TWI767021B - 微細凹凸積層體及其製造方法以及相機模組搭載裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種達成了薄型化、防反射性能優異且能夠抑制短波長的光的散射或吸收的微細凹凸積層體。微細凹凸積層體的特徵在於：依次積層有基板、第1透明有機物層及第2透明有機物層，所述第1透明有機物層在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，所述第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構，包括所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層的複合層的厚度為15 μm以下。
Description
本發明是有關於一種微細凹凸積層體及其製造方法以及相機模組搭載裝置。
在液晶顯示器等顯示裝置或相機等光學裝置中，為了避免因來自外部的光的反射導致的可視性·畫質的惡化（色彩不均、重影（ghost）等的產生），多對顯示板或透鏡等基材的光的入射面實施防反射處理。作為所述防反射處理的方法，先前已知在光的入射面上形成微細凹凸結構來降低反射率的方法。
作為防反射處理的技術，例如專利文獻1揭示了：一種積層結構體，其具有基材、中間層及最表層，並且在最表層的表面上設有微細凹凸結構並實現了基材表面的擠壓彈性模數及最表層側表面的擠壓彈性模數的合理化，所述積層結構體作為防反射膜等是有用的，並且能夠貼附於顯示裝置等的表面。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2015-054402號公報
[發明所欲解決之課題] 此處，在考慮到電子設備用途的情況下，對防反射膜等物品要求薄型化（例如，15 μm以下）。
然而，關於所述專利文獻1的結構體，為了順利地形成，需要使最表層與中間層的膜厚的合計為25 μm以上，因此就薄型化的觀點而言，尚有改善的餘地。
而且，尤其是若感測器的前表面上設置的蓋膜（cover film）或相機模組感測器的前表面上設置的蓋膜存在光尤其是短波長的光的散射或吸收，則光無法充分入射，從而產生感測器動作不良的問題。因此，除了防反射功能以外，還對所述膜等物品要求降低光尤其是短波長的光的散射或吸收。
本發明的課題在於解決先前的所述諸問題並達成以下的目的。即，本發明的目的在於提供一種達成了薄型化、防反射性能優異並且能夠抑制短波長的光的散射或吸收的微細凹凸積層體及其製造方法。而且，本發明的目的在於提供一種能夠獲得色彩不均或重影等的產生得到抑制的攝像影像的相機模組搭載裝置。 [解決課題之手段]
解決所述課題的手段如下所述。即， ＜1＞ 一種微細凹凸積層體，其特徵在於： 依次積層有基板、第1透明有機物層及第2透明有機物層， 所述第1透明有機物層在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構， 所述第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構， 包括所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層的複合層的厚度為15 μm以下。 ＜2＞ 如＜1＞所述的微細凹凸積層體，其中所述第2透明有機物層的兩個面的微細凹凸結構分別包括具有可見光波長以下的間距的凹凸圖案。 ＜3＞ 如＜1＞或＜2＞所述的微細凹凸積層體，其中所述第2透明有機物層的非微細凹凸結構的部分的厚度為250 nm以下。 ＜4＞ 如＜1＞至＜3＞中任一項所述的微細凹凸積層體，其中所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層僅積層在所述基板的表面的一部分上。 ＜5＞ 如＜1＞至＜4＞中任一項所述的微細凹凸積層體，其中，在設所述基板的可見光波長範圍內的折射率為n0
，所述第1透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n1
，所述第2透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n2
時，滿足以下的式（1）及式（2）： n0
＜n2
···（1） 2n0
-n2
≦n1
≦2n2
-n0
···（2）。 ＜6＞ 如＜5＞所述的微細凹凸積層體，其進而滿足以下的式（3）： 2n0
-n2
＜n1
＜n2
···（3）。 ＜7＞ 如＜1＞至＜4＞中任一項所述的微細凹凸積層體，其中，在設所述基板的可見光波長範圍內的折射率為n0
，所述第1透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n1
，所述第2透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n2
時，滿足以下的式（4）、式（5）及式（6）： -0.002≦n0
-n2
≦0.002···（4） n1
＜n0
···（5） n1
＜n2
···（6）。 ＜8＞ 如＜1＞至＜7＞中任一項所述的微細凹凸積層體，其中，在來自所述第2透明有機物層側的光的反射光譜（spectre）中，在波長400 nm～750 nm的範圍內，針對每1 nm，使用前後25 nm的反射率的值算出波長移動平均值，進而分別算出所述波長移動平均值與所述光譜的值的差分絕對值時，該些差分絕對值的平均值為0.020%以下。 ＜9＞ 如＜1＞至＜8＞中任一項所述的微細凹凸積層體，其中，所述第1透明有機物層的波長550 nm下的折射率n1
