JP2021056305A

JP2021056305A - 反射防止構造体、反射防止構造体付き基材、カメラモジュール及び情報端末機器

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Publication number: JP2021056305A
Application number: JP2019177159A
Authority: JP
Inventors: 宏士須賀田; Hiroshi Sugata; 田澤　洋志; Hiroshi Tazawa; 洋志田澤; 俊一梶谷; Shunichi Kajitani
Original assignee: Dexerials Corp
Current assignee: Dexerials Corp
Priority date: 2019-09-27
Filing date: 2019-09-27
Publication date: 2021-04-08
Also published as: CN114424091A; US20220291422A1; EP4036182A1; KR102635011B1; KR20220044307A; EP4036182A4; WO2021060275A1

Abstract

【課題】反射防止性能及び透明性に優れ、表面のシワの発生が低減された、反射防止構造体を提供する。【解決手段】上記課題を解決するべく、本発明は、少なくとも、接着層２０と、該接着層２０上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜３０と、を備える反射防止構造体１０であって、前記接着層２０の貯蔵弾性率Ｅ’が、25MPa以上であり、前記反射防止膜３０の両面に形成された微細凹凸構造が、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期Ｐを有することを特徴とする。【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止性能及び透明性に優れ、表面のシワの発生が低減された、反射防止構造体及び反射防止構造体付き基材、反射防止性能及び透明性に優れたカメラモジュール、視認性や画質に優れた撮像画像を得ることができる情報端末機器、に関するものである。

液晶ディスプレイ等の表示装置や、カメラ等の光学装置は、外部からの光の反射による視認性や画質の悪化（色ムラ、ゴースト等の発生）を回避するため、表示板やレンズ等の基材における光の入射面に対し、反射防止膜を形成する等の、反射防止処理が施されることが多い。
ここで、従来の反射防止処理の一つとして、光の入射面に微細凹凸構造（モスアイ構造）を有する反射防止膜を形成することで、反射率を低減する技術が知られている。

微細凹凸構造を有する薄膜を形成する技術としては、例えば、特許文献１に、ナノ構造の凹凸構造（１１）を有するキャリア（１０）と、凹凸構造（１１）上に設けられた機能層（１２）と、を転写により形成し、形成された凹凸構造の平均ピッチ及び機能層の条件について適正化を図ることによって、被処理体上に高精度に機能を付与することを目的とした、転写体に関する技術が開示されている。

国際公開第２０１３／１８７３４９号

しかしながら、特許文献１のように、微細凹凸構造を有するフィルムモールドと接した状態で硬化して得られた薄膜体（特許文献１の機能層（１１））は、その微細凹凸構造によって応力緩和が阻害されるため、硬化収縮等に起因した内部応力が高い状態で保持されており、その結果、薄膜体が形成された構造体の表面にシワが発生する、という問題が新たに生じることがわかった。
そして、薄膜体が形成された構造体の表面にシワが発生すると、外観性の低下だけでなく、光の反射防止性能や透明性にも悪影響を与えるため、このシワの発生を抑制できる技術の開発が望まれていた。

本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、反射防止性能及び透明性に優れ、表面のシワの発生が低減された、反射防止構造体並びに反射防止構造体付き基材を提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、反射防止性能及び透明性に優れたカメラモジュール、並びに、視認性や画質に優れた撮像画像を得ることができる情報端末機器を提供することを目的とする。

本発明者らは、少なくとも、接着層と、該接着層上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜と、を備える反射防止構造体について、上記の課題を解決するべく鋭意研究を重ねた結果、接着層の貯蔵弾性率について適正化を図ることによって、微細凹凸構造を有する反射防止膜を転写成形し、形成された反射防止膜の内部応力が高い状態で保持されるような場合であっても、反射防止構造体の表面にシワが発生するのを有効に抑制でき、光の反射防止性能や透明性についても良好に維持できること、さらに、反射防止膜の両面に形成された微細凹凸構造の凹凸周期を、いずれも可視光線の波長以下とすることによって、反射防止性能を高めることができることを見出し、本発明を完成するに至った。

