TWI769364B - 用於攪拌鍍覆液的槳葉及具備槳葉的鍍覆裝置 - Google Patents

用於攪拌鍍覆液的槳葉及具備槳葉的鍍覆裝置 Download PDF

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Abstract

本案提供一種槳葉、鍍覆裝置及鍍覆方法，通過攪拌鍍覆液的槳葉， 提高面內均勻性。根據一個實施方式，提供一種用於對具有非圖案區域的基板進行電鍍的鍍覆裝置，所述鍍覆裝置具有：用於保持鍍覆液的鍍覆槽；以與電源的正極連接的方式構成的陽極；和為了對保持在上述鍍覆槽內的鍍覆液進行攪拌而能夠在上述鍍覆槽內運動的槳葉，上述槳葉構成為在攪拌鍍覆液時，從上述陽極觀察而基板的非圖案區域的至少一部分始終被遮蔽。

Description

用於攪拌鍍覆液的槳葉及具備槳葉的鍍覆裝置
本案涉及用於攪拌鍍覆液的槳葉(paddle)及具有槳葉的鍍覆裝置。另外，本案涉及在電鍍時以槳葉攪拌鍍覆液的方法及鍍覆方法。
在半導體器件的製造中，依據SEMI標準等對圓形基板實施各種處理來形成半導體器件。另一方面，近年來，不使用圓形基板而是使用方形基板來製造半導體器件。通過使用尺寸大的方形基板，而能夠在一個基板上形成多個器件。圖1示出四邊形的基板Wf的一個例子。圖1所示的方形基板Wf具有六個圖案區域302，各個圖案區域302被非圖案區域304包圍。在此圖案區域是指基板上的作為器件使用的區域，非圖案區域是指基板上的不作為器件使用的區域。在器件的製造中，基板被搬送到多個處理裝置，在各個處理裝置中被實施各種處理。在搬送基板時，典型的是支承設在基板外周部上的非圖案區域來保持基板而使基板移動。若基板的尺寸大，則當在外周部的非圖案區域處支承基板時，基板有時會撓曲或翹曲，而有可能給圖案區域的器件造成影響。因此，在使用尺寸大的方形基板的情況下，如圖1所示，有時不僅在基板的外周 部上、還在內側區域上設置非圖案區域，在搬送基板時，不僅支承基板的外周部的非圖案區域，還支承基板的內側區域的非圖案區域來搬送基板。
另外，在半導體器件的製造中，有時會使用電鍍。根據電鍍法，容易得到高純度的金屬膜(鍍覆膜)，而且金屬膜的成膜速度比較快，金屬膜的厚度控制也能夠比較容易地進行。在向半導體晶片上形成金屬膜的過程中，為了追求高密度安裝、高性能化以及高成品率，也會要求膜厚的面內均勻性。根據電鍍，期待能夠通過使鍍覆液的金屬離子供給速度分佈和電位分佈均勻而得到膜厚的面內均勻性優異的金屬膜。在電鍍中，為了控制鍍覆液中的電場，有時會使用由電介體材料等形成的調整板。另外，在電鍍中，為了將足夠量的離子均勻地供給到基板，有時會攪拌鍍覆液。已知一種為了一邊控制鍍覆液中的電場一邊攪拌鍍覆液而具有調整板及攪拌用的槳葉的鍍覆裝置(專利文獻1)。
[先前技術文獻]
專利文獻1：日本特開第2009-155726號公報
[發明所欲解決之問題]
如上述那樣，在電鍍中，已知一種在通過調整板控制電場的同時一邊以槳葉攪拌鍍覆液一邊進行電鍍的方法。在進行電鍍時，若在基板的內側存在大的非圖案區域，則在其附近的鍍覆區域中，通過電鍍形成的鍍覆膜的厚度具有變大的傾向，在以往的基於調整板進行的電場控制中，有時會無法實現充分均勻 的鍍覆。本案的目的之一在於通過攪拌鍍覆液的槳葉來提高面內均勻性。
