JP2015022108A - 反射防止物品、及び画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な微細凹凸層を含む反射防止物品を提供する。
【解決手段】透明基材１の少なくとも一面側に、少なくとも中間層２と、微細凹凸層３とをこの順に有する反射防止物品１０であって、前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起４が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎなる関係を有し、硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、−４０〜８０℃の温度範囲における、対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする、反射防止物品。
【選択図】図１
【解決手段】透明基材１の少なくとも一面側に、少なくとも中間層２と、微細凹凸層３とをこの順に有する反射防止物品１０であって、前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起４が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎなる関係を有し、硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、−４０〜８０℃の温度範囲における、対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする、反射防止物品。
【選択図】図１
Description
本発明は、反射防止物品、及び画像表示装置に関する。
近年、フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材（透明フィルム）の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている（特許文献１〜３参照）。この方法は、入射光に対する屈折率を厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。
多数の微小突起を有する上記フィルムは、高い反射防止性能を有する。しかしながら、その表面構造のため、皮脂等の汚れが付着し易く、また当該汚れは微小突起間の溝奥まで入り込むため、除去が困難であり、表面外観が悪化し易いという問題があった。
特許文献４では、汚染物の除去性に優れるとともに、耐擦傷性を兼備する微細凹凸構造体として、特定の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる微細凹凸構造体が記載されている。特許文献４には、上記特定の樹脂組成物の硬化物は、当該樹脂組成物が特定の組成を有することにより、架橋密度を高くして、硬化物の弾性率と硬度を高くし、耐擦傷性に優れたものとすることができること、及び、適度な親水性を有し、微細凹凸構造体の表面と、当該表面に付着する汚染物との間に水を侵入させやすくすることにより汚染物の除去性に優れることが記載されている。
特許文献４の手法によれば、架橋密度を高くして微細凹凸構造体の硬度を上げているため当該微細凹凸構造体は変形しにくく、拭取り時に、微細凹凸構造体の隙間まで届きにくかった。そのため、汚染物を拭き取る際は、水やアルコールを含んだクリーナー等で汚れを浮かび上がらせて拭取る必要があり、乾拭きで汚れを除去することは困難であった。
特許文献４の手法によれば、架橋密度を高くして微細凹凸構造体の硬度を上げているため当該微細凹凸構造体は変形しにくく、拭取り時に、微細凹凸構造体の隙間まで届きにくかった。そのため、汚染物を拭き取る際は、水やアルコールを含んだクリーナー等で汚れを浮かび上がらせて拭取る必要があり、乾拭きで汚れを除去することは困難であった。
特許文献５には、指紋などの汚れを乾拭きで拭取ることができる光学素子として、弾性率が１ＭＰａ以上１８８ＭＰａ以下の材料を用いて形成された特定の構造体を備えた光学素子が開示されている。
微細凹凸層を含む反射防止物品において、微小突起間の溝奥まで入り込んだ汚れを除去する場合、従来、上述の特許文献４などのように、水やアルコール等を含んだ布などを用いて、汚れを浮かび上がらせて拭き取っていた。しかしながら、例えば、携帯電話などの電子機器に備えられた画像表示装置等では水拭きが好ましくないため、乾拭きで汚れを拭き取り可能な微細凹凸層を含む反射防止物品が求められている。
一方、特許文献５のように弾性率の低い樹脂材料を用いて微小突起を形成する場合、当該微小突起形状の賦型直後に、微小突起が倒れやすく、各微小突起の先端部同士がくっつきあうスティッキングが生じやすい。そのため、フィルムに白濁感が生じ、透明性が低下することがあった。また、弾性率の低い樹脂材料を用いて形成された微細凹凸層は、実用レベルの拭取り圧力で、容易に突起が潰れたり、スティッキングが生じる等の塑性変形が生じ、拭いた箇所に拭き痕が残ってしまう場合がある。
一方、特許文献５のように弾性率の低い樹脂材料を用いて微小突起を形成する場合、当該微小突起形状の賦型直後に、微小突起が倒れやすく、各微小突起の先端部同士がくっつきあうスティッキングが生じやすい。そのため、フィルムに白濁感が生じ、透明性が低下することがあった。また、弾性率の低い樹脂材料を用いて形成された微細凹凸層は、実用レベルの拭取り圧力で、容易に突起が潰れたり、スティッキングが生じる等の塑性変形が生じ、拭いた箇所に拭き痕が残ってしまう場合がある。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な微細凹凸層を含む反射防止物品、及び、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な画像表示装置を提供することを目的とする。
本発明に係る反射防止物品は、透明基材の少なくとも一面側に、少なくとも中間層と、微細凹凸層とをこの順に有する反射防止物品であって、
前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、
前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、
−４０〜８０℃の温度範囲における、反射防止物品の前記微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする。
前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、
前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、
−４０〜８０℃の温度範囲における、反射防止物品の前記微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする。
本発明に係る画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品を備えることを特徴とする。
本発明によれば、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な微細凹凸層を含む反射防止物品、及び、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能な画像表示装置を提供することができる。
以下、本発明に係る反射防止物品、及び画像表示装置について、順に詳細に説明する。
なお、本明細書において「物品」は、「板」、「シート」、「フィルム」等の態様を含む概念であり、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。また、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
本発明において（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタアクリルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの各々を表す。
また、本発明において硬化物とは、化学反応を経て硬くなったもののことをいい、硬化性とは、化学反応を経て硬くなる性質をいう。
なお、本明細書において「物品」は、「板」、「シート」、「フィルム」等の態様を含む概念であり、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。また、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
本発明において（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタアクリルの各々を表し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの各々を表す。
また、本発明において硬化物とは、化学反応を経て硬くなったもののことをいい、硬化性とは、化学反応を経て硬くなる性質をいう。
［反射防止物品］
本発明に係る反射防止物品は、透明基材の少なくとも一面側に、少なくとも中間層と、微細凹凸層とをこの順に有する反射防止物品であって、
前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、
前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、
−４０〜８０℃の温度範囲における、反射防止物品の前記微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする。
本発明に係る反射防止物品は、透明基材の少なくとも一面側に、少なくとも中間層と、微細凹凸層とをこの順に有する反射防止物品であって、
前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、
前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、
−４０〜８０℃の温度範囲における、反射防止物品の前記微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする。
上記本発明に係る反射防止物品について図を参照して説明する。図１は、本発明に係る反射防止物品の一例を模式的に示す断面図である。図１に例示される反射防止物品１０は、透明基材１の一面側に、中間層２と、微細凹凸形状を有する微細凹凸層３を有する。
前記微細凹凸層３の表面は、微小突起４が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起４は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起４の隣接突起間隔ｄ（図１）の最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起４を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起４の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有している。微細凹凸層３がこのような構造を有することにより、Λｍｉｎ以上の波長を有する光の反射防止を図ることができる。
前記微細凹凸層３の表面は、微小突起４が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起４は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起４の隣接突起間隔ｄ（図１）の最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起４を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起４の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有している。微細凹凸層３がこのような構造を有することにより、Λｍｉｎ以上の波長を有する光の反射防止を図ることができる。
本発明者らは、微細凹凸層表面に付着した汚染物を拭取る際に、微小突起に圧力がかかることに着目した。本発明者らは、拭取る際の圧力により、微小突起が変形して、突起間の溝が広がる、或いは、突起間の溝が埋まるように設計することにより、微小突起間に付着した汚染物を機械的に掻き出し易くなり、乾拭きで汚れを拭取ることが可能となると考えた。しかしながら、弾性率の低い樹脂材料を用いて微小突起を形成する場合、微小突起が倒れやすく、各微小突起の先端部同士がくっつきあうスティッキングが生じやすい。そのため、拭取り圧力で、容易に突起が潰れたり、スティッキングが生じる等の塑性変形が生じ、拭いた箇所に拭き痕が残ってしまう場合があった。また、弾性率の低い樹脂材料を用いて微小突起を形成した場合であっても、下層にハードコート層等の硬い層を設けた場合には、汚れの除去性が悪化することがあった。
一方、本発明者らは、微細凹凸層形成用の樹脂組成物の弾性率を高くしても、下層に柔軟性を付与することにより、拭取る際の圧力により、微小突起が変形して、突起間の溝が広がる、或いは、突起間の溝が埋まるように設計することが可能であるとの知見を得た。
