JP6904161B2 - 画像表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示パネル等の画像表示部材とその表面側に配される光透過性カバー部材とを、光透過性の光硬化樹脂層を介して接着・積層して画像表示装置を製造する方法に関する。

スマートフォーン等の情報端末に用いられている液晶表示パネル等の画像表示装置は、図７に示すように、外周部に遮光部１００ａが設けられたガラス板等の光透過性カバー部材１００の片面に、塗布装置（例えばスリットダイヘッド１０１）から光硬化性樹脂組成物１０２を塗布し、その組成物に紫外線を照射し仮硬化させて仮硬化樹脂層を形成した後、その仮硬化樹脂層に液晶表示パネルや有機ＥＬ表示パネル等の画像表示部材を積層し、更に、仮硬化樹脂層に紫外線を再度照射し本硬化させて光硬化樹脂層とし、その光硬化樹脂層を介して画像表示部材と光透過性カバー部材とを接着・積層することにより製造することが提案されている（特許文献１）。

光透過性カバー部材の片面に液状の光硬化性樹脂組成物をスリットダイヘッドを用いて塗布する場合、図８Ａ、図８Ｂに示すように、スリットダイヘッド１０１のスリット１０１ａの外周部で光硬化性樹脂組成物のメニスカスＭが形成される。このメニスカスＭは、図９に示すように、光硬化樹脂層１０３を介した光透過性カバー部材１００と画像表示部材１０４との積層に関与しない傾斜した非接着部１０５となる。このため、できるだけ非接着部１０５の幅が狭くなるように、光硬化性樹脂組成物を塗布している。また、バックライト部材などの装着に支障を来たさないように、画像表示部材１０４の外縁からはみ出さないように塗布している。この場合、近年の画像表示装置においては、光透過性カバー部材の表面積に対する画像表示エリア（Ｖ．Ａ．）の表面積を拡大するために、狭額縁化（即ち、光透過性カバー部材の外縁に設けられている遮光部の幅を狭くすること）が推進されている。

特開２０１４−１１９５５７号公報

しかしながら、画像表示装置を狭額縁化する場合、図１０に示すように、非接着部１０５をできるだけ狭く且つ画像表示部材１０４の外縁から確実にはみ出さないようにするために、光透過性カバー部材の外縁から光硬化性樹脂組成物の塗布位置までのマージンをある程度の幅で確保する必要がある。このため、狭額縁化した光透過性カバー部材１００の遮光部１００ａに光硬化樹脂層１０３が配置されず、光透過性カバー部材１００と画像表示部材１０４との間の接合強度が不十分になることが懸念され、また、傾斜した非接着部１０５が、光透過性カバー部材１００の遮光部１００ａの内側となり、表示エリアの外観不良を招きかねない。

本発明の目的は、以上の従来の技術の問題点を解決することであり、画像表示部材とその表面側に配される光透過性カバー部材とを光硬化性樹脂組成物の光硬化樹脂層を介して積層して画像表示装置を製造する際に、狭額縁化した場合であっても、狭額縁化した光透過性カバー部材の遮光部に光硬化性樹脂組成物が配置されるようにすると共に、表示エリアの外観不良を招かないようにすることである。

本発明者らは、光透過性カバー部材に光硬化性樹脂組成物を塗布する際に、仮にスリットダイヘッドを使用して液状の光硬化性樹脂組成物を塗布した場合であっても、光硬化性樹脂組成物のメニスカスが極力生じないように、光透過性カバー部材の片面に光硬化性樹脂組成物の塗布領域を区画する塗布領域規制マスクを配置した上で光硬化性樹脂組成物を塗布することにより、上述の目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。

即ち、本発明は、画像表示部材と光透過性カバー部材とが、光硬化樹脂層を介して積層されている画像表示装置の製造方法において、以下の工程（Ａ）〜（Ｆ）を有する製造方法を提供する。