本発明は、上記知見に基づきなされたものであり、その要旨は以下の通りである。
（１）少なくとも、接着層と、該接着層上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜と、を備える反射防止構造体であって、
前記接着層の貯蔵弾性率が、25MPa以上であり、
前記反射防止膜の両面に形成された微細凹凸構造が、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期を有することを特徴とする、反射防止構造体。
上記構成によって、反射防止構造体の、反射防止性能及び透明性を向上させ、表面に発生するシワを低減できる。
（２）前記接着層の貯蔵弾性率が、25MPa以上で且つ2.1GPa以下であることを特徴とする、上記（１）に記載の反射防止構造体。
（３）前記接着層は、紫外線硬化性接着剤からなる層であることを特徴とする、上記（１）又は（２）に記載の反射防止構造体。
（４）前記反射防止膜の厚さに対する前記接着層の厚さが、5〜300であることを特徴とする、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止構造体。
（５）基材と、該基材上に形成された接着層と、該接着層上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜と、を備え、
前記接着層の貯蔵弾性率が、25MPa以上であり、
前記反射防止膜の両面に形成された微細凹凸構造が、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期を有することを特徴とする、反射防止構造体付き基材。
上記構成によって、反射防止構造体付き基材の、反射防止性能及び透明性を向上させ、表面に発生するシワを低減できる。
（６）上記（５）に記載の前記反射防止構造体付き基材を用いたことを特徴とする、カメラモジュール。
（７）カメラモジュールを搭載する情報端末機器であって、
前記カメラモジュールとして、上記（６）に記載のカメラモジュールを用いることを特徴とする、情報端末機器。
上記構成によって、視認性や画質に優れた撮像画像を得ることができる。

本発明によれば、反射防止性能及び透明性に優れ、表面のシワの発生が低減された、反射防止構造体、反射防止構造体付き基材を提供することが可能となる。また、本発明によれば、上記反射防止構造体付き基材を用い、反射防止性能及び透明性に優れたカメラモジュール、並びに、視認性や画質に優れた撮像画像を得ることができる情報端末機器を提供することが可能となる。

本発明の反射防止構造体の一実施形態を模式的に説明した断面図である。本発明の反射防止構造体付き基材の一実施形態を模式的に説明した断面図である。シワが発生した反射防止構造体の表面を、光学顕微鏡によって観察した際の画像である。シワが発生した反射防止構造体とシワの発生がない反射防止構造体との表面状態を３次元形状測定器によって観察した図であり、（ａ）は、シワが発生した反射防止構造体の表面状態、（ｂ）は、シワの発生がない反射防止構造体の表面状態を示す。本発明の反射防止構造体及び本発明の反射防止構造体付き基材を製造する方法の一例を示したフロー図であり、（ａ）は、モールドによって反射防止膜を成形した状態、（ｂ）は、露出させた反射防止膜の片面と、基材上に設けられた接着層とを圧着させる工程、（ｃ）は、反射防止膜と接着剤とを圧着させた状態で、エネルギー線を照射する工程、（ｄ）は、接着剤を硬化させた後、モールド及び不要な反射防止膜を取り除く工程、を示したものである。

以下、本発明の実施形態の一例について、必要に応じて図面を用いながら具体的に説明する。なお、図１、２及び５の中で開示した各部材については、説明の便宜のため、実際とは異なる縮尺及び形状で、模式的に表している。

＜反射防止構造体＞
まず、本発明の反射防止構造体の一実施形態について説明する。
本発明の反射防止構造体は、図１に示すように、少なくとも、接着層２０と、該接着層２０上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜３０と、を備える反射防止構造体１０である。
そして、本発明の反射防止構造体１０では、前記接着層２０の貯蔵弾性率が、25MPa以上であり、前記反射防止膜３０の両面に形成された微細凹凸構造が、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期を有することを特徴とする。

前記反射防止膜３０の微細凹凸構造３０の凹凸周期Ｐを、可視光線の波長以下とすることによって、薄膜化を図りつつ、高い反射防止性能を実現できる。
さらに、前記接着層２０の貯蔵弾性率を25MPa以上と大きくすることによって、微細凹凸構造を有する反射防止膜３０を転写成形した後、形成された反射防止膜３０に内部応力が高い状態で存在するような場合であっても、前記接着層２０の補強性が高くなることによって、反射防止膜３０の内部応力に起因した歪みの発生を抑えることができる結果、反射防止構造体１０の表面のシワの発生を有効に抑制できる。それによって、反射防止構造体１０の、外観性や、反射防止性能、透明性についても高いレベルで維持できる。

ここで、図３は、反射防止膜の内部応力が原因で、反射防止構造体の表面に発生したシワの状態の一例を示したものである。このようなシワが発生した場合、反射防止構造体の外観性を損ねるだけでなく、反射防止性能や透明性の悪化の原因となる。
本発明の反射防止構造体１０では、このようなシワの発生を抑えることができ、平滑な表面状態を得ることができる結果、反射防止性能及び透明性を高いレベルで両立できる。

また、図４（ａ）及び（ｂ）は、反射防止構造体の表面状態を、３次元形状測定器（株式会社日立ハイテクサイエンス製「Vertscan」）によって観察した図である。
従来の反射防止構造体では、図４（ａ）に示すように、シワの発生によって表面に凹凸が形成されていることがわかる。これが、反射防止性能の悪化や透明性の低下を招くことになる。一方、本発明の反射防止構造体では、図４（ｂ）に示すように、シワの発生がなく、平滑な表面が得られていることがわかる。

