TWI618952B - 偏光板、光學構件套組及觸控輸入式圖像顯示裝置 - Google Patents

偏光板、光學構件套組及觸控輸入式圖像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明係提供一種偏光板、以及包含其之光學構件套組及觸控輸入式圖像顯示裝置，該偏光板係包含：偏光片、以及積層於其一方的面上之第1光學膜，第1光學膜之與偏光片為相反側的表面，剖面曲線的峰度(Kurtosis)Pku為3.0以上，且以入射角12°使光入射時之反射角12°的反射率Y為4.0%以下。

Description

偏光板、光學構件套組及觸控輸入式圖像顯示裝置
本發明係關於可較佳地使用在氣隙(Air Gap)方式的觸控輸入式圖像顯示裝置之偏光板，以及包含此之光學構件套組及觸控輸入式圖像顯示裝置。
近年來，以智慧型手機和平板型可攜式資訊終端等為中心，觸控輸入式的圖像顯示裝置已急速地普及起來。觸控輸入式圖像顯示裝置係於圖像顯示元件的觀看側或是圖像顯示元件的內部具備用以檢測觸控位置資訊之觸控輸入元件(觸控面板)，當圖像顯示元件為液晶單元或有機電激發光(EL：Electroluminescence)顯示元件等之時，觸控輸入式圖像顯示裝置一般是包含偏光板而構成。
觸控輸入式圖像顯示裝置係有各種方式，但目前成為主流者為電阻膜方式與靜電電容方式。電阻膜方式係具有透明電極之2片基板以保持間隙且各個透明電極相向之方式來配置，當以手指等來觸控畫面時，對向的2個透明電極接觸而藉此檢測觸控位置。如此，電阻膜方式中，係於2片基板間設置間隙。
另一方面，靜電電容方式係捕捉以手指等所觸控之部分的表面電荷變化而檢測觸控位置。即使在靜電電容方式中，亦有在觸控輸入式圖像顯示裝置內設置間隙之構成。以下，係將於觸控輸入式圖像顯示裝置內設置間隙(氣隙)者稱為「氣隙方式」的觸控輸入式圖像顯示裝置。
日本特開2008-155387號公報(專利文獻1)中，係記載有使用將透明導電膜形成於樹脂成形體的凹凸表面之積層體，作為觸控面板用之附透明電極的基板。此外，日本特開2011-133881號公報(專利文獻2)係記載有使用依序包含偏光板、相位差膜、硬塗層及透明導電膜之積層體，作為電阻膜方式的觸控面板之一方的基板(觀看側的基板)(第9圖)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2008-155387號公報
[專利文獻2]日本特開2011-133881號公報
於氣隙方式的觸控輸入式圖像顯示裝置中，以手指等來觸控畫面時，氣隙的間隔產生變化，結果因氣隙中形成多重反射的光產生干涉，而容易產生稱為牛頓環之干涉紋。產生牛頓環時，會使顯示畫面的觀看性降低。
專利文獻1中，係記載有藉由使樹脂成形體 之形成有透明導電膜之一側的面粗化，具體而言，將算術平均粗糙度Ra設為50至150nm，可抑制牛頓環，但在算術平均粗糙度Ra的控制中，尤其當Ra為100nm以下的等級時，有時未必可有效地抑制牛頓環。專利文獻2中，係記載有藉由控制硬塗層之形成有透明導電膜之一側的面之算術平均粗糙度Ra及既定高度之凸部的存在個數，可抑制牛頓環及閃紋，但與專利文獻1相同，有時並無法有效地抑制牛頓環。
本發明之目的在於提供一種能夠有效地抑制牛頓環的產生之偏光板、以及包含此之光學構件套組及觸控輸入式圖像顯示裝置。
本發明係提供以下所示之偏光板、光學構件套組及觸控輸入式圖像顯示裝置。
[1]一種偏光板，其係包含：偏光片、以及積層於該一方的面上之第1光學膜，前述第1光學膜之與前述偏光片為相反側的表面，剖面曲線的峰度(Kurtosis)Pku為3.0以上，且以入射角12°使光入射時之反射角12°的反射率Y為4.0%以下。
[2]如[1]所述之偏光板，其中前述第1光學膜包含：第1熱塑性樹脂膜、以及積層於與該前述偏光片為相反側的面上之光學層。
[3]如[2]所述之偏光板，其中前述第1熱塑性樹脂膜係包含纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀 聚烯烴系樹脂或聚酯系樹脂。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之偏光板，其更包含：積層於前述偏光片之與前述第1光學膜為相反側的面上之第2光學膜。
[5]如[4]所述之偏光板，其中前述第2光學膜係包含由纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂或環狀聚烯烴系樹脂所構成之第2熱塑性樹脂膜。
[6]如[4]或[5]所述之偏光板，其中前述第2光學膜為相位差膜。
[7]一種觸控輸入式圖像顯示裝置用的光學構件套組，其係包含：如[1]至[6]中任一項所述之偏光板、以及用以配置在前述偏光板的前述第1光學膜側之透光性構件。
[8]一種觸控輸入式圖像顯示裝置，其係包含：圖像顯示元件、配置在前述圖像顯示元件的觀看側之如[1]至[6]中任一項所述之偏光板、以及於前述偏光板的前述第1光學膜側，與前述第1光學膜相離而配置之透光性構件。
[9]如[8]所述之觸控輸入式圖像顯示裝置，其中前述透光性構件為觸控輸入元件。
根據本發明，可提供一種能夠有效地抑制牛頓環的產生之偏光板、以及包含此之光學構件套組及觸控 輸入式圖像顯示裝置。
1、2、3‧‧‧偏光板
10‧‧‧偏光片
20‧‧‧第1光學膜
21‧‧‧第1熱塑性樹脂膜
22‧‧‧光學層
23‧‧‧透明導電層
25‧‧‧第2光學膜
30‧‧‧透光性構件
31‧‧‧透明導電層
40、41、42‧‧‧光學構件套組
50‧‧‧液晶單元
60‧‧‧背面側偏光板
70、71‧‧‧黏著劑層
80‧‧‧背光
200‧‧‧第1光學膜的法線
201‧‧‧入射光
203‧‧‧包含入射光方向與第1光學膜的法線之平面
204‧‧‧往正反射方向反射之反射光
S‧‧‧第1光學膜的外面
第1圖係顯示本發明之偏光板、以及包含此之光學構件套組的一例之概略剖面圖。