＜工程（Ａ）：マスク配置工程＞
光透過性カバー部材の片面に、光硬化性樹脂組成物の塗布領域を区画する塗布領域規制マスクを配置する工程。

＜工程（Ｂ）：塗布工程＞
塗布領域規制マスクで区画された光透過性カバー部材の塗布領域に、光硬化性樹脂組成物を塗布する工程。

＜工程（Ｃ）：仮硬化工程＞
光透過性カバー部材の塗布領域に塗布された光硬化性樹脂組成物に対して紫外線を照射することにより仮硬化樹脂層を形成する工程。

＜工程（Ｄ）：マスク取り外し工程＞
光透過性カバー部材から塗布領域規制マスクを取り外す工程。

＜工程（Ｅ）：積層工程＞
光透過性カバー部材と画像表示部材とを、仮硬化樹脂層を介して積層する工程。

＜工程（Ｆ）：本硬化工程＞
仮硬化樹脂層に紫外線を照射し本硬化させて光硬化樹脂層を形成する工程。

本発明の画像表示装置の製造方法においては、光透過性カバー部材の片面に、光硬化性樹脂組成物の塗布領域を区画する塗布領域規制マスクを配置した上で、区画された塗布領域に光硬化性樹脂組成物を塗布している。このため、塗布領域の周縁に光硬化性樹脂組成物の傾斜した非接着部が生じないようにすることができ、画像表示装置を狭額縁化した場合（換言すれば、光透過性カバー部材の遮光部の幅を狭くした場合）であっても、光透過性カバー部材の遮光部に光硬化性樹脂組成物が配置されるようにできると共に、表示エリアの外観不良を招かないようにすることができる。また、塗布領域規制マスクは、光透過性カバー部材と密着させる手段を講じることで、後述するように、光硬化性樹脂組成物によるズレの発生を防止すると共に、光硬化性樹脂組成物の隙間への侵入を防止することができ、傾斜した非接着部の発生を大いに抑制することができる。

図１Ａは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ａ）の説明図である。 図１Ｂは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ａ）の説明図である。 図２Ａは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｂ）の説明図である。 図２Ｂは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｂ）で使用する押圧手段の説明図である。 図２Ｃは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｂ）で使用する押圧手段の説明図である。 図２Ｄは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｂ）で使用する押圧手段の説明図である。 図２Ｅは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｂ）で使用する押圧手段の説明図である。 図３Ａは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｃ）の説明図である。 図３Ｂは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｃ）の説明図である。 図４Ａは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｄ）の説明図である。 図４Ｂは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｄ）の説明図である。 図４Ｃは、塗布領域規制マスクを使用しない場合の仮硬化樹脂層のエッジ形状の説明図である。 図５は、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｅ）の説明図である。 図６Ａは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｆ）の説明図である。 図６Ｂは、本発明の画像表示装置の製造方法の工程（Ｆ）の説明図である。 図７は、画像表示装置の従来の製造における塗布工程説明図である。 図８Ａは、画像表示装置の従来の製造における塗布工程において生じるメニスカスの説明図である。 図８Ｂは、画像表示装置の従来の製造における塗布工程において生じるメニスカスの説明図である。 図９は、従来の画像表示装置の製造において生ずる非接着部の説明図である。 図１０は、画像表示装置の製造において、狭額縁化する場合の説明図である。

本発明は、画像表示部材と光透過性カバー部材とが、光硬化樹脂層を介して積層されている画像表示装置の製造方法であって、以下の工程（Ａ）〜（Ｆ）を有する製造方法である。以下、図面を参照しながら工程毎に詳細に説明する。

＜工程（Ａ）：マスク配置工程＞
まず、図１Ａに示すように、光透過性カバー部材１０を用意し（図１Ａでは、光透過性カバー部材１０の中央部の断面形状が示されている）、更に、図１Ｂに示すように、その片面に、光硬化性樹脂組成物の塗布領域ＣＲを区画する塗布領域規制マスクＭＦを配置する。この場合、光透過性カバー部材１０として周縁部に遮光部１０ａが形成されているものを使用し、その遮光部１０ａの少なくとも一部、好ましくは周縁部側を覆うように塗布領域規制マスクＭＦを配置することが好ましい。また、ハンドリング性の観点から、光透過性カバー部材１０をステージＳ上に載置させておくことが好ましい。なお、図１Ｂでは、塗布領域規制マスクとして、２枚の矩形状のマスク部材を離隔して平行配置したものを採用したが、塗布領域を規制できる構造であれば、種々の態様のものを適用することができる。

（ステージＳ）
ステージＳとしては、画像表示装置の製造の際に従来使用されているステージを採用することができ、例えば、ステンレス、アルミニウム、スチール等の金属製、アルミナ、ガラス等のセラミックス製、ポリカーボネート、ポリアミド等の樹脂製のステージを使用することができる。

（光透過性カバー部材１０）
光透過性カバー部材１０としては、画像表示部材に形成された画像が視認可能となるような光透過性があればよく、ガラス、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の板状材料やシート状材料が挙げられる。これらの材料には、片面又は両面ハードコート処理、反射防止処理などを施すことができる。光透過性カバー部材１０の厚さや弾性などの物性は、使用目的に応じて適宜決定することができる。また、光透過性カバー部材１０の形状としては、通常長方形である。

