WO1989004444A1 - Process for liquefying, concentrating and purifying nitrogen trifluoride - Google Patents

Process for liquefying, concentrating and purifying nitrogen trifluoride Download PDF

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WO1989004444A1
WO1989004444A1 PCT/JP1988/001120 JP8801120W WO8904444A1 WO 1989004444 A1 WO1989004444 A1 WO 1989004444A1 JP 8801120 W JP8801120 W JP 8801120W WO 8904444 A1 WO8904444 A1 WO 8904444A1
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gas
nitrogen
nitrogen trifluoride
trifluoride
liquefied
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PCT/JP1988/001120
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English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroyuki Hyakutake
Isao Harada
Naruyuki Iwanaga
Toshihiko Nishitsuji
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.
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Publication date
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25JLIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
    • F25J1/00Processes or apparatus for liquefying or solidifying gases or gaseous mixtures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/082Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals
    • C01B21/083Compounds containing nitrogen and non-metals and optionally metals containing one or more halogen atoms
    • C01B21/0832Binary compounds of nitrogen with halogens
    • C01B21/0835Nitrogen trifluoride
    • C01B21/0837Purification

Definitions

  • the present invention nitrogen trifluoride (you denoted as follows NF 3.) Te per cent I in the manufacture of, liquefaction and relates the concentration method per cent Yo beauty purification method of the generated NF 3.
  • NF 3 is a moderately active and less toxic source of fluorine (F 2 ) as a source of fluorine, so it is particularly suitable for the preparation of fluoroolefins. It was used as an oxidizing agent for high energy fuels. In recent years, in the field of electronic materials, it has also been used as a cleaning agent for CVD equipment and as a drilling gas for the production of VLSI. . .
  • Species' s way to the manufacturing method of the NF 3 is Ru ⁇ .
  • the main ones are listed as a molten salt electrolysis method of ammonium fluoride (U.S. Pat. No. 3,235,474), and ammonium fluoride fluoride.
  • a method of reacting with gaseous fluorine in the molten state Japanese Patent Publication No. 55-82926
  • a method of preparing a solid metal fluoride ammonium complex and elemental F Method Japanese Patent Publication No. 62-217172
  • NF 3 produced by each of the above methods should be included for use in various applications as described above! ⁇ 2 gas It is necessary to remove other impurities such as nitrous oxide (N20) and carbon dioxide (02). And either the tooth, the 5 in each method. Normally during NF 3 produced substantial amounts of N 2 gas. (G catcher Li catcher first gas Dea Ru N 2 gas per cent Yo beauty sub eggplant that N 2 gas since scan) is Ru-containing of Leti, firstly as N Ri concentration E of gas to more of ⁇ preparative reaction E for you remove N to remove the 2 gas' Ru I pictmap Chu Ru NF 3 this is It is provided in the form 0 that is connected in the reaction process. (Note that between the reaction step and the enrichment step,
  • a purification step is performed to remove impurities such as N 20 ⁇ C 0 n and unreacted or by-produced hydrogen fluoride (HF). )
  • NF 3 there are various methods for enriching NF 3 in this case.
  • the method of liquefying NF 3 using a refrigerant is simpler in terms of equipment and also less complicated than other methods such as compression with a compressor. Therefore, it is commonly used as the most effective method.
  • the five refrigerants for liquefaction are liquid-nitrogen, liquid air, liquid argon, etc.
  • NF3 Low boiling liquefied gas with a boiling point of 3 or more is used. Among them, the use of liquid nitrogen makes it easier to concentrate NF 3 , N 2 is an inert substance, so it is safer, and squid is cheaper. Most preferred for a reason.
  • NH 4 F ⁇ HF based on acidic fluorinated ammonium or fluorinated ammonium and hydrogen fluoride, as well as acid fluorinated KF ⁇ NH 4 F ⁇ HF, which has been heated from calcium or calcium fluoride.
  • electrolytic NF 3 gas is generated from the anode of the tank, and H 2 gas is generated as a by-product from the cathode.
  • a gap 13 is fixed to the height of the electrolyzer bottom plate at a suitable distance from the bottom plate of the electrolyzer as shown in Fig. 3. In this way, an anode chamber IS and a cathode chamber 19 are formed in the electrolyzer,
  • the diaphragm is provided so as to prevent the electrolyte from moving between the anode chamber and the cathode chamber by moving to the bottom of the electrolytic If.
  • NF 3 gas and H It prevents mixing of two gases.
  • the barrier is formed of a fluorine-based resin, or its surface is coated with a fluorine-based resin. It is preferable to do
  • the fluorine-based resin used for the separator of the present invention includes, for example, polytetrafluorophenol, polychlorotrifluorophenol, polystyrene, and the like.
  • NF 3 gas and gas generated from the anode and cathode compartments of the electrolytic cell Gas and H 2 gas are led out of the system, and NF 3 gas is converted to the enrichment process in the next step, while H 2 gas is used as a by-product It is released to the atmosphere after firing. Therefore, it is difficult to always keep the pressures in the anode chamber and the cathode chamber the same, 5-it is difficult, and a differential pressure is generated. As a result, the electrolyte solution has a different liquid level in the anode chamber and in the cathode chamber.
  • Carrier gas is a gas that is fed into a reaction tank at this time to improve the safety and control the reaction.
  • the carrier gas is NF 3 gas or N 2 or Ar gas which is inert to NF gas and easily separated from NF 3 in the subsequent purification process.
  • N 2 gas is used, it is preferable because N 2 gas is inexpensive.
  • N is used in the reaction process. And painters of Ri amount byproduct, mosquito terms this in the you mixed in NF 3 where Re this generated, et even key catcher Li Yagasu the N 2 gas is Shi good or I.
  • N 2 gas which is carrier gas
  • NF 3 is produced by the above-mentioned various methods, usually, nitrous oxide (N 20 ), carbon dioxide (C 0), Oxygen (0 2), I Ru include nitrogen (N 2) of which impurity relatively multi amount. Therefore, for example, it is suitable for use in the field of cleaning materials for CVD equipment in the field of electronic materials, and in the field of draining agents for manufacturing LSIs. 5 It is necessary to remove and refine the impurities mentioned above to achieve high purity. .
  • the first purpose of the present invention is Te Oi to the production method of NF 3, safe teeth or even higher liquefaction concentration E of NF 3 in conjunction with you Hisage the how you to produce continuously a long time NF c High-purity NF, such as a mixture of NF 3 gas and carrier gas. We will provide a way to store the gas 1 ⁇ . -.
  • the second purpose is NF 3 or we produced, further 0 2, N 2 of which low-boiling components in the co and you efficiency Yo rather removal needs are Tsu Yo 9 9 of the present invention. 9 9% by weight, ⁇ ⁇ ⁇ ⁇
  • the present invention relates to a method for condensing and condensing nitrogen trifluoride, in which a mixed gas of nitrogen trifluoride gas and a carrier gas is introduced into a cooling process, and has a lower boiling point than nitrogen gas.
  • the mixed gas is cooled in the co-presence of a gas that is not compatible with each other to obtain liquefied nitrogen trifluoride mainly composed of nitrogen trifluoride, and the obtained liquefied nitrogen trifluoride is recovered.
  • the liquefaction and concentration method of nitrogen trifluoride is used.
  • Nitrogen gas Low boiling point and mutual solubility with nitrogen trifluoride
  • the gas of the 20th it is preferable to use the real gas and Neonka.
  • This gas is not only added during the liquefaction and concentration process, but also as a carrier gas, a gas containing helium or neon in the reaction tank, or a gas containing helium or zeolite. Or the addition of neon itself as a carrier gas.
  • the present invention is connected after the reaction step for producing NF 3 in the production of NF 3 , particularly, after the reaction step for producing NF in the molten salt electrolysis method.
  • the liquefaction / concentration is performed at a lower boiling point than nitrogen gas, and the liquefaction / concentration is performed in the coexistence of a gas which is insoluble in NF 3 .
  • the carrier gas must be supplied with a gas that has a lower boiling point than nitrogen gas and is insoluble in NF s. This means that even if it is added, the gas itself may be used as a carrier gas.
  • the nitrogen gas is a low-boiling gas, which is not soluble in NF 3 .
  • Gases such as (H e) and neon (N e) are preferably used. Gases having a lower boiling point than the nitrogen gas and having no mutual solubility with the NF 3, and hence gases other than the nitrogen gas, are hereinafter abbreviated as additive gases.
  • this additional gas may be a single gas or a mixed gas composed of two or more species.
  • a device for liquefying / concentrating NF 3 generally includes a gas inlet and a gas outlet.
  • a device consisting of a closed container (hereinafter abbreviated as a collection container) for collecting liquefied NF 3 and a cooling tank for cooling the collection container is used.
  • the tip of the gas discharge and Russia, additive gas Ru is exhausted, secondary eggplant that N 2 gas ⁇ - the backflow of key catcher re Yagasu used in about the fine reaction E (typically N [pi gas).
  • a sealing tank filled with liquid inert to the above forces and water, such as water, shall be provided, and the above-mentioned discharge tank shall be installed.
  • the gas should be released to the atmosphere after bubbling through the liquid in the sealed tank: preferably ⁇ . '
  • reaction E NF containing such (Yo I be included H e and ⁇ or N e in this key catcher Li turbocharger gas) key catcher Li catcher one gas
  • the NF 3 is liquefied by cooling the 3 gas in the coexistence of additive gas.
  • the pressure at this time is normal pressure, and slightly higher than normal pressure.
  • the reaction is carried out at a low pressure within the reaction range. Pressure range: C for the enclosure! ⁇ 0.5 kg cil G is preferred. This pressure is adjusted by the coexistence amount of the additive gas (the amount of the additive gas introduced into the reaction tank and Z or the collecting vessel).
  • this added gas is partially accompanied by the carrier gas during the reaction process and together with the carrier gas, it is accompanied by a part of NFNF when it is discharged out of the system through the discharge vessel of the collection vessel.
  • NFNF NFNF
  • the process is carried out at a volume ratio of 0.1 to 10 times the volume of NF 3 gas generated during the process. Volume ratio ⁇ . 0 is less than 1, the effect of the third component gas addition rather Na, 1 ⁇ loss of NF 3 and Ru ultra tut is that Do rather come large. Also, NF.
  • the method of introducing the additive gas used in the present invention into the collection container can be any of various methods without particular limitation.
  • catcher Li catcher gas itself on whether to use the H e and / or N e, or H e and Z or you mixed key catcher Li catcher gas in advance such as N 2 to N e method ⁇ .
  • N 2 to N e method ⁇ For example tut if you added in about liquefaction 5-concentrate E, shown in Figure 1. ⁇ rather reaction E enough or we generated gas (NF P, N 2 and key
  • the active alumina preferably has a grain size of 8 to 2 meshes.