（接着層）
本発明の反射防止構造体１０は、図１に示すように、前記接着層２０を備える。
そして、本発明の反射防止構造体１０では、表面のシワの発生を抑制する観点から、前記接着層２０の貯蔵弾性率（Ｅ’）が、25MPa以上であることを要する。

前記接着層２０の貯蔵弾性率Ｅ’が25MPa未満の場合には、前記接着性２０の補強性が低下し、後述する反射防止膜３０が保持する内部応力に起因したシワの発生を、十分に抑えることができない。
同様の観点から、前記接着層２０の貯蔵弾性率Ｅ’は、60MPa以上であることが好ましく、120MPa以上であることがより好ましい。
なお、前記貯蔵弾性率Ｅ’の測定は、動的粘弾性装置（例えば、（株）日立ハイテクサイエンス製「ＤＭＳ６１００」等）を用い、周波数：1Hz、張力／圧縮力：98mN、温度範囲：−50〜200℃、測定温度：40℃等の条件で、測定を行うことできる。

また、前記接着層２０の貯蔵弾性率Ｅ’は、適度な弾力性を確保する点や、反射防止膜３０及び基材４０との接着性の観点から、2.1GPa以下であることが好ましく、1GPa以下であることがより好ましい。

なお、前記接着層２０の貯蔵弾性率Ｅ’を調整する方法については、特に限定はされず、公知の技術によって適宜調整を行うことができる。例えば、前記接着層２０を構成する樹脂の種類や、モノマー及びオリゴマーの種類、重合開始剤や添加剤の種類及び含有量、紫外線硬化性樹脂を材料として用いる場合には紫外線の照射時間、等を調整することによって、所望の貯蔵弾性率Ｅ’を得ることができる。

ここで、前記接着層２０は、後述する反射防止膜３０を、後述する基材１０等の別部材に接合するべく、接着剤から構成される。前記反射防止構造体３０の反射防止性能を低下させず、高い貯蔵弾性率Ｅ’（25MPa以上）を有することができる材料を用いる必要がある。

具体的な材料については、特に限定はされず、高い貯蔵弾性率Ｅ’を得る観点や、製造性の観点から、硬化反応により硬化する樹脂組成物を適宜用いることができる。その中でも、前記接着層２０は、紫外線硬化性接着剤からなることが好ましい。高い接合性を実現できるとともに、高い貯蔵弾性率Ｅ’を得ることができるためである。前記紫外線硬化性樹脂については、例えば、紫外線硬化性アクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシ系樹脂等が挙げられる。

なお、前記接着層の形成方法については、特に限定はされない。例えば、前記接着層２０が紫外線硬化性接着剤からなる層である場合には、前記紫外線硬化性接着剤を後述する反射防止膜３０と圧着させた状態で紫外線を照射することによって、接着層２０を形成できる。

また、前記接着層２０の形状については、図１に示すように、少なくとも反射防止膜３０と接する面に微細凹凸構造を有する。前記接着層２０の微細凹凸構造については、後述する反射防止膜３０の微細凹凸に応じて形成されるものであるため、凹凸の形成ピッチや凹凸高さ等の条件については、後述する反射防止膜３０の中で説明する条件と同様である。
なお、前記接着層２０の反射防止膜３０と接する面とは反対の面は、通常、平坦となっている。ただし、前記接着層２０が接する基材４０の表面形状に応じて、適宜変更することも可能である。

さらに、前記接着層２０の厚さＴ１は、反射防止構造体１０の薄膜化の観点から、薄くすることが好ましい。具体的には、30μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。
加えて、前記接着層２０の厚さＴ１は、反射防止構造体１０のシワの発生をより確実に抑制できる観点から、1μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましい。

さらにまた、後述する反射防止膜３０の厚さＴ２に対する前記接着層２０の厚さＴ１が（Ｔ１／Ｔ２）が、5〜300の範囲であることが好ましく、25〜120の範囲であることがより好ましい。前記Ｔ１／Ｔ２が、5以上であることで、反射防止構造体１０のシワの発生をより確実に抑制でき、一方、前記Ｔ１／Ｔ２が、300以下であることで、薄膜性や反射防止性能をより良好に維持できる。
なお、前記接着層２０の厚さＴ１及び前記反射防止膜３０の厚さＴ２については、図１に示すように、それぞれ、積層方向において最も厚い部分の厚さＴ１、Ｔ２とする。

（反射防止膜）
本発明の反射防止構造体１０は、図１に示すように、前記接着層２０上形成された両面に微細凹凸構造（モスアイ構造）を有する反射防止膜３０を、さらに備える。
そして、前記反射防止膜３０が微細凹凸構造を有することによって、反射光の発生を抑えることができ、反射防止構造体１０の反射防止性能を高めることが可能となる。