なお、光透過性カバー部材１０の外縁部には、画像の視認性を向上させ、また、画像表示部材の駆動回路を隠すために好ましくは遮光層１０ａが設けられている。遮光層１０ａは、黒色等に着色された塗料をスクリーン印刷法などで塗布し、乾燥・硬化させたものである。遮光層１０ａの厚みとしては、通常５〜１００μｍである。また、幅は、通常、５〜７ｍｍであり、狭額縁化対応の場合には好ましくは２〜３ｍｍである。

（塗布領域規制マスクＭＦ）
塗布領域規制マスクＭＦは、光硬化性樹脂組成物の塗布領域ＣＲを区画すると共に、塗布した光硬化性樹脂組成物の端部が傾斜した非接着部とならないようにするためのダムの機能を有するものである。塗布領域規制マスクＭＦとして、短冊状のマスク部材を組み合わせて構成してもよく、額縁状のマスク部材で構成してもよい。なお、短冊状のマスク部材を使用した場合、図１Ｂのように、２枚の矩形状のマスク部材を離隔して配置（好ましくは平行配置）させてもよく、４枚のマスク部材で額縁状に配置させてもよい。１つの額縁状マスク部材を採用することもできる。ハンドリングや生産効率の観点から、図１Ｂに示す態様が好ましい。

塗布領域規制マスクＭＦ自体の大きさや塗布領域となる中心部の空間の大きさは、光透過性カバー部材や遮光部の大きさや形状、必要な塗布領域の大きさや形状等により適宜決定することができる。

また、塗布領域規制マスクの材質としては、種々の金属材料、セラミックス材料、樹脂材料を適宜選択して使用することができる。光硬化性樹脂組成物の塗布領域規制マスクＭＦ裏への進入を防ぐために、少なくとも金属マスク部材と弾性樹脂部材とが重なり合わせてあるものを使用することが好ましい。光透過性カバー部材１０と塗布領域規制マスクＭＦとの密着性を向上させることができる。このような金属マスク部材としては、ステンレススチール、スチール、アルミニウム等の金属シートが挙げられる。弾性樹脂部材としては、ニトリルゴム、フッ素ゴム、シリコーンゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴム等のゴムシートを挙げることができる。金属マスク部材と弾性樹脂部材との積層は、公知の接着剤を介して行うことができる。

＜工程（Ｂ）：塗布工程＞
次に、図２Ａに示すように、塗布領域規制マスクＭＦで区画された光透過性カバー部材１０の塗布領域ＣＲに、光硬化性樹脂組成物１１を塗布する。塗布は公知の塗布装置、例えば、スリットダイヘッドＤを用いて行うことができる。

なお、本工程（Ｂ）及び後述の工程（Ｃ）を実施中に、塗布領域規制マスクＭＦを光透過性カバー部材１０に押圧手段により押圧することが好ましい。塗布領域規制マスクＭＦのズレを防止すると共に、光硬化性樹脂組成物１１が塗布領域規制マスクＭＦと光透過性カバー部材１０との隙間に侵入しないようにするためである。このような押圧手段の例として図２Ｂ、２Ｃ、２Ｄ及び２Ｅが挙げられる。なお、これらの図中の点線は、塗布領域規制マスクの上面の延長仮想線であり、光硬化性樹脂組成物が塗布領域規制マスク厚と同じ厚さで塗布された場合には、塗布された光硬化性樹脂組成物の表面を表している。その場合、光透過性カバー部材１０から点線までの距離は、光硬化性樹脂組成物の塗布厚と実質的に同義となる。

図２Ｂは、押圧手段が、ステージＳの平面に対して上下方向に移動可能な移動部材２０と、その上部に取り付けられた塗布領域規制マスクＭＦとであり、押圧が、移動部材２０の下方への移動により行う態様である。移動部材２０としては、油圧シリンダ機構やエアシリンダ機構を利用することができる。

図２Ｃは、図２Ｂの態様において、塗布領域規制マスクＭＦを下方に押しつける押しネジ部材２１が、塗布領域規制マスクＭＦを介して移動部材２０の上部に設けられている態様である。このネジ部材２１は、押さえ板２１ａにネジ２１ｂがねじ込まれているものである。

図２Ｄは、押圧手段が、永久磁石（または電磁石）２２を備えたステージＳと、塗布領域規制マスクＭＦ上に配置される磁性押さえ部材２３とであり、押圧が、ステージＳが備えている永久磁石（または電磁石）２２と磁性押させ部材２３との間の磁性的引き合いにより行う態様である。ここで、ステージＳ自体が、永久磁石（または電磁石）そのものから形成されていてもよい。