第2圖係用以說明第1光學膜外面之反射率Y的測定方法之圖，為示意顯示雷射光的入射方向與所測定之反射光的方向之立體圖。
第3圖係顯示本發明之偏光板、以及包含此之光學構件套組的其他一例之概略剖面圖。
第4圖係顯示本發明之偏光板、以及包含此之光學構件套組的其他一例之概略剖面圖。
第5圖係顯示本發明之觸控輸入式圖像顯示裝置的一例之概略剖面圖。
〈偏光板及光學構件套組〉
第1圖係顯示本發明之偏光板以及包含此之光學構件套組的一例之概略剖面圖。如第1圖所示之偏光板1般，本發明之偏光板，係包含偏光片10以及積層於其一方的面上之第1光學膜20。本發明之偏光板，可使用來作為構成觸控輸入式圖像顯示裝置之構件之一，此時，偏光板係配置在觸控輸入式圖像顯示裝置所具有之圖像顯示元件的觀看側(前面側)。
本發明之光學構件套組，為建構觸控輸入式 圖像顯示裝置之光學構件的套組(組合)，參考第1圖，係由上述偏光板1與透光性構件30所構成。光學構件套組40係以偏光板1、與配置在其第1光學膜20側(偏光板1之觀看側)之透光性構件30所建構。此光學構件套組40係使用在氣隙方式的觸控輸入式圖像顯示裝置，亦即，透光性構件30係與第1光學膜20相離而配置並固定。
(1)偏光片
構成偏光板1之偏光片10，可為具有下列性質之光學膜，亦即吸收具有平行於光學軸之振動面之直線偏光，並使具有與光學軸正交之振動面之直線偏光穿透之性質，具體而言，可較佳地使用使雙色性色素(碘或雙色性有機染料)吸附配向於聚乙烯醇系樹脂膜者。
構成偏光片10之聚乙烯醇系樹脂，可藉由對聚乙酸乙烯酯樹脂進行皂化而得。聚乙酸乙烯酯樹脂，除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，可例示出乙酸乙烯酯及可與該乙酸乙烯酯共聚合之其他單體的共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，例如可列舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之(甲基)丙烯醯胺類等。聚乙烯醇系樹脂的皂化度，通常為85至100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。此聚乙烯醇系樹脂更可進行改質，例如可使用以醛類進行改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。
本說明書中所謂「(甲基)丙烯酸」，係意味著選自丙烯酸及甲基丙烯酸之至少一方。關於「(甲基)丙烯 酸酯」等亦相同。
聚乙烯醇系樹脂的聚合度，通常為1000至10000，較佳為1500至10000。具體的聚乙烯醇系樹脂或雙色性色素，例如可列舉出日本特開2012-159778號公報所例示者。
使上述聚乙烯醇系樹脂成膜者，可使用作為偏光片10的胚材膜。使聚乙烯醇系樹脂成膜之方法並無特別限定，可藉由以往一般所知的適當方法來成膜。由聚乙烯醇系樹脂所構成之胚材膜的膜厚並無特別限定，例如約為1至150μm。考量到拉伸的容易度等，該厚度較佳為10μm以上。
偏光片10，例如可經由下列步驟來製造出，亦即使上述聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸之步驟；以雙色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色並使該雙色性色素吸附之步驟；以硼酸水溶液處理吸附有雙色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟；在以硼酸水溶液進行處理後進行水洗之步驟；以及乾燥步驟而製造出。偏光片10的厚度可為2至40μm，較佳為3至30μm。
偏光片10，例如亦可依據日本特開2012-159778號公報所記載之方法來製造出。於該文獻所記載之方法中，並不使用由上述聚乙烯醇系樹脂所構成之胚材膜，而是藉由將聚乙烯醇系樹脂塗布於基材膜來形成聚乙烯醇系樹脂層，並對此進行拉伸及染色而形成偏光片層(偏光片10)後，貼合如保護膜般的光學膜而得到偏光板。
(2)第1光學膜的構成
第1光學膜20係亦可為僅具有保護偏光片10之功能之熱塑性樹脂膜(保護膜)，但除了該保護功能之外，為了將其他光學功能賦予至偏光板1，及/或將後述既定表面特性賦予至第1光學膜20，如第1圖所示，較佳係包含：第1熱塑性樹脂膜21、以及積層於與該偏光片10相反側的面上之光學層22。
光學層22係該外面S(與第1熱塑性樹脂膜21相反側的表面)是由滿足後述既定的表面特性之細微表面凹凸所構成。光學層22可為單層構造或多層構造，並無特別限制，例如可包含防眩層、硬塗層、低折射率層、抗反射層、抗帶電層、防污層或兼具此等中的2種以上的功能(特性)之層而構成。由於光學層22為具有表面凹凸之層，故典型而言係包含防眩層或兼具硬塗層功能之防眩層。光學層22係以滿足後述既定的表面特性之方式來選擇並調整該構成、材質及表面凹凸形狀。
第1熱塑性樹脂膜21較佳是由具有透光性之熱塑性樹脂所構成，尤佳是由光學呈透明之熱塑性樹脂所構成，此外，較佳是由機械強度或熱穩定性等良好之熱塑性樹脂所構成。該樹脂例如可列舉出鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)般之聚烯烴系樹脂；三乙醯纖維素、二乙醯纖維素般之纖維素系樹脂(纖維素酯系樹脂)；聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯般之 聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸樹脂、(甲基)丙烯酸酯共聚物般之(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯亞胺系樹脂等。當中可較佳地使用纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂等。