根據一個實施方式，提供一種用於對具有非圖案區域的基板進行電鍍的鍍覆裝置，所述鍍覆裝置具有：用於保持鍍覆液的鍍覆槽；以與電源的正極連接的方式構成的陽極；和為了對保持在上述鍍覆槽內的鍍覆液進行攪拌而能夠在上述鍍覆槽內運動的槳葉，上述槳葉構成為在攪拌鍍覆液時，從上述陽極觀察而基板的非圖案區域的至少一部分始終被遮蔽。
10:鍍覆槽
12:溢流槽
26:陽極
30:電源
34:調整板
100:槳葉
102:長孔
104:格子部
106:外周部
107:外周部
120:肋
122:安裝部
130:螺釘
220:縱肋
222:安裝部
230:螺釘
302:圖案區域
304:非圖案區域
Wf:基板
圖1是表示四邊形的基板的一個例子的主視圖。
圖2是概略地表示一個實施方式的鍍覆裝置的圖。
圖3是從正面(圖2的橫向)表示圖2所示的槳葉的圖。
圖4是將圖3所示的肋的安裝部的部分放大示出的立體圖。
圖5是表示將圖4所示的肋安裝到槳葉之前的狀態的立體圖。
圖6是表示將圖4所示的肋安裝於槳葉後的狀態的主視圖。
圖7是將一個實施方式的安裝有肋的槳葉與基板一起示出的主視圖。
圖8是表示一個實施方式的安裝有肋的槳葉的主視圖。
圖9是表示一個實施方式的安裝有肋的槳葉的主視圖。
圖10是將圖9所示的縱肋的安裝部的部分放大示出的立體圖。
圖11是表示將圖10所示的縱肋安裝到槳葉之前的狀態的立體圖。
圖12是表示一個實施方式的具有縱肋的槳葉的主視圖。
圖13是將圖12所示的縱肋的安裝部的部分放大示出的立體圖。
圖14是表示將圖13所示的縱肋安裝到槳葉之前的狀態的立體圖。
圖15是將一個實施方式的槳葉的驅動機構與鍍覆槽一起示出的圖。
以下，與附圖一起說明本發明的用於攪拌鍍覆液的槳葉、及具有槳葉的鍍覆裝置的實施方式。在附圖中，對相同或類似的元件標注相同或類似的附圖標記，在各實施方式的說明中有時會省略與相同或類似的元件相關的重複說明。另外，在各實施方式中示出的特徵只要不相互矛盾則也能夠適用於其他實施方式。
圖2是概略地表示一個實施方式的鍍覆裝置的圖。鍍覆裝置例如能夠是用於使用含硫酸銅的鍍覆液Q在半導體基板的表面上鍍銅的鍍覆裝置。如圖2所示，鍍覆裝置具有在內部保持鍍覆液Q的鍍覆槽10。在鍍覆槽10的上方外周具有承接從鍍覆槽10的邊緣溢出的鍍覆液Q的溢流槽12。在溢流槽12的底部連接有具有泵14的鍍覆液供給路16的一端，鍍覆液供給路16的另一端與設在鍍覆槽10的底部的鍍覆液供給口18連接。由此，積存在溢流槽12內的鍍覆液Q伴隨著泵14的驅動而回流到鍍覆槽10內。在鍍覆液供給路16上設有位於泵14的下游側且對鍍覆液Q的溫度進行調節的恆溫單元20、和將鍍覆液內的異物過濾並除去的過濾器22。
在鍍覆裝置中具有基板保持件24，該基板保持件24裝拆自如地保持基板(被鍍覆體)Wf，使基板Wf以鉛垂狀態浸漬於鍍覆槽10內的鍍覆液Q。在鍍覆槽10內的與由基板保持件24保持且浸漬於鍍覆液Q中的基板Wf相對的位置處，以被陽極保持件28保持且浸漬於鍍覆液Q中的方式配 置有陽極26。作為陽極26，在本例中，使用含磷銅。基板Wf和陽極26經由鍍覆電源30而電連接，通過使電流在基板Wf與陽極26之間流動而在基板Wf的表面上形成鍍覆膜(銅膜)。
在以由基板保持件24保持且浸漬於鍍覆液Q中的方式配置的基板Wf與陽極26之間，配置有與基板Wf的表面平行地往復運動而攪拌鍍覆液Q的槳葉100。像這樣，通過以槳葉100攪拌鍍覆液Q，而能夠將足夠的銅離子均勻地供給到基板Wf的表面。槳葉100與基板Wf之間的距離較佳為1mm~20mm。而且，在槳葉100與陽極26之間配置有用於使基板Wf整面範圍內的電位分佈更加均勻的由電介體構成的調整板(調節板)34。