図２Ｅは、押圧手段が、永久磁石（または電磁石）２２を備えたステージＳと、塗布領域規制マスクＭＦを構成する磁性の金属マスク部材とであり、押圧が、ステージＳが備えている永久磁石（または電磁石）２２と磁性の金属マスク部材との間の磁性的引き合いにより行う態様である。ここで、ステージＳ自体が、永久磁石（または電磁石）そのものから形成されていてもよい。

（光硬化性樹脂組成物１１）
光透過性カバー部材１０の塗布領域ＣＲに塗布する光硬化性樹脂組成物１１の性状は好ましくは、塗布条件下で液状である。液状のものを使用すると、光透過性カバー部材１０の塗布領域ＣＲの隅々まで光硬化性樹脂組成物１１をその流動性により行き渡らせることができる。ここで、液状とは、コーンプレート型粘度計で０．０１〜１００Ｐａ・ｓ（２５℃）の粘度を示すものである。

このような光硬化性樹脂組成物１１は、ベース成分（成分（イ））、アクリレート系モノマー成分（成分（ロ））、及び光重合開始剤（成分（ハ））を含有するものを好ましく例示することができる。更に後述するように、可塑剤成分（成分（ニ））を含有することができる。また、光硬化性樹脂組成物１１の最終的な硬化収縮率は、一般的には低い方が好ましいが、３％以上であってもよく、５％以上であってもよい。

ここで、“最終的な硬化収縮率”とは、光硬化性樹脂組成物１１を未硬化の状態から完全に硬化させた状態との間で生じた硬化収縮率を意味する。ここで、完全に硬化とは、後述するように硬化率が少なくとも９０％となるように硬化した状態を意味する。以下、最終的な硬化収縮率を全硬化収縮率と称する。また、硬化性樹脂組成物を未硬化の状態から仮硬化させた状態との間で生じた硬化収縮率を仮硬化収縮率と称する。更に、本硬化工程において、仮硬化の状態から完全に硬化させた状態との間で生じた硬化収縮率は、本硬化収縮率と称する。

光硬化性樹脂組成物１１の全硬化収縮率は、未硬化（換言すれば、硬化前）の組成物と完全硬化後の固体の完全硬化物の比重を電子比重計（アルファーミラージュ(株)製ＳＤ−１２０Ｌ）を用いて測定し、両者の比重差から次式により算出することができる。また、光硬化性樹脂組成物１１の仮硬化樹脂の仮硬化収縮率は、未硬化（換言すれば、硬化前）の組成物と仮硬化後の固体の仮硬化物の比重を電子比重計（アルファーミラージュ(株)製ＳＤ−１２０Ｌ）を用いて測定し、両者の比重差から次式により算出することができる。本硬化収縮率は、全硬化収縮率から仮硬化収縮率を減じることにより算出することができる。

成分（イ）のベース成分は、光硬化樹脂層の膜形成成分であり、エラストマー及びアクリレート系オリゴマーの少なくともいずれか一方を含有する成分である。両者を成分（イ）として併用してもよい。

エラストマーとしては、好ましくはアクリル酸エステルの共重合体からなるアクリル共重合体、ポリブテン、ポリオレフィン等を好ましく挙げることができる。なお、このアクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量は、好ましくは５０００〜５０００００であり、ポリブテンの繰り返し数ｎは好ましくは１０〜１００００である。

他方、アクリレート系オリゴマーとしては、好ましくは、ポリイソプレン、ポリウレタン、ポリブタジエン等を骨格に持つ（メタ）アクリレート系オリゴマーを挙げることができる。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」という用語は、アクリレートとメタクリレートとを包含する。

ポリイソプレン骨格の（メタ）アクリレート系オリゴマーの好ましい具体例としては、ポリイソプレン重合体の無水マレイン酸付加物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとのエステル化物（ＵＣ１０２（ポリスチレン換算分子量１７０００）、（株）クラレ；ＵＣ２０３（ポリスチレン換算分子量３５０００）、（株）クラレ；ＵＣ−１（ポリスチレン換算分子量約２５０００）、（株）クラレ）等を挙げることができる。

また、ポリウレタン骨格を持つ（メタ）アクリル系オリゴマーの好ましい具体例としては、脂肪族ウレタンアクリレート（ＥＢＥＣＲＹＬ２３０（分子量５０００）、ダイセル・オルネクス社；ＵＡ−１、ライトケミカル社）等を挙げることができる。

ポリブタジエン骨格の（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、公知のものを採用することができる。