一方、本発明者らは、微細凹凸層形成用の樹脂組成物の弾性率を高くしても、下層に柔軟性を付与することにより、拭取る際の圧力により、微小突起が変形して、突起間の溝が広がる、或いは、突起間の溝が埋まるように設計することが可能であるとの知見を得た。
本発明者らは、更なる検討の結果、反射防止物品の微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率の最大値を与える温度と、反射防止物品全体に起因した微細凹凸の変形性との間に、相関があることを見出した。
本発明の反射防止物品は、−４０〜８０℃の温度範囲における、前記微細凹凸層３側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有する。これは０℃以下という低温で、振り子の荷重により、振り子と前記微細凹凸層との接地面積が大きくなることを示すものと推定される。そのため、このような場合には、室温など本発明の反射防止物品が通常使用される温度帯域において、反射防止物品の前記微細凹凸層３側のいずれかの部分が、適度な柔軟性を示すことにより、拭取る際の圧力により、微小突起４間の溝が広がったり、狭まったりして、微小突起間に付着した汚れが機械的に掻き出し易くなると推定される。
このことについて図２及び図３を用いて説明する。図２及び図３はそれぞれ、本発明に係る反射防止物品の拭取り時における微細突起の変形の一例を示す模式断面図である。図２は、拭取り方向５の力による微細突起の変形の一例を示す。また、図３は、微細凹凸層を押圧方向６の力による微小突起の変形の一例を示す。
本発明の反射防止物品は、拭取り方向５の方向に力がかかると、図２の例のように、当該拭取り方向に微小突起４自体が柔軟に変形して、突起間の溝が広がったり、狭まったりするものと推定される。また、押圧方向６のような力がかかると、図３の例のように、中間層２が柔軟に変形し、突起間の溝が広がったり狭まったりするものと推定される。実際は、反射防止物品１０の拭取り時には、上記拭取り方向の力と、押圧方向の力は同時に生じるため、微小突起４は様々な方向に変形して、乾拭きで汚れを拭き取ることができるものと推定される。
本発明の反射防止物品は、−４０〜８０℃の温度範囲における、前記微細凹凸層３側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有する。これは０℃以下という低温で、振り子の荷重により、振り子と前記微細凹凸層との接地面積が大きくなることを示すものと推定される。そのため、このような場合には、室温など本発明の反射防止物品が通常使用される温度帯域において、反射防止物品の前記微細凹凸層３側のいずれかの部分が、適度な柔軟性を示すことにより、拭取る際の圧力により、微小突起４間の溝が広がったり、狭まったりして、微小突起間に付着した汚れが機械的に掻き出し易くなると推定される。
このことについて図２及び図３を用いて説明する。図２及び図３はそれぞれ、本発明に係る反射防止物品の拭取り時における微細突起の変形の一例を示す模式断面図である。図２は、拭取り方向５の力による微細突起の変形の一例を示す。また、図３は、微細凹凸層を押圧方向６の力による微小突起の変形の一例を示す。
本発明の反射防止物品は、拭取り方向５の方向に力がかかると、図２の例のように、当該拭取り方向に微小突起４自体が柔軟に変形して、突起間の溝が広がったり、狭まったりするものと推定される。また、押圧方向６のような力がかかると、図３の例のように、中間層２が柔軟に変形し、突起間の溝が広がったり狭まったりするものと推定される。実際は、反射防止物品１０の拭取り時には、上記拭取り方向の力と、押圧方向の力は同時に生じるため、微小突起４は様々な方向に変形して、乾拭きで汚れを拭き取ることができるものと推定される。
更に、本発明の反射防止物品は、微細凹凸層３に用いられる第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であるため、乾拭き時に微小突起が潰れにくく、また、スティッキングも生じにくい。また、上述の通り、本発明は反射防止物品全体に起因した微細凹凸の変形性を評価したことにより、乾拭き時の汚れ拭取り性を向上するものであるため、第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であっても、乾拭き時における汚れの拭取り性は確保される。以上のことから、本発明の反射防止物品は、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能である。
なお、本発明における拭取り時の圧力の大きさは、特に限定されるものではないが、通常、およそ２〜５ｋｇ／ｃｍ２程度の圧力である。
なお、本発明における拭取り時の圧力の大きさは、特に限定されるものではないが、通常、およそ２〜５ｋｇ／ｃｍ２程度の圧力である。
＜対数減衰率＞
本発明において対数減衰率とは、ＩＳＯ１２２０１３−２「塗膜の熱的性質（Ｔｇ、硬度）の測定方法」に準拠して測定される対数減衰率をいう。一例として微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法における対数減衰率は、株式会社エーアンドディ社製、剛体振り子物性試験器ＲＰＴ−３０００Ｗを用いて下記測定方法により測定された減衰曲線から算出されたものが挙げられる。
（測定方法）
反射防止物品を５ｃｍ×１．５ｃｍに切断したものを試料とし、当該試料の微細凹凸層側を上面として、試料台（ＣＨＢ１００）上に置く。次いで、丸棒形状タイプ（ＲＢＰ−０６０；６０φ）のエッジを備えた振り子フレーム（ＦＲＢ−１００）を前記試料の微細凹凸層上に置き、振り子測定間隔を３．０秒、振り子吸着時間を２．０秒とし、−４０℃から８０℃を超える温度まで、例えば１２０℃まで、４℃／分で昇温しながら測定する。
本発明において対数減衰率とは、ＩＳＯ１２２０１３−２「塗膜の熱的性質（Ｔｇ、硬度）の測定方法」に準拠して測定される対数減衰率をいう。一例として微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法における対数減衰率は、株式会社エーアンドディ社製、剛体振り子物性試験器ＲＰＴ−３０００Ｗを用いて下記測定方法により測定された減衰曲線から算出されたものが挙げられる。
（測定方法）
反射防止物品を５ｃｍ×１．５ｃｍに切断したものを試料とし、当該試料の微細凹凸層側を上面として、試料台（ＣＨＢ１００）上に置く。次いで、丸棒形状タイプ（ＲＢＰ−０６０；６０φ）のエッジを備えた振り子フレーム（ＦＲＢ−１００）を前記試料の微細凹凸層上に置き、振り子測定間隔を３．０秒、振り子吸着時間を２．０秒とし、−４０℃から８０℃を超える温度まで、例えば１２０℃まで、４℃／分で昇温しながら測定する。
本発明の反射防止物品は、上記のように測定された対数減衰率を、温度−対数減衰率曲線としてプロットした時に、−４０℃から８０℃の温度範囲では、０℃以下で最大値を有する。そのため、室温など、本発明の反射防止物品が通常使用される温度帯域においては、反射防止物品の少なくとも一部が、適度な柔軟性を示し、乾拭きで指紋等の汚れを拭取ることができる。
以下、本発明の反射防止物品を構成する各層について順に説明する。
以下、本発明の反射防止物品を構成する各層について順に説明する。
＜透明基材＞
本発明に用いられる透明基材は、反射防止物品に用いられる公知の透明基材の中から用途に応じて適宜選択して用いることができる。透明基材に用いられる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の透明樹脂や、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン（ＰＬＺＴ）等のセラミックス、石英、蛍石等の透明無機材料等が挙げられる。
本発明に用いられる透明基材は、反射防止物品に用いられる公知の透明基材の中から用途に応じて適宜選択して用いることができる。透明基材に用いられる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の透明樹脂や、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン（ＰＬＺＴ）等のセラミックス、石英、蛍石等の透明無機材料等が挙げられる。
前記透明基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
前記透明基材の厚みは、本発明の反射防止物品の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０〜５０００μｍであり、前記透明基材は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。
本発明に用いられる透明基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
また、透明基材と後述する中間層との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性（耐傷性）を向上させるためのプライマー層を透明基材上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材、及び中間層の双方に密着性を有し、可視光を透過するものが好ましい。
プライマー層の材料としては、例えば、フッ素系コーティング剤及びシランカップリング剤等から適宜選択して使用することができる。フッ素系コーティング剤の市販品としては、例えば、フロロテクノロジー製のフロロサーフ ＦＧ−５０１０Ｚ１３０等が挙げられ、前記シランカップリング剤の市販品としては、例えば、ハーベス製のデュラサーフプライマーＤＳ−ＰＣ−３Ｂ等が挙げられる。
また、透明基材と後述する中間層との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性（耐傷性）を向上させるためのプライマー層を透明基材上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材、及び中間層の双方に密着性を有し、可視光を透過するものが好ましい。
プライマー層の材料としては、例えば、フッ素系コーティング剤及びシランカップリング剤等から適宜選択して使用することができる。フッ素系コーティング剤の市販品としては、例えば、フロロテクノロジー製のフロロサーフ ＦＧ−５０１０Ｚ１３０等が挙げられ、前記シランカップリング剤の市販品としては、例えば、ハーベス製のデュラサーフプライマーＤＳ−ＰＣ−３Ｂ等が挙げられる。
＜中間層＞
本発明において中間層は、前記透明基材と、後述する微細凹凸層との間に設けられた層であり、第一の樹脂組成物の硬化物からなるものである。
本発明の反射防止物品は、中間層を有することにより、微細凹凸層に貯蔵弾性率の高い樹脂組成物を用いた場合であっても、前記対数減衰率が０℃以下で最大値を有するように調整することが容易となり、反射防止物品全体としての柔軟性が制御され、乾拭きによる指紋などの汚れ拭取り性に優れたものとすることができる。
本発明において中間層は、前記透明基材と、後述する微細凹凸層との間に設けられた層であり、第一の樹脂組成物の硬化物からなるものである。
本発明の反射防止物品は、中間層を有することにより、微細凹凸層に貯蔵弾性率の高い樹脂組成物を用いた場合であっても、前記対数減衰率が０℃以下で最大値を有するように調整することが容易となり、反射防止物品全体としての柔軟性が制御され、乾拭きによる指紋などの汚れ拭取り性に優れたものとすることができる。
中間層の厚みは、本発明の効果を損なわない範囲で適宜設定することができる。例えば、１〜２０μｍとすることができ、中でも、５〜１５μｍとすることが好ましい。
以下、中間層形成用組成物として用いられる第一の樹脂組成物について説明する。
以下、中間層形成用組成物として用いられる第一の樹脂組成物について説明する。
（第一の樹脂組成物）
第一の樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性成分及び光硬化性成分から選択される１種以上を含む硬化性樹脂組成物である。中でも、光硬化性成分を含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
上記光硬化性成分としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物であることが好ましく、（メタ）アクリレートを含む組成物であることがより好ましい。
光硬化性樹脂組成物は、少なくとも上記光硬化性成分を含有していればよく、必要に応じて、更に他の成分を含有してもよい。
また、上記第一の樹脂組成物は、その硬化物が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。
以下、光硬化性成分として好ましく用いられる（メタ）アクリレートを含む組成物中の各成分について順に説明する。
第一の樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性成分及び光硬化性成分から選択される１種以上を含む硬化性樹脂組成物である。中でも、光硬化性成分を含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
上記光硬化性成分としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物であることが好ましく、（メタ）アクリレートを含む組成物であることがより好ましい。
