分 に お い て上下 の 配線パ タ ー ン 層 間 に 絶縁樹脂層 を設 け た こ と を 特徴 と す る 多 層 プ リ ン ト 配線板。
2 1 . 前記絶縁樹脂層 は 、 粘着絶縁感光性樹脂層 を 硬化 し て形成 さ れ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 2 0 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板。
2 2 . プ リ ン ト 配線板用 の 基板 と 、
こ の 基板上 に 形成 さ れ た 配線バ タ 一 ン 層 と を備 え 、 該配線パ タ ー ン 層 の 一部 は 、 線 幅 の 小 さ い 配線 を 複数 平行 に 配置 し て構成 さ れ る こ と を 特徴 と す る プ リ ン ト 配 線
2 3 . 導電性基板 の 上 に 、 導電性層 と こ の 導電性層 上 に 積層 さ れ た 粘着性 あ る い は接着性 の 絶縁樹脂層 と を 有す る 配線バ タ 一 ン 層 を 設 け て転写用 原版を 複数作製す る 工程 と 、
多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板の 一方 の 面 に前記転写用 原版 を 圧着 し 、 前記導電性基板 を剥離す る こ と に よ り 前 記配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と を 備 え、
前記配線バ タ 一 ン 層 の 転写工程 を 複数 の 転写用 原版 に つ い て順次繰 り 返 し て、 前記基板上 に 複数の前記配線パ タ ー ン 層 を 積層 す る こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線 板 の 製造方法。
2 4 . 絶縁樹脂層 は 、 電着粘着剤 あ る い は電着接着 剤 に よ り 形 成 さ れ た も の で あ る こ と を 特徴 す る 請求項 2 3 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
2 5 . ;前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 に 配線パ タ ー ン 層 を 貫通す る ス ル ー ホ ー ル を 形成す る 工程 該 ス ル ー ホ ー ル に メ ツ キ 法 に よ り 金属層 を 形成 し て前 記配線パ タ ー ン 層相互間 を接続す る 工程 と 、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴す る 請求項 2 3 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線 板 の 製造方法。
2 6 . 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て 、 各配 線バ タ 一 ン 層 を構成す る 導電性層相互 間 に 跨が る よ う に 導電ペ ー ス ト ま た は ハ ン ダを 固着 し て接合部を形成す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層相互間 を接続す る 工程、 を 更 に 備 え た こ と を特徵 と す る 請求項 2 3 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
2 7 . 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て、 各配 線バ タ 一 ン 層 を構成す る 導電性層相互 間 に 跨が る よ う に 導電性微粒子 を 定着 さ せ て接合部を形成す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層相互 間 を接続す る 工程、 を更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
2 8 . 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て、 各配 線パ タ ー ン 層 を構成す る 導電性層相互間 に 跨が る よ う に 部分的 に 無電解 メ ツ キ を 行 っ て接合部を 形成す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層相互 間 を 接続す る 工程、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配 線板 の 製造方法。
2 9 . 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は 前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て 、 各配 線パ タ ー ン 層 を 構成す る 導電性層相互 間 に 跨が る よ う に 導電性物質 を 堆積 さ せ て接合部 を 形成す る こ と に よ り 配 線パ タ ー ン 層相互 間 を 接続す る 工程、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 0 . 前記配線パ タ ー ン層が相互 に 交差す る 部分 ま た は 前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て 、 熱ェ ネ ル ギ ー を 照射 し 各配線パ タ ー ン 層 を構成す る 導電性層 相互 間 を 溶融接合 さ せ て接合部 を 形成す る こ と に よ り 配 線パ タ ー ン 層相互間 を 接続す る 工程、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 1 . 