成分（ロ）のアクリレート系モノマー成分は、画像表示装置の製造工程において、光硬化性樹脂組成物１１に十分な反応性及び塗布性等を付与するために反応性希釈剤として使用されている。このようなアクリル系モノマーとしては、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ステアリルアクリレート、ベンジルアクリレート、テトラヒドロフリフリルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ラウリルメタクリレート等を挙げることができる。

成分（ハ）の光重合開始剤としては、公知の光ラジカル重合開始剤を使用することができ、例えば、１−ヒドロキシ−シクロへキシルフェニルケトン（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン(株)）、２−ヒドロキシ−１−｛４−[４−（２一ヒドロキシ−２−メチル−プロピロニル）ベンジル]フェニル｝−２−メチル−１−プロパン−１−オン（イルガキュア１２７、ＢＡＳＦジャパン(株)）、ベンゾフェノン、アセトフェノン等を挙げることができる。

このような光重合開始剤は、ベース成分（イ）中のアクリレート系オリゴマー及びモノマー（ロ）の合計１００質量部に対し、少なすぎると紫外線照射時に硬化不足となり、多すぎると開裂によるアウトガスが増え発泡不具合の傾向があるので、好ましくは０．１〜５質量部、より好ましくは０．２〜３質量部である。

成分（二）の可塑剤成分は、光硬化樹脂層に緩衝性を付与するとともに、光硬化性樹脂組成物１１の硬化収縮率を低減させるために使用され、紫外線の照射では成分（イ）のベース成分及び成分（ロ）のアクリレート系モノマー成分と反応しないものである。このような可塑剤成分は、固体の粘着付与剤（１）と液状オイル成分（２）とを含有する。

固体の粘着付与剤（１）としては、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、水素添加テルペン樹脂等のテルペン系樹脂、天然ロジン、重合ロジン、ロジンエステル、水素添加ロジン等のロジン樹脂、テルペン系水素添加樹脂を挙げることができる。また、前述のアクリレート系モノマーを予め低分子ポリマー化した非反応性のオリゴマーも使用することができ、具体的には、ブチルアクリレートと２−ヘキシルアクリレートおよびアクリル酸の共重合体やシクロヘキシルアクリレートとメタクリル酸の共重合体等を挙げることができる。

液状オイル成分（２）としては、ポリプタジエン系オイル、又はポリイソプレン系オイル等を含有することができる。

また、光硬化性樹脂組成物１１は、分子量の調整のために連鎖移動剤を含有することができる。例えば、２−メルカプトエタノール、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、２，３−ジメチルカプト−１−プロパノール、α−メチルスチレンダイマーなどが挙げられる。

また、光硬化性樹脂組成物１１は、更に、必要に応じて、シランカップリング剤等の接着改善剤、酸化防止剤等の一般的な添加剤を含有することができる。

光硬化性樹脂組成物１１は、後述する仮硬化工程の後の本硬化工程におけるその硬化収縮率が３％未満に抑制されているので、基本的には可塑剤成分を含有することは必須ではないが、硬化樹脂層に緩衝性を付与する等のために、本発明の効果を損なわない範囲で可塑剤成分（成分（ニ））を含有することができる。従って、光硬化性樹脂組成物中に成分（イ）のベース成分と成分（ロ）のアクリル系モノマー成分との合計含有量は好ましくは２５〜８５質量％であるが、成分（ニ）の可塑剤成分の含有量は０〜６５質量％の範囲である。

＜工程（Ｃ）：仮硬化工程＞
次に、図３Ａに示すように、塗布領域ＣＲに塗布された光硬化性樹脂組成物１１に対し紫外線ＵＶを照射し仮硬化させ、仮硬化樹脂層１２を形成する（図３Ｂ）。ここで、仮硬化させるのは、光硬化性樹脂組成物１１を流動しない状態にして取り扱い性を向上させるためである。このような仮硬化のレベルは、仮硬化樹脂層１２の硬化率（ゲル分率）が好ましくは１０％以上９０％以下、より好ましくは４０％以上９０％以下、特に６０％以上９０％以下となるようなレベルである。また、硬化率（ゲル分率）とは、紫外線照射前の光硬化性樹脂組成物１１中の（メタ）アクリロイル基の存在量に対する紫外線照射後の（メタ）アクリロイル基の存在量の割合（消費量割合）と定義される数値であり、この数値が大きい程、硬化が進行していることを示す。

なお、硬化率（ゲル分率）は、紫外線照射前の樹脂組成物層のＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの１６４０〜１６２０ｃｍ^-1の吸収ピーク高さ（Ｘ）と、紫外線照射後の樹脂組成物層のＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの１６４０〜１６２０ｃｍ^-1の吸収ピーク高さ（Ｙ）とを、以下の数式（１）に代入することにより算出することができる。