光硬化性樹脂組成物は、少なくとも上記光硬化性成分を含有していればよく、必要に応じて、更に他の成分を含有してもよい。
また、上記第一の樹脂組成物は、その硬化物が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。
以下、光硬化性成分として好ましく用いられる（メタ）アクリレートを含む組成物中の各成分について順に説明する。
（１）（メタ）アクリレート
（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能（メタ）アクリレートであっても、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用するものであってもよい。
中でも、中間層が柔軟性と弾性復元性を両立する点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用することが好ましい。
（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能（メタ）アクリレートであっても、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用するものであってもよい。
中でも、中間層が柔軟性と弾性復元性を両立する点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用することが好ましい。
単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ビフェニロキシエチルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジル（メタ）アクリレート、ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、中間層が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートが好ましく、中でも、炭素数１２以上であることがより好ましく、トリデシル（メタ）アクリレート、及びドデシル（メタ）アクリレートのうち、少なくとも１種を含むことが更により好ましい。これらの単官能（メタ）アクリル酸エステルは、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートを用いる場合、後述する炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の特性を兼ね備える。
単官能（メタ）アクリレートの含有量は、第一の樹脂組成物の全固形分に対して、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。
また、多官能アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタントリ（メタ）アクリレート、エステルトリ（メタ）アクリレート、ウレタンヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、中間層が柔軟性及び復元性に優れる点から、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートより選択される１種以上を含むことが更により好ましい。
上記多官能（メタ）アクリレートの含有量は、第一の樹脂組成物の全固形分に対して、１０〜９５質量％であることが好ましく、１５〜９０質量％であることがより好ましい。
（２）炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物
第一の樹脂組成物は、硬化物が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましく、炭素数１２以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することがより好ましい。
炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、光硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有することがより好ましい。
なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物が（メタ）アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記（メタ）アクリレートにも該当し得る。
第一の樹脂組成物は、硬化物が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましく、炭素数１２以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することがより好ましい。
炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、光硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有することがより好ましい。
なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物が（メタ）アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記（メタ）アクリレートにも該当し得る。
炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を用いる場合、当該化合物の含有量は、第一樹脂組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％であることが好ましく、７〜２０質量％であることがより好ましい。
本発明において第一の樹脂組成物は、柔軟性に優れ、反射防止物品の前記対数減衰率が、０℃以下で最大値を有するように調整しやすく、優れた乾拭き取り性を得ることができる点から、少なくとも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートと、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートとを含有することが特に好ましい。中でも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートの含有割合が、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレート１００質量部に対して、５〜３０質量部であることが好ましく、１０〜１５質量部であることがより好ましい。
（３）光重合開始剤
上記（メタ）アクリレートの硬化反応を開始又は促進させるために、必要に応じて光重合開始剤を適宜選択して用いても良い。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フォスフィンオキサイド、フェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
上記（メタ）アクリレートの硬化反応を開始又は促進させるために、必要に応じて光重合開始剤を適宜選択して用いても良い。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フォスフィンオキサイド、フェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
光重合開始剤を用いる場合、当該光重合開始剤の含有量は、通常、第一の樹脂組成物の全固形分に対して０．８〜２０質量％であり、０．９〜１０質量％であることが好ましい。
（４）溶剤
本発明において第一の樹脂組成物は、塗工性などを付与する点から溶剤を用いてもよい。溶剤を用いる場合、当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体的としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、樹脂組成物に用いられる溶剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。
本発明において第一の樹脂組成物は、塗工性などを付与する点から溶剤を用いてもよい。溶剤を用いる場合、当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体的としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、樹脂組成物に用いられる溶剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。
第一の樹脂組成物全量に対する、固形分の割合は２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。なお本発明において固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。
（５）その他の成分
第一の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤等が挙げられる。
第一の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤等が挙げられる。
第一の樹脂組成物は、柔軟性に優れる点から、当該第一の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であることが好ましく、１〜２５０ＭＰａであることがより好ましく、１〜１００ＭＰａであることが更により好ましい。
押圧後の復元性に優れていることから、第一の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．２以下であることが好ましく、０．１８以下であることがより好ましい。
また、微小突起のスティッキングが生じにくく、且つ、指紋などの汚れ拭取り性に優れる点から、第一の樹脂組成物の硬化物の貯蔵弾性率が、後述する第二の樹脂組成物の硬化物の貯蔵弾性率よりも小さいことが好ましい。
押圧後の復元性に優れていることから、第一の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．２以下であることが好ましく、０．１８以下であることがより好ましい。
また、微小突起のスティッキングが生じにくく、且つ、指紋などの汚れ拭取り性に優れる点から、第一の樹脂組成物の硬化物の貯蔵弾性率が、後述する第二の樹脂組成物の硬化物の貯蔵弾性率よりも小さいことが好ましい。
本発明において貯蔵弾性率（Ｅ’）及び損失弾性率（Ｅ”）は、ＪＩＳ Ｋ７２４４に準拠して、以下の方法により測定される。
まず、第一の樹脂組成物を、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの単膜とする。
次いで、２５℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、Ｅ’、Ｅ”が求められる。測定装置としては、例えば、ＵＢＭ製 Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４００を用いる。
まず、第一の樹脂組成物を、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの単膜とする。
次いで、２５℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、Ｅ’、Ｅ”が求められる。測定装置としては、例えば、ＵＢＭ製 Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４００を用いる。
＜微細凹凸層＞
微細凹凸層は、前記透明基材と反対側の面に、微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有する。微小突起の形状は、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有するものの中から適宜選択すればよい。このような微小突起の形状の具体例としては、半円状、半楕円状、三角形状、放物状、釣鐘状等の垂直断面形状を有するものが挙げられる。複数ある微小突起は同一の形状を有していても異なる形状を有していてもよい。微小突起が上記の形状を有することにより、微細凹凸等の深さ方向に屈折率が連続的に変化するため、反射防止性が付与される。
微細凹凸層は、前記透明基材と反対側の面に、微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有する。微小突起の形状は、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有するものの中から適宜選択すればよい。このような微小突起の形状の具体例としては、半円状、半楕円状、三角形状、放物状、釣鐘状等の垂直断面形状を有するものが挙げられる。複数ある微小突起は同一の形状を有していても異なる形状を有していてもよい。微小突起が上記の形状を有することにより、微細凹凸等の深さ方向に屈折率が連続的に変化するため、反射防止性が付与される。
本発明において隣接突起間隔ｄ及び微小突起の高さＨは以下の方法により測定される。