圖3是從正面(圖2的橫向)表示圖2所示的槳葉100的圖。槳葉100由板厚(圖2的橫向尺寸)為3mm~12mm的具有固定厚度的矩形板狀部件構成。如圖3所示，槳葉100構成為在內部平行地設有多個長孔102，且具有沿鉛垂方向延伸的多個格子部104。如圖3所示，槳葉100的多個長孔102被外周部106、107包圍。為方便起見將長孔102的橫截方向的外周部記載為外周部106，將長孔102的長度方向的外周部記載為外周部107。槳葉100的材質能夠為例如對鈦實施了鐵氟龍(註冊商標)塗層而得到的材質。槳葉100的垂直方向的長度L1及長孔102的長度方向的尺寸L2被設定為比基板Wf(參照圖1)的垂直方向的尺寸足夠大。另外，槳葉100的橫向的長度H被設定為比槳葉100的往復運動(沿圖3的左右方向往復運動)的振幅(行程St)與基板Wf的橫向尺寸的合計長度足夠大。
較佳的是，長孔102的寬度及數量以如下方式確定：在格子部104具有所需剛性的範圍內使格子部104盡可能變細，以使得長孔102與長孔 102之間的格子部104高效地攪拌鍍覆液，且鍍覆液高效地從長孔102通過。另外，即使是為了減少當在槳葉100的往復運動的兩端附近槳葉100的移動速度變慢或者瞬間停止時在基板Wf上形成電場遮蔽區(不受電場的影響、或電場的影響少的部位)的影響，使槳葉100的格子部104變細也是重要的。
為了能夠使調整板34接近基板Wf，而期望使槳葉100的厚度(板厚)t薄，例如能夠為3mm~12mm。在一個實施方式中，槳葉100的厚度t能夠為6mm。另外，通過使槳葉100的厚度t均勻，而能夠防止鍍覆液Q跳起和鍍覆液的大幅晃動。另外，在槳葉100的形成有長孔102的區域的上方，具有橫向尺寸相對小的頸部150。在頸部150上如後述那樣固定有夾子36。
在一個實施方式中，如圖3所示，槳葉100具有沿槳葉100的橫向(長孔102的橫截方向)延伸的肋120。在圖示的實施方式中，肋120設有兩個。在一個實施方式中，肋120能夠拆下地安裝於槳葉100。另外，在一個實施方式中，肋120構成為能夠沿高度方向(圖3的上下方向、長孔102的長度方向)調整安裝位置。在圖示的實施方式中，肋120安裝於橫向的外周部106。肋120具有用於安裝於槳葉100的安裝部122。在圖示的實施方式中，安裝部122是設在肋120的兩端的T字狀的部分。圖4是將肋120的安裝部122的部分放大示出的立體圖。圖5是表示將肋120安裝到槳葉100之前的狀態的立體圖。圖6是表示將肋120安裝於槳葉100後的狀態的主視圖。如圖5所示，安裝部122具有兩個凹部124。凹部124為能夠收進後述的螺釘130的螺釘頭132的尺寸。另外，在圖示的實施方式中，凹部124在槳葉100的高度方向上形成為比螺釘頭132大的尺寸。在各凹部124的底面分別形成有貫穿孔126。在圖示的實施方式中，貫穿孔126形成為在槳葉100的高度方向上尺寸 大的長孔。另外，在槳葉100的外周部106形成有收進螺釘130的螺釘孔108。如圖5所示，在將肋120安裝到槳葉100時，從肋120的安裝部122的貫穿孔126通過而將螺釘130插入於槳葉100的螺釘孔108。由於安裝部122的凹部124及貫穿孔126在槳葉100的高度方向上尺寸大，所以能夠在高度方向上調整肋120向槳葉100的安裝位置。如圖4及圖5所示，肋120具備與槳葉100的格子部104嚙合的凹部128。如圖4所示，肋120在安裝於槳葉100的狀態下，肋120的表面向陽極26側突出。