紫外線の照射に関し、硬化率（ゲル分率）が好ましくは１０％以上９０％以下となるように仮硬化させることができる限り、光源の種類、出力、累積光量などは特に制限はなく、公知の紫外線照射による（メタ）アクリレートの光ラジカル重合プロセス条件を採用することができる。

また、紫外線照射条件に関し、上述の硬化率の範囲内において、後述する工程（Ｅ）の積層操作の際、仮硬化樹脂層１２の液だれや変形が生じないような条件を選択することが好ましい。そのような液だれや変形が生じないような条件を粘度で表現すると、２０Ｐａ・Ｓ以上（コーンプレートレオメーター、２５℃、コーン及びプレートＣ３５/２、回転数１０ｒｐｍ）となる。

仮硬化における硬化のレベルは、後述する本硬化工程（工程（Ｆ））において仮硬化樹脂層１２から硬化樹脂層への間で生ずる硬化収縮率が３％未満となるように、硬化させるものである。即ち、全硬化収縮率が５％である光硬化性樹脂組成物１１の場合には、仮硬化の際に少なくとも２％ほど仮硬化収縮させておくことになる。

＜工程（Ｄ）：マスク取り外し工程＞＞
次に、図４Ａに示すように、光透過性カバー部材１０から塗布領域規制マスクＭＦを取り外す。これにより、図４Ｂに示すようなシャープな端部形状の仮硬化樹脂層１２を形成することができる。この結果、画像表示部材とその表面側に配される光透過性カバー部材とを光硬化性樹脂組成物の光硬化樹脂層を介して積層して画像表示装置を製造する際に、狭額縁化した場合であっても、狭額縁化した光透過性カバー部材の遮光部に光硬化性樹脂組成物が配置されるようにすると共に、表示エリアの外観不良を招ないようにすることが可能となる。なお、塗布領域規制マスクを使用しない場合には、図４Ｃに示すように、塗布厚の１０％程度の高さで突出したバンプＢと仮硬化樹脂層１２の外側に傾斜した非接着部１２ａが形成されてしまうことから、塗布領域規制マスクの使用が必要であることがわかる。

＜工程（Ｅ）：積層工程＞
次に、図５に示すように、光透過性カバー部材１０と、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル又はタッチパネル等の画像表示部材１３とを、仮硬化樹脂層１２を介して積層する。積層は、公知の圧着装置を用いて、１０℃〜８０℃で加圧することにより行うことができるが、仮硬化樹脂層１２と画像表示部材１３又は光透過性カバー部材１０との間に気泡が入らないようにするために、いわゆる真空貼合法で積層を行うことが好ましい。

なお、工程（Ｅ）の後、工程（Ｆ）の前に、積層物に公知の加圧脱泡処理（処理条件例：０．２〜０．８ＭＰａ、２５〜６０℃、５〜２０ｍｉｎ）を行うことが好ましい。

＜工程（Ｆ）：本硬化工程＞
次に、図６Ａに示すように、仮硬化樹脂層１２に紫外線ＵＶを、光透過性カバー部材１０側から照射し本硬化させて光硬化樹脂層１４を形成する（図６Ｂ）。これにより、本発明の製造方法の目的物である画像表示装置が得られる。本工程において本硬化させるのは、仮硬化樹脂層１２を十分に硬化させて、画像表示部材１３と光透過性カバー部材１０とを接着し積層するためである。このような本硬化のレベルは、光硬化樹脂層１４の硬化率（ゲル分率）が好ましくは９０％より大、より好ましくは９５％より大１００％以下となるようなレベルである。

なお、光硬化樹脂層１４の光透過性のレベルは、画像表示部材１３に形成された画像が視認可能となるような光透過性であればよい。

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。

実施例１
（工程（Ａ）（マスク配置工程））
まず、９０（Ｗ）×１４０（Ｌ）×０．７（Ｔ）ｍｍのサイズのガラス板を用意し、このガラス板の周縁部全域に、乾燥厚で１０μｍとなるように１５ｍｍ幅の遮光層を、熱硬化タイプの黒色インク（ＭＲＸインキ、帝国インキ製造（株））を用いて、スクリーン印刷法により塗布し、乾燥させることにより、遮光層付きガラス板を用意し、バキュームチャック機構が設けられたステンレススチール製ステージに載置した。

次に、２枚の矩形状ステンレススチール製の金属マスク部材を用意し、それぞれの裏面に、厚さ０．０５ｍｍのシリコールゴムを貼りつけることにより、塗布領域規制マスクを作成した。

