KR101711357B1 - 편광판, 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치 - Google Patents

편광판, 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치 Download PDF

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Abstract

편광자와, 그 한쪽의 면 상에 적층되는 제1 광학 필름을 포함하고, 제1 광학 필름에 있어서의 편광자와는 반대측의 표면은, 단면 곡선의 쿠르토시스(Pku)가 3.0 이상이며, 또한, 입사각 12°로 광을 입사했을 때의 반사각 12°에 있어서의 반사율(Y)이 4.0％ 이하인 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치가 제공된다.

Description

편광판, 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치{POLARIZING PLATE, OPTICAL-MEMBER SET, AND TOUCHSCREEN}
본 발명은, 에어갭 방식의 터치 입력식 화상 표시 장치에 적합하게 이용할 수 있는 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치에 관한 것이다.
최근, 스마트폰이나 태블릿형 휴대 정보 단말 등을 중심으로, 터치 입력식의 화상 표시 장치가 급속히 보급되고 있다. 터치 입력식 화상 표시 장치는, 화상 표시 소자의 시인측, 혹은 화상 표시 소자 내부에 터치 위치 정보를 검지하기 위한 터치 입력 소자(터치 패널)를 구비하고 있고, 화상 표시 소자가 액정셀이나 유기 일렉트로루미네선스(EL) 표시 소자 등인 경우, 터치 입력식 화상 표시 장치는 일반적으로 편광판을 포함하는 구성이 된다.
터치 입력식 화상 표시 장치에는 각종 방식이 있지만, 현재 주류를 차지하고 있는 것은 저항막 방식과 정전 용량 방식이다. 저항막 방식은, 투명 전극을 갖는 2장의 기판이 간극을 유지하며, 또한 각각의 투명 전극이 마주보도록 배치되어 있고, 손가락 등으로 화면을 터치했을 때에 대향하는 2개의 투명 전극이 접촉함으로써 터치 위치를 검지한다. 이와 같이, 저항막 방식에 있어서는, 2장의 기판 사이에 간극이 형성된다.
한편, 정전 용량 방식은, 손가락 등으로 터치한 부분의 표면 전하의 변화를 파악하여 터치 위치를 검지한다. 정전 용량 방식에 있어서도, 터치 입력식 화상 표시 장치 내에 간극을 형성한 구성의 것이 있다. 이하에서는, 터치 입력식 화상 표시 장치 내에 간극(에어갭)을 형성한 것을 「에어갭 방식」의 터치 입력식 화상 표시 장치라고도 한다.
일본 특허 공개 제2008-155387호 공보(특허문헌 1)에는, 수지 성형체의 요철 표면에 투명 도전막을 형성한 적층체를 터치 패널용의 투명 전극 부착 기판으로서 이용하는 것이 기재되어 있다. 또한, 일본 특허 공개 제2011-133881호 공보(특허문헌 2)에는, 저항막 방식의 터치 패널에 있어서의 한쪽의 기판(시인측의 기판)으로서, 편광판, 위상차 필름, 하드 코트층 및 투명 도전막을 이 순서로 포함하는 적층체를 이용하는 것이 기재되어 있다(도 9).
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2008-155387호 공보 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2011-133881호 공보
에어갭 방식의 터치 입력식 화상 표시 장치에 있어서는, 손가락 등으로 화면을 터치했을 때, 에어갭의 간격이 변화되고, 그 결과, 에어갭에 있어서 다중 반사한 광이 간섭하는 것에서 기인하여, 뉴턴링이라고 불리는 간섭 줄무늬가 발생하기 쉽다. 뉴턴링이 발생하면, 표시 화면의 시인성이 저하된다.
특허문헌 1에는, 수지 성형체에 있어서의 투명 도전막이 형성되는 쪽의 면을 조면화하는, 구체적으로는 산술 평균 거칠기(Ra)를 50∼150 nm로 함으로써 뉴턴링을 억제할 수 있는 것이 기재되어 있지만, 산술 평균 거칠기(Ra)의 제어에서는, 특히 그것이 100 nm 이하의 레벨인 경우에, 반드시 뉴턴링을 유효하게 억제할 수 없는 경우가 있었다. 특허문헌 2에는, 하드 코트층에 있어서의 투명 도전막이 형성되는 쪽의 면의 산술 평균 거칠기(Ra) 및 소정 높이의 볼록부의 존재 개수를 제어함으로써 뉴턴링 및 번쩍임을 억제할 수 있는 것이 기재되어 있지만, 특허문헌 1과 마찬가지로, 뉴턴링을 유효하게 억제할 수 없는 경우가 있었다.
본 발명의 목적은, 뉴턴링의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명은, 이하에 나타내는 편광판, 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치를 제공한다.
[1] 편광자와, 그 한쪽의 면 상에 적층되는 제1 광학 필름을 포함하고,
상기 제1 광학 필름에 있어서의 상기 편광자와는 반대측의 표면은, 단면 곡선의 쿠르토시스(Kurtosis)(Pku)가 3.0 이상이며, 또한, 입사각 12°로 광을 입사했을 때의 반사각 12°에 있어서의 반사율(Y)이 4.0％ 이하인, 편광판.
[2] 상기 제1 광학 필름은, 제1 열가소성 수지 필름과, 그 상기 편광자와는 반대측의 면 상에 적층되는 광학층을 포함하는, [1]에 기재된 편광판.
[3] 상기 제1 열가소성 수지 필름이 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴계 수지, 고리형 폴리올레핀계 수지 또는 폴리에스테르계 수지로 이루어지는, [2]에 기재된 편광판.
[4] 상기 편광자에 있어서의 상기 제1 광학 필름과는 반대측의 면 상에 적층되는 제2 광학 필름을 더 포함하는, [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 편광판.
[5] 상기 제2 광학 필름은, 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴계 수지 또는 고리형 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 제2 열가소성 수지 필름을 포함하는, [4]에 기재된 편광판.
[6] 상기 제2 광학 필름이 위상차 필름인, [4] 또는 [5]에 기재된 편광판.
[7] [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 편광판과,
상기 편광판에 있어서의 상기 제1 광학 필름측에 배치되기 위한 투광성 부재를 포함하는, 터치 입력식 화상 표시 장치용의 광학 부재 세트.
[8] 화상 표시 소자와,
상기 화상 표시 소자의 시인측에 배치되는 [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 편광판과,
상기 편광판에 있어서의 상기 제1 광학 필름측에, 상기 제1 광학 필름과 이격되어 배치되는 투광성 부재를 포함하는, 터치 입력식 화상 표시 장치.
[9] 상기 투광성 부재가 터치 입력 소자인, [8]에 기재된 터치 입력식 화상 표시 장치.
본 발명에 의하면, 뉴턴링의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트 및 터치 입력식 화상 표시 장치를 제공할 수 있다.
도 1은, 본 발명에 관련된 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는, 제1 광학 필름 외면의 반사율(Y)의 측정 방법을 설명하기 위한 도면으로, 레이저광의 입사 방향과 측정되는 반사광의 방향을 모식적으로 나타내는 사시도이다.
도 3은, 본 발명에 관련된 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트의 다른 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 4는, 본 발명에 관련된 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트의 다른 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 5는, 본 발명에 관련된 터치 입력식 화상 표시 장치의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
<편광판 및 광학 부재 세트>
도 1은, 본 발명에 관련된 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트의 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 도 1에 도시된 편광판(1)과 같이, 본 발명에 관련된 편광판은, 편광자(10)와, 그 한쪽의 면 상에 적층되는 제1 광학 필름(20)을 포함한다. 본 발명에 관련된 편광판은 터치 입력식 화상 표시 장치를 구성하는 부재의 하나로서 이용할 수 있고, 이 경우, 편광판은, 터치 입력식 화상 표시 장치가 갖는 화상 표시 소자의 시인측(전면측)에 배치된다.
본 발명에 관련된 광학 부재 세트는, 터치 입력식 화상 표시 장치를 구축하는 광학 부재의 세트(조합)로, 도 1을 참조하여, 전술한 편광판(1)과 투광성 부재(30)로 이루어진다. 광학 부재 세트(40)는, 편광판(1)과, 그 제1 광학 필름(20)측(편광판(1)의 시인측)에 배치되는 투광성 부재(30)로 구축된다. 이 광학 부재 세트(40)는 에어갭 방식의 터치 입력식 화상 표시 장치에 이용되고, 즉, 투광성 부재(30)는 제1 광학 필름(20)과 이격되어 배치·고정된다.
(1) 편광자
편광판(1)을 구성하는 편광자(10)로는, 광학축에 평행한 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 광학축에 직교하는 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 광학 필름일 수 있고, 구체적으로는, 폴리비닐알콜계 수지 필름에 2색성 색소(요오드 또는 2색성 유기 염료)가 흡착 배향된 것을 적합하게 이용할 수 있다.