前記反射防止構造体３０の微細凹凸構造の、凸部及び凹部の条件は、特に限定はされない。例えば、図１に示すように、周期的（例えば、千鳥格子状、矩形格子状）に配置してもよく、また、ランダムに凹凸を配置することも可能である。さらに、凸部及び凹部の形状についても特に制限はなく、砲弾型、錐体型、柱状、針状などであってもよい。なお、凹部の形状とは、凹部の内壁によって形成される形状を意味する。

前記反射防止膜３０の両面に形成された微細凹凸構造は、いずれも可視光線の波長以下（例えば、830nm以下）の凹凸周期（凹凸ピッチ）Ｐを有する。前記微細凹凸構造の凹凸周期Ｐを、可視光波長以下とする、言い換えれば、前記微細凹凸構造をいわゆるモスアイ構造とすることによって、可視光領域における反射光の発生を抑えることができ、優れた反射防止性能を実現できる。

また、前記凹凸周期Ｐの上限については、より確実に可視光線の反射光を抑えることができる観点から、350nm以下であることが好ましく、280nm以下であることがより好ましい。また、前記凹凸周期Ｐの下限については、製造性や、より確実に可視光線の反射光を抑えることができる観点から、100nm以上であることが好ましく、150nm以上であることがより好ましい。

ここで、前記反射防止膜３０の両面に形成された微細凹凸構造の凹凸周期Ｐは、隣り合う凸部間及び凹部間の距離の算術平均値である。ここで、前記微細凹凸構造の凹凸周期Ｐは、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、あるいは断面透過型電子顕微鏡（断面ＴＥＭ）などによって観察可能である。
また、隣り合う凸部間及び凹部間の距離の算術平均値を導出する方法としては、例えば、隣り合う凸部の組み合わせ、及び／又は、隣り合う凹部の組み合わせをそれぞれ複数個ピックアップし、各組み合わせを構成する凸部間の距離および凹部間の距離を測定し、測定値を平均する方法が挙げられる。
なお、前記反射防止膜３０の両面に形成された微細凹凸構造の周期Ｐは、図１に示すように、いずれも同じ周期Ｐでも良いし、異なる周期とすることもできる。ただし、微細凹凸構造の周期Ｐが、それぞれの面で異なる場合であっても、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期とする必要がある。

また、前記微細凹凸構造の平均凹凸高さ（凹部の深さ）Ｈは、190nm以上であることが好ましい。より確実に、優れた反射防止性能を得ることができるためである。また、前記微細凹凸構造の平均凹凸高さＰは、積層体の薄膜化の観点から、320nm以下であることが好ましい。
なお、前記微細凹凸構造の凹凸高さＨについては、図１に示すように、凹部の底から凸部の頂点までの距離のことであり、平均凹凸高さについては、いくつか（例えば5カ所）の凹凸高さＨを測定し、平均を算出することで得ることができる。
また、前記反射防止構造体３０の微細凹凸構造が形成されていない微細凹凸構造下の支持部分の厚みは、特に制限されず、10〜9000nm程度とすることができる。

また、前記反射防止膜３０を構成する材料については、特に限定はされない。例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（光硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物）、熱硬化性樹脂組成物等の、硬化反応により硬化する樹脂組成物であって、例えば重合性化合物と重合開始剤とを含有する樹脂組成物が挙げられる。

重合性化合物としては、例えば、（ｉ）１モルの多価アルコールに対して、２モル以上の比率の（メタ）アクリル酸又はその誘導体を反応させて得られるエステル化物、（ｉｉ）多価アルコールと、多価カルボン酸又はその無水物と、（メタ）アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物、等を使用できる。
上記（ｉ）としては、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、アクリロイモノフォリン、ウレタンアクリレート等が挙げられる。
上記（ｉｉ）としては、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールと、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、フマル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等から選ばれる多価カルボン酸又はその無水物と、（メタ）アクリル酸又はその誘導体を反応させて得られるエステル化物等が挙げられる。
これら重合性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。

さらに、前記樹脂組成物が光硬化性の場合には、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、１−ヒドロキシーシクロヘキシルーフェニルーケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルージフェニルーフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド；などが挙げられ、これらのうち１種以上を使用できる。

電子線硬化性の場合には、電子線重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン；ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン等のアセトフェノン；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド；メチルベンゾイルホルメート、１，７−ビスアクリジニルヘプタン、９−フェニルアクリジンなどが挙げられ、これらのうち１種以上を使用できる。

熱硬化性の場合には、熱重合開始剤としては、例えばメチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物；アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物；前記有機過酸化物にＮ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。