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は 前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て、 ワ イ ャ ボ ン デ ィ ン グ に よ る ワ イ ヤ ー プ リ ッ ジ な い し は ボ ン デ ィ ン グ塊で接 合部 を 形成す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層 相互間 を接続す る 工程、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 2 . 多層 プ リ ン ト 配線板を メ ツ キ 液中 に 浸漬 さ せ た 状態 で、 配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は 前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て 、 レ ー ザ ー を 照射 し 、 照射部分 に メ ツ キ 組成物 を 析 出 さ せ て接 合部 を 形成す る こ と に よ り 配線バ タ 一 ン 層相互間 を 接続す る 工程、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 3 . 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は 前記配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分 に お い て、 導電 体 と 半 田 メ ツ キ と の 積層体 の 一括熱転写 に よ り 接 合部 を 形成す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層相互 間 を 接続す る ェ 程、 を 更 に 備 え た こ と を特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 4 . 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は 前記配線パ タ ー ン 層が近接す る 部分 に お い て、 金属 塊 を 配置 し 、 そ の 上 か ら 感圧接着剤 を塗布 し た シ ー ト を 圧着 し て接合部 を 形成す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層相 互間 を 接続す る 工程、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請 求項 2 3 に 記載の 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法。
3 5 . 多層 プ リ ン ト 配線板上 に 無電解 メ ツ キ触媒 を 塗布 し て触媒層 を 形成す る 工程 と 、
触媒層 の.上 に フ ォ ト レ ジ ス ト を 塗布形成 し た の ち 、 所 定の フ ォ ト マ ス ク を 用 い て レ ジ ス ト 層 を 密着露光、 現像 し 前記配線パ タ ー ン 層 が相互 に 交差す る 部分 ま た は前記 配線パ タ ー ン 層 が近接す る 部分を 露 出 さ せ る 工程 と 、 こ の 露 出 部分 を 活性化 さ せ た後、 無電解 メ ツ キ を 行 い 接 合部 を 形成す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層相互 間 を 接 続す る 工程 と 、 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 2 3 に 記載 の 多 層 プ リ ン ト 配線板の 製造方法。
3 6 . 導電性基板 の 上 に 、 導電性層 と こ の 導電性層 上 に 積層 さ れ た 粘着性 あ る い は接着性 の 絶縁樹脂層 と を 有す る 配線バ タ 一 ン 層 を 設 け て転写用 原版 を 複数作製す る 工程 と 、
多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板の 一方 の 面 に 前記転写用 原版 を 圧着 し 、 前記導電性基板を剥離す る こ と に よ り 前 記配線パ タ ー ン 層 を転写す る 工程 と を 備 え、
配線パ タ ー ン 層 同士を 積層す る 前 に 、 予 め下層 の 配線 パ タ ー ン 層 の う ち 配線パ タ ー ン 層 同士が重な り 合 う 予定 部分 に 追加絶縁層 を 形成 さ せ て お き 、 前記配線パ タ ー ン 層 の 転写工程 を 複数 の 転写用 原版 に つ い て順次繰 り 返 し て 、 前記基板上 に 複数の 前記配線パ タ ー ン 層 を 積層 す る こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 7 . 前記追加絶縁層 は、 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の う ち 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予定部分 の パ タ ー ン に 対応す る ス ク リ ー ン 印刷版を 用 い て 、 ス ク リ ー ン 印 刷 に て 形成 さ れ る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 6 に 記載 の プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 8 . 前記追加絶縁層 は 、 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の う ち 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予定部分 の パ タ ー ン に 対応す る フ ォ ト マ ス ク を 用 い て 、 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ 一 法 で形成 さ れ る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 6 に 記載 の プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