  • the temperature is 0 to --125 ° C
  • the pressure is 0 to 5 kg Z ciG
  • the contact time is 10 seconds to 1 minute, usually filled with active alumina.
  • the packed tower is adsorbed and removed by passing gas through it.
  • the active alumina is not particularly limited, and any of commercially available ones can be used. However, those having a granular surface and a high surface area are preferably used. What has been heated to a temperature of about 900 to 900 ° C, preferably 250 to 600 ° C and dehydrated, is used. If the above temperature is lower than 250 ° C, water remains in the active alumina, and the water is transferred to the active alumina layer. Removal capability mosquito N 2 0 ⁇ beauty C 0 2 upon aerated New F g gas you decrease.
  • an excessively high temperature not only causes energy loss but also damages the active alumina and heat treatment vessels, for example, corrosion of the column.
  • the dehydration treatment by heating the active alumina may be performed in the air, but the heating may cause the water contained in the active alumina to be vaporized and dissipated. Therefore, do not contain water, for example, in the flow of an inert gas such as nitrogen gas, etc., and operate under reduced pressure while sucking gas. I also like it.
  • the heating time should be 30 minutes or more based on the above-mentioned heating and atmosphere, but usually 1 to 2 hours just in case.
  • Activated alumina dehydrated by heating is cooled to room temperature or lower by leaving it to cool or by forced cooling, but in this case, water contamination is not avoided. I have to do it. Therefore, as the method, for example, the dehydration treatment by heating the activated alumina is performed in a state where the activated alumina is filled in a column or the like. It is preferable to cool this and then continue to blow NF 3 gas through this active alumina layer.
  • the ventilation temperature at this time is preferably lower, and is usually performed at a temperature of ⁇ ° C. or lower. Since the boiling point of NF 3 is -12 ° C, the operation is practically difficult below this temperature, and the temperature is 5 ° C. Therefore, NF.
  • the ventilation temperature of the gas is 0 in the present invention. It is implemented in the range of ⁇ -125 ⁇ .
  • the pressure of the NF 3 gas at the time of ventilation is not particularly limited, but for example, a pressure of about ⁇ to 5 kg Z cil G is preferable because it is easy to operate. '
  • N 2 0 C 0 2 which is preferably a relatively high boiling component, is preferably removed, and 0 2 NF 3 gas containing Z and N as the main impurity gas is cooled and liquefied.
  • Refrigerants used for this liquefaction include liquid nitrogen, liquid air, liquid argon, LNG, and other low-boiling substances with a lower boiling point than nitrogen fluoride.
  • liquid nitrogen is inexpensive, stiff, and inert. Is the most preferred.
  • the method of combining with the LNG vaporization process is convenient because it can save energy.
  • a method of directly exchanging heat between the refrigerant of the refrigerator and the crude NF 3 can also be effectively employed. If purification is carried out following the production of NF 3 ′, liquefied NF 3 obtained in the liquefaction and concentration process of the production process can be directly used as a raw material. Not required.
  • the present invention Will cryogenic distillation of NF 3 containing the liquefied in the Yo U of this, you containing 0 2 Ya N. Removal of low-boiling components such as ⁇ Although it is to be purified, in the present invention, NF is used in the above cryogenic distillation. Yo Ri Ru coexist cut NF 3 and mutual solubility of such I third component in the low-boiling. Examples of the third component include a hair, a neon, and an argon. This third component may be used alone or in a mixture of two or more gases.
  • the third component is added together with the crude NF 3 to the distillation column.
  • the method of feeding as shown in Fig. 5, the method of feeding crude NF 3 and the third component from different feeds to the distillation column, as shown in Fig. 6 how the crude NF g Ru full I over dos a distillation column after the distillation column was replaced with Yo U in ⁇ al or troduction third component, the bottom of the distillation column to Yo U shown in FIG. 7 etc. liquefied by staying in the crude NF 3 Ru I method of the gaseous third component Ru is Bas Prin grayed, species Various methods can be adopted.
  • a method of the first Mitsunari component gaseous liquefied residence crude NF 3 Ru tee in the bottom Ru is Bas Bed Li in g of the distillation column, a 0 2 and N 2
  • the removal effect of any low-boiling components is particularly high and preferred. All of the methods shown in Figs. 4 to 7 are continuous distillation methods, but in the case of a batch method, the method is as shown in Fig. 8. how the gaseous third component Ru is Ba Bed 're in g in 3, ⁇ Ru I bubble you stir the crude. NF 3 by adding a stirrer is this the Yo U shown in FIG. 9
  • the stirring method is preferred because of its high efficiency of removing low-boiling components.
  • the efficiency of removing low-boiling components is as low as the bubbles are finely dispersed.
  • FIG. 10 is a diagram showing a more detailed embodiment of the method shown in each of the above-mentioned figures.
  • a water seal tank is provided on the way, and the water seal tank is to be released into the atmosphere after being wrapped, and then into the distillation system. Prevent air from being mixed in.
  • the cryogenic distillation is carried out at a temperature at which a part of NF 3 is in a liquid state, that is, at a temperature below the liquefaction temperature of NF 3 and above the coagulation temperature.
  • Third component It is carried out at any temperature where liquefaction does not occur. Therefore, the crude NF 3 must be in a state in which a part of the crude NF 3 is liquefied. It is implemented by cooling with a coolant such as a rubber.
  • a vacuum pump may be used at the top of the distillation column by using a commonly known decompression device such as an aspirator.
  • the pulling method is a method in which a mixed gas of the low-boiling component and the third component discharged from the distillation tower is liquefied into a liquid by means of a reamer or the like. Which is adopted
  • the amount of the third component coexisting with the crude NF 3 during cryogenic distillation is not particularly limited, but from the viewpoint of the effect of removing low boiling components such as O 2 and N 2 . The more the better, the better.
  • this third component is discharged together with the gasified low-boiling component to the outside of the distillation column, some of the NF 3 is gaseous. To accompany. Therefore, as the coexistence amount of the third component increases, the loss amount of NF 3 increases. Than you, practice and against the rough NF 3 liquid, gaseous third component as a volume ratio of 0. 0 1 to 0 in the range Shi good or I.
  • the effect of the addition of the third component gas is not observed before the volume ratio is less than 0.01, and the loss of NF 3 is large when it exceeds -10, so that it is preferable. It doesn't work.
  • the method of supplying the third component to the distillation i is not particularly limited, and may be a continuous supply, a batch supply, or an intermittent supply.
  • FIG. 1 and 2 are explanatory diagrams showing an example of a method for introducing an additive gas into a collection container for liquefying and compressing NF 3 according to the present invention, and FIG. NF used in Examples and Comparative Examples. It is a flow sheet showing a reactor and a liquefaction / concentration device for production.
  • NF 3 was produced by a molten salt electrolysis method.
  • the temperature was raised to the temperature of C to form a NF 4 F * HF-based electrolysis bath 17.
  • the carrier gas is N 2 gas
  • the carrier gas is introduced into the anode chamber 18 at a flow rate of 90 to 11 O ml Zinin.
  • the electrolyte bath 17 was introduced into the cathode chamber 19 at the same time with the carrier gas introduction pipe 21 introduced at a flow rate of 0.80 to 9 ⁇ ml Z min.
  • the anode was electrolyzed by passing a current of 50 amps from the anode 14 to the cathode 15, and about 80 ml / min of NF n Gas was generated from the negative electrode at a rate of ⁇ 350 ml Z mi ⁇ .
  • 11 introduced the 6 gas pipe 3 Yo are four 0-5 0 1111./ / 11 ⁇ 11 ''.
  • NF. was liquefied and concentrated.
  • the liquefied NF 3 is stored in the collection container 1, and He gas and N 2 gas are exhausted through the exhaust pipe 4, the sealing tank 3 2, and the exhaust gas 0 ′.
  • the H 2 concentration in the anode wheel 18 of the electrolytic cell 12 was measured using a hydrogen gas concentration meter, but it was found that one and a half hours after the start of electrolysis. The H 2 concentration was less than 1%, and the electrolysis was in a state where it could continue sufficiently.
  • Example 3 At 100 hours after the start of electrolysis, the concentration of H 1 in the anode chamber 18 of the electrolysis tank 12 is less than 1% and less than 25% as in Example 1, and the electrolysis continues sufficiently. I was ready to go. -(Example 3)
  • Electrolysis and electrolysis were performed in the same manner as in Example 1 except that the additive gas to be introduced into the collection vessel 1 was changed to Ne gas.
  • Electrolysis and liquefaction and concentration of NF 3 were performed in the same manner as in Example 1 except that the introduction of the additional gas into the collection vessel 1 was stopped. 2 hours after the start of electrolysis, the concentration of H 2 gas in the anode chamber 18 of the electrolyzer 12 increased to about 5%, and approached the explosion limit. I had to do it.
  • the cooling container 600 is filled with liquid nitrogen to cool the collecting container 100 (internal volume li?), And then the collecting container is filled with a gas having the quality shown in Table-1.
  • NF n in the form of a solid and a third component, helium gas are passed through lines 200 and 300 at flow rates of 5 O ml Z min and 3 ml Z min, respectively. hand Feeded.
  • NF 3 is liquefied in the collection vessel, and the coexisting helium gas and fractionated gaseous low-boiling components (oxygen, nitrogen, etc.) are passed through a water seal tank 700. The system is kept almost at atmospheric pressure.
  • the temperature of 100 was returned to normal temperature, and liquefied NF 3 in the collection container 100 was gasified for analysis.
  • the results showed that oxygen and nitrogen were largely removed as shown in Table-2.
  • Example 4 Using the apparatus used in Example 4 (Fig. 10), the gaseous low-boiling-point exhaust gas generated by the helium gas and cryogenic distillation was removed by a water seal.
  • a vacuum pump 800 was used to evacuate the line 100 by 20 times, and the inside of the collection vessel 100 was depressurized.
  • Crude distillation of crude NF 3 of the quality shown in Table 1 was performed under the same conditions and method as in Example 3 except for the above.
  • the internal pressure during cryogenic distillation was 1 OmmHg abs.
  • the content of 25 oxygen and nitrogen was greatly reduced as in Example 4. It was a little.
  • the vacuum pump is also used at 80 ° when the vacuum gas is bubbled, and the internal pressure of the system during the bubbling is set to 10 ° mmHg abs.
  • Cryogenic distillation was carried out under the same conditions and method as in Example 6, except for the following. Analytical values of the obtained NF 3 gas are shown in Table 2 and include oxygen and nitrogen contents. Yuryou the amount of impurities in the raw material crude NF 3 extremely high purity NF 3 gases were obtained al a trace amount
  • the carrier gas itself is added to He and Z or N.N. in advance in the reaction process in the production of NF 3 .