第1熱塑性樹脂膜2的厚度，通常為5至200μm，較佳為10μm以上，此外，較佳為80μm以下。
具有由細微表面凹凸所構成之外面S之光學層22，例如可藉由將透光性樹脂塗布於第1熱塑性樹脂膜21上，並因應必要使塗布層硬化而形成。此時，細微表面凹凸的形成，可藉由：使微粒含有於透光性樹脂中之方法；或是使具有凹凸面之模具(壓印模)密合於包含透光性樹脂之上述塗布層，以將該凹凸面轉印至塗布層之方法等來進行。
透光性樹脂的具體例，包含如紫外線硬化性樹脂或電子束硬化性樹脂般之活化能射線硬化性樹脂，或是熱硬化性樹脂、熱塑性樹脂、金屬烷氧化物。此等當中，尤其在形成防眩層或硬塗層時，由於可賦予高硬度及耐擦傷性，故較佳為活化能射線硬化性樹脂。當使用活化能射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂或金屬烷氧化物時，可藉由活化能射線的照射或加熱使該樹脂硬化而形成光學層22(或構成此之層)。
活化能射線硬化性樹脂的具體例，包含多元醇的(甲基)丙烯酸酯般之多官能(甲基)丙烯酸酯；使(甲 基)丙烯酸的羥烷酯與藉由二異氰酸酯與多元醇的反應所得之末端異氰酸基胺甲酸乙酯預聚物反應而得之多官能(甲基)丙烯酸胺甲酸乙酯。此等之外，具有(甲基)丙烯酸酯系的官能基之聚醚樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺旋縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、多元硫醇聚烯樹脂等，亦可成為活化能射線硬化性樹脂。
熱硬化性樹脂係除了由丙烯酸多元醇與異氰酸酯預聚物所構成之熱硬化行胺甲酸乙酯樹脂之外，例如可列舉出酚樹脂、三聚氰胺脲樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧烷樹脂等。
熱塑性樹脂的具體例，包含乙醯纖維素、硝化纖維素、乙醯丁基纖維素、乙基纖維素、甲基纖維素等之纖維素衍生物；乙酸乙烯酯的均聚物或共聚物、氯乙烯的均聚物或共聚物、偏二氯乙烯的均聚物或共聚物般之乙烯系樹脂；聚乙烯甲醛、聚乙烯丁醛般之縮醛樹脂；(甲基)丙烯酸樹脂、(甲基)丙烯酸酯系共聚物般之(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚醯胺系樹脂；聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂。
金屬烷氧化物係可使用以烷氧矽烷系的材料，並藉由水解或脫水縮合來形成氧化矽系等的基質者。具體而言，例如為四甲氧矽烷、四乙氧矽烷等，可藉由水解或脫水縮合來構成無機系或有機無機複合系基質之透光性樹脂。
此等當中，活化能射線硬化性樹脂或熱硬化 性樹脂(均為硬化前的狀態)有時以液體狀態來準備，此外，金屬烷氧化物較多情況下為液體。如此以液體狀態所準備之樹脂，可直接用作為用以形成光學層22之塗布液，但可因應必要，藉由溶劑等予以稀釋之狀態來構成塗布液。另一方面，如熱塑性樹脂般之以固體所準備之樹脂，可藉由適當的溶劑予以溶解之狀態來構成塗布液。包含活化能射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、金屬烷氧化物或熱塑性樹脂之塗布液，可包含如平坦化劑或分散劑般之適當的添加劑。
光學層22係為了如上述般形成表面凹凸，或是以降低閃斑等為目的而賦予內部霧度，可含有微粒。此時，光學層22為防眩層或是包含防眩層之層。微粒可使用透光性者，該具體例包含：由(甲基)丙烯酸系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、有機聚矽氧樹脂、(甲基)丙烯酸-苯乙烯共聚物等所構成之有機微粒；由碳酸鈣、二氧化矽、氧化鋁、碳酸鋇、硫酸鋇、氧化鈦、玻璃等所構成之無機微粒；有機聚合物的球體；玻璃中空顆粒。微粒可單獨使用1種或併用2種以上。微粒的形狀可為球狀、扁平狀、板狀、針狀、非定形狀等。
從賦予表面凹凸及顯現內部霧度之觀點來看，微粒的粒徑(重量平均粒徑)較佳位於0.5至20μm的範圍。此外，為了充分地提高內部霧度的顯現，透光性樹脂(活化能射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、金屬烷氧化物時為硬化物)的折射率與微粒的折射之間的差(絕對值)，較 佳位於0.04至0.15的範圍。
微粒的含量，相對於透光性樹脂的100重量份，通常為3至60重量份，較佳為5至50重量份。當微粒的含量未達3重量份時，難以得到用以降低閃斑之充分的內部霧度。另一方面，該含量超過60重量份時，有時會損及所得之第1光學膜20的透明性，此外，將偏光板適用在圖像顯示裝置時，光散射過強，例如於黑顯示時，由於相對於圖像顯示裝置的正面方向而言呈斜向漏出的光，因光學層22而往正面方向強烈地散射等理由，有時會導致對比的降低。
光學層22所能夠包含之低折射率層，可由：如紫外線硬化性(甲基)丙烯酸樹脂般之樹脂材料；使膠體二氧化矽般的無機微粒分散於樹脂中之混成材料；包含烷氧矽烷之溶膠-凝膠材料等所形成。低折射率層的折射率，可位於1.30至1.45的範圍。低折射率層，可藉由塗布已聚合之聚合物而形成，或是以前驅物之單體或低聚物的狀態來塗布，然後聚合硬化而形成。
上述溶膠-凝膠材料，較佳係包含於分子內具有氟原子之化合物，該代表例可列舉出聚氟烷基烷氧矽烷。聚氟烷基烷氧矽烷，例如可為以下述式：CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR)3所示之化合物。在此，R表示碳數1至5的烷基，n表示0至12的整數。當中，較佳為上述式中的n為2至6之化合物。
低折射率層係亦可藉由使如具有交聯性官能基之含氟聚合物般之硬化性含氟化合物硬化而形成。具有交聯性官能基之含氟聚合物，可藉由：1)使含氟單體與具有交聯性官能基之單體共聚合之方法，2)使含氟單體與具有官能基之單體共聚合，接著使具有交聯性官能基之化合物加成於聚合物中的上述官能基之方法等而製造。