3 9 . 前記追加絶縁層 は 、 下層 の 配線パ タ ー ン 層上 に 絶縁性材料層 を 形成 し た後、 こ の 絶縁材料層上 に 、 配 線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予定部分 の パ タ ー ン に 対 応す る レ ジ ス ト パ タ ー ン を形成 し 、 し か る 後、 絶縁性材 料層 露 出 部 を エ ッ チ ン グ除去 し 、 最後 に レ ジ ス ト を 除去 し て形成 さ れ る こ と を 特徴 と す る 請求項 3 6 に記載の 多 層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
4 0 . 前記追加絶縁層 は 、 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予定部分の パ タ ー ン に 対応す る 絶縁層パ タ ー ン を 有す る 絶縁層転写基板を予 め 作製 し 、 こ の 絶縁層パ 夕 ー ン を 下層 の パ タ ー ン 上 に転写 し て形成 さ れ る こ と を特 徴 と す る 請求項 3 6 に 記載の プ リ ン ト 配線板 の 製造方法
4 1 . 前記追加絶縁層 は、 下層 の 配線パ タ ー ン 層 の う ち 配線パ タ ー ン 層 同士が重 な り 合 う 予定部分 に 、 絶縁 性材料溶液 を デ イ ス ペ ン ス に よ り 塗布 し 、 乾燥 さ せ、 形 成 さ れ る こ と を特徴 と す る 請求項 3 6 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
4 2 . 導電性基板 の上 に 、 導電性層 と こ の 導電性層 上 に 積層 さ れ た接着層 と を 有す る 配線パ タ ー ン 層 を設 け て転写用 原版 を 複数作製す る 工程 と 、
多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方 の 面 に下層 の 転写 用 原版 を圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 下層 の 配線バ タ 一 ン 層 を 転写す る 工程 と 、
前記下層 の 配線パ タ 一 ン 層 を覆 う よ う に 絶縁感光性樹 脂層 を 形成 し 、 該絶縁感光性樹脂層 上 に上層 の 転写用 原 版 を 圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 上層 の 配線バ タ 一 ン 層 を転写す る 工程 と 、
転写 さ れ た 上層 の 配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て前記 絶縁感光性樹脂層 の 露光 · 現像 を 行 う 工程 と 、 を 備 え た こ と を特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
4 3 . 下層 の 配線パ タ ー ン を 転写す る 工程 の 前 に 、 前記多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方 の 面 に 予 め 絶縁 感光性樹脂層 を 形成 し て お く 工程 と 、 下層 の 配線パ タ ー ン 層 を転写す る 工程 の 後 に 、 転写 さ れ た下層 の 配線バ タ 一 ン 層 を マ ス ク と し て前記絶縁感光性樹脂層 の 露光 · 現 像 を行 う 工程 と を更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 4 2 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
4 4 . 導電性基板の 上 に 、 導電性層 か ら な る 配線パ 夕 一 ン 層 を 設 け て転写用 原版を複数作製す る 工程 と 、 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板の 一方 の 面 に 粘着絶縁感 光性樹脂層 を形成 し 、 該粘着絶縁感光性樹脂層上 に 転写 用 原版を 圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層 を転写す る 工程 と 、
転写 さ れ た前記配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て前記粘 着絶縁感光性樹脂層 の 露光 · 現像 を 行 う 工程 と を 備 え 、 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と 、 粘着絶縁感光性樹 脂層 の 露光 · 現像工程 と を 順次繰 り 返 し て 、 前記多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板上 に 複数 の 前記配線パ タ ー ン 層 を 積層 す る こ と を 特徴 と す る 多 層 プ リ ン ト 配線板の 製造方 ii o