  • nitrogen and other carrier gases such as nitrogen, which have low boiling points and are not compatible with NF 9 ; and He and Z include nitrogen and other carrier gases.
  • NF to include or connect with Ne In the cooling process (liquefaction / concentration process), the mixed gas of NF 3 and the carrier gas is guided to the cooling process, where He and / or Ne is used.
  • the NF is added in the presence of the gas to which the gas is added. Liquefaction and concentration of gas provide a very simple method.
  • the compound does not have mutual solubility with any nitrogen fluoride, such as helium,, ⁇ '', and anoregone. ⁇ Deep coarse NF 3 by coexisting third component? .. You if distillation other hand, the law in ⁇ is, was Tsu impossible ⁇ Dea in the conventional purification 15 method Tsu Yo to Re this', 0 9 in the crude N. F 3 and N 2 a:. Roh It enables removal of any low-boiling components. .
  • NF 3 having a purity of 99.9% or more because the furnace may be contaminated.

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Description

明 糊 三弗化窒素の液化 · 濃縮ぉ ょ び精製方法 技 術 分 野 。
本発明 は 、 三弗化窒素 (以下 N F 3 と 表記す る .) の 製造 に ぉ ぃ て、 生成 し た N F 3 の液化 · 濃縮方法ぉ ょ び精製方法 に関する 。
背 景 技 術
N F. 3 〖ま沸点が 一 1 2 9 °C、 融点カ《 — 2 0 8 °C の物 性を示す無色の気体でぁ る 。
N F 3 は フ ッ 素源 と し て フ ッ 素 ( F 2 ) ょ り も 適度 に活性カ 弱 く かっ毒性 も 低 ぃ の で、 従来特に フ ルォ ロ ォ レ フ ィ ン の調製に ぉ け る フ ッ 素源ゃ高ェ ネ ルギ一燃 料の酸化剤 と し て使用 さ れて ぃ た。 更に近年で は、 電 子材料分野で C V D装置の ク リ 一ニ ン グ剤ゃ超 L S I 製造用 の ド ラ ィ ェ ッ チ ン グガス と し て も 使用 さ れ る ょ ぅ に な っ て き た 。 .
N F 3 の製造方法 に は種 々 の 方法がぁ る 。 そ の主な も の を列記す る と ァ ン モニ ゥ ム 酸フ ッ 化物の溶融塩電 解法 (米国特許 3 2 3 5 4 7 4 号公報) 、 ァ ン 乇 ニ ゥ ム 酸 フ ッ 化物を溶融状態 に て気相状の フ ッ 素 と 反応 さ せ る 方法 (特公昭 5 5 — 8 9 2 6 号公報) 、 固体状の 金属 フ ッ 化物の ァ ン モ ニ ゥ ム 錯体 と 元素状 F り を反応 さ せ る 方法 (特公昭 6 2 — 2 1 7 2 4 号公報) な どが ぁ る 。
こ れ ら は、 ぃづれ も N F 3 を生成 さ せ る 反応ェ程に ぉ ぃ て、 爆発を防止 し安全性を向上 さ せ る た め ぁ る ぃ は反応を適度に制御す る 目 的で、 不活性ガス をキ ャ リ
5 ャ一ガス と し て反応系内 に導°入す る 必要がぁ り 、 こ の 不活性ガス と 'し て は安価な 窒素 ( N 2 ) ガ が専 ら 用 ぃ ら れて.ぃ る 。 ま た、 キ ャ.リ ャ一ガス を特に外部か ら 導入す る こ と な く 反応を行な ぅ 場合で も 、 前記各製造 法.にぉぃ ては N. 2 ガスが副生 し 、 こ れが生成 し た o- N F 3 、ス 中 に 在す る こ と に.な る 。
従 っ て 記各方法で製造 さ れた N F 3 を前述の如 き 各種用途に使用する た め に は、 含有す る !^ 2 ガス ゃ亜 酸化窒素 ( N 2 0 ) 、 ニ酸化炭素 ( 0 2 ) な どの そ の他の不純物を除去す る 必要がぁ る 。 し か し て、 前記5 各方法で.製造 さ れる N F 3 中 に は通常相当多量の N 2 ガス .(キ ャ リ ャ一ガス でぁ る N 2 ガス ぉ ょ び副生す る N 2 ガ ス ) が含有 さ れてぃ る ので、 先ず こ の N り ガ ス を除去す る ため の反応ェ程の ぁ と に N 2 ガス を除去す 'る ぃ ゎ ゅ る N F 3 の 濃縮ェ程が反応ェ程に接続す る 形0 で設け ら れてぃ る 。 (尚、 反応ェ程 と 濃縮ェ程の 間 に は、 N ^ 以外の上記
N 2 0 ゃ C 0 n な どの不純物及び未反応ま た は副生す る 弗化水素 ( H F ) を除去す る 精製ェ程が入 る 場合 も ぁ る 。 )
5 こ の 際の N F 3 の 濃縮方法 と し て は種々 の 方法がぁ る が、 冷媒を用 ぃ て N F 3 を液化 さ せ る 方法が コ ン プ レ ッ サーで圧縮す る な どの他の方法 と 比べて不純物が 混入せず し か も 設備的 に も 簡単で ぁ る の で、 最 も 効果 的な 方法 と し て常用 さ れて ぃ る 。 し か し て こ の 液化用 5 冷媒 と し て は、 液体-窒素、 液体空気、 液体ァ ル ゴ ン な ど. N F 3 ょ り 沸点の 低ぃ液化ガス が用 ぃ ら れ る が、 . こ れ ら の 中で も 液体窒素を使用 す る と N F 3 の 濃縮が容 易でぁ る 、 N 2 は不活性物質でぁ る の で安全でぁ る 、 し カ、 も 廉価で ぁ る な どの理由で最 も 好 ま し ぃ。
T O し か し な が ら 、 前記の如 き 製造ェ程か ら な る 装置を 用 ぃ て N F 3 を製造す る 場合、 濃縮ェ程 に ぉ ぃ て生成 し た N F 3 を液体窒素を冷媒 と し て冷却液化 さ せ る と キ ャ リ ャ一ガス で ぁ る N 2 ガス及び副生す る N 2 ガス
' もー部 N F 。 と 共に液化す る の で、 こ の濃縮ェ程内が
1 5 減圧 と な り 、 ひ ぃ て は反応系内 の圧カ も 減圧 と な る 。
N F 3 の生成反応 は連続的 に行な ゎ れ る ので、 かか る 状'態 と な る と 反応ェ程に ぉ け る 反応の 制御が極め て 困難 と な り 、 ま た 、.安全の面で も 問題が生 じ 、 反応を 長時間維持す る こ と が不可能 と な る 。
20 こ れを溶融塩電解法を例 と し て説明す る と 以下の如 く でぁ る 。 例ぇ ば酸性 フ ッ 化 ァ ン モニ ゥ ム ま た は フ ッ 化ァ ン モ ニ ゥ ム と 弗化水素を原料 と す る N H 4 F ♦ H F 系ゃ、 こ れ に更 に酸性 フ ッ 化 カ リ ゥ ム ま た は フ ッ 化 カ リ ゥ ム を原料 と し て加ぇ た K F · N H 4 F · H F
25 系で溶融塩電解を行な ぃ N F 3 を製造す る 場合、 電解 槽の 陽極か ら は N F 3 ガス が発生 し 陰極か ら は副生物 と し て H 2 ガス が発生す る 。
こ の N F 3 ガス と H 2 ガス は混合す る と 爆発を引 き 起 こ すので、 こ の混合を避け る た め、 電.解槽に は陽極 1 4 と 陰極 · 1 5 を隔離す る 隔扳 1 3 が第 3 図 に示す ょ ぅ に電解槽の底板ょ り 適爭な距離を置ぃ た高 ざ 'の位置 ょ り 篕扳. 1 6 に 固着する形で設け ら れてぃ て、 こ れに ょ り 電解'槽内 は陽極室 I S と 陰極室 1 9 を形成 し 、
(隔板は電解液が電解 If の底部 に ぉぃ て陽極室 と 陰極 室を.相互に移.動す る こ と を妨げな ぃ ょ ぅ に設けてぁ る 。 ) 上記 N F 3 ガス と H 2 ガス の混合を防止す る ょ ぅ に な っ てぃ る 。 な ぉ、 電解時にぉ け る 隔扳の複極化現象 を防止す る ため、 該隔扳は フ ッ 素系樹脂で形成す る か、 そ の表面を フ ッ 素系樹脂で コ ーテ ィ ン グす る こ と が好 ま丄 ぃ
本発明 の隔扳に用 ぃ る フ ッ 素系樹脂 は、 例ぇ ば、 ポ リ テ ト ラ フ ノレォ ロ ェ チ レ ン 、 ポ リ ク ロ ロ ト リ フ ノレォ ロ ェ チ レ ン 、 ポ リ ビニ リ デ ン フ ルォ ラ ィ ド、 ポ リ ビニ ル フ ノレォ ラ ィ ド、 テ ト ラ フ ソレォ ロ ェ チ レ ン - へ キ サ フ ル ォ ロ プ ロ ピ レ ン 共重合体、 テ ト ラ フ ノレォ ロ ェ チ レ ン - ェ チ レ ン共重合体、 テ ト ラ フ ルォ ロ ェ チ レ ン - パ一 フ ルォ ロ ァ ル キ ル ビニ ルェ一 テ ノレ共重合体、 ク ロ ロ ト リ フ ルォ ロ ェ チ レ ン - ェ チ レ ン 共重合体等通常公知 の も の が何れ も 好適 に使用可能でぁ る 。
電解槽の 陽極室 と 陰極室か ら 発生 し た N F 3 ガス及 び H 2 ガス は系外 に導かれ、 N F 3 ガス は、 次のェ程 で ぁ る 濃縮ェ程へ換銃 さ れて ぉ り 、 一方 H 2 ガス は副 生成物 と し て利用す る か焼成後大気放出 さ れ る 。 従 っ ' - て、 陽極室内 と 陰極室内 の.圧カ を常 に 同圧 と す る こ と 5 は-困難で、 差圧が生 じ る 。 そ の結果、 電解液 は陽極室 内 と 陰極室内 に ぉぃ て液面の高 さ 'が異な っ て来 。
上記差圧が大 き く な る に従 ぃ両電極室の 液面の高 さ も 益 々 差を生 じ る が、 こ れが一定限度を越ぇ る と 逐 に .N F π ガス と H η .ガス の何れかが隔板の下を通 り 抜 け 1 0 て他 —方の ガス と 混合 し 、 爆発限界内 の ガス を形成 す る こ と と な る 。 こ れを回避す る た め に 、 電解槽の 陽 極室及び陰極室に そ れぞれ不活性な ガ ス を キ ャ リ ャー ガス と し て適当量導入調節す る こ と で こ れ に対処 さ れ • る 。 キ ャ リ ャ ー ガス と は、 こ の ょ ぅ に反応槽 に ぉ ぃ て、 ■1 5 安全性を 向上 し 、 反応を制御す る 目 的で送入 さ れ る ガ ス を言 ぅ 。
こ の 際の キ ャ リ ャ一ガス .と し て は、 N F 3 ガ ス 及び Κ ガス に対 し 不活性でかっ 後の 精製ェ程で N F 3 と 分離が容易 な N 2 又は A r の ガス が用 ぃ ら れ る が、 こ 20 れ ら の 中で も N 2 ガ ス が廉価で ぁ る の で好 ま し ぃ 。 尚、 こ の溶融塩電解法に ぉ ぃ て は反応ェ程で N 。 がか な り の 量副生 し、 こ れが生成 し た N F 3 中 に混入す る の で こ の点カ、 ら も キ ャ リ ャーガス は N 2 ガ ス が好 ま し ぃ 。
カ、 く し て電解槽 に ぉ ぃ て連铳的 に生成 さ れた N F 3 25 ガ ス は、 前述 し た通 り 引 き 続 ぃ て液体窒素で冷却 し て N F. 3 を液化 し濃縮す る こ と に な る 。 (た だ し溶融塩 電解法の場合、 例ぇ ば弗化水素な どが主に未反応物 と し て混入 し てぃ る の で、 反応ェ程 と 液化 * 濃縮ェ程の 間 に は こ の弗化水素な どを除去.す る 精製ェ程が入 る こ ' と が好ま し ぃ。 · . .