圖7是將安裝有肋120的槳葉100與基板Wf一起示出的主視圖。圖7示出了如圖2所示那樣在鍍覆槽10內對基板Wf進行電鍍時的、槳葉100及基板Wf的相對配置。此外，在圖7中，為了將圖示明確化而省略了槳葉100、肋120及基板Wf以外的結構。如圖7所示，肋120以與基板Wf的內側區域的橫向的非圖案區域304重疊的方式安裝於槳葉100。在圖示的實施方式中，槳葉100通過沿圖7的左右方向往復運動，而對鍍覆槽10內的鍍覆液Q進行攪拌。在進行電鍍時，陽極26與基板Wf之間的電場被肋120遮蔽。由於肋120沿槳葉100的運動方向延伸，所以在電鍍中基板Wf的內側區域的橫向的非圖案區域304始終被肋120遮蔽。由此，在被肋120遮蔽的非圖案區域304中，由於電場被遮蔽，所以與不存在肋120的情況相比形成的鍍覆膜被形成得薄。如上述那樣，當在基板Wf的內側存在有大的非圖案區域304時，在其附近的鍍覆區域中，形成的鍍覆膜的厚度具有變大的傾向。在本實施方式中，通過遮蔽基板的非圖案區域304，而能夠使在非圖案區域304附近形成的鍍覆膜厚變薄，其結果為能夠形成膜厚更加均勻的鍍覆膜。另外，通過肋120而能夠提高槳葉100的機械強度。此外，如上述那樣，能夠調整肋120的高度方向 的位置，從而能夠根據進行電鍍的基板Wf的非圖案區域304的位置而進行變更。此外，由於肋120能夠相對於槳葉100裝拆，所以也可以事先準備肋120的(縱向的)寬度不同的多種肋120，根據要處理的基板Wf的非圖案區域304的寬度而更換成適當大小的肋120來使用。如上述那樣，圖案區域是指基板上的作為器件使用的區域，非圖案區域是指基板上的不作為器件使用的區域。基板上的作為/不作為器件使用是指，作為/不作為形成在基板上的最終器件使用。因此，在形成基板上的器件的中途階段，在不作為最終器件使用的非圖案區域上也可能形成不作為最終器件發揮功能的虛設佈線等。例如在電鍍中，典型的是在基板上塗布保護層，在保護層的開口部處形成鍍覆膜。通常形成有鍍覆膜的部分成為電路佈線、電極等，而成為最終器件的一部分。但是，出於為了將鍍覆膜均勻化等理由，有時也在不作為最終器件使用的非圖案區域上設置保護層的開口部，從而也在非圖案區域上形成鍍覆膜。
圖8是表示一個實施方式的安裝有肋120的槳葉100的主視圖。在圖8所示的實施方式中，除了圖3、7所示的兩個肋120以外，還具有配置在槳葉100的長孔102的上下方向的上端及下端的肋120。上述的配置在上端及下端的肋120的尺寸是任意的，可以與已述的肋120相同，也可以不同，向槳葉100的安裝能夠通過與已述的肋120相同的構造來進行。通過配置在上端及下端的肋120，而能夠始終遮蔽存在於基板Wf的上端及下端的非圖案區域304。
圖9是表示一個實施方式的具有肋的槳葉100的主視圖。圖9所示的實施方式的槳葉100除了圖3及圖7所示的橫向的兩個肋120以外，還具有縱向的縱肋220。