편광자(10)를 구성하는 폴리비닐알콜계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻을 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지로는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외에, 아세트산비닐 및 이것과 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체 등이 예시된다. 아세트산비닐에 공중합되는 다른 단량체로는, 예컨대, 불포화 카르복실산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 술폰산류, 암모늄기를 갖는 (메트)아크릴아미드류 등을 들 수 있다. 폴리비닐알콜계 수지의 비누화도는, 통상 85∼100 몰％ 정도, 바람직하게는 98 몰％ 이상이다. 이 폴리비닐알콜계 수지는 또한 변성되어 있어도 좋고, 예컨대, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용할 수 있다.
또, 본 명세서에 있어서 「(메트)아크릴」이란, 아크릴 및 메타크릴로부터 선택되는 적어도 한쪽을 의미한다. 「(메트)아크릴레이트」 등이라고 할 때에 관해서도 마찬가지이다.
폴리비닐알콜계 수지의 중합도는, 통상 1000∼10000 정도, 바람직하게는 1500∼5000 정도이다. 구체적인 폴리비닐알콜계 수지나 2색성 색소로는, 예컨대, 일본 특허 공개 제2012-159778호 공보에 예시되어 있는 것을 들 수 있다.
상기 폴리비닐알콜계 수지를 제막한 것이, 편광자(10)의 원반 필름으로서 이용된다. 폴리비닐알콜계 수지를 제막하는 방법은 특별히 제한되지 않고, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 폴리비닐알콜계 수지로 이루어지는 원반 필름의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 예컨대 1∼150 ㎛ 정도이다. 연신 용이성 등도 고려하면, 그 두께는 10 ㎛ 이상인 것이 바람직하다.
편광자(10)는, 예컨대, 상기와 같은 폴리비닐알콜계 수지 필름을 1축 연신하는 공정; 폴리비닐알콜계 수지 필름을 2색성 색소로 염색하여 그 2색성 색소를 흡착시키는 공정; 2색성 색소가 흡착된 폴리비닐알콜계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정; 이 붕산 수용액에 의한 처리 후에 수세하는 공정; 및, 건조 공정을 거쳐, 제조할 수 있다. 편광자(10)의 두께는, 2∼40 ㎛ 정도일 수 있고, 바람직하게는 3∼30 ㎛ 정도이다.
편광자(10)는, 예컨대 일본 특허 공개 제2012-159778호 공보에 기재되어 있는 방법에 준하여 제조해도 좋다. 상기 문헌에 기재된 방법에 있어서는, 상기 폴리비닐알콜계 수지로 이루어지는 원반 필름을 이용하는 것이 아니라, 기재 필름에 대한 폴리비닐알콜계 수지의 코팅에 의해 폴리비닐알콜계 수지층을 형성하고, 이것을 연신, 염색하여 편광자층(편광자(10))으로 한 후, 보호 필름과 같은 광학 필름을 접합하여 편광판을 얻는다.
(2) 제1 광학 필름의 구성
제1 광학 필름(20)은, 편광자(10)를 보호하는 기능만을 갖는 열가소성 수지 필름(보호 필름)일 수도 있지만, 상기 보호 기능에 더하여 편광판(1)에 다른 광학 기능을 부여하기 위해, 및/또는 제1 광학 필름(20)에 후술하는 소정의 표면 특성을 부여하기 위해, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 열가소성 수지 필름(21)과, 그 편광자(10)와는 반대측의 면 상에 적층되는 광학층(22)을 포함하는 것인 것이 바람직하다.
광학층(22)은, 그 외면(S)(제1 열가소성 수지 필름(21)과는 반대측의 표면)이, 후술하는 소정의 표면 특성을 만족하는 미세한 표면 요철로 이루어진다. 광학층(22)은 단층 구조 또는 다층 구조일 수 있고, 특별히 제한되지 않지만, 예컨대, 방현층, 하드 코트층, 저굴절률층, 반사 방지층, 대전 방지층, 방오층 또는 이들 중 2 이상의 기능(특성)을 겸비한 층을 포함하여 구성할 수 있다. 광학층(22)은 표면 요철을 갖는 층인 점에서, 전형적으로는, 방현층, 또는 하드 코트층을 겸한 방현층을 포함한다. 광학층(22)은, 후술하는 소정의 표면 특성을 만족하도록, 그 구성, 재질 및 표면 요철 형상이 선택·조정된다.
제1 열가소성 수지 필름(21)은, 투광성을 갖는 열가소성 수지로 이루어지는 것이 바람직하고, 광학적으로 투명한 열가소성 수지로 이루어지는 것이 보다 바람직하고, 또한, 기계 강도나 열안정성 등의 양호한 열가소성 수지로 이루어지는 것이 바람직하다. 이러한 수지로서, 예컨대, 사슬형 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 등), 고리형 폴리올레핀계 수지(노르보넨계 수지 등)와 같은 폴리올레핀계 수지; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스계 수지(셀룰로오스에스테르계 수지); 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트와 같은 폴리에스테르계 수지; (메트)아크릴 수지, (메트)아크릴산에스테르계 공중합체와 같은 (메트)아크릴계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리이미드계 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴계 수지, 고리형 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지 등이 바람직하게 이용된다.
제1 열가소성 수지 필름(21)의 두께는, 통상 5∼200 ㎛ 정도이고, 바람직하게는 10 ㎛ 이상이고, 또한 바람직하게는 80 ㎛ 이하이다.
미세한 표면 요철로 이루어지는 외면(S)을 갖는 광학층(22)은, 제1 열가소성 수지 필름(21) 상에, 예컨대 투광성 수지를 도공하고, 필요에 따라 그 도공층을 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 이 때, 미세한 표면 요철의 형성은, 투광성 수지 중에 미립자를 함유시키는 방법이나, 투광성 수지를 포함하는 상기 도공층에 요철면을 갖는 형(엠보스형)을 밀착시켜, 그 요철면을 도공층에 전사하는 방법 등에 의해 행할 수 있다.
투광성 수지의 구체예는, 자외선 경화성 수지나 전자선 경화성 수지와 같은 활성 에너지선 경화성 수지, 열경화성 수지, 열가소성 수지, 금속 알콕시드를 포함한다. 이들 중에서도, 특히 방현층이나 하드 코트층을 형성하는 경우에 있어서는, 높은 경도 및 내찰상성을 부여할 수 있는 점에서, 활성 에너지선 경화성 수지가 적합하다. 활성 에너지선 경화성 수지, 열경화성 수지 또는 금속 알콕시드를 이용하는 경우에는, 활성 에너지선의 조사 또는 가열에 의해 상기 수지를 경화시킴으로써 광학층(22)(또는 이것을 구성하는 층)이 형성된다.
활성 에너지선 경화성 수지의 구체예는, 다가 알콜의 (메트)아크릴산에스테르와 같은 다작용 (메트)아크릴레이트; 디이소시아네이트와 다가 알콜의 반응에 의해 얻어지는 말단 이소시아나토기 우레탄 프리폴리머에 (메트)아크릴산의 히드록시알킬에스테르를 반응시킴으로써 얻어지는 것과 같은 다작용의 우레탄(메트)아크릴레이트를 포함한다. 이들 외에, (메트)아크릴레이트계의 작용기를 갖는 폴리에테르 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지 등도 활성 에너지선 경화성 수지가 될 수 있다.
열경화성 수지로는, (메트)아크릴 폴리올과 이소시아네이트 프리폴리머로 이루어지는 열경화형 우레탄 수지 외에, 페놀 수지, 우레아멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있다.
열가소성 수지의 구체예는, 아세틸셀룰로오스, 니트로셀룰로오스, 아세틸부틸셀룰로오스, 에틸셀룰로오스, 메틸셀룰로오스와 같은 셀룰로오스 유도체; 아세트산비닐의 단독 중합체 또는 공중합체, 염화비닐의 단독 중합체 또는 공중합체, 염화비닐리덴의 단독 중합체 또는 공중합체와 같은 비닐계 수지; 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄과 같은 아세탈계 수지; (메트)아크릴 수지, (메트)아크릴산에스테르계 공중합체와 같은 (메트)아크릴계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리에스테르계 수지; 폴리카보네이트계 수지를 포함한다.
금속 알콕시드로는, 알콕시실란계의 재료를 사용할 수 있고, 이것은 가수 분해나 탈수 축합에 의해 산화규소계 등의 매트릭스를 형성하는 것이다. 구체적으로는, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란 등이고, 가수 분해나 탈수 축합에 의해 무기계 또는 유기 무기 복합계 매트릭스를 형성하여 투광성 수지가 된다.