こ の 化 濃縮ェ程では、 ··'反応ェ程での電解槽内 に 導入 し た キ ャ リ ャ一ガス でぁ る N Q ガス もー部液化す る ので液化 · 濃縮装置内が減圧 と な り 、 こ れが影響 し て *角军槽の 陽極室 減圧 と な っ て し ま ぃ 陰極室 と の 間 に差圧が生 じ る 。 こ の結果前記 し た と 同様の理由で、 ' 陽極室内 に生成 し た N F 3 ガス に水素ガスが混入 し 爆 発性ガス を形成す る 。
- この爆発性ガス 形成の原因でぁ る 、 陽極室内 の減圧 と な る の をキ ャ リ ャーガスでぁ る N 2 ガス の 陽極室へ の 供.给量の調節のみで は安全に防止する こ と は困難で ぁ る た め、 長時間連続 し て N F 3 の製造がで き な ぃ と ぃ ぅ 重要な 問題点がぁ る 。
― し たカ っ て、 かか る 問題を解決 し 、 安全で し か も 連 続 し て長時間 N F 3 を製造で き る 方法を開発す る こ と ょ り 具体的に は、 溶融塩電解法に ょ り 得 ら れ る N F 3 ガス と キ ャ リ ャ一ガス と の混合ガス か ら 液化 · 濃縮に ょ り N F 3 を回収す る 方法を開発す る こ と が望 ま れて ぃ る o -
N F 3 は上記 し た種々 の方法で製造 さ れて ぃ る が、 通常亜酸化窒素 ( N 2 0 ) 、 ニ酸化炭素 ( C 0 。 ) 、 酸素 ( 0 2 ) 、 窒素 ( N 2 ) な どの不純物を比較的多 量に含んで ぃ る 。 し たカ っ て、 た と ぇ ば、 電子材料分 野で C V D 装置 の ク リ ーニ ン グ剤ゃ L S I 製造用 の ド ラ ィ ェ ッチ ン グ剤等の分野 に好適 に使用 す る た め に は 5 上記 し た不純物を極カ除去精製 し 高純度に す る 必要が - ― .ぁ る 。 .
-- 上記の如 き 不純物を除去ず る 方法 と し て、 ゼォ ラ ィ :· ト な どの 吸着剤 と 接触 さ せ除去す る 方法が、 最 も 効率 .が良 く 簡便な方法で ぁ る ので常用 さ れて ぃ る 。 し か し 10 な カ ら 、 ゼ才 ラ ィ ト に ょ る 処理で は、 N F 3 中 の
- N 9 0 ゃ C 0 2 な どの ょ ぅ に比較的高沸点の不純物 は 効率 ょ く 除去で き る が、 0 2 、 N 2 な どの ょ ぅ な比較 的低沸点成分 は殆ん ど除去 さ れず、 そ の除去方法 は未 だ知 ら れて ぃ な ぃ。
15 般に 沸点の異 な る 成分の分離手段 と し て、 蒸留法 が有効で常用 さ れて ぃ る が、 本発明者 ら が N F 3 中 の 低沸点成分の 除去 に こ の方法を試み た と こ ろ 、 N F 3
" と 低沸点成分 と で は沸点差が充分大 き ぃ に も かかゎ ら ず効率的 な分離が出来ず、 例ぇ ば、 N Q に っ ぃ て は 20 N F 3 中 に少な く と も 数千 p p m も 残存す る こ と カくゎ か っ た
この 0 ' 2 N .2 な どの 低沸点成分を効率 ょ く 除去 し 高純度の フ ッ 化窒素を得 る 方法の 開発が望 ま れて ぃ る 発 明 の 開 示
本発明 の第 1 の 目 的 は N F 3 の製造方法に ぉぃ て、 安全で し か も 連続的 に長時間 N F c を製造で き る 方法 を提 す る と共に N F 3 の液化濃縮ェ程にぉ ぃ て、 •N F 3 ガス と キ.ャ リ ャ一ガス と の混合ガス カ、 ら 高純度 の N F 。 ガ''ス を 1 ^収す る 方法を提供す る こ と に ぁ る 。 - 本発明 の第 2 の 目 的 は製造 さ れた N F 3 か ら 、 更に 0 2 、 N 2 な どの低沸点成分を効率ょ く 除去す る と共 に.必要に ょ っ て は 9 9 . 9 9 重量%、 ぃ ゎ ゅ る フ ォ.ァ
T O • ナィ ン の超高純度 N F 3 を も 製造 し得 る 方法を提供
¾ と に ¾ る 0
本発明 は三弗化窒素の液化濃縮方法でぁ っ て、 三弗 化窒素ガス と キ ャ リ ャ一ガス と の混合ガス を冷却ェ程 に導 き 、 窒素ガス ょ り 低沸点で、 且っ三弗化窒素 と 相
1 5 互溶解性の な ぃ ガスの共存下で、 該混合ガス を冷却 し て、 三弗化窒素を主体 と す る 液化三弗化窒素を得、 得 ら れた液化三弗化窒素を回収す る 三弗化窒素の液化濃 縮方法でぁ る 。
窒素ガス ょ り 低沸点で且っ三弗化窒素 と 相互溶解性
20 の な ぃ ガス と し て はへ リ ゥ ム 、 ネォ ンカ 好ま し ぃ。 こ の ガス は液化濃縮ェ程で添加す る 以外 に、 キ ャ リ ャ ー ガス と し て反応槽でへ リ ゥ ム又は ネ ォ ン を含むガス か、 も し く はへ リ ゥ ム及び Z又は ネ ォ ン 自 体をキ ャ リ ャ ー ガ ス と し て添加す る こ と を も 含む も のでぁ り 、 こ れカ
25 「共存下」 の意味でぁ る 。 更 に液化三弗化窒素を三弗化窒素ょ り 低沸点で且っ 三弗化窒素 と 相互溶解性の な ぃ第三成分ガス の共存下 で深冷蒸留す る 三弗化窒素の精製方法で ぁ る 。
本発明 は、 N F 3 の製造 に ぉ ぃ て N F 3 を生成 さ せ る 反応ェ程、 特に は、 溶融塩電解法 に ょ っ て N F を 発生 さ せ る 反応ェ程の後.に接続す る 形で設 け て ぁ る N F 3 の 冷却ェ程 (液化 · 濃縮ェ程) に N F 3 ガス と キ ャ リ ャ—ガス と の混合ガス を導 き 、 N F 3 を液化 · 濃縮 さ せ る 際、 該液化 · 濃縮を窒素ガス ょ り 低沸点で カ、っ N F 3 と 相互溶解性の な ぃ ガス の共存下で該液化 濃縮を行な ぅ も の でぁ る 。 こ の共存下の意味 は、 液 化 ♦ 濃縮ェ程で添加す る 以外 に、 キ ャ リ ャ 一 ガス に こ の窒素ガス ょ り 低沸点で、 かっ N F s と 相互溶解性の な ぃ ガス を添加 し て も 、 ま た そ の ガス 自 体を キ ャ リ ャ ー ガ ス と し て も ょ ぃ こ と を意味す る 。
本発明 に ぉ ぃ て は、 かか る 窒素ガ ス ょ り 低沸点で、 かっ N F 3 と 相互溶解性の な ぃ ガス と し てへ リ ゥ ム
( H e ) 、 ネ ォ ン ( N e ) な どの ガ ス が好適 に 使用 さ れ る 。 こ の 窒素ガス ょ り 低沸点で、 かっ N F 3 と 相互 溶解性の な ぃ ガ ス 、 従 っ て窒素ガス 以外の ガ ス を以後 添加ガス と 略称す る 。
ま た 、 こ の添加 ガス は単独で も ょ く ニ種以上か ら な る 混合ガ ス の ぃ ずれで も ょ ぃ。
本発明 に ぉ ぃ て は N F 3 を液化 · 濃縮 さ せ る 装置 と し て は、 一般 に ガ ス 揷入 ロ ぉ ょ びガ ス 排出 ロ を備 ぇ た 液化 し た N F 3 を捕集す る た め の 密閉容器 (以下捕集 容器 と 略記す る ) と 、 該捕集容器を冷却す る た めの冷 媒槽か ら な る 装置が使用 さ れ る 。 ま た、 ガス排出 ロ の 先端に は、 排気 させ る 添加ガス 、 副生す る N 2 .ガス及- び反応ェ程で使用 さ れた キ ャ リ ャーガス (通常 N π ガ ス ) の逆流に ょ る 捕集容器への空気-の混入'を避け る た め、 水等の ょ ぅ な上記各力、ス に対 し不活性な 液体を満 た し た シ一ル槽を設け、 上記排出ガス は こ の シール槽 内の液体中をバプ リ ン グ さ せた後.、 大気放出す る のが : 好 ま し ぃ。 . '
本発明で は反応ェ程で生成 し た Ν 2 、 キ ャ リ ャ一ガ ス ( こ の キ ャ リ ャ ー ガス に H e 及び Ζ又は N e を含ま せて も ょ ぃ) 等を含む N F 3 ガス を、 添加ガス の共存 下で冷却 し N F 3 を液化 ♦ 濃縮 さ せ る ゎ けで ぁ る が、 こ の 際の圧カ は常圧な ぃ し常圧 ょ り 僅か に高ぃ圧カで かっ反応ェ程内の圧カ ょ り 低ぃ圧カで実施 さ れ る 。 圧 カ範:囲 と し て は C! 〜 0 . 5 kg cil G が好ま し ぃ。 こ の 圧 .カ の調節 は添加ガス の共存量 (添加ガス の 反応槽及 び Z又は捕集容器への導入量) で行な ゎれ る 。 しか し なカ ら 、 こ の添加ガ ス は反応ェ程か ら キ ャ リ ャーガス と 共に捕集容器の排出 ロ か ら系外へ排出 さ れ る 際 N F „ も 一部同伴す る ので、 こ の 同伴 に ょ る N F 3 の 損失を極カ防 ぐ た め に は キ ャ リ ャ ー ガ ス に添加 さ れた 時は そ の添加量を含め た添加ガス の捕集容器への過度 の導入 は不都合でぁ り 、 従 っ て、 そ の量は通常反応ェ 程で発生す る N F 3 ガス に対 し 容量比で ◦ . 0 1 〜 1 0 倍量で実施 さ れ る 。 容量比が ◦ . 0 1 未満で は第 三成分ガス 添加の効果が な く 、 1 ◦ を超 ぇ る と N F 3 の損失が大 き く な る 。 ま た、 N F .3 の上記排ガス へ の 5 同伴量は N F 3 の冷却 ♦ 濃縮温度に ょ っ て も 影響 さ れ . こ の温度.は下記す る 範囲 内で低ぃ程好 ま し ぃ 。 'す.な ゎ ち 、 そ の温度範囲 は N F 3 の液化温度以下でかつ N 2 ガス の液化温度以上でぁ る 。 即 ち 温度範囲 と し て は - 1 2 9 °C 〜 ー 1 9 6 。C カ 好 ま し ぃ。
