JP2019015965A - 微細凹凸積層体及びその製造方法、並びに、カメラモジュール搭載装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】薄型化が達成され、反射防止性能に優れ、且つ、短波長の光の散乱や吸収を抑制することが可能な、微細凹凸積層体の提供。
【解決手段】基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下である、ことを特徴とする、微細凹凸積層体。
【選択図】図１
【解決手段】基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下である、ことを特徴とする、微細凹凸積層体。
【選択図】図１
Description
本発明は、微細凹凸積層体及びその製造方法、並びに、カメラモジュール搭載装置に関するものである。
液晶ディスプレイなどの表示装置や、カメラなどの光学装置においては、外部からの光の反射による視認性・画質の悪化（色ムラ、ゴースト等の発生）を回避するために、表示板やレンズ等の基材における光の入射面に対し、反射防止処理が施されることが多い。この反射防止処理の方法としては、従来より、光の入射面に微細凹凸構造を形成して、反射率を低減する方法が知られている。
反射防止処理の技術として、例えば、特許文献１は、基材と、中間層と、最表層とを有する積層構造体であって、最表層の表面に微細凹凸構造を設けるとともに、基材表面の押し込み弾性率及び最表層側表面の押し込み弾性率の適正化が図られた積層構造体が、反射防止フィルムなどとして有用であり、表示装置等の表面に貼り付け可能であることを開示している。
ここで、電子機器用途を考慮した場合、反射防止フィルム等の物品に対しては、薄型化（例えば、１５μｍ以下）が求められる。
しかしながら、上記の特許文献１の構造体は、問題なく形成するために、最表層及び中間層の膜厚の合計を２５μｍ以上とする必要があり、薄型化の観点で改良の余地があった。
また、特にセンサーの前面に設置するカバーフィルムや、カメラモジュールセンサーの前面に設置するカバーフィルムは、光、特には短波長の光の散乱や吸収があると、光が十分に入射せず、センサーが良好に作動しない問題が起こる。そのため、上述したフィルム等の物品に対しては、反射防止の機能に加えて、光、特には短波長の光の散乱や吸収を低減することが求められていた。
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、薄型化が達成され、反射防止性能に優れ、且つ、短波長の光の散乱や吸収を抑制することが可能な、微細凹凸積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、色ムラやゴースト等の発生が抑制された撮像画像を得ることができる、カメラモジュール搭載装置を提供することを目的とする。
前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞
基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、
前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、
前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下である、
ことを特徴とする、微細凹凸積層体である。
＜２＞
前記第２透明有機物層の両面の微細凹凸構造が、それぞれ、可視光波長以下のピッチを有する凹凸パターンからなる、＜１＞に記載の微細凹凸積層体である。
＜３＞
前記第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みが２５０ｎｍ以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の微細凹凸積層体である。
＜４＞
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層が、前記基板の表面の一部にのみ積層されている、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜５＞
前記基板の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、前記第１透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、前記第２透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（１）及び式（２）：
ｎ０＜ｎ２ ・・・（１）
２ｎ０−ｎ２≦ｎ１≦２ｎ２−ｎ０ ・・・（２）
を満たす、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜６＞
更に、以下の式（３）：
２ｎ０−ｎ２＜ｎ１＜ｎ２ ・・・（３）
を満たす、＜５＞に記載の微細凹凸積層体である。
＜７＞
前記基板の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、前記第１透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、前記第２透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（４）、式（５）及び式（６）：
−０．００２≦ｎ０−ｎ２≦０．００２ ・・・（４）
ｎ１＜ｎ０ ・・・（５）
ｎ１＜ｎ２ ・・・（６）
を満たす、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜８＞
前記第２透明有機物層側からの光の反射スペクトルにおいて、波長４００〜７５０ｎｍの範囲で、１ｎｍごとに、前後２５ｎｍの反射率の値を用いて波長移動平均値を算出し、前記波長移動平均値と前記スペクトルの値との差分絶対値をそれぞれ算出したときに、それらの平均値が０．０２０％以下である、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜９＞
前記第１透明有機物層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎ１が、１．４８０以上１．５８０以下である、＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜１０＞
カメラモジュール搭載装置に用いられる、＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜１１＞
＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体の製造方法であって、
表面に微細凹凸構造を有する２枚の保持フィルムで、ＵＶ硬化性樹脂Ａを挟持し、圧着する挟持圧着工程と、
挟持されたＵＶ硬化性樹脂ＡをＵＶ光の照射により硬化し、両面に微細凹凸構造を有する第２透明有機物層を形成する硬化Ａ工程と、
前記第２透明有機物層から一方の保持フィルムを剥離する第１剥離工程と、
一方の保持フィルムが剥離された前記第２透明有機物層を、ＵＶ硬化性樹脂Ｂを介して、剥離した面を接触させるように基板に積層し、他方の保持フィルム側から押圧する積層押圧工程と、
前記第２透明有機物層を押圧した状態で、前記ＵＶ硬化性樹脂ＢをＵＶ光の照射により硬化し、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有する第１透明有機物層を形成する硬化Ｂ工程と、
前記第２透明有機物層の押圧を解除し、前記第１透明有機物層により前記基板に固着した第２透明有機物層を、前記第１透明有機物層による固着箇所以外の第２透明有機物層から分離しながら、前記他方の保持フィルムから剥離させる第２剥離工程と、
を含むことを特徴とする、微細凹凸積層体の製造方法である。
＜１２＞
カメラモジュールと、表示板とを備え、
前記表示板は、その表面の少なくとも一部に積層された第１透明有機物層と、前記第１透明有機物層上に積層された第２透明有機物層とを含み、
前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、
前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下であり、
前記カメラモジュールは、前記第２透明有機物層と向かい合うように設置されている、
ことを特徴とする、カメラモジュール搭載装置である。
＜１＞
基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、
前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、
前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下である、
ことを特徴とする、微細凹凸積層体である。
＜２＞
前記第２透明有機物層の両面の微細凹凸構造が、それぞれ、可視光波長以下のピッチを有する凹凸パターンからなる、＜１＞に記載の微細凹凸積層体である。
＜３＞
前記第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みが２５０ｎｍ以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の微細凹凸積層体である。
＜４＞
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層が、前記基板の表面の一部にのみ積層されている、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜５＞
前記基板の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、前記第１透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、前記第２透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（１）及び式（２）：
ｎ０＜ｎ２ ・・・（１）
２ｎ０−ｎ２≦ｎ１≦２ｎ２−ｎ０ ・・・（２）
を満たす、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜６＞
更に、以下の式（３）：
２ｎ０−ｎ２＜ｎ１＜ｎ２ ・・・（３）
を満たす、＜５＞に記載の微細凹凸積層体である。
＜７＞