이들 중, 활성 에너지선 경화성 수지나 열경화성 수지(모두 경화 전의 것)에는 액체 상태로 준비되는 것이 있고, 또한 금속 알콕시드는 대부분의 경우 액체이다. 이와 같이 액체 상태로 준비되는 수지는, 그대로 광학층(22)을 형성하기 위한 도공액으로서 이용할 수 있지만, 필요에 따라, 용매 등에 의해 희석한 상태로 도공액으로 해도 좋다. 한편, 열가소성 수지와 같은 고체로 준비되는 수지는, 적당한 용매에 녹인 상태로 도공액이 된다. 활성 에너지선 경화성 수지, 열경화성 수지, 금속 알콕시드 또는 열가소성 수지를 포함하는 도공액은, 레벨링제나 분산제와 같은 적절한 첨가제를 포함할 수 있다.
광학층(22)은, 전술한 바와 같이 표면 요철의 형성을 위해, 또는 번쩍임의 저감 등을 목적으로 내부 헤이즈를 부여하기 위해, 미립자를 함유할 수 있다. 이 경우, 광학층(22)은, 방현층이거나, 또는 방현층을 포함하는 것이 된다. 미립자로는 투광성의 것이 이용되고, 그 구체예는, (메트)아크릴계 수지, 멜라민 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 유기 실리콘 수지, (메트)아크릴산에스테르-스티렌 공중합체 등으로 이루어지는 유기 미립자; 탄산칼슘, 실리카, 산화알루미늄, 탄산바륨, 황산바륨, 산화티탄, 유리 등으로 이루어지는 무기 미립자; 유기 중합체의 벌룬; 유리 중공 비드를 포함한다. 미립자는, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 미립자의 형상은, 구형, 편평형, 판형, 바늘형, 부정 형상 등일 수 있다.
표면 요철의 부여 및 내부 헤이즈 발현의 관점에서, 미립자의 입자경(중량 평균 입자경)은, 0.5∼20 ㎛의 범위에 있는 것이 바람직하다. 또한, 내부 헤이즈의 발현을 충분히 높이기 위해서는, 투광성 수지(활성 에너지선 경화성 수지, 열경화성 수지, 금속 알콕시드의 경우에는 경화물)의 굴절률과 미립자의 굴절률의 차(절대치)는, 0.04∼0.15의 범위에 있는 것이 바람직하다.
미립자의 함유량은, 투광성 수지 100 중량부에 대하여, 통상 3∼60 중량부이고, 바람직하게는 5∼50 중량부이다. 미립자의 함유량이 3 중량부 미만에서는, 번쩍임 저감을 위한 충분한 내부 헤이즈가 얻어지기 어렵다. 한편, 그 함유량이 60 중량부를 초과하면, 얻어지는 제1 광학 필름(20)의 투명성이 손상되는 경우가 있고, 또한, 편광판을 화상 표시 장치에 적용한 경우에, 광산란이 지나치게 강하여, 예컨대, 흑표시에 있어서 화상 표시 장치의 정면 방향에 대하여 비스듬히 새어 나오는 광이 광학층(22)에 의해 정면 방향으로 강하게 산란되어 버리는 등의 이유에 의해, 콘트라스트를 저하시키는 경우도 있다.
광학층(22)에 포함될 수 있는 저굴절률층은, 자외선 경화성 (메트)아크릴 수지와 같은 수지 재료; 수지 중에 콜로이달실리카와 같은 무기 미립자를 분산시킨 하이브리드 재료; 알콕시실란을 포함하는 졸-겔 재료 등으로부터 형성할 수 있다. 저굴절률층의 굴절률은, 1.30∼1.45의 범위일 수 있다. 저굴절률층은, 중합 완료된 폴리머를 도공함으로써 형성해도 좋고, 전구체인 모노머 또는 올리고머의 상태로 도공하고, 그 후 중합 경화시킴으로써 형성해도 좋다.
상기 졸-겔 재료는, 분자 내에 불소 원자를 갖는 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 그 대표예로서 폴리플루오로알킬알콕시실란을 들 수 있다. 폴리플루오로알킬알콕시실란은, 예컨대, 하기 식:
CF3(CF2)nCH2CH2Si(OR)3
으로 표시되는 화합물일 수 있다. 여기서, R은 탄소수 1∼5의 알킬기를 나타내고, n은 0∼12의 정수를 나타낸다. 그 중에서도, 상기 식 중의 n이 2∼6인 화합물이 바람직하다.
저굴절률층은, 가교성 작용기를 갖는 함불소 중합체와 같은 경화성 함불소 화합물을 경화시킴으로써 형성할 수도 있다. 가교성 작용기를 갖는 함불소 중합체는, 1) 불소 함유 모노머와 가교성 작용기를 갖는 모노머를 공중합시키는 방법, 또는, 2) 불소 함유 모노머와 작용기를 갖는 모노머를 공중합시키고, 계속해서 중합체 중의 상기 작용기에 가교성 작용기를 갖는 화합물을 부가시키는 방법 등에 의해 제조할 수 있다.
상기 불소 함유 모노머로는, 예컨대, 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔과 같은 플루오로올레핀류; (메트)아크릴산의 부분 또는 완전 불소화 알킬에스테르 유도체류; (메트)아크릴산의 완전 또는 부분 불소화 비닐에테르류를 들 수 있다.
상기 가교성 작용기를 갖는 모노머 및 가교성 작용기를 갖는 화합물로는, 예컨대, 글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은 글리시딜기를 갖는 모노머; (메트)아크릴산과 같은 카르복실기를 갖는 모노머; 히드록시알킬(메트)아크릴레이트와 같은 수산기를 갖는 모노머; 알릴(메트)아크릴레이트와 같은 알케닐기를 갖는 모노머; 아미노기를 갖는 모노머; 술폰산기를 갖는 모노머를 들 수 있다.
저굴절률층은, 실리카, 알루미나, 티타니아, 지르코니아, 불화마그네슘 등으로 이루어지는 저굴절률성의 무기 미립자를 포함할 수 있다. 그 중에서도, 실리카의 중공 미립자가 바람직하게 이용된다. 미립자의 평균 입자경은, 바람직하게는 5∼2000 nm의 범위이고, 보다 바람직하게는 20∼100 nm의 범위이다.
제1 광학 필름(20)을 편광자(10)의 한쪽의 면에 접합함으로써 편광판(1)을 얻을 수 있다. 편광자(10)와 제1 광학 필름(20)의 접합은, 접착제 또는 점착제를 이용하여 행할 수 있다. 접착제로는, 폴리비닐알콜계 수지나 우레탄 수지를 주성분으로서 포함하는 수계 접착제나, 자외선 경화성 수지(에폭시계 수지 등)와 같은 광경화성 수지를 포함하는 광경화성 접착제를 이용할 수 있다. 점착제로는, (메트)아크릴계 중합체, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에테르 등을 베이스 폴리머로 하는 것을 이용할 수 있다. 접합에 앞서, 편광자(10) 및/또는 제1 광학 필름(20)의 접합면에, 비누화 처리, 코로나 처리, 프라이머 처리, 앵커 코팅 처리 등의 접착 용이 처리를 실시해도 좋다.
(3) 제1 광학 필름의 표면 특성
본 발명의 편광판(1)에 있어서 제1 광학 필름(20)의 외면(S)은, 단면 곡선의 쿠르토시스(Pku)가 3.0 이상이 되며, 또한, 반사율(Y)이 4.0％ 이하가 된다. 미세한 표면 요철로 이루어지는 외면(S)에 이러한 표면 특성을 부여함으로써, 화면을 손가락 등으로 눌렀을 때의 뉴턴링의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.
상기 특허문헌 1 및 2와 같이, 뉴턴링을 억제하기 위한 종래의 검토에 있어서는, 에어갭측을 향하게 되는 표면 요철 형상과 뉴턴링 발생의 관계를, 상기 표면 요철의 산술 평균 거칠기(Ra)로 평가하고 있었다. 그러나, 본 발명자의 검토에 의해, 산술 평균 거칠기(Ra)보다 오히려, 볼록부의 첨도를 나타내는 지표인 Pku를 이용한 쪽이 표면 요철 형상과 뉴턴링 발생의 관계를 보다 정확히 평가할 수 있고, 반사율(Y)이 4.0 이하인 것을 전제로 하여, Pku를 3.0 이상으로 함으로써 뉴턴링의 발생을 효과적으로 억제할 수 있는 것이 밝혀졌다. 또, 표면 요철의 산술 평균 거칠기(Ra)가 동일한 정도이더라도 Pku는 유의하게 상이할 수 있고, 산술 평균 거칠기(Ra)와 Pku는 반드시 상관하지 않는 것이 본 발명자의 검토에 의해 밝혀졌다.