0 . '捕.集容器へ本発明で使用す る 添加ガ ス を導入す る 方 法 は.、 特に 限定す る も ので は な く 種 々 の方法が可能で ぁ る が、 第 1 に キ ャ リ ャ ー ガス 自 体 に H e 及び /又は N e を使用 す る か、 又 は H e 及び Z又 は N e を予め N 2 等の キ ャ リ ャ ー ガス に混合す る 方法がぁ る 。 液化5 · 濃縮ェ程で添加す る 場合 に は例ぇ ば、 第 1 図 に示す . 如 く 反応ェ程か ら 発生 し た ガス ( N F P 、 N 2 及びキ
- ャ リ ャーガス等か ら な る 混合ガ ス ) の捕集容器 1 への 導入管 2 に添加ガス の導入管 3 を接続す る 方法、 第 2 図 に示す如 く 反応ガ ス の導入管 2 と 添加 ガ ス の導入管0 3 を別 々 に設 けて捕集容器 1 に導入す る 方法 な どで簡 単に実施す る こ と がで き る 。 尚、 捕集容器 1 への上記 導入管 は、 該捕集容器 1 内で液 化 さ れた N F 3 中 に揷 入 さ れな ぃ ょ ぅ にす る のが好 ま し ぃ。
以上の ご と く し て、 液化 · 濃縮す る こ と に ょ り 回収 5 さ れた液ィヒ N F 3 はな ぉ比較的高沸成分で ぁ る N 2 0 C 0 2 、 比較的低沸成分でぁ る 0 2 . N 2 な どの不純 物を比較的多量に含んでぃ る ので、 こ れ ら 不純物を除 去 * 精製す る 必要がぁ る 。 し か し て、 こ れ ら 不純物の う ち 、 比較的高沸成分でぁ る N 2 0 ゃ C 0 2 は従来 知の方法で ぁ る 活性ァ ル ミ ナ、 ゼォ ラ ィ ト な どの吸着 m と 接触 さ せ る こ 'と に ょ り 、 深冷蒸留 に ょ る ょ り も 効 率ょ く'. '除去で き る 。 し 'たが っ て深冷蒸留す る ま ぇ に、 ま た は深冷蒸留後活性ァ ル ミ ナ、 ゼォ ラ ィ ト な どの吸 着剤 と を接触せ,し めて N 2 . 0 ゃ C 0 2 を除去す る こ と が好ま し ぃ。
こ の比較的 ¾沸点不純物成分でぁ る N 2 0 ゃ C 0 2 H F な どの 除去方法を活性ァ ル ミ ナを吸着剤 と し て使 用 し た場合を例 に と っ て更に詳述す る 。 ゼォ ラ ィ ト を 吸着剤 と し た場合 も 同様でぁ る 。
活性ァ ル ミ ナの粒度と し ては 8 〜 Γ 2 メ ッ シ ュ の も のが好 ま し ぃ。 温度 と し ては 0 〜 ー 1 2 5 °C 、 圧カ 0 〜 5 kg Z ci G 、 接触時間 と し て は 1 0 秒〜 1 分で ょ く 、 通常、 活性ァ ル ミ ナを充填 し た充填塔を ガス を通 過さ せ る こ と に ょ り 吸着除去 さ せ る 。
活性ァ ル ミ ナ と し て は、 特に 限定は な く 通常市販の も のが何れ も 使用可能でぁ る が、 粒状かっ 、 高表面積 の も の カ ょ り 好ま し く 、 カ、っ 2 5 〇 〜 9 0 0 °C、 好ま し く は 2 5 0 〜 6 0 0 °C の温度に加熱 し て脱水処理 し た も の が使用 さ れ る 。 上記温度が 2 5 0 °C未満で は活 性ァ ル ミ ナ中 に水分が残存 し 、 該活性ァ ル ミ ナ層へ Ν F g ガス を通気 し た 際 に N 2 0 及 び C 0 2 の 除去能 カが低下す る 。
逆に必要以上の 高温 は ェ ネ ルギ ー の損失の み な ら ず、 活性ァ ル ミ ナの.加熱処理容器、 例ぇ ば カ ラ ム の腐食な
5 どの 問題が生ず る ので好 ま し く な ぃ。
活性ァ ル ミ ナ の加熱 に ょ る脱水処理 は空気中で行な っ て も ょ ぃ が、 該加熱は活性ァ ル ミ ナ 中 に 含有す る 水 分を気化逸散 さ せ る た め に行な ぅ ので、 水分を含有 し な ぃ 、 例ぇ ば窒素ガス の ょ ぅ な 不活性ガス の気流中で ΐ θ 行 な ぅ のがょ く 、 ま た ガス を吸引 し な がら 減圧下で行 な ぅ こ と も 好ま し ぃ。 加熱時間 は、 上記の加熱温虔及 び雰囲気 に ぉぃ て 3 0 分以上で ぁ れば ょ ぃ が、 念の た め に通常 1 〜 2 時間行ゎれ る 。
加熱 にょ り 脱水処理 さ れた活性ァ ル ミ ナ は.、 放冷 ま 5 た は強制冷却 に ょ っ て常温以下 に 冷却 さ れ る が、 こ の 場合に は水分の混入を 回避 'し な ければな ら な ぃ。 従 っ て そ の 方法 と し て上記活性ァ ル ミ ナ加熱 に ょ る 脱水処 理を例ぇ ば カ ラ ム等に活性ァ ル ミ ナ を充填 し た状態で 行 な ぃ 、 脱水処理後、 こ れを冷却 し 、 し か る の ち 引続 0 き 、 こ の活性ァ ル ミ ナ層へ N F 3 ガス を通気す る 方法 カ 好 ま し ぃ ひ
こ の 際の通気温度 は低温 ほ ど好 ま し く 、 通常 ◦ °C 以 下の 温度で行ゎれ る 。 し カ、 し N F 3 の 沸点 は — 1 2 9 °C で ぁ る の で、 .こ の 温度以下で は操作が事実上困難で 5 ぁ る 。 従 っ て N F 。 ガ ス の通気温度 は、 本発明で は 0 〜― 1 2 5 ^の範囲で実施 さ れ る 。
通気時の N F 3 ガス の圧カ は、 特に 限定はな ぃが、 例ぇ ば ◦ 〜 5 kg Z cil G程度の圧カが操作 し 易 ぃ の で好 ま しぃ。 . '
こ の活性ァ ル ミ ナ処理の前後の N F 3 中 の 各不純物 の濃度範囲を示す 次の通 り でぁ る 。 活性ァ ル ミ 処 理前の粗 N.F .3 中、 N 。 0 0 . 1 〜 1 %、 C 0 2
0 . 1 〜 1 %、 0 2 0 . 1 〜 1 %、 N 2 0 . 1 〜 1 %、 .活.性ァ ル ミ ナ処理後は N. 2 0 0 . 1.〜 1 〇 ppm C 0 „ 0 . 1.〜 : L ΰ ppm 、 0 り 0 . 1 〜 1 %、 N 2 0 . 1 〜 1 %で ぁ る 。 即 ち 活性ァ ル ミ ナ吸着で は 0 2 、 N 2 等低沸点不純物は除去さ れな ぃ。
し か し て上記ニっ の精製法はぃずれを先に実施 し て も 良ぃが、 通常、 比較的高沸点成分でぁ る N 2 0、 C 0 2 を活性ァ ル ミ ナ と 接触 さ せて除去 し た後、 本発 明 の深冷蒸留の方法に ょ り 低沸点成分を除去す る 方法 で実施 ざ.れ る 。
本発明 に ぉぃ て は、 以上の ご と く し て、 好 ま し く は ぁ ら か じ め比較的高沸成分でぁ る N 2 0 ゃ C 0 2 を除 去 し、 0 2 ぉ ょ び Zま た は N を主た る 不純物ガス と し て含有す る N F 3 ガス を冷却 し で液化 さ せ る 。
こ の 液化に用 ぃ ら れ る 冷媒 と し て は液体窒素、 液体 空気、 液体ァ ル ゴ ン 、 L N G な ど、 フ ッ 化窒素 ょ り 沸 点の低ぃ物質が用 ぃ ら れ る が、 こ れ ら の液化ガ ス の 中 で も 液体窒素が廉価で も ぁ り 、 かっ 、 不活性でぁ る 点 で最 も 好ま し ぃ。
例ぇ ば L N G の気化プ ロ セ ス と 組合せ る 方法 な ど は 省ェ ネ ルギ一を図 る こ と が出来 る の で好都合で ぁ る 。 ま た 、 冷凍機の冷媒 と 粗 N F 3 を 直接熱交換 さ せ る 方 法.も 有効に採用す る こ と が出来 る 。 N F 3 ' の製造 に 引 続ぃ て、 精製を行ぇ ば、 .製造ェ程の液化濃縮ェ程で得 ら れた液化 N F 3 を 直接原料 と し 得 る の で 、 こ の液化 ェ程は不要で ぁ る 。
.本発明.は こ の ょ ぅ に し て液化 さ れた N F 3 素を深冷 蒸留 し 、 含有す る 0 2 ゃ N 。 な どの 低沸点成分の 除去 ♦ 精製す る も の で ぁ る が、 本発 で は、 上記深冷蒸留 に 際 し N F 。 ょ り 低沸点でかっ N F 3 と相互溶解性の な ぃ第三成分を共存 さ せ る 。 こ の ょ ぅ な第三成分 と し ては、 へ リ ゥ ム 、 ネ ォ ン 、 ァ ル ゴ ン な ど を挙 げ る こ と がで き る 。 こ の第三成分 は、 単独で も ま たニ種以上の 混合ガス で も ぃ ずれで も ょ ぃ。