上述含氟單體，例如可列舉出氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2,2-二甲基-1,3-二氧呃般之氟烯烴類；(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化烷酯衍生物類；(甲基)丙烯酸的完全或部分氟化乙烯醚類。
上述具有交聯性官能基之單體及具有交聯性官能基之化合物，例如可列舉出(甲基)丙烯酸縮水甘油酯般之具有縮水甘油基之單體；(甲基)丙烯酸般之具有羧基之單體；(甲基)丙烯酸羥烷酯般之具有羥基之單體；(甲基)丙烯酸烯丙酯般之具有烯基之單體；具有胺基之單體；具有磺酸基之單體。
低折射率層係可包含由二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、二氧化鋯、氟化鎂等所構成之低折射率性的無機微粒。當中可較佳地使用二氧化矽的中空微粒。微粒的平均粒徑，較佳位於5至2000nm的範圍，尤佳位於20至100nm的範圍。
藉由將第1光學膜20貼合於偏光片10之一方的面，可得到偏光板1。偏光片10與第1光學膜20之貼合，可使用接著劑或黏著劑來進行。接著劑可使用包含 聚乙烯醇系樹脂或胺甲酸乙酯樹脂作為主成分之水系接著劑，或是包含如紫外線硬化性樹脂(環氧系樹脂)般之光硬化性樹脂之光硬化性接著劑。黏著劑可使用以(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺甲酸酯、聚醚等作為基礎聚合物者。於貼合之前，可對偏光片10及/或第1光學膜20的貼合面施以皂化處理、電暈處理、引體處理、定錨塗布處理等之易接著處理。
(3)第1光學膜的表面特性
本發明之偏光板1中，第1光學膜20的外面S，該剖面曲線的峰度Pku設為3.0以上，且反射率Y設為4.0%以下。藉由將該表面特性賦予至由細微表面凹凸所構成之外面S，可有效地抑制以手指等來按壓圖面時之牛頓環的產生。
如專利文獻1及2般，於用以抑制牛頓環之以往的探討中，係以表面凹凸的算術平均粗糙度Ra，來評估朝向氣隙側之表面凹凸形狀與牛頓環的產生之關係。然而，藉由本發明者的探討，可得知相較於算術平均粗糙度Ra，使用表示凸部的尖度之指標之Pku者，更能夠正確地評估表面凹凸形狀與牛頓環的產生之關係，以反射率Y為4.0%以下者為前提，藉由將Pku設為3.0以上，可有效地抑制牛頓環的產生。從本發明者的探討中，可得知即使表面凹凸的算術平均粗糙度Ra為同等程度，Pku亦可能顯著地不同，算術平均粗糙度Ra與Pku並不必然相關。
此外，本發明者係發現到不僅外面S的Pku， 反射率Y對於牛頓環的產生亦會造成極大影響，為了抑制牛頓環，不僅須將Pku調整在既定範圍，亦須將反射率Y調整在既定範圍。
剖面曲線的峰度Pku，為JIS B 0601：2013「製品的幾何特性規格(GPS)-表面性狀：輪廓曲線方式-用語、定義及表面性狀參數」(對應於ISO 4287：1997,Amd,1：2009)的4.2.4所規定之參數，並以下述式所定義。
式中，Z(x)為任意位置x上之剖面曲線的高度，Lp為剖面曲線的基準長度(等於評估長度)。Pq為剖面曲線的均方根高度，於JIS B 0601：2013的4.2.2中定義如下。
亦即，Pku為藉由剖面曲線之均方根高度Pq的四次方予以無維度化後之基準長度Lp中之Z(x)的四次方根。Pku為顯示剖面曲線之機率密度函數的尖銳(銳度)的程度之參數，統計用語中稱為「尖度」。
Pku係可使用市售的三維形狀測定裝置或粗糙度計等來測定。於後述實施例中，係使用SENSOFAR公司製的三維顯微鏡「PL μ 2300」來測定。此裝置係可對測 定樣本自動地計算所指定之參數。
此外，反射率Y，係意味著視感度修正反射率，具體而言，為藉由JIS Z 8701的2度視野(C光源)，對於在入射角12°下使光入射時之反射角12°下之波長350至900nm的範圍之分光反射率(亦即入射角12°下之正反射率)進行視感度修正後之反射率。參考第2圖來具體說明反射率Y的測定方法，可從位於第1光學膜20的外面S側且相對於第1光學膜20的法線200方向傾斜12°之方向使光201入射，並測定：在包含入射光201的方向與法線200之平面內，從法線200方向觀看，朝與入射光201為相反側上傾斜12°之方向反射之反射光204(朝正反射方向之反射光)的分光反射率。然後從所得之分光反射率中，藉由JIS Z 8701的2度視野(C光源)進行視感度修正而求取反射率Y。
反射率Y係可使用分光光度計等來測定。反射率Y的測定，為了排除來自第1光學膜20的內面之反射對策定值所造成之影響的可能性，並防止第1光學膜20的翹曲，係採用：使用光學呈透明之黏著劑，於該第1熱塑性樹脂膜21側將第1光學膜20貼合於黑色板(黑色丙烯酸板等)而成者，作為測定用樣本。
Pku愈高，且反射率Y愈低，愈有利於牛頓環的抑制，但例如當Pku充分高時，即使反射率Y於4.0以下的範圍中為相對較高時，亦有可充分地抑制牛頓環之傾向，反射率Y充分低時，即使Pku於3.0以上的範圍中 為相對較低時，亦有可充分地抑制牛頓環之傾向。例如當Pku為4.5以上時，即使反射率Y為2.0以上，或為2.5以上，或進一步為3.0以上，亦可充分地抑制牛頓環。此外，當反射率Y為2.0以下時，即使Pku為5.0以下，或為4.0以下，或進一步為3.5以下，亦可充分地抑制牛頓環。當Pku為相對較低的3.0至5.0時，反射率Y較佳為3.0以下，尤佳為2.5以下，更佳為2.0以下(特佳為1.5以下)。此外，當反射率Y為相對較高的3.0至4.0時，Pku較佳為3.1以上，尤佳為3.5以上，更佳為4.0以上。