為1.480以上且1.580以下。 ＜10＞ 如＜1＞至＜9＞中任一項所述的微細凹凸積層體，其用於相機模組搭載裝置。 ＜11＞ 一種微細凹凸積層體的製造方法，其是製造如＜1＞至＜10＞中任一項所述的微細凹凸積層體的方法，所述微細凹凸積層體的製造方法的特徵在於包括： 夾持壓接步驟，利用在表面具有微細凹凸結構的兩枚保持膜夾持紫外線（ultraviolet，UV）硬化性樹脂A，並進行壓接； 硬化A步驟，將被夾持著的UV硬化性樹脂A藉由UV光的照射而硬化，形成在兩個面具有微細凹凸結構的第2透明有機物層； 第1剝離步驟，自所述第2透明有機物層剝離其中一個保持膜； 積層按壓步驟，將被剝離了其中一個保持膜的所述第2透明有機物層經由UV硬化性樹脂B以使進行了剝離的一面接觸的方式積層在基板上，並自另一個保持膜側進行按壓； 硬化B步驟，在按壓著所述第2透明有機物層的狀態下，將所述UV硬化性樹脂B藉由UV光的照射而硬化，形成在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構的第1透明有機物層；以及 第2剝離步驟，解除對所述第2透明有機物層的按壓，將藉由所述第1透明有機物層而固著在所述基板上的第2透明有機物層與藉由所述第1透明有機物層固著的固著部位以外的第2透明有機物層分離，並使其自所述另一個保持膜剝離。 ＜12＞ 一種相機模組搭載裝置，其特徵在於包括： 相機模組及顯示板； 所述顯示板包括積層在其表面的至少一部分上的第1透明有機物層及積層在所述第1透明有機物層上的第2透明有機物層， 所述第1透明有機物層在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構， 所述第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構， 包括所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層的複合層的厚度為15 μm以下， 所述相機模組以與所述第2透明有機物層相向的方式設置。 [發明的效果]
根據本發明，可提供一種達成了薄型化、防反射性能優異並且能夠抑制短波長的光的散射或吸收的微細凹凸積層體及其製造方法。而且，根據本發明，可提供一種能夠獲得色彩不均或重影等的產生得到抑制的攝像影像的相機模組搭載裝置。
以下，基於實施形態對本發明進行詳細的說明。
（微細凹凸積層體） 本發明的微細凹凸積層體的特徵在於，依次積層有基板、第1透明有機物層及第2透明有機物層，第1透明有機物層在第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構，第1透明有機物層與第2透明有機物層的厚度的合計為15 μm以下。
以下，參照圖1等對本發明的一實施形態的微細凹凸積層體（以下，有時稱為「本實施形態的微細凹凸積層體」）進行說明。 如圖1所示，本實施形態的微細凹凸積層體100包括：基板101與包括兩個透明有機物層的層即包括第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的複合層（以下，有時僅稱為「複合層」）130。第1透明有機物層110積層在基板101上，第2透明有機物層120積層在第1透明有機物層110上。而且，第1透明有機物層110在第2透明有機物層120側的表面上具有微細凹凸結構110a。進而，第2透明有機物層120在第1透明有機物層110側的表面上具有微細凹凸結構120a並且在相反側的表面上具有微細凹凸結構120b。並且，本實施形態的微細凹凸積層體100因具有所述構成，所以在發揮高的防反射性能的同時可抑制短波長的光的散射或吸收。
另外，本實施形態的微細凹凸積層體100的複合層130的厚度為15 μm以下，達成了薄型化。關於此方面，在先前技術中，雖開發了幾個積層具有微細凹凸結構的層而成的結構體，但所述結構體實際上未能使層厚為15 μm以下。然而，本實施形態的微細凹凸積層體100例如藉由使用後述本發明的微細凹凸積層體的製造方法進行製造，而可保持微細凹凸結構110a、微細凹凸結構120a、微細凹凸結構120b並使複合層130的厚度為15 μm以下。而且，就實現進一步的薄型化的觀點而言，本實施形態的微細凹凸積層體100較佳為包括第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的複合層130的厚度為10 μm以下，而且，較佳為0.6 μm以上。此處，所謂複合層130的厚度，是指第2透明有機物層120的微細凹凸結構120b中最高凸部的頂點與第1透明有機物層110的與基板101接觸的點在積層方向上的距離。
另外，在本說明書中，所謂「透明」是指屬於可見光波長範圍（大約為360 nm～830 nm）的波長的光的透過率高，例如是指該光的透過率為70%以上。
＜基板＞ 作為構成本實施形態所使用的基板101的材料，並無特別限制，可根據目的而適當選擇，例如可列舉玻璃、利用任意的有機材料對表面進行了塗覆（coating）的玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯（Polymethyl methacrylate，PMMA）等。而且，基板101較佳為透明，積層第1透明有機物層的表面例如可為平坦面。此處，作為所述有機材料，例如可列舉聚醯亞胺。
＜第1透明有機物層＞ 如上所述，本實施形態所使用的第1透明有機物層110在第2透明有機物層120側的表面（上表面）上具有微細凹凸結構110a。即，在第1透明有機物層110的上表面形成有微細的凹凸圖案（在微細凹凸積層體的厚度方向上凸出的凸部及在微細凹凸積層體的厚度方向上凹陷的凹部）。由此，可提升防反射性能。凸部及凹部既可週期性（例如，鋸齒格子狀、矩形格子狀）配置，而且亦可無規則地（random）配置。而且，凸部及凹部的形狀並無特別限制，可為炮彈型、錐體型、柱狀、針狀等。 另外，所謂凹部的形狀是指藉由凹部的內壁而形成的形狀。
第1透明有機物層110的上表面的凹凸圖案的平均週期（間距（pitch））較佳為可見光波長以下（例如，830 nm以下），更佳為350 nm以下，尤佳為280 nm以下，而且，更佳為100 nm以上，尤佳為150 nm以上。藉由使第1透明有機物層110的上表面的凹凸圖案的間距為可見光波長以下，換言之，藉由使第1透明有機物層110的上表面為所謂的蛾眼（Moth-eye）結構，可實現防反射性能的進一步提升。
此處，凹凸圖案的平均週期為相鄰的凸部間與凹部間的距離的算術平均值。另外，凹凸圖案例如能夠藉由掃描式電子顯微鏡（scanning electron microscope，SEM）或剖面穿透式電子顯微鏡（剖面TEM（transmission electron microscope））等來觀察。而且，作為平均週期的計算方法，例如有如下方法，即，分別挑選（pick up）多個相鄰的凸部的組合及相鄰的凹部的組合，測定構成各組合的凸部間的距離及凹部間的距離，並將測定值進行平均。