本発明 に ぉ ぃ て粗 N F 3 に第三成分を共存 さ せ る 具 体的 な方法と し て は、 第 4 図 に示す ょ ぅ に第三成分を 粗 N F 3 と と も に蒸留塔へ フ ィ 一 ドす る 方法、 第 5 図 に示す ょ ぅ に粗 N F 3 と 第三成分を別 々 の フ ィ 一 ド ロ か ら 蒸留塔へ フ ィ ー ドす る 方法、 第 6 図 に示す ょ ぅ に ぁ ら か じ め第三成分で蒸留塔内 を置換 さ せ た後粗 N F g を蒸留塔 に フ ィ ー ドす る 方法、 第 7 図 に示す ょ ぅ に 蒸留塔の塔底 に 液化 し て滞留 し て ぃ る 粗 N F 3 中 に気体状 の第三成分をバ プ リ ン グ さ せ る 方法 な ど、 種 々 の方法が採用 出来 る 。 こ れ ら の方法の 内、 蒸留塔の 塔底に液化滞留 し てぃ る 粗 N F 3 中 に気体状の第三成 分をバ ブ リ ン グ さ せ る 方法が、 0 2 や N 2 な どの 低沸 点成分の除去効 が特に高 く 好 ま し ぃ。 以上第 4 図〜 第 7 図 に示す方法は何れ も 連続式で蒸留す る 方法でぁ る が、 回分式で行な ぅ 場合は、 第 8 図 に示すょ ぅ に 化.さ れだ粗 N F 3 中 に気体状の第三成分をバ ブ'リ ン グ さ せ る 方法、 ぁ る ぃ は第 9 図 に示す ょ ぅ に こ れに撹拌 機を付加 し粗 . N F 3 を撹拌す る 気泡撹拌方式は低沸点 成.分の除去効率が高 く 好ま し ぃ。 液体状の N F 3 に気 体状の第三成分をバ ブ リ ン グ さ せ る 方法を採用す る 場 合は、 そ の気泡が細か く 分散 し て ぃ る ほ ど低沸点成分 の 除去効率が高ぃ の で、 分散ノ ズルな どを使用 し第三 成分をバ プ リ ン グ さ せ る 方法が好ま し ぃ。
上記各方法に ぉぃて深冷蒸留を常圧で行な.ぅ 場合は、 蒸留装置系内への空気の混入を防止す る 必要がぁ る 。 第 1 0 図 は上記各図で示す方法の更に詳細な実施の態 様を示す図で ぁ る が、 常圧で深冷蒸留を行な ぅ 場合 は、 低沸点成分及び第三成分の排気は途中 に水 シール槽を 設け、 こ の水 シ一ル槽をバ プ リ ン グ さ せた後大気中 に 放出す る ょ ぅ に し'てぁ り 、 こ れ に ょ り 蒸留装置系内へ の空気の混入を防止 し て ぃ る 。
本発明で は、 深冷蒸留は N F 3 の一部が液体状態で ぁ る ょ ぅ な温度、 すな ゎ ち N F 3 の 液化温度以下、 凝 固温度以上の温度範囲で、 かっ 、 共存 さ せ る 第三成分 が液化 し な ぃ ょ ぅ な 任意の温度で実施 さ れ る 。 従 っ て、 粗 N F 3 は蒸留塔内 に ぉ ぃ て は そ の一部が液化 し た状 態でな ければな ら な ぃ が、 こ れは蒸留塔を液体窒素、 液体空気、 液体ァ ル ゴ ン な どの冷媒で冷却 . · 保冷す る こ と で実施 さ れ る 。 尚、' 蒸留塔 に フ ィ ー ドす る 時の粗 N 3 め.'状態は、 必ず し も 液化 さ れた状態で な く ガ ス 状で も 良ぃが、 N F 3 の損失を極カ防止す る 上か ら は 液化 さ れ 状態で蒸留塔 に フ ィ ― ドす る のが好 ま し ぃ。
本発明 に ぉ ぃ て は、 蒸留.時の蒸留塔 内 の圧カ は常圧 で行 'な ぅ のが操作 と して は簡便で ぁ る が、 低沸点成分 の,除去効'率.をょ り 向上 さ せ る た め に は減圧下での 蒸留 が好 ま し く 、 高真空に な る ほ ど除去効率が高 く な る 。 蒸留 ^内 を減圧 にす る 手段 と し て は、 例ぇ ば真空 ポ ン プぁ る ぃ は ァ ス ピ レ 一 タ 一な ど通常公知の減圧装置を 用 ぃ て、 蒸留塔塔頂ょ り ^引 す る 方法、 ぁ る ぃ は 、 蒸 留塔塔頂 ょ り 排出 さ れ る 低沸点成分 と 第三成分 と の 混 合ガ ス を液体へ リ ゥ ム な どで液化 さ せ る 方法な どが採 用 e れ る
本発明で は深冷蒸留 に 際 し 粗 N F 3 に共存 さ せ る 第 三成分の量 は特 に 限定 さ れな ぃ が、 0 2 や N 2 な どの 低沸点成分の 除去効果の 点か ら は、 多 ければ多 ぃ ほ ど 好 ま し ぃ。 し カ、 し な カ《 ら 、 こ の第三成分 は ガ ス 化 し た 低沸点成分 と 共 に蒸留塔塔項 ょ り 系外 に排 出 さ れ る 際、 N F 3 も 一部ガ ス 状 と し て 同伴す る 。 従 っ て、 第三成 分の 共存量を增加 さ せ る に従 ぃ N F 3 の損失量が增加 す る の で、 実際上は液状の粗 N F 3 に対 し て、 ガス状 の第三成分が容量比 と し て 0 . 0 1 〜 1 0 の範囲が好 ま し ぃ。 液化、 濃縮ェ程 と 同様に容量比が 0 . 0 1 未 'ί では第三成分ガス 添加の効果が認め ら れず、 - 1 0 を 超ぇ る と N F 3 の損失が大 き ぐな り 好ま し く な ぃ。 第 三成 '分の蒸留 i への供耠方法は特に 限定はな ぐ連続供 ·、 'バ ッ チ供耠、 断続供給の ぃずれで も か ま ゎ な ぃ。 な ぉ、 N F 。 以外の他の フ ッ 化窒素ガスでぁ る、 な ど も 、 そ の均等
Ν 2 F ゃ N F 物 と し て、 本発 明 の精製法を適用 'す る こ と が可能でぁ る
図面の 簡単な説明
1 図及び第 2 図 は本発明 にぉ け る N F 3 を液化 · 縮す る た めの捕集容器に添加ガス を導入す る 方法の 例を示す説明 図でぁ り 、 第 3 図 は実施例及び比較例 に ぉ ぃ て使用 し た、 N F 。 製造の ため の反応装置及び液 化 · 濃縮 置を示すフ ロ 一 シ一 ト でぁ る 。
図 にぉ ぃて、
1 …捕集容器、 2 … 反応ェ程か ら 発生 し た ガス の導入 管、 加ガス導入管、 4 …排気管、
5 … 液化 N F 3 ヽ 6 , Ί 、 . 8 , 9 …弁、 1 0 … 冷媒槽 … 冷媒 s 1 2 …電解槽、 1 3 …隔扳、
1 4 (陽極) 、 1 5 …電極 (陰極) 、
1 6 、 1 7 … 電解浴、 1 8 … 陽極室、
1 9 陰極室、 2 0 , 2 1 … キ ャ リ ャ一ガス 導入管、
2 2 2 3 …弁、 2 4 … 配管、 2 5 …水素ガス放出管 2 6 , 2 7 …弁、 2 8 …水素ガス 濃度計、
2 9 , 3 0 … 圧カ計、 3 1 … H F 除去装置、
3 2 … シ 一ノレ槽、 3 3 … シ一ル液、
3 4 … 排ガ ス大気放出管、 '
を示す'。 - 第 4 図〜第 9 図 は本発明の 各実施の 態様を示す蒸留 装置を示す説明 図で ぁ り 、 第 1 0,図 は各実施例及び比 較例で使用 し 蒸留装置を示す フ ロ ー シ ー ト で ぁ る 。
図 に ぉぃ て、
10' 1.0 0 蒸留塔 ま た は捕集容器、
2 0 Q 粗 フ ッ 化窒素 フ ィ 一 ド ラ ィ ン 、
3 0 0 第三成分 フ ィ 一 ド ラ ィ ン 、
4 0 0 低沸点成分及び第三成分排気 ラ ィ ン 、
5 0 0 樟製フ ッ 化窒素抜出 し ラ ィ ン 、
Τ5· " 6 0 0 保冷容器、
7 0 0 水 シ ール槽、
8 0 0 真空 ポ ン プ 、
9 0 0 常圧排気 ラ ィ ン 、
1 0 0 真空排気 ラ ィ ン 、
0 1 1 0 揷入管、
1 2 0 1 3 0 , 1 4 0 , 1 5 0 , 1 6 0 , 1 7 0
… バルブ
を示す。
発明 を実施す る た め の最良 の 形態
5 以上発明 を実施す る た め の最良の 形態を実施例 に ょ り 具体的 に説明す る 。 な ぉ、 実施例、 比較例 にぉ ぃ て
%、 ppm は容量基準を表す。 な ぉ、 実施例、 比較例 に ぉ け る ガス の分析法はガス ク ロ マ ト グラ フ ィ ー を用 ぃ た。 - - (実施例 1 )
第 3 図に示す装置を用 ぃ て、 溶融塩電解法に ょ り N F 3. の製造を行な っ た。
ノ すな ち 、 電解槽 1 2 に原料 と し て酸性フ ッ 化ァ ン モニ 厶 と 弗化水素を所定量仕込ん だ後、 こ れを
'1 3 0 〜 1 3 5 。Cの温度に昇温 し て N F 4 F * H F 系 の電.解浴 1 7 を形成 し た。 し か る 後、 キ ャ リ ャ一ガス と し て N 2 ガス を、 陽極室 1 8へはキ ャ リ ャ一ガス導 入管.2 0 に て 9 0 〜 1 1 O ml Z inin の流量で、 ま た陰 極室 1 9 へは同 じ く キ ャ リ ャ一ガス導入管 2 1 にて .8 0 〜 9 Ό ml Z m i n の流量で夫々 導入 し なが ら 、 電解 浴 1 7 を上記温度に維持 し た状態で、 陽極 1 4 か ら 陰 極 1 5 に 5 0 ァ ンぺァ の電流を流 し て電解を行な っ た 陽極カ、 ら は約 8 0 ml / m i n の N F n ガスが、 陰-極か ら は ^ 3 5 0 ml Z m i η の Η り ガスが発生 し た。
