JP5912914B2 - 処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、処理装置に関する。

従来より、めっき槽のめっき液に浸漬させてアノードと被めっき基板を対向して配置すると共に、アノードと被めっき基板との間に誘電体製の調整板を配置し、アノードと被めっき基板との間に通電して被めっき基板にめっきを行うめっき装置があった。

めっき装置は、被めっき基板の側面からアノードの側面に貫通する多数の通孔から成る通孔群を有し、調整板の通孔群の分布状態を調整する通孔群分布調整手段を含む。また、めっき装置は、めっき液を撹拌する撹拌機構を含む（例えば、特許文献１参照）。

特開２００４−２２５１２９号公報

ところで、従来のめっき装置では、めっき液は、ポンプ、恒温ユニット、及びフィルタが接続される循環配管によって循環されており、循環配管からめっき槽にめっき液を戻す戻し口は、めっき槽の底部に接続されている。このため、めっき液は、めっき槽の底部から沸き出すようにめっき槽の内部に供給される。

ここで、撹拌機構は、めっき槽の深さ方向に対して横方向にめっき液を撹拌する。このため、被めっき基板の中央部では、めっき液は被めっき基板の表面に沿って左右方向に流れる。

しかし、撹拌機構によって撹拌されためっき液は、めっき槽の両端に到達すると流れが乱れるため、被めっき基板の端部では、めっき液は左右方向だけでなく、ランダムな方向に流れる。

従って、従来のめっき装置では、被めっき基板の中央部と端部とでめっき液の流れが異なることになり、めっき膜の厚さのばらつきが生じるという問題がある。また、このような問題はめっき処理に限らず、例えば、ウェットエッチングのようにウェハをエッチング溶液に含浸させて処理を行う場合には、エッチング量のばらつきの問題が同様に生じる。

そこで、均一な処理を行うことのできる処理装置を提供することを目的とする。

本発明の実施の形態の処理装置は、被処理体を処理する処理液を貯容する処理槽と、前記処理槽の内部で前記処理液に含浸される前記被処理体の表面に沿って前記処理槽の平面視での一端側と他端側との間で移動可能に配設されて前記処理液を撹拌し、前記処理槽の深さ方向に延在するとともに、前記移動のＸ軸方向に対して斜めに配設される撹拌部材と、
前記撹拌部材を前記処理槽内で前記一端側と前記他端側との間でＸ軸方向に反復的に移動させる駆動装置と、前記処理槽の底部において、前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側に接続される流入口と、前記処理槽のＸ軸方向の前記他端側に接続される流出口とを有し、前記Ｘ軸方向の一端側の前記流入口から前記Ｘ軸方向の他端側の前記流出口に向けて前記処理液をバイパスさせるバイパス配管とを含む。

均一な処理を行うことのできる処理装置を提供することができる。

実施の形態の処理装置の断面構造を示す図である。 実施の形態の処理装置１００のスキージ１２０とシリコンウェハ２００の位置関係を示す斜視図である。 実施の形態の処理装置１００の内部におけるめっき液１７０の流れを矢印で示す図である。 実施の形態の変形例のスキージ１２０Ａ〜１２０Ｃを示す図である。

以下、処理装置を適用した実施の形態について説明する。

＜実施の形態＞
図１は、実施の形態の処理装置の断面構造を示す図である。図１では図示するように、ＸＹＺ座標系を定義する。

図１に示すように、実施の形態の処理装置１００は、めっき槽１１０、スキージ１２０、駆動装置１３０、循環配管１４０、ポンプ１４１、恒温ユニット１４２、フィルタ１４３、バイパス管１５０、整流板１６１、１６２を含む。図１には、めっき槽１１０内のめっき液１７０にウェハ２００が含浸されている状態を示す。

めっき槽１１０は、ウェハ２００のめっき処理を行うための処理槽の一例である。ウェハ２００は図示しないホルダによって保持された状態で、めっき槽１１０の内部に貯容されるめっき液１７０に含浸される。ウェハ２００は、被処理体の一例である。

めっき槽１１０の深さの寸法は、ウェハ２００の直径よりも大きく設定されている。このため、図１に示すようにめっき槽１１０にめっき液１７０を貯容して、ウェハ２００を縦に挿入した状態で、ウェハ２００の上下に空間があり、めっき液１７０にウェハ２００が完全に含浸されるようになっている。

また、図１には図示しないが、電解めっき処理を行うためのアノード電極は、例えば、ウェハ２００の裏側に位置する。ウェハ２００をカソードとして、ウェハ２００とアノード電極との間に電圧を印加することにより、銅イオン等をウェハ２００の表面に定着させることにより、電解めっき処理を行う。

めっき槽１１０は、供給口１１１Ａ、戻り口１１１Ｂ、流入口１１２Ａ、流出口１１２Ｂを有する。

供給口１１１Ａは、めっき槽１１０の上部の一端側（Ｘ軸正方向側）に設けられている。供給口１１１Ａの高さは、例えば、めっき液１７０の液面と略同じ高さになるように設定されている。供給口１１１Ａには、循環配管１４０の一端が接続される。