而且，第1透明有機物層110的上表面的凹凸圖案的凹部的深度（凸部的高度）並無特別限制，但較佳為150 nm以上，更佳為190 nm以上，而且，較佳為300 nm以下，更佳為230 nm以下。 另一方面，第1透明有機物層110中未形成有凹凸圖案的部分即基底（base）部111（參照圖2）的厚度並無特別限制，較佳為500 nm以上，而且，較佳為9000 nm以下。
本實施形態中所使用的第1透明有機物層110例如可自UV硬化性樹脂製作。作為UV硬化性樹脂，並無特別限制，例如可列舉UV硬化性丙烯酸系樹脂、UV硬化性環氧系樹脂等。
＜第2透明有機物層＞ 如上所述，本實施形態中所使用的第2透明有機物層120在第1透明有機物層110側的表面（下表面）上具有微細凹凸結構120a，並且在相反側的表面（上表面）上具有微細凹凸結構120b。即，在第2透明有機物層120的兩個面上形成有微細的凹凸圖案（在微細凹凸積層體的厚度方向上凸出的凸部及在微細凹凸積層體的厚度方向上凹陷的凹部）。由此，可提升防反射性能。凸部及凹部既可週期性（例如，鋸齒格子狀、矩形格子狀）配置，而且亦可無規則地配置。而且，凸部及凹部的形狀並無特別限制，可為炮彈型、錐體型、柱狀、針狀等。
第2透明有機物層120的下表面及上表面的凹凸圖案的平均週期（間距）較佳為可見光波長以下（例如，830 nm以下），更佳為350 nm以下，尤佳為280 nm以下，而且，更佳為100 nm以上，尤佳為150 nm以上。藉由使第2透明有機物層120的下表面及上表面的凹凸圖案的間距為可見光波長以下，換言之，藉由使第2透明有機物層120的下表面及上表面為所謂的蛾眼結構，可實現防反射性能的進一步提升。
而且，第2透明有機物層120的上表面的凹凸圖案的凹部的深度（凸部的高度）並無特別限制，但較佳為150 nm以上，更佳為190 nm以上，而且，較佳為300 nm以下，更佳為230 nm以下。 另一方面，第2透明有機物層120中未形成有凹凸圖案的部分（非微細凹凸結構的部分）即基底部121（參照圖3）的厚度較佳為250 nm以下。若第2透明有機物層的非微細凹凸結構的部分的厚度為250 nm以下，則層間的多重反射引起的反射光譜的振動（波紋（Ripple））變得更小，從而可進一步抑制色彩不均或反射惡化。就同樣的觀點而言，第2透明有機物層的非微細凹凸結構的部分的厚度更佳為200 nm以下，尤佳為100 nm以下，特佳為50 nm以下。另一方面，就現實性的觀點而言，第2透明有機物層的非微細凹凸結構的部分的厚度可為0.01 nm以上。另外，所謂第2透明有機物層中的非微細凹凸結構的部分的厚度，是指形成在其中一個面上的最深的凹部的頂點與形成在另一個面上的最深的凹部的頂點在積層方向或膜厚方向上的距離。
第2透明有機物層120的下表面的微細凹凸結構120a較佳為如圖1所示與第1透明有機物層110的上表面的微細凹凸結構110a相對應，而且更佳為與第1透明有機物層110的上表面的微細凹凸結構110a無縫咬合。由此，第1透明有機物層110與第2透明有機物層120的背離得到抑制的同時，可更切實地發揮高的防反射性能等光學性能。
另外，第2透明有機物層120的下表面的微細凹凸結構120a與上表面的微細凹凸結構120b的凹部及凸部的配置態樣、凹凸圖案的平均週期、凹部的深度等既可彼此相同，亦可不同。
本實施形態中所使用的第2透明有機物層120例如可自UV硬化性樹脂製作。作為UV硬化性樹脂，並無特別限制，例如可列舉UV硬化性丙烯酸系樹脂、UV硬化性環氧系樹脂等。
＜各層的光學特性等＞ 本實施形態的微細凹凸積層體100較佳為，在設基板101的可見光波長範圍內的折射率為n0
，第1透明有機物層110的可見光波長範圍內的折射率為n1
，第2透明有機物層120的可見光波長範圍內的折射率為n2
時，滿足以下的式（1）及式（2）： n0
＜n2
···（1） 2n0
-n2
≦n1
≦2n2
-n0
···（2）。藉由滿足式（1）及式（2）兩者，層間的多重反射引起的反射光譜的振動（波紋）變小，從而可抑制色彩不均或反射惡化。
進而，本實施形態的微細凹凸積層體更佳為，除式（1）及式（2）之外亦滿足以下的式（3）： 2n0
-n2
＜n1
＜n2
···（3）。藉由除式（1）及式（2）之外亦滿足式（3），層間的多重反射引起的反射光譜的振動（波紋）變得更小，從而可進一步抑制色彩不均或反射惡化。
另一方面，本實施形態的微細凹凸積層體亦較佳為滿足以下的式（4）、式（5）及式（6）： -0.002≦n0
-n2
≦0.002 ···（4） n1
＜n0
···（5） n1
＜n2
···（6）。藉由滿足式（4）、式（5）及式（6）三者，層間的多重反射引起的反射光譜的振動（波紋）變得更小，從而可進一步抑制色彩不均或反射惡化。就同樣的觀點而言，更佳為滿足n0
=n2
。
另外，可見光波長範圍被認為為大約380 nm～780 nm。關於該方面，本說明書中，所謂「滿足」所述式或「符合」所述式是指在可見光波長範圍內的任一波長下所述式均成立。
在本實施形態的微細凹凸積層體100中，較佳為基板101的波長550 nm下的折射率n0
為1.480以上且1.580以下。藉由n0
為1.480以上，可調整光學特性，而且，藉由為1.580以下，可調整光學特性。
而且，在本實施形態的微細凹凸積層體100中，理想的是第1透明有機物層110的波長550 nm下的折射率n1
為1.480以上且1.580以下，進而較佳為1.490以上且1.530以下。藉由n1
為1.480以上，在第1透明有機物層及/或第2透明有機物層的材料為丙烯酸系樹脂的情況下，可更容易地調整光學特性並且可更容易地形成微細凹凸結構。而且，藉由n1
為1.580以下，在第1透明有機物層及/或第2透明有機物層的材料為丙烯酸系樹脂的情況下，可更容易地調整光學特性並且可更容易地形成微細凹凸結構。