これらの光重合開始剤、電子線重合開始剤、熱重合開始剤は単独で使用してもよく、これらを所望に組み合わせて用いてもよい。
また、重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対し0.01〜10質量部が好ましい。このような範囲であると、硬化が充分に進行するとともに、硬化物の分子量が適切となって充分な強度が得られ、また、重合開始剤の残留物等のために硬化物が着色するなどの問題も生じない。

さらに、前記樹脂組成物には、必要に応じて、非反応性のポリマーや活性エネルギー線ゾルゲル反応性成分を含むことができ、増粘剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、溶剤、無機フィラー等の各種添加剤を含むこともできる。

また、前記反射防止膜３０の厚さＴ２は、反射防止構造体１０の薄膜化の観点から、薄くすることが好ましい。具体的には、30μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。
加えて、前記反射防止膜３０の厚さＴ２は、反射防止構造体１０のシワの発生をより確実に抑制できる観点から、1μm以上であることが好ましく、5μm以上であることがより好ましい。

なお、本発明の反射防止構造体１０を製造するための方法については、特に限定はされない。例えば図５（ａ）〜（ｄ）に示すように、反射防止膜３１を作製する工程、反射防止膜３１と接着剤２１とを圧着させる工程、エネルギー線を照射する工程、モールド及び不要な反射防止膜を取り除く工程を経ることによって、接着層２０と、該接着層２０上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜３０と、を備える反射防止構造体１０を得ることができる。

前記反射防止膜３１を作製する工程は、両面に微細凹凸構造を有するように反射防止膜の材料を成形した後、硬化させることで、反射防止膜３１を作製する工程である。
具体的には、例えば図５（ａ）に示すように、反射防止膜の材料を、モールド１００、１００’によって上下から押圧することによって、反射防止膜の材料が両面に微細凹凸構造を有するように成形し、その後、硬化させることによって、反射防止膜３１を得ることができる。また、前記モールド１００、１００’によって、上下から前記反射防止膜の材料を押圧する工程では、押圧時の圧力を調節することにより、最終的に得られる反射防止膜３０の厚さを調整することができる。

前記反射防止膜３１を作製する工程では、両面に微細凹凸構造を有するように反射防止膜の材料を成形した後、該材料をＵＶ光等の活性エネルギー線の照射により硬化させ、両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜３１を得ることができる。なお、前記活性エネルギー線の照射は、前記モールド１００、１００’による押圧と同じタイミングで行ってもよい。
また、前記反射防止膜３１を作製する工程では、その後前記反射防止膜３１からモールド１００、１００’を剥がしやすく、より優れた前記反射防止膜３１の成形性を得る観点から、図５（ａ）に示すように、反射防止膜３１と前記モールド１００、１００’との間に離型処理層１０１、１０１’を形成することもできる。

前記反射防止膜３１と接着剤２１とを圧着させる工程は、露出させた前記反射防止膜３１の片面と、接着剤２１とを圧着させる工程である。
具体的には、例えば図５（ｂ）に示すように、上述のように作製した反射防止膜３１から、片面のモールド１００’及び離型処理層１０１’を除去し、前記反射膜３１の片面３１ａのみを露出させた状態で、基材４０上に設けられた接着剤２１と圧着させる。これによって、前記前記反射膜３１の微細凹凸構造に応じて、後に接着層２０となる接着剤２１の表面に微細凹凸構造を形成することができる。

前記エネルギー線を照射する工程は、前記反射防止膜３１の片面と前記接着剤２１とを圧着させた状態で、エネルギー線を照射する工程である。
図５（ｃ）に示すように、前記反射防止膜３１の片面と前記接着剤２１とを圧着させた状態で、エネルギー線を照射することによって、前記接着剤２１を硬化させ、前記接着剤２１と前記反射防止膜３１とを接着させることができる。
前記エネルギー線の種類については、接着剤２１の種類や、要求される接着性能等に応じて適宜選択することができる。例えば、前記エネルギー線として、熱や紫外線等の光を用いることができる。

前記モールド及び不要な反射防止膜を取り除く工程は、前記エネルギー線を照射し、前記接着剤２１と前記反射防止膜３１とを接着させた後（図５（ｃ））、前記モールド１００及び不要な反射膜３１を取り除くことで、所望の反射防止構造体１０を得るための工程である。
具体的には、例えば図５（ｄ）に示すように、前記モールド１００、前記離型処理層１０１及び前記接着剤２１（接着層２０）と接着していない反射防止膜３１（不要な反射膜３１）を取り除くことによって、接着層２０と、該接着層２０上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜３０と、を備える反射防止構造体１０を得ることができる。
また、得られた反射防止構造体１０については、必要に応じて、その後、洗浄等の処理を行うこともできる。