4 5 . 導電性基板の 上 に 、 導電性層 と こ の 導電性層 上 に 積層 さ れ た接着層 と を 有す る 配線パ タ ー ン 層 を 設 け て転写用 原版を 複数作製す る 工程 と 、
多 層 プ .リ ン ト 配線板用 の基板 の 一方 の 面 に 下層 の 転写 用 原版 を 圧着 し て前記導電性基板 を剥離す る こ と に よ り 下層 の 配線パ タ ー ン 層 を転写す る 工程 と 、
前記基板上の 配線パ タ 一 ン 層 を覆 う よ う に 絶縁感光性 樹脂層 を 形成 し 、 該絶縁感光性樹脂層上 に 上層 の 転写用 原版 を 圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 上 層 の 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と を 備 え、
上層 の 配線パ タ ー ン 層 を転写す る 工程 を順次繰 り 返 し て多数 の 配線パ タ ー ン 層 を 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 上 に 積層 し た後、 前記配線パ タ ー ン層 を マ ス ク と し て前 記絶縁感光性樹脂層 の 露光 · 現像 を行 う 工程 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
4 6 . 下層 の 配線パ タ ー ン を 転写す る 工程の 前 に 、 前記多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板の 一方 の 面 に 予 め絶縁 感光性樹脂層 を形成 し て お く こ と を 特徵 と す る 請求項 4 5 に 記載 の 多層 プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
4 7 . 導電性基板 の 上 に 、 導電性層 か ら な る 配線パ タ 一 ン 層 を 設 け て転写用 原版 を 複数作製す る 工程 と 、 多 層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板の 一方 の 面 に 粘着絶縁感 光性樹脂層 を形成 し 、 該粘着絶縁感光性樹脂層上 に 転写 用 原版 を 圧着 し て前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 配線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と を 備 え 、
配線バ タ 一 ン 層 を 転写す る 工程 を 順次繰 り 返 し て多数 の パ タ ー ン 層 を 多層 プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 上 に 積層 し た 後、 転写 さ れ た 前記配線パ タ ー ン 層 を マ ス ク と し て 前記粘着絶縁感光性樹脂層 の 露光 · 現像 を 行 う 工程 を 更 に 備 え た こ と を 特徴 と す る 多層 プ リ ン ト 配線板の 製造方 法 ο
4 8 . プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方 の 面 に 通電膜 を 形成す る 工程 と 、
こ の 通電膜上 に 所定 の 配線パ タ ー ン を 有す る パ タ ー 二 ン グ層 を 形成 し 、 線幅 の 小 さ い配線 を 複数平行 に 配置 し て な る 配線パ タ ー ン に よ り 前記通電膜 を露 出 さ せ る 工程 と 、
露 出 し て い る 前記通電膜上 に 電析 に よ り 導電層 を形成 す る !]:程 と 、
前記パ タ ー ニ ン グ層 を 除去 し 、 さ ら に 露 出 し て い る 通 電層 を エ ッ チ ン グ に よ り 除去す る 工程 と を 備 え た こ と を 特徴 と す る プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
4 9 . 導電性基板上 に 、 線幅 の 小 さ い配線を 複数平 行 に 配置 し て な る 配線パ タ ー ン に よ り 電析 に よ り 導電層 を 形成 し 、 こ の 導電層上 に 電着 に よ り 接着層 を 形成す る こ と に よ っ て導電層 と 接着層 の 積層体か ら な る 配線バ タ 一 ン 層 を 設 け た 転写用 原版を作製す る 工程 と 、
プ リ ン ト 配線板用 の 基板 の 一方 の 面 に 前記転写用 原版 を 圧着 し 、 前記導電性基板 を 剥離す る こ と に よ り 前記配 線パ タ ー ン 層 を 転写す る 工程 と を 備 え た こ と を 特徴 と す る プ リ ン ト 配線板 の 製造方法。
5 0 . 少 な く と も 表面が導電性 の導電性基板 と 、 こ の 導電性基板 に 形成 さ れ た 所望パ タ ー ン の 絶縁 マ ス キ ン グ層 と 、 前記導電性基板上で あ っ て絶縁 マ ス キ ン グ層 間 に 形成 さ れ た 導電性層 と を 備 え た こ と を 特徴 と す る 転写 用 原版。
5 1 . 前記導電性層上 に 形成 さ れ た 粘着性 あ る い は 接着性 の 絶縁樹脂層 を さ ら に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請 求項 5 0 に 記載の 転写用 原版。
5 2 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 は 、 絶縁性 フ ォ ト レ ジ ス ト を 現像 · 硬化 さ せ た も の で あ る こ と を 特徴 と す る 請 求項 5 0 も し く は 5 1 に 記載 の 転写用 原版。
