CN108369294A - 防反射光学体的形成方法及显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明的防反射光学体(16a)的形成方法具备：将除了环氧系粘接剂之外的粘接剂(12)涂布于被粘体(11)的涂布工序；将在一面侧具备微细结构体(16)的基材膜(15)从与一面相对的另一面侧按压于被粘体(11)而利用粘接剂(12)将被粘体(11)与微细结构体(16)固着的固着工序；通过解除基材膜(15)的按压，并一边将由粘接剂(12)固着于被粘体(11)的微细结构体(16)从基材膜(15)上的除由粘接剂(12)固着的位置以外的微细结构体(16)分离，一边使由粘接剂(12)固着于被粘体(11)的微细结构体(16)从基材膜(15)剥离，从而将固着于被粘体(11)的微细结构体(16)作为防反射光学体(16a)而形成在被粘体(11)的剥离分离工序。

Description

防反射光学体的形成方法及显示面板
技术领域
本发明涉及防反射光学体的形成方法及显示面板。本申请主张2015年12月18日在日本进行专利申请的特愿2015-247857的优先权，并将该在先申请的全部公开内容援引于此以进行参照。
背景技术
在笔记本PC(个人计算机)、平板型PC、智能手机、移动电话等大多数电子设备中，在与设置有显示图像的显示器的面侧(显示器面侧)为相反侧的面设置有拍摄元件(第一拍摄元件)。根据这样的电子设备，利用者在进行风景等的摄影时，能够一边在显示器上确认由第一拍摄元件拍摄的摄影图像一边进行摄影。
此外，近年来，在显示器面侧也设置有拍摄元件(第二拍摄元件)的电子设备变得普遍。根据这样的电子设备，利用者在例如拍摄利用者本人的情况下，能够一边在显示器上确认由第二拍摄元件拍摄的摄影图像一边进行摄影，便利性得到提高。
在如上所述的将拍摄元件设置在显示器面侧的电子设备中，在显示面板的一部分设置透过区，并在该透过区的正下方设置拍摄元件(第二拍摄元件)。在此情况下，有时产生因在拍摄元件的镜片上反射的光在显示面板上进行反射而再次入射到拍摄元件的镜片而引起的重影(ghost)。因此，为了抑制重影的产生、提高透过率等，在与拍摄元件(第二拍摄元件)对应的显示面板上的区域实施形成微细结构体(防反射光学体)而防止光的反射的防反射处理。
作为防反射处理的方法，有使用辊对辊法将具有微细结构的膜与粘着体贴合，并通过粘着体将该膜与被粘体贴合的方法(第一方法)。
此外，作为另一方法，在专利文献1和专利文献2公开了在具有微细结构的脱模性的膜上涂布流动状态的光固化性树脂，并在使该树脂固化之后将脱模性的膜剥离，从而在由固化了的树脂构成的基板上形成微细结构体的方法(第二方法)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2003-90902号公报
专利文献2：日本特开2003-98304号公报
发明内容
技术问题
在考虑了电子设备用途的情况下，对于防反射处理要求实现薄型化(10μm以下水平)，此外，要求能够高效地形成防反射光学体。
在第一方法中，由于使用辊对辊方式将具有微细结构的膜与粘着体贴合，所以在考虑了处理的容易性、强度等的情况下，需要将膜和粘着体的总厚度设为50μm以上。因此，在第一方法中，难以实现薄型化。此外，膜的贴合、保护粘着体的离型膜的剥离等要花费时间，难以高效地形成防反射光学体。
此外，在第二方法中，在直到使流动状态的光固化性树脂固化而作为基板为止会花费时间，难以高效地形成防反射光学体。
鉴于上述问题点而完成的本发明的目的在于，提供一种能够实现薄型化并且高效地形成防反射光学体的防反射光学体的形成方法、及实现薄型化并且高效地形成有防反射光学体的显示面板。
技术方案
为了解决上述课题，本发明的防反射光学体的形成方法具备：涂布工序，将除了环氧系粘接剂之外的粘接剂涂布于被粘体；固着工序，将在一面侧具备微细结构体的基材膜从与所述一面相对的另一面侧按压于所述被粘体而利用所述粘接剂将所述被粘体与所述微细结构体固着；以及剥离分离工序，通过解除所述基材膜的按压，并一边将由所述粘接剂固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜上的除由所述粘接剂固着的位置以外的微细结构体分离，一边使由所述粘接剂固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜剥离，从而将固着于所述被粘体的微细结构体作为防反射光学体而形成在所述被粘体。
此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，期望所述粘接剂为氰基丙烯酸酯系粘接剂或UV固化性树脂或氰基丙烯酸酯UV固化性粘接剂。
此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，期望所述微细结构体具有可见光波长以下的间距的凹凸图案。