또한 본 발명자는, 외면(S)의 Pku뿐만 아니라, 반사율(Y)도 뉴턴링의 발생에 큰 영향을 미쳐, 뉴턴링 억제를 위해서는, Pku를 소정의 범위로 조정할 뿐만 아니라, 반사율(Y)도 소정의 범위로 조정해야 하는 것을 알아낸 것이다.
단면 곡선의 쿠르토시스(Pku)는, JIS B 0601:2013 「제품의 기하 특성 사양(GPS)-표면 성상: 윤곽 곡선 방식-용어, 정의 및 표면 성상 파라미터」(ISO 4287:1997, Amd. 1:2009에 대응함)의 4.2.4에 규정되는 파라미터로서, 하기 식으로 정의된다.
Figure 112016075799301-pct00001
식 중, Z(x)는 임의의 위치 x에 있어서의 단면 곡선의 높이이고, Lp는 단면 곡선의 기준 길이(평가 길이와 동일함)이다. Pq는 단면 곡선의 제곱 평균 평방근 높이로서, JIS B 0601:2013의 4.2.2에 있어서 하기와 같이 정의되어 있다.
Figure 112016075799301-pct00002
즉 Pku는, 단면 곡선의 제곱 평균 평방근 높이(Pq)의 4승에 의해 무차원화한 기준 길이(Lp)에 있어서의 Z(x)의 4승 평균이다. Pku는, 단면 곡선의 확률 밀도 함수의 뾰족함(예리함)의 정도를 나타내는 파라미터이고, 통계 용어로는 「첨도(尖度)]라고 불리는 것이다.
Pku는, 시판되는 3차원 형상 측정 장치나 거칠기계 등을 이용하여 측정할 수 있다. 후술하는 실시예에서는, SENSOFAR사 제조의 3차원 현미경 「PLμ 2300」을 이용하여 측정을 행했다. 이 장치는, 측정 샘플에 관해서, 지정된 파라미터를 자동적으로 계산하도록 되어 있다.
또한, 반사율(Y)이란, 시감도 보정 반사율을 의미하고 있으며, 구체적으로는, 입사각 12°로 광을 입사했을 때의 반사각 12°에 있어서의 파장 350∼900 nm의 범위의 분광 반사율(즉 입사각 12°에 있어서의 정반사율)을 JIS Z 8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 시감도 보정한 반사율을 말한다. 도 2를 참조하여, 반사율(Y)의 측정 방법을 구체적으로 설명하면, 제1 광학 필름(20)의 외면(S)측으로서, 제1 광학 필름(20)의 법선(200) 방향에 대하여 12°경사진 방향으로부터 광(201)을 입사하고, 입사하는 광(201) 방향과 법선(200)을 포함하는 평면(203) 내에서, 법선(200) 방향으로부터 보아, 입사하는 광(201)과는 반대측으로 12°경사진 방향으로 반사하는 반사광(204)(정반사 방향으로의 반사광)의 분광 반사율을 측정한다. 또한, 얻어진 분광 반사율로부터 JIS Z 8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 시감도 보정하여 반사율(Y)을 구할 수 있다.
반사율(Y)은, 분광 광도계 등을 이용하여 측정할 수 있다. 반사율(Y)의 측정에는, 제1 광학 필름(20)의 이면으로부터의 반사가 측정치에 영향을 미칠 가능성을 배제하고, 또한, 제1 광학 필름(20)의 휨을 방지하기 위해, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여, 제1 광학 필름(20)을, 그 제1 열가소성 수지 필름(21)측에서 흑색판(흑색 아크릴판 등)에 접합한 것을 측정용 샘플로서 이용한다.
Pku가 높을수록, 또한 반사율(Y)이 낮을수록 뉴턴링의 억제에 유리하다고 할 수 있지만, 예컨대 Pku가 충분히 높은 경우에는, 반사율(Y)은 4.0 이하의 범위에서 비교적 높아도 뉴턴링을 충분히 억제할 수 있는 경향이 있고, 반사율(Y)이 충분히 낮은 경우에는, Pku는 3.0 이상의 범위에서 비교적 낮아도 뉴턴링을 충분히 억제할 수 있는 경향이 있다. 예컨대 Pku가 4.5 이상인 경우, 반사율(Y)이 2.0 이상, 나아가서는 2.5 이상, 더 나아가서는 3.0 이상이어도 뉴턴링을 충분히 억제할 수 있다. 또한, 반사율(Y)이 2.0 이하인 경우, Pku가 5.0 이하, 나아가서는 4.0 이하, 더 나아가서는 3.5 이하여도 뉴턴링을 충분히 억제할 수 있다. Pku가 3.0∼5.0으로 비교적 낮은 경우, 반사율(Y)은, 바람직하게는 3.0 이하이고, 보다 바람직하게는 2.5 이하이고, 더욱 바람직하게는 2.0 이하(특히 1.5 이하)이다. 또한, 반사율(Y)이 3.0∼4.0으로 비교적 높은 경우, Pku는, 바람직하게는 3.1 이상이고, 보다 바람직하게는 3.5 이상이고, 더욱 바람직하게는 4.0 이상이다.
제1 광학 필름(20)의 외면(S)은, 산술 평균 거칠기(Ra)가 100 nm 이하인 것이 바람직하다. 산술 평균 거칠기(Ra)는, JIS B 0601:2013의 4.2.1에 규정되는 파라미터이고, 기준 길이에 있어서의 높이 Z(x)의 절대치의 평균치를 의미한다. 산술 평균 거칠기(Ra)를 100 nm 이하로 함으로써, 뉴턴링의 억제 효과를 높일 수 있는 경우가 있다. 제1 광학 필름(20)의 외면(S)의 산술 평균 거칠기(Ra)는, 통상 30 nm 이상이다.
Pku의 조정은, 표면 요철에 의해 외광의 비침이나 번쩍임을 방지하기 위해 이용되는 방현 필름의 분야에서 공지된 방법에 준하여 행할 수 있다. 예컨대 미립자를 포함하는 도공액을 이용하여 광학층(22)을 형성하는 경우에는, 도공액의 설계, 즉, 그 미립자의 입경, 광학층(22)을 형성하는 투광성 수지(예컨대 활성 에너지선 경화성 수지)에 대한 미립자의 첨가량, 광학층(22)의 막두께, 도공액의 용매, 도공층의 건조 조건 등을 조절하는 방법이 있다. 또한, 표면 요철이 부여된 형(엠보스형)을 투광성 수지의 도공층에 눌러 대어 그 표면 요철 형상을 전사하는 경우에는, 상기 형으로서 소정의 표면 형상이 부여된 것을 채용하면 된다.
또한, 반사율(Y)을 소정의 범위로 조정하는 방법으로는, 광학층(22)의 최표면에 저굴절률층을 형성하거나, 표면에 미세한 요철 구조를 형성하거나 하는 것을 들 수 있다.
(4) 투광성 부재
광학 부재 세트(40)에 있어서 편광판(1)의 제1 광학 필름(20)측(편광판(1)의 시인측)에 배치되는 투광성 부재(30)는 투광성의 판상체, 시트 또는 필름 등이고, 그 자체가 터치 입력 소자(터치 패널)일 수 있는 것 외에, 터치 입력 소자의 기능을 화상 표시 소자에 갖게 함으로써, 화상 표시 장치의 최표면에 배치되는 보호판(전면판)으로서만의 역할을 담당하는 부재일 수도 있다. 투광성 부재(30)는, 유리판이나, 투광성을 갖는(바람직하게는 광학적으로 투명한) 각종 열가소성 수지 필름일 수 있다. 열가소성 수지의 구체예에 관해서는, 제1 열가소성 수지 필름(21)에 관해서 기술한 내용이 인용된다.
후술하는 바와 같이, 터치 입력식 화상 표시 장치가 저항막 방식인 경우에는, 터치 입력 소자인 투광성 부재(30)에 있어서의 제1 광학 필름(20)(에어갭)측의 최표면에는 투명 도전층이 형성되는 경우가 있다. 저항막 방식에 이용되는 터치 입력 소자로서의 투광성 부재(30)는 가요성을 갖는 것이 바람직하기 때문에, 열가소성 수지 필름으로 구성하는 경우가 많다. 한편, 정전 용량 방식에 이용되는 투광성 부재(30)에 있어서는 가요성은 요구되지 않는 경우가 많고, 유리판 및 열가소성 수지 필름의 어느것이나 이용할 수 있다.