前記基板の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、前記第１透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、前記第２透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（４）、式（５）及び式（６）：
−０．００２≦ｎ０−ｎ２≦０．００２ ・・・（４）
ｎ１＜ｎ０ ・・・（５）
ｎ１＜ｎ２ ・・・（６）
を満たす、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜８＞
前記第２透明有機物層側からの光の反射スペクトルにおいて、波長４００〜７５０ｎｍの範囲で、１ｎｍごとに、前後２５ｎｍの反射率の値を用いて波長移動平均値を算出し、前記波長移動平均値と前記スペクトルの値との差分絶対値をそれぞれ算出したときに、それらの平均値が０．０２０％以下である、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜９＞
前記第１透明有機物層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎ１が、１．４８０以上１．５８０以下である、＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜１０＞
カメラモジュール搭載装置に用いられる、＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体である。
＜１１＞
＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の微細凹凸積層体の製造方法であって、
表面に微細凹凸構造を有する２枚の保持フィルムで、ＵＶ硬化性樹脂Ａを挟持し、圧着する挟持圧着工程と、
挟持されたＵＶ硬化性樹脂ＡをＵＶ光の照射により硬化し、両面に微細凹凸構造を有する第２透明有機物層を形成する硬化Ａ工程と、
前記第２透明有機物層から一方の保持フィルムを剥離する第１剥離工程と、
一方の保持フィルムが剥離された前記第２透明有機物層を、ＵＶ硬化性樹脂Ｂを介して、剥離した面を接触させるように基板に積層し、他方の保持フィルム側から押圧する積層押圧工程と、
前記第２透明有機物層を押圧した状態で、前記ＵＶ硬化性樹脂ＢをＵＶ光の照射により硬化し、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有する第１透明有機物層を形成する硬化Ｂ工程と、
前記第２透明有機物層の押圧を解除し、前記第１透明有機物層により前記基板に固着した第２透明有機物層を、前記第１透明有機物層による固着箇所以外の第２透明有機物層から分離しながら、前記他方の保持フィルムから剥離させる第２剥離工程と、
を含むことを特徴とする、微細凹凸積層体の製造方法である。
＜１２＞
カメラモジュールと、表示板とを備え、
前記表示板は、その表面の少なくとも一部に積層された第１透明有機物層と、前記第１透明有機物層上に積層された第２透明有機物層とを含み、
前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、
前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下であり、
前記カメラモジュールは、前記第２透明有機物層と向かい合うように設置されている、
ことを特徴とする、カメラモジュール搭載装置である。
本発明によれば、薄型化が達成され、反射防止性能に優れ、且つ、短波長の光の散乱や吸収を抑制することが可能な、微細凹凸積層体及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、色ムラやゴースト等の発生が抑制された撮像画像を得ることができる、カメラモジュール搭載装置を提供することができる。
以下、本発明を、実施形態に基づき詳細に説明する。
（微細凹凸積層体）
本発明の微細凹凸積層体は、基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、第１透明有機物層は、第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層の厚みの合計が１５μｍ以下である、ことを特徴とする。
本発明の微細凹凸積層体は、基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、第１透明有機物層は、第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層の厚みの合計が１５μｍ以下である、ことを特徴とする。
以下、本発明の一実施形態に係る微細凹凸積層体（以下、「本実施形態の微細凹凸積層体」と称することがある。）について、図１等を参照して説明する。
図１に示すように、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、基板１０１と、２つの透明有機物層からなる層、即ち、第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層（以下、単に「複合層」と称することがある。）１３０を備える。第１透明有機物層１１０は、基板１０１上に積層され、第２透明有機物層１２０は、第１透明有機物層１１０上に積層される。また、第１透明有機物層１１０は、第２透明有機物層１２０側の表面に微細凹凸構造１１０ａを有する。更に、第２透明有機物層１２０は、第１透明有機物層１１０側の表面に微細凹凸構造１２０ａを有するとともに、その反対側の表面に微細凹凸構造１２０ｂを有する。そして、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、上述した構成を有するため、高い反射防止性能を発揮するとともに、短波長の光の散乱や吸収を抑制することができる。
図１に示すように、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、基板１０１と、２つの透明有機物層からなる層、即ち、第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層（以下、単に「複合層」と称することがある。）１３０を備える。第１透明有機物層１１０は、基板１０１上に積層され、第２透明有機物層１２０は、第１透明有機物層１１０上に積層される。また、第１透明有機物層１１０は、第２透明有機物層１２０側の表面に微細凹凸構造１１０ａを有する。更に、第２透明有機物層１２０は、第１透明有機物層１１０側の表面に微細凹凸構造１２０ａを有するとともに、その反対側の表面に微細凹凸構造１２０ｂを有する。そして、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、上述した構成を有するため、高い反射防止性能を発揮するとともに、短波長の光の散乱や吸収を抑制することができる。
加えて、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、複合層１３０の厚みが、１５μｍ以下であり、薄型化が達成されている。この点に関し、従来技術においては、微細凹凸構造を有する層を積層させてなる構造体がいくつか開発されてきたものの、そのような構造体は、実際には、層厚を１５μｍ以下とすることができていなかった。しかしながら、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、例えば、後述する本発明の微細凹凸積層体の製造方法を用いて製造することにより、微細凹凸構造１１０ａ、１２０ａ、１２０ｂを保持しつつ、複合層１３０の厚みを１５μｍ以下とすることができる。また、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、更なる薄型化を図る観点から、第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０の厚みが、１０μｍ以下であることが好ましく、また、０．６μｍ以上であることが好ましい。
ここで、複合層１３０の厚みとは、第２透明有機物層１２０における微細凹凸構造１２０ｂのうち最も高い凸部の頂点と、第１透明有機物層１１０における基板１０１と接触する点との、積層方向の距離を指すものとする。
ここで、複合層１３０の厚みとは、第２透明有機物層１２０における微細凹凸構造１２０ｂのうち最も高い凸部の頂点と、第１透明有機物層１１０における基板１０１と接触する点との、積層方向の距離を指すものとする。
なお、本明細書において「透明」とは、可視光帯域（おおよそ３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ）に属する波長の光の透過率が高いことを意味し、例えば、当該光の透過率が７０％以上であることを意味する。
＜基板＞
本実施形態に用いる基板１０１を構成する材料としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ガラス、任意の有機材料で表面をコーティングしたガラス、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。また、基板１０１は、透明であることが好ましく、第１透明有機物層が積層される表面は、例えば平坦面とすることができる。ここで、上記の有機材料としては、例えば、ポリイミドが挙げられる。
本実施形態に用いる基板１０１を構成する材料としては、特に制限されず、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ガラス、任意の有機材料で表面をコーティングしたガラス、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。また、基板１０１は、透明であることが好ましく、第１透明有機物層が積層される表面は、例えば平坦面とすることができる。ここで、上記の有機材料としては、例えば、ポリイミドが挙げられる。
＜第１透明有機物層＞
上述の通り、本実施形態に用いる第１透明有機物層１１０は、第２透明有機物層１２０側の表面（上面）に、微細凹凸構造１１０ａを有する。即ち、第１透明有機物層１１０の上面には、微細な凹凸パターン（微細凹凸積層体の厚み方向に凸である凸部及び微細凹凸積層体の厚み方向に凹である凹部）が形成されている。これにより、反射防止性能を向上させることができる。凸部及び凹部は、周期的（例えば、千鳥格子状、矩形格子状）に配置してもよく、また、ランダムに配置してもよい。また、凸部及び凹部の形状は特に制限はなく、砲弾型、錐体型、柱状、針状などであってもよい。