此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，优选在所述基材膜上形成有具有凹凸图案的微细凹凸层，在所述微细凹凸层上形成有无机膜，在所述无机膜上形成有所述微细结构体。
此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，优选所述微细结构体在所述基材膜侧的一面和与所述一面相对的另一面形成有微细结构。
此外，在本发明的防反射光学体的形成方法中，优选在所述微细结构体与所述被粘体之间的所述粘接剂的厚度为15μm以下的状态下，使所述被粘体与所述微细结构体固着。
此外，为了解决上述课题，本发明的显示面板具有微细结构体，所述微细结构体是通过上述任一防反射光学体的形成方法而形成，并利用粘接剂来固着的。
技术效果
根据本发明的防反射光学体的形成方法及显示面板能够实现薄型化并且高效地形成防反射光学体。
附图说明
图1A是示出本发明的一个实施方式的防反射光学体的形成方法中的涂布工序的图。
图1B是示出本发明的一个实施方式的防反射光学体的形成方法中的固着工序的图。
图1C是示出本发明的一个实施方式的防反射光学体的形成方法中的剥离分离工序的图。
图2是示出图1所示的光学膜的构成例的图。
图3A是示出图2所示的光学膜的制造方法的一例的图。
图3B是示出图2所示的光学膜的制造方法的一例的图。
图3C是示出图2所示的光学膜的制造方法的一例的图。
图4是示出图1所示的光学膜的其他构成例的图。
图5A是示出图4所示的光学膜的制造方法的一例的图。
图5B是示出图4所示的光学膜的制造方法的一例的图。
图5C是示出图4所示的光学膜的制造方法的一例的图。
图6是示出由本发明的一个实施方式的形成方法得到的防反射光学体形成在被粘体的状态的一例的图。
图7是示出由本发明的一个实施方式的形成方法得到的防反射光学体形成在被粘体的状态的另一例的图。
图8是示出比较例1的光学膜的构成的图。
图9是示出由比较例1的形成方法得到的防反射光学体形成在被粘体的状态的图。
图10是用于说明比较例2的防反射光学体的形成方法的图。
图11是示出由比较例2的形成方法得到的防反射光学体形成在被粘体的状态的图。
图12A是示出通过实施例1、实施例2的形成方法形成的防反射光学体的反射光谱的图表。
图12B是示出通过实施例1、实施例2的形成方法形成的防反射光学体的透过光谱的图表。
符号说明：
10：部件，11：被粘体，12：粘接剂，13：保持部件，14：光学膜，15：基材膜，16：微细结构体，16a：防反射光学体，16p：UV固化性树脂层，18：夹具，21：微细凹凸层，21p：UV固化性树脂层，22：无机膜，23、25、26、28：辊，24：溅射靶，30：光学膜，31、36：基材膜，32、37：微细凹凸层，33：保护膜，34：粘着膜，35：离型膜，38：膜模型，39：固化性树脂，39a：防反射光学体
具体实施方式
以下，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。应予说明，本发明不仅限于以下的实施方式，当然在不脱离本发明的主旨的范围内能够进行各种变更。以下，在各图中对相同的构成标记相同的符号，并省略说明。
(防反射光学体的形成方法)
图1A～图1C是示出本发明的一个实施方式的防反射光学体的形成方法的图。本实施方式的防反射光学体的形成方法包括：涂布工序、固着工序和剥离分离工序。
<涂布工序>
在图1A所示的涂布工序中，将除了环氧系粘接剂之外的粘接剂12涂布在被粘体11(玻璃)上。应予说明，粘接剂12的厚度优选为15μm以下，期望为5μm以下。此外，通过保持部件13来保持光学膜14。光学膜14在基材膜15的一面侧形成有微细结构体16。光学膜14以使形成有微细结构体16的一面侧朝向被粘体11的方式被保持。粘接剂12向被粘体11的涂布只要能够对准形成防反射光学体的位置使粘接剂12附着即可，其方法没有特别限定。应予说明，作为粘接剂12可以使用氰基丙烯酸酯系粘接剂、UV固化性树脂(粘接剂)、氰基丙烯酸酯UV固化性粘接剂等。
参照图2对图1A所示的光学膜14的构成进行更详细地说明。
光学膜14没有特别地限制，如图2所示，可以具备：基材膜15、微细凹凸层21、无机膜22、和微细结构体16(薄膜光学体层)。应予说明，在图1A～图1C中，为了图的简化，省略微细凹凸层21和无机膜22的记载。
基材膜15可以是为了保护微细结构体16等和提高操作性而设置的。基材膜15的种类没有被特别地限制，但优选为难以断裂的膜，可以使用PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜、TAC(三醋酸纤维素)膜等。基材膜15的厚度只要根据对光学膜14要求的操作性进行适当调整即可，例如为50μm～125μm。
微细凹凸层21形成在基材膜15的一面上。在微细凹凸层21的表面形成有凹凸图案(在光学膜14的膜厚方向上为凸的凸部和在光学膜14的膜厚方向上为凹的凹部)。凸部和凹部可以周期性(例如，千鸟格状、矩形格状)地配置，此外可以随机地配置。此外，凸部和凹部的形状没有特别地限制，可以是炮弹型、锥体状、柱状、针状等。应予说明，凹部的形状是指通过凹部的内壁形成的形状。