(5) 편광판 및 광학 부재 세트의 변형예
도 3은, 본 발명에 관련된 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트의 다른 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 도 3에 도시된 편광판(2)과 같이, 본 발명에 관련된 편광판은, 편광자(10) 및 제1 광학 필름(20)에 더하여, 편광자(10)에 있어서의 제1 광학 필름(20)과는 반대측의 면 상에 적층되는 제2 광학 필름(25)을 더 포함할 수 있다. 제2 광학 필름(25)은, 화상 표시 장치에 있어서 화상 표시 소자측에 배치되는 필름이다. 도 3에 도시된 광학 부재 세트(41)는, 이 편광판(2)과 전술한 투광성 부재(30)로 이루어지고, 편광판(2)과, 그 제1 광학 필름(20)측(편광판(2)의 시인측)에 배치되는 투광성 부재(30)로 구축되는 에어갭 방식의 터치 입력식 화상 표시 장치에 이용된다.
제2 광학 필름(25)은, 열가소성 수지 필름(제2 열가소성 수지 필름)으로 이루어지는 필름이어도 좋고, 이것을 포함하는 필름이어도 좋다. 제2 열가소성 수지 필름을 구성하는 열가소성 수지의 구체예에 관해서는, 제1 열가소성 수지 필름(21)에 관해서 기술한 내용이 인용된다. 그 중에서도, 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴계 수지, 고리형 폴리올레핀계 수지 등이 바람직하게 이용된다. 제2 광학 필름(25)의 두께는, 통상 5∼200 ㎛ 정도이고, 바람직하게는 10 ㎛ 이상이고, 또한 바람직하게는 80 ㎛ 이하이다.
제2 광학 필름(25)은, 편광자(10)를 보호하기 위한 단순한 보호 필름이어도 좋고, 예컨대 위상차 필름(광학 보상 필름), 휘도 향상 필름과 같은 광학 기능을 더불어 갖는 보호 필름일 수도 있다. 위상차 필름은, 예컨대, 상기 제2 열가소성 수지 필름(고리형 폴리올레핀계 수지 필름 등)을 1축 또는 2축 연신한 필름이나, 상기 제2 열가소성 수지 필름(셀룰로오스계 수지 필름 등) 상에 액정 화합물을 도공, 배향시킨 필름일 수 있다. 또한, 제2 광학 필름(25)은, 열수축성 필름과의 접착하에 수축력 및/또는 연신력을 인가함으로써 필름의 두께 방향의 굴절률을 제어한 복굴절성 필름이어도 좋다. 또한, 제2 광학 필름(25)은, 보호 필름인 제2 열가소성 수지 필름과 그 위에 적층되는 광학 보상 필름의 적층체여도 좋다.
하기 식:
R0 = (nx-ny)×d
Rth = [{(nx+ny)/2}-nz]×d
로 정의되는 위상차 필름의 면내 위상차치(R0), 두께 방향 위상차치(Rth)는, 예컨대 화상 표시 소자가 액정셀이면, 그 액정셀의 종류에 맞춰 적절히 조정된다. 상기 식에 있어서 nx는 면내 지상축 방향의 굴절률, ny는 면내 진상축 방향(면내 지상축 방향과 직교하는 방향)의 굴절률, nz는 두께 방향의 굴절률, d는 필름의 두께이다. 화상 표시 소자가 유기 EL 표시 소자인 경우, 위상차 필름은 예컨대 1/4λ판일 수 있다.
제2 광학 필름(25)과 편광자(10)의 접합도 또한, 수계 접착제나 광경화성 접착제와 같은 접착제, 또는 점착제를 이용하여 행할 수 있다. 접합에 앞서, 편광자(10) 및/또는 제2 광학 필름(25)의 접합면에 전술한 바와 같은 접착 용이 처리를 실시해도 좋다.
도 4는, 본 발명에 관련된 편광판, 및 그것을 포함하는 광학 부재 세트의 다른 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 도 4에 도시된 바와 같이 편광판 및 투광성 부재는, 투명 도전층을 갖고 있어도 좋다. 도 4에 도시된 편광판(3) 및 투광성 부재(30)로 이루어지는 광학 부재 세트(42)는 저항막 방식에 사용할 수 있는 것이고, 터치 입력 소자로서의 투광성 부재(30)에 있어서의 제1 광학 필름(20)(에어갭)측의 최표면에는 투명 도전층(31)이 형성되어 있고, 제1 광학 필름(20)의 외면(S)에도 투명 도전층(23)이 형성되어 있다. 전극이 되는 투명 도전층(23, 31)은, 투광성 부재(30)측을 손가락 등으로 눌렀을 때에 그 위치에서 양자가 접촉하고, 그 위치를 검지하기 위한 역할을 수행한다. 투명 도전층(23, 31)은, 저항막 방식에 있어서 주지된 ITO(산화인듐주석) 등으로 구성할 수 있다.
도 4에 도시된 편광판(3)은, 도 3에 도시된 편광판(2)과 마찬가지로, 제1 광학 필름(20)과는 반대측의 면 상에 적층되는 제2 광학 필름(25)을 더 포함할 수 있다.
<제1 광학 필름의 제조방법>
여기서는, 제1 광학 필름(20)의 제조방법에 관해서 더욱 구체적으로 설명한다. 표면 요철로 이루어지는 외면(S)을 갖는 제1 광학 필름(20)은, 제1 열가소성 수지 필름(21) 상에, 투광성 수지 및 미립자를 포함하는 도공액을 도공하고, 필요에 따라 도공층을 건조시키고(용매를 포함하는 경우), 그 후, 필요에 따라 그 도공층을, 활성 에너지선의 조사(활성 에너지선 경화성 수지를 이용하는 경우) 혹은 가열(열경화성 수지 또는 금속 알콕시드를 이용하는 경우)에 의해 경화시켜, 미립자에 기초하는 요철을 도공층 상에 발현시키는 방법이나, 투광성 수지를 포함하는 도공액(미립자를 포함하고 있어도 좋음)을 도공하고, 도공층에 요철면을 갖는 형(엠보스형)을 밀착시켜, 그 요철면을 도공층에 전사하는 방법 등에 의해 제조할 수 있다. 표면 요철의 미조정이나 반사율(Y)의 제어를 위해, 상기한 방법에 의해 얻어진 층 상에 다른 층(예컨대 저굴절률층)을 더 적층할 수도 있다.
상기 중에서도, 표면 요철을 부여하기 위해 바람직하게 이용되는 방법은, 엠보스형을 이용한 방법이고, 이 방법은 다음의 공정:
(A) 제1 열가소성 수지 필름(21) 상에, 투광성 수지를 포함하는 도공액을 도공하는 공정, 및
(B) 도공층의 표면에, 엠보스형(전사용 형)의 요철면을 전사하는 공정을 포함한다.
상기 공정(A)에서 이용하는 도공액은, 투광성 수지를 포함하고, 필요에 따라 투광성 미립자나 용매 등의 그 밖의 성분을 포함한다. 투광성 수지로서 자외선 경화성 수지를 이용하는 경우, 이 도공액은, 광중합 개시제(라디칼 중합 개시제)를 더 포함한다. 광중합 개시제로는, 예컨대, 아세토페논계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 티오크산톤계 광중합 개시제, 트리아진계 광중합 개시제, 옥사디아졸계 광중합 개시제 등이 이용된다. 또한 예컨대, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2,2'-비스(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 10-부틸-2-클로로아크리돈, 2-에틸안트라퀴논, 벤질, 9,10-페난트렌퀴논, 캠퍼퀴논, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을, 광중합 개시제로서 이용할 수도 있다. 광중합 개시제의 사용량은, 도공액에 함유되는 자외선 경화성 수지 100 중량부에 대하여, 통상 0.5∼20 중량부이고, 바람직하게는 1∼5 중량부이다.
제1 열가소성 수지 필름(21) 상에 대한 도공액의 도공은, 예컨대, 그라비아 코트법, 마이크로 그라비아 코트법, 로드 코트법, 나이프 코트법, 에어 나이프 코트법, 키스 코트법, 다이 코트법 등에 의해 행할 수 있다.
도공액의 도공성의 개량 또는 얻어지는 도공층과의 접착성의 개량을 목적으로, 제1 열가소성 수지 필름(21)의 도공면에 각종 표면 처리를 실시해도 좋다. 표면 처리는, 코로나 방전 처리, 글로우 방전 처리, 산 표면 처리, 알칼리 표면 처리, 자외선 조사 처리 등일 수 있다. 또한, 제1 열가소성 수지 필름(21) 상에, 예컨대 프라이머층 등의 다른 층을 형성하고, 그 위에 도공액을 도공하도록 해도 좋다.
상기 공정(B)에 있어서는, 도공층의 표면에 엠보스형의 요철면을 밀착시켜, 그 요철면을 전사한다. 이와 같이 엠보스형의 요철면을 도공층의 표면에 전사함으로써, 원하는 표면 형상을 갖는 광학층(22)(또는 이것을 구성하는 층)을 형성할 수 있다.