在圖9所示的實施方式中，縱肋220能夠以可裝拆的方式安裝於槳葉100。另外，在一個實施方式中，縱肋220構成為能夠沿橫向(圖9的左右方向)調整安裝位置。在圖示的實施方式中，縱肋220安裝於縱向的外周部107。縱肋220具有用於安裝於槳葉100的安裝部222。在圖示的實施方式中，安裝部222是設於縱肋220的兩端的T字狀的部分。圖10是將縱肋220的安裝部222的部分放大示出的立體圖。圖11是表示將縱肋220安裝到槳葉100之前的狀態的立體圖。如圖11所示，安裝部222具有貫穿孔226。在圖示的實施方式中，貫穿孔226形成為在槳葉100的橫向上尺寸大的長孔。另外，在槳葉100的縱向的外周部107形成有收進螺釘230的螺釘孔109。如圖11所示，在將縱肋220安裝到槳葉100時，從安裝部222的貫穿孔226通過而將螺釘230插入於槳葉100的螺釘孔109。由於安裝部222的貫穿孔126相對於螺釘230在槳葉100的橫向上尺寸大，所以能夠沿橫向調整縱肋220向槳葉100的安裝位置。如圖10及圖11所示，縱肋220的橫向尺寸(寬度)比槳葉100的格子部104的橫向尺寸大。但是，作為一個實施方式，縱肋220的寬度可以與格子部104的寬度相同，也可以比其窄。在圖10所示的實施方式中，縱肋220的深度方向的尺寸(圖2的左右方向)與槳葉100的格子部104的深度方向的尺寸相同。換言之，圖10的縱肋220沒有如圖4所示的橫向的肋120那樣向陽極26側突出，縱肋220的表面和圖4所示的格子部104的表面為相同的高度，即存在於同一表面上。此外，圖9~圖11所示的縱肋220的安裝部222也可以與圖4、5所示的肋120的安裝部122同樣地，作為具有凹部的結構而構成為在所述凹部的底面形成貫穿孔226。另外，在圖9中，在槳葉100上安裝有橫向的肋120及縱向的縱肋220雙方，作為其他實施方式，也可以為僅 安裝有縱向的肋220的槳葉100。
圖9將安裝有縱肋220的槳葉100與基板一起示出。圖9示出了如圖1所示那樣在鍍覆槽10內對基板Wf進行電鍍時的、槳葉100及基板Wf的相對配置。此外，在圖9中，為了將圖示明確化而省略了槳葉100、肋120、縱肋220及基板Wf以外的結構。圖9所示的槳葉100通過在鍍覆槽10內沿左右方向往復運動，而攪拌鍍覆槽10內的鍍覆液Q。安裝有縱肋220的槳葉100的往復運動的行程被確定為，在槳葉100位於行程末端時，縱肋220和基板Wf的左右方向的外側區域的非圖案區域304從陽極26側觀察而重疊。圖9中，槳葉100處於左方的行程末端，右側的縱肋220與基板Wf的右側的縱向的非圖案區域304重疊。槳葉100從圖9所示的行程末端向右方移動，左側的縱肋220移動至與基板Wf的左側的縱向的非圖案區域304重疊的相反側的行程末端。因此，在槳葉100處於行程末端時，縱肋220與基板Wf的外側區域的縱向的非圖案區域304重疊。在槳葉100往復運動時，在處於行程末端時槳葉100瞬間停止。因此，在進行電鍍時，在槳葉100處於行程末端時，陽極26與基板Wf之間的電場被縱肋220遮蔽。由此，在行程末端中被縱肋220遮蔽的非圖案區域中，由於電場暫時被遮蔽，所以與不存在縱肋220的情況相比形成的鍍覆膜被形成得薄。如上述那樣，若在基板Wf的內側存在大的非圖案區域，則在其附近的鍍覆區域中，形成的鍍覆膜的厚度具有變大的傾向。在本實施方式中，通過遮蔽基板的非圖案區域，而能夠使在非圖案區域附近形成的鍍覆膜厚變薄，其結果為能夠形成更加均勻的膜厚的鍍覆膜。此外，如上述那樣，能夠調整縱肋220的橫向位置，從而能夠根據進行電鍍的基板Wf的非圖案區域的位置而進行變更。