（１）先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope:AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。
（１）先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope:AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。
（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と称する。）を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ Ｄｉａｇｒａｍ）を作成する。図４にドロネー図の一例を示す模式平面図を示す。図４の例に示されるようにドロネー図とは、微小突起２３の各極大点２１を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分２２で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（隣接突起間距離）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する前記微細構造を有しない微小突起を選んで、その隣接突起間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接突起間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σｄを求める。本発明においては、隣接突起間距離ｄの最大値ｄｍａｘをｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σｄと定義して算出する。
同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σＨを求める。なお突起の頂部に凹部が存在する微細構造、或いは、頂部が複数の峰に分裂している微細構造を有する微小突起が含まれる場合は、１つの微小突起が頂点を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが突起高さＨのヒストグラムにおいて混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
なお、微小突起の高さを測る際の基準位置は、突起付け根位置、すなわち隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合、例えば、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でうねった凹凸形状を有する場合（図５参照）等は、（１）先ず、微細凹凸層３０の微細凹凸面３１とは反対側の面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が収束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを有し、且つ微細凹凸層３０の微細凹凸面３１とは反対側の面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。
隣接する微小突起３２の間の谷底の高さ自体が場所によって異なる場合、例えば図５に示すように、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、可視光線帯域の最長波長λＭＡＸ以上の周期Ｄ（すなわちＤ＞λＭＡＸである）でうねることもある。該周期的なうねりは、透明基材の表裏面に平行な平面（図５におけるＸＹ平面）における１方向（例えばＸ方向）のみでこれと直交する方向（例えばＹ方向）には一定高さであっても良いし、或いは透明基材の表裏面に平行な平面（図５におけるＸＹ平面）における２方向（Ｘ方向及びＹ方向）共にうねりを有していても良い。Ｄ＞λＭＡＸを満たす周期Ｄでうねった凹凸面３３が多数の微小突起３２からなる微細凹凸層３０の微細凹凸面３１に重畳することによって、当該微細凹凸面３１で完全に反射防止し切れずに残った反射光を散乱させ、反射防止性を一段と向上させることができる。
尚、係るうねりによる凹凸面３３の周期Ｄが全面に渡って一定では無く分布を有する場合は、該凹凸面３３について凸部間距離の度数分布を求め、その平均値をＤＡＶＧ、標準偏差をΣとしたときの、
Ｄｍｉｎ＝ＤＡＶＧ―２Σ
として定義する最小隣接突起間距離Ｄｍｉｎを以って周期Ｄの代わりとして設計する。即ち、微細凹凸層３０の凹凸面３１の残留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、
Ｄｍｉｎ＞λＭＡＸ
である。通常、Ｄ又はＤｍｉｎは１〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍとされる。
Ｄｍｉｎ＝ＤＡＶＧ―２Σ
として定義する最小隣接突起間距離Ｄｍｉｎを以って周期Ｄの代わりとして設計する。即ち、微細凹凸層３０の凹凸面３１の残留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、
Ｄｍｉｎ＞λＭＡＸ
である。通常、Ｄ又はＤｍｉｎは１〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍとされる。
また、反射防止物品１０の良好な平滑性を確保するために、前記周期Ｄでうねった凹凸面３３の高低差（図５中のｈ）は、１０ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましい。なお、前記凹凸面３３により形成される凹凸面の高低差は、例えば５００ｎｍ以上離れた微小突起３２の谷底部の位置の高低差を測定することにより求めることができる。微小突起３２の谷底部の位置は、反射防止物品１０を、厚み方向に切断した垂直断面のＴＥＭ写真又はＳＥＭ写真を用いて観察することにより求めることができる。
前記微小突起群中の各微小突起が同一の高さＨを有し、当該微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接突起間隔ｄは、微小突起配列の周期ｐと一致するため、ｄｍａｘ＝ｐとなる。よって、反射防止効果を奏し得る条件は、ｄｍａｘ＝ｐ≦Λｍｉｎであり、微小突起配列の周期ｐ以上の波長を有する光に対して反射防止効果を奏することができる（例えば、特開昭５０−７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報、特許第４２７０８０６号公報を参照することができる）。従って、例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を得るためには、可視光線帯域の最短波長を３８０ｎｍとした場合、微小突起配列の周期を３８０ｎｍ以下とすればよい。また、微小突起の高さＨは、反射防止効果を得ようとする波長のうち最長波長Λｍａｘの０．２倍以上であることが好ましい（Ｈ≧０．２×Λｍａｘ）。従って、例えば可視光線帯域の全波長に対して優れた反射防止効果を得ようとするためには、可視光線帯域の最長波長を７８０ｎｍとした場合、Ｈ≧０．２×７８０ｎｍ＝１５６ｎｍであることが好ましい。
突起が不規則に配置されている場合には、上述のようにして求めた隣接突起間距離ｄの最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σｄが、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎを満たすことが必要であり、微小突起の高さＨの平均値ＨＡＶＧが、ＨＡＶＧ≧０．２×Λｍａｘを満たすことが好ましい。例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るためには、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σｄ≦３８０ｎｍとすればよい。可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄｍａｘ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄｍａｘ≧１００ｎｍとされる。また突起高さＨについては、十分な反射防止効果を発現する為には、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍａｘとしたときに、ＨＡＶＧ≧０．２×Λｍａｘとなることが好ましく、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るためにはＨＡＶＧ≧０．２×７８０ｎｍ＝１５６ｎｍであることが好ましく、ＨＡＶＧ≧１７０ｎｍとすることがより好ましい。突起の高さＨＡＶＧは、反射防止効果の点から、通常３５０ｎｍ以下とされる。また、突起の高さの分布は、通常５０〜３５０ｎｍである。
微細突起のアスペクト比（平均突起高さＨＡＶＧ／平均隣接突起間隔ｄＡＶＧ）は０．８〜２．５であることが好ましく、更に、０．８〜２．１であることがより好ましい。
微細凹凸層の厚み（図１におけるＴ）は、適宜調整すればよいが、３μｍ〜３０μｍであることが好ましく、５μｍ〜１０μｍであることがより好ましい。なお、本発明において微細凹凸層の厚みＴは、当該微細凹凸層の透明基材との界面から、最も高い微小突起の頂部までの厚みで定義される。
本発明において微細凹凸層は、第二の樹脂組成物の硬化物からなる。以下、微細凹凸層形成用樹脂組成物として用いられる第二の樹脂組成物について説明する。
（第二の樹脂組成物）
第二の樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性成分及び光硬化性成分から選択される１種以上を含む硬化性樹脂組成物である。中でも、光硬化性成分を含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
上記光硬化性成分としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物であることが好ましく、（メタ）アクリレートを含む組成物であることがより好ましい。
光硬化性樹脂組成物は、少なくとも上記光硬化性成分を含有していればよく、必要に応じて、更に他の成分を含有してもよい。
第二の樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性成分及び光硬化性成分から選択される１種以上を含む硬化性樹脂組成物である。中でも、光硬化性成分を含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
上記光硬化性成分としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物であることが好ましく、（メタ）アクリレートを含む組成物であることがより好ましい。
光硬化性樹脂組成物は、少なくとも上記光硬化性成分を含有していればよく、必要に応じて、更に他の成分を含有してもよい。
本発明において第二の樹脂組成物は、当該第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であるものを選択して用いる。このような第二の樹脂組成物を用いて形成された微細凹凸層における微小突起は復元性が高く、乾拭き時において潰れやスティッキングが抑制されることが見出された。第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率の上限は特に限定されないが、微小突起の柔軟性の点から、１２００ＭＰａ以下であることが好ましく、８００ＭＰａ以下であることがより好ましい。
以下、光硬化性成分として好ましく用いられる（メタ）アクリレートを含む組成物中の各成分について順に説明する。
なお、光重合開始剤、及び溶剤は、前記第一の樹脂組成物と同様のものを挙げることができる。
なお、光重合開始剤、及び溶剤は、前記第一の樹脂組成物と同様のものを挙げることができる。
（メタ）アクリレートは、単官能（メタ）アクリレートであっても、多官能アクリレートであってもよく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用するものであってもよい。
単官能（メタ）アクリレート、及び多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、前記第一の樹脂組成物と同様のものを挙げることができる。
硬化物が上記物性を満たす点から、多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。中でも、硬化物が上記物性を満たし、微小突起が弾性復元性を有し、柔軟性をも兼ね備える点から、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートより選択される１種以上を含むことが更により好ましい。
また、第二の樹脂組成物は、その硬化物表面の親油性が向上し、柔軟性が付与される点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有してもよい。炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としても、前記第一の樹脂組成物と同様のものを挙げることができる。