第1光學膜20的外面S，該算術平均粗糙度Ra較佳為100nm以下。算術平均粗糙度Ra，為依據JIS B 0601：2013的4.2.1所規定之參數，係意味著基準長度中之高度Z(x)之絕對值的平均值。藉由將算術平均粗糙度Ra設為100nm以下，有時可提高牛頓環的抑制效果。第1光學膜20的外面S之算術平均粗糙度Ra通常為30nm以上。
Pku的調整係在用以防止因表面凹凸所造成之外光的映射或閃斑所使用之防眩膜的領域中，可依據一般所知的方法來進行。例如當使用包含微粒之塗布液來形成光學層22時，係有調節塗布液的設計，亦即該微粒的粒徑、相對於形成光學層22之透光性樹脂(例如活化能射線硬化性樹脂)之微粒的添加量、光學層22的膜厚、塗布液的溶劑、塗布液的乾燥條件等之方法。此外，當將賦予表面凹凸之模具(壓印模)壓抵於透光性樹脂的塗布層以轉印該表面凹凸形狀時，該模具可採用賦予有既定表面形狀者。
此外，將反射率Y調整於既定範圍之方法，可列舉出於光學層22的最表面設置低折射率層，或是在表面設置細微凹凸結構。
(4)透光性構件
光學構件套組40中配置在偏光板1的第1光學膜20側(偏光板1的觀看側)之透光性構件30，為透光性的板狀體、薄片或薄膜等，除了其本身可為觸控輸入元件(觸控面板)之外，藉由使觸控輸入元件的功能具備於圖像顯示元件，亦可發揮僅作為配置在圖像顯示裝置的最表面之保護板(前面板)的功能之構件。透光性構件30係可為玻璃板或具有透光性(較佳為光學呈透明)之各種熱塑性樹脂膜。熱塑性樹脂膜的具體例，可引用第1熱塑性樹脂膜21所說明之內容。
如後述般，當觸控輸入式圖像顯示裝置為電阻膜方式時，於作為觸控輸入元件之透光性構件30中之第1光學膜20(氣隙)側的最表面，有時會形成透明導電層。作為電阻膜方式所使用之觸控輸入元件的透光性構件30，由於較佳具有可撓性，故較多是由熱塑性樹脂膜所構成。另一方面，於靜電電容方式所使用之透光性構件30，較多並不要求可撓姓，故可使用玻璃板及熱塑性樹脂膜中的任一種。
(5)偏光板及光學構件套組的變形例
第3圖係顯示本發明之偏光板、以及包含此之光學構件套組的其他一例之概略剖面圖。如第3圖所示之偏光板 2般，本發明之偏光板，除了偏光片10及第1光學膜20之外，更可包含積層於偏光片10之與第1光學膜20相反側的面上之第2光學膜25。第2光學膜25為於圖像顯示裝置中配置在圖像顯示元件側之膜。第3圖所示之光學構件套組41，係由該偏光板2與上述透光性構件30所構成，並使用在由偏光板2與配置在該第1光學膜20側(偏光板2的觀看側)之透光性構件30所建構之氣隙方式的觸控輸入式圖像顯示裝置。
第2光學膜25可為由熱塑性樹脂膜(第2熱塑性樹脂膜)所構成之膜，或是包含此之膜。構成第2熱塑性樹脂膜之熱塑性樹脂的具體例，可引用第1熱塑性樹脂膜21中所說明之內容。當中，可較佳地使用纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂等。第2光學膜25的厚度，通常為5至200μm，較佳為10μm以上，此外，較佳為80μm以下。
第2光學膜25係可為僅用以保護偏光片10之保護膜，或例如為相位差膜(光學補償膜)、亮度提升膜般之兼具光學功能之保護膜。相位差膜係例如可為使上述第2熱塑性樹脂膜(環狀聚烯烴系樹脂膜等)進行單軸或雙軸拉伸之膜，或是將液晶化合物塗布並配向於上述第2熱塑性樹脂膜(纖維素系樹脂膜等)之膜。此外，第2光學膜25亦可為在與熱收縮性膜之接著下施加收縮力及/或拉伸力以控制膜之厚度方向上的折射率之複折射性膜。此外，第2光學膜25亦可為作為保護膜之第2熱塑性樹脂膜與積 層於該上方之光學補償膜之積層體。
以下述式：R0=(nx-ny)×d
Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d所定義之相位差膜的面內相位差值R、厚度方向相位差值Rth，例如若圖像顯示元件為液晶單元，可配合該液晶單元的種類來適當地調整。上述式中，nx為面內遲相軸方向的折射率，ny面內進相軸方向(與面內遲相軸方向正交之方向)的折射率，nz為厚度方向的折射率，d為膜的厚度。當圖像顯示元件為有機EL顯示元件時，相位差膜例如為1/4 λ板。
第2光學膜25與偏光片10之貼合，亦可使用水系接著劑或光硬化性接著劑之接著劑，或是黏著劑來進行，於貼合之前，可於偏光片10及/或第2光學膜25的貼合面施予如上述之易接著處理。
第4圖係顯示本發明之偏光板以及包含此之光學構件套組的其他一例之概略剖面圖。如第4圖所示，偏光板及透光性構件可具有透明導電層。第4圖所示之由偏光板3及透光性構件30所構成之光學構件套組42，可使用電阻膜方式，於作為觸控輸入元件之透光性構件30中之第1光學膜20(氣隙)側的最表面，形成有透明導電層31，於第1光學膜20的外面S，亦形成有透明導電層23。成為電極之透明導電層23、31，以手指等按壓透光性構件30側時，兩者於該位置接觸而達到用以檢測該位置之功 用。透明導電層23、31係於電阻膜方式中，可藉由一般所知的ITO(氧化銦錫)等來構成。
第4圖所示之偏光板3係與第3圖所示之偏光板2相同，更可包含積層於與第1光學膜20相反側的面上之第2光學膜25。
〈第1光學膜的製造方法〉
在此更具體地說明第1光學膜20的製造方法。具有由表面凹凸所構成之外面S之第1光學膜20，可藉由：將包含透光性樹脂及微粒之塗布液塗布於第1熱塑性樹脂膜21上，並因應必要使塗布層乾燥(包含溶劑時)，然後因應必要，藉由活化能射線的照射(使用活化能射線硬化性樹脂時)或加熱(使用熱硬化性樹脂或金屬烷氧化物時)使塗布層硬化，而在塗布層上顯現由微粒所形成之凹凸之方法；或是塗布包含透光性樹脂之塗布液(可包含微粒)，並使具有凹凸面之模具(壓印模)密合於塗布層，以將該凹凸面轉印至塗布層之方法等來製造。為了微調表面凹凸或控制反射率Y，更可將其他層(例如低折射率層)積層於藉由上述方法所得之層的上方。
上述之中，可較佳地用以賦予表面凹凸之方法，為使用壓印模之方法，該方法包含下列步驟：(A)將包含透光性樹脂之塗布液塗布於第1熱塑性樹脂膜21上之步驟，以及(B)將壓印模(轉印用模)的凹凸面轉印至塗布層的表面之步驟。