戻り口１１１Ｂは、めっき槽１１０の上部の他端側（Ｘ軸負方向側）に設けられている。戻り口１１１Ｂの高さは、例えば、めっき液１７０の液面と略同じ高さになるように設定されている。戻り口１１１Ｂには、循環配管１４０の他端が接続される。

流入口１１２Ａは、めっき槽１１０の底部の一端側（Ｘ軸正方向側）に設けられている。図１では、一例として、流入口１１２Ａは、めっき槽１１０の底面に形成されている。流入口１１２Ａには、バイパス管１５０の一端が接続される。

流出口１１２Ｂは、めっき槽１１０の底部の他端側（Ｘ軸負方向側）に設けられている。図１では、一例として、流出口１１２Ｂは、めっき槽１１０の底面に形成されている。流出口１１２Ｂには、バイパス管１５０の他端が接続される。

スキージ１２０は、めっき槽１１０の内部において、ウェハ２００の表面から所定距離だけＹ軸負方向側に離間した位置に配設される。スキージ１２０は、駆動装置１３０によって、ウェハ２００の表面に沿ってめっき槽１１０の深さ方向に対する横方向（図１中の左右方向（Ｘ軸方向））に反復移動するように駆動される。

スキージ１２０のＸ軸方向の長さは、ウェハ２００の直径よりも短いが、Ｚ軸方向の長さはウェハ２００の直径よりも長い。なお、スキージ１２０の詳細については図２を用いて後述する。

駆動装置１３０は、スキージ１２０を保持し、ウェハ２００の表面に沿ってめっき槽１１０の深さ方向に対する横方向（図１中の左右方向（Ｘ軸方向））にスキージ１２０が反復移動するようにスキージ１２０を駆動する。

図１には、スキージ１２０がＸ軸負方向側の最も端に移動した状態を示す。しかしながら、駆動装置１３０によってスキージ１２０がＸ軸正方向側の最も端に移動されると、スキージ１２０のＸ軸正方向側の端部は、ウェハ２００のＸ軸正方向側の端部よりもＸ軸正方向側に位置する。

循環配管１４０は、めっき槽１１０の供給口１１１Ａと戻り口１１１Ｂとの間に接続される。循環配管１４０の中間部には、ポンプ１４１、恒温ユニット１４２、及びフィルタ１４３が挿入される接続されている。ポンプ１４１、恒温ユニット１４２、及びフィルタ１４３は、戻り口１１１Ｂから供給口１１１Ａの方向に、この順番で接続されている。

循環配管１４０は、めっき槽１１０の戻り口１１１Ｂからポンプ１４１に流入するめっき液１７０を恒温ユニット１４２及びフィルタ１４３に案内する。また、循環配管１４０は、供給口１１１Ａからめっき槽１１０に戻すことにより、めっき液１７０を循環させる。

ポンプ１４１は、循環配管１４０の中間部に挿入され、恒温ユニット１４２及びフィルタ１４３と直列に接続される。ポンプ１４１は、めっき槽１１０の内部に貯容されるめっき液１７０を循環配管１４０に循環させるための吸引力を発生させる。

ポンプ１４１が駆動されて吸引力を発生させることにより、めっき槽１１０の内部のめっき液１７０が戻り口１１１Ｂから循環配管１４０に流入し、ポンプ１４１、恒温ユニット１４２、及びフィルタ１４３を通過する。

フィルタ１４３を通過しためっき液１７０は、供給口１１１Ａからめっき槽１１０に供給される。

恒温ユニット１４２は、循環配管１４０の中間部でポンプ１４１及びフィルタ１４３の間に挿入され、ポンプ１４１及びフィルタ１４３と直列に接続される。

恒温ユニット１４２には、ポンプ１４１から吐出されるめっき液１７０が流入する。恒温ユニット１４２は、貯容槽の一例である。恒温ユニット１４２は、めっき液１７０の温度を電解めっき処理に適した所定の温度に保持するために、めっき液１７０の温度を一定に保っている。

フィルタ１４３は、循環配管１４０の中間部に挿入され、ポンプ１４１及び恒温ユニット１４２と直列に接続される。フィルタ１４３には、恒温ユニット１４２で温度が調整されためっき液１７０が流入する。フィルタ１４３は、めっき液１７０に混入する不純物等を除去する。

バイパス管１５０は、一端が流入口１１２Ａに接続され、他端が流出口１１２Ｂに接続される。バイパス管１５０は、めっき槽１１０の底部の一端側（Ｘ軸正方向側）と、他端側（Ｘ軸負方向側）とを接続している。

バイパス管１５０は、めっき槽１１０の底部において、流入口１１２Ａから流出口１１２Ｂに向けてめっき液１７０を案内する。すなわち、バイパス管１５０は、めっき槽１１０の底部において、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）から他端側（Ｘ軸負方向側）にめっき槽１７０をバイパスする。