圖12是表示一個實施方式的具有縱肋220的槳葉100的主視圖。圖12所示的實施方式的槳葉100除了圖3及圖7所示的橫向的兩個肋120以外，還具有縱向的縱肋220。圖12所示的實施方式的縱肋220除了安裝部222以外，能夠設為與圖9-圖11所示的縱肋220相同。因此，在圖12的實施方式中，對安裝部222以外的部分省略說明。
在圖12所示的實施方式中，縱肋220能夠以可裝拆的方式安裝於槳葉100。另外，在一個實施方式中，縱肋220構成為能夠沿橫向(圖9的左右方向)調整安裝位置。圖13是將縱肋220的安裝部222的部分放大示出的立體圖。圖14是表示將縱肋220安裝到槳葉100之前的狀態的立體圖。在圖示的實施方式中，縱肋220安裝於槳葉100的縱向的外周部107。如圖13、圖14所示，在槳葉100的外周部107形成有沿縱向延伸的貫穿孔111。如圖14所示，在縱肋220的縱向的端部形成有螺釘孔232。如圖14所示，在將縱肋220安裝到槳葉100時，從形成在外周部107的貫穿孔111通過而將螺釘230插入於縱肋220的螺釘孔232。由於外周部107的貫穿孔111相對於螺釘230在橫向上尺寸大，所以能夠沿橫向調整縱肋220向槳葉100的安裝位置。
圖15是將槳葉100的驅動機構與鍍覆槽10一起示出的圖。槳葉100通過固定在槳葉100的頸部150上的夾子36而固定於沿水準方向延伸的軸38。軸38構成為能夠被軸保持部40保持且沿左右滑動。軸38的端部與使槳葉100沿左右直線前進往復運動的槳葉驅動部42連結。槳葉驅動部42例如能夠為將馬達44的旋轉通過曲柄機構(未圖示)轉換成軸38的直線前進往復運動的部件。在本例中，具有通過控制槳葉驅動部42的馬達44的旋轉速度來控制槳葉100的移動速度的控制部46。槳葉100的往復速度是任意的，但 例如能夠為約250往復/分到約400往復/分的速度。此外，槳葉驅動部42的機構不僅可以為曲柄機構，也可以為通過滾珠絲杠將伺服馬達的旋轉轉換成軸的直線前進往復運動的機構、或通過線性馬達使軸直線前進往復運動的機構。在槳葉100具有縱肋220的情況下，如上述那樣，以在槳葉的往復運動的行程末端，縱肋220和基板Wf的縱向的非圖案區域304重疊的方式決定槳葉100的運動範圍。此外，控制部46期望在每次對基板Wf進行處理時使槳葉100的左右位置返回到規定的原點位置。由此，能夠使基於肋120或縱肋220產生的電場的遮蔽效果不會因每個處理基板而出現差異。
從上述實施方式至少掌握以下的技術思想。
〔方案1〕根據方案1，提供一種槳葉，用於攪拌在電鍍中使用的鍍覆液，所述槳葉具有外周部和能夠相對於上述外周部裝拆的肋。
〔方案2〕根據方案2，在方案1的槳葉中，構成為能夠調整上述肋向上述外周部的安裝位置。
〔方案3〕根據方案3，在方案1或2的槳葉中，上述肋以向攪拌鍍覆液時上述槳葉移動的方向延伸的方式安裝於上述外周部。
〔方案4〕根據方案4，在方案1到3中任一方案的槳葉中，以在電鍍時從陽極觀察而成為上述肋遮蔽作為鍍覆對象物的基板的非圖案區域的位置的方式，將上述肋安裝於上述外周部。
〔方案5〕根據方案5，在方案1到4中任一方案的槳葉中，在將上述肋安裝於上述外周部的狀態下，上述肋構成為從上述外周部突出。
〔方案6〕根據方案6，提供一種鍍覆裝置，用於對具有非圖案區域的基板進行電鍍，所述鍍覆裝置具有：用於保持鍍覆液的鍍覆槽；以與電 源的正極連接的方式構成的陽極；和為了對保持在上述鍍覆槽內的鍍覆液進行攪拌而能夠在上述鍍覆槽內運動的槳葉，上述槳葉構成為在攪拌鍍覆液時，從上述陽極觀察而基板的非圖案區域的至少一部分始終被遮蔽。