而且，本實施形態的微細凹凸積層體100實際上較佳為反射光譜的振動（波紋）小。具體而言，本實施形態的微細凹凸積層體100較佳為：在來自第2透明有機物層120側的光的反射光譜中，在波長400 nm～750 nm的範圍內，針對每1 nm，使用前後25 nm的反射率的值算出波長移動平均值，進而分別算出波長移動平均值與光譜的值的差分絕對值時，該些差分絕對值的平均值（以下，有時稱為「差分絕對平均值」）為0.020%以下。藉由差分絕對平均值為0.020%以下，色彩不均或反射惡化進一步得到抑制。 另外，差分絕對平均值的調整並無特別限制，例如可藉由調節基板的折射率n0
、第1透明有機物層的折射率n1
及第2透明有機物層的折射率n2
來進行，而且，例如藉由以滿足所述式（1）、式（2）及式（3）三者的方式進行調節等，可將差分絕對平均值調整為0.020%以下。進而，差分絕對平均值的調整亦可藉由調節第2透明有機物層的非微細凹凸結構的部分的厚度來進行。
＜微細凹凸積層體的用途＞ 本實施形態的微細凹凸積層體例如作為一構成構件而於相機模組搭載裝置中使用。而且，本實施形態的微細凹凸積層體可較佳為用於相機模組搭載裝置中要求薄型化的裝置，例如搭載有相機模組的筆記型個人電腦（Personal Computer，PC）、平板型PC、智慧型手機、行動電話等。
另外，如圖1所示，本實施形態的微細凹凸積層體100亦可為第1透明有機物層110及第2透明有機物層120僅積層在基板101的表面的一部分上。此種微細凹凸積層體例如可較佳地用作近年來流通的、在顯示影像的顯示器面側設有攝像元件的相機模組搭載裝置（例如，筆記型PC、平板型PC、智慧型手機、行動電話等）中的顯示面板。具體而言，藉由以複合層130配置在攝像元件的正上方的區域的方式構成作為顯示面板的所述微細凹凸積層體與相機模組的攝像元件，可獲得相機模組搭載裝置。此種相機模組搭載裝置中，防反射處理被抑制為必要最小限度，獲得了複合層130帶來的高的防反射效果，並且達成了薄型化。作為參考，在圖13中示出了第1透明有機物層110及第2透明有機物層120僅積層在基板101的表面的一部分上的微細凹凸積層體100的影像圖。在此圖中可知：第1透明有機物層110及第2透明有機物層120為俯視矩形形狀及俯視圓形形狀，並積層在基板101的表面的一部分上。 另外，應用本實施形態的微細凹凸積層體的相機模組搭載裝置的詳細情況將後述。
（微細凹凸積層體的製造方法） 本發明的微細凹凸積層體的製造方法的特徵在於包括夾持壓接步驟、硬化A步驟、第1剝離步驟、積層按壓步驟、硬化B步驟、及第2剝離步驟。根據該方法，藉由將在表面具有微細凹凸結構的複合層無破損地形成在基板上，可製造防反射性能優異且能夠抑制短波長的光的散射或吸收的微細凹凸積層體。
以下，參照圖4A～圖4H對本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法（以下，有時稱為「本實施形態的製造方法」）進行說明。
＜夾持壓接步驟＞ 夾持壓接步驟是利用在表面具有微細凹凸結構的兩枚保持膜夾持UV硬化性樹脂A，並進行壓接的步驟。在本實施形態的製造方法中，首先，準備在表面具有微細凹凸結構的兩枚保持膜（第1保持膜201a及第2保持膜201b）。其次，如圖4A所示，利用所述第1保持膜201a及第2保持膜201b以所述兩枚保持膜彼此的微細凹凸結構相向的方式夾持UV硬化性樹脂A（151）。另外，作為UV硬化性樹脂A（151）並無特別限制，例如可列舉UV硬化性丙烯酸系樹脂、UV硬化性環氧系樹脂等。而且，也可視需要在UV硬化性樹脂A（151）中添加硬化起始劑等各種添加劑。
UV硬化性樹脂A 151的黏度較佳為30 cps以下。若UV硬化性樹脂A 151的黏度為30 cps以下，則可在形成第2透明有機物層時，更容易地將非微細凹凸結構的部分的厚度降低至250 nm以下。
此處，在表面具有微細凹凸結構的保持膜201a、保持膜201b例如可藉由在基底基材之上形成具有規定的凹凸圖案的微細凹凸層而製作。
作為構成基底基材的材料，並無特別限制，但較佳為透明且不易破損斷裂者，可列舉聚對苯二甲酸乙二酯（Polyethylene terephthalate，PET）、三乙醯纖維素（triacetylcellulose，TAC）等。 而且，基底基材上微細凹凸層的形成例如可藉由實施如下方法來達成，所述方法包括：在基底基材的其中一個面上塗佈未硬化的UV硬化性樹脂的步驟、使形成有對應凹凸圖案的輥與所述塗佈的UV硬化性樹脂密接而將凹凸圖案轉印至UV硬化性樹脂的步驟、對所述塗佈的UV硬化性樹脂照射UV光而進行硬化的步驟、以及將硬化後的UV硬化性樹脂自輥剝離的步驟。另外，作為UV硬化性樹脂並無特別限制，例如可列舉UV硬化性丙烯酸系樹脂、UV硬化性環氧系樹脂等。而且，亦可視需要在UV硬化性樹脂中添加硬化起始劑等各種添加劑。
為了提高剝離性，第1保持膜201a及第2保持膜201b亦可分別在微細凹凸結構的表面包覆包括無機系的材料的膜。
其次，如圖4A所示，藉由輥積層機（roll laminator）160等壓接裝置將夾持體沿夾持方向壓接。此處，在夾持壓接步驟中，可藉由調節壓接時的壓力，來調整最終獲得的第2透明有機物層120的厚度。
＜硬化A步驟＞ 硬化A步驟是將被夾持著的UV硬化性樹脂A藉由UV光的照射而硬化，形成在兩個面具有微細凹凸結構的第2透明有機物層的步驟。在本實施形態的製造方法中，如圖4B所示，對被夾持著的UV硬化性樹脂A（151）照射UV光，將UV硬化性樹脂A（151）硬化。藉由UV硬化性樹脂A（151）硬化，獲得圖4C所示般、形成有在兩個面具有微細凹凸結構的第2透明有機物層120的保持膜積層體250。另外，硬化A步驟亦可與夾持壓接步驟同時進行。如此獲得的第2透明有機物層120的兩個面的微細凹凸結構可與第1保持膜201a及第2保持膜201b的微細凹凸結構無縫咬合。
＜第1剝離步驟＞ 第1剝離步驟是自第2透明有機物層剝離其中一個保持膜的步驟。在本實施形態的製造方法中，自圖4C所示的保持膜積層體250剝離第2保持膜201b，製成圖4D所示的狀態（單面剝離積層體250'）。