＜反射防止構造体付き基材＞
次に、本発明の反射防止構造体付き基材について説明する。
本発明の反射防止構造体付き基材１は、図２に示すように、基材４０と、該基材４０上に形成された接着層２０と、該接着層２０上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜３０と、を備える。
そして、本発明の反射防止構造体付き基材１では、前記接着層２０の貯蔵弾性率が、25MPa以上であり、前記反射防止膜３０の両面に形成された微細凹凸構造が、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期を有することを特徴とする。

本発明の反射防止構造体１０の中で説明したように、前記反射防止膜３０の微細凹凸構造３０の凹凸周期Ｐを、可視光線の波長以下とすることによって、薄膜化を図りつつ、高い反射防止性能を実現できる。また、前記接着層２０の貯蔵弾性率を25MPa以上と大きくすることによって、微細凹凸構造を有する反射防止膜３０を転写成形した後、形成された反射防止膜３０に内部応力が高い状態で存在するような場合であっても、前記接着層２０の補強性が高くなることによって、反射防止膜３０の内部応力に起因した歪みの発生を抑えることができる結果、反射防止構造体１０の表面（ひいては反射防止構造体付き基材１の表面）のシワの発生を有効に抑制できる。それによって、反射防止構造体付き基材１の、外観性や、反射防止性能、透明性についても高いレベルで維持できる。

なお、本発明の反射防止構造体付き基材１における反射防止構造体１０については、上述した本発明の反射防止構造体１０の中で説明したものと同様である。

本発明の反射防止構造体付き基材１は、上述した反射防止構造体１０に加えて、基材４０を、さらに備える。
前記基材４０は、本発明の反射防止構造体付き基材１において、基板や支持板としての役目を果たす部材である。前記基材４０を構成する材料については、特に限定はされず、使用目的に応じて適宜選択することができる。

例えば、前記基材４０の材料として、ガラス、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、これらの表面を、任意の有機材料（ポリイミド等）でコーティングしたものなどが挙げられる。また、前記表示板は、透明であることが好ましい。液晶ディスプレイ、タッチパネルなどとして用いられることから、光を透過させるためである。
なお、本明細書において「透明」とは、可視光帯域（おおよそ360nm〜830nm）に属する波長の光の透過率が高いことを意味し、例えば、当該光の透過率が70％以上であることを意味する。

さらに、前記基材４０の形状については、図２に示すように、板状であること以外は特に限定されず、反射防止構造体付き基材１の使用目的に応じて適宜選択することができる。

また、本発明の反射防止構造体付き基材１の用途については、特に限定はされず、例えば、カメラモジュール、スマートフォンやタブレットＰＣなど、モバイル機器のディスプレイ、ヘッドアップディスプレイ等に代表される、映像投射装置の防塵カバー等として用いることができる。
これらの中でも、前記反射防止構造体付き基材１は、カメラモジュールの部品として用いられることが好ましい。反射防止構造体付き基材１の、外観性、反射防止性能及び透明性を、効果的に発揮できるためである。

＜カメラモジュール＞
本発明のカメラモジュールは、上述した反射防止構造体付き基材１を用いたことを特徴とする。反射防止構造体付き基材１を用いることにより、反射防止性能や、透明性についても高いレベルで維持できる。

なお、カメラモジュールは、上述した反射防止構造体付き基材１を部品として含むこと以外は特に限定はされず、要求される性能等に応じて、他の部品を適宜備えることができる。例えば、上述した反射防止構造体付き基材１に加えて、遮光膜（図示せず）をさらに備えることができる。
前記遮光膜は、遮光性を高め、薄膜化された前記基材４０が光を透過させた場合であっても、固体撮像素子へ到達する光を遮断するための部材であり、前記基材４０上に設けることができる。

前記遮光膜を構成する材料については、特に限定はされず、用途に応じて公知の遮光膜を適宜用いることができる。
前記遮光膜を構成する材料としては、例えば、バインダー樹脂に、遮光性粒子、充填材、その他添加剤等を含んだ、遮光膜用組成物を用いることができる。

前記バインダー樹脂については、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアミド、ポリエステルなどを挙げることができ、（メタ）アクリル系樹脂、又は、ウレタン系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂については、酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、リン酸基、スルホンアミド基等を有することもできる。