得られた塗布領域規制マスクを、ステージの外側に配置された上下移動可能シリンダ機構の上部に取り付け、ガラス板の遮光部の外周側が１３ｍｍ幅で覆われるように押圧しながらガラス板の片面に配置した。

（工程（Ｂ）（塗布工程））
また、前出の光重合性樹脂組成物の成分例示の中から、アクリレート系オリゴマー、アクリレート系モノマー、可塑剤、光重合開始剤、及び粘着付与剤を適宜選択し、均一に混合して光硬化性樹脂組成物を調製した。この光硬化性樹脂組成物の粘度（コーンプレートレオメーター、２５℃、コーン及びプレートＣ３５/２、回転数１０ｒｐｍ）は、約８Ｐａ・ｓであった。

次に、この光硬化性樹脂組成物を、スリットダイコーターを用いてガラス板の塗布領域に吐出し、平均２００μｍの光硬化性樹脂組成物膜を形成した。

（工程（Ｃ）（仮硬化工程））
次に、この光硬化性樹脂組成物膜に対して、紫外線照射装置（ＬＣ−８、浜松ホトニクス（株））を使って、積算光量が３０００ｍＪ／ｃｍ²となるように、２００ｍＷ／ｃｍ²強度の紫外線を１５秒照射することにより光硬化性樹脂組成物膜を半硬化させ、仮硬化樹脂層を形成した。

なお、ＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの１６４０〜１６２０ｃｍ^-1の吸収ピーク高さを指標として求めた、紫外線照射後の光硬化性樹脂組成物膜、即ち、仮硬化樹脂層の硬化率は約９５％であった。

更に、仮硬化樹脂層の表面のタック性は、タッキング試験機（ＴＡＣ−II、(株)レスカ）を用いたプローブタック法測定によれば、１１０Ｎ/ｃｍ²であった。

＜工程（Ｄ）：マスク取り外し工程＞
次に、上下移動可能シリンダ機構で塗布領域規制マスクを押し上げ、ガラス板から塗布領域規制マスクを取り外した。

＜工程（Ｅ）：積層工程＞
次に、７０（Ｗ）×１２０（Ｌ）ｍｍのサイズのフラットな液晶表示素子の偏光板が積層された面に、工程（Ｃ）で得たガラス板をその仮硬化樹脂層側が偏光板側となるように載置し、ガラス板側から真空貼合機（真空度５０Ｐａ、貼合圧０．０７ＭＰａ、貼合時間３秒、常温）で貼り付けた。

（工程（Ｆ）：本硬化工程）
次に、この液晶表示素子に対し、ガラス板側から、紫外線照射装置（ＥＣＳ−０３６０１ＥＧ、アイグラフィック社）を使って紫外線（２００ｍＷ／ｃｍ²）を３０００ｍＪ／ｃｍ²で照射することにより仮硬化樹脂層を完全に硬化させ、光透過性の光硬化樹脂層を形成した。光硬化樹脂層の硬化率は９８％であった。これにより、液晶表示素子に、ガラス板が光硬化樹脂層を介して積層された液晶表示装置が得られた。また、本硬化収縮率は１．８％であった。

得られた液晶表示装置について、空隙の発生の有無を樹脂カバー側から目視観察したところ、光硬化樹脂層と液晶表示素子との界面の略中央部に気泡状の空隙が生じていた。

＜評価＞
（非接着部の存在の有無）
実施例１の液晶表示装置を厚み方向に切断し、光硬化性樹脂組成物の塗布領域の周縁部に傾斜した非接着部が存在するか否かについて、切断面を目視観察した。その結果、非接着部は観察されなかった。

（液晶表示装置の外観不良）
実施例１の液晶表示装置の画像表示面に光硬化樹脂層の端部が視認できるか否かを目視観察した。その結果、光硬化樹脂層の端部は観察されず、外観は良好であった。

比較例１
実施例１で塗布領域規制マスクを使用しないこと以外は、実施例１を繰り返すことにより液晶表示装置を得、実施例１と同様に評価を行った。その結果、非接着部が観察され、外観に不良が観察された。

本発明の画像表示装置の製造方法によれば、塗布領域の周縁に光硬化性樹脂組成物の傾斜した非接着部が生じないようにすることができ、画像表示装置を狭額縁化した場合（換言すれば、光透過性カバー部材の遮光部の幅を狭くした場合）であっても、光透過性カバー部材の遮光部に光硬化性樹脂組成物が配置されるようにできると共に、表示エリアの外観不良を招かないようにすることができる。