単官能（メタ）アクリレート、及び多官能（メタ）アクリレートの具体例としては、前記第一の樹脂組成物と同様のものを挙げることができる。
硬化物が上記物性を満たす点から、多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。中でも、硬化物が上記物性を満たし、微小突起が弾性復元性を有し、柔軟性をも兼ね備える点から、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートより選択される１種以上を含むことが更により好ましい。
また、第二の樹脂組成物は、その硬化物表面の親油性が向上し、柔軟性が付与される点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有してもよい。炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としても、前記第一の樹脂組成物と同様のものを挙げることができる。
微小突起の弾性復元性の点から、水酸基を有する（メタ）アクリレートと、多価イソシアネート化合物とを併用してもよい。多価イソシアネート化合物の具体例としては、例えば、１，５−ナフチレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、テトラアルキルジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ブタン−１，４−ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、４，４’−ジフェニルスルホキシドジイソシアネート、４，４’−ジフェニルスルホンジイソシアネート、４，４’−ビフェニルジイソシアネートおよびこれらの誘導体等が挙げられる。
第二の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤、離型剤等が挙げられる。
また、第二の樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤を含有することにより、微細凹凸層表面に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。
帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、１級〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、３級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジオクチル−１−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。
また、第二の樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を含有してもよい。帯電防止剤を含有することにより、微細凹凸層表面に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。
帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、１級〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、３級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジオクチル−１−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。
（第二の樹脂組成物中の各成分の配合割合）
第二の樹脂組成物中の各成分は、当該第二の樹脂組成物の硬化物の貯蔵弾性率（Ｅ’）が所定値になるようにその配合割合を調整すればよい。
第二の樹脂組成物中、多官能（メタ）アクリレートの含有量は、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、１０〜９９質量％であることが好ましく、１５〜９０質量％であることがより好ましい。
中でも、第二の樹脂組成物中、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、３５〜６５質量％含有することが好ましく、４０〜６０質量％含有することがより好ましい。
また、第二の樹脂組成物中、単官能（メタ）アクリレートの含有量は、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、０〜４０質量％であることが好ましく、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。
第二の樹脂組成物中、多価イソシアネート化合物の含有量は、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、０〜３０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。
光重合開始剤の含有量は、通常、第二の樹脂組成物の全固形分に対して０．８〜２０質量％であり、０．９〜１０質量％であることが好ましい。
帯電防止剤を用いる場合、当該帯電防止剤の含有量は、通常、第二の樹脂組成物の全固形分に対して１〜２０質量％であり、２〜１０質量％であることが好ましい。
第二の樹脂組成物の溶剤を含む全量に対する、固形分の割合は２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。なお本発明において固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。
第二の樹脂組成物中の各成分は、当該第二の樹脂組成物の硬化物の貯蔵弾性率（Ｅ’）が所定値になるようにその配合割合を調整すればよい。
第二の樹脂組成物中、多官能（メタ）アクリレートの含有量は、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、１０〜９９質量％であることが好ましく、１５〜９０質量％であることがより好ましい。
中でも、第二の樹脂組成物中、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、３５〜６５質量％含有することが好ましく、４０〜６０質量％含有することがより好ましい。
また、第二の樹脂組成物中、単官能（メタ）アクリレートの含有量は、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、０〜４０質量％であることが好ましく、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。
第二の樹脂組成物中、多価イソシアネート化合物の含有量は、第二の樹脂組成物の全固形分に対して、０〜３０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。
光重合開始剤の含有量は、通常、第二の樹脂組成物の全固形分に対して０．８〜２０質量％であり、０．９〜１０質量％であることが好ましい。
帯電防止剤を用いる場合、当該帯電防止剤の含有量は、通常、第二の樹脂組成物の全固形分に対して１〜２０質量％であり、２〜１０質量％であることが好ましい。
第二の樹脂組成物の溶剤を含む全量に対する、固形分の割合は２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。なお本発明において固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。
＜その他の層＞
本発明の反射防止物品は、本発明の効果を損なわない範囲において、更にその他の層を有していてもよい。透明基材の微細凹凸層を有しない面側には、光学フィルム用途に用いられる従来公知の各種層を有していてもよい。例えば、従来公知の単層或いは多層構成の反射防止層、光拡散による防眩性（或いは反射防止）を付与する層、傷付き防止等の為に従来公知のハードコート層等が挙げられる。
本発明の反射防止物品は、本発明の効果を損なわない範囲において、更にその他の層を有していてもよい。透明基材の微細凹凸層を有しない面側には、光学フィルム用途に用いられる従来公知の各種層を有していてもよい。例えば、従来公知の単層或いは多層構成の反射防止層、光拡散による防眩性（或いは反射防止）を付与する層、傷付き防止等の為に従来公知のハードコート層等が挙げられる。
本発明の反射防止物品は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、反射防止性透明導電フィルムの透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
＜反射防止物品の用途＞
本発明に係る反射防止物品は、後述する画像表示装置の他、各種物品に用いることができる。
例えば、店舗のショーウィンドウや、美術館の展示物の展示窓；時計等、各種計測機器の表示窓表面；道路標識や、ポスター等の各種印刷物；自動車、航空機等の乗り物や、各種建築物の窓等の前面又は両面に配置して、視認性を向上することができる。また、眼鏡、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の各種光学機器や、各種照明機器の窓材として用いることもできる。
本発明に係る反射防止物品は、後述する画像表示装置の他、各種物品に用いることができる。
例えば、店舗のショーウィンドウや、美術館の展示物の展示窓；時計等、各種計測機器の表示窓表面；道路標識や、ポスター等の各種印刷物；自動車、航空機等の乗り物や、各種建築物の窓等の前面又は両面に配置して、視認性を向上することができる。また、眼鏡、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の各種光学機器や、各種照明機器の窓材として用いることもできる。
また、上述の実施形態においては、反射防止を図る電磁波の波長帯域を、専ら、可視光線帯域として説明したが、本発明はこれに限らず、反射防止を図る電磁波の波長帯域を赤外線、紫外線等の可視光線以外の波長帯域に設定してもよい。その場合は前記の各条件式中において、電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ及び最長波長Λｍａｘを、それぞれ、赤外線、紫外線等の波長帯域に於ける反射防止効果を希望する最短波長及び最長波長にそれぞれ設定すればよい。例えば、最短波長Λｍｉｎが８５０ｎｍの赤外線帯域の反射防止を希望する場合は、隣接突起間距離ｄ（若しくは其の最大値ｄｍａｘ）を８５０ｎｍ以下、例えば、ｄｍａｘ＝８００ｎｍと設計すればよい。
＜反射防止物品の製造方法＞
本発明の反射防止物品は、透明基材上に中間層と微細凹凸層とを順次形成すればよく、各層は従来公知の方法の中から適宜選択して形成することができる。
本発明の反射防止物品は、透明基材上に中間層と微細凹凸層とを順次形成すればよく、各層は従来公知の方法の中から適宜選択して形成することができる。
（中間層の形成）
中間層は、例えば、透明基材上に前記第一の樹脂組成物を塗布した後、乾燥し、硬化することにより形成できる。塗布方法は、第一の樹脂組成物を均一に塗布できる方法であればよく、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ブレードコート法、マイクログラビアコート法、スプレーコート法、スピンコート法等の公知の方法が挙げられる。
次いで、乾燥により溶剤を除去して第一の樹脂組成物の乾燥塗膜とする。乾燥方法は、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。乾燥条件を調整し、乾燥後の塗膜に溶剤を残留させることにより、中間層と微細凹凸層との間に浸透層を設けてもよい。ここで浸透層とは、第一の樹脂組成物の成分と、第二の樹脂組成物とが混合した層をいう。このような浸透層が形成されることにより、中間層と微細凹凸層との間の界面がなくなり、界面反射を抑制することが可能となるとともに、中間層と微細凹凸層との密着性も向上する。
得られた乾燥塗膜を公知の方法で硬化することにより中間層が形成される。硬化方法は、該樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択すればよい。第一の樹脂組成物が光硬化性樹脂組成物である場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光源を用いて光照射すればよい。
中間層は、例えば、透明基材上に前記第一の樹脂組成物を塗布した後、乾燥し、硬化することにより形成できる。塗布方法は、第一の樹脂組成物を均一に塗布できる方法であればよく、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ブレードコート法、マイクログラビアコート法、スプレーコート法、スピンコート法等の公知の方法が挙げられる。
次いで、乾燥により溶剤を除去して第一の樹脂組成物の乾燥塗膜とする。乾燥方法は、従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。乾燥条件を調整し、乾燥後の塗膜に溶剤を残留させることにより、中間層と微細凹凸層との間に浸透層を設けてもよい。ここで浸透層とは、第一の樹脂組成物の成分と、第二の樹脂組成物とが混合した層をいう。このような浸透層が形成されることにより、中間層と微細凹凸層との間の界面がなくなり、界面反射を抑制することが可能となるとともに、中間層と微細凹凸層との密着性も向上する。