なお、凹部の形状とは、凹部の内壁によって形成される形状を意味する。
上述の通り、本実施形態に用いる第１透明有機物層１１０は、第２透明有機物層１２０側の表面（上面）に、微細凹凸構造１１０ａを有する。即ち、第１透明有機物層１１０の上面には、微細な凹凸パターン（微細凹凸積層体の厚み方向に凸である凸部及び微細凹凸積層体の厚み方向に凹である凹部）が形成されている。これにより、反射防止性能を向上させることができる。凸部及び凹部は、周期的（例えば、千鳥格子状、矩形格子状）に配置してもよく、また、ランダムに配置してもよい。また、凸部及び凹部の形状は特に制限はなく、砲弾型、錐体型、柱状、針状などであってもよい。
なお、凹部の形状とは、凹部の内壁によって形成される形状を意味する。
第１透明有機物層１１０の上面の凹凸パターンの平均周期（ピッチ）は、好ましくは可視光波長以下（例えば、８３０ｎｍ以下）であり、より好ましくは３５０ｎｍ以下、更に好ましくは２８０ｎｍ以下であり、また、より好ましくは１００ｎｍ以上、更に好ましくは１５０ｎｍ以上である。第１透明有機物層１１０の上面の凹凸パターンのピッチを可視光波長以下とする、言い換えれば、第１透明有機物層１１０の上面をいわゆるモスアイ構造とすることで、反射防止性能の一層の向上を図ることができる。
ここで、凹凸パターンの平均周期は、隣り合う凸部間及び凹部間の距離の算術平均値である。なお、凹凸パターンは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、あるいは断面透過型電子顕微鏡（断面ＴＥＭ）などによって観察可能である。また、平均周期の算出方法としては、例えば、隣り合う凸部の組み合わせ、及び、隣り合う凹部の組み合わせをそれぞれ複数個ピックアップし、各組み合わせを構成する凸部間の距離及び凹部間の距離を測定し、測定値を平均する方法がある。
また、第１透明有機物層１１０の上面の凹凸パターンにおける凹部の深さ（凸部の高さ）は、特に制限されないが、好ましくは１５０ｎｍ以上、より好ましくは１９０ｎｍ以上であり、また、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２３０ｎｍ以下である。
一方、第１透明有機物層１１０における、凹凸パターンが形成されていない部分、即ちベース部１１１（図２参照）の厚みは、特に制限されず、好ましくは５００ｎｍ以上であり、また、好ましくは９０００ｎｍ以下である。
一方、第１透明有機物層１１０における、凹凸パターンが形成されていない部分、即ちベース部１１１（図２参照）の厚みは、特に制限されず、好ましくは５００ｎｍ以上であり、また、好ましくは９０００ｎｍ以下である。
本実施形態に用いる第１透明有機物層１１０は、例えば、ＵＶ硬化性樹脂から作製することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。
＜第２透明有機物層＞
上述の通り、本実施形態に用いる第２透明有機物層１２０は、第１透明有機物層１１０側の表面（下面）に微細凹凸構造１２０ａを有するとともに、その反対側の表面（上面）に微細凹凸構造１２０ｂを有する。即ち、第２透明有機物層１２０の両面には、微細な凹凸パターン（微細凹凸積層体の厚み方向に凸である凸部及び微細凹凸積層体の厚み方向に凹である凹部）が形成されている。これにより、反射防止性能を向上させることができる。凸部及び凹部は、周期的（例えば、千鳥格子状、矩形格子状）に配置してもよく、また、ランダムに配置してもよい。また、凸部及び凹部の形状は特に制限はなく、砲弾型、錐体型、柱状、針状などであってもよい。
上述の通り、本実施形態に用いる第２透明有機物層１２０は、第１透明有機物層１１０側の表面（下面）に微細凹凸構造１２０ａを有するとともに、その反対側の表面（上面）に微細凹凸構造１２０ｂを有する。即ち、第２透明有機物層１２０の両面には、微細な凹凸パターン（微細凹凸積層体の厚み方向に凸である凸部及び微細凹凸積層体の厚み方向に凹である凹部）が形成されている。これにより、反射防止性能を向上させることができる。凸部及び凹部は、周期的（例えば、千鳥格子状、矩形格子状）に配置してもよく、また、ランダムに配置してもよい。また、凸部及び凹部の形状は特に制限はなく、砲弾型、錐体型、柱状、針状などであってもよい。
第２透明有機物層１２０の下面及び上面の凹凸パターンの平均周期（ピッチ）は、好ましくは可視光波長以下（例えば、８３０ｎｍ以下）であり、より好ましくは３５０ｎｍ以下、更に好ましくは２８０ｎｍ以下であり、また、より好ましくは１００ｎｍ以上、更に好ましくは１５０ｎｍ以上である。第２透明有機物層１２０の下面及び上面の凹凸パターンのピッチを可視光波長以下とする、言い換えれば、第２透明有機物層１２０の下面及び上面をいわゆるモスアイ構造とすることで、反射防止性能の一層の向上を図ることができる。
また、第２透明有機物層１２０の上面の凹凸パターンにおける凹部の深さ（凸部の高さ）は、特に制限されないが、好ましくは１５０ｎｍ以上、より好ましくは１９０ｎｍ以上であり、また、好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２３０ｎｍ以下である。
一方、第２透明有機物層１２０における、凹凸パターンが形成されていない部分（微細凹凸構造ではない部分）、即ちベース部１２１（図３参照）の厚みは、２５０ｎｍ以下であることが好ましい。第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みが２５０ｎｍ以下であれば、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）がより小さくなって、色ムラや反射悪化を一層抑制することができる。同様の観点から、第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みは、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。一方、第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みは、現実性の観点から、０．０１ｎｍ以上とすることができる。
なお、第２透明有機物層における微細凹凸構造ではない部分の厚みとは、一方の面に形成された最も深い凹部の頂点と、他方の面に形成された最も深い凹部の頂点との、積層方向又は膜厚方向の距離を指すものとする。
一方、第２透明有機物層１２０における、凹凸パターンが形成されていない部分（微細凹凸構造ではない部分）、即ちベース部１２１（図３参照）の厚みは、２５０ｎｍ以下であることが好ましい。第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みが２５０ｎｍ以下であれば、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）がより小さくなって、色ムラや反射悪化を一層抑制することができる。同様の観点から、第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みは、２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることが更に好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。一方、第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みは、現実性の観点から、０．０１ｎｍ以上とすることができる。
なお、第２透明有機物層における微細凹凸構造ではない部分の厚みとは、一方の面に形成された最も深い凹部の頂点と、他方の面に形成された最も深い凹部の頂点との、積層方向又は膜厚方向の距離を指すものとする。
第２透明有機物層１２０の下面の微細凹凸構造１２０ａは、図１に示すように、第１透明有機物層１１０の上面の微細凹凸構造１１０ａに対応していることが好ましく、また、第１透明有機物層１１０の上面の微細凹凸構造１１０ａと、隙間なく咬合していることがより好ましい。これにより、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０との乖離が抑制されるとともに、高い反射防止性能等の光学性能をより確実に発揮することができる。
なお、第２透明有機物層１２０の下面の微細凹凸構造１２０ａ及び上面の微細凹凸構造１２０ｂは、凹部及び凸部の配置態様、凹凸パターンの平均周期、凹部の深さなどが、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
本実施形態に用いる第２透明有機物層１２０は、例えば、ＵＶ硬化性樹脂から作製することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。
＜各層の光学特性など＞
本実施形態の微細凹凸積層体１００は、基板１０１の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、第１透明有機物層１１０の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、第２透明有機物層１２０の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（１）及び式（２）：
ｎ０＜ｎ２ ・・・（１）
２ｎ０−ｎ２≦ｎ１≦２ｎ２−ｎ０ ・・・（２）
を満たすことが好ましい。式（１）及び式（２）を全て満たすことにより、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）が小さくなって、色ムラや反射悪化を抑制することができる。
本実施形態の微細凹凸積層体１００は、基板１０１の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、第１透明有機物層１１０の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、第２透明有機物層１２０の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（１）及び式（２）：
ｎ０＜ｎ２ ・・・（１）
２ｎ０−ｎ２≦ｎ１≦２ｎ２−ｎ０ ・・・（２）
を満たすことが好ましい。式（１）及び式（２）を全て満たすことにより、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）が小さくなって、色ムラや反射悪化を抑制することができる。