陰極カ、 ら発生 し た キ ャ リ ャ一ガス ( Ν 2 ) を含ん だ Η 2 ガス は、 水素ガス放出管 2 5 ょ り 大気放出 し た。
—方、 陽極ょ り 発生 し た キ ャ リ ャ一ガス ( Ν 2 ) 等 を含ん だ N F 3 ガス は、 配管 2 4 で H F 除去装置 3 1 に導 き 、 こ こ で含有す る H F を除去 し た後、 導入管 2 に ょ り 捕集容器 1 へ導入 し た。 • 捕集容器 1 は第 3 図 に示す ょ ぅ に 、 冷媒槽 1 0 内 に : 満 た さ れて ぃ る 冷媒 (液体窒素) 1 1 中 に 浸漬 さ れた 状態で予め冷却 さ れて ぃ る 。
こ の 冷却 さ れて ぃ る 捕集容器 1 へ、 上記通 り 1^ 2 ガ 5. ス 等を含ん だ N F 。 ガ を導入す る と 共に、 添加 ガ ス と し て、 11 6 ガス を導入管 3 ょ り 4 0 〜 5 0 1111.// 11^11 ' ' . の 流量で導入 し,、 N F 。 の液化 · 濃縮を行な っ た 。 液 . 化 さ れた N F 3 は捕集容器 1 内 に貯留 さ れ、 H e ガ ス .. . 及び N 2 ガ ス等 は排気管, 4 、 シ 一ル槽 3 2 を経て排ガ 0 ' ス 大気放出管.3 4 ょ り 大 放出 し た。
' 尚、 こ の 間電解槽 1 2 の 陽極車 1 8 内の H 2 濃度を 水素ガ ス 濃度計 に て た ぇず測定 し たが、 電解開始後 1 ひ.0 時間経過 し た時点で も H 2 濃度 は 1 %未満で ぁ り 、 電解 は引続 き 十分続行で き る 状態でぁ っ た。
15 (実旌例 2 ) '
陽極 に導人する キ ャ リ ャ 一 ガス と し て N 2 9 0 〜 1 0 ml Z m i n と 1H e 4 ひ 〜 5 ◦ ml / m i n (添加ガ ス )' の混合ガ ス を使用 し 、 陰極 に導入す る キ ャ リ ャ ー ' ガス と し て N 2 1 2 0 〜 : L 4 0 ml / Diin を導入 し 、
20 液化濃縮ェ程に は、 そ の他の添加ガス を導入 し な か っ た 以外 は実施例 1 と 同様な方法で電解ぉ ょ び N F 3 の 液化濃縮を行 な っ た。
電解開始後 1 0 0 時間経過 し た 時点での電解槽 1 2 の 陽極室 1 8 内 の H ヮ 濃度 は、 実施例 1 と 同 様 1 %未 25 満で ぁ り 、 電解は 引続 き 十分継続で き る 状態でぁ っ た 。 - (実施例 3 )
捕集容器 1 に導入す る 添加ガス を N e ガ ス に変更 し た以外 は、 実施例 1 と 全 く 同様な方法で電解及び
N F 3 の液-化 · 濃縮を行な っ た 。 - 電解開始後 1 0 0 時間経過 た時点での電解槽 1 2 'の 陽極室 1 .8 内の H 2 濃度は、 実施例 1 と 同様 1 %未 満で ぁ り 電解は引続き 十分続行で き る 状態でぁ っ た。
(比較例 1 )
捕集容器 1 への添加ガス の導入をス ト ッ プ し た 以外 . は、 実施例 1 と全 .く 同様な方法で電解及び N F 3 の液 化' · 濃縮を行な っ た と こ ろ 、 電解開始 2 時間後に電解 槽 1 2 の陽極室 1 8 内の H 2 ガス濃度が約 5 % に上昇 し、 爆発限界に近づぃ て非常に危険な状態 と な っ た の で電解を中止せ ざ る を得な か っ た。
(実施例 4 )
市販の活性ァ ル ミ ナ (細孔径 5 人 、 2 4 〜 4 8 メ ッ シ ュ の粒状品 ') を用 ぃ て、 含有す る N 。 0、 C 0 n な どを吸着 · 除去 し た表 - 1 に -示す品質の粗三 フ ッ 化窒 素 ( N F 3 ) を、 第 1 0 図 に示す装置を用 ぃ て深冷蒸 留 に ょ り 精製 し た。
すな ゎ ち 、 保冷容器 6 0 0 に液体窒素を満た し て捕 集容器 1 0 0 (内容積 l i? ) を冷却 し たの ち 、 該捕集. 容器 に表 - 1 に示す品質の ガス状の N F n と 第三成分 と し て へ リ ゥ ム ガ ス を そ れ ぞ れ 5 O ml Z min 及 び 3 ml Z min の 流量で、 ラ ィ ン 2 0 0 及び 3 0 0 を通 じ て フ ィ ー ド し た。 捕集容器内で N F 3 は液化 し 、 共存 さ せたへ リ ゥ ム ガス及び分留 し た ガス状の 低沸点成分 (酸素、 窒素な ど) は水 シ ール槽 7 0 0 を通 し て排気 ' . さ れた ( し た.が っ て系 内 はほ ぼ大気圧 に保た れて ぃ る 。
5 ) 0 - F.g ガス の フ ィ ― ド量が 1 0 0 g に達 し た 時点で、 , バノレ ブ 1 2 0及び 1 .3 0 を 閉 じ て N F 3 ガ ス 及 びべ リ ゥ ム ガス の フ ィ 一 ドを ス ト ッ プ し 、 水 シ 一ル槽 7 0 0 ': に至 る..ハ'ノレ ブ 1 6 0 を閉 :じ た め ち 、 バル ブ 1 7 ◦ を開 . • 1.CT ぃ て真皁ポ, ン プ 8 0 0 に て系 内 の ガ ス 状低沸点成分及 ' - びへ リ.ゥ ム ガ ス を排気 し た。 排気完了後、 捕集容器
1 0 0 を常温 に戻 し て捕集容器 1 0 0 内 の液化 N F 3 を ガス し て分析 し た。 そ の結杲 は表 - 2 に示す如 く ' 酸素及び窒素 は大幅 に 除去 さ れて ぃ た。
45. , . (実施例.5 )
実施例 4 で使用 し'た装置 (第 1 0 図) を使用 じ て、 へ リ ゥ ム ガス及び深冷蒸留 に ょ り 発生 し た ガ ス 状 の 低 ' 沸点成分の 排気を水 シ 一ル槽 7 0 ◦ を通 して行 な ぅ 代 ゎ り 'に 、 真空 ポ ン プ 8 0 0 を使用 し て ラ ィ ン 1 0 0 に 20 ょ り 排気 し 捕集容器 1 0 0 内 を減圧 と し た以外 は、 実 ' - 施例 3 と 同一条件及び方法で表 - 1 に示す品質の粗 . N F 3 の 深冷蒸留を行な っ た。 尚、 深冷蒸留時の系 内 圧カ は 1 O mmHg absで ぁ っ た。 捕集容器 1 0 ◦ 内の N F 3 を ガ ス 化 し 分析 し た結果 は、 表 - 2 に示す通 り 25 酸素及 び窒素の 含有量 は実施例 4 ょ り さ ら に大 き く 減 少 し てぃ た。
(実施例 6 )
第 1 0 図 に示す装置に ぉ ぃ て、 揷入管 1 1 0 を捕集 容器 1 0.0の底部ま で延長 し 、 液-化 し た N F 3 中 にへ リ ゥ ム ボス をノ ブ リ ン グで きる ょ ぅ に改造 し た。
保冷容器 6 0 0 に液体.窒素を満た し て捕集容器 1 0 0 を冷却 し た の ち 、 こ の 捕集容器 1 0 0 へ表 - 1 に示す品質の ガス状の粗 N F 3 1 0 0 g を フ ィ ー ド し - て捕集容器 1 で液化 さ せた。. こ の液化 さ せた粗 N F 。
中 に、 へ リ ゥ ム ガス を 1 ◦ 0 ml Z m i n の流量で 3 ひ分 間 フ ィ 一 ド し バ ブ リ ン グ さ せた。 尚、 へ リ ゥ ム ガス及 び気化 し た低沸点成分は、 実施例 1 と 同様水 シール槽 7 0 0 を通 して排気 さ せた (系内圧カ は大気圧) 。 H e Z N F 3 の比 は容量比で約 0 . 1 でぁ る 。
以下実施例 4 と 同様に して、 系内を真空ポ ン プ-
8 Q 0 で排気 し て共存ガス を除去 し た。 得 ら れた液化 ' N F 3 を実施例 4 と 同様気化 し分折 し た と こ ろ 、 そ の 結果は表 - 2 に示す通 り で、 酸素及び窒素が大幅に除 去 さ れた高純度の N F 3 が得 ら れた。
(実施例 7 )
実施例 6 の方法に ぉ ぃ て、 へ リ ゥ ム ガス の バ プ リ ン グ時 も 真空ポ ン プ 8 0 ◦ を使用 し、 バ プ リ ン グ時の系 内圧カ を 1 0 ◦ mmHg absに し た以外 は実施例 6 と 同ー な条件及び方法で深冷蒸留を行 っ た。 得 ら れた N F 3 ガ ス の分析値 は表 - 2 に示す通 り 、 酸素及び窒素の 含 有量 は微量で極めて高純度の N F 3 ガス が得 ら れた 原料粗 N F 3 の不純物量
表 - 1
不純物含有量
N 2 0 . 1 0 p p m 以! ^
C ° 2 1 0. p p m以 "
0 2 2 . 3 %
N 2 6 . 6 %.