これにより、めっき槽１１０の内部におけるめっき液１７０の流れを整流する。なお、めっき槽１１０の内部でのめっき液１７０の流れについては図３を用いて後述する。

整流板１６１は、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）に配設される第１隔壁の一例である。整流板１６１は、上端１６１Ａ、下端１６１Ｂ、及び貫通孔１６１Ｃを有し、めっき槽１１０の内部のＸ軸正方向側の内壁に沿って配設される板状の部材である。すなわち、整流板１６１は、ＹＺ平面に平行な板状の部材である。

整流板１６１の上端１６１Ａは、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）において供給口１１１Ａよりも他端側（Ｘ軸負方向側）に配設される。下端１６１Ｂは、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）において流入口１１２Ａよりも他端側（Ｘ軸負方向側）に配設される。

また、貫通孔１６１Ｃは、整流板１６１をＸ軸方向に貫通する複数の孔部であり、第１貫通孔の一例である。このため、図１では、整流板１６１を破線で示す。破線の切れ目は、貫通孔１６１Ｃに相当する。このような整流板１６１は、例えば、メッシュ状の板状部材、又は、パンチング加工等で多数の孔部を形成した板状部材を用いることができる。

整流板１６１は、上端１６１Ａが供給口１１１ＡよりもＸ軸負方向側に位置しているため、供給口１１１Ａから供給されるめっき液１７０をＺ軸負方向側に誘導するとともに、貫通孔１６１Ｃを介して整流板１６１のＸ軸負方向側（ウェハ２００がある側）にめっき液１７０を供給する。

また、貫通孔１６１Ｃを介して、整流板１６１のＸ軸負方向側（ウェハ２００がある側）からＸ軸正方向側にめっき液１７０が流入する。

整流板１６１のＸ軸正方向側でＺ軸負方向側に案内されるめっき液１７０は、流入口１１２Ａからバイパス管１５０を経て、流出口１１２Ｂからめっき槽１１０に流出する。

整流板１６２は、めっき槽１１０の他端側（Ｘ軸負方向側）に配設される第２隔壁の一例である。整流板１６２は、上端１６２Ａ、下端１６２Ｂ、及び貫通孔１６２Ｃを有し、めっき槽１１０の内部のＸ軸負方向側の内壁に沿って配設される板状の部材である。すなわち、整流板１６２は、ＹＺ平面に平行な板状の部材である。

整流板１６２の上端１６２Ａは、めっき槽１１０の他端側（Ｘ軸負方向側）において戻り口１１１Ｂよりも一端側（Ｘ軸正方向側）に配設される。下端１６２Ｂは、めっき槽１１０の他端側（Ｘ軸負方向側）において流出口１１２Ｂよりも一端側（Ｘ軸正方向側）に配設される。

また、貫通孔１６２Ｃは、整流板１６２をＸ軸方向に貫通する複数の孔部であり、第２貫通孔の一例である。このため、図１では、整流板１６２を破線で示す。破線の切れ目は、貫通孔１６２Ｃに相当する。このような整流板１６２は、例えば、メッシュ状の板状部材、又は、パンチング加工等で多数の孔部を形成した板状部材を用いることができる。

整流板１６２は、下端１６２Ｂが流出口１１２ＢよりもＸ軸正方向側に位置しているため、流出口１１２Ｂから流出するめっき液１７０をＺ軸正方向側に誘導するとともに、貫通孔１６２Ｃから整流板１６２のＸ軸正方向側（ウェハ２００がある側）にめっき液１７０を供給する。

また、貫通孔１６２Ｃを介して、整流板１６２のＸ軸正方向側（ウェハ２００がある側）からＸ軸負方向側にめっき槽１７０が流入する。

整流板１６２のＸ軸負方向側でＺ軸正方向側に案内されるめっき液１７０は、戻り口１１１Ｂから循環配管１４０を経て、供給口１１１Ａからめっき槽１１０に供給される。

めっき液１７０は、例えば、電解めっき処理で銅めっきをウェハ２００の表面に形成する場合は、硫酸銅めっき液を用いればよい。

図２は、実施の形態の処理装置１００のスキージ１２０とシリコンウェハ２００の位置関係を示す斜視図である。図２では、図１と同様にＸＹＺ座標系を定義する。なお、ここでは必要に応じて図１も参照して説明を行う。

スキージ１２０は、図１及び図２に示すように、矩形環状の枠部１２１と、斜板１２２Ａ、１２２Ｂ、１２２Ｃ、１２２Ｄ、１２２Ｅとを有する。すなわち、スキージ１２０は、矩形環状の枠部１２１に、斜板１２２Ａ、１２２Ｂ、１２２Ｃ、１２２Ｄ、１２２Ｅ（以下、１２２Ａ〜１２２Ｅと略す）を取り付けたものである。