更に、本実施形態の微細凹凸積層体は、式（１）及び式（２）に加えて、以下の式（３）：
２ｎ０−ｎ２＜ｎ１＜ｎ２ ・・・（３）
を満たすことがより好ましい。式（１）及び式（２）に加えて式（３）を満たすことにより、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）がより小さくなって、色ムラや反射悪化を一層抑制することができる。
２ｎ０−ｎ２＜ｎ１＜ｎ２ ・・・（３）
を満たすことがより好ましい。式（１）及び式（２）に加えて式（３）を満たすことにより、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）がより小さくなって、色ムラや反射悪化を一層抑制することができる。
一方で、本実施形態の微細凹凸積層体は、以下の式（４）、式（５）及び式（６）：
−０．００２≦ｎ０−ｎ２≦０．００２ ・・・（４）
ｎ１＜ｎ０ ・・・（５）
ｎ１＜ｎ２ ・・・（６）
を満たすこともまた好ましい。式（４）、式（５）及び式（６）を全て満たすことにより、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）がより小さくなって、色ムラや反射悪化を一層抑制することができる。同様の観点から、ｎ０＝ｎ２を満たすことがより好ましい。
−０．００２≦ｎ０−ｎ２≦０．００２ ・・・（４）
ｎ１＜ｎ０ ・・・（５）
ｎ１＜ｎ２ ・・・（６）
を満たすこともまた好ましい。式（４）、式（５）及び式（６）を全て満たすことにより、層間の多重反射に起因する反射スペクトルの振動（リップル）がより小さくなって、色ムラや反射悪化を一層抑制することができる。同様の観点から、ｎ０＝ｎ２を満たすことがより好ましい。
なお、可視光波長範囲は、およそ３８０〜７８０ｎｍと言われている。この点に関し、本明細書において、上述した式を「満たす」又は上述した式に「適合する」とは、可視光波長範囲内におけるいずれの波長においても、上述した式が成り立つことを指すものとする。
本実施形態の微細凹凸積層体１００においては、基板１０１の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎ０が、１．４８０以上１．５８０以下であることが好ましい。ｎ０が１．４８０以上であることにより、光学特性を調整することができ、また、１．５８０以下であることにより、あっても光学特性を調整することができる。
また、本実施形態の微細凹凸積層体１００においては、第１透明有機物層１１０の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎ１が、１．４８０以上１．５８０以下であることが望ましく、さらには１．４９０以上１．５３０以下であることが好ましい。ｎ１が１．４８０以上であることにより、第１透明有機物層及び／又は第２透明有機物層の材料がアクリル系樹脂である場合において、光学特性をより容易に調整することができる上、微細凹凸構造をより容易に形成することができる。また、ｎ１が１．５８０以下であることにより、第１透明有機物層及び／又は第２透明有機物層の材料がアクリル系樹脂である場合において、光学特性をより容易に調整することができる上、微細凹凸構造をより容易に形成することができる。
また、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、実際に、反射スペクトルの振動（リップル）が小さい方が好ましい。具体的に、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、第２透明有機物層１２０側からの光の反射スペクトルにおいて、波長４００〜７５０ｎｍの範囲で、１ｎｍごとに、前後２５ｎｍの反射率の値を用いて波長移動平均値を算出し、波長移動平均値とスペクトルの値との差分絶対値をそれぞれ算出したときの、それらの平均値（以下、「差分絶対平均値」と称することがある。）が０．０２０％以下であることが好ましい。差分絶対平均値が０．０２０％以下であることにより、色ムラや反射悪化が一層抑制される。
なお、差分絶対平均値の調整は、特に制限されず、例えば、基板の屈折率ｎ０、第１透明有機物層の屈折率ｎ１、及び第２透明有機物層の屈折率ｎ２を調節することにより行うことができ、また、例えば、上記の式（１）、式（２）及び式（３）の全てを満たすように調節するなどにより、差分絶対平均値を０．０２０％以下に調整することができる。更に、差分絶対平均値の調整は、第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みを調節することにより行うこともできる。
なお、差分絶対平均値の調整は、特に制限されず、例えば、基板の屈折率ｎ０、第１透明有機物層の屈折率ｎ１、及び第２透明有機物層の屈折率ｎ２を調節することにより行うことができ、また、例えば、上記の式（１）、式（２）及び式（３）の全てを満たすように調節するなどにより、差分絶対平均値を０．０２０％以下に調整することができる。更に、差分絶対平均値の調整は、第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みを調節することにより行うこともできる。
＜微細凹凸積層体の用途＞
本実施形態の微細凹凸積層体は、例えば、一構成部材として、カメラモジュール搭載装置に用いることができる。また、本実施形態の微細凹凸積層体は、カメラモジュール搭載装置の中でも、薄型化が求められている装置、例えば、カメラモジュールが搭載されたノート型ＰＣ、タブレット型ＰＣ、スマートフォン、携帯電話などに、好適に用いることができる。
本実施形態の微細凹凸積層体は、例えば、一構成部材として、カメラモジュール搭載装置に用いることができる。また、本実施形態の微細凹凸積層体は、カメラモジュール搭載装置の中でも、薄型化が求められている装置、例えば、カメラモジュールが搭載されたノート型ＰＣ、タブレット型ＰＣ、スマートフォン、携帯電話などに、好適に用いることができる。
なお、図１に示すように、本実施形態の微細凹凸積層体１００は、第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０が、基板１０１の表面の一部にのみ積層されていてもよい。このような微細凹凸積層体は、例えば、近年多く流通する、画像を表示するディスプレイ面側に撮像素子が設けられるカメラモジュール搭載装置（例えば、ノート型ＰＣ、タブレット型ＰＣ、スマートフォン、携帯電話等）におけるディスプレイパネルとして、好適に用いることができる。具体的には、ディスプレイパネルとしての上述した微細凹凸積層体と、カメラモジュールの撮像素子とを、複合層１３０が撮像素子の直上の領域に配置されるように構成して、カメラモジュール搭載装置を得ることができる。このようなカメラモジュール搭載装置は、反射防止処理が必要最小限に抑えられ、複合層１３０に起因する高い反射防止効果が得られ、且つ、薄型化が達成される。参考までに、図１３に、第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０が基板１０１の表面の一部にのみ積層された微細凹凸積層体１００の画像図を示す。この図では、第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０が、平面視矩形状及び平面視円形状で、基板１０１の表面の一部に積層されていることが分かる。
なお、本実施形態の微細凹凸積層体が適用されたカメラモジュール搭載装置の詳細については、後述する。
なお、本実施形態の微細凹凸積層体が適用されたカメラモジュール搭載装置の詳細については、後述する。
（微細凹凸積層体の製造方法）
本発明の微細凹凸積層体の製造方法は、挟持圧着工程と、硬化Ａ工程と、第１剥離工程と、積層押圧工程と、硬化Ｂ工程と、第２剥離工程と、を含む、ことを特徴とする。この方法によれば、表面に微細凹凸構造を有する複合層を破損することなく基板に形成して、反射防止性能に優れ、且つ、短波長の光の散乱や吸収を抑制することが可能な微細凹凸積層体を製造することができる。
本発明の微細凹凸積層体の製造方法は、挟持圧着工程と、硬化Ａ工程と、第１剥離工程と、積層押圧工程と、硬化Ｂ工程と、第２剥離工程と、を含む、ことを特徴とする。この方法によれば、表面に微細凹凸構造を有する複合層を破損することなく基板に形成して、反射防止性能に優れ、且つ、短波長の光の散乱や吸収を抑制することが可能な微細凹凸積層体を製造することができる。
以下、本発明の一実施形態に係る微細凹凸積層体の製造方法（以下、「本実施形態の製造方法」と称することがある。）について、図４Ａ〜図４Ｈを参照して説明する。
＜挟持圧着工程＞
挟持圧着工程は、表面に微細凹凸構造を有する２枚の保持フィルムで、ＵＶ硬化性樹脂Ａを挟持し、圧着する工程である。本実施形態の製造方法では、まず、微細凹凸構造を表面に有する２枚の保持フィルム（第１保持フィルム２０１ａ及び第２保持フィルム２０１ｂ）を準備する。次いで、図４Ａに示すように、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）を、上述の第１保持フィルム２０１ａと第２保持フィルム２０１ｂとで、互いの微細凹凸構造が向かい合うようにして挟持する。なお、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。また、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）には、必要に応じ、硬化開始剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
挟持圧着工程は、表面に微細凹凸構造を有する２枚の保持フィルムで、ＵＶ硬化性樹脂Ａを挟持し、圧着する工程である。本実施形態の製造方法では、まず、微細凹凸構造を表面に有する２枚の保持フィルム（第１保持フィルム２０１ａ及び第２保持フィルム２０１ｂ）を準備する。次いで、図４Ａに示すように、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）を、上述の第１保持フィルム２０１ａと第２保持フィルム２０１ｂとで、互いの微細凹凸構造が向かい合うようにして挟持する。なお、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。また、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）には、必要に応じ、硬化開始剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