微细凹凸层21的表面的凹凸图案的平均周期(间距)是可见光波长以下(例如，830nm以下)，优选为100nm以上且350nm以下，进一步优选为150nm以上且280nm以下。因此，微细凹凸层21的表面成为所谓的蛾眼结构。通过将微细凹凸层21的表面的凹凸图案的间距设为可见光波长以下，能够实现防反射特性的提高。
微细凹凸层21的凹凸图案的平均周期为相邻的凸部间和凹部间的距离的算术平均值。应予说明，微细凹凸层21的凹凸图案例如是能够通过扫描型电子显微镜(SEM)、或者截面透射型电子显微镜(截面TEM)等而观察的。此外，作为平均周期的计算方法，例如有分别提取多个相邻的凸部的组合和相邻的凹部的组合，测定构成各组合的凸部间的距离和凹部间的距离，并将测定值进行平均的方法。
此外，微细凹凸层21的凸部的高度(凹部的深度)没有特别地限制，优选为150nm以上且300nm以下，更优选为190nm以上且300nm以下，进一步优选为190nm以上且230nm以下。
无机膜22由氧化钨、氧化硅、硅、ITO等无机物构成。无机膜22以5nm～50nm的膜厚形成在微细凹凸层21的表面上。无机膜22作为用于便于将微细结构体16剥离的脱模层而设置。
作为薄膜光学体层的微细结构体16形成在无机膜22上。在微细结构体16的无机膜22侧的面形成有使微细凹凸层21的凹凸图案反转而成的凹凸图案。微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面是平坦的。
参照图3A～图3C对图2所示的光学膜14的制造方法进行说明。
准备基材膜15，如图3A所示，在基材膜15的一面上形成例如由未固化的UV固化性树脂(例如，UV固化性丙烯酸树脂)构成的固化性树脂层21p。应予说明，用于固化性树脂层21p的形成的树脂不限于UV固化性丙烯酸树脂。
固化性树脂层21p期望由固化物具有透明性的固化性树脂组合物形成。固化性树脂组合物例如包含聚合性化合物和聚合引发剂。聚合性化合物是由聚合引发剂来进行固化的树脂。作为聚合性化合物，例如列举环氧聚合性化合物和丙烯酸聚合性化合物等。
环氧聚合性化合物是在分子内具有一个或两个以上的环氧基的单体、低聚物或预聚物。作为环氧聚合性化合物，列举各种双酚型环氧树脂(双酚A型、F型等)、酚醛清漆型环氧树脂、橡胶和聚氨酯等各种改性环氧树脂、萘型环氧树脂、联苯型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、二苯乙烯型环氧树脂、三苯酚甲烷型环氧树脂、双环戊二烯型环氧树脂、三苯基甲烷型环氧树脂及他们的预聚物等。
丙烯酸聚合性化合物是在分子内具有一个或两个以上的丙烯酸基的单体、低聚物或预聚物。这里，单体还被分类为在分子内具有一个丙烯酸基的单官能单体、在分子内具有两个丙烯酸基的双官能单体、在分子内具有三个以上丙烯酸基的多官能单体。
作为“在分子内具有一个丙烯酸基的单官能单体”，例如列举羧酸类(丙烯酸)、羟基类(丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸2-羟丙酯、丙烯酸4-羟丁酯)、烷基或脂环类的单体(丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸十八酯、丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯)、其他功能性单体(丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基乙二醇丙烯酸酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸四氢呋喃酯、丙烯酸苄酯、乙基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、N,N-二甲基氨基丙基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、丙烯酰吗啉、N-异丙基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸2-(全氟辛基)乙酯、3-全氟己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基-丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基-丙烯酸酯、2-(全氟-3-甲基丁基)乙基丙烯酸酯)、2,4,6-三溴苯酚丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯酚甲基丙烯酸酯、丙烯酸2-(2,4,6-三溴苯氧基)乙酯、丙烯酸2-乙基己酯等。
作为“在分子内具有两个丙烯酸基的双官能单体”，例如列举三(丙二醇)二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷-二烯丙基醚、聚氨酯丙烯酸酯等。