＜積層按壓步驟＞ 積層按壓步驟是將被剝離了其中一個保持膜的第2透明有機物層經由UV硬化性樹脂B以使進行了剝離的一面接觸的方式積層在基板上，並自另一個保持膜側進行按壓的步驟。在本實施形態的製造方法中，首先，如圖4E所示，在基板101上塗佈（裝填（potting））UV硬化性樹脂B（171）。其次，如圖4F所示，將單面剝離積層體250'以被剝離第2保持膜201b的一面朝向基板101的方式進行配置並按壓至塗佈在基板101上的UV硬化性樹脂B（171）。經按壓的UV硬化性樹脂B（171）在基板101與第2透明有機物層120之間被按壓擴展。另外，作為UV硬化性樹脂B（171）並無特別限制，例如可列舉UV硬化性丙烯酸系樹脂、UV硬化性環氧系樹脂等。而且，亦可視需要在UV硬化性樹脂B（171）中添加硬化起始劑等各種添加劑。 另外，基板101如前所述。
＜硬化B步驟＞ 硬化B步驟是在按壓著第2透明有機物層的狀態下，將UV硬化性樹脂B藉由UV光的照射而硬化，形成在第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構的第1透明有機物層的步驟。在本實施形態的製造方法中，如圖4G所示，在維持著按壓的狀態下，對UV硬化性樹脂B（171）照射UV光，將UV硬化性樹脂B（171）硬化。UV硬化性樹脂B（171）藉由硬化而固著在基板101及第2透明有機物層120上，從而形成第1透明有機物層110。 另外，硬化B步驟亦可與積層按壓步驟的按壓同時進行。
＜第2剝離步驟＞ 第2剝離步驟是解除對第2透明有機物層的按壓，將藉由第1透明有機物層而固著在基板上的第2透明有機物層與藉由第1透明有機物層固著的固著部位以外的第2透明有機物層分離，並使其自另一個保持膜剝離的步驟。在本實施形態的製造方法中，如圖4H所示，解除對單面剝離積層體250'的按壓，自基板101釋放（release）單面剝離積層體250'，藉此使第2透明有機物層120自單面剝離積層體250'剝離。藉由硬化B步驟，在單面剝離積層體250'的第2透明有機物層120中存在UV硬化性樹脂B（171）並且被照射了UV光的區域，第2透明有機物層120與基板101藉由硬化後的UV硬化性樹脂B（171'）而固著。並且，藉由釋放單面剝離積層體250'，藉由硬化後的UV硬化性樹脂B（171'）而固著的第2透明有機物層120與藉由硬化後的UV硬化性樹脂B（171'）固著的固著部位以外的第1保持膜201a上的第2透明有機物層120分離（斷開）並自單面剝離積層體250'（第1保持膜201a）剝離，如此，包括硬化後的UV硬化性樹脂B（171'）即第1透明有機物層110、及第2透明有機物層120的複合層130形成在基板101上。
如圖4H所示，形成在基板101上的複合層130中，第1透明有機物層110也可進入第2透明有機物層120的基板101側的面的凹部。即，第1透明有機物層110可在第2透明有機物層120側的表面上具有微細凹凸結構。此種複合層130防反射性能優異，例如，可使波長400 nm～750 nm的範圍的平均反射率為1%以下。
（相機模組搭載裝置） 本發明的相機模組搭載裝置包括相機模組及顯示板，顯示板包括積層在其表面的至少一部分上的第1透明有機物層及積層在第1透明有機物層上的第2透明有機物層。而且，第1透明有機物層在第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構。進而，包括第1透明有機物層及第2透明有機物層的複合層的厚度為15 μm以下。並且，所述相機模組搭載裝置以相機模組與第2透明有機物層相向的方式設置。根據所述相機模組搭載裝置，可藉由相機模組的攝像元件經由包括第1透明有機物層及第2透明有機物層的複合層來拍攝靜止影像或動態影像，所以光的反射得到抑制，可抑制所獲得的攝像影像中產生色彩不均或重影等。
作為相機模組搭載裝置，具體而言，可列舉筆記型PC、平板型PC、智慧型手機、行動電話等。
以下，參照圖5對本發明的一實施形態的相機模組搭載裝置（以下，有時稱為「本實施形態的裝置」）進行說明。 圖5是表示本實施形態的相機模組搭載裝置的相機模組附近的示意概要圖。如圖5所示，本實施形態的相機模組搭載裝置300包括相機模組310及顯示板311，在顯示板311的其中一個表面形成有遮光區域312及透明區域（非遮光區域）313。而且，在顯示板311的透明區域313中積層有第1透明有機物層314並且在此第1透明有機物層314上積層有第2透明有機物層315。
此處，顯示板311因用作液晶顯示器、觸控面板等，所以較佳為透明，例如包括玻璃、利用任意的有機材料對表面進行了塗覆的玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）等。此處，作為所述有機材料，例如可列舉聚醯亞胺。而且，第1透明有機物層314及第2透明有機物層315分別如針對所述本發明的微細凹凸積層體所具有的第1透明有機物層及第2透明有機物層而敘述者。
進而，包括第1透明有機物層314及第2透明有機物層315的顯示板311可藉由所述本發明的微細凹凸積層體的製造方法來製造。
並且，相機模組310如圖5所示，以與第2透明有機物層315相向的方式配置。
另外，本實施形態的裝置的詳細的條件，例如相機模組310的具體的構成、相機模組310與第2透明有機物層315之間的距離等並無特別限制。實施例
其次，列舉實施例及比較例來對本發明進行更具體的說明，但本發明並不限制於下述實施例。 在實施例及比較例中，針對差分絕對平均值使用計算軟體「TFCalc」並藉由光學計算進行了研究。另外，在光學計算中，使用了波長589 nm下的折射率。
（實施例1） 以如圖1所示般、依次積層有基板101、第1透明有機物層110及第2透明有機物層120，第1透明有機物層110在第2透明有機物層120側的表面上具有微細凹凸結構110a，第2透明有機物層120在兩個面上具有微細凹凸結構120a、微細凹凸結構120b的、微細凹凸積層體100的模型為對象。此處，設基板的折射率n0
為1.500，設第1透明有機物層的折射率n1
為1.490，設第2透明有機物層的折射率n2
為1.520。而且，設第1透明有機物層110與第2透明有機物層120的彼此的微細凹凸結構的凹部及凸部咬合，並設第1透明有機物層110的基底部111的厚度為6000 nm、進行咬合的第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm，第2透明有機物層120的基底部121的厚度為1000 nm，第2透明有機物層120的另一側的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm。包括第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的複合層130的厚度被算出為7440 nm。