ＵＶ硬化性樹脂Ａ１５１は、粘度が３０ｃｐｓ以下であることが好ましい。ＵＶ硬化性樹脂Ａ１５１の粘度が３０ｃｐｓ以下であれば、第２透明有機物層の形成時に、より容易に、微細凹凸構造ではない部分の厚みを２５０ｎｍ以下に低減することができる。
ここで、微細凹凸構造を表面に有する保持フィルム２０１ａ、２０１ｂは、例えば、ベース基材の上に、所定の凹凸パターンを有する微細凹凸層を形成することにより作製することができる。
ベース基材を構成する材料としては、特に制限されないが、透明で且つ破断しにくいものが好ましく、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）などが挙げられる。
また、ベース基材上への微細凹凸層の形成は、例えば、ベース基材の一方の面上に未硬化のＵＶ硬化性樹脂を塗布する工程、対応凹凸パターンが形成されたロールを上記塗布したＵＶ硬化性樹脂に密着させて、凹凸パターンをＵＶ硬化性樹脂に転写させる工程、上記塗布したＵＶ硬化性樹脂に対してＵＶ光を照射し、硬化する工程、並びに、硬化したＵＶ硬化性樹脂をロールから剥離する工程を含む方法を実施することで、達成することができる。なお、ＵＶ硬化性樹脂としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。また、ＵＶ硬化性樹脂には、必要に応じ、硬化開始剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
また、ベース基材上への微細凹凸層の形成は、例えば、ベース基材の一方の面上に未硬化のＵＶ硬化性樹脂を塗布する工程、対応凹凸パターンが形成されたロールを上記塗布したＵＶ硬化性樹脂に密着させて、凹凸パターンをＵＶ硬化性樹脂に転写させる工程、上記塗布したＵＶ硬化性樹脂に対してＵＶ光を照射し、硬化する工程、並びに、硬化したＵＶ硬化性樹脂をロールから剥離する工程を含む方法を実施することで、達成することができる。なお、ＵＶ硬化性樹脂としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。また、ＵＶ硬化性樹脂には、必要に応じ、硬化開始剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
第１保持フィルム２０１ａ及び第２保持フィルム２０１ｂは、それぞれ、剥離性を高めるために、微細凹凸構造の表面に無機系の材料からなる膜が被覆されていてもよい。
次いで、図４Ａに示すように、ロールラミネータ１６０等の圧着装置により、挟持体を挟持方向に圧着する。ここで、挟持圧着工程では、圧着時の圧力を調節することにより、最終的に得られる第２透明有機物層１２０の厚みを調整することができる。
＜硬化Ａ工程＞
硬化Ａ工程は、挟持されたＵＶ硬化性樹脂ＡをＵＶ光の照射により硬化し、両面に微細凹凸構造を有する第２透明有機物層を形成する工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｂに示すように、挟持されたＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）に対してＵＶ光を照射し、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）を硬化する。ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）が硬化することで、図４Ｃに示すような、両面に微細凹凸構造を有する第２透明有機物層１２０が形成された保持フィルム積層体２５０が得られる。なお、硬化Ａ工程は、挟持圧着工程と同じタイミングで行ってもよい。
このようにして得られる第２透明有機物層１２０の両面の微細凹凸構造は、第１保持フィルム２０１ａ及び第２保持フィルム２０１ｂの微細凹凸構造と隙間なく咬合することができる。
硬化Ａ工程は、挟持されたＵＶ硬化性樹脂ＡをＵＶ光の照射により硬化し、両面に微細凹凸構造を有する第２透明有機物層を形成する工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｂに示すように、挟持されたＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）に対してＵＶ光を照射し、ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）を硬化する。ＵＶ硬化性樹脂Ａ（１５１）が硬化することで、図４Ｃに示すような、両面に微細凹凸構造を有する第２透明有機物層１２０が形成された保持フィルム積層体２５０が得られる。なお、硬化Ａ工程は、挟持圧着工程と同じタイミングで行ってもよい。
このようにして得られる第２透明有機物層１２０の両面の微細凹凸構造は、第１保持フィルム２０１ａ及び第２保持フィルム２０１ｂの微細凹凸構造と隙間なく咬合することができる。
＜第１剥離工程＞
第１剥離工程は、第２透明有機物層から一方の保持フィルムを剥離する工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｃに示す保持フィルム積層体２５０から、第２保持フィルム２０１ｂを剥離して、図４Ｄに示す状態（片面剥離積層体２５０’）にする。
第１剥離工程は、第２透明有機物層から一方の保持フィルムを剥離する工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｃに示す保持フィルム積層体２５０から、第２保持フィルム２０１ｂを剥離して、図４Ｄに示す状態（片面剥離積層体２５０’）にする。
＜積層押圧工程＞
積層押圧工程は、一方の保持フィルムが剥離された第２透明有機物層を、ＵＶ硬化性樹脂Ｂを介して、剥離した面を接触させるように基板に積層し、他方の保持フィルム側から押圧する工程である。本実施形態の製造方法では、まず、図４Ｅに示すように、基板１０１上に、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）を塗布（ポッティング）する。次いで、図４Ｆに示すように、片面剥離積層体２５０’を、第２保持フィルム２０１ｂが剥離された面が基板１０１を向くように配置し、基板１０１に塗布されたＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）に押圧する。押圧されたＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）は、基板１０１と第２透明有機物層１２０との間で押し拡げられる。なお、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。また、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）には、必要に応じ、硬化開始剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
なお、基板１０１は、既述した通りである。
積層押圧工程は、一方の保持フィルムが剥離された第２透明有機物層を、ＵＶ硬化性樹脂Ｂを介して、剥離した面を接触させるように基板に積層し、他方の保持フィルム側から押圧する工程である。本実施形態の製造方法では、まず、図４Ｅに示すように、基板１０１上に、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）を塗布（ポッティング）する。次いで、図４Ｆに示すように、片面剥離積層体２５０’を、第２保持フィルム２０１ｂが剥離された面が基板１０１を向くように配置し、基板１０１に塗布されたＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）に押圧する。押圧されたＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）は、基板１０１と第２透明有機物層１２０との間で押し拡げられる。なお、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）としては、特に制限されないが、例えば、ＵＶ硬化性アクリル系樹脂、ＵＶ硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。また、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）には、必要に応じ、硬化開始剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
なお、基板１０１は、既述した通りである。
＜硬化Ｂ工程＞
硬化Ｂ工程は、第２透明有機物層を押圧した状態で、ＵＶ硬化性樹脂ＢをＵＶ光の照射により硬化し、第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有する第１透明有機物層を形成する工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｇに示すように、押圧を維持した状態で、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）に対してＵＶ光を照射し、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）を硬化する。ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）は、硬化することで、基板１０１及び第２透明有機物層１２０に固着し、第１透明有機物層１１０が形成される。
なお、硬化Ｂ工程は、積層押圧工程における押圧と同じタイミングで行ってもよい。
硬化Ｂ工程は、第２透明有機物層を押圧した状態で、ＵＶ硬化性樹脂ＢをＵＶ光の照射により硬化し、第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有する第１透明有機物層を形成する工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｇに示すように、押圧を維持した状態で、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）に対してＵＶ光を照射し、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）を硬化する。ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）は、硬化することで、基板１０１及び第２透明有機物層１２０に固着し、第１透明有機物層１１０が形成される。