투광성 수지로서 활성 에너지선 경화성 수지, 열경화성 수지 또는 금속 알콕시드를 이용하는 경우에는, 도공층의 표면에 엠보스형의 요철면을 밀착시킨 상태에서, 활성 에너지선의 조사(활성 에너지선 경화성 수지를 이용하는 경우) 또는 가열(열경화성 수지 또는 금속 알콕시드를 이용하는 경우)에 의해 도공층을 경화시킨다. 활성 에너지선은, 도공액에 포함되는 수지의 종류에 따라, 전자선, 자외선, 근자외선, 가시광, 근적외선, 적외선, X선 등으로부터 적절하게 선택할 수 있다. 이들 중에서는, 자외선 또는 전자선이 바람직하고, 특히 취급이 간편하고 높은 에너지가 얻어지는 점에서, 자외선이 바람직하게 이용된다.
자외선을 채용하는 경우, 그 광원으로는, 예컨대, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 카본 아크등, 크세논 램프, 메탈 할라이드 램프 등을 이용할 수 있다. 또한, ArF 엑시머 레이저, KrF 엑시머 레이저, 엑시머 램프, 싱크로트론 방사광 등도 이용할 수 있다. 이들 중에서도, 초고압, 고압, 중압 및 저압을 포함하는 수은등, 크세논 램프, 또는 메탈 할라이드 램프가 바람직하게 이용된다.
전자선으로는, 코크로프트 월턴형, 밴더그래프형, 공진 변압형, 절연 코어 변압형, 직선형, 다이나미트론형, 또는 고주파형과 같은 각종 전자선 가속기로부터 방출되는 50∼1000 keV, 바람직하게는 100∼300 keV의 에너지를 갖는 전자선을 들 수 있다.
<엠보스형의 제작 방법>
광학층(22)에 표면 요철을 부여하기 위해 이용되는 엠보스형은, 원하는 광학층(22)의 표면 요철 형상에 따른 표면 요철 형상을 갖는 것이다.
엠보스형에 있어서의 표면 요철의 패턴은, 규칙적인 패턴이어도 좋고, 랜덤 패턴, 혹은 특정 사이즈의 1종류 이상의 랜덤 패턴을 깔아 채운, 의사 랜덤 패턴이어도 좋다. 다만, 표면 형상에서 기인하는 반사광의 간섭에 의해 반사상이 무지개색으로 물드는 것을 방지하는 관점에서는, 랜덤 패턴 또는 의사 랜덤 패턴인 것이 바람직하다.
엠보스형의 외형 형상은 특별히 제한되지 않고, 평판형이어도 좋고, 원기둥형 또는 원통형의 롤이어도 좋지만, 제1 광학 필름(20)의 연속 생산성의 면에서는, 원기둥형 또는 원통형의 형, 즉 엠보스 롤인 것이 바람직하다. 이 경우, 원기둥형 또는 원통형의 주형의 측면에 소정의 표면 형상이 형성된다.
엠보스형을 구성하는 기재도 특별히 제한되지 않고, 예컨대, 금속, 유리, 카본, 수지, 혹은 이들의 복합체로부터 적절하게 선택할 수 있지만, 가공성 등의 면에서 금속이 바람직하다. 엠보스형에 적합하게 이용되는 금속 재료는, 특히 비용의 관점에서, 알루미늄, 철, 또는 알루미늄 혹은 철을 주체로 하는 합금이다.
엠보스형을 얻는 방법으로는, 예컨대, 기재를 연마하고, 샌드 블라스트 가공을 실시한 후, 무전해 니켈 도금을 실시하는 방법(일본 특허 공개 제2006-53371호 공보); 기재에 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하고, 계속해서 샌드 블라스트 가공을 실시하고, 또한 크롬 도금을 실시하는 방법(일본 특허 공개 제2007-187952호 공보); 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하고, 계속해서 샌드 블라스트 가공을 실시하고, 또한 에칭 공정 또는 구리 도금 공정을 거친 후에 크롬 도금을 실시하는 방법(일본 특허 공개 제2007-237541호 공보); 기재의 표면에 구리 도금 또는 니켈 도금을 실시한 후, 연마하고, 연마된 면에 감광성 수지막을 형성하고, 그 감광성 수지막 상에 패턴을 노광하고, 계속해서 현상하고, 현상된 감광성 수지막을 마스크로서 이용하여 에칭 처리를 행하고, 감광성 수지막을 박리하고, 더욱 에칭 처리하여 요철면을 무디게 한 후에, 형성된 요철면에 크롬 도금을 실시하는 방법(일본 특허 공개 제2010-76385호 공보나, 일본 특허 공개 제2012-68474호 공보); 선반 등의 공작 기계를 이용하여, 절삭 공구에 의해 주형이 되는 기재를 절삭하는 방법(국제 공개 제2007/077892호 팜플렛) 등을 들 수 있다.
랜덤 패턴 또는 의사 랜덤 패턴으로 이루어지는 엠보스형의 표면 요철 형상은, 예컨대, FM 스크린법, DLDS(Dynamic Low-Discrepancy Sequence) 법, 블록 공중합체의 미크로 상분리 패턴을 이용하는 방법, 밴드 패스 필터법 등에 의해 작성된 랜덤 패턴을 감광성 수지막 상에 노광하고, 현상하고, 현상된 감광성 수지막을 마스크로 하여 에칭 처리를 행하는 방법에 의해 형성할 수 있다.
<터치 입력식 화상 표시 장치>
본 발명에 관련된 터치 입력식 화상 표시 장치는, 본 발명에 관련된 편광판을 화상 표시 소자의 시인측에 배치하고, 그 편광판에 있어서의 제1 광학 필름측에, 제1 광학 필름과 이격되도록 투광성 부재를 배치한 것이다. 화상 표시 소자는, 액정셀과 같은 비자발광형의 소자여도 좋고, 유기 EL 표시 소자와 같은 자발광형의 소자여도 좋다.
화상 표시 소자에 액정셀(50)을 이용한 터치 입력식 화상 표시 장치의 일례를 도 5에 나타냈다. 이 예에서는 도 1에 도시된 광학 부재 세트(40)를 적용하고 있지만, 이것에 한정되지 않고, 본 발명에 관련된 광학 부재 세트이면 된다. 터치 입력식 화상 표시 장치의 동작 방식은 어떠한 방식이어도 좋지만, 그 대표예는 저항막 방식 및 정전 용량 방식이다. 액정셀(50)은, 2장의 투명 기판 사이에 액정층을 협지하고, 전압 인가에 의해 상기 액정층의 배향 상태를 제어하고, 표시를 가능하게 하는 것으로, 액정 표시의 분야에서 주지된 것을 채용할 수 있다.
터치 입력식 화상 표시 장치가 액정셀(50)을 구비하는 액정 표시 장치인 경우, 도 5에 도시된 바와 같이, 액정셀(50)의 배면측에는, 배면측 편광판(60)이 배치되고, 또한 그 배면측에 표시용의 광을 공급하기 위한 백라이트(80)가 배치된다. 편광판은 통상, 점착제층(70, 71)을 통해 액정셀(50)에 접합된다.
한편, 화상 표시 소자로서 유기 EL 표시 소자를 채용하는 경우, 유기 EL 표시 소자는 자발광형이기 때문에, 도 5에 있어서의 액정셀(50), 점착제층(71), 배면측 편광판(60) 및 백라이트(80) 대신에, 이 유기 EL 표시 소자를 배치하면 된다. 유기 EL 표시 소자는, 유기 발광 재료를 포함하는 발광체를 한쌍의 전극으로 협지한 것으로, 역시 이 분야에서 주지된 것을 채용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 아니다. 예 중, 함유량 또는 사용량을 나타내는 ％ 및 부는, 특별히 기재하지 않는 한 중량 기준이다.
<실시예 1>
(A) 광학 필름의 제작
(A1) 광학 필름용 금형(엠보스형)의 제작
일본 특허 공개 제2012-68474호 공보의 실시예 1(B)에 기재된 방법에 준하지만, 요철 형성을 위한 에칭량을 바꿈으로써, 광학 필름에 요철 형상을 부여하기 위한 금형을 제작했다. 즉, 우선 직경 200 mm의 알루미늄 롤(JIS에 의한 A5056)의 표면에 구리 발라드 도금이 실시된 것을 준비했다. 구리 발라드 도금은, 구리 도금층/얇은 은 도금층/표면 구리 도금층으로 이루어지는 것으로, 도금층 전체의 두께가 약 200 ㎛인 것을 이용했다. 그 구리 도금 표면을 경면 연마하고, 연마된 구리 도금 표면에 포지티브형 감광성 수지를 도공하고, 건조하여 감광성 수지막을 형성했다. 계속해서, 소정의 패턴(동공보의 도 16에 도시된 패턴)이 반복되도록, 감광성 수지막 상에 레이저광을 노광하고, 그 후 현상했다. 레이저광의 노광 및 현상은, (주)싱크·래버러토리 제조의 「Laser Stream FX」를 이용하여 행했다.