作为“在分子内具有三个以上的丙烯酸基的多官能单体”，例如列举三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯、双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯等。
从透明性、与微细结构体16的剥离性的观点来看，聚合性化合物优选为丙烯酸聚合性化合物。
聚合引发剂为使固化性树脂组合物固化的材料。作为聚合引发剂的例子，例如列举热聚合引发剂、光聚合引发剂等。聚合引发剂也可以是通过热、光以外的任何能量线(例如电子束)等进行固化的材料。在聚合引发剂为热聚合引发剂的情况下，固化性树脂成为热固化性树脂，在聚合引发剂为光聚合引发剂的情况下，固化性树脂成为光固化性树脂。
这里，从透明性、与微细结构体16的剥离性的观点来看，聚合引发剂优选为光聚合引发剂，特别优选为紫外线聚合引发剂。同样地，固化性树脂优选为紫外线固化性丙烯酸树脂。紫外线聚合引发剂为光聚合引发剂的一种。作为紫外线聚合引发剂，例如列举2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等。
在形成固化性树脂层21p的固化性树脂组合物中，可以添加与光学膜14的用途对应的添加剂。作为这样的添加剂，例如列举无机填料、有机填料、调平剂、表面调整剂、消泡剂等。应予说明，作为无机填料的种类，例如列举SiO2、TiO2、ZrO2、SnO2、Al2O3等金属氧化物微粒。进一步地，为了能够将微细结构体16容易地剥离，可以在形成固化性树脂层21p的固化性树脂组合物中添加脱模剂等。
如图3A所示，一边形成固化性树脂层21p，一边使辊23与固化性树脂层21p紧密贴合。
辊23例如具有圆筒形或者圆柱状。在辊23的表面，形成有与在微细凹凸层21形成的凹凸图案对应的凹凸图案。辊23可以是平板状。应予说明，上述那样的构成的辊23的制作方法是本领域技术人员熟知的，此外，由于与本发明没有直接关系，所以省略说明。
通过使辊23与由未固化的UV固化性树脂构成的固化性树脂层21p紧密贴合，从而将形成在辊23的表面的凹凸图案转印到固化性树脂层21p的表面。虽然如上所述，辊23可以是平板状，但通过设为圆筒形或者圆柱状，从而能够利用辊对辊方式将辊23的凹凸图案转印到固化性树脂层21p，因此能够实现转印的高效化。
如图3A所示，在进行辊23的凹凸图案向固化性树脂层21p的转印的同时，从基材膜15的另一面侧照射UV光，使固化性树脂层21p固化。通过这样做，能够在基材膜15上形成微细凹凸层21。应予说明，在辊23的表面也可以使用氟材料等进行脱模处理以便将微细凹凸层21从辊23剥离。
在形成微细凹凸层21之后，如图3B所示，例如通过使用了由氧化钨构成的溅射靶24的溅射法，在微细凹凸层21的表面以5nm～50nm左右的膜厚形成作为脱模层的无机膜22。作为构成无机膜22的材料，可以使用氧化硅、硅、ITO等。
在形成无机膜22之后，如图3C所示，在无机膜22上形成由未固化的UV固化性树脂(例如，UV固化丙烯酸树脂)构成的UV固化性树脂层16p。由于UV固化性树脂层16p由未固化的UV固化性树脂组合物构成，所以在UV固化性树脂层16p的无机膜22侧的面，UV固化性树脂也渗透到无机膜22的凹凸图案的凹部，形成凹凸结构。即，在UV固化性树脂层16p的无机膜22侧的面形成有使微细凹凸层21的表面的凹凸图案反转而成的凹凸图案。应予说明，UV固化性树脂层16p例如可以利用与固化性树脂层21p同样的组合物来形成。
接下来，如图3C所示，使辊25与UV固化性树脂层16p紧密贴合。辊25的表面平坦。因此，UV固化性树脂层16p的与无机膜22为相反侧的面成为平坦面。在进行辊25向UV固化性树脂层16p的紧密贴合的同时，向UV固化性树脂层16p照射UV光，由此能够使UV固化性树脂层16p固化，形成微细结构体16(薄膜光学体层)。
应予说明，在图2和图3A～图3C中，使用微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面为平坦面的例子进行了说明，但如图4所示，光学膜14可以在微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面也形成凹凸图案。即，可以在微细结构体16的双面形成凹凸图案(微细结构)。
参照图5A～图5C，对图4所示的光学膜14的制造方法进行说明。在图5A～图5C中，对于与图3A～图3C同样的构成标记相同的符号，并省略说明。
图5A和图5B所示的工序与图3A和图3B所示的工序相同。即，在图5A所示的工序中，在基材膜15的一面上形成固化性树脂层21p，并使辊23与固化性树脂层21p紧密贴合，从而在固化性树脂层21p的表面形成凹凸图案。然后，通过将UV光照射到固化性树脂层21p，而使固化性树脂层21p固化，形成微细凹凸层21。此外，在图5B所示的工序中，在微细凹凸层21上形成无机膜22。