上述步驟(A)所使用之塗布液，係包含透光性樹脂，並可因應必要包含透光性微粒或溶劑等之其他成分。使用紫外線硬化性樹脂作為透光性樹脂時，該塗布液更包含光聚合起始劑(自由基聚合起始劑)。光聚合起始劑例如可使用苯乙酮系光聚合起始劑、安息香系光聚合起始劑、二苯基酮系光聚合起始劑、噻吨酮系光聚合起始劑、三嗪系光聚合起始劑、噁二唑系光聚合起始劑等。此外，光聚合起始劑亦可使用例如2,4,6-三甲基苯甲醯二苯基膦氧化物、2,2'-雙(鄰氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-雙咪唑、10-丁基-2-氯阿啶酮、2-乙基蒽醌、苄、9,10-菲醌、樟腦醌、苯基乙醛酸甲酯、二茂鈦化合物等。光聚合起始劑的用量，相對於塗布液中所含有之用紫外線硬化性樹脂100重量份，通常為0.5至20重量份，較佳為1至5重量份。
塗布液於第1熱塑性樹脂膜21上之塗布，例如可藉由凹版塗布法、微凹版塗布法、桿塗布法、刮刀塗布法、空氣刮刀塗布法、接觸塗布法、壓模塗布法等來進行。
以塗布液之塗布性的改良或與所得之塗布層之接著性的改良為目的，可對第1熱塑性樹脂膜21的塗布面施以各種表面處理。表面處理例如可列舉出電暈放電處理、輝光放電處理、酸表面處理、鹼表面處理、紫外線照射處理等。此外，於第1熱塑性樹脂膜21上，例如可形成引體層等之其他層，再將塗布液塗布於該上方。
上述步驟(B)中，使壓印模的凹凸面密合於塗 布層的表面以轉印該凹凸面。如此，藉由將壓印模的凹凸面轉印至塗布層的表面，可形成具有期望的表面形狀之光學層22(或構成此之層)。
當使用活化能射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂或金屬烷氧化物作為透光性樹脂時，在使壓印模的凹凸面密合於塗布層的表面之狀態下，藉由活化能射線的照射(使用活化能射線硬化性樹脂時)或加熱(使用熱硬化性樹脂或金屬烷氧化物時)使塗布層硬化。活化能射線可因應塗布液所包含之樹脂的種類，從電子束、紫外線、近紫外線、可見光、近紅外線、紅外線、X射線等來適當地選擇。此等當中，較佳為紫外線或電子束，尤其可較佳地使用處理簡便且可得到高能量之紫外線。
採用紫外線時，該光源例如可使用低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、碳電弧燈、氙燈、金屬鹵化物燈等。此外，亦可使用ArF準分子雷射、KrF準分子雷射、準分子雷射燈或是同步輻射光等。此等當中，可較佳地使用超高壓汞燈、高壓汞燈、包含中壓及低壓之汞燈、氙燈、或金屬鹵化物燈。
電子束可列舉出具有從科克勞夫-沃吞(Cockcroft-Walton)型、範德格拉夫(Van de Graaf)型、共振變壓型、絕緣芯變壓器型、直線型、高頻高壓型、高頻率型等之各種電子束加速器所射出之具有50至1000keV，較佳為100至300keV的能量之電子束。
〈壓印模的製作方法〉
用以將表面凹凸賦予至光學層22之壓印模，係具有因應期望之光學層22的表面凹凸形狀之表面凹凸形狀。
壓印模中之表面凹凸的圖案，可為規則圖案或不規則圖案，或是填滿特定大小之1種以上的不規則圖案而成之虛擬不規則圖案。惟從防止由於表面形狀所起因之反射光的干涉使反射像染上虹彩色之觀點來看，較佳為不規則圖案或虛擬不規則圖案。
壓印模的外形形狀並無特別限制，可為平板狀、圓柱狀或圓筒狀輥，從第1光學膜20的連續生產性之觀點來看，較佳為圓柱狀或圓筒狀的鑄模，亦即壓印輥。此時，係在圓柱狀或圓筒狀鑄模的側面形成既定的表面形狀。
構成壓印模之基材亦無特別限制，例如可從金屬、玻璃、碳、樹脂、或此等的複合體來適當地選擇，從加工性等觀點來看，較佳為金屬。可適當地使用於壓印模之金屬材料，從成本之觀點來看，可列舉出鋁、鐵、或以鋁或鐵為主體之合金等。
製得壓印模之方法，例如可列舉出：在研磨基材並施予噴砂加工後，施予無電解鍍鎳之方法(日本特開2006-53371號公報)；在對基材施予鍍銅或鍍鎳後，進行研磨並施以噴砂加工後，施予鍍鉻之方法(日本特開2007-187952號公報)；施予鍍銅或鍍鎳後，進行研磨並施予噴砂加工後，施予蝕刻步驟或鍍銅步驟，然後施予鍍鉻之方法(日本特開2007-237541號公報)；在對基材表面施予 鍍銅或鍍鎳後，進行研磨並將感光性樹脂膜塗布形成於研磨後的面上，對該感光性樹脂膜進行曝光來形成圖案後，進行顯影並使用顯影後的感光性樹脂膜作為遮罩來進行蝕刻處理，將感光性樹脂膜剝離，再進行蝕刻處理，使凹凸面鈍化後對所形成之凹凸面施予鍍鉻之方法(日本特開2010-76385號公報或日本特開2012-68474號公報)；以及使用銑床等工具機，藉由切削工具來切削成為鑄模之基材之方法(日本國際公開第2007/077892號手冊)等。
由不規則圖案或虛擬不規則圖案所構成之壓印模的表面凹凸形狀，例如可藉由下列方式來形成，亦即將藉由調頻網點法、DLDS(Dynamic Low-Discrepancy Sequence；動態低差異性數列)法、應用嵌段共聚物的微相分離圖案之方法或帶通濾波法等所生成之不規則圖案，於感光性樹脂膜上進行曝光及顯影，並使用顯影後的感光性樹脂膜作為遮罩來進行蝕刻處理而形成。
〈觸控輸入式圖像顯示裝置〉
本發明之觸控輸入式圖像顯示裝置，係將本發明之偏光板配置在圖像顯示元件的觀看側，並以與第1光學膜相離的方式將透光性構件配置在該偏光板的第1光學膜側。圖像顯示元件可為液晶單元般之非自發光型的元件，或是有機EL顯示元件般之自發光型的元件。
第5圖係顯示使用液晶單元50作為圖像顯示元件之觸控輸入式圖像顯示裝置的一例。此例中，係適用第1圖所示之光學構件套組40，但並不限定於此，只要是 本發明之光學構件套組即可。觸控輸入式圖像顯示裝置的動作方式可為任意方式，該代表例有電阻膜方式與靜電電容方式。液晶單元50係將液晶層夾持於2片透明基板間，並藉由施加電壓來控制該液晶層的配向狀態而能夠顯示者，可採用於液晶顯示的領域中一般所知者。