현상 후, 염화제2구리 수용액으로 제1 에칭 처리를 행했다. 다음으로 제1 에칭 처리 후의 롤로부터 감광성 수지막을 제거하고, 다시 염화제2구리 수용액으로 제2 에칭 처리를 행했다. 이 때, 그 후의 처리에 의해 얻어지는 광학 필름의 단면 곡선의 쿠르토시스(Pku)를 소정의 값으로 조정하기 위해, 제1 에칭 처리량(에칭에 의해 깎이는 두께)이 4 ㎛, 제2 에칭 처리량(동에칭에 의해 깎이는 두께)이 12 ㎛가 되도록 설정했다. 그 후, 크롬 도금 가공을 행했다. 크롬 도금의 두께는 4 ㎛가 되도록 설정했다. 이렇게 하여, 표면에 미세한 요철을 갖는 금형 롤을 제작했다.
(A2) 자외선 경화성 수지 조성물의 조제
자외선 경화성 수지 조성물의 원료로서 이하의 것을 준비했다.
·자외선 경화성 수지: 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 60부, 및 다작용 우레탄화아크릴레이트(헥사메틸렌디이소시아네이트와 펜타에리트리톨트리아크릴레이트의 반응 생성물) 40부의 혼합물.
·광중합 개시제: BASF사로부터 판매되고 있는 「루시린 TPO」(화학명: 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드).
상기한 자외선 경화성 수지 100부에 대하여, 상기한 광중합 개시제 5부 및 희석 용매로서 아세트산에틸 150부를 혼합하여, 도공층을 형성하기 위한 자외선 경화성 수지 조성물을 조제했다.
(A3) 광학 필름의 제작
위에서 조제한 자외선 경화성 수지 조성물을, 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 열가소성 수지 필름 상에 건조 후의 막두께가 5 ㎛가 되도록 다이 코터로 도공하여, 열가소성 수지 필름과 자외선 경화성 수지 조성물의 도공층으로 이루어지는 적층체를 얻었다. 이 적층체를 건조로에서 건조시킨 후, 상기 (A1)에서 제작한 금형 롤에, 도공층측이 금형과 접하도록 닙롤로 눌러 대어 밀착시켰다. 이 상태에서 열가소성 수지 필름측으로부터, 최대 조도가 700 mW/cm2, 적산 광량이 300 mJ/cm2가 되도록 자외선을 조사하여, 자외선 경화성 수지 조성물을 경화시켰다. 그 후, 금형 롤로부터 적층체를 박리함으로써, 표면에 요철을 갖는 수지층을 형성했다.
(A4) 저굴절률층의 형성
테트라에톡시실란과 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥틸트리메톡시실란의 95 : 5(몰비) 혼합물에 이소프로필알콜 및 0.1 N 염산을 첨가하고, 가수 분해시키는 것으로부터, 올리고머로 이루어지는 유기 규소 화합물의 중합체를 포함하는 용액을 얻었다. 이 용액에 저굴절률 실리카 중공 미립자를 혼합하고, 이소프로필알콜을 첨가함으로써, 유기 규소 화합물을 2 중량％, 저굴절률 실리카 중공 미립자를 2 중량％ 포함하는 저굴절률층 형성용 도공액을 얻었다. 얻어진 저굴절률층 형성용 도공액을, 위에서 얻어진 광학 필름의 요철면에 와이어바 코터에 의해 도공하고, 120℃로 설정한 건조기 중에서 1분간 건조시킴으로써 저굴절률층을 형성하여, 광학 필름을 얻었다. 얻어진 저굴절률층의 두께는 102 nm이고, 굴절률은 1.37이었다.
(B) 광학 필름의 표면 형상의 측정
SENSOFAR사 제조의 3차원 현미경 「PLμ 2300」을 이용하여, 대물 렌즈의 배율을 20배로 하고, 공초점 모드로, 위에서 얻어진 광학 필름의 표면 형상(단면 곡선의 쿠르토시스(Pku))을 구했다. 측정 면적은 637 ㎛×477 ㎛로 했다. 또한, 광학 필름 샘플의 휨을 방지하기 위해, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여, 요철면과는 반대측의 면에서(요철면이 표면이 됨) 샘플을 유리 기판에 접합하고 나서 측정을 행했다. 얻어진 광학 필름이 갖는 요철면의 Pku는 3.2였다.
(C) 광학 필름의 반사율(Y)(반사율(Y)치)의 측정
전술한 측정 방법에 따라, 분광 광도계((주)시마즈 제작소 제조 「UV2450」)에 적분구((주)시마즈 제작소 제조 「BIS-3100」)를 부속한 장치를 이용하여, 반사율(Y)치를 측정했다. 광학 필름 샘플 이면으로부터의 반사를 방지함과 동시에, 샘플의 휨을 방지하기 위해, 광학적으로 투명한 점착제를 이용하여, 요철면과는 반대측의 면에서(요철면이 표면이 됨) 샘플을 흑색 아크릴판(스미토모 화학 주식회사 제조 「스미펙스」)에 접합하고 나서 측정을 행했다. 얻어진 광학 필름이 갖는 요철면의 반사율(Y)은 1.0％였다.
(D) 편광자의 제작
평균 중합도 약 2,400, 비누화도 99.9 몰％ 이상이며 두께 75 ㎛인 폴리비닐알콜 필름을, 30℃의 순수에 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 중량비가 0.02/2/100인 수용액에 30℃에서 침지하여 염색했다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 중량비가 12/5/100인 수용액에 56.5℃에서 침지하여 가교 처리를 행했다. 계속해서, 8℃의 순수로 세정한 후, 65℃에서 건조하여, 폴리비닐알콜에 요오드가 흡착 배향되어 있는 편광자를 얻었다. 연신은, 요오드 염색 및 붕산 가교 처리의 공정에서 주로 행하고, 토탈 연신 배율은 5.3배였다.
(E) 접착제의 조제
물 100부에 대하여, (주)쿠라레로부터 판매되고 있는 카르복실기 변성 폴리비닐알콜 「쿠라레포발 KL318」(변성도 2 몰％)을 1.8부 용해하고, 더욱 그곳에, 수용성 폴리아미드에폭시 수지인 다오카 화학 공업(주)으로부터 판매되고 있는 「스미레즈 레진 650」(고형분 30％의 수용액)을 1.5부 첨가하고 용해하여, 폴리비닐알콜계 접착제를 조제했다.
(F) 편광판의 제작
상기 (A4)에서 제작한 광학 필름의 요철을 갖는 광학층이 형성된 면과는 반대측의 열가소성 수지 필름면에 비누화 처리를 실시한 후, 상기 (E)에서 조제한 폴리비닐알콜계 접착제를 10 ㎛ 바 코터로 도공하고, 그 위에, 상기 (D)에서 제작한 편광자를 접합했다. 또한, 편광자의 다른 면에 접합하는 보호 필름으로서, 두께 40 ㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름(코니카 미놀타 어드밴스트 레이어(주)로부터 판매되고 있는 「KC4UE」, 면내 위상차치(R0) = 0.7 nm, 두께 방향 위상차치(Rth) = -0.1 nm)을 준비했다. 이 보호 필름에 비누화 처리를 실시한 후, 그 비누화 처리면에 상기 (E)에서 조제한 폴리비닐알콜계 접착제를 10 ㎛ 바 코터로 도공하고, 그 도공면을, 상기 편광자의 광학 필름이 접합된 면과는 반대측의 면에 접합했다. 그 후, 80℃에서 5분간 건조하고, 또한 상온에서 1일간 양생했다. 이렇게 하여, 광학 필름/편광자/트리아세틸셀룰로오스 필름의 층구성으로 이루어지는 편광판을 제작했다.
(G) 뉴턴링의 평가
상기 (F)에서 제작한 편광판의 광학 필름 요철면측에, 4 mm 두께의 아크릴판을, 그 아크릴판과 편광판 표면 사이의 에어갭이 0.3 mm가 되도록 조절하여 배치했다. 아크릴판을 700 g의 하중으로 눌러, 뉴턴링이 발생하는지 여부를 관찰하고, 다음의 평가 기준에 따라 평가했다.
A: 뉴턴링이 관찰되지 않음,
B: 뉴턴링이 약간 관찰되지만, 시인에 문제없는 레벨임,
C: 뉴턴링이 현저히 관찰됨.
<실시예 2>
광학 필름용 금형의 제1 에칭 처리량을 5.0 ㎛, 저굴절률층의 두께를 68 nm로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학 필름을 얻었다. 이 필름의 표면 특성을 실시예 1과 동일한 방법으로 측정한 바, Pku는 4.9, 반사율(Y)은 2.0％였다. 이 필름을 광학 필름으로서 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광판을 제작하고, 뉴턴링의 평가를 행했다.