在图5C所示的工序中，与图3C所示的工序同样地，在无机膜22上形成UV固化性树脂层16p。接下来，如图5C所示，使辊26与UV固化性树脂层16p紧密贴合。这里，在辊26的表面形成有凹凸图案。因此，在UV固化性树脂层16p的与无机膜22为相反侧的面也形成有凹凸图案。作为辊26，可以使用与辊23相同的辊。在进行辊26向UV固化性树脂层16p的紧密贴合的同时，向UV固化性树脂层16p照射UV光，由此能够使UV固化性树脂层16p固化，形成在双面形成有凹凸图案的微细结构体16(薄膜光学体层)。
<固着工序>
再次参照图1，图1A所示的涂布工序之后，在图1B所示的固着工序中，利用夹具18将保持部件13固定，并介由夹具18利用保持部件13将光学膜14从与形成有微细结构体16的一面为相反侧的面向涂布在被粘体11的粘接剂12按压预定时间。粘接剂12被光学膜14按压而在被粘体11与光学膜14之间被压开，并固化。通过粘接剂12的固化将微细结构体16与被粘体11固着。
<剥离分离工序>
在图1C所示的剥离分离工序中，解除光学膜14的按压而将光学膜14从被粘体11释放，由此使微细结构体16剥离。通过固着工序，在形成于光学膜14的微细结构体16(薄膜光学体层)中的存在有粘接剂12的区域中，微细结构体16与被粘体11通过固化了的粘接剂12而固着。然后，通过将光学膜14释放，从而一边将与被粘体11固着的微细结构体16从基材膜15上的由粘接剂12固着的位置以外的微细结构体16分离(分割)，一边以与无机膜22之间的界面为界使与被粘体11固着的微细结构体16剥离。通过这样做，与被粘体11固着且从基材膜15上的微细结构体分离的微细结构体16作为防反射光学体16a形成在被粘体11。应予说明，在图1C中，对于将微细结构体16与被粘体11固着的固化了的粘接剂12省略记载。
这里，通过使由粘接剂12产生的被粘体11与微细结构体16之间的粘接力比微细结构体16与微细凹凸层21之间的粘接力强，从而能够使微细结构体16剥离，并作为防反射光学体16a固着于被粘体11。应予说明，由于在微细结构体16与微细凹凸层21之间形成有作为脱模层的无机膜22，所以能够便于将微细结构体16剥离。
(显示面板)
图6、图7是示出由本实施方式的形成方法得到的防反射光学体16a形成在被粘体11的状态的一例的图。图6示出了使用图2所示的光学膜14(微细结构体16的与无机膜22为相反侧的面平坦的光学膜14)的例子。此外，图7示出了使用图4所示的光学膜14(在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14)的例子。
如图6、图7所示，根据本实施方式，能够形成在被粘体11介由固化了的粘接剂12形成有防反射光学体16a的部件10。部件10例如用于显示面板等。
应予说明，如图7所示，在使用在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14的情况下，粘接剂12也进入到防反射光学体16a的被粘体11侧的面的凹部而固化。因此，能够提高防反射光学体16a与被粘体11之间的粘接力。
在本实施方式中，使用粘接剂12将被粘体11与微细结构体16固着。通常，除了环氧系粘接剂之外的粘接剂12与环氧系粘接剂相比，具有在短时间内固化的特性。因此，在固着工序中，将光学膜14与被粘体11按压贴合的时间较短即可，能够高效地(短时间地)形成防反射光学体16a。此外，在本实施方式中，由于粘接剂12在被粘体11上的涂布量是微量的，所以能够减小反应所需的体积，以较少的固化时间使粘接剂12固化，并将被粘体11与微细结构体16固着。进一步地，与使用粘接胶带那样的情况相比，能够实现薄型化。
接下来，列举实施例和比较例来更具体说明本发明，但本发明并不限于下述实施例。
(实施例1)
在本实施例中，使用了具有图2所示的构成的光学膜14。首先，对光学膜14的制造条件进行说明。
作为基材膜15，使用厚度125μm的帝人公司制造的PET膜。在基材膜15上形成由UV固化性树脂(Dexerials株式会社制造，产品名称“SK1120”)构成的固化性树脂层21p。然后，使辊23与固化性树脂层21p紧密贴合，并照射UV光而使固化性树脂层21p固化，形成微细凹凸层21。在微细凹凸层21形成凹凸间距为150nm～230nm，凹部的深度为约250nm的凹凸图案。然后，通过使用了由氧化钨构成的溅射靶的溅射法，在微细凹凸层21的表面以20nm的膜厚形成作为脱模层的无机膜22。无机膜22的厚度优选为5nm～50nm，更优选为15nm～35nm。这是因为在无机膜22薄的情况下剥离效果变差，此外，在无机膜22厚的情况下剥离效果也会变差。
在无机膜22上，以约2μ，的厚度形成由未固化的UV固化性丙烯酸树脂(Dexerials株式会社制造，产品名称“SK1120”)构成的UV固化性树脂层16p。然后，使表面为平坦状的辊25与UV固化性树脂层16p紧密贴合，并以10kJ/m2的照射量向UV固化性树脂层16p照射UV光，而使UV固化性树脂层16p固化，形成厚度约2μm的微细结构体16。在微细结构体16的无机膜22侧的面，与形成在微细凹凸层21的凹凸图案对应地，形成凹凸间距为150nm～230nm，凹部的深度为约250nm的凹凸图案。在形成微细结构体16之后，将制作的光学膜14放置于大气中。