枠部１２１は、側面視（Ｙ軸方向から見た状態）において矩形環状の枠状の部材である。枠部１２１は、例えば、樹脂、又は、チタン等の金属の表面に樹脂コーティング（例えば、テフロン(登録商標)等）を施したものである。枠部１２１の素材は、めっき液１７０と不活性な材料であって、撹拌処理に耐え得るだけの十分な強度を有するものであればよい。

斜板１２２Ａ〜１２２Ｅは、枠部１２１の開口部に等間隔で配設されている。斜板１２２Ａ〜１２２Ｅは、枠部１２１と一体的に成形されていてもよく、枠部１２１とは別の部材を枠部１２１に取り付けたものであってもよい。

斜板１２２Ａ〜１２２Ｅは、細長く薄い板状の部材であり、一方の面がＸ軸正方向側の斜め下方向を向き、他方の面がＸ軸負方向側の斜め上方向を向くように枠部１２１に取り付けられている。これは、スキージ１２０の移動方向において、めっき液１７０に対する抵抗を大きくするためである。

斜板１２２Ａ〜１２２Ｅは、枠部１２１のＺ軸に平行な部分１２１Ａに対して斜めになるように角度を付けて枠部１２１に取り付けられている。すなわち、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅは、めっき槽１１０の深さ方向（Ｚ軸方向）に対して斜めに配設される。

斜板１２２Ａ〜１２２Ｅは、めっき液１７０を撹拌するための撹拌部材の一例である。

斜板１２２Ａ〜１２２Ｅが枠部１２１のＺ軸に平行な部分１２１Ａに対して有する角度は、例えば、１０度以上であることが好ましく、４５度程度であってもよい。図１には、約３０度の場合を示す。

枠部１２１のＺ軸に平行な部分１２１Ａの長さは、ウェハ２００の直径の寸法よりも長く設定される。枠部１２１のＸ軸に平行な部分１２１Ｂの長さは、ウェハ２００の直径の寸法よりも短くてよい。これは、スキージ１２０は、図１及び図２中においてＸ軸方向に移動されるからである。

次に、図３を用いて、実施の形態の処理装置１００の内部におけるめっき液１７０の流れについて説明する。

図３は、実施の形態の処理装置１００の内部におけるめっき液１７０の流れを矢印で示す図である。

スキージ１２０は、駆動装置１３０によって矢印３０１で示すように、Ｘ軸方向に反復的に移動するように駆動される。図３には、スキージ１２０がＸ軸負方向側の最も端に移動した状態を示す。

これに対して、駆動装置１３０によってスキージ１２０がＸ軸正方向側の最も端に移動されると、スキージ１２０のＸ軸正方向側の端部は、ウェハ２００のＸ軸正方向側の端部よりもＸ軸正方向側に位置する。

すなわち、スキージ１２０は、Ｘ軸方向に反復的に往復移動される際に、ウェハ２００の表面の全体を通過する。これは、ウェハ２００の表面の近傍において、めっき液１７０を撹拌するためである。

スキージ１２０がＸ軸負方向側に移動されると、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅによってめっき液１７０は、矢印３０２で示すように左斜め上方向に撹拌される。そして、めっき液１７０は、矢印３０３で示すように整流板１６２の貫通孔１６２Ｃを通って整流板１６２のＸ軸負方向側に流れる。これにより、めっき液１７０は、矢印３０４Ｕで示すように、整流板１６２のＸ軸負方向側においてＺ軸正方向側に流れる。

一方、スキージ１２０がＸ軸正方向側に移動されると、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅによってめっき液１７０は、矢印３０５で示すように右斜め下方向に撹拌される。そして、めっき液１７０は、矢印３０６で示すように整流板１６１の貫通孔１６１Ｃを通って整流板１６１のＸ軸正方向側に流れる。これにより、めっき液１７０は、矢印３０７Ｌで示すように、整流板１６１のＸ軸正方向側においてＺ軸負方向側に流れる。

このように、めっき液１７０は、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）において、矢印３０７Ｌで示すように、整流板１６１のＸ軸正方向側でＺ軸負方向側に流れる。矢印３０７Ｌで示すように流れるめっき液１７０は、流入口１１２Ａからバイパス管１５０に流入する。

このため、めっき槽１１０の上部の一端側（Ｘ軸正方向側）において供給口１１１Ａから供給されるめっき液１７０（矢印３０７Ｕ参照）と、めっき槽１１０の底部の一端側（Ｘ軸正方向側）で、バイパス管１５０に流入するめっき液（矢印３０７Ｌ参照）は同一方向に流れる。

また、矢印３０７Ｕ及び３０７Ｌで示すめっき液１７０の流れには、整流板１６１の貫通孔１６１Ｃを介して、矢印３０６で示すように、整流板１６１のＸ軸負方向側からＸ軸正方向側に流れるめっき液１７０が合流する。

ここで、矢印３０６は右下方向を向いている。矢印３０６で示すように、めっき液１７０は、右下方向に流れ、矢印３０７Ｕ及び３０７Ｌで示すめっき液１７０の流れを妨げず、滑らかに合流する。