〔方案7〕根據方案7，在方案6的鍍覆裝置中，上述槳葉具有外周部和肋，構成為在攪拌鍍覆液時，從上述陽極觀察而基板的非圖案區域的至少一部分被上述肋始終遮蔽。
〔方案8〕根據方案8，在方案7的鍍覆裝置中，上述肋構成為能夠相對於上述外周部裝拆。
〔方案9〕根據方案9，在方案8的鍍覆裝置中，構成為能夠調整上述肋向上述外周部的安裝位置。
〔方案10〕根據方案10，在方案6到9中任一方案的鍍覆裝置中，上述肋向攪拌鍍覆液時上述槳葉移動的方向延伸。
〔方案11〕根據方案11，在方案7到10中任一方案的鍍覆裝置中，上述肋構成為從上述外周部向上述陽極側突出。
〔方案12〕根據方案12，提供一種鍍覆方法，用於對具有非圖案區域的基板進行電鍍，所述方法具有：在鍍覆槽中保持陽極及鍍覆液的步驟；使上述基板浸漬於上述鍍覆槽內的鍍覆液的步驟；和使槳葉在鍍覆液內運動而攪拌上述鍍覆槽內的鍍覆液的步驟，在攪拌鍍覆液時，以從上述陽極觀察而基板的非圖案區域的至少一部分始終被遮蔽的方式使上述槳葉運動。
〔方案13〕根據方案13，在方案12的方法中，攪拌鍍覆液的步驟具有使上述槳葉往復運動的步驟。
以上，基於幾個例子說明了本發明的實施方式，但上述發明的實施方式是為了使本發明容易理解的實施方式，並不限定本發明。本發明能夠不脫離其主旨地進行變更、改進，並且在本發明中當然也包含其均等物。另外，在能夠解決上述課題的至少一部分課題的範圍、或起到至少一部分效果的範圍中，能夠進行請求項書及說明書所記載的各結構元件的任意組合或省略。
100:槳葉
102:長孔
104:格子部
106:外周部
107:外周部
120:肋
122:安裝部
150:頸部
302:圖案區域
304:非圖案區域
Wf:基板

Claims (6)

  1. 一種槳葉，用於攪拌在電鍍中使用的鍍覆液，所述槳葉具有：外周部；及能夠相對於所述外周部裝拆的肋；其中所述槳葉構成為能夠調整所述肋向所述外周部的安裝位置，其中以在電鍍時從陽極觀察而成為所述肋遮蔽作為鍍覆對象物的基板的非圖案區域的位置的方式，將所述肋安裝於所述外周部。
  2. 如請求項1所述的槳葉，其中所述肋以向攪拌鍍覆液時所述槳葉移動的方向延伸的方式，安裝於所述外周部。
  3. 如請求項1所述的槳葉，其中在將所述肋安裝於所述外周部的狀態下，所述肋構成為從所述外周部突出。
  4. 一種鍍覆裝置，用於對具有非圖案區域的基板進行電鍍，所述鍍覆裝置具有：用於保持鍍覆液的鍍覆槽；以與電源的正極連接的方式構成的陽極；及為了對保持在所述鍍覆槽內的鍍覆液進行攪拌而能夠在所述鍍覆槽內運動的槳葉，其中所述槳葉構成為在攪拌鍍覆液時，從所述陽極觀察而基板的非圖案區域的至少一部分始終被遮蔽，其中所述槳葉具有外周部和肋，構成為在攪拌鍍覆液時，從所述陽極觀察而基板的非圖案區域的至少一部分被所述肋始終遮蔽，其中所述肋構成為能夠相對於所述外周部裝拆， 其中所述鍍覆裝置構成為能夠調整所述肋向所述外周部的安裝位置。
  5. 如請求項4所述的鍍覆裝置，其中所述肋向攪拌鍍覆液時所述槳葉移動的方向延伸。
  6. 如請求項4所述的鍍覆裝置，其中所述肋構成為從所述外周部向所述陽極側突出。
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