また、前記遮光性粒子については、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、タングステン化合物、亜鉛華、鉛白、リトポン、酸化チタン、酸化クロム、酸化鉄、沈降性硫酸バリウム及びバライト粉、鉛丹、酸化鉄赤、黄鉛、亜鉛黄（亜鉛黄１種、亜鉛黄２種）、ウルトラマリン青、プロシア青（フェロシアン化鉄カリ）、ジルコングレー、プラセオジムイエロー、クロムチタンイエロー、クロムグリーン、ピーコック、ビクトリアグリーン、紺青（プルシアンブルーとは無関係）、バナジウムジルコニウム青、クロム錫ピンク、陶試紅、サーモンピンク等の無機顔料が挙げられる。また、黒色顔料として、Co、Cr、Cu、Mn、Ru、Fe、Ni、Sn、Ti及びAgからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属元素を含む金属酸化物、金属窒素物或いはそれらの混合物等を用いることもできる。
さらに、前記遮光性粒子については、例えば、シアニン色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、インモニウム色素、アミノウム色素、キノリウム色素、ピリリウム色素、又は、Ni錯体色素などの金属錯体色素等の遮光性染料を含むこともできる。
なお、前記遮光膜組成物における前記遮光性粒子の含有量については、特に限定はされないが、全固形分に対して、30〜70質量％であることが好ましく、40〜60質量％であることがより好ましく、45〜55質量％であることがさらに好ましい。

また、前記遮光膜用組成物は、必要に応じて、充填材やその他の添加剤を含むことが可能である。充填材については、反射率を高めるものであれば特に限定はされず、例えば、有機フィラー、無機フィラー、無機−有機複合フィラーを用いることができる。
前記有機フィラーとしては、例えば、合成樹脂粒子、天然高分子粒子等が挙げられ、好ましくはアクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリウレア、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、カルボキシメチルセルロールス、ゼラチン、デンプン、キチン、キトサン等の樹脂粒子が挙げられる。
前記無機フィラーとしては、金属及び金属化合物、例えば、シリカ、雲母化合物、硝子、酸化亜鉛、アルミナ、酸化ジルコン、酸化錫、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、硼酸アルミニウム、酸化マグネシウム、硼酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化チタン、塩基性硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム、窒化珪素、窒化チタン、窒化アルミ、炭化珪素、炭化チタン、硫化亜鉛及びこれらの少なくとも２種以上の複合化物等が挙げられる。
前記その他の添加剤については、例えば、重合性化合物、重合開始剤、分散剤、増感剤、架橋剤効果促進剤、界面活性剤等の公知の添加剤が挙げられる。

＜情報端末機器＞
本発明の情報端末機器は、カメラモジュールを搭載する情報端末機器であり、カメラモジュールが、上述した本発明のカメラモジュールであることを特徴とする。
本発明の情報端末機器によれば、静止画や動画を撮影する際、光の反射が抑えられ、得られる撮像画像において色ムラ等の発生を抑制することができる。また、反射防止構造体付き基材１中の反射防止構造体２０の表面にシワが発生することもないため、撮影画像の透明性や色ムラを悪化させることがない。その結果、視認性や画質に優れた撮像画像を得ることができる。

ここで、前記情報端末機器については、特に限定はされず、例えば、デジタルカメラ、スマートフォン、パソコン、ポータブルゲーム機、テレビ、ビデオカメラ等が挙げられる。

次に、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。ただし、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。

（実施例１〜５、比較例１〜５）
図２に示すように、厚さ1.0mmのガラス基材（松浪硝子工業（株）製「スライドグラス S1127」）４０上に、表１に示す貯蔵弾性率Ｅ’（MPa）を有し、厚さＴ１が9μmの接着層２０を形成し、該接着層２０上に、微細凹凸構造を有する反射防止膜３０を形成することで、各実施例及び比較例のサンプルとなる反射防止構造体付き基材１を作製した。
ここで、反射防止膜３０については、東亞合成（株）製「UVX-6366」（ペンタエリストールテトラアクリレートを主剤としたハードコート用樹脂）と、東亞合成（株）製「M-240」（ポリエチレングリコールジアクリレート）とを、7：3の割合で混合した後、紫外線硬化開始剤であるＢＡＳＦ社製「Irgacure 184」（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）を2質量％添加した組成物を成形し、平面型エキシマランプ（浜松ホトニクス（株）「EX-400」）によって紫外線を10秒照射することで、製微細凹凸構造が形成された膜を形成した。なお、反射防止膜３１の形成は、図５（ａ）に示すように、モールド１００、１００’（東洋紡（株）製「A4300PETフィルム」、厚さ：125μm）を用いて成形し、モールド１００、１００’と反射防止膜３１との間には、離型処理層１０１、１０１’としてSi膜又はITO膜をスパッタリングによりそれぞれ形成した後、離型剤（３Ｍ社製「Novec1720」）塗布した層を設けた状態で、紫外線照射を行った。そして、形成された反射防止膜３０の微細凹凸構造は、凹凸周期Ｐが190nm、凹凸高さＨが225nm、厚さＴ２が1μmであった。
また、作製した反射防止膜３１については、図５（ｂ）〜（ｄ）に示すように、反射防止膜３１の一方の面を露出させた（図５（ｂ））後、接着剤２１（材料については表１を参照。）と圧着させた状態で、平面型エキシマランプ（浜松ホトニクス（株）「EX-400」）によって紫外線を10秒照射し（図５（ｃ））、その後、不要な反射防止膜３１を除去する（図５（ｄ））ことによって、接着層２０上に反射防止膜３０を形成した。