また、めっき液１７０は、めっき槽１１０の他端側（Ｘ軸負方向側）において、矢印３０４Ｕで示すように、整流板１６２のＸ軸負方向側においてＺ軸正方向側に流れる。矢印３０４Ｕで示すように流れるめっき液１７０は、戻り口１１１Ｂから循環配管１４０に流入する。

また、バイパス管１５０の内部を矢印３０８で示すようにＸ軸負方向に向かって流れるめっき液１７０は、流出口１１２Ｂから矢印３０４Ｌで示すようにめっき槽１１０に流れる。

このため、めっき槽１１０の底部の他端側（Ｘ軸負方向側）において流出口１１２Ｂからめっき槽１１０に流れるめっき液（矢印３０４Ｌ参照）と、めっき槽１１０の上部の他端側（Ｘ軸負方向側）で、循環配管１４０に入流するめっき液１７０（矢印３０４Ｕ参照）とは同一方向に流れる。

また、矢印３０４Ｌ及び３０４Ｕで示すめっき液１７０の流れには、整流板１６２の貫通孔１６２Ｃを介して、矢印３０３で示すように、整流板１６２のＸ軸正方向側からＸ軸負方向側に流れるめっき液１７０が合流する。

ここで、矢印３０３は左上方向を向いている。矢印３０３で示すように、めっき液１７０は、左上方向に流れ、矢印３０４Ｌ及び３０４Ｕで示すめっき液１７０の流れを妨げず、滑らかに合流する。

また、矢印３０４Ｕで示すように、戻り口１１１Ｂから循環配管１４０に流入しためっき液１７０は、ポンプ１４１、恒温ユニット１４２、及びフィルタ１４３を経て、矢印３０９で示すように、供給口１１１Ａに向かって流れる。

以上より、実施の形態の処理装置１００では、矢印３０１で示すようにスキージ１２０をＸ軸方向に反復的に移動させると、矢印３０２〜３０９で示すようにめっき液１７０が流れる。

矢印３０２〜３０９で示すめっき液１７０の流れは、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）の底部から、矢印３０７Ｌで示すようにバイパス管１５０に流入し、バイパス管１５０の内部を矢印３０８で示すようにＸ軸負方向に流れる。矢印３０７Ｌで示すめっき液１７０の流れには、矢印３０６で示すめっき液１７０が合流する。

また、バイパス管１５０から流出口１１２Ｂを経て矢印３０４Ｌで示すようにめっき槽１１０に流れるめっき液１７０は、矢印３０３で示すめっき液１７０と合流し、矢印３０４Ｕで示すように、戻り口１１１Ｂを経て循環配管１４０に流入する。

そして、循環配管１４０に流入しためっき液１７０は、矢印３０９で示すように流れ、供給口１１１Ａを介して矢印３０７Ｕで示すように、めっき槽１１０に流入する。

以上のように、実施の形態の処理装置１００では、めっき槽１１０、循環配管１４０、及びバイパス１５０の内部で、矢印３０２〜３０９で示すように、時計回りにめっき液１７０が流れる。矢印３０２〜３０９で示すめっき液１７０の流れは、お互いの流れを乱すことなく、合流しながら滑らかな流れを形成する。

また、このように矢印３０２〜３０９の流れが滑らかであるため、矢印３０２及び３０６で示すウェハ２００の表面におけるめっき液１７０の流れは、ウェハ２００の中央部と端部とで略均一な流れとなる。

これは、従来のように、流れに乱れが生じる場合と比べると、ウェハ２００の表面におけるめっき液１７０の流れは、ウェハ２００の表面の全体で略均一であり、非常に滑らかな流れが得られることを示している。

従って、実施の形態の処理装置１００を用いてウェハ２００にめっき処理を行えば、ウェハ２００の表面に全体的に均一な厚さのめっき膜を形成することができる。また、めっき膜の厚さが均一であるため、めっき膜が形成されたウェハ２００の表面は、見た目も均一であり、むらが殆どない状態である。

以上より、実施の形態によれば、均一なめっき処理を行うことのできる処理装置を提供することができる。

なお、以上では、めっき処理を行う形態について説明したが、ウェットエッチング処理に用いてもよい。例えば、めっき槽１１０をエッチング処理の処理槽として用い、めっき液１７０の代わりにエッチング溶液を処理槽に貯容して、ウェハ２００のウェットエッチング処理を行ってもよい。

ウェットエッチング処理を行う場合においても、上述しためっき処理と同様に、スキージ１２０でエッチング溶液を撹拌することにより、ウェハ２００の表面全体に均等にエッチング溶液を流すことができる。このため、ウェハ２００の中央部と端部とでエッチングレートを均等化することができ、均等なエッチング処理を行うことができる。

以上、実施の形態によれば、電解めっきを行うめっき処理、又は、ウェットエッチング処理等を均一に行うことができる処理装置を提供することができる。

また、以上では、スキージ１２０が枠部１２１と斜板１２２Ａ〜１２２Ｅを有する形態について説明したが、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅの数は５つに限られず、少なくとも１つあればよい。