なお、硬化Ｂ工程は、積層押圧工程における押圧と同じタイミングで行ってもよい。
＜第２剥離工程＞
第２剥離工程は、第２透明有機物層の押圧を解除し、第１透明有機物層により基板に固着した第２透明有機物層を、第１透明有機物層による固着箇所以外の第２透明有機物層から分離しながら、他方の保持フィルムから剥離させる工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｈに示すように、片面剥離積層体２５０’の押圧を解除して、基板１０１から片面剥離積層体２５０’をリリースすることで、第２透明有機物層１２０を片面剥離積層体２５０’から剥離させる。硬化Ｂ工程により、片面剥離積層体２５０’の第２透明有機物層１２０のうち、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）が存在し、且つ、ＵＶ光が照射された領域では、第２透明有機物層１２０と基板１０１とが、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）により固着される。そして、片面剥離積層体２５０’をリリースすることで、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）により固着された第２透明有機物層１２０が、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）による固着箇所以外の第１保持フィルム２０１ａ上の第２透明有機物層１２０と分離（分断）されながら、片面剥離積層体２５０’（第１保持フィルム２０１ａ）から剥離され、こうして、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）、即ち第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０が、基板１０１上に形成される。
第２剥離工程は、第２透明有機物層の押圧を解除し、第１透明有機物層により基板に固着した第２透明有機物層を、第１透明有機物層による固着箇所以外の第２透明有機物層から分離しながら、他方の保持フィルムから剥離させる工程である。本実施形態の製造方法では、図４Ｈに示すように、片面剥離積層体２５０’の押圧を解除して、基板１０１から片面剥離積層体２５０’をリリースすることで、第２透明有機物層１２０を片面剥離積層体２５０’から剥離させる。硬化Ｂ工程により、片面剥離積層体２５０’の第２透明有機物層１２０のうち、ＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１）が存在し、且つ、ＵＶ光が照射された領域では、第２透明有機物層１２０と基板１０１とが、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）により固着される。そして、片面剥離積層体２５０’をリリースすることで、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）により固着された第２透明有機物層１２０が、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）による固着箇所以外の第１保持フィルム２０１ａ上の第２透明有機物層１２０と分離（分断）されながら、片面剥離積層体２５０’（第１保持フィルム２０１ａ）から剥離され、こうして、硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ（１７１’）、即ち第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０が、基板１０１上に形成される。
図４Ｈに示すように、基板１０１に形成される複合層１３０は、第２透明有機物層１２０の基板１０１側の面の凹部にも、第１透明有機物層１１０が入り込むことができる。即ち、第１透明有機物層１１０は、第２透明有機物層１２０側の表面に微細凹凸構造を有することができる。このような複合層１３０は、反射防止性能に優れ、例えば、波長４００〜７５０ｎｍの範囲における平均反射率を１％以下とすることができる。
（カメラモジュール搭載装置）
本発明のカメラモジュール搭載装置は、カメラモジュールと、表示板とを備え、表示板は、その表面の少なくとも一部に積層された第１透明有機物層と、第１透明有機物層上に積層された第２透明有機物層とを含む。また、第１透明有機物層は、第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有する。更に、第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みは、１５μｍ以下である。そして、このカメラモジュール搭載装置は、カメラモジュールが、第２透明有機物層と向かい合うように設置されている。このカメラモジュール搭載装置によれば、カメラモジュールの撮像素子により、第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層を介して静止画や動画を撮影することができるので、光の反射が抑えられ、得られる撮像画像において色ムラやゴースト等の発生を抑制することができる。
本発明のカメラモジュール搭載装置は、カメラモジュールと、表示板とを備え、表示板は、その表面の少なくとも一部に積層された第１透明有機物層と、第１透明有機物層上に積層された第２透明有機物層とを含む。また、第１透明有機物層は、第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有する。更に、第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みは、１５μｍ以下である。そして、このカメラモジュール搭載装置は、カメラモジュールが、第２透明有機物層と向かい合うように設置されている。このカメラモジュール搭載装置によれば、カメラモジュールの撮像素子により、第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層を介して静止画や動画を撮影することができるので、光の反射が抑えられ、得られる撮像画像において色ムラやゴースト等の発生を抑制することができる。
カメラモジュール搭載装置としては、具体的に、ノート型ＰＣ、タブレット型ＰＣ、スマートフォン、携帯電話等が挙げられる。
以下、本発明の一実施形態に係るカメラモジュール搭載装置（以下、「本実施形態の装置」と称することがある。）について、図５を参照して説明する。
図５は、本実施形態のカメラモジュール搭載装置の、カメラモジュール近傍を示す模式概要図である。図５に示すように、本実施形態のカメラモジュール搭載装置３００は、カメラモジュール３１０と、表示板３１１とを備え、表示板３１１の一方の表面には、遮光領域３１２と、透明領域（非遮光領域）３１３とが形成されている。また、表示板３１１の透明領域３１３には、第１透明有機物層３１４が積層されるとともに、この第１透明有機物層３１４には、第２透明有機物層３１５が積層されている。
図５は、本実施形態のカメラモジュール搭載装置の、カメラモジュール近傍を示す模式概要図である。図５に示すように、本実施形態のカメラモジュール搭載装置３００は、カメラモジュール３１０と、表示板３１１とを備え、表示板３１１の一方の表面には、遮光領域３１２と、透明領域（非遮光領域）３１３とが形成されている。また、表示板３１１の透明領域３１３には、第１透明有機物層３１４が積層されるとともに、この第１透明有機物層３１４には、第２透明有機物層３１５が積層されている。
ここで、表示板３１１は、液晶ディスプレイ、タッチパネルなどとして用いられるために透明であることが好ましく、例えば、ガラス、任意の有機材料で表面をコーティングしたガラス、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）などからなる。ここで、上記の有機材料としては、例えば、ポリイミドが挙げられる。また、第１透明有機物層３１４及び第２透明有機物層３１５は、それぞれ、上述した本発明の微細凹凸積層体が備える第１透明有機物層及び第２透明有機物層について既述した通りである。
更に、第１透明有機物層３１４及び第２透明有機物層３１５を備える表示板３１１は、上述した本発明の微細凹凸積層体の製造方法により、製造することができる。
そして、カメラモジュール３１０は、図５に示すように、第２透明有機物層３１５と向かい合うように設置される。
なお、本実施形態の装置の詳細な条件、例えば、カメラモジュール３１０の具体的な構成、カメラモジュール３１０と第２透明有機物層３１５との距離などは、特に制限されない。
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例に制限されるものではない。
実施例及び比較例では、差分絶対平均値については計算ソフト「ＴＦＣａｌｃ」を用い、光学計算による検討を行った。なお、光学計算では、波長５８９ｎｍにおける屈折率を用いた。
実施例及び比較例では、差分絶対平均値については計算ソフト「ＴＦＣａｌｃ」を用い、光学計算による検討を行った。なお、光学計算では、波長５８９ｎｍにおける屈折率を用いた。
（実施例１）
図１に示されるような、基板１０１と、第１透明有機物層１１０と、第２透明有機物層１２０とがこの順で積層されており、第１透明有機物層１１０が、第２透明有機物層１２０側の表面に微細凹凸構造１１０ａを有し、第２透明有機物層１２０が、両面に微細凹凸構造１２０ａ、１２０ｂを有する、微細凹凸積層体１００のモデルを対象とした。ここで、基板の屈折率ｎ０を１．５００とし、第１透明有機物層の屈折率ｎ１を１．４９０とし、第２透明有機物層の屈折率ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０とは、互いの微細凹凸構造の凹部及び凸部が咬合していることとし、第１透明有機物層１１０のベース部１１１の厚みを６０００ｎｍ、咬合する第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍ、第２透明有機物層１２０のベース部１２１の厚みを１０００ｎｍ、第２透明有機物層１２０のもう一方の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍとした。第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０の厚みは、７４４０ｎｍと算出された。