（評価）
各実施例及び各比較例で得られた積層体の各サンプルについて、以下の評価を行った。評価結果を表１に示す。

（１）接着層の貯蔵弾性率
各サンプルの接着層に用いられる材料の貯蔵弾性率は、接着層の形成と同じ条件（同じ材料を用い、同じ紫外線の照射条件）で、厚み200μm、幅5mm、長さ40mmの試験片を作成した後、40℃時の貯蔵弾性率（MPa）を、動的粘弾性装置（（株）日立ハイテクサイエンス製「ＤＭＳ６１００」等）を用い、周波数：1Hz、張力／圧縮力：98mN、温度範囲：−50〜200℃の条件で測定した。測定結果を表１に示す。

（２）シワの発生
各サンプルの反射防止構造体付き基材について、作製後、常温時間で72時間放置した後、光学顕微鏡（10倍）、及び、３次元形状測定器（株式会社日立ハイテクサイエンス製「Vertscan」）によって、表面を観察し、反射防止膜の硬化収縮に起因したシワの発生の有無について確認した。確認結果を、以下の基準に従って評価し、評価結果を表１に示す。
○：反射防止膜の硬化収縮に起因したシワの発生が確認されなかった
×：反射防止膜の硬化収縮に起因したシワの発生が確認された

（３）接着層と基材との接着性
各サンプルの反射防止構造体付き基材について、作製後、接着層がガラス基材に接着しているか否かを、目視及びクロスカット法（JIS-K-5600）にて確認した。確認結果を、以下の基準に従って評価し、評価結果を表１に示す。
○：製品として問題がないレベルで接着
×：接着できていない

＊１接着剤１〜１０の成分については、以下の紫外線硬化性樹脂を用いた。
接着剤１：東亞合成（株）製「BU-333V」
接着剤２：東亞合成（株）製「BU-333V」と東亞合成（株）製「M-305」とを、質量比95：5で混合したもの
接着剤３：東亞合成（株）製「UVX-5800」
接着剤４：東亞合成（株）製「LCR-0632」
接着剤５：東亞合成（株）製「LCR-0632」と東亞合成（株）製「M-5400」とを、質量比70：30で混合したもの
接着剤６：東亞合成（株）製「LCR-0632」と東亞合成（株）製「M-5400」とを、質量比50：50で混合したもの
接着剤７：（株）スリーボンド製「TB3021」
接着剤８：（株）スリーボンド製「TB3042」
接着剤９：デクセリアルズ（株）製「SA1110」
接着剤１０：東亞合成（株）製「UVX-6366」と東亞合成（株）製「M-240」とを、質量比60：40で混合したもの

表１から、本発明の範囲に含まれる実施例１〜５のサンプルについては、表面にシワが発生しておらず、基材と接着層との接着性についても問題ないことがわかる。

１反射防止構造体付き基材
１０反射防止構造体
２０接着層
２１接着剤
３０、３１反射防止膜
４０基材
１００、１００’ モールド
１０１、１０１’ 離型処理層
Ｔ１接着層の厚さ
Ｔ２反射防止膜の厚さ
Ｐ反射防止膜における微細凹凸構造の凹凸周期
Ｈ反射防止膜における微細凹凸構造の凹凸高さ

Claims

少なくとも、接着層と、該接着層上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜と、を備える反射防止構造体であって、
前記接着層の貯蔵弾性率が、25MPa以上であり、
前記反射防止膜の両面に形成された微細凹凸構造が、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期を有することを特徴とする、反射防止構造体。
前記接着層の貯蔵弾性率が、25MPa以上で且つ2.1GPa以下であることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止構造体。
前記接着層は、紫外線硬化性接着剤からなる層であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の反射防止構造体。
前記反射防止膜の厚さに対する前記接着層の厚さが、5〜300であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止構造体。
基材と、該基材上に形成された接着層と、該接着層上に形成された両面に微細凹凸構造を有する反射防止膜と、を備え、
前記接着層の貯蔵弾性率が、25MPa以上であり、
前記反射防止膜の両面に形成された微細凹凸構造が、いずれも可視光線の波長以下の凹凸周期を有することを特徴とする、反射防止構造体付き基材。
請求項５に記載の前記反射防止構造体付き基材を用いたことを特徴とする、カメラモジュール。
カメラモジュールを搭載する情報端末機器であって、
前記カメラモジュールとして、請求項６に記載のカメラモジュールを用いることを特徴とする、情報端末機器。