また、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅの角度は、めっき槽１１０の内部におけるめっき液１７０の流れを調整するために、任意の角度に設定することができる。斜板１２２Ａ〜１２２Ｅの角度は、めっき槽１１０の深さ方向に対して、斜めになる角度であればよい。

また、枠部１２１は必ずしも必要ではなく、駆動装置１３０によって斜板１２２Ａ〜１２２Ｅが直接駆動されてもよい。

また、以上では、供給口１１１Ａと戻り口１１１Ｂがめっき液１７０の液面と略同じ高さに設けられる形態について説明した。しかしながら、供給口１１１Ａと戻り口１１１Ｂが設けられる位置の高さは、めっき液１７０の液面と略同じ高さには限定されず、めっき槽１１０の内部でめっき液１７０の所望の流れを得るために上下にずらしてもよい。供給口１１１Ａと戻り口１１１Ｂは、例えば、めっき槽１１０の上部であって、ウェハ２００の最上部よりも上に位置するように配設されればよい。

また、以上では、流入口１１２Ａと流出口１１２Ｂがめっき槽１１０の底面に形成される形態について説明した。しかしながら、流入口１１２Ａと流出口１１２Ｂの位置は、めっき槽１１０の底面に限られず、図３に矢印３０２〜３０９で示す流れと同様の流れが得られる範囲で、上下にずらしてもよい。流入口１１２Ａと流出口１１２Ｂは、例えば、めっき槽１１０の底部であって、ウェハ２００の最下部よりも下に位置するようにすればよい。

また、以上では、整流板１６１の上端１６１Ａは、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）において供給口１１１Ａよりも他端側（Ｘ軸負方向側）に配設される形態について説明した。

しかしながら、上端１６１Ａは、Ｘ軸方向において供給口１１１Ａの幅に収まる位置に配設されてもよい。この場合でも、供給口１１１Ａから供給されるめっき液１７０をＺ軸負方向側（めっき槽１１０の深さ方向）に案内することができ、また、供給口１１１Ａから直接的に、整流板１６１よりもＸ軸負方向側（ウェハ２００が位置する側）にめっき液１７０を供給することができる。すなわち、図３に示す矢印３０５、３０６、３０７Ｕで示す流れと同様の流れを得ることができる。

また、以上では、下端１６１Ｂは、めっき槽１１０の一端側（Ｘ軸正方向側）において流入口１１２Ａよりも他端側（Ｘ軸負方向側）に配設される形態について説明した。

しかしながら、下端１６１Ｂは、Ｘ軸方向において流入口１１２Ａの幅に収まる位置に配設されてもよい。この場合でも、めっき槽１１０の底部のＸ軸正方向側において、めっき液１７０の良好な流れを得ることができる。すなわち、図３に矢印３０５、３０６、３０７Ｌで示す流れと同様の流れを得ることができる。

また、以上では、整流板１６２の上端１６２Ａは、めっき槽１１０の他端側（Ｘ軸負方向側）において戻り口１１１Ｂよりも一端側（Ｘ軸正方向側）に配設される形態について説明した。

しかしながら、上端１６２Ａは、Ｘ軸方向において戻り口１１１Ｂの幅に収まる位置に配設されてもよい。この場合でも、戻り口１１１Ｂにめっき液１７０を案内することができる。すなわち、図３に矢印３０２、３０３、３０４Ｕで示す流れと同様の流れを得ることができる。

また、以上では、下端１６２Ｂは、めっき槽１１０の他端側（Ｘ軸負方向側）において流出口１１２Ｂよりも一端側（Ｘ軸正方向側）に配設される形態について説明した。

しかしながら、下端１６２Ｂは、Ｘ軸方向において流出口１１２Ｂの幅に収まる位置に配設されてもよい。この場合でも、めっき槽１１０の底部のＸ軸負方向側におけるめっき液１７０の良好な流れを得ることができる。すなわち、図３に矢印３０２、３０３、３０４Ｌで示す流れと同様の流れを得ることができる。

また、以上では、整流板１６１が貫通孔１６１Ｃを有する形態について説明した。しかしながら、整流板１６１は、めっき槽１１０のＸ軸正方向側においてめっき液１７０をＺ軸負方向側に案内するとともに、矢印３０５で示すようにウェハ２００側からＸ軸正方向に流れるめっき液１７０を、矢印３０６で示すように整流板１６１のＸ軸正方向側に案内できれば、任意の形状であってよい。

また、以上では、整流板１６２が貫通孔１６２Ｃを有する形態について説明した。しかしながら、整流板１６２は、めっき槽１１０のＸ軸負方向側においてめっき液１７０をＺ軸正方向側に案内するとともに、矢印３０２で示すようにウェハ２００側からＸ軸負方向に流れるめっき液１７０を、矢印３０３で示すように整流板１６２のＸ軸負方向側に案内できれば、任意の形状であってよい。