5 3 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 は、 前記導電性基板 に 形成 さ れ た 凹部 に 設 け た絶縁性物質か ら な る こ と を特徴 と す る 請求項 5 0 も し く は 5 1 に 記載の 転写用 原版。
5 4 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 の 表面が前記導電性基 板 よ り も 低 い こ と を 特徵 と す る 請求項 5 3 に 記載 の 転写 用 原版。
5 5 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 の 表面が前記導電性基 板 よ り も 高 い こ と を 特徴 と す る 請求項 5 3 に 記載 の 転写 用 原版。
5 6 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 の 表面が前記導電性基 板 と 略 同等 で あ る こ と を 特徵 と す る 請求項 5 3 に 記載の 転写用 原版。
5 7 . 前記導電性基板 お よ び前記絶縁 マ ス キ ン グ層 の 表面 に 剥離性樹脂 を 設 け た こ と を 特徵 と す る 請求項 5 0 も し く は 5 1 に 記載 の 転写用 原版。
5 8 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 は 、 導電性基板 の 表面 を 熱酸化 あ る い は 窒化す る こ と に よ り 形成 さ れ た 酸化物 あ る い は 窒化物で あ る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 0 も し く は 5 1 に 記載 の 転写用 原版。
5 9 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 は 、 導電性基板 の 表面 を 陽極酸化す る こ と に よ り 形成 さ れ た こ と を特徵 と す る 請求項 5 0 も し く は 5 1 に 記載の 転写用 原版。
6 0 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 は 、 導電性基板 の 表面 を 陽極酸化 し て な る T i — A 1 陽極酸化膜か ら な る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 9 に 記載の 転写用 原版。
6 1 . 前記導電性基板 は 加熱処理 さ れ た ス テ ン ス 基 板 か ら な り 、 前記絶縁性 マ ス キ ン グ層 は レ ジ ス ト 膜 を露 光 · 現像 し て な る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 0 も し く は 5 1 に記載の 転写用 原版。
6 2 . 前記導電性基板 の う ち 、 絶縁性 マ ス キ ン グ層 の 設 置 部分 は ク ロ メ 一 ト 処理面 と な っ て い る こ と を 特徴 と す る 請求項 5 0 も し く は 5 1 に 記載 の 転写用 原版。
6 3 . 絶縁性 マ ス キ ン グ層 は セ ラ ミ ッ ク 前駆体 ポ リ マ ー 、 熱硬化性樹脂 ま た は 無機薄膜か ら な る こ と を特徴 と す る 請求項 5 0 も し く は 5 1 に 記載 の 転写用 原版。
6 4 . 少 な く と も 表面が導電性 の 導電性基板 と 、 こ の 導電性基板上 に 、 こ の 導電性基板 の 導電性面が線 幅 の 小 さ い 配線 の 集合で あ る よ う な 所望 の 配線パ タ ー ン で露 出す る よ う に 形成 し た 絶縁 マ ス キ ン グ層 と 、 前記導電性 基板上 で あ っ て絶縁 マ ス キ ン グ層 間 に 電析 に よ り 形成 さ れ た 導電層 と 、 を 備 え'た こ と を 特徴 と す る 転写用 原版。
6 5 . 前記導電層上 に 電着 に よ り 形成 さ れ た接着層 を さ ら に 備 え た こ と を 特徴 と す る 請求項 6 4 に 記載 の 転 写用 原版。
6 6 . 少 な く と も 表面が導電性の 導電性基板上 に 、 所望パ タ ー ン で絶縁 マ ス キ ン グ層 を形成す る 工程 と 、
露 出 し て い る 前記導電性基板表面 に 電析法 に よ り 導電 性層 を形成す る 工程 と 、 を 備 え た こ と を 特徴 と す る 転写 用原版 の 製造方法。
6 7 . 前記導電性層上 に 電着法 に よ り 粘着性 あ る い は接着性 の 絶縁樹脂層 を形成す る 工程 を 更 に 備 え た こ と を 特徵 と す る 請求項 6 6 に 記載 の 転写用 原版の 製造方法 ,
6 8 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 は、 導電性基板上 に 絶 縁性 フ ォ ト レ ジ ス ト を塗布 し 、 所望 の パ タ ー ン で露光 し た 後、 現像 ' 硬化 さ せ て形成 さ れ る こ と を特徴 と す る 請 求項 6 6 に 記載 の 転写用 原版の 製造方法。
6 9 . 前記絶縁 マ ス キ ン グ層 は 、 導電性基板 に 所望 の パ タ ー ン で 凹部 を 形成 し 、 該凹部 に 絶縁性物質 を 電着 さ せ て形成 さ れ る こ と を 特徴 と す る 請求項 6 6 に 記載 の 転写用 原版 の 製造方法。
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