¾ - 2
Figure imgf000027_0001
(比較例 2 )
第三成分で ぁ る へ リ ゥ ム ガ ス の フ ィ 一 ドを ス ト ッ プ す る 以外 は実施例. 4 と 同ーの操作を行な っ た と こ ろ 、 得 ら れた N F 3 ガス 中 の 酸素及び窒素の 含有'量 は表 - 3 に示す通 り でぁ り 、 ほ と ん ど除去 さ れな か っ た。 ( k 較例 3 )
へ リ ゥ ム ガ ス の フ ィ 一 ド を ス ト ッ プす る 以外 は実施 例 5 と 同一の 操作を行 な っ た と こ ろ 、 得 ら れた N F 3 ガス 中の酸素及び窒素の 含有量は表 - 3 に示す通 り で ぁ り 、 そ の除去率は比較例 2 程で はな ぃ も の の かな り 不十分でぁ っ た。
- 表 - 3
不純物含有量
比較例 2 . 比較例 3
N 2 0 1 0 p p m 以下 1 0 p pi 以下
C 0 2 1 0 ρ ρ ι 以下 1 0 p p m 以下
0 2 1 . 0 % 0 . 5 %
N 2 6 , 5 % 2 . 5 % 産業上の利用可能性
本発明 に ぉげる N F 3 の液化 * 濃縮方法に従ぇば、 N F 3 の製造にぉ け る 反応ェ程に ぉ ぃ て予めキ ャ リ ャ — ガス 自 体 に H e及び Z又は N. e の ょ ぅ な窒素ょ り 低 沸点で、 かっ N F 9 と 相互溶解性の な ぃ ガス を使用す る カ、、 窒素ガス の ょ ぅ な他の キ ャ リ ャ ー ガス に H e 及 び Z又は N e を含ま せてぉ く か、 接続す る N F 。 の 冷 却ェ程 (液化濃縮ェ程) に ぉぃ て、 N F 3 と キ ャ リ ャ ーガス と の混合ガス を冷却ェ程に導 き 、 こ こ で H e 及 び 又は N e の ょ ぅ な ガス を添加す る カ、に ょ っ て、 こ の ょ ぅ な ガス の共存下で、 該 N F 。 ガス を液化 · 濃縮 さ せ る と ぃ ぅ 極めて簡単な方法が提供 さ れ る 。
従来の方法では、 生成 し た N F 3 ガス 中 に H り ガ ス な どが混入 し 爆発の危険が伴な ぅ と か、 こ の危険を防 止す る た め に長時間の連铳運転が不可能で ぁ っ た が、 本発明の方法を実施す る こ と に ょ り 実施例が示す如 く N F 3 の製造 に ぉ ぃ て上記爆発の危険性を全 く 解消 し 安全 に長時間 'の連続運転が.可能 と な り 、 そ の産業上の 利用可能性 は高ぃ。
ま た、 本発明 ぉ け る N F 3 の精製方法 に従ぇ ば、 へ リ .ゥ ム 、 ,ネ ォ ·'ン 、 ァ ノレ ゴ ン な どの ょ ぅ な フ ッ 化窒素 と 相互溶解性の な ぃ第三成分を共存 さ せて、 粗 N F 3 を深?合蒸留す る.方,法で .ぁ り 、 こ れに ょ っ て従来の精製 15法で は不可 ^でぁ っ た'、 粗 N. F 3 中の 0 9. や N 2 な :ノどの 低沸点成分の除去を可能に し た も の で ぁ る 。 . そ し て、 実施例が示す如 く 上記深冷蒸留 に ぉ ぃ て、 こ れを減圧下で寒施す る と か、 第三成分を液化 し た粗 N F 3 中 に バ ブ リ ン グす る 方法を採用すれば、 低沸点 .. 成分 は極め て効率 ょ ぐ分離 ♦ 除去す る こ と が 'で き る 。
' 尚'、 粗 N F '3 中に 含 ま れる N n 0、 C 0 な どの ょ ぅ な 低沸点成分以外の 不純物は、 活性ァ ル ミ ナ 、 ゼォ ' ラ ィ ト な どの 吸着剤 と 接触さ せ る 他の 公知の精製方法 と 本発明 の方法を組合せ る こ と に ょ っ て、 例ぇ ば 9 9 . .9 9 %以上 と ぃ ぅ 極め て高純度 な電子材'料用 途 と して好適な フ ッ 化窒素を得 る こ とができ る の で ぁ る 電子材料分野で C V D装置の ク リ ー ニ ン グ剤 と し て の用途な ら 、 9 9 . 9 % の N F 3 で も 使用 し 得 るが、 C V D に 使用 す る 他 の ガ ス は 9 9 . 9 9 %以上の も の を使用 し て ぃ る の で 、 9 9 . 9 %の N F P を使用 す る と 、 こ tlにょ る 炉の汚染 も考ぇ ら れ る ので 9 9 . 9 9 %以上の純度の N F 3 を使用す る こ と が好ま し ぃ。
ま た超 L S I 甩の ド ラ ィ ェ ッ チ ン グガス と し て は 9- 9 . 9 9 %以上の純度の N F 3 でな ぃ と 使用で き な ぃ。
こ の様な高純度な N F 3 は現在迄得 ら れてぉ ら ず、 電子材料分野の最近め所望に十分対応で き る も のでぁ り 、 そ の産業上の利用可能性は大き ぃ。

Claims

求 の 範 囲
1 . 三弗化窒素の 液化 ♦ 濃縮方法 に し て、 三弗化 窒素ガス と キ ャ リ ャ一ガ ス と の混合ガ ス を冷却ェ程 に 導 き 、 窒素ガス ょ り 低沸 で かっ三弗化窒素 と 相互溶 解性の な ぃ ガス の.共存下ャ該混合ガス を冷却 し て、 三 弗 化窆素を主体 と す る液化三弗化窒素を得、 該得 ら れ た液化三弗化窒素を回収す る こ と か ら な る 、 三弗化窒 素の 液.化 ♦ 濃縮方法。 :
'..'2 , ' ' - ≡弗 窒素の反応ェ程 に お ぃ て、 三弗 化窒素 ¾:.中に:導入する:'キ ャ .リ ャ ー ガ ス と し てへ リ ゥ ム及び Z又は ネ ォ ン ガス 自 体を使用 す る か、 へ リ ゥ ム及び Z 又はネ ォ'ン を含ん だキ ャ リ ャ ー ガス を使用 し 、 こ の キ ャ リ ャ 一 ガス と 三弗化窒素ガス の混合ガ ス を冷却ェ程 に導 く こ に ょ っ て、 該冷却ェ程でへ リ ゥ ム 及び /又 は ネ ォ ン ガス を共存 さ せ る 請求の範囲第 1 項記載の方
3 . 三弗 化窒素の 反応ェ程 に ぉ ぃ て、 三弗 化窒素 ガス 中 に導入す る キ ャ リ ャ 一 ガ ス と し て窒素及 び 又 は ァ ル ゴ ン ガス を使角 し 、 こ の 混合ガ ス を冷却ェ程 に 導 き、 該ェ程でへ リ ゥ ム及 び /又 は ネ ォ ン ガ ス を添加 して 、 該ェ程でへ リ ゥ ム及び Z又 は ネ ォ ン ガ ス を共存 さ せ る 請求の 範囲第 1 項記載の方法。
4 . キ ャ リ ャ 一 ガ ス が窒素、 ァ ノレ ゴ ン 、 へ リ ゥ ム ネ ォ ン ょ り な る 群か ら 選択 さ れた 1 種又 は 2 種以上で ぁ る 請求の範囲第 1 項記載の方法。
5 . 窒素ガス ょ り 低沸点で、 かっ三弗化窒素と 相 互溶解性の な ぃ ガスが、 へ リ ゥ ム、 ネ ォ ン カ、 ら 選択 さ れ る 1 種又は 2 種でぁ る 請求の範囲第 1 項記載の方法。
6 . 三弗化窒素ガスが溶融塩電解法に ょ り 得 ら れ る請求の範囲第 1 項記載の方法。
7: 三弗化窒素ガス が、 フ ッ 素系樹脂か ら な る 隔 板ま た は フ ッ 素系樹脂で表面が コ 一テ ィ ン グ さ れた隔 扳を備ぇた、 電解槽を使用 し た溶融塩電解法に ょ り 得 ら れ る請求の範囲第 4 項記載の方法。
8 . 溶融塩電解法に ょ り 得 ら れ る 三弗化窒素ガス と キ ャ リ ャ一ガス と の混合ガス を連続的 に冷却ェ程に 導 く 請求の範囲第 4 項記.載の方法。
.
9 . 窒素ガス ょ り 低沸点で、 かっ三弗化窒素 と 相 互溶解性のな ぃ ガス を三弗化窒素に対 し容量比で
0 . 0 1 〜 1 0 共存 さ せ る 請求の範囲第 1 項記載の方 法 o -
1 0 . 三弗化窒素の精製方法に し て、 不純物ガス が混入 し た三弗化窒素ガス を冷却 ♦ 液化 し ま た は液化 三弗化窒素を使用 し 、 液化三弗化窒素を、 三弗化窒 素ょ り 低沸点でかっ 三弗化窒素 と相互溶解性の な ぃ第 三成分ガス の共存下で深冷蒸留す る 、 三弗 化窒素の精 製方法。
1 1 . 不純物ガス が酸素 ま た は窒素でぁ ¾ 請求の 範囲第 1 0 項記載の方法。 ,
1 2 . 第三成分ガ ス が 、 へ リ ゥ ム 、 ァ ノレ ゴ ン 、 ネ ォ ン か ら 選択 さ れ る 請求の範囲第 1 0 項記載の方法。
1 3 . 第三成分ガ ス を液化三弗化窒素中 に バ ブ リ ン グ さ せ る 請求の範囲第 1 0.項記載の 方法。
"•1 4 . 深冷蒸留が減圧下 に行ゎれ る 請求の範囲第 1 0 項記載の方法。 .
' .1 ' 5 : 深.冷蒸留が単蒸留で ぁ る 請求の 範囲第 1 0 項記載の方法。
1 6 .. 三弗'化窒素,ガス が溶融塩電解法 に ょ り 得 ら れ る 請求の .範囲第 1 0 項記載の方法。
1 . 三弗化窒素ガス が、 フ ッ 素系樹脂カ、 ら な る 隔板 ま た は フ ッ 素系樹脂で表面が コ ーテ ィ ン グ さ れた 隔扳を備ぇ た 、 電解槽を使用 し た溶融塩電解法 に ょ り
' 得 ら れ る 請求の範囲第 1 6 項記載の方法。
1 s . · .第.三成分ガス を三弗化窒素 に対 し 容暈比で ■
〇 . 0 1 〜 1 0 共存 さ せ る 請求の範囲第 1 0 項記載の 方法 o
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