また、以上では、スキージ１２０が図２に示す形状を有する形態について説明したが、スキージは、図４に示すような形状であってもよい。

図４は、実施の形態の変形例のスキージ１２０Ａ〜１２０Ｃを示す図である。

図４（Ａ）に示すように、スキージ１２０Ａでは、枠部１２１よりも斜板１２２Ａ〜１２２Ｅの方がＹ軸方向の幅が広くなっている。また、枠部１２１のＹ軸負方向側の端部と、斜板１２２Ａ〜１２２ＥのＹ軸負方向側の端部は面一であり、斜板１２２Ａ〜１２２ＥのＹ軸正方向側の端部は、枠部１２１のＹ軸正方向側の端部よりもＹ軸正方向側に突出している。

ここで、斜板１２２Ａ〜１２２ＥのＹ軸方向の幅とは、スキージ１２０Ａの移動方向（Ｘ軸方向）に対する幅である。

このようなスキージ１２０Ａを用いると、枠部１２１よりも斜板１２２Ａ〜１２２Ｅにめっき液１７０が当たり易くなり、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅの撹拌性能を向上させることができる。

なお、枠部１２１のＹ軸負方向側の端部と、斜板１２２Ａ〜１２２ＥのＹ軸負方向側の端部とは面一でなくてもよい。斜板１２２Ａ〜１２２ＥのＹ軸負方向側の端部は、枠部１２１のＹ軸負方向側の端部よりもＹ軸負方向側に突出していてもよい。すなわち、斜板１２２Ａ〜１２２ＥのＹ軸方向の両端は、枠部１２１のＹ軸方向の両端よりも、突出していてもよい。具体的には、少なくともウェハ２００が配設される側に突出していればよい。

また、図４（Ｂ）に示すスキージ１２０Ｂは、基部１２１Ｃと、基部１２１Ｃに取り付けられる２枚の斜板１２２Ｆ、１２２Ｇとを含む。

基部１２１Ｃは細長く薄い板状の部材であり、駆動装置１３０によって駆動される。斜板１２２Ｆ、１２２Ｇは、細長く薄い板状の部材であり、基部１２１Ｃに対して直角ではなく、斜めに取り付けられている。

図４（Ｂ）においてＸ軸方向に延在する基部１２１Ｃに対する斜板１２２Ｆの角度θは、例えば、１０度以上で９０度未満であればよい。なお、斜板１２２Ｇは斜板１２２Ｆと平行になるように、基部１２１Ｃに対して角度θをなすように基部１２１Ｃに取り付けられる。このような構成により、基部１２１Ｃに対して、斜板１２２Ｇと１２２Ｆが斜めに取り付けられているスキージ１２０Ｂを実現できる。

また、図４（Ｃ）に示すスキージ１２０Ｃは、枠部１２１のＺ軸に平行な部分１２１Ａに、貫通孔１２１Ｄが形成されている。貫通孔１２１Ｄは、スキージ１２０Ｃの移動方向に、枠部１２１のＺ軸に平行な部分１２１Ａを貫通している。

このような貫通孔１２１Ｄを設けると、貫通孔１２１Ｄを通じて、枠部１２１のＺ軸に平行な部分１２１ＡのＸ軸正方向側からＸ軸負方向側に、又は、Ｘ軸負方向側からＸ軸正方向側にめっき液１７０を流すことができる。

従って、整流板１６１、１６２の貫通孔１６１Ｃ、１６２Ｃと同様に、整流作用が得られる。また、枠部１２１の整流作用により、スキージ１２０Ｃの斜板１２２Ａ〜１２２Ｅにめっき液１７０が当たり易くなり、スキージ１２０Ｃの撹拌性能を向上させることができる。

また、図１、図２、図４（Ａ）、及び図４（Ｃ）に示す斜板１２２Ａ〜１２２Ｅと、図４（Ｂ）に示す斜板１２２Ｆ、１２２Ｇの幅方向（Ｙ軸方向）の断面（Ｙ軸方向に切断して得る断面）は、図４（Ｄ）〜(Ｆ)に示すような形状であってもよい。図４（Ｄ）〜(Ｆ)では、各断面にハッチングを施してある。

すなわち、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅと斜板１２２Ｆ、１２２Ｇの幅方向の断面形状は、図４（Ｄ）に示すように楕円であってもよい。

また、図４（Ｅ）に示すように、平行四辺形であってもよい。図４（Ｅ）に示す平行四辺形の断面形状は、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅと斜板１２２Ｆ、１２２Ｇの角を面取りすることによって形成してもよい。

また、図４（Ｆ）に示すように、横長の六角形であってもよい。図４（Ｆ）に示す六角形の断面形状は、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅと斜板１２２Ｆ、１２２Ｇの角を面取りすることによって形成してもよい。

なお、図１、図２、図４（Ａ）、及び図４（Ｃ）に示す斜板１２２Ａ〜１２２Ｅと、図４（Ｂ）に示す斜板１２２Ｆ、１２２Ｇの幅方向（Ｙ軸方向）の断面は、図４（Ｇ）に示すように、矩形である。