図１に示されるような、基板１０１と、第１透明有機物層１１０と、第２透明有機物層１２０とがこの順で積層されており、第１透明有機物層１１０が、第２透明有機物層１２０側の表面に微細凹凸構造１１０ａを有し、第２透明有機物層１２０が、両面に微細凹凸構造１２０ａ、１２０ｂを有する、微細凹凸積層体１００のモデルを対象とした。ここで、基板の屈折率ｎ０を１．５００とし、第１透明有機物層の屈折率ｎ１を１．４９０とし、第２透明有機物層の屈折率ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０とは、互いの微細凹凸構造の凹部及び凸部が咬合していることとし、第１透明有機物層１１０のベース部１１１の厚みを６０００ｎｍ、咬合する第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍ、第２透明有機物層１２０のベース部１２１の厚みを１０００ｎｍ、第２透明有機物層１２０のもう一方の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍとした。第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０の厚みは、７４４０ｎｍと算出された。
この微細凹凸積層体モデルの、第２透明有機物層側からの光の反射スペクトルは、図６に示す通りとなった。次に、得られた光の反射スペクトルから、差分絶対平均値を求めた。結果を表１に示す。この値が小さいほど、スペクトルの振動（リップル）が小さく、色ムラや反射悪化が抑制されることを示す。
また、この微細凹凸積層体モデルに対し、第２透明有機物層側から、波長４２５ｎｍの光を入射角７°で入射させたときの、散乱及び吸収による光の損失率（％）を求めた。具体的には、１００％−｛透過率（Ｔｒ）＋反射率（Ｒｅ）｝を求めた。この値を用い、以下の基準に従って、光の損失率を評価した。結果を表１に示す。
Ａ：１．００％未満
Ｂ：１．００％以上１．４０％未満
Ｃ：１．４０％以上
Ａ：１．００％未満
Ｂ：１．００％以上１．４０％未満
Ｃ：１．４０％以上
（実施例２〜７）
第１透明有機物層の屈折率を表１に示す通りに変えたこと以外は、実施例１と同様の微細凹凸積層体モデルを対象とした。この微細凹凸積層体モデルにおいて、上述した式（１）及び式（２）を満たすか、上述した式（１）〜式（３）を全て満たすか、並びに、上述した式（４）〜式（６）を全て満たすかについて、表１に示す（以降の例も同様）。
そして、各例における、第２透明有機物層側からの光の反射スペクトルは、それぞれ図７〜図１２に示す通りとなった。また、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
第１透明有機物層の屈折率を表１に示す通りに変えたこと以外は、実施例１と同様の微細凹凸積層体モデルを対象とした。この微細凹凸積層体モデルにおいて、上述した式（１）及び式（２）を満たすか、上述した式（１）〜式（３）を全て満たすか、並びに、上述した式（４）〜式（６）を全て満たすかについて、表１に示す（以降の例も同様）。
そして、各例における、第２透明有機物層側からの光の反射スペクトルは、それぞれ図７〜図１２に示す通りとなった。また、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
（実施例８）
実施例１と同様に、図１に示されるような微細凹凸積層体１００のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５１８とし、ｎ１を１．５００とし、ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０とは、互いの微細凹凸構造の凹部及び凸部が咬合していることとし、第１透明有機物層１１０のベース部１１１の厚みを８２００ｎｍ、咬合する第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍ、第２透明有機物層１２０のベース部１２１の厚みを１０００ｎｍ、第２透明有機物層１２０のもう一方の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍとした。第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０の厚みは、９６４０ｎｍと算出された。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
実施例１と同様に、図１に示されるような微細凹凸積層体１００のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５１８とし、ｎ１を１．５００とし、ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０とは、互いの微細凹凸構造の凹部及び凸部が咬合していることとし、第１透明有機物層１１０のベース部１１１の厚みを８２００ｎｍ、咬合する第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍ、第２透明有機物層１２０のベース部１２１の厚みを１０００ｎｍ、第２透明有機物層１２０のもう一方の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍとした。第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０の厚みは、９６４０ｎｍと算出された。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
（実施例９）
実施例１と同様に、図１に示されるような微細凹凸積層体１００のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５１５とし、ｎ１を１．５１０とし、ｎ２を１．５３０とした。また、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０とは、互いの微細凹凸構造の凹部及び凸部が咬合していることとし、第１透明有機物層１１０のベース部１１１の厚みを２０００ｎｍ、咬合する第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍ、第２透明有機物層１２０のベース部１２１の厚みを１０００ｎｍ、第２透明有機物層１２０のもう一方の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍとした。第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０の厚みは、３４４０ｎｍと算出された。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
実施例１と同様に、図１に示されるような微細凹凸積層体１００のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５１５とし、ｎ１を１．５１０とし、ｎ２を１．５３０とした。また、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０とは、互いの微細凹凸構造の凹部及び凸部が咬合していることとし、第１透明有機物層１１０のベース部１１１の厚みを２０００ｎｍ、咬合する第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍ、第２透明有機物層１２０のベース部１２１の厚みを１０００ｎｍ、第２透明有機物層１２０のもう一方の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍとした。第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０からなる複合層１３０の厚みは、３４４０ｎｍと算出された。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
（比較例１）
基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、第１透明有機物層は、両面が平坦面であり、第２透明有機物層が、第１透明有機物層とは逆側の表面（上面）のみに微細凹凸構造を有する、微細凹凸積層体のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５１８とし、ｎ１を１．５００とし、ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層の厚みを、９８４０ｎｍとした。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、第１透明有機物層は、両面が平坦面であり、第２透明有機物層が、第１透明有機物層とは逆側の表面（上面）のみに微細凹凸構造を有する、微細凹凸積層体のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５１８とし、ｎ１を１．５００とし、ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層の厚みを、９８４０ｎｍとした。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
（比較例２，３）
第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層の厚みを表１に示す通りに変えたこと以外は、比較例１と同様の微細凹凸積層体モデルを対象とした。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層の厚みを表１に示す通りに変えたこと以外は、比較例１と同様の微細凹凸積層体モデルを対象とした。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
（比較例４）
基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、第１透明有機物層は、両面が平坦面であり、第２透明有機物層も、両面が平坦面である、平坦積層体のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５２０とし、ｎ１を１．５００とし、ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層の厚みを２５０００ｎｍとした。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、第１透明有機物層は、両面が平坦面であり、第２透明有機物層も、両面が平坦面である、平坦積層体のモデルを対象とした。ここで、ｎ０を１．５２０とし、ｎ１を１．５００とし、ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層の厚みを２５０００ｎｍとした。