此微細凹凸積層體模型的來自第2透明有機物層側的光的反射光譜如圖6所示。其次，根據所獲得的光的反射光譜求出了差分絕對平均值。將結果示於表1。所述值越小，表示光譜的振動（波紋）越小，色彩不均或反射惡化越得到抑制。
而且，針對所述微細凹凸積層體模型，求出了自第2透明有機物層側以入射角7°入射了波長425 nm的光時、藉由散射及吸收而導致的光的損失率（%）。具體而言，求出了100%-{透過率（Tr）+反射率（Re）}。使用該值依據以下基準對光的損失率進行了評價。將結果示於表1。 A：不足1.00% B：1.00%以上且不足1.40% C：1.40%以上
（實施例2～實施例7） 除去將第1透明有機物層的折射率如表1所示進行了變更之外，以與實施例1相同的微細凹凸積層體模型為對象。將所述微細凹凸積層體模型是滿足所述式（1）及式（2）亦或滿足所述式（1）～式（3）三者亦或滿足所述式（4）～式（6）三者，示於表1（之後的示例亦相同）。 並且，各例中來自第2透明有機物層側的光的反射光譜分別如圖7～圖12所示。而且，以與實施例1相同的方式分別進行了差分絕對平均值的測定及光的損失率的評價。將結果示於表1。
（實施例8） 與實施例1同樣地，以圖1所示般的微細凹凸積層體100的模型為對象。此處，設n0
為1.518，設n1
為1.500，設n2
為1.520。而且，設第1透明有機物層110與第2透明有機物層120的彼此的微細凹凸結構的凹部及凸部咬合，並設第1透明有機物層110的基底部111的厚度為8200 nm、進行咬合的第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm，第2透明有機物層120的基底部121的厚度為1000 nm，第2透明有機物層120的另一側的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm。包括第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的複合層130的厚度被算出為9640 nm。 並且，與實施例1同樣地，分別進行了差分絕對平均值的測定及光的損失率的評價。將結果示於表1。
（實施例9） 與實施例1同樣地，以圖1所示般的微細凹凸積層體100的模型為對象。此處，設n0
為1.515，設n1
為1.510，設n2
為1.530。而且，設第1透明有機物層110與第2透明有機物層120的彼此的微細凹凸結構的凹部及凸部咬合，並設第1透明有機物層110的基底部111的厚度為2000 nm、進行咬合的第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm，第2透明有機物層120的基底部121的厚度為1000 nm，第2透明有機物層120的另一側的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm。包括第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的複合層130的厚度被算出為3440 nm。 並且，與實施例1同樣地，分別進行了差分絕對平均值的測定及光的損失率的評價。將結果示於表1。
（比較例1） 以依次積層有基板、第1透明有機物層及第2透明有機物層，第1透明有機物層的兩個面為平坦面，第2透明有機物層僅於與第1透明有機物層相反的一側的表面（上表面）上具有微細凹凸結構的、微細凹凸積層體的模型為對象。此處，設n0
為1.518，設n1
為1.500，設n2
為1.520。而且，使包括第1透明有機物層及第2透明有機物層的複合層的厚度為9840 nm。 並且，與實施例1同樣地，分別進行了差分絕對平均值的測定及光的損失率的評價。將結果示於表1。
（比較例2、比較例3） 除去將包括第1透明有機物層及第2透明有機物層的複合層的厚度如表1所示進行了變更之外，以與實施例1相同的微細凹凸積層體模型為對象。 並且，與實施例1同樣地，分別進行了差分絕對平均值的測定及光的損失率的評價。將結果示於表1。
（比較例4） 以依次積層有基板、第1透明有機物層及第2透明有機物層，第1透明有機物層的兩個面為平坦面，第2透明有機物層亦為兩個面為平坦面的、平坦積層體的模型為對象。此處，設n0
為1.520，設n1
為1.500，設n2
為1.520。而且，使包括第1透明有機物層及第2透明有機物層的複合層的厚度為25000 nm。 並且，與實施例1同樣地，分別進行了差分絕對平均值的測定及光的損失率的評價。將結果示於表1。
[表1] 
根據表1可知：實施例1～實施例9的微細凹凸積層體中，包括第1透明有機物層及第2透明有機物層的複合層的厚度大幅低於15 μm，達成了薄型化。並且可知：實施例1～實施例9的微細凹凸積層體中，因第1透明有機物層在第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構，所以防反射性能優異而且短波長的光的散射或吸收得到充分抑制。 可知：其中，尤其是滿足式（1）及式（2）兩者的實施例1～實施例3、實施例5～實施例7、實施例9以及滿足式（4）、式（5）及式（6）三者的實施例8的微細凹凸積層體的差分絕對平均值小。可知：尤其是滿足式（1）、式（2）及式（3）三者的實施例1～實施例3、實施例9的微細凹凸積層體的差分絕對平均值為0.020%以下，即反射光譜的振動（波紋）更小，實現了進一步抑制色彩不均或反射惡化。
其次，研究了微細凹凸積層體的第2透明有機物層中非微細凹凸結構的部分的厚度對反射光譜的影響。
以如圖1所示般、依次積層有基板101、第1透明有機物層110及第2透明有機物層120，第1透明有機物層110在第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構110a，第2透明有機物層120在兩個面上具有微細凹凸結構120a、微細凹凸結構120b的、微細凹凸積層體100的模型為對象。此處，設基板的折射率n0
為1.500，設第1透明有機物層的折射率n1