斜板１２２Ａ〜１２２Ｅ、１２２Ｆ、１２２Ｇの断面形状は、例えば、処理装置１００のめっき槽１１０の内部におけるめっき液１７０の流れに影響をもたらす場合がある。このため、斜板１２２Ａ〜１２２Ｅ、１２２Ｆ、１２２Ｇの断面形状は、例えば、ウェハ２００に形成されるめっき膜の膜厚の分布が最適化されるように、適切な形状を選択すればよい。

斜板１２２Ａ〜１２２Ｅ、１２２Ｆ、１２２Ｇの断面形状は、図４（Ｄ）〜（Ｇ）に示す断面形状以外の形状であってもよい。

以上、本発明の例示的な実施の形態の処理装置について説明したが、本発明は、具体的に開示された実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲から逸脱することなく、種々の変形や変更が可能である。

１００ 処理装置
１１０ めっき槽
１１１Ａ 供給口
１１１Ｂ 戻り口
１１２Ａ 流入口
１１２Ｂ 流出口
１２０、１２０Ａ、１２０Ｂ、１２０Ｃ スキージ
１２１ 枠部
１２２Ａ、１２２Ｂ、１２２Ｃ、１２２Ｄ、１２２Ｅ、１２２Ｆ、１２２Ｇ 斜板
１３０ 駆動装置
１４０ 循環配管
１４１ ポンプ
１４２ 恒温ユニット
１４３ フィルタ
１５０ バイパス管
１６１、１６２ 整流板
２００ ウェハ

Claims (9)

1. 被処理体を処理する処理液を貯容する処理槽と、
   前記処理槽の内部で前記処理液に含浸される前記被処理体の表面に沿って前記処理槽の平面視での一端側と他端側との間で移動可能に配設されて前記処理液を撹拌し、前記処理槽の深さ方向に延在するとともに、前記移動のＸ軸方向に対して斜めに配設される撹拌部材と、
   前記撹拌部材を前記処理槽内で前記一端側と前記他端側との間でＸ軸方向に反復的に移動させる駆動装置と、
   前記処理槽の底部において、前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側に接続される流入口と、前記処理槽のＸ軸方向の前記他端側に接続される流出口とを有し、前記Ｘ軸方向の一端側の前記流入口から前記Ｘ軸方向の他端側の前記流出口に向けて前記処理液をバイパスさせるバイパス配管と
   を含む、処理装置。
2. 前記撹拌部材を前記処理槽の深さ方向に対して斜めに保持し、前記駆動装置によって前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側と前記他端側との間で移動される枠部をさらに含み、
   前記撹拌部材は、前記枠部が前記駆動装置によって前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側と前記他端側との間で移動される、請求項１記載の処理装置。
3. 前記枠部には、前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側から前記他端側に向かう方向に貫通する貫通孔が形成される、請求項２記載の処理装置。
4. 前記撹拌部材は、一方の面が前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側を向き、他方の面が前記処理槽のＸ軸方向の前記他端側を向く板状の部材である、請求項１乃至３のいずれか一項記載の処理装置。
5. 前記板状の部材は、前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側から前記他端側に向かう方向に対する幅方向の端部が面取りされている、請求項４記載の処理装置。
6. 前記板状の部材は、前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側から前記他端側に向かう方向に対する幅方向の断面形状が矩形、楕円形、又は平行四辺形である、請求項４記載の処理装置。
7. 前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側において前記供給口よりも前記処理槽のＸ軸方向の前記他端側に配設される上端と、前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側において前記流入口よりも前記処理槽のＸ軸方向の前記他端側に配設される下端と、前記上端及び前記下端との間に形成される第１貫通孔とを有する第１隔壁と、
   前記処理槽のＸ軸方向の前記他端側において前記戻り口よりも前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側に配設される上端と、前記処理槽のＸ軸方向の前記他端側において前記流出口よりも前記処理槽のＸ軸方向の前記一端側に配設される下端と、前記上端及び前記下端との間に形成される第２貫通孔とを有する第２隔壁とをさらに含む、請求項１乃至６のいずれか一項記載の処理装置。
8. 前記撹拌部材は、Ｘ軸方向の前記一端側に位置する第１端部の方がＸ軸方向の前記他端側に位置する第２端部よりも前記処理槽の深さ方向において上部にあることにより、前記処理槽の深さ方向に対して斜めに配設される、請求項１乃至７のいずれか一項記載の処理装置。
9. 前記処理槽の外部に配設され、前記処理液を貯容する貯容槽と、
   一端が前記処理槽の上部のＸ軸方向の前記一端側に配設される供給口に接続され、中間部に前記貯容槽が接続され、他端が前記処理槽の上部のＸ軸方向の前記他端側に配設される戻り口に接続され、前記戻り口を通じて前記処理槽内の処理液を前記貯容槽に戻すとともに、前記貯容槽内の処理液を前記供給口を通じて前記処理槽に供給する循環配管と
   をさらに含む、請求項１乃至８のいずれか一項記載の処理装置。