然后，在本实施例中，使用氰基丙烯酸酯系粘接剂作为粘接剂12，并如图1A所示，在玻璃制的被粘体11的一面上涂布氰基丙烯酸酯系粘接剂。
接下来，如图1B所示，介由夹具18利用保持部件13将光学膜14从与形成有微细结构体16的一面为相反侧的面向涂布在被粘体11的粘接剂12(氰基丙烯酸酯系粘接剂)按压预定时间，通过氰基丙烯酸酯系粘接剂将被粘体11与微细结构体16固着。应予说明，在实施例1中，利用粘接剂进行的光学膜14的微细结构体16与被粘体11的固着是在大气(即，微细结构体16和被粘体11的粘接面被水分(大气中的水分)覆盖的状态)下进行的。
接下来，如图1D所示，解除光学膜14的按压而将光学膜14从被粘体11释放，由此使通过氰基丙烯酸酯系粘接剂固着于被粘体11的微细结构体16剥离分离。
(实施例2)
在本实施例中，使用图4所示的在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14。对于本实施例中的光学膜14的制造条件而言，如图5C所示，除了在形成UV固化性树脂层16p之后，使表面具有凹凸图案的辊26与UV固化性树脂层16p紧密贴合这一点、以及将微细结构体16的膜厚设为3μm这一点以外，都与第一实施例相同。
然后，在与实施例1同样的条件下，使用在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14在被粘体11形成防反射光学体16a。
如参照图7所说明的那样，在使用在微细结构体16的双面形成有凹凸图案的光学膜14的情况下，氰基丙烯酸酯系粘接剂进入到微细结构体16的凹部而固化，因此，微细结构体16与被粘体11之间的粘接力提高。
对于在实施例1中形成的防反射光学体，十字切割试验(cross cut test)的结果是50～90/100，与此相对，对于在实施例2中形成的防反射光学体16a，十字切割试验的结果使100/100。根据该结果可知，通过在微细结构体16的双面设置凹凸图案，能够提高微细结构体16与被粘体11之间的粘接力。
这里，本申请发明人尝试了在微细结构体16和被粘体11的粘接面未被水分覆盖的状态下，也利用氰基丙烯酸酯系粘接剂将微细结构体16与被粘体11固着。即，尝试了在通过氧灰化处理从光学膜14的微细结构体16的表面和被粘体11的表面去除了水分之后，利用氰基丙烯酸酯系粘接剂将微细结构体16与被粘体11固着。然而，在此情况下，氰基丙烯酸酯系粘接剂未固化，无法使微细结构体16与被粘体11固着。
根据该结果可知，如果氰基丙烯酸酯系粘接剂的粘接面(微细结构体16和被粘体11的表面)未被水分覆盖，则不发生聚合反应，氰基丙烯酸酯系粘接剂不固化，其结果是无法将微细结构体16固着于被粘体11。应予说明，由于在大气下，氰基丙烯酸酯系粘接剂固化而将微细结构体16与被粘体11固着，所以氰基丙烯酸酯系粘接剂的粘接面只要以大气中的水分程度被覆盖即可。
此外，在实施例1中，如果测定在利用氰基丙烯酸酯系粘接剂将微细结构体16和被粘体11固着时的形成体(氰基丙烯酸酯系粘接剂和微细结构体16)在被粘体11上的膜厚，则为8.6μm、7.75μm、5.5μm(样品数＝3)。应予说明，形成体的膜厚是使用三丰公司制造的膜厚计(产品名称“LITEMATICVL-505”)，在0.15N的测定条件下测量的。此外，膜厚是从形成体的形成后的测定值中减去形成前的测定值而得到的值。
这里，本申请发明人尝试了与利用氰基丙烯酸酯系粘接剂将微细结构体16和被粘体11固着的情况相比，增加氰基丙烯酸酯系粘接剂的填充量(增大氰基丙烯酸酯系粘接剂的膜厚(粘接厚度))，而利用氰基丙烯酸酯系粘接剂将微细结构体16与被粘体11固着。然而，如果增加氰基丙烯酸酯系粘接剂的填充量，则即使通过图1B所示的固着工序，氰基丙烯酸酯系粘接剂也没有固化。如果测定氰基丙烯酸酯系粘接剂没有固化时的形成体的膜厚，则为17.8μm、25μm、25μm(样品数＝3)。应予说明，由于难以严格控制氰基丙烯酸酯系粘接剂的填充量，所以这里测定了包括氰基丙烯酸酯系粘接剂和微细结构体16在内的形成体的膜厚。
根据该结果可知，如果粘接剂12相对于水分量过剩地存在，则粘接剂12不固化。并且，根据上述的膜厚的测定结果可知，如果考虑在实施例1中微细结构体16的膜厚为2μm，则粘接剂12的填充量(粘接厚度)如上所述优选为15μm以下，期望为5μm以下。
(比较例1)
接下来，对比较例1的防反射光学体形成在被粘体的形成方法进行说明。
首先，参照图8说明在比较例1中使用的光学膜30的构成。
图8所示的光学膜30具备：基材膜31、微细凹凸层32、保护膜33、粘着膜34和离型膜35。