當觸控輸入式圖像顯示裝置為具備液晶單元50之液晶顯示裝置時，如第5圖所示，於液晶單元50的背面側配置有背面側偏光板60，且更在該背面側配置用以供給顯示用的光之背光80。偏光板通常係介於黏著劑層70、71貼合於液晶單元50。
另一方面，當採用有機EL顯示元件作為圖像顯示元件時，由於有機EL顯示元件為自發光型，故只要配置該有機EL顯示元件來取代第5圖中的液晶單元50、黏著劑層71、背面側偏光板60及背光80即可。有機EL顯示元件係以1對電極夾持包含有機發光材料之發光體者，且仍可採用該領域中一般所知者。
[實施例]
以下係顯示實施例來更具體說明本發明，但本發明並不限定於此等例子。例中，表示含量或使用量之%及份，在無特別言明時為重量基準。
〈實施例1〉
(A)光學膜的製作
(A1)光學膜用模具(壓印模)的製作
依據日本特開2012-68474號公報的實施例1(B)所記載 之方法，但改變用以形成凹凸之蝕刻量，來製作出用以將凹凸形狀賦予至光學膜之模具。亦即，首先準備在直徑200mm的鋁輥(依據JIS之A5056)的表面施以銅巴拉德電鍍者。銅巴拉德電鍍係採用由鍍銅層/薄鍍銀層/表面鍍銅層所形成者，且使用鍍層全體的厚度為約200μm者。對該鍍銅表面進行鏡面研磨，將正型感光性樹脂塗布於經研磨後的鍍銅表面，並進行乾燥而形成感光性樹脂膜。接著以重複排列既定圖案(同一公報的第16圖所示之圖案)之方式，於感光性樹脂膜上藉由雷射光進行曝光與顯影。雷射光之曝光與顯影係使用Think Laboratory股份有限公司製的「Laser Stream FX」來進行。
顯影後，以氯化銅液進行第1蝕刻處理。接著從第1蝕刻處理後的輥中去除感光性樹脂膜，並再次以氯化銅液進行第2蝕刻處理。此時，為了將經由此後續處理所得之光學膜之剖面曲線的峰度Pku調整為既定值，第1蝕刻的處理量(藉由蝕刻所去除之厚度)設定為4μm，第2蝕刻的處理量(同樣藉由蝕刻所去除之厚度)設定為12μm。然後進行鍍鉻加工。鍍鉻厚度設定為4μm。如此可製作出表面具有細微凹凸之模具輥。
(A2)紫外線硬化性樹脂組成物的調製
紫外線硬化性樹脂組成物的原料，係準備以下所示者。
‧紫外線硬化性樹脂：三丙烯酸新戊四醇酯60份以及多官能丙烯酸胺甲酸乙酯(六亞甲二異氰酸酯與三丙烯酸新戊四醇酯之反應生成物)40份之混合物。
‧光聚合起始劑：BASF公司所販售之「Lucirin TPO」(化學名稱：2,4,6-三甲基苄基二苯基膦氧化物)。
相對於上述紫外線硬化性樹脂100份，混合上述光聚合起始劑5份以及作為稀釋溶劑之乙酸乙酯150份，而調製出用以形成塗佈層之紫外線硬化性樹脂組成物。
(A3)光學膜的製作
以使乾燥後的膜厚成為5μm之方式，藉由模縫式塗布機將上述調製出之紫外線硬化性樹脂組成物塗布於由三乙醯纖維素所構成之熱塑性樹脂膜上，而得到由熱塑性樹脂膜與紫外線硬化性樹脂組成物的塗布層所構成之積層體。於乾燥機中使該積層體乾燥後，以使塗布層側與模具接觸之方式，藉由軋輥壓抵於上述(A1)所製作之模具輥並密合。在此狀態下，從熱塑性樹脂膜側，以最大照度成為700mW/cm2、積算光量成為300mJ/cm2之方式照射紫外線，使紫外線硬化性樹脂組成物硬化。然後將積層體從模具輥中剝離，而形成表面具有凹凸之樹脂層。
(A4)低折射率層的形成
將異丙醇及0.1N鹽酸添加於四乙氧矽烷與1J,1H,2H,2H-全氟辛基三甲氧矽烷之95：5(莫耳比)混合物以進行水解，藉此得到包含由低聚物所構成之有機矽化合物的聚合物之溶液。將低折射率二氧化矽中空微粒混合於該溶液，並加入異丙醇，藉此得到包含2重量%的有機矽化合物以及2重量%的低折射率二氧化矽中空微粒之低折射率層形成用塗布液。藉由繞線棒塗布機，將所得之低折射率層形成用 塗布液塗布於以上所得之光學膜的凹凸面，於設定在120℃之乾燥機中乾燥1分鐘來形成低折射率層，而得到光學膜。所得之低折射率層的厚度為102nm，折射率為1.37。
(B)光學膜之表面形狀的測定
使用SENSOFAR公司製的三維顯微鏡「PL μ 2300」，將物鏡的倍率設為10倍，並在共焦點模式下求取以上所得之光學膜的表面形狀(剖面曲線的峰度Pku)。測定面積設為637μm×477μm。此外，為了防止光學膜樣本的翹曲，係使用光學呈透明之黏著劑，以與凹凸面相反側的面(凹凸面成為表面)，將樣本貼合於玻璃基板後進行測定。所得之光學膜具有之凹凸面的Pku為3.2。
(C)光學膜之反射率Y(反射率Y值)的測定
依循上述測定方法，使用積分球(島津製作所股份有限公司製「BIS-3100」)附屬於分光光度計(島津製作所股份有限公司製「UV2450」)之裝置，測定反射率Y值。為了防止來自光學膜樣本內面的反射，並防止樣本的翹曲，係使用光學呈透明之黏著劑，以與凹凸面相反側的面(凹凸面成為表面)，將樣本貼合於黑色丙烯酸板(住友化學股份有限公司製「Sumipex」)後進行測定。所得之光學膜具有之凹凸面的反射率Y為1.0%。
(D)偏光片的製作
將平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上且厚度75μm之聚乙烯醇膜浸漬在30℃的純水後，於30℃浸漬在碘/碘化鉀/水的重量比為0.02/2/100之水溶液以進行染色。 然後於56.5℃浸漬在碘化鉀/硼酸/水的重量比為12/5/100之水溶液以進行交聯處理。接著以8℃的純水洗淨後，於65℃進行乾燥而得到碘吸附配向於聚乙烯醇之偏光片。拉伸主要是在碘染色及硼酸交聯處理的步驟中進行，總拉伸倍率為5.3倍。
(E)接著劑的調製
將Kuraray股份有限公司所販售之經羧基改質的聚乙烯醇「Kuraray Poval KL318」(改質度2莫耳%)1.8份溶解於水100份，接著再添加水溶性聚醯胺環氧樹脂之田岡化學工業股份有限公司所販售之「Sumirez Resin 650」(固體成分30%的水溶液)1.5份並溶解，而調製出聚乙烯醇系接著劑。
(F)偏光板的製作