得られた乾燥塗膜を公知の方法で硬化することにより中間層が形成される。硬化方法は、該樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択すればよい。第一の樹脂組成物が光硬化性樹脂組成物である場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光源を用いて光照射すればよい。
（微細凹凸層の形成）
微細凹凸層の形成方法は、例えば、前記中間層上に、第二の樹脂組成物を塗布し、所望の微細凹凸形状を有する微細凹凸層形成用原版の凹凸形状を、前記第二の樹脂組成物の塗膜に賦型した後、前記第二の樹脂組成物を硬化させることにより微細凹凸層を形成し、前記微細凹凸層形成用原版から剥離する方法等が挙げられる。
微細凹凸層の形成方法は、例えば、前記中間層上に、第二の樹脂組成物を塗布し、所望の微細凹凸形状を有する微細凹凸層形成用原版の凹凸形状を、前記第二の樹脂組成物の塗膜に賦型した後、前記第二の樹脂組成物を硬化させることにより微細凹凸層を形成し、前記微細凹凸層形成用原版から剥離する方法等が挙げられる。
前記微細凹凸層形成用原版としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、金属製が好適に用いられる。耐変形性および耐摩耗性に優れているからである。
前記微細凹凸層形成用原版の微細凹凸形状を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。
前記微細凹凸層形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は他の層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に凹凸形状を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。
前記微細凹凸層形成用原版に微細凹凸形状を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微細孔を形成する陽極酸化工程と、前記アルミニウム層をエッチングすることにより前記微細孔の開口部にテーパー形状を形成する第１エッチング工程と、前記アルミニウム層を前記第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより前記微細孔の孔径を拡大する第２エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。
微細な凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度（不純物量）や結晶粒径、陽極酸化処理及び／又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。前記陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製することができる。
このようにして、前記微細凹凸層形成用原版は、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に作製される。当該微細凹凸層形成用原版を用いて製造される微細凹凸層には、前記微細孔に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる微小突起群を備えた微細凹凸が形成され、すなわち、当該微細凹凸の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微細凹凸を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微細凹凸の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する微細凹凸形状が形成される。
前記微細凹凸層形成用原版の微細凹凸形状を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。
前記微細凹凸層形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は他の層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に凹凸形状を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。
前記微細凹凸層形成用原版に微細凹凸形状を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微細孔を形成する陽極酸化工程と、前記アルミニウム層をエッチングすることにより前記微細孔の開口部にテーパー形状を形成する第１エッチング工程と、前記アルミニウム層を前記第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより前記微細孔の孔径を拡大する第２エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。
微細な凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度（不純物量）や結晶粒径、陽極酸化処理及び／又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。前記陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製することができる。
このようにして、前記微細凹凸層形成用原版は、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に作製される。当該微細凹凸層形成用原版を用いて製造される微細凹凸層には、前記微細孔に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる微小突起群を備えた微細凹凸が形成され、すなわち、当該微細凹凸の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微細凹凸を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微細凹凸の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する微細凹凸形状が形成される。
また、前記微細凹凸層形成用原版の形状としては、所望の形状を賦型することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、平板状であっても良く、ロール状であっても良いが、前記微細凹凸層形成用原版は、生産性向上の観点からは、ロール状の金型（以下、「ロール金型」と称する場合がある。）を用いることが好ましい。
本発明において用いられるロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製されたものが挙げられる。
本発明において用いられるロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製されたものが挙げられる。
図６に、微細凹凸層形成用の樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を用い、微細凹凸層形成用原版としてロール金型を用いた場合に、透明基材上に微細凹凸層を形成する方法の一例を示す。
図６に示す方法では、樹脂供給工程において、予め中間層が形成された帯状フィルム形態の透明基材４５の中間層側に、ダイ４１により第二の樹脂組成物を塗布し、微小突起形状の受容層４６を形成する。なお第二の樹脂組成物の塗布方法については、ダイ４１による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ４３により、微細凹凸層形成用原版であるロール金型４２の周側面に透明基材を加圧押圧し、これにより透明基材の中間層側に受容層４６を密着させると共に、ロール金型４２の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に、受容層４６を構成する第二の樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により第二の樹脂組成物を硬化させ、これにより透明基材の中間層側表面に微細凹凸層３を作製する。続いて剥離ローラ４４を介してロール金型４２から、硬化した微細凹凸層３と一体に透明基材１を剥離する。必要に応じてこの透明基材１に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品１０を作製する。これにより反射防止物品は、ロール材による長尺の透明基材１に、微細凹凸層形成用原版であるロール金型４２の周側面に作製された微細凹凸形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。
図６に示す方法では、樹脂供給工程において、予め中間層が形成された帯状フィルム形態の透明基材４５の中間層側に、ダイ４１により第二の樹脂組成物を塗布し、微小突起形状の受容層４６を形成する。なお第二の樹脂組成物の塗布方法については、ダイ４１による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ４３により、微細凹凸層形成用原版であるロール金型４２の周側面に透明基材を加圧押圧し、これにより透明基材の中間層側に受容層４６を密着させると共に、ロール金型４２の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に、受容層４６を構成する第二の樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により第二の樹脂組成物を硬化させ、これにより透明基材の中間層側表面に微細凹凸層３を作製する。続いて剥離ローラ４４を介してロール金型４２から、硬化した微細凹凸層３と一体に透明基材１を剥離する。必要に応じてこの透明基材１に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品１０を作製する。これにより反射防止物品は、ロール材による長尺の透明基材１に、微細凹凸層形成用原版であるロール金型４２の周側面に作製された微細凹凸形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。
また上述の実施形態では、ロール金型を使用した賦型処理によりフィルム形状の反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止物品を作成する場合等、賦型処理に係る工程、微小突起構造体形成用原版は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。
［画像表示装置］
本発明に係る画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品を備えることを特徴とする。
本発明に係る画像表示装置は、表示パネルの少なくとも一面側に、前記本発明に係る反射防止物品を備えることを特徴とする。
本発明の画像表示装置５０は、図７に示すように、表示機構５１の表示面５２に、前記本発明に係る反射防止物品１０を備えている。当該反射防止物品１０は、表示面５２と直接貼り合わされてもよく、本発明の効果を損なわない範囲で、反射防止物品１０と、表示面５２との間に、他の部材を有していてもよい。当該他の部材としては、例えば、公知のタッチパネル部材等が挙げられる。
なお、本発明の画像表示装置にあっては、単に表示機能のみを有する装置（例えば、ＬＣＤモニター、ＣＲＴモニター等）でも良いが、装置の機能の一部として表示機能を有する装置も該当する。例えば、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム等である。
なお、本発明の画像表示装置にあっては、単に表示機能のみを有する装置（例えば、ＬＣＤモニター、ＣＲＴモニター等）でも良いが、装置の機能の一部として表示機能を有する装置も該当する。例えば、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム等である。
本発明の画像表示装置は、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭き取ることが可能であるため、優れた反射防止性を保持することができる。そのため、特に、表示装置表面に指で直接触れることが多い、タッチパネル部材を備えた画像表示装置においても好適に用いることができる。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
（製造例１；微細凹凸層形成用原版の作製）