為1.470，設第2透明有機物層的折射率n2
為1.520。而且，設第1透明有機物層110與第2透明有機物層120的彼此的微細凹凸結構的凹部及凸部咬合，並設第1透明有機物層110的基底部111的厚度為6000 nm、進行咬合的第1透明有機物層110及第2透明有機物層120的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm，第2透明有機物層120的另一側的凹部的深度（凸部的高度）為220 nm。並且，將第2透明有機物層120的基底部121（非微細凹凸結構的部分）的厚度分別變更為1500 nm、1000 nm、500 nm、250 nm、50 nm，求出了來自第2透明有機物層側的光的反射光譜，結果分別如圖14A～圖14E所示。並且，根據所獲得的光的反射光譜求出了差分絕對平均值。將結果示於表2。
[表2] 
根據圖14A～圖14E及表2可知：第2透明有機物層的非微細凹凸結構的部分的厚度越小（例如250 nm以下），差分絕對平均值越小並且反射光譜的振動（波紋）越小，從而實現了進一步抑制色彩不均或反射惡化。 [產業上之可利用性]
根據本發明，可提供一種達成了薄型化、防反射性能優異並且能夠抑制短波長的光的散射或吸收的微細凹凸積層體及其製造方法。而且，根據本發明，可提供一種能夠獲得色彩不均或重影等的產生得到抑制的攝像影像的相機模組搭載裝置。
100‧‧‧微細凹凸積層體101‧‧‧基板110、314‧‧‧第1透明有機物層110a、120a、120b‧‧‧微細凹凸結構111、121‧‧‧基底部120、315‧‧‧第2透明有機物層130‧‧‧複合層151‧‧‧UV硬化性樹脂A160‧‧‧輥積層機171‧‧‧UV硬化性樹脂B171'‧‧‧硬化後的UV硬化性樹脂B201a‧‧‧第1保持膜201b‧‧‧第2保持膜250‧‧‧保持膜積層體250'‧‧‧單面剝離積層體300‧‧‧相機模組搭載裝置310‧‧‧相機模組311‧‧‧顯示板312‧‧‧遮光區域313‧‧‧透明區域
圖1是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的示意剖面圖。 圖2是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的第1透明有機物層的示意剖面圖。 圖3是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的第2透明有機物層的示意剖面圖。 圖4A是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖4B是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖4C是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖4D是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖4E是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖4F是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖4G是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖4H是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的製造方法的一步驟的概要圖。 圖5是表示本發明的一實施形態的相機模組搭載裝置的相機模組附近的示意概要圖。 圖6是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖7是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖8是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖9是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖10是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖11是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖12是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖13是本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的影像圖。 圖14A是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖 圖14B是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖14C是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖14D是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。 圖14E是表示本發明的一實施形態的微細凹凸積層體的、光的反射光譜的示意圖。
100‧‧‧微細凹凸積層體
101‧‧‧基板
110‧‧‧第1透明有機物層
110a、120a、120b‧‧‧微細凹凸結構
120‧‧‧第2透明有機物層
130‧‧‧複合層
Claims (12)
- 一種微細凹凸積層體，其特徵在於，依次積層有基板、第1透明有機物層及第2透明有機物層，所述第1透明有機物層在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，所述第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構，包括所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層的複合層的厚度為15μm以下，在設所述基板的可見光波長範圍內的折射率為n0，所述第1透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n1，所述第2透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n2時，滿足以下的式(1)及式(2)：n0<n2…(1) 2n0-n2≦n1≦2n2-n0…(2)。