基材膜31是厚度50μm的PET膜。在基材膜31的一面以膜厚3μm形成微细凹凸层32。在微细凹凸层32的表面形成凹凸间距为150nm～230nm，凹部的深度为约250nm的凹凸图案。然后，为了保护微细凹凸层32的凹凸图案，以覆盖微细凹凸层32的形成有凹凸图案的面的方式设置保护膜33。
在基材膜31的另一面(与形成有微细凹凸层32的面为相反侧的面)粘贴厚度25μm的粘着膜34(双面胶)。在粘着膜34的与粘贴有基材膜31的面为相反侧的面设置用于保护粘着膜34的粘着部的离型膜35。
然后，在将光学膜30冲裁成预定尺寸之后，将光学膜30粘贴于被粘体11。向被粘体11的粘贴是将离型膜35剥离，并将粘着膜34的靠离型膜35侧的粘着面与被粘体粘贴。之后，在利用辊排出气体后，将保护膜33剥离。
图9是示出由比较例1的形成方法得到的防反射光学体形成在被粘体11的状态的图。
如图9所示，介由粘着膜34将在一面形成有微细凹凸层32的基材膜31的另一面与被粘体11粘接。通过这样做，在被粘体11形成作为防反射光学体的微细凹凸层32。
(比较例2)
接下来，对比较例2的防反射光学体形成在被粘体的形成方法进行说明。
在比较例2中，如图10所示，制作在基材膜36(厚度125μm的帝人公司制造的PET膜)的一面形成有由固化了的UV固化性树脂构成的微细凹凸层37的膜模型(Film mold)38。在微细凹凸层37的表面形成凹凸间距为150nm～230nm、凹部的深度为约250nm的凹凸图案。此外，使用氟材料在微细凹凸层37的表面进行脱模处理。
接下来，在被粘体11上涂布UV固化性树脂39(三键(threebond)公司制造的玻璃粘接材料)，使膜模型38的微细凹凸层37与UV固化性树脂39紧密贴合。之后，以30kJ/m2的照射量向UV固化性树脂39照射UV光而使UV固化性树脂39固化。
通过使微细凹凸层37与UV固化性树脂39紧密贴合，从而在UV固化性树脂39形成使在微细凹凸层37形成的凹凸图案反转而成的凹凸图案。并且，通过使UV固化性树脂39固化，从而如图11所示，在被粘体11形成由固化了的UV固化性树脂39构成的防反射光学体39a。
如上所述，在实施例1中，形成体在被粘体11上的厚度(防反射光学体16a与固化了的氰基丙烯酸酯系粘接剂的总厚度)被抑制在10μm以下(8.6μm、7.75μm、5.5μm)，实现了薄型化。此外，在实施例1和实施例2中，微细结构体16的膜厚仅相差1μm，可认为形成体的厚度没有大的差异，因此，在实施例2中也能够实现薄型化。
另一方面，在比较例1中，在被粘体11上层叠粘着膜34、基材膜31和微细凹凸层32，因此形成体的厚度成为数十μm。因此，在比较例1的形成方法中难以实现薄型化。
接下来，对防反射光学体形成在被粘体11所需的时间进行比较。
在实施例1、实施例2中，将氰基丙烯酸酯系粘接剂涂布于被粘体11，将光学膜14压合并保持于氰基丙烯酸酯系粘接剂，并将光学膜14释放而形成防反射光学体16a为止所需的时间为约7秒。
另一方面，在比较例1中，将离型膜35剥离，将光学膜30粘贴于被粘体11，并利用辊排出气体，而将保护膜33剥离为止所需的时间为约23秒。在比较例1中，离型膜35和保护膜33的剥离、光学膜30向被粘体11的贴合花费时间，防反射光学体的形成与实施例1、实施例2相比花费了更多的时间。
此外，在比较例2中，将UV固化性树脂39涂布于被粘体11，将膜模型38紧密贴合并保持于UV固化性树脂39，并照射UV光而使UV固化性树脂39固化，将膜模型38释放为止所需的时间为约35秒。在比较例2中，UV固化性树脂39的固化花费时间，防反射光学体的形成与实施例1、实施例2相比花费了更多的时间。
在实施例1、实施例2和比较例2中，形成防反射光学体的工序类似，但是在实施例1、实施例2中，由于使用固化时间比UV固化性树脂短的氰基丙烯酸酯系粘接剂，所以能够缩短防反射光学体的形成所需的时间，并高效地形成防反射光学体。
应予说明，本申请发明人着眼于氰基丙烯酸酯系粘接剂的固化时间比UV固化性树脂短这样的特性，在比较例2中尝试了使用氰基丙烯酸酯系粘接剂代替UV固化性树脂39而形成防反射光学体。然而，在该方法中，即使在膜模型38的微细凹凸层37的表面实施脱模处理，微细凹凸层37与被粘体11也因氰基丙烯酸酯系粘接剂而固着，强行剥离的结果是，在层间产生材料损坏，无法良好地形成防反射光学体。
接下来，对在实施例1、实施例2中形成的防反射光学体16a的防反射特性的评价结果进行说明。
将在实施例1、实施例2中形成的防反射光学体16a的视感反射率(为XYZ颜色系统的Y值的反射率，依据JIS Z 8722测定的反射率)示于表1。应予说明，通常，在作为防反射部件使用的情况下，视感反射率期望为1％以下，优选为0.6％以下。此外，图12A示出在实施例1、实施例2中形成的防反射光学体16a的反射光谱，图12B示出在实施例1、实施例2中形成的防反射部件的透过光谱。应予说明，在图12A中，横轴表示入射光的波长，纵轴表示入射光的反射率。此外，在图12B中，纵轴表示入射光的波长，纵轴表示入射光的透过率。
[表1]
视感反射率
实施例1 0.59
实施例2 0.50