純度９９．５０％の圧延されたアルミニウム板を、その表面が、十点平均粗さＲｚ３０ｎｍ、且つ周期１μｍの凹凸形状となるように研磨後、０．０２Ｍシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧４０Ｖ、２０℃の条件にて１２０秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で６０秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、１．０Ｍリン酸水溶液で１５０秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計５回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微細な凹凸形状が形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、微細凹凸層形成用原版を得た。なお、アルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微細孔間距離が１００ｎｍ、平均深さが２００ｎｍで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された形状であった。
純度９９．５０％の圧延されたアルミニウム板を、その表面が、十点平均粗さＲｚ３０ｎｍ、且つ周期１μｍの凹凸形状となるように研磨後、０．０２Ｍシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧４０Ｖ、２０℃の条件にて１２０秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で６０秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、１．０Ｍリン酸水溶液で１５０秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計５回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微細な凹凸形状が形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、微細凹凸層形成用原版を得た。なお、アルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微細孔間距離が１００ｎｍ、平均深さが２００ｎｍで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された形状であった。
（製造例２：中間層用樹脂組成物Ａの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の中間層用樹脂組成物Ａを調製した。
＜中間層用樹脂組成物Ａの組成＞
・エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）ビスフェノールＡジアクリレート ５５質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３５質量部
・トリデシルアクリレート ５質量部
・ドデシルアクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の中間層用樹脂組成物Ａを調製した。
＜中間層用樹脂組成物Ａの組成＞
・エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）ビスフェノールＡジアクリレート ５５質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３５質量部
・トリデシルアクリレート ５質量部
・ドデシルアクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
（製造例３：中間層用樹脂組成物Ｂの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の中間層用樹脂組成物Ｂを調製した。
＜中間層用樹脂組成物Ｂの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート ５０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３０質量部
・トリデシルアクリレート ５質量部
・ドデシルアクリレート ５質量部
・メチルメタクリレート ５質量部
・ヘキシルメタクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の中間層用樹脂組成物Ｂを調製した。
＜中間層用樹脂組成物Ｂの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート ５０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ３０質量部
・トリデシルアクリレート ５質量部
・ドデシルアクリレート ５質量部
・メチルメタクリレート ５質量部
・ヘキシルメタクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
（製造例４：微細凹凸層用樹脂組成物Ａの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層用樹脂組成物Ａを調製した。
＜微細凹凸層用樹脂組成物Ａの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート ３０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ２０質量部
・トリプロピレングリコールジアクリレート ４５質量部
・ジペンタエリスリトール多官能アクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層用樹脂組成物Ａを調製した。
＜微細凹凸層用樹脂組成物Ａの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート ３０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ２０質量部
・トリプロピレングリコールジアクリレート ４５質量部
・ジペンタエリスリトール多官能アクリレート ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
（製造例５：微細凹凸層用樹脂組成物Ｂの調製）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層用樹脂組成物Ｂを調製した。
＜微細凹凸層用樹脂組成物Ｂの組成＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １５質量部
・２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート １５質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート ７０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の微細凹凸層用樹脂組成物Ｂを調製した。
＜微細凹凸層用樹脂組成物Ｂの組成＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １５質量部
・２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート １５質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート ７０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ） １質量部
（実施例１）
透明基材（厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）上に、製造例２で得られた中間層用樹脂組成物Ａをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）で５０％希釈したものを塗布し、加熱することにより溶剤を乾燥し、膜厚が１０μｍの中間層を形成した。
次いで、製造例４で得られた微細凹凸層用樹脂組成物Ａを、製造例１で得られた微細凹凸層形成用原版の微細凹凸面が覆われ、硬化後の微細凹凸層の厚さが５μｍとなるように塗布、充填し、その上に中間層が形成された前記透明基材の中間層側に、斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。原版全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して微細凹凸層形成用樹脂組成物を硬化させた。その後、原版より剥離し、実施例１の反射防止物品Ａを得た。
透明基材（厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）上に、製造例２で得られた中間層用樹脂組成物Ａをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）で５０％希釈したものを塗布し、加熱することにより溶剤を乾燥し、膜厚が１０μｍの中間層を形成した。
次いで、製造例４で得られた微細凹凸層用樹脂組成物Ａを、製造例１で得られた微細凹凸層形成用原版の微細凹凸面が覆われ、硬化後の微細凹凸層の厚さが５μｍとなるように塗布、充填し、その上に中間層が形成された前記透明基材の中間層側に、斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。原版全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して微細凹凸層形成用樹脂組成物を硬化させた。その後、原版より剥離し、実施例１の反射防止物品Ａを得た。
（実施例２）
実施例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例３で得られた中間層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止物品Ｂを得た。
実施例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例３で得られた中間層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止物品Ｂを得た。
（実施例３）
実施例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例４で得られた中間層用樹脂組成物Ｂを用い、微細凹凸層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例５で得られた微細凹凸層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止物品Ｃを得た。
実施例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例４で得られた中間層用樹脂組成物Ｂを用い、微細凹凸層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例５で得られた微細凹凸層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、実施例１と同様にして反射防止物品Ｃを得た。
（比較例１）
透明基材（厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）上に、製造例２で得られた中間層用樹脂組成物Ａをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）で５０％希釈したものを塗布し、加熱することにより溶剤を乾燥し、膜厚が１０μｍの層を形成した。次いで、製造例１で得られた微細凹凸層形成用原版の微細凹凸面が覆われるよう、上記形成層を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。原版全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して微細凹凸層形成用樹脂組成物を硬化させた。その後、原版より剥離し、比較例１の反射防止物品Ｄを得た。
透明基材（厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）上に、製造例２で得られた中間層用樹脂組成物Ａをメチルエチルケトン（ＭＥＫ）で５０％希釈したものを塗布し、加熱することにより溶剤を乾燥し、膜厚が１０μｍの層を形成した。次いで、製造例１で得られた微細凹凸層形成用原版の微細凹凸面が覆われるよう、上記形成層を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。原版全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して微細凹凸層形成用樹脂組成物を硬化させた。その後、原版より剥離し、比較例１の反射防止物品Ｄを得た。
（比較例２）
比較例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例３で得られた中間層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、比較例１と同様にして反射防止物品Ｅを得た。
比較例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例３で得られた中間層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、比較例１と同様にして反射防止物品Ｅを得た。