- 如申請專利範圍第1項所述的微細凹凸積層體，其進而滿足以下的式(3)：2n0-n2<n1<n2…(3)。
- 一種微細凹凸積層體，其特徵在於，依次積層有基板、第1透明有機物層及第2透明有機物層，所述第1透明有機物層在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，所述第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構， 包括所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層的複合層的厚度為15μm以下，在設所述基板的可見光波長範圍內的折射率為n0，所述第1透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n1，所述第2透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n2時，滿足以下的式(4)、式(5)及式(6)：-0.002≦n0-n2≦0.002…(4) n1<n0…(5) n1<n2…(6)。
- 如申請專利範圍第1項或第3項所述的微細凹凸積層體，其中所述第2透明有機物層的兩個面的微細凹凸結構分別包括具有可見光波長以下的間距的凹凸圖案。
- 如申請專利範圍第1項或第3項所述的微細凹凸積層體，其中所述第2透明有機物層的非微細凹凸結構的部分的厚度為250nm以下。
- 如申請專利範圍第1項或第3項所述的微細凹凸積層體，其中所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層僅積層在所述基板的表面的一部分上。
- 如申請專利範圍第1項或第3項所述的微細凹凸積層體，其中，在來自所述第2透明有機物層側的光的反射光譜中，在波長400nm~750nm的範圍內，針對每1nm，使用前後25nm的反射率的值算出波長移動平均值，進而分別算出所述波長移動 平均值與所述光譜的值的差分絕對值時，該些差分絕對值的平均值為0.020%以下。
- 如申請專利範圍第1項或第3項所述的微細凹凸積層體，其中，所述第1透明有機物層的波長550nm下的折射率n1為1.480以上且1.580以下。
- 如申請專利範圍第1項或第3項所述的微細凹凸積層體，其用於相機模組搭載裝置。
- 一種微細凹凸積層體的製造方法，其是製造如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的微細凹凸積層體的方法，所述微細凹凸積層體的製造方法的特徵在於包括：夾持壓接步驟，利用在表面具有微細凹凸結構的兩枚保持膜夾持紫外線硬化性樹脂A，並進行壓接；硬化A步驟，將被夾持著的紫外線硬化性樹脂A藉由紫外線光的照射而硬化，形成在兩個面具有微細凹凸結構的第2透明有機物層；第1剝離步驟，自所述第2透明有機物層剝離其中一個保持膜；積層按壓步驟，將被剝離了其中一個保持膜的所述第2透明有機物層經由紫外線硬化性樹脂B以使進行了剝離的一面接觸的方式積層在基板上，並自另一個保持膜側進行按壓；硬化B步驟，在按壓著所述第2透明有機物層的狀態下，將所述紫外線硬化性樹脂B藉由紫外線光的照射而硬化，形成在所 述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構的第1透明有機物層；以及第2剝離步驟，解除對所述第2透明有機物層的按壓，將藉由所述第1透明有機物層而固著在所述基板上的第2透明有機物層與藉由所述第1透明有機物層固著的固著部位以外的第2透明有機物層分離，並使其自所述另一個保持膜剝離。
- 一種相機模組搭載裝置，其特徵在於包括：相機模組及顯示板；所述顯示板包括積層在其表面的至少一部分上的第1透明有機物層及積層在所述第1透明有機物層上的第2透明有機物層，所述第1透明有機物層在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，所述第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構，包括所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層的複合層的厚度為15μm以下，在設所述基板的可見光波長範圍內的折射率為n0，所述第1透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n1，所述第2透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n2時，滿足以下的式(1)及式(2)：n0<n2…(1) 2n0-n2≦n1≦2n2-n0…(2)所述相機模組以與所述第2透明有機物層相向的方式設置。
- 一種相機模組搭載裝置，其特徵在於包括：相機模組及顯示板；所述顯示板包括積層在其表面的至少一部分上的第1透明有機物層及積層在所述第1透明有機物層上的第2透明有機物層，所述第1透明有機物層在所述第2透明有機物層側的表面上具有微細凹凸結構，所述第2透明有機物層在兩個面上具有微細凹凸結構，包括所述第1透明有機物層及所述第2透明有機物層的複合層的厚度為15μm以下，在設所述基板的可見光波長範圍內的折射率為n0，所述第1透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n1，所述第2透明有機物層的可見光波長範圍內的折射率為n2時，滿足以下的式(4)、式(5)及式(6)：-0.002≦n0-n2≦0.002…(4) n1<n0…(5) n1<n2…(6)所述相機模組以與所述第2透明有機物層相向的方式設置。
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