如表1所示，在实施例1、实施例2中视感反射率都为0.6％以下。此外，如图12A所示，在实施例1、实施例2中，针对各波长的光都得到了1.0％以下的反射率，示出了良好的反射特性。此外，如图12B所示，在实施例1、实施例2中，针对各波长的光都得到了90％以上的高透过率，示出了良好的透过特性。
应予说明，如图12A所示，在实施例1的反射光谱中，产生了遍及全波长范围的波动。另一方面，在除了光学膜14(微细结构体16)的结构之外以相同条件形成防反射光学体的实施例2中，未产生这样的波动。据此，可认为实施例1中的波动的产生起因于微细结构体16的构成。
在实施例1中，被粘体11与粘接剂12之间的界面和粘接剂12与微细结构体16之间的界面分别是大致平坦的。因此，有可能因被粘体11与粘接剂12之间的界面处的光的折射率、和粘接剂12与微细结构体16之间的界面处的光的折射率的差异，而使在被粘体11与粘接剂12之间的界面反射的光、与在粘接剂12与微细结构体16之间的界面反射的光干涉。
另一方面，在实施例2中，虽然被粘体11与粘接剂12之间的界面是平坦的，但粘接剂12与微细结构体16之间的界面具有凹凸结构。因此，可认为不产生在两个界面反射的光的干涉，抑制波动的产生。因此，通过如实施例2那样在微细结构体16的双面设置凹凸图案，从而能够抑制反射光谱中的波动的产生，得到更良好的反射特性。
这样，本发明的一个实施方式的防反射光学体16a的形成方法具备：将除了环氧系粘接剂之外的粘接剂12涂布于被粘体11的涂布工序；将在一面侧具备微细结构体16的基材膜15从与一面相对的另一面侧按压于被粘体11而利用粘接剂12将被粘体11与微细结构体16固着的固着工序；通过解除基材膜15的按压，并一边将由粘接剂12固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15上的由粘接剂12固着的位置以外的微细结构体16分离，一边使由粘接剂12固着于被粘体11的微细结构体16从基材膜15剥离，从而将固着于被粘体11的微细结构体16作为防反射光学体16a而形成在被粘体11的剥离分离工序。
在固着工序中，利用除了环氧系粘接剂之外的粘接剂12将被粘体11与微细结构体16固着。由于除了环氧系粘接剂之外的粘接剂12具有与环氧系粘接剂相比在短时间内固化这样的特性，因此能够将被粘体11与微细结构体16在短时间内固着。进一步地，由于粘接剂12的涂布量是微量即可，所以能够减小反应所需的体积，以较少的固化时间使粘接剂12固化，将被粘体11与微细结构体16固着。因此，能够高效地形成防反射光学体16a。此外，由于不需要介由粘着膜而使被粘体11与微细结构体16固着，所以能够实现薄膜化。
基于附图和实施方式对本发明进行了说明，但希望注意的是只要是本领域技术人员，则容易基于本公开进行各种变形或修正。因此，希望留意这些变形或修正包含于本发明的范围。

Claims (7)

1.一种防反射光学体的形成方法，其特征在于，为防反射光学体在被粘体上的形成方法，所述防反射光学体的形成方法具备：
涂布工序，将除了环氧系粘接剂之外的粘接剂涂布于所述被粘体；
固着工序，将在一面侧具备微细结构体的基材膜从与所述一面相对的另一面侧按压于所述被粘体而利用所述粘接剂将所述被粘体与所述微细结构体固着；以及
剥离分离工序，通过解除所述基材膜的按压，并一边将由所述粘接剂固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜上的除由所述粘接剂固着的位置以外的微细结构体分离，一边使由所述粘接剂固着于所述被粘体的微细结构体从所述基材膜剥离，从而将固着于所述被粘体的微细结构体作为防反射光学体而形成在所述被粘体。
2.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
所述粘接剂为氰基丙烯酸酯系粘接剂或UV固化性树脂或氰基丙烯酸酯UV固化性粘接剂。
3.根据权利要求1或2所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
所述微细结构体具有可见光波长以下的间距的凹凸图案。
4.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
在所述基材膜上形成有具有凹凸图案的微细凹凸层，
在所述微细凹凸层上形成有无机膜，
在所述无机膜上形成有所述微细结构体。
5.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
所述微细结构体在所述基材膜侧的一面和与所述一面相对的另一面形成有微细结构。
6.根据权利要求1所述的防反射光学体的形成方法，其特征在于，
在所述微细结构体与所述被粘体之间的所述粘接剂的厚度为15μm以下的状态下，使所述被粘体与所述微细结构体固着。
7.一种显示面板，其特征在于，具有微细结构体，
所述微细结构体是通过权利要求1所述的防反射光学体的形成方法而形成，并利用粘接剂来固着的。
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