<실시예 3>
광학 필름용 금형의 제1 에칭 처리량을 7.0 ㎛로 하고, 저굴절률층을 형성하지 않는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학 필름을 얻었다. 이 필름의 표면 특성을 실시예 1과 동일한 방법으로 측정한 바, Pku는 7.9, 반사율(Y)은 3.0％였다. 이 필름을 광학 필름으로서 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광판을 제작하고, 뉴턴링의 평가를 행했다.
<실시예 4>
저굴절률층을 형성하지 않는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학 필름을 얻었다. 이 필름의 표면 특성을 실시예 1과 동일한 방법으로 측정한 바, Pku는 3.2, 반사율(Y)은 3.4％였다. 이 필름을 광학 필름으로서 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광판을 제작하고, 뉴턴링의 평가를 행했다.
<실시예 5>
저굴절률층의 두께를 80 nm로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 광학 필름을 얻었다. 이 필름의 표면 특성을 실시예 1과 동일한 방법으로 측정한 바, Pku는 3.2, 반사율(Y)은 1.8％였다. 이 필름을 광학 필름으로서 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광판을 제작하고, 뉴턴링의 평가를 행했다.
<비교예 1>
닛폰 제지 케미컬(주)로부터 판매되고 있는 표면 처리 필름 「NC-1B」를 광학 필름으로 했다. 이 필름의 표면 특성을 실시예 1과 동일한 방법으로 측정한 바, Pku는 3.3, 반사율(Y)은 4.1％였다. 이 필름을 광학 필름으로서 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광판을 제작하고, 뉴턴링의 평가를 행했다.
<비교예 2>
톳판 인쇄(주)로부터 판매되고 있는 표면 처리 필름 「40CHC」를 광학 필름으로 했다. 이 필름의 표면 특성을 실시예 1과 동일한 방법으로 측정한 바, Pku는 2.2, 반사율(Y)은 4.2％였다. 이 필름을 광학 필름으로서 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광판을 제작하고, 뉴턴링의 평가를 행했다.
<비교예 3>
톳판 인쇄(주)로부터 판매되고 있는 표면 처리 필름 「40KSPLR」을 광학 필름으로 했다. 이 필름의 표면 특성을 실시예 1과 동일한 방법으로 측정한 바, Pku는 2.6, 반사율(Y)은 1.0％였다. 이 필름을 광학 필름으로서 이용하는 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 편광판을 제작하고, 뉴턴링의 평가를 행했다.
실시예 1∼5 및 비교예 1∼3에서 행한 뉴턴링의 평가 결과를, 사용한 광학 필름의 표면 특성과 함께 표 1에 나타냈다.
Figure 112016075799301-pct00003
1, 2, 3: 편광판, 10: 편광자, 20: 제1 광학 필름, 21: 제1 열가소성 수지 필름, 22: 광학층, 23: 투명 도전층, 25: 제2 광학 필름, 30: 투광성 부재, 31: 투명 도전층, 40, 41, 42: 광학 부재 세트, 50: 액정셀, 60: 배면측 편광판, 70, 71: 점착제층, 80: 백라이트, S: 제1 광학 필름의 외면, 200: 제1 광학 필름의 법선, 201: 입사하는 광, 203: 입사하는 광 방향과 제1 광학 필름의 법선을 포함하는 평면, 204: 정반사 방향으로 반사하는 반사광.

Claims (9)

  1. 편광자와, 그 한쪽의 면 상에 적층되는 제1 광학 필름을 포함하고,
    상기 제1 광학 필름에 있어서의 상기 편광자와는 반대측의 표면은, 단면 곡선의 쿠르토시스(Kurtosis)(Pku)가 4.0 이상이며, 또한 입사각 12°로 광을 입사했을 때의 반사각 12°에 있어서의 반사율(Y)이 4.0％ 이하인 편광판.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 광학 필름은 제1 열가소성 수지 필름과, 그 상기 편광자와는 반대측의 면 상에 적층되는 광학층을 포함하는 편광판.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제1 열가소성 수지 필름이 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴계 수지, 고리형 폴리올레핀계 수지 또는 폴리에스테르계 수지로 이루어지는 편광판.
  4. 제1항에 있어서, 상기 편광자에 있어서의 상기 제1 광학 필름과는 반대측의 면 상에 적층되는 제2 광학 필름을 더 포함하는 편광판.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제2 광학 필름은 셀룰로오스계 수지, (메트)아크릴계 수지 또는 고리형 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 제2 열가소성 수지 필름을 포함하는 편광판.
  6. 제4항에 있어서, 상기 제2 광학 필름이 위상차 필름인 편광판.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 편광판과,
    상기 편광판에 있어서의 상기 제1 광학 필름측에 배치되기 위한 투광성 부재
    를 포함하는, 터치 입력식 화상 표시 장치용의 광학 부재 세트.
  8. 화상 표시 소자와,
    상기 화상 표시 소자의 시인측에 배치되는 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 편광판과,
    상기 편광판에 있어서의 상기 제1 광학 필름측에, 상기 제1 광학 필름과 이격되어 배치되는 투광성 부재
    를 포함하는 터치 입력식 화상 표시 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 투광성 부재가 터치 입력 소자인 터치 입력식 화상 표시 장치.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101951863B1 (ko) 2016-03-14 2019-02-25 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
KR101948821B1 (ko) * 2016-03-14 2019-02-15 주식회사 엘지화학 반사 방지 필름 및 디스플레이 장치
CN108288679B (zh) * 2017-01-10 2019-11-26 昆山国显光电有限公司 显示面板及改善显示面板牛顿环的方法
KR102510750B1 (ko) * 2017-04-04 2023-03-15 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 프로텍트 필름 부착 편광판 및 액정 패널
JP7296196B2 (ja) * 2018-06-01 2023-06-22 株式会社ダイセル ニュートンリング防止フィルム並びにその製造方法及び用途
JP2020181184A (ja) * 2019-03-14 2020-11-05 住友化学株式会社 偏光板
CN113678033A (zh) * 2019-03-29 2021-11-19 日东电工株式会社 光学膜

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010254950A (ja) * 2008-10-10 2010-11-11 Sony Corp 樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法
JP2012173976A (ja) * 2011-02-21 2012-09-10 Gunze Ltd タッチパネル
WO2013031766A1 (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 大日本印刷株式会社 防眩性フィルム、偏光板及び画像表示装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7481564B2 (en) * 2004-03-03 2009-01-27 Kimoto Co., Ltd. Light control film and backlight unit using the same
US8309202B2 (en) * 2006-10-06 2012-11-13 Toray Industries, Inc. Hard-coated film, method for production thereof and antireflection film
JP5219363B2 (ja) 2006-12-21 2013-06-26 日本合成化学工業株式会社 積層体
JP5120938B2 (ja) * 2008-03-05 2013-01-16 住友化学株式会社 粘着剤層付位相差フィルム及びそれを用いた楕円偏光板及び液晶表示装置
JP2009288732A (ja) * 2008-06-02 2009-12-10 Asahi Kasei Corp 防眩フィルム
JP2010020267A (ja) * 2008-06-09 2010-01-28 Sony Corp 光学フィルムおよびその製造方法、防眩性フィルム、光学層付偏光子、ならびに表示装置
JP5354673B2 (ja) * 2008-08-11 2013-11-27 住友化学株式会社 粘着剤付き光学フィルムとそれを用いた光学積層体
US8243426B2 (en) * 2008-12-31 2012-08-14 Apple Inc. Reducing optical effects in a display
WO2011065531A1 (ja) 2009-11-30 2011-06-03 大日本印刷株式会社 光学フィルム及びタッチパネル
JP2013161203A (ja) * 2012-02-03 2013-08-19 Toppan Printing Co Ltd タッチパネルセンサー基板およびそれを備える表示装置
JP6213804B2 (ja) * 2012-08-21 2017-10-18 大日本印刷株式会社 光学フィルム用基材、光学フィルム、偏光板、液晶パネルおよび画像表示装置
JP2015034955A (ja) * 2013-08-09 2015-02-19 大日本印刷株式会社 透明導電性積層体、タッチパネル及びタッチパネル用中間積層体

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010254950A (ja) * 2008-10-10 2010-11-11 Sony Corp 樹脂組成物、反射防止フィルム、表示装置および反射防止フィルムの製造方法
JP2012173976A (ja) * 2011-02-21 2012-09-10 Gunze Ltd タッチパネル
WO2013031766A1 (ja) * 2011-08-29 2013-03-07 大日本印刷株式会社 防眩性フィルム、偏光板及び画像表示装置

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