１０、１００ 光透過性カバー部材
１０ａ、１００ａ 遮光部
１１ 光硬化性樹脂組成物
１２ 仮硬化樹脂層
１２ａ 非接着部
１３ 画像表示部材
１４ 光硬化樹脂層
２０ 移動部材
２１ 押しネジ部材
２１ａ 押さえ板
２１ｂ ネジ
２２ 永久磁石（または電磁石）
２３ 磁性押さえ部材
１０１、Ｄ スリットダイヘッド
１０１ａ スリット
１０２ 光硬化性樹脂組成物
１０３ 光硬化樹脂層
１０４ 画像表示部材
１０５ 非接着部
Ｂ バンプ
ＣＲ 塗布領域
Ｍ メニスカス
ＭＦ 塗布領域規制マスク
Ｓ ステージ

Claims (14)

1. 画像表示部材と光透過性カバー部材とが、光硬化樹脂層を介して積層されている画像表示装置の製造方法において、
   以下の工程（Ａ）〜（Ｆ）：
   ＜工程（Ａ）＞
   光透過性カバー部材の片面に、光硬化性樹脂組成物の塗布領域を区画する塗布領域規制マスクを配置する工程；
   ＜工程（Ｂ）＞
   塗布領域規制マスクで区画された光透過性カバー部材の塗布領域に、光硬化性樹脂組成物を塗布する工程；
   ＜工程（Ｃ）＞
   光透過性カバー部材の塗布領域に塗布された光硬化性樹脂組成物に対して紫外線を照射することにより仮硬化樹脂層を形成する工程；
   ＜工程（Ｄ）＞
   光透過性カバー部材から塗布領域規制マスクを取り外す工程；
   ＜工程（Ｅ）＞
   光透過性カバー部材と画像表示部材とを、仮硬化樹脂層を介して積層する工程； 及び
   ＜工程（Ｆ）＞
   仮硬化樹脂層に紫外線を照射し本硬化させて光硬化樹脂層を形成する工程；
   を有する製造方法。
2. 工程（Ａ）において、光透過性カバー部材として周縁部に遮光部が形成されているものを使用し、その遮光部の少なくとも一部を覆うように塗布領域規制マスクを配置する請求項１記載の製造方法。
3. 塗布領域規制マスクとして、短冊状形状または額縁状枠形状を有するものを使用する請求項１または２記載の製造方法。
4. 光硬化性樹脂組成物として、工程（Ｂ）の光硬化性樹脂組成物の塗布の際の塗布条件下で液状であるものを使用する請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
5. 塗布領域規制マスクとして、少なくとも金属マスク部材と弾性樹脂部材とが重なり合わせてあるものを使用する請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
6. 工程（Ｂ）及び工程（Ｃ）の実施中に、塗布領域規制マスクを光透過性カバー部材に押圧手段により押圧している請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
7. 光透過性カバー部材がステージ上に載置されており、押圧手段が、ステージの平面に対して上下方向に移動可能な移動部材と、その上部に取り付けられた塗布領域規制マスクとであり、押圧が、移動部材の下方への移動により行う請求項６記載の製造方法。
8. 塗布領域規制マスクを下方に押しつける押しネジ部材が、塗布領域規制マスクを介して移動部材の上部に設けられている請求項７記載の製造方法。
9. 押圧手段が、永久磁石または電磁石を有するステージと、塗布領域規制マスク上に配置される磁性押さえ部材とであり、押圧が、ステージと磁性押させ部材との間の磁性的引き合いにより行う請求項６記載の製造方法。
10. 押圧手段が、永久磁石または電磁石を有するステージと、塗布領域規制マスクの磁性金属マスク部材とであり、押圧が、ステージと磁性金属マスクとの間の磁性的引き合いにより行う請求項７記載の製造方法。
11. 画像表示部材が、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル又はタッチパネルである請求項１〜１０のいずれかに記載の製造方法。
12. 工程（Ｃ）において、仮硬化樹脂層の硬化率が１０〜９０％となるように、光硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して仮硬化させる請求項１〜１１のいずれかに記載の製造方法。
13. 工程（Ｆ）において、光硬化樹脂層の硬化率が９０％より大となるように、仮硬化樹脂層に紫外線を照射して本硬化させる請求項１２記載の製造方法。
14. 光硬化性樹脂組成物が、エラストマー及びアクリレート系オリゴマーの少なくとも一方と、アクリル系モノマーと、光重合開始剤とを含有する液状の樹脂組成物であって、
    エラストマーが、アクリル共重合体、ポリブテン及びポリオレフィンからなる群から選択される少なくとも一種であり、
    アクリレート系オリゴマーが、ポリウレタン系（メタ）アクリレート、ポリブタジエン系（メタ）アクリレート及びポリイソプレン系（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも一種である請求項１〜１３のいずれかに記載の製造方法。

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