（比較例３）
比較例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例４で得られた微細凹凸層用樹脂組成物Ａを用いた以外は、比較例１と同様にして反射防止物品Ｆを得た。
比較例１において、中間層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例４で得られた微細凹凸層用樹脂組成物Ａを用いた以外は、比較例１と同様にして反射防止物品Ｆを得た。
［評価］
＜貯蔵弾性率（Ｅ’）の測定＞
製造例２〜５で得られた中間層用樹脂組成物、及び微細凹凸層用樹脂組成物をそれぞれ２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分間照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの試験用単膜を得た。
次いで、ＪＩＳ Ｋ７２４４に準拠し、２５℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、貯蔵弾性率Ｅ’、及び損失弾性率Ｅ”を求めた。また、当該Ｅ’及びＥ”の結果からｔａｎδを算出した。測定装置はＵＢＭ製 Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４００を用いた。結果を表１に示す。
＜貯蔵弾性率（Ｅ’）の測定＞
製造例２〜５で得られた中間層用樹脂組成物、及び微細凹凸層用樹脂組成物をそれぞれ２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分間照射することにより十分に硬化させて、基材及び微細凹凸形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの試験用単膜を得た。
次いで、ＪＩＳ Ｋ７２４４に準拠し、２５℃下、上記樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、貯蔵弾性率Ｅ’、及び損失弾性率Ｅ”を求めた。また、当該Ｅ’及びＥ”の結果からｔａｎδを算出した。測定装置はＵＢＭ製 Ｒｈｅｏｇｅｌ Ｅ４００を用いた。結果を表１に示す。
＜対数減衰率の測定＞
（測定方法）
実施例１〜３、比較例１〜３で得られた反射防止物品をそれぞれ５ｃｍ×１．５ｃｍ角に切断したものを試料とし、微細凹凸層側を上面として、株式会社エーアンドディ社製、剛体振り子物性試験器ＲＰＴ−３０００Ｗの試料台（ＣＨＢ１００）上に置いた。次いで、丸棒形状タイプ（ＲＢＰ−０６０；６０φ）のエッジを備えた振り子フレーム（ＦＲＢ−１００）を前記試料の微細凹凸層上に置き、振り子測定間隔を３．０秒、振り子吸着時間を２．０秒とし、−４０℃から１２０℃まで４℃／分で昇温しながら対数減衰率を測定し、得られた温度−対数減数率曲線から−４０℃から８０℃の温度範囲における最大値をとる温度を求めた。また、参考例として、透明基材（厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）についても同様に対数減衰率曲線を測定した。結果を表１、図８及び図９に示す。
（測定方法）
実施例１〜３、比較例１〜３で得られた反射防止物品をそれぞれ５ｃｍ×１．５ｃｍ角に切断したものを試料とし、微細凹凸層側を上面として、株式会社エーアンドディ社製、剛体振り子物性試験器ＲＰＴ−３０００Ｗの試料台（ＣＨＢ１００）上に置いた。次いで、丸棒形状タイプ（ＲＢＰ−０６０；６０φ）のエッジを備えた振り子フレーム（ＦＲＢ−１００）を前記試料の微細凹凸層上に置き、振り子測定間隔を３．０秒、振り子吸着時間を２．０秒とし、−４０℃から１２０℃まで４℃／分で昇温しながら対数減衰率を測定し、得られた温度−対数減数率曲線から−４０℃から８０℃の温度範囲における最大値をとる温度を求めた。また、参考例として、透明基材（厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）についても同様に対数減衰率曲線を測定した。結果を表１、図８及び図９に示す。
＜指紋拭き取り試験＞
実施例１〜３ 、比較例１〜３で得られた反射防止物品の微細凹凸層側表面を上面にして、それぞれ粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、指を押し付けて指紋を付着させた。その後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて指紋を乾拭きした。乾拭きは３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復行い、拭取り後の外観を評価した。結果を表１に示す。
［指紋拭き取り試験評価基準］
○：指紋汚れが視認できない。
×：指紋がほぼ拭取られない。
実施例１〜３ 、比較例１〜３で得られた反射防止物品の微細凹凸層側表面を上面にして、それぞれ粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、指を押し付けて指紋を付着させた。その後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて指紋を乾拭きした。乾拭きは３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復行い、拭取り後の外観を評価した。結果を表１に示す。
［指紋拭き取り試験評価基準］
○：指紋汚れが視認できない。
×：指紋がほぼ拭取られない。
＜摺動性試験＞
実施例１〜３、比較例１〜３で得られた反射防止物品の微細凹凸層側表面を上面にして、それぞれ粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復擦った。擦過１分後の視認性の評価を下記基準で行った。結果を表１に示す。
［摺動性試験評価基準］
○：擦り痕が視認されない。
×：擦り痕が明らかに白濁あるいは色味変化する。
実施例１〜３、比較例１〜３で得られた反射防止物品の微細凹凸層側表面を上面にして、それぞれ粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けた後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復擦った。擦過１分後の視認性の評価を下記基準で行った。結果を表１に示す。
［摺動性試験評価基準］
○：擦り痕が視認されない。
×：擦り痕が明らかに白濁あるいは色味変化する。
［結果のまとめ］
貯蔵弾性率が２００ＭＰａ未満の中間層用樹脂組成物Ａ又はＢを用いて微細凹凸層を形成した比較例１及び２の反射防止物品は、指紋拭き取り性は良好であったのに対し、拭取り後に擦り痕が観察され、スティッキングが生じていた。貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上であるが、対数減衰率曲線の最大値温度が、０度を超えていた比較例３の反射防止物品は、摺動性は良好であったが、指紋の拭取り性が悪かった。
実施例１〜３の通り、貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上の微細凹凸層用樹脂組成物Ａ又はＢを用い、且つ、対数眩類率曲線の最大値における温度が０℃以下である反射防止物品は、スティッキングが生じることなく指紋拭き取り性に優れ、且つ摺動性にも優れていることが明らかとなった。
なお、図９に示されるように、８０℃を超える温度範囲においては、基材由来の対数減衰率曲線の上昇が認められた。
貯蔵弾性率が２００ＭＰａ未満の中間層用樹脂組成物Ａ又はＢを用いて微細凹凸層を形成した比較例１及び２の反射防止物品は、指紋拭き取り性は良好であったのに対し、拭取り後に擦り痕が観察され、スティッキングが生じていた。貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上であるが、対数減衰率曲線の最大値温度が、０度を超えていた比較例３の反射防止物品は、摺動性は良好であったが、指紋の拭取り性が悪かった。
実施例１〜３の通り、貯蔵弾性率が２００ＭＰａ以上の微細凹凸層用樹脂組成物Ａ又はＢを用い、且つ、対数眩類率曲線の最大値における温度が０℃以下である反射防止物品は、スティッキングが生じることなく指紋拭き取り性に優れ、且つ摺動性にも優れていることが明らかとなった。
なお、図９に示されるように、８０℃を超える温度範囲においては、基材由来の対数減衰率曲線の上昇が認められた。
１ 透明基材
２ 中間層
３ 微細凹凸層
４ 微小突起
５ 拭取り方向の力
６ 押圧方向の力
１０ 反射防止物品
２１ 極大点（母点）
２２ 線分（ドロネー線）
２３ 微小突起
３０ 微細凹凸層
３１ 微細凹凸層の微細凹凸面
３２ 微小突起
３３ うねりによる凹凸面
４１ ダイ
４２ ロール金型
４３ 押圧ローラ
４４ 剥離ローラ
４５ 中間層が積層した透明基材
４６ 受容層
５０ 画像表示装置
５１ 表示機構
５２ 表示面
２ 中間層
３ 微細凹凸層
４ 微小突起
５ 拭取り方向の力
６ 押圧方向の力
１０ 反射防止物品
２１ 極大点（母点）
２２ 線分（ドロネー線）
２３ 微小突起
３０ 微細凹凸層
３１ 微細凹凸層の微細凹凸面
３２ 微小突起
３３ うねりによる凹凸面
４１ ダイ
４２ ロール金型
４３ 押圧ローラ
４４ 剥離ローラ
４５ 中間層が積層した透明基材
４６ 受容層
５０ 画像表示装置
５１ 表示機構
５２ 表示面
本発明に係る反射防止物品は、透明基材の少なくとも一面側に、少なくとも中間層と、
微細凹凸層とをこの順に有する反射防止物品であって、
前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、前記第一の樹脂組成物が、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を、当該第一の樹脂組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％含有し、
前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記第一の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が１ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下、且つ、前記第一の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．１８以下であり、
前記第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、
−４０〜８０℃の温度範囲における、反射防止物品の前記微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする。
微細凹凸層とをこの順に有する反射防止物品であって、
前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、前記第一の樹脂組成物が、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を、当該第一の樹脂組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％含有し、
前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記第一の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が１ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下、且つ、前記第一の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）に対する損失弾性率（Ｅ”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’））が０．１８以下であり、
前記第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、
−４０〜８０℃の温度範囲における、反射防止物品の前記微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする。
Claims (2)
- 透明基材の少なくとも一面側に、少なくとも中間層と、微細凹凸層とをこの順に有する反射防止物品であって、
前記中間層が、第一の樹脂組成物の硬化物からなり、
前記微細凹凸層が、第二の樹脂組成物の硬化物からなり、且つ前記透明基材と反対側の面に微小突起が集合してなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有し、
前記第二の樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ’）が２００ＭＰａ以上であり、
−４０〜８０℃の温度範囲における、反射防止物品の前記微細凹凸層側の剛体振り子型自由減衰振動法による対数減衰率が、０℃以下で最大値を有することを特徴とする、反射防止物品。 - 表示パネルの少なくとも一面側に、請求項１に記載の反射防止物品を備える、画像表示装置。
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