對上述(A4)所製作之光學膜之與形成有具有凹凸之光學層之面為相反側的熱塑性樹脂膜面施予皂化處理後，藉由棒塗布機將上述(E)所調製出之聚乙烯醇系接著劑塗布10μm，並將上述(D)所製作之偏光片貼合於該上方。此外，準備厚度40μm的三乙醯纖維素膜(Konica Minolta Advanced Layer股份有限公司所販售之「KC4UE」、面內相位差值R0=0.7nm、厚度方向相位差值Rth=-0.1nm)，作為貼合於偏光片的另一面之保護膜。對該保護膜施予皂化處理後，藉由棒塗布機將上述(E)所調製出之聚乙烯醇系接著劑塗布10μm於該皂化處理面，並將該塗布面貼合於上述偏光片之與貼合有光學膜之面為相反側的面。然後於80℃乾 燥5分鐘，再於常溫下熟化1天。如此可製作出由光學膜/偏光片/三乙醯纖維素膜的層構成所形成之偏光板。
(G)牛頓環的評估
以使丙烯酸板與偏光板表面之間的氣隙成為0.3mm之方式來調節，而將4mm厚的丙烯酸板配置在將上述(F)所製作之偏光板的光學膜凹凸面側。以700g的荷重按壓丙烯酸板，觀察是否產生牛頓環，並依循下列評估基準來評估。
A：未觀察到牛頓環
B：觀察到些許牛頓環，但為無觀看問題之等級
C：顯著地觀察到牛頓環
〈實施例2〉
除了將光學膜用模具的第1蝕刻處理量設為5.0μm，將低折射率層的厚度設為68nm之外，其他與實施例1相同而得到光學膜。以與實施例1相同之方法來測定該膜的表面特性，Pku為4.9，反射率為2.0%。除了將該膜用作為光學膜之外，其他與實施例1相同而製作偏光板，並進行牛頓環的評估。
〈實施例3〉
除了將光學膜用模具的第1蝕刻處理量設為7.0μm，且未設置低折射率層之外，其他與實施例1相同而得到光學膜。以與實施例1相同之方法來測定該膜的表面特性，Pku為7.9，反射率為3.0%。除了將該膜用作為光學膜之外，其他與實施例1相同而製作偏光板，並進行牛頓環的評估。
〈實施例4〉
除了未設置低折射率層之外，其他與實施例1相同而得到光學膜。以與實施例1相同之方法來測定該膜的表面特性，Pku為3.2，反射率為3.4%。除了將該膜用作為光學膜之外，其他與實施例1相同而製作偏光板，並進行牛頓環的評估。
〈實施例5〉
除了將低折射率層的厚度設為80nm之外，其他與實施例1相同而得到光學膜。以與實施例1相同之方法來測定該膜的表面特性，Pku為3.2，反射率為1.8%。除了將該膜用作為光學膜之外，其他與實施例1相同而製作偏光板，並進行牛頓環的評估。
〈比較例1〉
以Nippon Paper Chemicals股份有限公司所販售之表面處理膜「NC-1B」作為光學膜。以與實施例1相同之方法來測定該膜的表面特性，Pku為3.3，反射率為4.1%。除了使用該膜作為光學膜之外，其他與實施例1相同而製作偏光板，並進行牛頓環的評估。
〈比較例2〉
以凸版印刷股份有限公司所販售之表面處理膜「40CHC」作為光學膜。以與實施例1相同之方法來測定該膜的表面特性，Pku為2.2，反射率為4.2%。除了使用該膜作為光學膜之外，其他與實施例1相同而製作偏光板，並進行牛頓環的評估。
〈比較例3〉
以凸版印刷股份有限公司所販售之表面處理膜「40KSPLR」作為光學膜。以與實施例1相同之方法來測定該膜的表面特性，Pku為2.6，反射率為1.0%。除了使用該膜作為光學膜之外，其他與實施例1相同而製作偏光板，並進行牛頓環的評估。
將實施例1至5及比較例1至3中所進行之牛頓環的評估結果，與所使用之光學膜的表面特性一同顯示於第1表。
1‧‧‧偏光板
10‧‧‧偏光片
20‧‧‧第1光學膜
21‧‧‧第1熱塑性樹脂膜
22‧‧‧光學層
30‧‧‧透光性構件
40‧‧‧光學構件套組
S‧‧‧第1光學膜的外面

Claims (9)

  1. 一種偏光板，其係包含：偏光片、以及積層於其一方的面上之第1光學膜，前述第1光學膜之與前述偏光片為相反側的表面，剖面曲線的峰度(Kurtosis)Pku為4.0以上，且以入射角12°使光入射時之反射角12°的反射率Y為4.0%以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述第1光學膜包含：第1熱塑性樹脂膜、以及積層於與該前述偏光片為相反側的面上之光學層。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之偏光板，其中前述第1熱塑性樹脂膜係包含纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂或聚酯系樹脂。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板，其更包含：積層於前述偏光片之與前述第1光學膜為相反側的面上之第2光學膜。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之偏光板，其中前述第2光學膜係包含由纖維素系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂或環狀聚烯烴系樹脂所構成之第2熱塑性樹脂膜。
  6. 如申請專利範圍第4項所述之偏光板，其中前述第2光學膜為相位差膜。
  7. 一種觸控輸入式圖像顯示裝置用的光學構件套組，其係包含：如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之偏光板、以及 用以配置在前述偏光板的前述第1光學膜側之透光性構件。
  8. 一種觸控輸入式圖像顯示裝置，其係包含：圖像顯示元件、配置在前述圖像顯示元件的觀看側之如申請專利範圍第1至6項中任一項所述之偏光板、以及於前述偏光板的前述第1光學膜側，與前述第1光學膜相離而配置之透光性構件。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之觸控輸入式圖像顯示裝置，其中前述透光性構件為觸控輸入元件。
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