そして、実施例１と同様にして、差分絶対平均値の測定及び光の損失率の評価をそれぞれ行った。結果を表１に示す。
表１より、実施例１〜９に係る微細凹凸積層体は、第１透明有機物層及び第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍを大きく下回っており、薄型化が達成されていることが分かる。その上、実施例１〜９に係る微細凹凸積層体は、第１透明有機物層が第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、第２透明有機物層が両面に微細凹凸構造を有しているため、反射防止性能に優れ、また、短波長の光の散乱や吸収が十分に抑制されていることが分かる。
その中でも特に、式（１）及び式（２）の両方を満たす実施例１〜３、５〜７、９、並びに式（４）、式（５）及び式（６）の全てを満たす実施例８に係る微細凹凸積層体は、差分絶対平均値が小さいことが分かる。とりわけ、式（１）、式（２）及び式（３）の全てを満たす実施例１〜３，９に係る微細凹凸積層体は、差分絶対平均値が０．０２０％以下となっている、即ち、反射スペクトルの振動（リップル）がより小さく、色ムラや反射悪化を一層抑制することができていることが分かる。
その中でも特に、式（１）及び式（２）の両方を満たす実施例１〜３、５〜７、９、並びに式（４）、式（５）及び式（６）の全てを満たす実施例８に係る微細凹凸積層体は、差分絶対平均値が小さいことが分かる。とりわけ、式（１）、式（２）及び式（３）の全てを満たす実施例１〜３，９に係る微細凹凸積層体は、差分絶対平均値が０．０２０％以下となっている、即ち、反射スペクトルの振動（リップル）がより小さく、色ムラや反射悪化を一層抑制することができていることが分かる。
次に、微細凹凸積層体の第２透明有機物層における微細凹凸構造ではない部分の厚みが反射スペクトルに及ぼす影響について検討した。
図１に示されるような、基板１０１と、第１透明有機物層１１０と、第２透明有機物層１２０とがこの順で積層されており、第１透明有機物層１１０が、第２透明有機物層１２０側の表面に微細凹凸構造１１０ａを有し、第２透明有機物層１２０が、両面に微細凹凸構造１２０ａ、１２０ｂを有する、微細凹凸積層体１００のモデルを対象とした。ここで、基板の屈折率ｎ０を１．５００とし、第１透明有機物層の屈折率ｎ１を１．４７０とし、第２透明有機物層の屈折率ｎ２を１．５２０とした。また、第１透明有機物層１１０と第２透明有機物層１２０とは、互いの微細凹凸構造の凹部及び凸部が咬合していることとし、第１透明有機物層１１０のベース部１１１の厚みを６０００ｎｍ、咬合する第１透明有機物層１１０及び第２透明有機物層１２０の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍ、第２透明有機物層１２０のもう一方の凹部の深さ（凸部の高さ）を２２０ｎｍとした。そして、第２透明有機物層１２０のベース部１２１（微細凹凸構造ではない部分）の厚みをそれぞれ１５００ｎｍ、１０００ｎｍ、５００ｎｍ、２５０ｎｍ、５０ｎｍに変え、第２透明有機物層側からの光の反射スペクトルを求めたところ、それぞれ図１４Ａ〜図１４Ｅに示す通りとなった。そして、得られた光の反射スペクトルから、差分絶対平均値を求めた。結果を表２に示す。
図１４Ａ〜図１４Ｅ及び表２より、第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みが小さい（例えば、２５０ｎｍ以下である）ほど、差分絶対平均値が小さい上、反射スペクトルの振動（リップル）が小さく、色ムラや反射悪化を一層抑制することができていることが分かる。
本発明によれば、薄型化が達成され、反射防止性能に優れ、且つ、短波長の光の散乱や吸収を抑制することが可能な、微細凹凸積層体及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、色ムラやゴースト等の発生が抑制された撮像画像を得ることができる、カメラモジュール搭載装置を提供することができる。
１００ 微細凹凸積層体
１０１ 基板
１１０ 第１透明有機物層
１１０ａ 微細凹凸構造
１１１ ベース部
１２０ 第２透明有機物層
１２０ａ、１２０ｂ 微細凹凸構造
１２１ ベース部
１３０ 複合層
１５１ ＵＶ硬化性樹脂Ａ
１６０ ロールラミネータ
１７１ ＵＶ硬化性樹脂Ｂ
１７１’ 硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ
２０１ａ 第１保持フィルム
２０１ｂ 第２保持フィルム
２５０ 保持フィルム積層体
２５０’ 片面剥離積層体
３００ カメラモジュール搭載装置
３１０ カメラモジュール
３１１ 表示板
３１２ 遮光領域
３１３ 透明領域
３１４ 第１透明有機物層
３１５ 第２透明有機物層
１０１ 基板
１１０ 第１透明有機物層
１１０ａ 微細凹凸構造
１１１ ベース部
１２０ 第２透明有機物層
１２０ａ、１２０ｂ 微細凹凸構造
１２１ ベース部
１３０ 複合層
１５１ ＵＶ硬化性樹脂Ａ
１６０ ロールラミネータ
１７１ ＵＶ硬化性樹脂Ｂ
１７１’ 硬化したＵＶ硬化性樹脂Ｂ
２０１ａ 第１保持フィルム
２０１ｂ 第２保持フィルム
２５０ 保持フィルム積層体
２５０’ 片面剥離積層体
３００ カメラモジュール搭載装置
３１０ カメラモジュール
３１１ 表示板
３１２ 遮光領域
３１３ 透明領域
３１４ 第１透明有機物層
３１５ 第２透明有機物層
Claims (12)
- 基板と、第１透明有機物層と、第２透明有機物層とがこの順で積層されており、
前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、
前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下である、
ことを特徴とする、微細凹凸積層体。 - 前記第２透明有機物層の両面の微細凹凸構造が、それぞれ、可視光波長以下のピッチを有する凹凸パターンからなる、請求項１に記載の微細凹凸積層体。
- 前記第２透明有機物層の微細凹凸構造ではない部分の厚みが２５０ｎｍ以下である、請求項１又は２に記載の微細凹凸積層体。
- 前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層が、前記基板の表面の一部にのみ積層されている、請求項１〜３のいずれかに記載の微細凹凸積層体。
- 前記基板の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、前記第１透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、前記第２透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（１）及び式（２）：
ｎ０＜ｎ２ ・・・（１）
２ｎ０−ｎ２≦ｎ１≦２ｎ２−ｎ０ ・・・（２）
を満たす、請求項１〜４のいずれかに記載の微細凹凸積層体。 - 更に、以下の式（３）：
２ｎ０−ｎ２＜ｎ１＜ｎ２ ・・・（３）
を満たす、請求項５に記載の微細凹凸積層体。 - 前記基板の可視光波長範囲内の屈折率をｎ０、前記第１透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ１、前記第２透明有機物層の可視光波長範囲内の屈折率をｎ２としたときに、以下の式（４）、式（５）及び式（６）：
−０．００２≦ｎ０−ｎ２≦０．００２ ・・・（４）
ｎ１＜ｎ０ ・・・（５）
ｎ１＜ｎ２ ・・・（６）
を満たす、請求項１〜４のいずれかに記載の微細凹凸積層体。 - 前記第２透明有機物層側からの光の反射スペクトルにおいて、波長４００〜７５０ｎｍの範囲で、１ｎｍごとに、前後２５ｎｍの反射率の値を用いて波長移動平均値を算出し、前記波長移動平均値と前記スペクトルの値との差分絶対値をそれぞれ算出したときに、それらの平均値が０．０２０％以下である、請求項１〜７のいずれかに記載の微細凹凸積層体。
- 前記第１透明有機物層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎ１が、１．４８０以上１．５８０以下である、請求項１〜８のいずれかに記載の微細凹凸積層体。
- カメラモジュール搭載装置に用いられる、請求項１〜９のいずれかに記載の微細凹凸積層体。
- 請求項１〜１０のいずれかに記載の微細凹凸積層体の製造方法であって、
表面に微細凹凸構造を有する２枚の保持フィルムで、ＵＶ硬化性樹脂Ａを挟持し、圧着する挟持圧着工程と、
挟持されたＵＶ硬化性樹脂ＡをＵＶ光の照射により硬化し、両面に微細凹凸構造を有する第２透明有機物層を形成する硬化Ａ工程と、
前記第２透明有機物層から一方の保持フィルムを剥離する第１剥離工程と、
一方の保持フィルムが剥離された前記第２透明有機物層を、ＵＶ硬化性樹脂Ｂを介して、剥離した面を接触させるように基板に積層し、他方の保持フィルム側から押圧する積層押圧工程と、
前記第２透明有機物層を押圧した状態で、前記ＵＶ硬化性樹脂ＢをＵＶ光の照射により硬化し、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有する第１透明有機物層を形成する硬化Ｂ工程と、
前記第２透明有機物層の押圧を解除し、前記第１透明有機物層により前記基板に固着した第２透明有機物層を、前記第１透明有機物層による固着箇所以外の第２透明有機物層から分離しながら、前記他方の保持フィルムから剥離させる第２剥離工程と、
を含むことを特徴とする、微細凹凸積層体の製造方法。 - カメラモジュールと、表示板とを備え、
前記表示板は、その表面の少なくとも一部に積層された第１透明有機物層と、前記第１透明有機物層上に積層された第２透明有機物層とを含み、
前記第１透明有機物層は、前記第２透明有機物層側の表面に微細凹凸構造を有し、
前記第２透明有機物層は、両面に微細凹凸構造を有し、
前記第１透明有機物層及び前記第２透明有機物層からなる複合層の厚みが１５μｍ以下であり、
前記カメラモジュールは、前記第２透明有機物層と向かい合うように設置されている、
ことを特徴とする、カメラモジュール搭載装置。
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